KR880008337A - 반도체 기억장치 - Google Patents

반도체 기억장치 Download PDF

Info

Publication number
KR880008337A
KR880008337A KR870014302A KR870014302A KR880008337A KR 880008337 A KR880008337 A KR 880008337A KR 870014302 A KR870014302 A KR 870014302A KR 870014302 A KR870014302 A KR 870014302A KR 880008337 A KR880008337 A KR 880008337A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor memory
memory device
bit lines
memory cell
partial bit
Prior art date
Application number
KR870014302A
Other languages
English (en)
Other versions
KR910006112B1 (ko
Inventor
도오루 후루야마
Original Assignee
아오이 죠이치
가부시키가이샤 도시바
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아오이 죠이치, 가부시키가이샤 도시바 filed Critical 아오이 죠이치
Publication of KR880008337A publication Critical patent/KR880008337A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR910006112B1 publication Critical patent/KR910006112B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/18Bit line organisation; Bit line lay-out
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/565Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using capacitive charge storage elements
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/24Bit-line control circuits

Abstract

내용 없음.

Description

반도체 기억장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 1실시예에 관한 반도체 기억장치의 구성를 도시해 놓은 회로도,
제2도, 제3도는 상기 실시예회로의 각부를 구체적으로 도시해 놓은 회로도.

Claims (13)

  1. 복수개의 메모리셀(12)과, 이 메모리셀(12)에 접속되는 비드선(BL1)을 구비하여서 된 반도체 기억장치에 있어서, 상기 비트선(BLI)에 형성되는 복수개의 부분 비트선(BL1a∼BL1c)과, 이 부분비트선(BL1a∼BL1c)을 접속 및 절단시켜 주는 스위칭 수단(11), 기준전위를 기억시겨 주는 기준전위 구단(13) 및, 기준전위와 더불어 어드레스된 메모리셀(12)의 줄력을 비교해 주는 감지증폭기 수단(SA1∼SA3)을 구비해서 n개 다른 기억전위를 사용한 n개 값의 데이터로 기억시켜 줄 수 있도록 된 반도체 기억장치.
  2. 제1항에 있어서, n값이 2m이고, 각 메모리셀(12)이 각각 m비트의 정보를 기억시켜 주는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  3. 제1항에 있어서, 각 메모리셀이 정보기억용 캐패시터(31)와 선택용 트랜지스터(32)로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  4. 제1항에 있어서, 스위칭 수단(11)이 부분비트선(BL1a∼BL1c)을 상호 연결해 주도록 각각 스위칭 소자로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체기억장치.
  5. 제1항에 있어서, 기준전위 수단(13)이 복수개의 모의 메모리셀로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체기억장치.
  6. 제5항에 있어서, 각 모의 메모리셀이 정보기억용 캐패시터(31)와 선택용 트랜지스터(32)로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  7. 제1항에 있어서, 감지증폭기 수단(SA1∼SA3)의 출력이 공급되는 데이터 검출 수단(41∼50)이 설치되고, 메모리셀(12)로부터 데이터를 독출한 때(n-1)개의 각 부분비트선전위중 l개가 각각의 기준전위보다도 더 높은 레벨인 것과, 상기 감지증폭기 수단(SA1-SA3)으로 판정될 때 데이터 거물 수단(41∼50)이 이를 n개 값의 정보 중(l+1)번째의 정보레벨로서 출력해 주는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  8. 제1항에 있어서, 메모리셀(12)에 대해 데이터의 기록을 행하는 데이터 기록수단(61∼67)이 설치되고 이 데이터 기록수단(61∼68)은(n-1)개의 각 부분비트선전위중 l를 높은 레벨로, 나머지 전부를 낮은 레벨로 설정한 후(n-1)개의 각 부분비트선을 단락시켜 줌에 의해 데이터 기록이 행해지는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  9. 제4항에 있어서,(n-1)개의 부분비트선을 접속해 주는 스위칭 소자(11)가 도통시 그 게이트에 각 부분지트선(BL1a∼BL1c) 전위의 높은 레벨보다 더 높은 전위가 인가되는 N챈널 MOS트랜지스터로 구성되고 있는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  10. 제4항에 있어서, (n-1)개의 부분비트선을 접속해 주는 스위칭 소자(11)가 도통시 고 게이트에 각 부분비트선(BL1a∼BL1c) 전위의 낮은 레벨보다 더 낮은 전위가 인가되는 P채널 MOS트랜지스터로 구성되고 있는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  11. 제4항에 있어서,(n-1)개의 부분비트선을 점슥해 주는 스위칭 소자(11)가 CMOS전달게이트로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  12. 제6항에 있어서, 모의 메모리셀(13)의 캐패시터(31) 값이 메모리셀(120의 캐패시터(31) 값의정도로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  13. 제5항에 있어서, 모의 메머리셀(13)은 메모리셀(12)의 최고 기억전위인 거의배(단,) 정도의 전위를 발생해 주는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870014302A 1986-12-15 1987-12-15 다수값 정보기억방식의 반도체기억장치 KR910006112B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61-298398 1986-12-15
JP298398 1986-12-15
JP61298398A JPS63149900A (ja) 1986-12-15 1986-12-15 半導体メモリ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR880008337A true KR880008337A (ko) 1988-08-30
KR910006112B1 KR910006112B1 (ko) 1991-08-13

