JP2022130296A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
そこで、基板の裏面(基板の、水膜が形成される側とは反対側の面)に冷却ガスを供給する技術が提案されている。(例えば、特許文献1を参照)
そこで、基板の面内に温度分布のばらつきが生じるのを抑制することができる基板処理装置の開発が望まれていた。
以下に例示をする基板100は、例えば、半導体ウェーハ、インプリント用テンプレート、フォトリソグラフィ用マスク、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)に用いられる板状体などとすることができる。
この場合、基板100は、表面にパターンである凹凸部が形成されている基板であってもよいし、凹凸部が形成される前の基板(例えば、いわゆるバルク基板)であってもよい。
図1に示すように、基板処理装置1には、載置部2、冷却部3、第1液体供給部4、第2液体供給部5、筐体6、送風部7、検出部8、排気部9、分散部10、およびコントローラ11が設けられている。
載置台2aは、筐体6の内部に回転可能に設けられている。載置台2aは、板状を呈している。載置台2aの一方の主面には、基板100を支持する複数の支持部2a1が設けられている。基板100を複数の支持部2a1に支持させる際には、基板100の表面100b(洗浄を行う側の面)が、載置台2a側とは反対の方を向くようにする。
すなわち、載置部2は、基板100を載置可能な載置台2aを有し、載置された基板100を回転可能である。
冷却ノズル3dは、流量制御部3cにより流量が制御された冷却ガス3a1を、冷却ノズル3dの一方の端部から孔3d1を介して拡径部3daへと供給する。拡径部3daに供給された冷却ガス3a1は、分散部10に衝突した後、載置台2aと、基板100の裏面100aと、の間の空間、ひいては、基板100の裏面100aに供給される。
また、液体101にはガスを溶存させることができる。ガスは、例えば、炭酸ガス、オゾンガス、水素ガスなどとすることができる。
第2液体供給部5は、液体収納部5a、供給部5b、流量制御部5c、および液体ノズル4dを有する。
そこで、本実施の形態に係る基板処理装置1には、分散部10が設けられている。
図2(a)は、分散部10を例示するための模式平面図である。
図2(b)は、図2(a)における分散部10のA-A線断面図である。
図2(a)、(b)に示すように、分散部10は、例えば、分散板10a、および支持部10bを有する。分散板10a、および支持部10bは、一体に形成することができる。
分散板10aは、冷却ノズル3dの拡径部3daの内部に設けられている。分散板10aは、拡径部3daの、開口の近傍に設けることができる。具体的には、冷却ノズル3dの中心軸に沿った方向において、載置台2aの基板100側の面と、分散板10aの基板100側の面とが同一の高さ(同一位置)となるように設ける。つまり、支持部2a1に支持された基板100の裏面100aと載置台2aの基板100側の面との距離と、支持部2a1に支持された基板100の裏面100aと分散板10aの基板100側の面との距離は、同じである。
分散板10aの中心軸は、冷却ノズル3dの中心軸と重なる位置に設けることができる。すなわち、分散板10aは、冷却ノズル3dの孔3d1の真上に設けることができる。分散板10aの面は、冷却ノズル3dの中心軸と直交させることができる。
本発明者の得た知見によれば、分散板10aの平面寸法D1は、冷却ノズル3dの孔3d1の径D2と同じか、若干大きくすることが好ましい。例えば、分散板10aの平面寸法D1は、孔3d1の径D2よりも1mm~3mm程度大きくすることができる。
また、孔10aaの大きさは、孔3d1の径D2よりも小さい。孔10aaの断面寸法は、1mm以上、2.5mm以下とすることが好ましい。
分散板10aの平面寸法D1や、孔10aaの断面寸法をこの様にすれば、基板100の面内に温度分布のばらつきが生じるのを抑制することが容易となる。そのため、汚染物の除去率をより向上させることができる。
図3は、基板処理装置1の作用を例示するためのタイミングチャートである。
