KR20190139829A

KR20190139829A - 필름

Info

Publication number: KR20190139829A
Application number: KR1020197018453A
Authority: KR
Inventors: 이사오 마나베; 히데오 쇼지; 테루야 타나카
Original assignee: 도레이 카부시키가이샤
Priority date: 2017-04-26
Filing date: 2018-04-06
Publication date: 2019-12-18
Also published as: TWI761493B; CN110573334B; KR102566683B1; CN110573334A; TW201843052A; JP7412884B2; WO2018198720A1; JPWO2018198720A1

Abstract

적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하이며, 또한 20cm×14cm 범위에 있어서의 상기 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하이며, 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 필름에 의해 전사 필름으로서 사용했을 경우에 균일하게 저광택조 외관을 전사가능하며, 또한 피전사재로서 광 경화성 수지를 사용했을 경우에도 저광택 외관의 전사, 형상 고정이 가능하며, 입자 탈락이나 깎임이라고 하는 문제가 발생하기 어려운 양호한 가공 공정 적성을 갖는 필름을 제공한다.

Description

필름

본 발명은 필름에 관한 것이다.

최근 스마트폰 태블릿의 확대에 따르는 회로의 집적화에 의해 프린트 배선 기판의 고정밀도, 고밀도화가 진행되고 있다. 프린트 배선 기판의 제조 공정에 있어서는 절연 기재(폴리이미드 수지, 폴리페닐렌술파이드 수지 등)의 표면에 회로를 설치한 후에 절연 및 회로 보호를 목적으로 해서 접착층을 갖는 내열 수지 필름인 커버레이를 피복하고, 이형 필름을 개재하여 프레스 라미네이트에 의한 성형을 행한다. 이 때, 이형 필름에는 프린트 배선판 재료나 프레스판과의 이형성, 형상 추종성, 균일한 성형성, 매트조 외관의 전사성 등이 요구된다. 또한, 절연층이나 하드코트층, 전자파 실드층 등의 기능층을 회로 기판 표면에 가열 프레스에 의해 전사시키는 기재로서도 매트조 필름의 니즈가 높아져 있다.

종래 매트조의 필름으로서는 샌드 매트 필름, 케미컬 매트 필름이나 코팅 매트 필름 등의 가공품이 일반적이다. 그러나, 가공품은 공정이 증가하는 것에 의한 비용 상승이나, 품위에서의 과제를 갖고 있으며, 개선이 요망되고 있었다. 이들의 과제에 대해서는 다량의 입자를 수지와 함께 압출하는 방법으로 제조되는 입자 니딩 필름에 우위성이 확인되지만, 상기 입자 니딩 필름에서는 최근 요구되는 높은 수준의 저광택 외관을 달성하는 것이 어렵다. 또한, 상기 입자 니딩 필름은 광선 투과율이 낮기 때문에 적층하는 기능층으로서 광 경화성의 수지를 적용하는 경우에 경화가 불충분해져 적용 범위가 한정되는 과제가 있었다.

종래 사용되는 매트조의 전사 기재로서 무기 입자 또는 유기 입자를 고농도로 함유하는 폴리에스테르 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1, 2). 또한, 고도의 매트조 외관을 갖는 필름으로서 표면에 수지층을 코팅에 의해 형성한 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 3).

일본특허공개 2016-97522호 공보 일본특허공개 2014-24341호 공보 일본특허공개 2005-24942호 공보

특허문헌 1, 2에 기재된 필름은 투명성을 확보하는 설계로 되어 있지 않고, 또한 표면 거칠기의 불균일도 충분히 저감할 수 없기 때문에 기능층으로서 광 경화성 수지를 적용했을 때에 균일하게 저광택 표면을 전사할 수 없는 과제가 있었다.

또한, 특허문헌 3에 기재된 필름은 광택도가 매우 낮고 외관이 우수하지만, 전사 용도에 사용했을 경우에는 조대 입자의 탈락에 의해 전사 표면의 품위 저하나 입자 부착 등의 문제가 생기는 경우가 있었다. 또한, 이형층을 코팅에 의해 형성했을 경우에 적층한 이형층이 필름 표면의 오목부를 메워 광택도가 증가하기 때문에 전사 후의 광택도가 저하하지 않아 목적의 매트조 외관이 얻어지지 않는 과제가 있었다.

본 발명의 과제는 상기한 종래 기술의 문제점을 해소하는 것에 있다. 즉, 전사 필름으로서 사용했을 경우에 균일하게 저광택조 외관을 전사가능하며, 또한 피전사재로서 광 경화성 수지를 사용했을 경우에도 저광택 외관의 전사, 형상 고정이 가능하며, 입자 탈락이나 깎임이라고 하는 문제가 발생하기 어려운 양호한 가공 공정 적성을 갖는 필름을 제공하는 것에 있다.

이러한 과제를 해결하기 위해서 본 발명은 이하의 구성을 취한다.

(1) 적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하이며, 또한 20cm×14cm 범위에 있어서의 상기 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하이며, 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 필름.

(2) (1)에 있어서, 상기 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 최대 피크 높이(SRp)와 최대 밸리 깊이(SRv)가 하기 (II)식을 만족하는 필름.

1≤SRp/SRv≤3···(II)

(3) (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 중심 면적률(SSr)이 하기 (III)식을 만족하는 필름.

30≤SSr≤60···(III)

(4) (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 있어서, 100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화가 0.1% 이상 10% 이하인 필름.

(5) (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름이며, 상기 A층에 평균 입자 지름이 1㎛ 이상 10㎛ 이하인 입자를 A층 전체를 100질량%로 해서 1질량% 이상 40질량% 이하 함유하는 필름.

(6) (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 상기 ST320이 60% 이상인 필름.

(7) (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 필름의 20cm×14cm 범위에 있어서 상기 ST320의 불균일이 0.1% 이상 10% 이하인 필름.

(8) (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 있어서, 필름 헤이즈가 70% 이하인 필름.

