KR20230003251A - 패널 - Google Patents

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KR20230003251A
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한스-쥐르겐 한닉
카르스텐 부흘만
안드레아스 시에더
에버하르트 헤르만
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서페이스 테크놀로지스 게엠베하 운트 코. 카게
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Abstract

본 발명은 패널 코어(9), 패널 상단 사이드(7), 패널 하단 사이드(8) 및 제1 에지 쌍과 제2 에지 쌍을 포함하는 패널(1, 2, 3, 4)로서, 제1 에지 쌍에는 패널 에지(N)에서 그루브 프로파일(5) 및 반대되는 패널 에지(F)에서 그에 상보적인 텅 프로파일(6)이 제공되어, 회전 운동(S)에 의해 잠길 수 있고 잠금 상태에서 수직 잠금 작용이 이루어질 수 있으며 (수평으로) 패널의 평면에서 서로 멀어지는 잠긴 패널(1, 2, 3, 4)의 운동이 대항되도록 포지티브식 잠금 관계로 협력하고, 반대되는 패널 에지에서 제2 에지 쌍에는 상보적인 후크 프로파일, 즉 수용 후크(10, 56, 62, 69, 74)와 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)가 제공되며, 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)는 제1 에지 쌍에 대한 회전 운동(S)과 동시에 패널 평면에 수직인 평면에서 결합 운동에 의해 수용 후크(10, 56, 62, 69, 74)에 조립될 수 있고, 수직 잠금 작용이 이루어질 수 있는 별도의 잠금 요소(70, 76)를 위해 수용 후크(10, 56, 62)에 고정 그루브(12, 58, 64)가 제공되거나 체결 후크(68, 75)에 고정 그루브(71, 77)가 제공되며, 맞댐 표면(10a)이 패널 상단 사이드(7)에 실질적으로 수직으로 수용 후크(10, 56, 62)에 배열되고, 대응 맞댐 표면(11d)이 패널 상단 사이드(7)에 실질적으로 수직으로 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)에 배열되며, 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)의 대응 맞댐 표면(11d)의 하부 단부에서 또는 수용 후크(10, 56, 62, 69, 74)의 맞댐 표면(10a)의 하부 단부에서 제2 에지 쌍에 적어도 하나의 실링 노즈(51)가 제공되어, 실링 노즈는 대응 맞댐 표면(11d) 또는 맞댐 표면(10a)의 전체 길이에 걸쳐 각각의 패널 에지(M, U)에 평행하게 연장되는 것을 특징으로 하는 패널에 관한 것이다.

Description

패널
본 발명은 패널 코어, 패널 상단 사이드, 패널 하단 사이드 및 제1 에지 쌍 및 제2 에지 쌍을 포함하는 패널에 관한 것으로, 제1 에지 쌍에는 패널 에지에서 그루브 프로파일 및 반대되는 패널 에지에서 이에 상보적인 텅 프로파일이 제공되어, 회전 운동에 의해 잠길 수 있고 잠긴 상태에서 수직 잠금 작용이 이루어질 수 있으며 (수평으로) 패널의 평면에서 서로 멀어지는 잠긴 패널의 운동이 대항되도록 포지티브식 잠금 관계로 협력하고, 반대되는 패널 에지에서 제2 에지 쌍에는 상보적인 후크 프로파일, 즉 수용 후크 및 체결 후크가 제공되며, 체결 후크는 패널 평면에 직각인 평면에서 결합 운동과 동시에 제1 에지 쌍에 대한 회전 운동에 의해 수용 후크에 조립될 수 있고, 수직 잠금 작용이 이루어질 수 있는 별도의 잠금 요소를 위해 수용 후크에 고정 그루브가 제공되는 패널에 관한 것이다.
제시된 일반적인 종류의 패널은 EP 1 415 056 B1로부터 알려져 있다. 이는 텅 및 그루브 프로파일이 있는 제1 에지 쌍과 후크 프로파일이 있는 제2 에지 쌍을 포함하는 패널이다. 그러한 방식으로 공지된 패널은 회전 운동에 의해 패널의 선행 열의 패널의 그루브 프로파일에 대한 텅 프로파일을 갖는 에지에서 잠길 수 있다. 후크 프로파일이 있는 에지 중 하나가 위에서 언급한 회전 운동을 통해 동시에 고정될 수 있다는 것은 큰 이점으로 간주된다. 이 경우 별도의 잠금 요소가 자체적으로 래칭된다. 잠금 요소의 래칭 기능은 패널의 제1 에지 쌍에서 위에서 언급한 회전 운동에 의해 자동으로 발동된다.
그 패널 배치 모드는 폴드 다운 배치라고도 하거나 적절한 패널은 폴드 다운 패널이라고도 한다.
이러한 종류의 패널은 열로 함께 연결되며, 이 경우 열 내에서 패널 사이에 횡 방향 결합이 존재한다. 또한 이러한 방식으로 조합된 관계로 형성되는 놓인 표면 커버리지의 패널의 열 사이에 길이 방향 결합이 각각 형성된다. 이러한 커버리지 표면의 길이 방향 연결 및 횡 방향 연결은 물이 통과하는 것을 방지하기 위해 어느 정도의 실링 완전성을 제공하는 것이 바람직하다. 실제로 불행히도 물이 결합부로 침투할 수 있고 일부 위치에서 결합부를 통해 패널 상단 사이드로부터 패널 하단으로 흐를 수 있음이 밝혀졌다. 결합부로 침투하거나 통과하는 물은 표면 커버리지 아래에 숨겨 퍼질 수 있는 곰팡이를 형성할 수 있다. 이 경우 특히 횡 방향 및 길이 방향 에지의 교차점과 횡 방향 에지를 통해 수분이 침투하거나 통과할 수 있음이 밝혀졌다.
본 발명의 목적은 결합부를 통과하는 물에 더 잘 저항하기 위해 적어도 제2 에지 쌍의 프로파일에 대해 개선된 구성을 갖는 패널을 제안하는 것이다.