なお、図3は、基板100が6025クオーツ(Qz)基板(152mm×152mm×6.35mm)、液体101が純水の場合である。
そのため、液体101が、回転する基板100に、所定の流量で供給される状態となる。
なお、予備工程を第1の回転数で実施し、基板100の面内温度が均一となったら、液体101の供給を停止するようにしてもよい。
また、解凍の開始は、必ずしも凍結膜に対して行う必要はなく、例えば、過冷却状態の液体101の少なくとも一部が凍結した状態で解凍を開始してもよい。
以上の様にすることで、基板100の処理(汚染物の除去)を行うことができる。
図4は、基板100の中心から外周にかけての解凍直前の凍結膜の温度を示す図である。
基板の中心から外周に向かって、基板中心部、基板中央部、基板外周部と区分した。なお、基板中心部の長さは、分散板10aの半径とほぼ同じである。また、基板中心部と基板中央部を足した長さは、冷却ノズル3dの拡径部3daの半径とほぼ同じである。
一点鎖線は、拡径部3daを有する冷却ノズル3dのみを用いた場合の解凍直前の凍結膜の温度を示す。以下、比較例2と呼称する。
実線は、拡径部3daを有する冷却ノズル3dおよび孔10aaが2mmである分散板10aを有する分散部10を用いた場合の解凍直前の凍結膜の温度を示す。以下、実施例1と呼称する。
点線は、比較例1の場合の除去率の分布を示す。
一点鎖線は、比較例2の場合の除去率の分布を示す。
実線は、実施例1の場合の除去率の分布を示す。
基板中間部から基板外周部にかけて、比較例1および比較例2よりも高い除去率が得られている理由としては、前述した通り、対応する位置における解凍直前の凍結膜の温度が低いためと考えられる。このため、比較例1および比較例2よりも基板100の面内に温度分布のばらつきが生じるのが抑制される。したがって、液体101の過冷却状態がばらついたり、液体101の凍結状態がばらついたりするのを抑制することができる。その結果、汚染物の除去率が向上したと考えられる。
ここで、分散板10aは、拡径部3daの開口の近傍に設けられる。そのため、分散板10aと衝突した後、基板100の裏面100aの中央部へと回り込む冷却ガス3a1の量を少なくすることができる。したがって、従来よりも基板100の裏面100aの中央部に衝突する冷却ガス3a1の量を少なくすることができる。その結果、基板100の中央部が基板100の外周に比べて冷却され過ぎてしまうことを抑制することができる。
前述の通り、基板中心部の長さは、分散板10aの半径とほぼ同じである。したがって、分散板10aと衝突した冷却ガス3a1の一部は、図4に示す基板中心部と基板中間部の境界付近をより冷却することができる。その結果、基板の面内において温度分布のばらつきを小さくすることができる。
図6に示すように、分散部110は、例えば、分散板110a、および支持部110bを有する。
前述した分散部10の場合には、分散板10aは、冷却ノズル3dの拡径部3daの内部に設けられている。これに対し、分散部110の場合には、分散板110aは、冷却ノズル3dの拡径部3daの外部に設けられている。分散板110aは、板状を呈している。分散板110aは、冷却ノズル3dの拡径部3daの、開口の近傍に設けることができる。分散板110aの中心軸は、冷却ノズル3dの中心軸と重なる位置に設けることができる。すなわち、分散板110aは、冷却ノズル3dの孔3d1の真上に設けることができる。分散板110aの面は、冷却ノズル3dの中心軸と直交させることができる。
分散板110aの平面形状や寸法などは、前述した分散板10aと同様とすることができる。
また、分散部110は、支持部110bを介して、載置台2aの基板100側の面と接続されている。そのため、分散部110は、載置台2aと共に回転することができる。回転している分散部110に冷却ガス3a1が衝突することで、冷却ガス3a1は、分散部110と共に回転する。つまり、冷却ガス3a1は、分散部110から回転エネルギーを貰う。そのため、冷却ガス3a1は、基板100の外周へより向かうようになる。したがって、基板中心部と基板中間部の境界付近をより冷却することができる。その結果、基板の面内において温度分布のばらつきを小さくすることができる。