(9) (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 있어서, 상기 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 표면 자유 에너지가 44mN/m 이하인 필름.

(10) (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 있어서, 폴리에스테르를 주성분으로 하는 필름.

(11) (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 있어서, 전사 용도에 사용되는 필름.

(12) 기재층의 적어도 한쪽의 표면에 광택도가 30 이하인 저광택층을 갖는 적층 필름으로서, 저광택층 표면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하, 또한 필름의 20cm×14cm 범위에 있어서의 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하이며, 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 적층 필름.

(발명의 효과)

본 발명에 의하면 전사 필름으로서 사용했을 경우에 저광택 외관의 전사성과 공정 적합성이 우수한 필름을 제공할 수 있다. 상기 필름은 회로 형성 공정에 있어서 매트조 외관의 전사성이 우수한 전사용 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다.

본 발명의 필름의 일양태로서 적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하이며, 또한 20cm×14cm 범위에 있어서의 상기 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하이며, 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 필름을 들 수 있다.

본 발명의 필름에 사용되는 수지는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로프렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르에테르케톤, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 불소 수지, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌술파이드, 폴리우레탄 및 환상 올레핀계 수지 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도 필름의 취급성이나 치수 안정성, 제조 시의 경제성의 관점으로부터 폴리에스테르를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서 폴리에스테르를 주성분으로 한다란 필름을 구성하는 수지 중 50질량% 이상이 폴리에스테르인 것을 나타낸다. 또한, 본 발명의 필름이 기재층, 입자 고농도 함유층으로 이루어지는 적층 필름인 경우, 기재층, 입자 고농도 함유층 모두 폴리에스테르를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서 폴리에스테르란 주쇄 중의 주요한 결합을 에스테르 결합으로 하는 고분자의 총칭이며, 통상 디카르복실산 성분과 글리콜 성분을 중축합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.

여기서 사용하는 디카르복실산 성분으로서는 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 디페닐디카르복실산, 디페닐술폰디카르복실산, 디페녹시에탄디카르복실산, 5-나트륨술폰디카르복실산 등의 방향족 디카르복실산, 옥살산, 숙신산, 아디프산, 세바스산, 다이머산, 말레산, 푸마르산 등의 지방족 디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산 등의 지환족 디카르복실산, 파라옥시벤조산 등의 옥시카르복실산 등의 각 성분을 들 수 있다. 또한, 디카르복실산에스테르 유도체 성분으로서 상기 디카르복실산 화합물의 에스테르화물, 예를 들면 테레프탈산디메틸, 테레프탈산디에틸, 테레프탈산 2-히드록시에틸메틸에스테르, 2,6-나프탈렌디카르복실산디메틸, 이소프탈산디메틸, 아디프산디메틸, 말레산디에틸, 다이머산디메틸 등의 각 성분을 들 수 있다. 본 발명의 수지 필름을 구성하는 폴리에스테르 수지에 있어서, 전체 디카르복실산 성분 중의 테레프탈산 및/또는 나프탈렌디카르복실산의 비율은 바람직하게는 95몰% 이상, 보다 바람직하게는 98몰% 이상인 것이 내열성, 생산성의 점으로부터 바람직하다.

또한, 글리콜 성분으로서는 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올 등의 지방족 디히드록시 화합물, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜 등의 폴리옥시알킬렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올, 스피로글리콜 등의 지환족 디히드록시 화합물, 비스페놀A, 비스페놀S 등의 방향족 디히드록시 화합물 등 각 성분을 들 수 있다. 그 중에서도 성형성, 취급성의 점에서 에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 1,4-시클로헥산디메탄올의 각 성분이 바람직하게 사용된다. 본 발명의 수지 필름을 구성하는 폴리에스테르 수지에 있어서 전체 디올 성분 중의 에틸렌글리콜의 비율이 65몰% 이상이면 내열성, 생산성의 점으로부터 바람직하다. 이들의 디카르복실산 성분, 글리콜 성분은 2종 이상을 병용해도 좋다.

본 발명의 필름은 매트조 외관 전사성의 관점으로부터 적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 것이 필요하다. 표면 거칠기(SRa)가 100nm 미만인 경우는 충분한 매트조 전사성을 얻는 것이 어렵고, 3000nm보다 크게 하려고 하면 필름의 강도가 저하해버린다. 매트조 전사성과 필름 강도의 관점으로부터 적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)는 200nm 이상 2000nm 이상이면 보다 바람직하고, 300nm 이상 2000nm 이하이면 가장 바람직하다.

본 발명에 있어서 적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)를 100nm 3000nm 이하로 하기 위한 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 필름 중에 입자를 고농도로 함유시키는 방법, 엠보스 가공과 같이 필름 표면에 형상을 전사시키는 방법 등을 들 수 있다. 필름 중에 입자를 고농도로 함유시키는 방법에 의해 적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)를 상기 범위로 하는 경우, 필름 강도와 표면 거칠기를 양립시키는 관점으로부터 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름으로 하고, 상기 A층에 함유시키는 입자는 평균 입자 지름 1㎛ 이상 10㎛ 이하인 것이 바람직하고, 그 함유량은 A층 전체를 100질량%로 해서 1질량% 이상 40질량% 이하인 것이 바람직하다. A층에 함유시키는 입자의 함유량은 3질량% 이상 35질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 5질량% 이상 30질량% 이하 함유하는 것이 가장 바람직하다. 또한, A층에 함유시키는 입자는 평균 입자 지름이 2㎛ 이상 10㎛ 이하이면 보다 바람직하고, 3㎛ 이상 9㎛ 이하이면 더욱 바람직하고, 4㎛ 이상 8㎛ 이하이면 가장 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 평균 입자 지름이란 D=ΣDi/N(Di: 입자의 원 상당 지름, N: 입자의 개수)으로 나타내어지는 수 평균 지름(D)의 것을 가리킨다.