본 발명에 따르면 맞댐 표면이 패널 상단 사이드에 대해 실질적으로 직각으로 수용 후크에 배열되고, 대응 맞댐 표면이 패널 상단 사이드에 대해 실질적으로 직각으로 체결 후크에 배열되며, 체결 후크의 대응 맞댐 표면의 하부 단부에서 또는 수용 후크의 맞댐 표면의 하부 단부에서 제2 에지 쌍에 실링 노즈가 제공되되, 실링 노즈는 대응 맞댐 표면 또는 맞댐 표면의 전체 길이에 걸쳐 각각의 패널 에지와 평행하게 연장된다는 점에서 목적이 달성된다.
실링 노즈는 수용 후크의 맞댐 표면으로부터 원위 방향으로 또는 체결 후크의 대응 맞댐 표면으로부터 원위 방향으로 패널 에지에서 돌출된다. 실링 노즈의 단면은 바람직하게는 둥근 부분 및/또는 만곡된 부분이 조합되어 구성된 외부 윤곽을 갖는다. 만곡되거나 둥근 실링 노즈의 원위 단부는 전환점 또는 전환점 접선을 갖는다. 전환점 접선은 30° 내지 90°, 바람직하게는 45° 내지 90°, 특히 60° 내지 90°의 각도로 패널 상단 사이드에 대해 배열된다. 바람직하게는 전환점 접선은 패널 코어로부터 원위로 최대 거리에 있는 전환점에 있다.
제안된 패널에는 리세스가 형성된 결합부 아래 영역과 수직 잠금 작용을 위한 작동 위치 위 영역에 물리적으로 공간적으로 배열된 실링 수단이 제공된다. 더 구체적으로 대응 맞댐 표면에 제공되고 잠긴 상태에서 맞댐 표면과 협력하는 실링 노즈는 실링 작용을 제공한다. 실링 효과는 실링 노즈를 맞댐 표면에 압박함으로써 및/또는 실링 노즈가 부풀어 습기가 있을 때 이루어질 수 있는데, 이는 적어도 팽창 효과로 인해 크기가 증가하여 맞댐 표면과 실링 접촉하게 되기 때문이다.
2개의 상보적인 패널 에지에 있는 에지 쌍 중 적어도 하나가 상기 패널 중 둘의 조립된 상태에서 리세스형 결합을 구성하는 각각의 에지 브레이크를 갖는 경우 실링 효과에 기여하는 추가 방안이 이루어질 수 있다.
바람직하게는 상보적인 패널 에지의 에지 쌍 중 적어도 하나의 에지 브레이크에는 더 큰 에지 브레이크 및 더 작은 에지 브레이크가 각각 제공되며, 조립된 상태에서 더 큰 에지 브레이크는 더 작은 에지 브레이크에 의해 덮이게 된다.
고정 그루브의 단면은 별도의 잠금 요소에 대해 쉽게 고정될 수 있으며 알려진 잠금 요소가 사용될 수 있다. 적합한 잠금 요소는 예를 들어 EP 1 415 056 B1, WO 2011/087425 A1, US 9 347 469 B2 또는 US 7 866 110 B2로부터 알려져 있다. 위에서 언급한 문헌에 정의된 바와 같은, 별도의 잠금 요소에 대한 설계 구성 및 패널에 대한 배열의 예가 참조되고, 그 기술 교시가 여기에 포함된다. 상보적인 후크 프로파일을 위한 별도의 잠금 요소는 선택적으로 패널의 구성 부품으로 제공될 수 있다. 이에 수용 후크의 고정 그루브에 사전 장착되는 것이 바람직하다.
제안된 패널은 사각형의 기본 모양을 갖는다. 패널의 네 코너 중 하나에서 제1 에지 쌍의 텅 프로파일이 제2 에지 쌍의 수용 후크와 함께 모인다. 패널 에지의 두 가지 다른 형태가 그 코너에서 겹치므로 복잡한 3차원 구성이 있는 다른 프로파일 모양에 대해 겹치는 영역이 생깁니다. 따라서 복잡한 구성은 수용 후크가 잠금 요소를 위한 고정 그루브를 가져야 하고 그러한 이유로 고정 그루브가 그 코너의 인접한 패널 에지의 텅 프로파일과 코너에서 함께 모이는 것을 의미한다. 고정 그루브를 제조하려면 예를 들어 밀링을 통해 패널 코어의 재료를 제거해야 한다. 고정 그루브의 밀링은 단부(전이 영역)에서 텅 프로파일을 관통하여 지나가고 텅을 형성하는 패널 코어의 일부를 가공한다. 따라서 텅 프로파일 재료의 일부가 가공되어 제거된다. 그 전이 영역의 텅 상단 사이드에 간극이 형성되고, 물은 그 간극으로 통과할 수 없다. 이러한 이유로 제안된 설계 구성은 텅 상단 사이드의 높이까지 물의 침투를 효과적으로 저항하는 적절한 방안을 텅 상단 사이드 위에 제공하는 기술적 경로를 추구한다. 그러한 방식으로 통과하는 물과 관련하여 더 나은 실링 완전성을 달성하는 것이 가능하다는 것이 밝혀졌다.
제2 에지 쌍의 상보적인 후크 프로파일, 즉 상향 개방 수용 후크 및 하향 개방 체결 후크는 유리하게 패널 코어 상에 제공되는 양 사이드 고정 표면을 일체로 갖는데, 이에 의해 잠금 작용이 이루어져 잠긴 패널 에지에 수직인 방향으로 패널 평면 내에서 패널이 서로 멀어지는 것을 방지할 수 있다. 패널 상단 사이드에 수직인 수직 방향의 잠금 작용은 특히 사용자 친화적이며 별도의 잠금 요소를 통해 쉽게 이루어질 수 있다.
