KR910007593A - 강제 유체대류에 의한 오염 입자 제거장치 및 방법 - Google Patents

강제 유체대류에 의한 오염 입자 제거장치 및 방법 Download PDF

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와이.에이치. 리우 벤자민
베이커 에드워드
안강호
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Abstract

내용 없음

Description

강제 유체대류에 의한 오염입자 제거장치의 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 장치의 정면도.
제2도는 제1도의 장치에 이용되는 지지대의 단면도.
제3도는 제2도에 도시된 지지대의 평면도.

Claims (22)

  1. 웨이퍼의 표면으로부터 오염입자를 제거하기위한 장치에 있어서, 제거액을 세척될 웨이퍼의 표면을 향하게 하기위한 수단, 표면상에서 제거액을 동결시키기 위한 수단, 및 제거액을 표면으로부터 제거시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 내부에 웨이퍼 지지대를 포함하는 밀폐가능 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제2항에 있어서, 제거액을 향하게 하기위한 상기 수단이 증기발생기에 연결된 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제2항에 있어서, 제거액을 향하게 하기위한 상기 수단이 지지대에 연결된 냉각회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제2항에 있어서, 동결층을 제거하기 위한 상기 수단이 지지대에 연결된 가열회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제3항에 있어서, 상기 노즐이 대개 불활성 가스를 공급하는 가스공급기에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제2항에 있어서, 상기 챔버가 지지대의 둘레에 장막 가스를 공급하기 위한 가스입구수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제2항에 있어서, 상기 챔버가 상기 지지대 둘레에 환형 플리넘챔버를 포함하고, 상기 플리넘 챔버안으로 뻗어지는 지지대의 둘레에 장막가스를 공급하기 위한 가스입구수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 환형 플리넘챔버가, 플리넘 내부 방사상 둘레를 제한하며 지지대로부터 플리넘을 분리시키는 환형벽을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제2항에 있어서, 상기 챔버의 벽이 열적 안정성으로 위해 내부에 가열수단을 포함하며, 열적으로 단열이고 화학적으로 비반응적인 벽인 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제2항에 있어서, 상기 지지대가 제거액을 동결시키기 위한 상기수단과, 동결층을 제거시키기위한 상기 수단과 유체 소통하는 웨이퍼 척으로 되어있는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 웨이퍼 척이 그 내부에 포함된 굴곡통로를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 웨이퍼 척이 상기 웨이퍼 척을 회전시키기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 평평한 주표면에 마주한 웨이퍼로부터 오염입자를 제거하기 위한 장치에 있어서, 웨이퍼를 내부에 가두어 놓는 밀봉가능챔버, 평평한 표면이 노출되도록 챔버내에 웨이퍼를 지지하기위한 지지수단, 평평한 표면상에 제거액을 분배하기위한 유체흐름수단, 상기 제거액이 상기 지지수단상에서 동결하는 온도와 상기 동결 제거액이 용해하는 온도 사이에서 지지대의 온도를 변화시키기 위한 수단, 및 용해된 제거액을 챔버로부터 제거하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 유체흐름수단이 증기발생기에 연결된 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 노즐이 대개 불활성가스를 공급하는 가스공기에도 연결된 것을 특징으로 하는 장치.
  17. 제14항에 있어서, 상기 챔버는 지지대의 둘레에 장막가스를 공급하기 위한 가스입구수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 제14항에 있어서, 상기 챔버는 상기 지지수단 둘레에 환형 플리넘 챔버를 포함하고, 상기 플리넘 챔버안으로 뻗어가는, 지지수단 둘레에 장막가스를 공급하기 위한 가스입구 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제14항에 있어서, 상기 지지수단이 그 내부에 포함된 굴곡통로와, 지지수단을 회전시키기 위한 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 웨이퍼의 지정된 표면으로부터 오염입자를 제거시키는 방법에 있어서, 액상에서 고상으로 변하는 동안에 체적 팽창하는 유형의 제거액이 오염입자를 적시도록, 오염입자를 가지고 있는 웨이퍼의 지정된 표면을 향해 제거액을 향하게 하는 단계; 지정된 표면에서 얇은 막의 동결층을 형성하도록 제거액을 동결시키는 단계; 및 동결층을 지정된 표면으로부터 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제20항에 있어서, 동결층을 제거하는 상기 단계가 상기 동결층을 적어도 부분적으로 용해시키는 단계와, 용해된 동결층을 상기 표면으로부터 제거하는 단계에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 제20항에 있어서, 상기 동결층이 상기 지정된 표면으로부터 제거되기전에, 상기 동결층을 상기 지정된 표면상에서 적어도 한번을 용해시키는 단계 및 재동결시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900016502A 1989-10-17 1990-10-17 강제 유체대류에 의한 오염 입자 제거장치 및 방법 KR910007593A (ko)

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