본 발명의 입자 고농도 함유(A층)에 사용되는 입자는 무기 입자, 유기 입자 모두 적용할 수 있다. 무기 입자와 유기 입자를 병용하는 것도 가능하다.

여기서, 사용하는 무기 입자, 유기 입자로서는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 무기 입자로서는 실리카, 규산알루미늄, 규산알루미나, 탄산칼슘, 인산칼슘, 산화알루미늄, 마이카, 클레이, 탤크 등을 사용할 수 있다. 유기 입자로서는 스티렌, 실리콘, 아크릴산류, 메타크릴산류, 폴리에스테르류, 디비닐 화합물 등을 구성 성분으로 하는 입자를 사용할 수 있다. 무기 입자 중에서는 습식 및 건식 실리카, 콜로이달 실리카, 규산알루미늄 등이 적합하게 사용된다. 유기 입자 중에서는 스티렌, 실리콘, 아크릴산, 메타크릴산, 폴리에스테르, 디비닐벤젠 등을 구성 성분으로 하는 입자가 적합하게 사용된다. 매트 외관, 경제성의 관점으로부터는 실리카, 규산알루미늄, 규산알루미나가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 이들의 입자는 2종 이상을 병용해도 좋다.

또한, 본 발명의 필름은 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 면에 대해서 20cm×14cm 범위에 있어서의 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하인 것이 필요하다. 본 발명에 있어서의 표면 거칠기(SRa)의 불균일은 필름을 임의의 위치에서 길이 20cm×폭 14cm의 크기로 잘라낸 샘플에 대해서 길이방향으로 5등분, 폭방향으로 4등분하고, 길이 4.0cm×폭 3.5cm의 크기로 잘라낸 20개의 샘플의 표면 거칠기(SRa)로부터 후술에 기재된 방법으로 산출한다. 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10%보다 크면 매트조 전사성에 불균일이 생겨 버려 제품 외관이 열화되는 것으로 되어버린다. 매트조 제품 외관의 관점으로부터 표면 거칠기(SRa)의 불균일은 8% 이하이면 보다 바람직하고, 6% 이하이면 가장 바람직하다. 본 발명자들이 예의 검토한 결과, 본 발명의 필름을 전사 필름으로서 사용하는 경우에는 표면 거칠기(SRa)의 불균일을 일정 이상 갖고 있는 쪽이 박리성이 우수한 것을 밝혔다. 현 시점, 이 현상이 어떤 메커니즘으로 일어나고 있는지 밝혀져 있는 것은 아니지만, 표면 거칠기(SRa)의 불균일을 어느 정도 갖고 있으면 박리를 일으키기 위한 기점이 많이 형성되는 결과, 박리성이 양호해지는 것으로 추정하고 있다. 그 때문에 박리성의 관점으로부터는 표면 거칠기(SRa)의 불균일은 0.1% 이상이 바람직하고, 0.5% 이상이 보다 바람직하고, 1% 이상이 더욱 바람직하다.

본 발명에 있어서, 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 20cm×14cm 범위에 있어서의 표면 거칠기(SRa)의 불균일을 상기 범위로 하는 방법으로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름으로 하고, A층의 적층 두께(TA)(㎛)와, A층에 포함되는 입자의 평균 입자 지름(DA)(㎛)이 하기 (I)식을 만족하는 방법이 바람직하게 사용된다.

0.8≤DA/TA≤10.0···(I)

(I)식을 만족함으로써 보다 표면 거칠기(SRa)를 표면에 어느 정도 균일하게 입자의 형상을 제어할 수 있어 표면 거칠기(SRa)의 불균일을 상기 범위로 제어하기 쉬워진다. 표면 거칠기(SRa)의 불균일과 입자 탈락 억제의 관점으로부터 (I')식을 만족하면 보다 바람직하고, (I'')식을 만족하면 더욱 바람직하고, (I''')를 만족하면 가장 바람직하다.

1.1≤DA/TA≤10.0···(I')

1.2≤DA/TA≤8.0···(I'')

1.3≤DA/TA≤6.0···(I''')

본 발명의 필름이 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름인 경우, A층은 기재층의 한쪽의 표면에만 배치되어 있어도 좋고, 양표면에 배치되어 있어도 상관없다.

본 발명의 필름을 전사 용도에 사용하는 경우, 본 발명의 필름의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 필름면 상에 기능층(본 발명의 필름의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 필름면의 형상을 전사하는 피전사 재료층)을 형성한다. 기능층으로서는 광 경화성 수지가 적합하게 사용된다. 광 경화성 수지로 이루어지는 기능층의 경화성을 충분히 확보하기 위해서는 본 발명의 필름은 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 것이 필요하다. ST320이 30% 미만이면 광 경화성 수지의 경화성이 불충분해져 매트 외관을 전사하는 특성이 저하한다. ST320은 45% 이상이면 보다 바람직하고, 60% 이상이면 가장 바람직하다. 필름의 취급성의 관점으로부터 ST320은 95% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 투과율로서는 일반적으로 (i) 반사, 산란을 고려한 투과율(투과한 광을 적분구에 의해 모아서 측정하는 전체 광선 투과율), (ii) 반사, 산란을 고려하지 않은 투과율(평행 광선에 의해 투과율을 측정하는 평행선 투과율)이 있다. 광 경화성 수지로 이루어지는 기능층의 경화성을 충분히 확보하기 위해서는 (ii)의 평행선 투과율을 높게 할 필요가 있다.