유리하게는 본 발명에 따른 패널의 기초를 형성하는 캐리어 플레이트는 예를 들어 고밀도 섬유 재료(HDF)나 중간 밀도 섬유 재료(MDF)와 같은 섬유 재료, 지향성 스트랜드 보드(OSB) 또는 목재 플라스틱 복합 재료(WPC)를 갖는다. 또한 패널이 장식을 갖는 것이 제공될 수 있는데, 이 경우 장식은 캐리어 플레이트에 이미 인쇄된 장식 레이어를 적용하거나 그러한 장식으로 캐리어 플레이트를 직접 인쇄함으로써 제공될 수 있다. 이와 관련하여 본 경우에 직접 인쇄라는 용어는 캐리어 플레이트에 앞서 적용된 인쇄 배경의 인쇄를 의미하는 데에도 사용된다. 패널이 전체 목재 재료를 포함하거나 완전히 목재 재료로 형성되는 것이 또한 제공될 수 있다. 유리하게는 그러한 섬유 재료는 수분과 접촉하는 경우에 물 또는 액체를 흡수할 수 있고, 이는 팽창을 야기한다. 그 경우에 그러한 팽창은 실링 노즈 또는 맞댐 표면 및 대응 맞댐 표면의 영역에서 개선된 실링 폐쇄를 낳는다. 본 발명의 또 다른 실시예에서, 본 발명에 따른 패널의 기초를 형성하는 캐리어 플레이트는 예를 들어 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 아크릴로니트릴부타디엔스티렌공중합체(ABS), 폴리염화비닐(PVC), 폴리카보네이트(PC), 폴리아미드(PA), 폴리에테르케톤(PEK), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 이들의 혼합물 또는 공중합체와 같은 플라스틱 재료, 또는 섬유 및/또는 미네랄 필러를 갖는 상기 플라스틱 중 하나 이상을 포함하는 플라스틱 복합 재료를 갖는다.
또한 돌출부의 더 작은 에지 브레이크를 갖는 각 패널 에지에서의 제공에 의해 실링 완전성을 개선할 수 있는데, 그 상단 사이드에서 더 작은 에지 브레이크의 적어도 일부가 연장되는 한편, 돌출부의 하단에는 더 큰 에지 브레이크의 덮인 부분을 위한 언더컷 대응 표면이 제공된다.
제1 에지 쌍의 더 작은 에지 브레이크는 그루브 프로파일에 배열되고 더 큰 에지 브레이크는 텅 프로파일에 배열되며 제2 에지 쌍의 더 작은 에지 브레이크는 체결 후크에 배열되고 더 큰 에지 브레이크는 수용 후크에 배열되는 것이 바람직하다.
또한 대응 표면이 패널 상단 사이드에 대해 직각으로 배열되는 큰 에지 브레이크 아래의 수용 후크에 배열되는 경우 실링 완전성을 개선하는 측면에서 도움이 되는데, 체결 후크에서 대응 맞댐 표면은 1°-5°의 범위의 각도를 통해 패널 상단 사이드에 수직에 대해 경사지고 대응 맞댐 표면의 경사진 영역에서 체결 후크의 단면은 오버사이즈를 가져 잠긴 상태에서 대응 맞댐 표면과 맞댐 표면 사이에 압박 작용이 야기될 수 있다. "오버사이즈"라는 용어는 함께 조립될 수 있는 두 패널 에지의 관계와 관련이 있습니다. 두 패널 이제의 이론적 공칭 치수에서 시작하여 "오버사이즈"라는 용어는 공칭 크기에서 시작하여, 맞댐 표면 및/또는 대응 맞댐 표면에 더 많은 재료가 존재하여 대응 맞댐 표면의 표면 및/또는 맞댐 표면의 표면이 공칭 치수보다 더 원위로 돌출됨을 의미한다. 실제로 이는 100분의 1밀리미터에서 수십 분의 1밀리미터만큼의 최대 오버사이즈일 수 있으며, 실제로 조립된 패널 에지의 맞댐 표면과 대응 맞댐 표면 사이에 원하는 압박 작용을 생성한다. 그 바람직한 압박 효과는 맞댐 표면 및 대응 맞댐 표면의 상부 영역에서 적절하게 발생하고 예를 들어 맞댐 표면 또는 대응 맞댐 표면 높이의 절반 이상으로 연장될 수 있다.
그런 식으로 결합부로 물이 침투하는 것을 방지하거나 패널 하단으로 물이 흐르는 것을 방지하는 세 가지 가능한 방안이 있다. 가장 위에서 작은 에지 브레이크에 의한 큰 에지 브레이크의 커버리지가 실링 효과를 제공한다. 그 아래에는 실링 작용을 하는 맞댐 표면에 대한 압박 작용을 생성하는 대응 맞댐 표면의 오버사이즈가 존재한다.
가장 아래에 있는 것은 잠긴 상태에서 맞댐 표면과 함께 실링 완전성을 제공하는 실링 노즈이다.
유리한 발달은 대응 맞댐 표면과 맞댐 표면 사이의 압박 작용이 맞댐 표면의 상부 단부에서 더 크고 맞댐 표면의 하부 단부를 향해 감소하는 것을 제공한다.
대응 맞댐 표면과 맞댐 표면 사이의 압박 작용의 하부 단부에 한 번 더 잠긴 상태에서 맞댐 표면에 대해 증가된 압박 작용이 생성될 수 있는 밀봉 노즈가 배열되는 경우 이점이 더욱 개선될 수 있다.
닫힌 결합을 제공하기 위해 별도의 잠금 요소가 상보적인 패널 에지에서 래칭 리세스로 자동으로 래칭될 수 있는 래칭 수단을 가지면 유용하다.
대안은 별도의 잠금 요소를 위한 고정 그루브가 평행한 그루브 벽을 갖는 것을 제공한다.
바람직하게는 고정 그루브의 그루브 벽은 서로 일정한 간격을 두고 있다.
고정 그루브 또는 그 그루브 벽이 패널 상단 사이드에 대해 경사지게 배열된다면 더욱 도움이 된다.
또한 경사지게 배열된 고정 그루브의 자유 개구가 위쪽으로, 즉 패널 상단 사이드의 방향으로 향하는 경우에 유용하다.
본 발명은 아래에서 다수의 실시예에 의해 상세하게 설명되고 도면에서 예로서 예시된다.
도 1은 조합된 본 발명에 따른 복수의 패널의 개략도를 도시한다.
도 2는 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제1 에지 쌍을 관통하는 단면을 예시적으로 도시한다.
도 3은 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제2 에지 쌍을 관통하는 단면을 도시한다.
도 4는 잠금 상태에서 도 2의 패널 에지를 갖고 도 1에 도시된 텅 프로파일을 갖는 2개의 패널 부분의 사시도를 도시한다.