Family

ID=17859185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019870014302A KR910006112B1 (ko) 1986-12-15 1987-12-15 다수값 정보기억방식의 반도체기억장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4841483A (ko)
EP (1) EP0273639B1 (ko)
JP (1) JPS63149900A (ko)
KR (1) KR910006112B1 (ko)
DE (1) DE3787163T2 (ko)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2622179B2 (ja) * 1988-12-29 1997-06-18 シャープ株式会社 ダイナミック型半導体記憶装置
JPH02260298A (ja) * 1989-03-31 1990-10-23 Oki Electric Ind Co Ltd 不揮発性多値メモリ装置
JPH0834257B2 (ja) * 1990-04-20 1996-03-29 株式会社東芝 半導体メモリセル
JPH07122989B2 (ja) * 1990-06-27 1995-12-25 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP2528737B2 (ja) * 1990-11-01 1996-08-28 三菱電機株式会社 半導体記憶装置およびその製造方法
JP2573416B2 (ja) * 1990-11-28 1997-01-22 株式会社東芝 半導体記憶装置
US5218569A (en) * 1991-02-08 1993-06-08 Banks Gerald J Electrically alterable non-volatile memory with n-bits per memory cell
JP2564046B2 (ja) * 1991-02-13 1996-12-18 株式会社東芝 半導体記憶装置
DE69222793T2 (de) * 1991-03-14 1998-03-12 Toshiba Kawasaki Kk Halbleiterspeicheranordnung
JP3181311B2 (ja) * 1991-05-29 2001-07-03 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP3464803B2 (ja) * 1991-11-27 2003-11-10 株式会社東芝 半導体メモリセル
US5291437A (en) * 1992-06-25 1994-03-01 Texas Instruments Incorporated Shared dummy cell
JPH08180688A (ja) * 1994-12-26 1996-07-12 Nec Corp 半導体記憶装置
US6353554B1 (en) * 1995-02-27 2002-03-05 Btg International Inc. Memory apparatus including programmable non-volatile multi-bit memory cell, and apparatus and method for demarcating memory states of the cell
JP3006510B2 (ja) * 1996-10-24 2000-02-07 日本電気株式会社 半導体メモリ
US6551857B2 (en) * 1997-04-04 2003-04-22 Elm Technology Corporation Three dimensional structure integrated circuits
US5915167A (en) * 1997-04-04 1999-06-22 Elm Technology Corporation Three dimensional structure memory
CA2217359C (en) * 1997-09-30 2005-04-12 Mosaid Technologies Incorporated Method for multilevel dram sensing
CA2273122A1 (en) * 1999-05-26 2000-11-26 Gershom Birk Multilevel dram with local reference generation
AU2003255254A1 (en) * 2002-08-08 2004-02-25 Glenn J. Leedy Vertical system integration
ES2568436T3 (es) 2006-03-31 2016-04-29 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Procedimiento para controlar la farmacocinética en sangre de anticuerpos
ES2429407T3 (es) 2006-06-08 2013-11-14 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Agente preventivo o remedio para enfermedades inflamatorias
DE102007023653A1 (de) * 2007-05-22 2008-11-27 Qimonda Ag Halbleiterspeicher und Verfahren zum Betreiben eines Halbleiterspeichers
JP2009009641A (ja) * 2007-06-27 2009-01-15 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置及びその読み出し方法
EP3689912A1 (en) 2007-09-26 2020-08-05 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Method of modifying isoelectric point of antibody via amino acid substitution in cdr
EP4238993A3 (en) 2008-04-11 2023-11-29 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Antigen-binding molecule capable of binding to two or more antigen molecules repeatedly
TWI667257B (zh) 2010-03-30 2019-08-01 中外製藥股份有限公司 促進抗原消失之具有經修飾的FcRn親和力之抗體
WO2012053374A1 (en) * 2010-10-20 2012-04-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for driving semiconductor device
US8933715B2 (en) * 2012-04-08 2015-01-13 Elm Technology Corporation Configurable vertical integration
US10654933B2 (en) 2013-12-27 2020-05-19 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Method for purifying antibody having low isoelectric point
WO2020217138A2 (ja) * 2019-04-26 2020-10-29 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、及び半導体装置の動作方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53144232A (en) * 1977-04-28 1978-12-15 Toshiba Corp Sensor circuit for multi-value signal charge transfer device
JPS5514588A (en) * 1978-07-19 1980-02-01 Toshiba Corp Semiconductor dynamic memory unit
JPS60239994A (ja) * 1984-05-15 1985-11-28 Seiko Epson Corp 多値ダイナミツクランダムアクセスメモリ
KR900005667B1 (ko) * 1984-11-20 1990-08-03 후지쓰 가부시끼가이샤 반도체 기억장치