또한, 본 발명의 필름은 매트조 전사성의 불균일을 낮게 억제하기 위해서 필름 20cm×14cm 범위에 있어서 ST320의 불균일이 10% 이하인 것이 바람직하다. ST320의 불균일을 10% 이하로 함으로써 광 경화성 수지를 적용했을 때의 수지의 경화성이 균일해져 매트조 전사성의 불균일을 억제할 수 있다. ST320의 불균일은 상술한 표면 거칠기(SRa)의 불균일의 평가와 마찬가지로 필름을 임의의 위치에서 길이 20cm×폭 14cm의 크기로 잘라낸 샘플에 대해서 길이방향으로 5등분, 폭방향으로 4등분하고, 길이 4.0cm×폭 3.5cm의 크기로 잘라내어 각각 샘플의 320nm의 평행선 투과율(ST320)로부터 산출한다. 필름 20cm×14cm 범위에 있어서의 ST320의 불균일은 8% 이하인 것이 바람직하고, 6% 이하이면 가장 바람직하다. 한편, 본 발명자들이 예의 검토한 결과, 본 발명의 필름을 전사 필름으로서 사용하는 경우에는 ST320의 불균일을 일정 이상 갖고 있는 쪽이 박리성이 우수한 것을 밝혔다. 현 시점, 이 현상이 어떤 메커니즘으로 일어나고 있는지 밝혀져 있는 것은 아니지만, ST320의 불균일을 어느 정도 갖고 있으면 광 경화성 수지로 이루어지는 기능층에 있어서 경화가 진행되는 부분과 경화가 진행되기 어려운 부분이 발생하여 경도가 높은 부분과 낮은 부분이 형성된다. 그 결과, 광 경화성 수지로 이루어지는 기능층에 있어서 경도가 낮은 부분의 근처에 존재하는 경도가 높은 부분이 박리를 일으키는 기점이 되어 박리성이 양호해지는 것으로 추정하고 있다. 그 때문에 박리성의 관점으로부터는 ST320의 불균일은 0.5% 이상이 바람직하고, 1% 이상이 보다 바람직하다.

또한, 본 발명의 필름은 필름 헤이즈가 70% 이하인 것이 바람직하다. 필름 헤이즈가 70% 이하임으로써 피전사 재료에 라미네이트한 적층체의 구성에 의해 결점 검사성이 대폭 향상되기 때문에 바람직하다.

본 발명에 있어서 320nm의 평행선 투과율(ST320)을 30% 이상으로 하는 방법으로서는 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름으로 하고, 상기 입자 고농도 함유층(A층)을 기재층의 한쪽에만 배치하고, 기재층 중의 입자 농도를 기재층 전체에 대하여 1질량% 미만으로 하는 방법을 들 수 있다. 기재층 중의 입자 농도는 바람직하게는 기재층 전체에 대하여 0.5질량% 미만이다. 또한, 입자 고농도 함유층(A층)의 입자 주변의 공극을 저감하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 기재층, 입자 고농도 함유층(A층) 모두 폴리에스테르로 이루어지고, 2축 연신 폴리에스테르 필름으로 하는 경우는 입자 고농도 함유층(A층)의 후술하는 연신 시의 공극 발생을 억제하기 위해서 입자 고농도 함유층(A층)의 연신성을 높이는 방법, 후술하는 연신후의 열 처리 공정에 있어서 고온 처리를 행함으로써 공극을 저감하는 방법 등이 바람직하게 사용된다. 입자 고농도 함유층(A층)은 연신성을 높이기 위해서 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리프로필렌테레프탈레이트 수지 및/또는 그 공중합체, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 및/또는 그 공중합체를 함유하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명에 있어서 필름 20cm×14cm 범위에 있어서 ST320의 불균일을 제어하는 방법은 필름 연신 공정에서의 연신 조건을 조정하는 것을 들 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 필름을 2축 연신 폴리에스테르 필름으로 하는 경우는 길이방향 연신, 폭방향 연신 공정 중 적어도 어느 한쪽의 연신 공정을 2단계 이상의 단계 연신으로 하는 것이 바람직하다. 길이방향, 폭방향의 동시 2축 연신으로 하는 경우에 있어서도 2단계 이상의 단계 연신으로 하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서 2단계 이상의 단계 연신이란 연신 구간을 2구간 이상 설치하고, 2구간에서 다른 연신 조건을 채용하는 것을 가리킨다. 2단계 이상의 단계 연신을 행함으로써 입자 근방의 변형이 저감되기 때문에 연신 불균일이 억제되어 ST320의 불균일을 바람직한 범위로 제어할 수 있는 것으로 추정하고 있다. 또한, 연신 속도를 후술하는 바람직한 범위로 하는 것도 바람직한 방법으로서 들 수 있다. 연신 구간은 2구간 이상 3구간 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명에 있어서 필름 헤이즈를 70% 이하로 하기 위해서는 필름 중에 함유하는 입자량을 제어하는 방법을 들 수 있다. 본 발명의 필름이 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름인 경우, 기재층 중의 입자 함유량을 기재층 전체에 대하여 3질량% 미만으로 하는 것이 바람직하다.

본 발명의 필름은 매트조 전사성과 전사 후의 필름 박리성의 관점으로부터 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 면의 최대 피크 높이(SRp)와 최대 밸리 깊이(SRv)가 하기 (II)식을 만족하는 것이 바람직하다.

1≤SRp/SRv≤3···(II)

표면의 최대 피크 높이(SRp)와 최대 밸리 깊이(SRv)가 (II)식을 만족함으로써 매트조를 전사시키는 데에 충분한 산 형상을 갖고 있으면서 기능층으로부터의 전사 박리성을 양호하게 제어하는 것이 가능해진다. 표면의 최대 피크 높이(SRp)와 최대 밸리 깊이(SRv)는 하기 (II)'식을 만족하는 것이 보다 바람직하고, (II)''식을 만족하는 것이 가장 바람직하다.

1.1≤SRp/SRv≤2.9···(II)'

1.2≤SRp/SRv≤2.8···(II)''

표면의 최대 피크 높이(SRp)와 최대 밸리 깊이(SRv)가 (II)식을 만족하기 위한 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 본 발명의 필름이 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름인 경우, A층에 함유하는 입자의 입자 지름을 작게 하고, 입자 농도를 높게 하는 방법에 의해 필름 표면의 형상을 제어하는 방법이 바람직하게 사용된다. A층에 함유하는 입자의 평균 입자 지름을 2.5㎛ 미만으로 하고, 그 함유량을 A층 전체를 100질량%로 해서 3질량% 이상 40질량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. A층에 함유하는 입자의 평균 입자 지름은 2.3㎛ 미만인 것이 보다 바람직하다. 또한, A층의 입자 함유량은 5질량% 이상 30질량% 이하 함유인 것이 보다 바람직하다.