도 5는 대안적인 별도의 잠금 요소가 있는 잠금 상태의 2개의 패널 부분의 사시도를 도시한다.
도 6은 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제1 에지 쌍을 관통하는 대안적인 단면을 도시한다.
도 7은 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제2 에지 쌍을 관통하는 대안적인 단면을 도시한다.
도 8은 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제2 에지 쌍을 관통하는 단면의 추가적인 예를 도시한다.
도 9는 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제2 에지 쌍을 관통하는 단면의 또 다른 예를 도시한다.
도 10은 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제2 에지 쌍을 관통하는 단면의 마지막 예를 도시한다.
도 11은 도 10의 XI로 표시된 부분을 확대하여 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따른 4개의 동일한 패널(1, 2, 3, 4)의 부분을 개략적으로 도시하며, 보다 구체적으로 조합되어 조립되어 커버리지 표면을 형성한다. 커버리지 표면은 건물 벽, 천장 또는 바닥에 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 패널 각각은 각각 4개의 패널 에지(F, M, N, U)와 4개의 코너(K1, K2, K3, K4)를 갖는다. 다음 도면에서 볼 수 있듯이 패널은 패널 상단 사이드(7), 패널 하단 사이드(8) 및 패널 코어(9)를 갖는다. 패널은 2개의 에지 쌍을 갖는다. 제1 에지 쌍이 도 2에 예시로 도시되어 있고 패널 에지(N, F)를 포함하는데, 패널 에지(N)는 그루브 프로파일(5)을 갖고 패널 에지(F)는 텅 프로파일(6)을 갖는다. 제2 에지 쌍은 도 3에 도시되어 있고 후크 프로파일의 형태인 패널 에지(M, U)를 포함한다. 패널 에지(M)는 수용 후크(10)의 형태이고 패널 에지(U)는 체결 후크(11)의 형태이다. 수용 후크(10)에는 별도의 잠금 요소(13)를 위한 고정 그루브(12)가 제공된다. 잠금 요소(13)는 수직 방향으로 잠기는 방식으로 장착되고 사용된다(수직 잠금 요소). 체결 후크(11)는 수직 평면에서 아래쪽으로의 결합 운동에 의해 수용 후크(10)에 연결될 수 있다. 수직 잠금 요소(13)가 사용되는 경우 수직으로 작용하는 잠금 효과가 도 3을 참조하여 아래에 자세히 설명되는 바와 같이 자동으로 발생한다. 2개의 서로 다른 에지 쌍 덕분에 제안된 패널은 회전 운동(폴드 다운)에 의한 잠금에 적합하다. 회전 운동은 경사 시작 위치(4')에서 파선으로 도시된 패널(4)을 참조하여 도 2에 표시되어 있다. 패널(4)은 회전축으로서 패널 에지(F)를 중심으로 단일 하향 회전 운동에 의해 회전 화살표(S)의 방향으로 시작 위치(4')로부터 아래로 이동된다. 그 상황에서 패널의 이전 열(P1)의 패널(1, 2)의 그루브 프로파일(5)과 함께 잠긴다. 동시에 패널(4)의 패널 에지(U)는 패널의 동일한 열(P2)에 있는 패널(3)의 패널 에지(M)에 잠긴다.
패널(4)의 코너(K1)에서 도 1에 도시된 바와 같이, 패널 에지(F)(제1 에지 쌍)는 패널 에지(U)(제2 에지 쌍)와 만난다. 그 코너(K1)는 관통하여 지나가는 물과 관련하여 커버리지 표면의 실링 완전성과 관련하여 특히 주요한 것으로 밝혀졌다. 그 주요한 코너(K1)에서 패널 에지(F)의 텅 프로파일(6)은 패널 에지(U)의 체결 후크(11)와 만난다. 텅 프로파일(6)과 체결 후크(11)의 단면은 공간적으로 중첩되며 이는 코너(K1)에서 복잡한 공간적 구성을 제공한다.
추가적인 동일한 패널(1, 3)과의 조합에서 패널(4)의 해당 코너(K1)는 IV로 표시된 영역에 배치된다. 거기서 길이 방향 결합(패널 에지 F/N)과 횡 방향 결합(패널 에지 M/U)으로 구성된 T 결합이 형성된다. 화살표(IV)로 표시된 시각 방향의 T 결합에 대한 도면은 도 4를 참조하여 아래에 상세하게 설명된다.
도 2를 참조하면 이는 본 발명에 따른 패널의 제1 에지 쌍을 단면으로 도시한다. 시각의 방향은 도 1에 도시된 단면 선 II-II에 대응된다. 패널(1, 4)의 패널 에지(F, N)는 단면 선 II-II에 의해 도 1에 표시된 바와 같이 도 2에서 반대된다. 패널 에지(F)는 텅 프로파일을 갖고 패널 에지(N)는 상보적인 그루브 프로파일을 갖는다. 패널이 두 부분으로 분할된 것처럼, 상보적인 패널 에지(F/N)는 잠금 상태에서 부분적으로 나타날 수 있다. 이러한 형태의 일러스트레이션은 상보적인 패널 에지의 기능과 협력을 더 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것이다. 패널 에지(F)의 시작 위치(4')는 회전 운동(S)을 나타낸다. 본 발명에 따른 종류의 복수의 패널이 동일한 방식으로 함께 잠겨 건물 벽, 바닥 또는 천장에 대한 커버리지 표면을 생성할 수 있다고 이해될 것이다. 이러한 이유로 도 2와 3은 부분적으로 나타난 2개의 패널로 각각 볼 수 있다.
수용 후크(10)의 형태의 패널 에지(M) 및 제2 에지 쌍의 체결 후크(11)의 형태의 패널 에지(U)가 도 3에 단면으로 도시되어 있으며, 보다 구체적으로는 조립된 잠금 상태에로 도시되어 있다. 시각의 방향은 도 1에 표시된 단면 선 III-III에 해당한다.
제2 에지 쌍에서 패널 상단 사이드(7)의 패널 에지(M)의 체결 후크(11)는 더 큰 챔퍼(36)의 형태로 에지 브레이크(edge break)를 갖고 패널 에지(U)의 수용 후크(10)에는 더 작은 챔퍼(37)가 제공된다.
