KR880009379A - 불휘발성 반도체메모리 - Google Patents
불휘발성 반도체메모리 Download PDFInfo
- Publication number
- KR880009379A KR880009379A KR1019880000784A KR880000784A KR880009379A KR 880009379 A KR880009379 A KR 880009379A KR 1019880000784 A KR1019880000784 A KR 1019880000784A KR 880000784 A KR880000784 A KR 880000784A KR 880009379 A KR880009379 A KR 880009379A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- voltage
- time
- erasing
- gate electrode
- semiconductor memory
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/26—Sensing or reading circuits; Data output circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
- G11C16/0408—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors
- G11C16/0433—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors comprising cells containing a single floating gate transistor and one or more separate select transistors
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 불휘발성 반도체메모리에서 사용되는 메모리셀의 소자구조를 나타낸 단면도.
제2도는 제1도에 도시된 등가회로도.
제3도는 제1도에 도시된 셀의 각 동작모드에 대한 전압을 모아서 나타
Claims (7)
- 제1도 전형의 반도체기판(10)과, 상기 반도체기판(10)내에 설치된 제2도 전형의 제 1, 제 2, 제3확산층(11,12,13), 상기 제 1, 제2확산층(11,12) 상호간에 설치된 제 1 채널 영역(14), 상기 제 2, 제3 확산층(12,13) 상호간에 설치된 제 2 채널영역(20), 상기 제 1 채널영역(14) 상에 설치되어 일부가 얇은 절연막(17)을 통해 상기 제 2 확산층(12)과 포개지게 되는 플로팅케이트전극(16), 상기 플로팅게이트전극(16)상에 설치된 게이트전극(19), 상기 제 2 채널영역(20)상에 설치된 게이트전극(22), 데이터의 소거시와 기입시 및 독출시에 각각 소정전압을 상기 제어게이트전극(19)에 공급하는 제어게이트선(CG), 데이터의 소거시와 기입시 및 독출시에 각각 소정전압을 상기 게이트전극(22)에 공급하는 선택게이트선(SG), 데이터의 소거시와 기입시 및 독출시에 각각 소정전압을 상기 제 1 확산층(11)에 공급하는 독출선(RL)을 구비한 것을 특징으로 하는 하는 불휘발성 반도체메모리.
- 제1항에 있어서, 상기 제어게이트선(CG)은 데이터의 소거시에 제 1 전압을, 데이터의 기입시와 독출시에는 상기 제 1 전압보다 낮은 제 2 전압을 각각 제어게이트 전극(19)에 공급하고, 선택게이트전극(SG)은 데이터의 소거시와 기입시에 제 1 전압을, 데이터의 독출시에는 상기 제 1 의 전압보다 낮고 또 상기 제 2 의 전압보다는 높은 제 3 전압을 각각 상기 게이트전극(22)에 공급하며, 기입선(WL)은 데이터의 소거시와 독출시에 제 2 전압을, 데이터의 기입시에는 제 1 전압을 각각 상기 제 3 확산층(13)에 공급하고, 독출선(RL)은 데이터의 소거시에 제 2 전압을, 데이터 기입시와 독출시에는 제 3 전압을 각각 상기 제 1 확산층(11)에 공급하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체메모리.
- 제1항에 있어서, 독출선(RL)이 부하회로를 통해 전원에 접속되어 있고, 이 독출선(RL)의 신호가 센스앰프회로(36)에 공급되도록 구성된 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체메모리.
- 제3항에 있어서, 부하회로가 평상시 도통되고 있는 MOS 트랜지스터(33)로 구성된 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체메모리.
- 제3항에 있어서, 부하회로가 클록신호에 기초하여 일시적으로 도통상태로 제어되는 MOS 트랜지스터(33)로 구성된 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체메모리.
- 제5항에 있어서, 선택게이트선(SG)의 전압을 클록신호로 동기시켜서 선택용 트랜지스터(32)의 게이트전극에 공급하도록 구성된 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체메모리.