또한, 본 발명의 필름은 기능층으로부터의 전사 박리성을 보다 양호하게 하는 관점으로부터 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 면의 중심 면적률(SSr)이 하기 (III)식을 만족하는 것이 바람직하다.

30≤SSr≤60···(III)

중심 면적률(SSr)이란 후술하는 측정 방법에 의해 구해지는 것이며, 중심면에 있어서의 볼록부 기준 면적을 차지하는 비율을 나타내는 지표이다. 그 값이 크면 필름 표면에 존재하는 돌기의 볼록부가 완만한 형상인 것을 나타내고, 그 값이 작으면 필름 표면에 존재하는 돌기가 험준한 형상인 것을 나타낸다. 표면의 중심 면적률(SSr)이 (III)식을 만족함으로써 표면 요철 형상을 매트조를 전사시키면서 기능층으로부터의 전사 박리성을 양호하게 제어하는 것이 가능해진다. 표면의 중심 면적률(SSr)은 (III)'식을 만족하는 것이 보다 바람직하고, (III)''식을 만족하는 것이 가장 바람직하다.

30≤SSr≤55···(III)'

35≤SSr≤55···(III)''

표면의 중심 면적률(SSr)이 (III)식을 만족하기 위한 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 본 발명의 필름이 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름인 경우, A층에 함유하는 입자의 입자 지름을 작게 하고, 입자 농도를 높게 하면서 A층의 두께를 일정 이하로 하는 방법이 바람직하게 사용된다. A층에 함유하는 입자의 평균 입자 지름 2.5㎛ 미만으로 하고, 그 함유량을 A층 전체를 100질량%로 해서 3질량% 이상 40질량% 이하로 하고, 또한 A층의 적층 두께를 3㎛ 미만으로 하는 것이 바람직하다. 또한, A층에 함유하는 입자의 평균 입자 지름과 A층의 적층 두께의 비(DA(㎛)/TA(㎛))는 0.8 이상 10 이하이면 바람직하고, 1.1 이상 10 이하이면 보다 바람직하고, 1.3 이상 6 이하이면 가장 바람직하다.

본 발명의 적층 필름은 100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화를 0.1% 이상 10% 이하로 제어하는 것이 바람직하다. 본 발명의 필름을 전사 필름으로서 사용하는 경우, 본 발명의 필름의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 필름면 상에 기능층(본 발명의 필름의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 필름면의 형상을 전사하는 피전사 재료층)을 형성하게 되지만, 기능층을 형성할 때의 기능층 도공 건조 시에는 열 부하가 가해진다. 열 부하가 가해질 때의 필름의 두께방향의 치수 변화, 즉 100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화를 10% 이하로 제어함으로써 기능층 도공 건조 시의 필름의 기능층으로의 먹어 들어감이 작아져 전사 박리성을 더욱 양호하게 제어할 수 있다. 100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화는 보다 바람직하게는 8% 이하이며, 더욱 바람직하게는 6% 이하이다. 한편, 본 발명자들이 예의 검토한 결과, 본 발명의 필름을 전사 필름으로서 사용하는 경우에는 열 부하가 가해질 때의 필름의 두께방향의 치수 변화를 일정 이상 갖고 있는 쪽이 박리성이 우수한 것을 밝혔다. 현 시점, 이 현상이 어떤 메커니즘으로 일어나고 있는지 밝혀져 있는 것은 아니지만, 열 부하가 가해질 때의 필름의 두께방향의 치수 변화를 어느 정도 갖고 있는 쪽이 필름의 기능층으로의 먹어 들어감이 큰 곳과 작은 곳이 드문드문 존재하는 결과, 필름의 기능층으로의 먹어 들어감이 큰 곳의 근방에 필름의 기능층으로의 먹어 들어감이 작은 곳이 박리를 일으키기 위한 기점이 되는 것으로 추정하고 있다. 그 때문에 박리성의 관점으로부터는 100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화는 0.5% 이상이 바람직하고, 1% 이상이 보다 바람직하다. 100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화를 제어하는 방법으로서는 예를 들면, 본 발명의 필름을 2축 연신 폴리에스테르 필름으로 하는 경우는 필름 연신 공정에서의 연신 조건을 조정하는 것을 들 수 있다. 연신 배율(면 배율=길이방향 연신 배율×폭방향 연신 배율)을 14배 이상, 바람직하게는 16배 이상으로 고배율화하고, 또한 연신 후의 열 처리 온도를 230℃ 이상, 바람직하게는 235℃ 이상 250℃ 이하로 하는 것이 바람직한 방법으로서 들 수 있다.

본 발명의 필름은 전사성의 관점으로부터 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 표면 자유 에너지를 44mN/m 이하로 하는 것이 바람직하다. 표면 자유 에너지를 44mN/m 이하로 함으로써 전사 재료와의 박리성이 향상되기 때문에 전사, 박리가 용이해지고, 전사성이 향상된다. A층측의 표면 자유 에너지는 42mN/m 이하이면 보다 바람직하고, 15mN/m 이상 40mN/m 이하이면 가장 바람직하다.

본 발명의 필름의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 표면 자유 에너지를 상술의 범위로 하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 실리콘 화합물, 왁스 화합물, 불소계 화합물 등의 이형제를 필름 중에 함유시키는 방법, 이형 코트를 실시하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명의 필름이 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름인 경우는 입자 고농도 함유층(A층)에 상기 이형제를 첨가하는 것이나, 상기 (A층) 표면에 이형 코트를 실시하는 방법이 바람직하다.