더 작은 챔퍼(37)는 체결 후크(11)에서 원위에 배열된 원위 돌기(38) 위로 연장된다. 돌기의 하단은 잠금 상태에서 더 큰 챔퍼(36)의 일부를 덮고 그 부분과 접촉하는 대응 표면(39)을 형성하여 물의 침투와 관련하여 제1 실을 제공한다. 잠금 상태에서 두 개의 챔퍼는 V자형 결합(40)을 형성한다.
수용 후크(10) 및 체결 후크(11)는 수직 및 수평 방향으로 조립된 패널 에지(M/U)를 잠근다. 이 실시예에서 수직 잠금 작용을 제공하기 위해 별도의 잠금 요소(13)(수직 잠금 요소)가 그 목적을 위해 제공되는 수용 후크(10)에서 고정 그루브(12)에 장착될 수 있다. 체결 후크(11)에는 잠금 요소(13)가 래칭될 수 있는 래칭 리세스(11a)가 제공된다. 래칭 리세스는 경사진 하부 그루브 벽(11b) 및 경사진 상부 그루브 벽(11c)을 갖는다.
잠금 요소(13)를 위한 수용 후크(10)에 제공되는 고정 그루브(12)에는 평평한 하부 그루브 벽(12a), 상부 그루브 벽(12b) 및 그루브 바닥(12c)이 제공된다. 상부 그루브 벽(12b)은 그루브 바닥(12c)을 향하는 고정 그루브(12)의 더 좁은 부분과 고정 그루브(12)의 개방 사이드를 향하는 더 큰 폭의 영역이 있도록 배열된 단차(12d)를 갖는다.
단차(12d)를 갖는 고정 그루브(12)의 구성은 공지된 잠금 요소(13)에 적용되는데, 그 단면이 도 3에 예로서 도시되어 있다. 도시된 빗금친 잠금 요소(13)의 경우 래칭 수단(13A)은 고정 그루브(12) 밖으로 돌출되는 경사지게 아래쪽으로 돌출된 래칭 탭(13B)의 형태로 제공된다. 또한 잠금 요소(13)는 고정 그루브(12)의 그루브 바닥(12c)을 향하는 고정 수단(13c) 및 상부 그루브 벽의 단차(12d)에 대해 지지된 숄더(13d)를 포함한다. 적절한 잠금 요소는 예를 들어 EP 1 415 056 B1, WO 2011/087425 A1 및 US 2014/0366476 A1 공보에 공지되어 있다.
수평 잠금 작용을 위해, 도 3에 도시된 바와 같이, 패널 에지(M)의 수용 후크(10)에는 패널 상단 사이드(7)의 방향으로 돌출된 후크 에지(41)가 원위에 제공되고, 패널 상단 사이드(7)를 향해 개방되는 수용 리세스(42)가 제공된다. 패널 에지(U)의 체결 후크(11)는 패널 하단(8)의 방향으로 돌출된 체결 단차(43)와 아래쪽으로 개방된 체결 리세스(44)를 갖는다. 체결 단차(43)는 수용 후크(10)의 수용 리세스(42)에 장착되며 그와 협력한다.
수용 후크(10)는 패널 코어(9)를 향하는 고정 표면(45)을 후크 에지(41)에 갖는다. 체결 후크(11)에는 또한 패널 코어(9)를 향하고 후크 에지(41)에서 고정 표면(45)과 함께 언더컷 구성을 제공하여 패널(3, 4)이 (수평으로) 잠긴 패널 에지(M/U)에 수직인 방향으로 패널 평면 내에서 서로 멀리 이동하는 것을 방지하기 위한 잠금 작용을 제공하는 고정 표면(46)이 동등하게 제공된다.
본 예에서, 단차 하단(47)에서, 체결 단차(43)는 수용 리세스(42)의 바닥(49)과 접촉하는 원위 단차 표면(48), 및 체결 단차(43)의 고정 표면(46)까지 측 방향으로 연장되는 근위 리세스(50)를 갖는다. 리세스(50)는 체결 단차(43)와 후크 에지(41)의 고정 표면(45/46)에 대해 우수한 접촉을 사용한다.
도 3에 도시된 잠금 구성 내에서 접촉 표면 쌍을 볼 수 있는데, 체결 후크(11)의 각각의 표면은 상보적인 수용 후크(10)의 관련 표면과 접촉한다. 위에서부터 잠금 구성을 관통하여 아래쪽 방향으로 이는 수용 후크(10)에 배열되는 더 큰 챔퍼(36)의 덮인 부분과 체결 후크의 돌기(38)의 대응 표면(39)으로 형성되는 제1 접촉 표면 쌍으로 시작한다.
다음 접촉 표면 쌍은 맞댐 표면(10a)과 대응 맞댐 표면(11d)으로 형성된다. 맞댐 표면(10a)은 큰 챔퍼(36) 아래에 패널 에지(M)가 있는 수용 후크(10)에 제공되고 대응 맞댐 표면(11d)은 작은 챔퍼(37) 아래에 있는 패널 에지(N)의 체결 후크(11)에 제공된다. 이 배열에서 맞댐 표면(10a)은 패널 상단 사이드(7)에 대해 수직으로 배열되고 대응 맞댐 표면(11d)은 패널 상부면(7)에 대해 3°의 각도를 통해 패널 상단 사이드(7)에 직각에 대해 경사진다. 이 경우 대응 맞댐 표면(11d)의 상부에는 오버사이즈(E2)로 도 3에서 파선으로 도시된 소재 과잉이 제공된다. 잠금 상태에서 오버사이즈(E2)는 맞댐 표면(10a)/대응 맞댐 표면(11d)을 포함하는 접촉 표면 쌍 사이, 보다 구체적으로 그 접촉 표면 쌍의 상부 절반에서 압력 효과를 야기한다. 그 압박 작용은 또한 실링 효과를 제공한다.