Also Published As

Publication number Publication date
DE3787163T2 (de) 1994-02-17
JPH059878B2 (ko) 1993-02-08
US4841483A (en) 1989-06-20
DE3787163D1 (de) 1993-09-30
EP0273639A3 (en) 1990-05-16
EP0273639B1 (en) 1993-08-25
JPS63149900A (ja) 1988-06-22
KR910006112B1 (ko) 1991-08-13
EP0273639A2 (en) 1988-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR880008337A (ko) 반도체 기억장치
US5243573A (en) Sense amplifier for nonvolatile semiconductor storage devices
KR960012049B1 (ko) 판독 싸이클 및 기록 싸이클을 수행하는 메모리 및 메모리의 비트 라인쌍의 전압을 균등화하는 방법
KR970023375A (ko) 데이터 유지회로
KR890015273A (ko) 불휘발성 반도체기억장치
KR860002826A (ko) 메모리 디바이스
KR0161510B1 (ko) 반도체 메모리 장치
KR880003328A (ko) 반도체 메모리장치
KR920022291A (ko) 프리챠지된 비트선을 갖는 멀티 포트 메모리 장치
KR860003604A (ko) 반도체 메모리 장치
US5323345A (en) Semiconductor memory device having read/write circuitry
KR940012633A (ko) 반도체 메모리 디바이스
EP0088421B1 (en) Semiconductor memory device having tunnel diodes
KR920006981A (ko) 반도체 메모리
KR870008320A (ko) 상이형 메모리셀로 구성되는 반도체 메모리장치
KR910003389B1 (ko) 반도체 메모리장치
US4131951A (en) High speed complementary MOS memory
JPH01503030A (ja) 電流検出差動増幅器
KR950020704A (ko) 반도체 메모리 장치
CA1160742A (en) Static ram memory cell
KR890013578A (ko) BiCMOS기록-회복(write-recovery) 회로
US5724299A (en) Multiport register file memory using small voltage swing for write operation
KR910006997A (ko) 기생용량에 의해 야기된 오동작을 방지하기 위한 eprom의 디코더 회로
KR950001862A (ko) 반도체 집적 회로 장치
GB2204756A (en) Dynamic ram timing pulse generation

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20030801

Year of fee payment: 13

LAPS Lapse due to unpaid annual fee