본 발명에 있어서 입자 고농도 함유층(A층) 표면에 이형 코트를 실시하는 구성의 경우, 입자 고농도 함유층(A층) 중에 함유하는 입자에 의해 형성되는 요철을 이형 코트층의 표면에 드러내기 위해서 이형 코트층의 두께는 0.01㎛ 이상 3㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.02㎛ 이상 2㎛ 이하이면 보다 바람직하고, 0.03㎛ 이상 1.5㎛ 이하이면 더욱 바람직하다. 또한, 가열 시의 내열성의 관점으로부터 이형층 중에 멜라민 수지와 이형제를 함유시키는 것이 바람직하다. 내열성, 이형 안정성의 관점으로부터 이형층 중의 멜라민 수지의 함유량은 50질량% 이상인 것이 바람직하다.

본 발명에 사용할 수 있는 멜라민 수지로서는 멜라민 포름알데히드 수지나 메틸화 멜라민 포름알데히드 수지, 부틸화 멜라민 포름알데히드 수지, 에테르화 멜라민 포름알데히드 수지, 에폭시 변성 멜라민 포름알데히드 수지 등의 멜라민 포름알데히드 수지, 요소 멜라민 수지, 아크릴 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도 멜라민 포름알데히드 수지가 바람직하고, 적당한 이형성을 갖는 점에서 메틸화 멜라민 포름알데히드 수지가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 본 발명에 있어서의 이형층은 제막성, 연신 추종성의 관점으로부터 바인더 수지, 이형제 외에 바인더 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 바인더 수지로서는 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지가 바람직하게 사용되고, 특히 아크릴계 수지가 바람직하게 사용된다. 아크릴계 수지로서는 (메타)아크릴산알킬에스테르의 단독 중합체 또는 공중합체, 측쇄 및/또는 주쇄 말단에 경화성 관능기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 공중합체를 들 수 있고, 경화성 관능기로서는 수산기, 카르복실기, 에폭시기, 아미노기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 아크릴 모노머와 측쇄 및/또는 주쇄 말단에 경화성 관능기를 갖는 아크릴산에스테르가 공중합된 아크릴 모노머 공중합체가 바람직하다. 또한, 본 발명의 이형층에 함유하는 이형제로서는 예를 들면, 불소 화합물, 장쇄 알킬 화합물 및 왁스 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 이형제는 단독으로 사용해도 좋고, 복수종 사용해도 좋다.

본 발명에 사용할 수 있는 불소 화합물로서는 화합물 중에 불소 원자를 함유하고 있는 화합물이다. 예를 들면, 퍼플루오로알킬기 함유 화합물, 불소 원자를 함유하는 올레핀 화합물의 중합체, 플루오로벤젠 등의 방향족 불소 화합물 등을 들 수 있다. 본 발명의 이형 필름을 성형 동시 전사박 용도 등에 사용하는 경우, 전사 시에 높은 열 부하가 가해지기 때문에 내열성, 오염성을 고려하면 불소 화합물은 고분자 화합물인 것이 바람직하다.

장쇄 알킬 화합물이란 탄소수가 6개 이상, 특히 바람직하게는 8개 이상의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 갖는 화합물의 것이다. 구체예로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 장쇄 알킬기 함유 폴리비닐 수지, 장쇄 알킬기 함유 아크릴 수지, 장쇄 알킬기 함유 폴리에스테르 수지, 장쇄 알킬기 함유 아민 화합물, 장쇄 알킬기 함유 에테르 화합물, 장쇄 알킬기 함유 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 장쇄 알킬 화합물은 고분자 화합물이면 이형 필름 박리 시에 첩합하고 있는 맞은편 기재 표면에의 이형층 유래의 성분이 전착(轉着)하는 것을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다.

본 발명에 사용할 수 있는 왁스 화합물로서는 천연 왁스, 합성 왁스, 그들을 배합한 왁스 중에서 선택된 왁스이다. 천연 왁스란 식물계 왁스, 동물계 왁스, 광물계 왁스, 석유 왁스이다. 식물계 왁스로서는 칸데릴라 왁스, 카르나우바 왁스, 라이스 왁스, 목랍, 호호바유를 들 수 있다. 동물계 왁스로서는 밀랍, 라놀린, 고래납을 들 수 있다. 광물계 왁스로서는 몬탄 왁스, 오조케라이트, 세레신을 들 수 있다. 석유 왁스로서는 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스, 페트롤라텀을 들 수 있다. 합성 왁스로서는 합성 탄화수소, 변성 왁스, 수소화 왁스, 지방산, 산 아미드, 아민, 이미드, 에스테르, 케톤을 들 수 있다. 합성 탄화수소로서는 피셔 트롭쉬 왁스(별명 사졸 왁스), 폴리에틸렌 왁스가 유명하지만, 이외에 저분자량의 고분자(구체적으로는 점도 평균 분자량 500으로부터 20000의 고분자)인 이하의 폴리머도 포함된다. 즉, 폴리프로필렌, 에틸렌·아크릴산 공중합체, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜과 폴리프로필렌글리콜의 블록 또는 그라프트 결합체가 있다. 변성 왁스로서는 몬탄 왁스 유도체, 파라핀 왁스 유도체, 마이크로크리스탈린 왁스 유도체를 들 수 있다. 여기서의 유도체란 정제, 산화, 에스테르화, 비누화 중 어느 하나의 처리, 또는 그들의 조합에 의해 얻어지는 화합물이다. 수소화 왁스로서는 경화 피마자유, 및 경화 피마자유 유도체를 들 수 있다.

이들 이형제를 이형층의 표면에 균일하게 분산시킴으로써 이형층 상에 적층, 박리하는 피이형층과의 밀착력, 박리력을 적정한 범위로 할 수 있다. 이형제로서는 장쇄 알킬 화합물을 사용하면 광범위하게 박리력을 조정할 수 있는 점에서 본 발명의 용도상 바람직하다.

이어서 본 발명의 필름의 구체적인 제조 방법에 대해서 기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름의 예에 대해서 기재하지만, 본 발명은 이러한 예에 한정되어 해석되는 것은 아니다.