제3 접촉 표면 쌍으로서 수용 후크(10)의 맞댐 표면(10a)과 대응 맞댐 표면(11d)의 하단에 제공된 실링 노즈(51)로 이루어진 쌍이 뒤따른다. 실링 노즈(51)는 대응 맞댐 표면(11d)의 전체 길이에 걸쳐 패널 에지(U)에 평행하게 연장된다. 그 배열에서 실링 노즈(51)는 대응 맞댐 표면(11d)으로부터 오버사이즈로 돌출되어 잠금 상태에서 맞댐 표면(10a)에 대해 특정 압력을 견디고 거기서 추가적인 실을 제공한다.
도 4는 두 연결된 패널(3, 4)의 사시도를 나타낸다. 이 도면은 도 1에 표시된 시각의 방향(IV)에 대응된다. 도 4의 전경에서 패널(3, 4)의 텅 프로파일(F)을 볼 수 있다. 패널(3)의 패널 에지(M)와 패널(4)의 패널 에지(U)는 사시도에서 뒤쪽으로 연장된다. 패널 에지(M)에는 수용 후크(10)가 제공되고 패널 에지(U)에는 도 3에 도시된 체결 후크(11)가 제공된다.
또한 도 4는 패널(3)의 임계 코너(K1)를 나타내는데, 여기서 잠금 요소(13)를 위해 제공된 고정 그루브(12)(패널 에지(M))를 포함하는 수용 후크(10)가 텅 프로파일(패널 에지(F))과 함께 제공된다. 도 4의 사시도는 고정 그루브(12)가 텅 프로파일을 통해 연장되고 텅의 팁에서 나오는 것을 도시한다. 고정 그루브(12)가 텅 프로파일을 통과하는 영역에서 텅 상단 사이드의 일부도 생략되어 있다. 이는 텅 상단 사이드에 간극을 야기한다.
상보적인 패널(4)에는 잠금 요소(13)가 자동으로 래칭될 수 있는 래칭 리세스(11a)가 제공된다. 래칭 리세스(11a)는 또한 텅 프로파일을 통해 패널(4)에서 연장되고 텅 팁에서 개방 단면의 형태로 끝난다.
패널(4)의 체결 후크(11)(패널 에지(U))는 또한 도 3의 단면에 도시된 아래쪽으로 개방된 체결 리세스(44)를 포함한다. 체결 리세스(44)는 또한 패널(4)의 텅 프로파일을 통해 횡 방향으로 연장되고 텅 프로파일의 하부 영역에서 나온다. 체결 리세스(44)의 개방 단면은 텅 팁 아래에서 나온다.
도 5는 패널의 대안적인 실시예의 2개의 패널 피스의 사시도를 도시한다. 이는 대안적인 잠금 요소(52)를 위해 설계되었기 때문에 도 4와 다르다. 직사각형 단면의 고정 그루브(53)는 수용 후크(10)의 잠금 요소(52)를 위해 제공되는데, 잠금 요소(52)는 고정 그루브에 미리 장착되어 있을 수 있다. 고정 그루브(53)는 패널 상단 사이드(7)로부터 간격(R2)으로 배열된 상부 그루브 벽(54)을 갖는다. 체결 후크(11)는 또한 잠금 그루브(55)의 형태이고 잠금 요소(52)가 자동으로 래칭 맞물림이 되도록 단면이 그에 대응되게 맞춰지는 래칭 윤곽을 갖는다. 도 5에 제안된 고정 그루브(53)는 US 2014/0366476 A1에 공지된 바와 같은 아치형 잠금 요소(52)의 사용을 위해 맞춰지거나(도 3b) 고정 그루브(53)의 바닥에 대해 지지되는 후방 탄성 강모를 갖는 동일한 문헌에서 공지된 잠금 요소를 위해 맞춰진다(도 6a 또는 도 6b). 중요한 것은 패널 에지(F)의 텅 프로파일의 텅 상단 사이드가 수용 후크(10)의 고정 그루브(53)의 상부 그루브 벽(54)보다 더 높은 레벨에 배열된다는 것이다. 패널 에지(F)의 텅 프로파일은 패널(3)의 주요한 코너(K1)에서 수용 후크(10)와 함께 이루어진다. 고정 그루브(53)는 텅 프로파일의 소재가 제거되도록 텅 프로파일을 통해 코너(K1)의 영역에서 연장된다. 그러나 텅 상단 사이드는 제거되지 않는다. 패널 상단 사이드(7)와 텅 상단 사이드 사이에는 고정 그루브(53)의 상부 그루브 벽(54)과 패널 상단 사이드(7) 사이의 간격(R2)보다 큰 간격(R1)이 존재한다.
도 6은 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제1 에지 쌍을 관통하는 대안적인 단면을 도시한다. 패널은 텅 프로파일을 갖는 패널 에지(F)와 그루브 프로파일을 갖는 패널 에지(N)를 갖는다. 2개의 패널 에지(F, N)는 상보적인 패널 에지의 예시된 구성에 의해, 보다 구체적으로 수직 및 수평 방향 모두에서 포지티브식 잠금 관계(positively locking relationship)로 잠긴다.
도 7은 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제2 에지 쌍을 관통하는 대안적인 단면을 도시한다. 이 예는 패널 에지(M)의 수용 후크(56) 및 패널 에지(U)의 체결 후크(57)를 포함한다. 잠금 요소(59)를 위한 고정 그루브(58)가 수용 후크에 제공된다. 고정 그루브(58)는 서로 일정한 간격을 두고 있는 평행한 그루브 벽을 갖는다. 체결 후크(57)는 잠금 요소(59)가 결합 이동 동안 자동으로 래칭될 수 있는 윤곽(60)을 갖는다. 잠금 요소(59)를 위한 고정 그루브(58)는 패널 상단 사이드(7)에 실질적으로 평행하게 배열된다. 체결 후크(57)에는 수용 후크(56)와 접촉하는 실링 노즈(51)가 제공된다. 접촉은 수용 후크(56)의 고정 그루브(58) 바로 위와 그 근처에서 일어난다.
도 8은 제2 에지 쌍의 또 다른 예를 도시한다. 다시 패널 에지(M)에 수용 후크(62)가 존재하고 패널 에지(U)에 체결 후크(63)가 존재한다.