そのため、前述した冷却工程(過冷却工程+凍結工程)において、基板100の領域毎に汚染物の除去率がばらつくのを抑制することができるので、基板100の全領域における汚染物の除去率を向上させることができる。
図7に示すように、分散部210は、例えば、分散板210aを有する。
前述した分散部10の場合には、分散板10aは、冷却ノズル3dの拡径部3daの内部に設けられている。これに対し、分散板210aは、拡径部を有していない冷却ノズル203dの先端に設けられている。分散板210aは、冷却ノズル203dの冷却ガス3a1の排出側の端部に設けられている。すなわち、分散部210には、分散板210aを支持する支持部が設けられていない。
分散板210aの平面形状や寸法などは、前述した分散板10aと同様とすることができる。
また、載置台2aの基板100側の面には、凹部2a2が設けられている。凹部2a2の外形は、例えば、円形や矩形である。凹部2a2の外形は、基板100の外形よりも小さい方が好ましい。分散板210aと、冷却ノズル203dの、複数の孔203d2が設けられた部分とが、凹部2a2の内部に設けられている。つまり、凹部2a2は、拡径部3daに代えて設けられる。
図8(b)は、羽根310cを例示するための斜視図である。
図8(c)は、図8(a)における分散部310のB-B線断面図である。
図8(d)は、図8(a)における分散部310のC-C線断面図である。
図8(a)に示すように、分散部310は、例えば、分散板10a、支持部10b、および羽根310cを有する。すなわち、分散部310は、前述した分散部10に羽根310cを加えたものである。
羽根310cは、支持部10bと支持部10bとの間に設けることができる。羽根310cは、板状を呈し、一方の端部が分散板10aに接続され、他方の端部が冷却ノズル3dの拡径部3daの内壁に接続されている。
この様な羽根310cが設けられていれば、分散部310に衝突した後の冷却ガス3a1を羽根310cに沿って基板100の外周側に導くことができる。
あるいは、羽根310cの一方の端部だけが載置台2aに設けられた凹部2a2の内壁に接続される。この場合、コントローラ11は、羽根310cが下を向いている方向に羽根310cを回転させることで、凹部2a2の内部を流れる冷却ガス3a1を基板100側に導く。
例えば、支持部10bと同様に、支持部10baは、梁状を呈し、分散板10aの側面と、冷却ノズル3dの拡径部3daの内壁との間に設けられている。
図9に示すように、例えば、支持部10baは、支持部10bの側面に螺旋状の凹部10bbを設けたものとすることができる。支持部10baの側面に螺旋状の凹部10bbが設けられていれば、螺旋状の凹部10bbに接触した冷却ガス3a1を、螺旋の方向に流すことができる。そのため、螺旋状の凹部10bbがない支持部10bに比べて、基板100の裏面100aに向かう冷却ガス3a1を増加させることができる。
本実施の形態では、上述の実施の形態と、冷却ノズル3dが固定されている(回転不能である)点で共通するが、冷却ノズル3dと回転軸2bとの間に隙間が形成されており、回転軸シール等の封止部材が存在しない点で相違する。このような構成では、封止部材を不要とすることができる一方で、載置台2aと基板100の裏面100aとの間の空間に供給された冷却ガス3a1が上記の隙間を通って筐体6の外部へと漏れ出し易くなる。
また、載置台2aの孔2aaの周縁には、載置台2aの、基板100側の面に開口する凹部2abを設けることができる。フランジ13dbは、隙間を介して、凹部2abの内部に設けられている。すなわち、フランジ13dbの裏面(凹部2abの底面側の面)と凹部2abの底面との間には隙間が設けられている。また、フランジ13dbの側面と凹部2abの側面との間には隙間が設けられている。そのため、回転する載置台2aと、回転しないフランジ13dbとが接触することがない。また、フランジ13dbと凹部2abの内壁との間に設けられる隙間の長さは、凹部2abの内壁に沿った長さとなる。
回転軸2bの長さが短いほど、拡径部3daと孔2aaとの間に形成される隙間の長さが短くなる。そのため、冷却ノズル3dと回転軸2bとの間に隙間があり、回転軸2bの長さが短いほど、本実施の形態に係る拡径部13daは、好ましい。