본 발명의 필름의 기재층, 입자 고농도 함유층(A층)에 폴리에스테르 수지가 사용되는 경우는 각각 별개의 압출기에 공급하여 용융 압출한다. 이 때, 수지 온도는 255℃~295℃로 제어하는 것이 바람직하다. 이어서, 필터나 기어 펌프를 통해서 이물의 제거, 압출량의 균정화를 각각 행하고, T 다이로부터 냉각 드럼 상에 시트 형상으로 공압출하여 적층 시트를 얻는다. 그 때, 고전압을 건 전극을 사용해서 정전기로 냉각 드럼과 수지를 밀착시키는 정전 인가법, 캐스팅 드럼과 압출한 폴리머 시트 사이에 수막을 형성하는 캐스트법, 캐스팅 드럼 온도를 폴리에스테르 수지의 유리 전이점~(유리 전이점-20℃)으로 해서 압출한 폴리머를 점착시키는 방법, 또는 이들의 방법을 복수 조합한 방법에 의해 시트 형상 폴리머를 캐스팅 드럼에 밀착시켜 냉각 고화한다. 이들의 캐스트법 중에서도 폴리에스테르를 사용하는 경우는 생산성이나 평면성의 관점으로부터 정전 인가하는 방법이 바람직하게 사용된다.

본 발명의 적층 필름은 내열성, 치수 안정성의 관점으로부터 2축 배향 필름으로 하는 것이 바람직하다. 2축 배향 필름은 미연신 필름을 길이방향으로 연신한 후, 폭방향으로 연신한다, 또는 폭방향으로 연신한 후, 길이방향으로 연신하는 축차 2축 연신 방법에 의해, 또는 필름의 길이방향, 폭방향을 거의 동시에 연신해 가는 동시 2축 연신 방법 등에 의해 연신을 행함으로써 얻을 수 있다.

이러한 연신 방법에 있어서의 연신 배율로서는 길이방향으로 2.8배 이상 5배 이하가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2.9배 이상 4.5배 이하이다. 또한, 연신 속도는 1,000%/분 이상 200,000%/분 이하인 것이 바람직하다. 또한, 길이방향의 연신 온도는 70℃ 이상 90℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 폭방향의 연신 배율로서는 바람직하게는 2.8배 이상 5배 이하, 더욱 바람직하게는, 3배 이상 4.5배 이하이다. 폭방향의 연신 속도는 1,000%/분 이상 200,000%/분 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 적층 필름은 필름의 20cm×14cm 범위에 있어서의 320nm의 평행선 투과율(ST320)의 불균일을 제어하는 관점으로부터 2단계 이상의 단계 연신으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 연신 배율은 각 방향 모두 토탈 연신 배율을 나타낸다.

또한, 2축 연신 후에 필름의 열 처리를 행한다. 열 처리는 오븐 중 가열한 롤 상 등 종래 공지의 임의의 방법에 의해 행할 수 있다. 이 열 처리는 120℃ 이상 폴리에스테르의 결정 융해 피크 온도 이하의 온도에서 행해지지만, 320nm의 평행선 투과율(ST320)을 30% 이상으로 하기 위해서 입자 고농도 함유층(A층)의 입자 주변의 공극을 저감하는 관점으로부터 열 처리 온도는 입자 고농도 함유층(A층)의 융점-20℃ 이상 융점+10℃로 이하로 하는 것이 바람직하고, 융점-10℃ 이상 융점-5℃로 설정하는 것이 보다 바람직하다. 열 처리 시간은 특성을 악화시키지 않는 범위에 있어서 임의로 할 수 있고, 바람직하게는 5초 이상 60초 이하, 보다 바람직하게는 10초 이상 40초 이하, 가장 바람직하게는 15초 이상 30초 이하로 행하는 것이 좋다. 또한, 안정된 이형성을 확보하기 위해서 A층의 표면에 이형층을 인라인으로 코팅시킬 수도 있다. 코팅층을 필름 제조 공정 내의 인라인으로 형성하는 방법으로서는 적어도 1축 연신을 행한 필름 상에 코팅층 조성물을 물에 분산시킨 것을 미터링 링 바나 그라비아롤 등을 이용하여 균일하게 도포하고, 연신을 실시하면서 도포제를 건조시키는 방법이 바람직하다. 그 때, 이형층의 두께로서는 0.02㎛ 이상 0.1㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 이형층 중에 각종 첨가제 예를 들면, 산화 방지제, 내열 안정제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료, 염료, 유기 또는 무기 입자, 대전 방지제, 핵제 등을 첨가해도 좋다.

또한, 본 발명의 필름의 일양태로서 기재층의 적어도 한쪽의 표면에 광택도가 30 이하인 저광택층을 갖는 적층 필름으로서, 저광택층 표면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하, 또한 필름의 20cm×14cm 범위에 있어서의 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하이며, 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 적층 필름을 들 수 있다. 광택도가 30 이하인 저광택층을 가짐으로써 전사 필름으로서 사용했을 경우에 저광택 외관을 전사할 수 있다. 저광택층의 광택도는 25 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 이하인 것이 더욱 바람직하다. 저광택층의 광택도는 입자 고농도 함유층(A)에 사용되는 입자를 함유시키는 것, 저광택층의 표면 거칠기를 조제하는 것 등에 의해 제어할 수 있다. 상기 구성에 있어서 저광택층은 입자 고농도 함유층(A)으로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 광택도란 후술하는 측정 방법에 의해 구해지는 60° 경면 광택도를 나타낸다.

본 발명의 필름은 적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하이며, 또한 20cm×14cm 범위에 있어서의 상기 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 작고, 320nm의 평행선 투과율이 높기 때문에 피전사재로서 광 경화성 수지를 사용했을 경우에 충분히 저광택 외관의 전사, 형상 고정할 수 있다. 이 때문에 회로 형성 공정에 있어서 매트조 외관의 전사성이 우수한 전사용 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다.