수용 후크(62)는 잠금 요소(65)를 위한 고정 그루브(64)를 포함하고, 고정 그루브(64)는 서로에 대해 일정한 간격으로 있는 평행한 그루브 벽을 갖는다. 체결 후크는 결합 이동 동안 잠금 요소(65)가 자동으로 래칭될 수 있는 윤곽(66)을 갖는다. 도 7 예와 관련된 차이점으로서 고정 그루브(64)는 패널 상단 사이드(7)에 대해 수용 후크(62)에서 경사지게 배열된다. 경사진 고정 그루브(64)의 자유 개구는 패널 상단 사이드의 방향으로 위쪽으로 지향된다. 체결 후크(63)에는 수용 후크(62)와 접촉하는 실링 노즈(51)가 제공된다. 접촉은 수용 후크(62)의 고정 그루브(64) 바로 위 및 근처에서 일어난다.
도 9는 잠금 상태에서 본 발명에 따른 패널의 제2 에지 쌍을 관통하는 단면의 또 다른 예를 도시한다. 이 예는 또한 패널 에지(M)에 수용 후크(68)와 패널 에지(U)에 체결 후크(69)를 갖는데, 이는 잠금 요소(70)에 의해 수직 방향으로 자동으로 잠길 수 있다. 이 예에서 잠금 요소(70)를 위한 고정 그루브(71)가 존재하지만 체결 후크(69)와 수용 후크(68)에 잠금 요소(70)가 자동으로 래칭될 수 있는 윤곽(72)을 갖는다. 이러한 배열은 수용 후크(69)에 실링 노즈(51)를 갖고 실링 노즈(51)는 체결 후크(68)와 접촉한다. 접촉은 체결 후크(68)의 고정 그루브(71) 바로 위 및 근처에서 발생한다.
그림 10은 제2 에지 쌍을 관통하는 단면의 마지막 예를 나타낸다. 이 예는 또한 잠금 요소(76)에 의해 수직 방향으로 자동으로 잠길 수 있는 수용 후크(74) 및 체결 후크(75)를 갖는다. 이 예에서도 도 9에서와 같이 체결 후크(75)에 잠금 요소(76)를 위한 고정 그루브(77)가 존재한다. 고정 그루브(77)는 서로에 대해 일정한 간격을 두고 있는 평행한 그루브 벽을 갖는다. 수용 후크(74)는 잠금 요소(76)가 자동으로 래칭될 수 있는 윤곽(78)을 갖는다. 실링 노즈(51)는 또한 수용 후크(74)에 제공되고 실링 노즈(51)는 체결 후크(75)와 접촉한다. 접촉은 체결 후크(75)의 고정 그루브(77) 바로 위 및 근처에서 발생한다.
도 11은 도 10에서 XI로 표시된 부분에 관한 것이다. 도 11은 한편으로는 그 부분을 확대하고 추가로 단순화를 위해 2개의 후크 프로파일 중 하나만, 즉 수용 후크(74)를 도시한다. 잠금 요소도 단순화를 위해 도 11에서 생략되었다. 그 패널 에지에서 수용 후크(74)의 맞댐 표면으로부터 원위 방향으로 돌출되는 실링 노즈(51)를 볼 수 있다. 실링 노즈(51)의 단면은 바람직하게는 둥근 부분과 만곡된 부분의 조합을 포함하는 외부 윤곽을 포함한다. 실링 노즈(51)의 원위 끝단은 전환점 또는 전환점 접선(T)을 갖는다. 전환점 접선(T)은 패널 코어로부터 최대로 원위로 이격되는 전환점에 적용되고 이 예에서 이는 패널 상단 사이드(7)에 대해 90°의 각도로 배열된다.
1: 패널(panel)
2: 패널(panel)
3: 패널(panel)
4: 패널(panel)
4': 시작 위치(starting position)
6: 텅 프로파일(tongue profile)
7: 패널 상단 사이드(panel top side)
8: 패널 하단(panel underside)
9: 패널 코어(panel core)
10: 수용 후크(receiving hook)
10a: 맞댐 표면(butting surface)
11: 체결 후크(arresting hook)
11a: 래칭 리세스(latching recess)
11b: 하부 그루브 벽(lower groove wall)
11c: 상부 그루브 벽(upper groove wall)
12: 고정 그루브(holding groove)
12a: 하부 그루브 벽(lower groove wall)
12b: 상부 그루브 벽(upper groove wall)
12c: 그루브 바닥(groove bottom)
12d: 단차(step)
13: 잠금 요소(locking element)
13a: 래칭 수단(latching means)
13b: 래칭 탭(latching tab)
13c: 고정 수단(holding means)
13d: 숄더(shoulder)
36: 더 큰 챔퍼(larger chamfer)
37: 더 작은 챔퍼(smaller chamfer)
38: 돌기(projection)
39: 대응 표면(counterpart surface)
40: V-결합(V-join)
41: 후크 에지(hook edge)
42: 수용 리세스(receiving recess)
43: 체결 단차(arresting step)
44: 체결 리세스(arresting recess)
45: 고정 표면(후크 에지)(holding surface (hook edge))
46: 고정 표면(체결 후크)(holding surface (arresting hook))
47: 단차 하단(step underside)
48: 원위 단차 표면(distal step surface)
49: 바닥(bottom)
50: 리세스(recess)
51: 실링 노즈(sealing nose)
52: 잠금 요소(locking element)
53: 고정 그루브(holding groove)
54: 상부 그루브 벽(upper groove wall)
55: 잠금 그루브(locking groove)
56: 수용 후크(receiving hook)
57: 체결 후크(arresting hook)
58: 고정 그루브(holding groove)
59: 잠금 요소(locking element)
60: 윤곽(contour)
62: 수용 후크(receiving hook)
63: 체결 후크(arresting hook)
64: 고정 그루브(holding groove)
65: 잠금 요소(locking element)
66: 윤곽(contour)
68: 수용 후크(receiving hook)
69: 체결 후크(arresting hook)
70: 잠금 요소(locking element)
71: 고정 그루브(holding groove)
72: 윤곽(contour)
74: 수용 후크(receiving hook)
75: 체결 후크(arresting hook)
76: 잠금 요소(locking element)
77: 고정 그루브(holding groove)
78: 윤곽(contour)
D: 간격(spacing)
E1: 오버사이즈(oversize)
E2: 오버사이즈(oversize)
F: 패널 에지(텅)(panel edge (tongue))