- 제3항에 있어서, 센스앰프회로(36)가 인버터회로로 구성된 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체메모리.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2108787A JPH0772996B2 (ja) | 1987-01-31 | 1987-01-31 | 不揮発性半導体メモリ |
JP62-21087 | 1987-01-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR880009379A true KR880009379A (ko) | 1988-09-15 |
KR900009176B1 KR900009176B1 (ko) | 1990-12-24 |
Family
ID=12045090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019880000784A KR900009176B1 (ko) | 1987-01-31 | 1988-01-29 | 불휘발성 반도체메모리 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4912749A (ko) |
EP (1) | EP0280883B1 (ko) |
JP (1) | JPH0772996B2 (ko) |
KR (1) | KR900009176B1 (ko) |
DE (1) | DE3865702D1 (ko) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5138575A (en) * | 1988-12-19 | 1992-08-11 | Fujitsu Limited | Electricaly erasable and programmable read only memory with a discharge device |
JPH0738274B2 (ja) * | 1988-12-22 | 1995-04-26 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体メモリシステム |
JP2529885B2 (ja) * | 1989-03-10 | 1996-09-04 | 工業技術院長 | 半導体メモリ及びその動作方法 |
JP2807256B2 (ja) * | 1989-03-17 | 1998-10-08 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体メモリ |
FR2650109B1 (fr) * | 1989-07-20 | 1993-04-02 | Gemplus Card Int | Circuit integre mos a tension de seuil ajustable |
JPH04123471A (ja) | 1990-09-14 | 1992-04-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置のデータ書込みおよび消去方法 |
KR940005695B1 (ko) * | 1990-12-19 | 1994-06-22 | 삼성전자 주식회사 | 불휘발성 기억소자의 로우 디코더 회로 |
KR930011000A (ko) * | 1991-11-29 | 1993-06-23 | 김광호 | 이이피롬 장치 |
US5898619A (en) * | 1993-03-01 | 1999-04-27 | Chang; Ko-Min | Memory cell having a plural transistor transmission gate and method of formation |
GB2304947B (en) * | 1995-08-31 | 2000-02-23 | Motorola Ltd | Electrically programmable memory, method of programming and method of reading |
US5736891A (en) * | 1996-01-11 | 1998-04-07 | International Business Machines Corporation | Discharge circuit in a semiconductor memory |
FR2770326B1 (fr) * | 1997-10-28 | 2001-12-28 | Sgs Thomson Microelectronics | Procede d'ecriture dans une memoire non volatile modifiable electriquement |
EP0936629B1 (de) * | 1998-02-12 | 2006-09-13 | Infineon Technologies AG | EEPROM und Verfahren zur Ansteuerung eines EEPROM |
DE102004042105A1 (de) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Infineon Technologies Ag | ROM-Speicher |
US8320191B2 (en) | 2007-08-30 | 2012-11-27 | Infineon Technologies Ag | Memory cell arrangement, method for controlling a memory cell, memory array and electronic device |
JP5191834B2 (ja) * | 2008-08-12 | 2013-05-08 | セイコーインスツル株式会社 | 半導体不揮発性記憶装置 |
JP6751013B2 (ja) * | 2016-12-27 | 2020-09-02 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 温度特性調整回路 |
US11049565B2 (en) * | 2018-04-23 | 2021-06-29 | Micron Technology, Inc. | Non-volatile memory devices and systems with volatile memory features and methods for operating the same |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4375087C1 (en) * | 1980-04-09 | 2002-01-01 | Hughes Aircraft Co | Electrically erasable programmable read-only memory |
JPS5747517A (en) * | 1980-09-04 | 1982-03-18 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Method and apparatus for controlling rolling speed of mandrel mill |
JPS5834628A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-03-01 | Hitachi Ltd | Mosインバ−タ回路 |