図8(a)に例示をした羽根310cと同様に、羽根310caは、支持部10bと支持部10bとの間に設けることができる。羽根310caは、板状を呈し、一方の端部が分散板10aに接続され、他方の端部が冷却ノズル3dの拡径部3daの内壁に接続される。
図12に示すように、羽根310caは、一方の端部から他方の端部に向かって傾斜角度が大きくなるねじれた形態を有する。ねじれた形態は、図8(b)に例示をした羽根310cと同様とすることができる。羽根310caの数、配置、傾斜角度は、羽根310cと同様とすることができる。
ただし、羽根310caの上端310cbは、分散板10aの上面よりも下方に位置している。この様にすれば、分散板10aの上面に沿って流れる冷却ガス3a1の流れが、羽根310caの上端310cbにより乱されることがない。
羽根310caの上端310cbが分散板10aの上面よりも下方に位置するために、羽根310caの、分散板10aに接続された一方の端部は、分散板10aの側面に対して斜めに取り付けられることが好ましい。この場合、取り付ける際の傾斜角度は、10°より小さくするとよい。
Claims (11)
- 基板を載置可能な載置台を有し、載置された前記基板を回転可能な載置部と、
前記載置台と、前記基板と、の間の空間に、冷却ガスを供給可能な冷却ノズルと、
前記基板の、前記載置台側とは反対の面に液体を供給可能な液体供給部と、
前記冷却ノズルの、前記冷却ガスの排出側に設けられた分散板と、
を備え、
前記分散板は、厚み方向を貫通する第1の孔を有し、
前記冷却ノズルの中心軸に沿った方向から見て、前記第1の孔は、前記冷却ノズルの中心軸に重なる位置に設けられている基板処理装置。 - 前記冷却ノズルは、前記冷却ガスの排出側の端部に設けられた拡径部を有し、
前記分散板は、前記拡径部の内部に設けられている請求項1記載の基板処理装置。 - 前記冷却ノズルの中心軸に沿った方向において、前記載置台の前記基板側の面と、前記分散板の前記基板側の面と、が同一位置にある請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記冷却ノズルは、前記冷却ガスの排出側の端部に設けられた拡径部を有し、
前記分散板は、前記拡径部の外部に設けられている請求項1記載の基板処理装置。 - 前記分散板は、前記冷却ノズルの前記冷却ガスの排出側の端部に設けられ、
前記冷却ノズルは、前記分散板が設けられた端部の近傍に、側面と、前記冷却ノズルの内部を延びる第2の孔と、の間を貫通する第3の孔を有し、
前記載置台の前記基板側の面には、凹部が設けられ、
前記分散板と、前記冷却ノズルの、前記第3の孔が設けられた部分と、が、前記凹部の内部に設けられている請求項1記載の基板処理装置。 - 前記第1の孔の断面寸法は、1mm以上、2.5mm以下である請求項1~5のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 一方の端部が前記分散板に接続され、前記拡径部の内部を流れる前記冷却ガスを前記基板側に導く羽根をさらに備えた請求項2~4のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 一方の端部が前記分散板に接続され、前記載置台に設けられた前記凹部の内部を流れる前記冷却ガスを前記基板側に導く羽根をさらに備えた請求項5記載の基板処理装置。
- 前記拡径部の側面に設けられ、板状を呈するフランジをさらに備え、
前記載置台の前記基板側の面には、凹部が設けられ、
前記フランジは、隙間を介して、前記凹部の内部に設けられている請求項1~8のいずれか1つに記載の基板処理装置。 - 前記フランジの、前記凹部の底面側の面には、環状の凸部が設けられ、
前記凹部の底面の、前記凸部と対向する位置には、前記凹部の底面に開口する環状の凹部が設けられ、
前記環状の凸部は、前記環状の凹部の内部に隙間を介して設けられている請求項9記載の基板処理装置。 - 梁状を呈し、一方の端部が前記分散板に接続され、側面に螺旋状の凹部を有する支持部をさらに備えた請求項2~4のいずれか1つに記載の基板処理装置。
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