H: 높이(height)
K1: 코너(corner)
K2: 코너(corner)
K3: 코너(corner)
K4: 코너(corner)
L: 패널 에지(그루브)(panel edge (groove))
M: 패널 에지(수용 후크)(panel edge (receiving hook))
P1: 패널의 열(row of panels)
P2: 패널의 열(row of panels)
U: 패널 에지(체결 후크)(panel edge (arresting hook))
S: 회전 운동(pivotal movement)

Claims (10)

  1. 패널 코어(9), 패널 상단 사이드(7), 패널 하단 사이드(8) 및 제1 에지 쌍과 제2 에지 쌍을 포함하는 패널(1, 2, 3, 4)로서,
    제1 에지 쌍에는 패널 에지(N)에서 그루브 프로파일(5) 및 반대되는 패널 에지(F)에서 그에 상보적인 텅 프로파일(6)이 제공되어, 회전 운동(S)에 의해 잠길 수 있고 잠금 상태에서 수직 잠금 작용이 이루어질 수 있으며 (수평으로) 패널의 평면에서 서로 멀어지는 잠긴 패널(1, 2, 3, 4)의 운동이 대항되도록 포지티브식 잠금 관계로 협력하고, 반대되는 패널 에지에서 제2 에지 쌍에는 상보적인 후크 프로파일, 즉 수용 후크(10, 56, 62, 69, 74)와 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)가 제공되며, 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)는 제1 에지 쌍에 대한 회전 운동(S)과 동시에 패널 평면에 수직인 평면에서 결합 운동에 의해 수용 후크(10, 56, 62, 69, 74)에 조립될 수 있고, 수직 잠금 작용이 이루어질 수 있는 별도의 잠금 요소(70, 76)를 위해 수용 후크(10, 56, 62)에 고정 그루브(12, 58, 64)가 제공되거나 체결 후크(68, 75)에 고정 그루브(71, 77)가 제공되며, 맞댐 표면(10a)이 패널 상단 사이드(7)에 실질적으로 수직으로 수용 후크(10, 56, 62)에 배열되고,
    대응 맞댐 표면(11d)이 패널 상단 사이드(7)에 실질적으로 수직으로 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)에 배열되며, 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)의 대응 맞댐 표면(11d)의 하부 단부에서 또는 수용 후크(10, 56, 62, 69, 74)의 맞댐 표면(10a)의 하부 단부에서 제2 에지 쌍에 적어도 하나의 실링 노즈(51)가 제공되어, 실링 노즈는 대응 맞댐 표면(11d) 또는 맞댐 표면(10a)의 전체 길이에 걸쳐 각각의 패널 에지(M, U)에 평행하게 연장되는 것을 특징으로 하는 패널.
  2. 제1항에 있어서, 두 상보적인 패널 에지(F, N, M, U)에서 에지 쌍 중 적어도 하나는 상기 패널(1, 2, 3, 4) 중 둘의 조립된 상태에서 리세스형 결합(18, 40)을 형성하는 각각의 에지 브레이크(edge break)(16, 17, 36, 37)를 갖는 것을 특징으로 하는 패널.
  3. 제2항에 있어서, 상보적인 패널 에지(F, N, M, U)의 에지 쌍 중 적어도 하나의 에지 브레이크(16, 17, 36, 37)에는 더 큰 에지 브레이크(16, 36)와 더 작은 에지 브레이크(17, 37)가 각각 제공되고 조립된 상태에서 더 큰 에지 브레이크(16, 36)는 더 작은 에지 브레이크(17, 37)에 의해 덮이는 것을 특징으로 하는 패널.
  4. 제3항에 있어서, 더 작은 에지 브레이크(17, 37)를 갖는 패널 에지(N, U)에는 돌출부(14a, 38)가 제공되어, 그 상단 사이드에서 더 작은 에지 브레이크(17, 37)의 적어도 일부가 연장되고, 돌출부(14a, 38)의 하측에는 더 큰 에지 브레이크(16, 36)의 덮인 부분을 위한 언더컷 대응 표면(14b, 39)이 제공되는 것을 특징으로 하는 패널.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 제1 에지 쌍의 더 작은 에지 브레이크(17)는 그루브 프로파일(N)에 배열되고 더 큰 에지 브레이크(16)는 텅 프로파일(F)에 배열되며 제2 에지 쌍의 더 작은 에지 브레이크(37)는 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)에 배열되고 더 큰 에지 브레이크(36)는 수용 후크(10, 56, 62, 69, 74)에 배열되는 것을 특징으로 하는 패널.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 에지 쌍에서 대응 맞댐 표면(11d) 또는 맞댐 표면(10a)은 1°-5°의 범위의 각도로 패널 상단 사이드(7)에 수직에 대해 경사지고, 체결 후크(11, 57, 63, 68, 75)의 단면은 대응 맞댐 표면(11d) 또는 맞댐 표면의 경사진 영역에서 오버사이즈(E2)를 가져 잠금 상태에서 압박 작용이 대응 맞댐 표면과 맞댐 표면(10a) 사이에서 야기되는 것을 특징으로 하는 패널.
  7. 제6항에 있어서, 대응 맞댐 표면(11d)과 맞댐 표면(10a) 사이의 압박 작용은 맞댐 표면(10a)의 상부 단부에서 더 크고 맞댐 표면(10a)의 하부 단부를 향해 감소하는 것을 특징으로 하는 패널.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 대응 맞댐 표면(11d)과 맞댐 표면(10a) 사이의 압박 작용의 하부 단부에는 한 번 더 맞댐 표면(10a)에 대해 증가된 압박 작용이 잠금 상태에서 생성될 수 있는 실링 노즈(51)가 배열되는 것을 특징으로 하는 패널.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 별도의 잠금 요소(13, 59, 65, 70, 76)는 상보적인 패널 에지(M)의 래칭 리세스(11a)에서 래칭 가능한 래칭 수단(13a)을 갖는 것을 특징으로 하는 패널.
  10. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 별도의 잠금 요소(59, 65, 76)를 위한 고정 그루브(12, 58, 64, 77)는 평행한 그루브 벽을 갖는 것을 특징으로 하는 패널.
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