US4558344A (en) * | 1982-01-29 | 1985-12-10 | Seeq Technology, Inc. | Electrically-programmable and electrically-erasable MOS memory device |
JPS58161198A (ja) * | 1982-03-19 | 1983-09-24 | Ricoh Co Ltd | 半導体メモリ |
JPS5955071A (ja) * | 1982-09-24 | 1984-03-29 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 不揮発性半導体装置 |
JPS60182174A (ja) * | 1984-02-28 | 1985-09-17 | Nec Corp | 不揮発性半導体メモリ |
US4628487A (en) * | 1984-08-14 | 1986-12-09 | Texas Instruments Incorporated | Dual slope, feedback controlled, EEPROM programming |
US4611309A (en) * | 1984-09-24 | 1986-09-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | Non-volatile dynamic RAM cell |
US4729115A (en) * | 1984-09-27 | 1988-03-01 | International Business Machines Corporation | Non-volatile dynamic random access memory cell |
DE3587615D1 (de) * | 1984-11-26 | 1993-11-11 | Toshiba Kawasaki Kk | Nichtflüchtige Halbleiterspeicheranordnung. |
JPH0746515B2 (ja) * | 1984-12-28 | 1995-05-17 | 日本電気株式会社 | デコ−ダ回路 |
JPH0783064B2 (ja) * | 1985-01-18 | 1995-09-06 | 株式会社日立製作所 | 半導体記憶装置 |
US4752912A (en) * | 1985-05-14 | 1988-06-21 | Xicor, Inc. | Nonvolatile electrically alterable memory and method |
US4599706A (en) * | 1985-05-14 | 1986-07-08 | Xicor, Inc. | Nonvolatile electrically alterable memory |
-
1987
- 1987-01-31 JP JP2108787A patent/JPH0772996B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-01-28 US US07/149,606 patent/US4912749A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-29 EP EP88101335A patent/EP0280883B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-29 DE DE8888101335T patent/DE3865702D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-29 KR KR1019880000784A patent/KR900009176B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0280883B1 (en) | 1991-10-23 |
KR900009176B1 (ko) | 1990-12-24 |
US4912749A (en) | 1990-03-27 |
JPS63188896A (ja) | 1988-08-04 |
EP0280883A2 (en) | 1988-09-07 |
EP0280883A3 (en) | 1989-02-08 |
DE3865702D1 (de) | 1991-11-28 |
JPH0772996B2 (ja) | 1995-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR880009380A (ko) | 불휘발성 반도체메모리 | |
KR880009379A (ko) | 불휘발성 반도체메모리 | |
US4435786A (en) | Self-refreshing memory cell | |
US4725983A (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
US20120218819A1 (en) | Nonvolatile semiconductor memory | |
EP0374936B1 (en) | Nonvolatile semiconductor memory system | |
KR900010794A (ko) | 불휘발성 반도체 메모리 | |
US5157281A (en) | Level-shifter circuit for integrated circuits | |
KR880002181A (ko) | 반도체 기억장치 | |
KR940027179A (ko) | 불휘발성 반도체 기억장치 | |
KR900015164A (ko) | Nand메모리셀구조를 갖춘 eeprom | |
US4760556A (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
KR900015163A (ko) | 불휘발성 반도체 메모리 | |
US4803662A (en) | EEPROM cell | |
KR940005515B1 (ko) | 디코더 회로 | |
KR910006997A (ko) | 기생용량에 의해 야기된 오동작을 방지하기 위한 eprom의 디코더 회로 | |
JPH07120716B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS5953637B2 (ja) | 記憶回路 | |
JP3957561B2 (ja) | 半導体装置 | |
US6480420B2 (en) | Semiconductor memory device having source areas of memory cells supplied with a common voltage | |
JPH0527195B2 (ko) | ||
JPH06318684A (ja) | 不揮発性半導体メモリ装置 | |
KR890004435A (ko) | 다이나믹 메모리 셀을 갖는 집적회로 | |
JPH03101168A (ja) | 半導体不揮発性メモリ | |
KR960008359Y1 (ko) | 불휘발성 반도체기억장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20031128 Year of fee payment: 14 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |