KR840001998A - 광산의 치환된 티아졸리디닐 에스테르의 제조방법 - Google Patents
광산의 치환된 티아졸리디닐 에스테르의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (14)
- 일반식(Ⅱ)의 화합물을 하기 부분 일반식(Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 기를 도입하는 화합물과 반응시키거나, A0가 하기 일반식(Ⅲa)또는 (Ⅲb)의 기를 나타내는, 일반식(Ⅲ) 화합물에 있어서, Y1또는 Y3기를 각기 O-Z1또는 O-Z3그룹으로 치환하거나 또는 이 염의 형태로 치환하고, 임의로 Y2기를 O-Z2그룹 또는 이 염의 형태로 치환하고, 필요에 따라, 일반식(Ⅰ)화합물을 일반식(Ⅰ)의 다른 화합물로 전환시키고 및/또는 필요에 따라, 본 방법에 따라 수득될 수 있는 염을 유리화합물 또는 다른 염으로 전환시키고, 및/또는 Z1, 또는 Z2및 임의로 Z2가 각기 수소를 나타내는, 본 방법에 따라 수득할 수 있는 일반식(Ⅰ)의 화합물을 이의 염으로 전환시키며, 및/또는 필요에 따라, 본 방법에 따라 수득할 수 있는 이성체 혼합물을 이성체로 분리시킴을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)화합물 및 Z1, 또는 Z3및 임의로 Z2가 수소를 나타내는 상기 화합물의 염의 제조방법.상기 일반식에서 R1및 R2중의 하나는 탄소원자 3 또는 4를 갖는, 2,3-위치에서 불포화 된 알킬기를 나타내며, 다른 하나는 상술한 기 또는 저급 알킬기를 나타내고, R3및 R4는 각기 독립하여 수소 또는 메틸을 나타내며, A는 다음 일반식의 기를 나타내고(여기에서, Z1또는 Z2및 Z3는 각기 독립하여 수소 또는 저급알킬을 나타내거나 또는 Z2및 Z3는 함께 저급 알킬렌을 나타낸다), A0는 다음 일반식의 기를 나타낸다.(여기에서, Y1또는 Y3는 각기 O-Z1또는 O-Z3그룹에 의해, 또는 이의 염에 의해 치환될 수 있는 기를 나타내고, Y2는 O-Z2의 기 또는 O-Z2그룹 또는 이의 염형태로 치환될 수 있는 기를 나타낸다).
- 제1항에 있어서, 3산화 황 또는 이의 착화합물을 부분 일반식(Ⅰa)의 기가 도입되는 화합물로서 사용함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, X 또는 X2가 반응성의 기능적으로 변형된 하이드록시를 나타내는 다음 일반식의 화합물을 일반식(Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 기를 각기 도입하는 화합물로서 사용함을 특징으로 하는 방법.
- 제3항에 있어서, X1또는 X2가 할로겐을 나타냄을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, Y1, 또는 Y2및/또는 Y3가 에스테르화 또는 에스테르화 하이드록시 그룹을 나타냄을 특징으로 하는 방법.
- 제5항에 있어서, 에스테르화 하이드록시 그룹을 가수분해에 의해 유리 하이드록시 그룹으로 전환시킴을 특징으로 하는 방법.
- 제5항에 있어서, 에테르화 하이드록시 그룹을 친핵성 치환반응에 의해 하이드록시로 치환시킴을 특징으로 하는 방법.
- 제8항에 있어서, 적합한 친핵성 시약으로서 에테르화 할 수 있는 하이드록시 또는 메르캅토 그룹 또는 4급화를 포함하여 치환될 수 있는 아미노그룹을 함유하는 것을 사용함을 특징으로 하는 방법.
- 제8항에 있어서, 티오펜올레이트 화합물, 우레아 또는 티오우레아 화합물 또는 입체적으로 장애된 아미 화합물, 3급-저급알킬아민, N-저급알킬모르폴린 또는 -티오모르폴린 또는 피리딘을 사용함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, R1및 R2기중 하나가 알릴 또는 2-메탈린을 나타내고, 다른 하나도 또한 이들 그룹의 하나 또는 메틸을 나타내며, R3, R4및 A는 제1항에서 정의된 바와 같은 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 Z1, 또는 Z3및 임의로 Zn가 수소를 나타내는, 상기 화합물의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, R1및 R2기중 하나가 알릴 또는 2-메칼릴을 나타나고, 다른 하나도 또한 이들 그룹의 하나 또는 메틸을 나타내고, R3및 R4는 제1항에서 정의된 바와 같고, A는 Z1이 수소를 나타내는 부분 일반식(Ⅰa)의 기 또는 Z2가 저급알킬을 나타내고 Z3가 저급알킬 또는 수소를 나타내는 부분 일반식(Ⅰb)의 기를 나타내는, 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 Z1, 또는 Z3및 임의로 Z2가 수소를 나타내는 상기 화합물의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, R1이 알릴 또는 2-메탈릴을 나타내고, R2또한 이들 기의 하나 또는 메틸을 나타내고, R3는 수소 또는 메틸을 나타내고, R4는 수소를 나타내고 A는 Z1이 수소를 나타내는 부분 일반식(Ⅰa)의 기를 나타내거나 또는 Z2가 메틸을 나타내고 Z3가 수소 또는 메틸을 나타내는 부분일반식(Ⅰb)의 기를 나타내는, 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 Z1, 또는 Z3및 임의로 Z2가 수소를 나타내는 상기 화합물의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, 메틸-[3-메틸-2[[5-메틸-3-(2-메탈릴)-4-옥소-2-티아졸리디닐리덴]-하이드라존]-4-옥소-2-티아졸리디닐]-수소 인산염 및 이의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
- 실시예 1 내지 18에 기술된 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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