실시예

(1) 폴리에스테르의 조성

폴리에스테르 수지 및 필름을 헥사플루오로이소프로판올(HFIP)에 용해하고, ¹H-NMR 및 ¹³C-NMR을 이용하여 각 모노머 잔기 성분이나 부생 디에틸렌글리콜에 대해서 함유량을 정량할 수 있다. 적층 필름의 경우는 적층 두께에 따라 필름의 각 층을 깎아냄으로써 각 층 단체를 구성하는 성분을 채취하고, 평가할 수 있다. 또한, 본 발명의 필름에 대해서는 필름 제조 시의 혼합 비율로부터 계산에 의해 조성을 산출했다.

(2) 폴리에스테르의 고유 점도

폴리에스테르 수지 및 필름의 고유 점도는 폴리에스테르를 오쏘클로로페놀에 용해하고, 오스트발트 점도계를 사용하여 25℃에서 측정했다. 적층 필름의 경우는 적층 두께에 따라 필름의 각 층을 깎아냄으로써 각 층 단체의 고유 점도를 평가할 수 있다.

(3) 필름 두께

선단이 평탄하며 직경 4mm의 다이얼게이지 두께계(Mitutoyo Corporation제)를 사용하여 적층 필름 두께를 측정했다. 필름 중심부, 필름 중심부로부터 길이방향으로 4cm의 위치(2점), 폭방향으로 4cm 위치(2점)의 5점의 두께를 측정하고, 그 평균값을 필름 두께로 했다.

(4) 각 층 두께

적층 필름을 에폭시 수지에 포매하고, 필름 단면을 마이크로톰으로 잘라냈다. 상기 단면을 투과형 전자현미경(Hitachi, Ltd.제 TEM H7100)으로 5000배의 배율로 관찰하여 각 층의 두께를 구했다.

(5) 입자의 평균 입자 지름

적층 필름으로부터 필름을 구성하는 수지를 플라즈마 저온 회화 처리법(Yamato Scientific co., ltd.제 PR-503형)으로 제거하여 입자를 노출시킨다. 이것을 투과형 전자현미경(Hitachi, Ltd.제 TEM H7100)으로 관찰하고, 입자의 화상(입자에 의해 생기는 광의 농담)을 이미지 애널라이저(Cambridge Instrument제 QTM900)에 결합시키고, 관찰 개소를 바꿔 입자수 5000개 이상으로 다음의 수치 처리를 행하고, 그것에 의해 구한 수 평균 지름(D)을 평균 입자 지름으로 했다.

D=ΣDi/N

여기서 Di는 입자의 원 상당 지름, N은 입자의 개수이다.

(6) 입자의 함유량

폴리머 1g을 1N-KOH 메탄올 용액 200ml에 투입해서 가열 환류하여 폴리머를 용해했다. 용해가 종료된 상기 용액에 200ml의 물을 첨가하고, 이어서 상기 액체를 원심 분리기에 걸쳐 입자를 침강시켜 상청액을 제거했다. 입자에는 물을 더 첨가하여 세정, 원심 분리를 2회 반복했다. 이렇게 해서 얻어진 입자를 건조시키고, 그 질량을 잼으로써 입자의 함유량을 산출했다.

(7) 표면 거칠기(SRa), 최대 피크 높이(SRp), 최대 밸리 깊이(SRv), 중심 면적률(SSr)

길이 4.0cm×폭 3.5cm의 치수로 잘라낸 것을 샘플로 하고, 촉침법의 고정세 미세 형상 측정기(3차원 표면 거칠기계)를 사용해서 JIS B0601-1994에 준거하여 하기 조건에서 폴리에스테르 필름의 표면 형태를 측정했다.

·측정 장치: 3차원 미세 형상 측정기(Kosaka Laboratory Ltd.제, ET-4000A 형)

·해석 기기: 3차원 표면 거칠기 해석 시스템(TDA-31형)

·촉침: 선단 반경 0.5㎛R, 지름 2㎛, 다이아몬드제

·침압: 100μN

·측정 방향: 필름 길이방향, 필름 폭방향을 각 1회 측정 후 평균

·X 측정 길이: 1.0mm

·X 이송 속도: 0.1mm/s(측정 속도)

·Y 이송 피치: 5㎛(측정 간격)

·Y 라인수: 81개(측정 개수)

·Z배율: 20배(종배율)

·저역 컷오프: 0.20mm

·고역 컷오프: R+Wmm(거칠기 컷오프값) R+W란 컷오프하지 않은 것을 의미한다.

·필터 방식: 가우시안 공간형

·레벨링: 있음(경사 보정)

·기준 면적: 1㎟

상기 조건에서 측정을 행하고, 그 후 해석 시스템을 이용하여 중심면 평균 거칠기(SRa), 최대 피크 높이(SRp), 최대 밸리 깊이(SRv), 중심 면적률(SSr)을 산출했다.

(8) 필름의 20cm×14cm 범위에 있어서의 표면 거칠기(SRa)의 불균일

필름을 임의의 위치에서 길이(길이방향에 평행하게) 20cm×폭(폭방향에 평행하게) 14cm의 크기로 잘라내어 샘플로 하고, 상기 샘플을 길이방향으로 5등분, 폭방향으로 4등분하여 길이 4.0cm×폭 3.5cm의 크기로 더 잘라냈다(합계 20개 샘플). 상기 샘플에 대해서 (7)과 마찬가지로 해서 각각의 표면 거칠기(SRa)로부터 산출하고, 하기와 같이 불균일을 구했다.

표면 거칠기(SRa)의 불균일(%)={(최대값-최소값)/평균값}×100

(9) 광택도

JIS-Z-8741(1997년)에 규정된 방법에 따라 Suga Test Instruments Co., Ltd.제 디지털 변각 광택도계 UGV-5D를 사용하여 60° 경면 광택도를 N=3으로 측정하고, 평균값을 본 발명의 광택도로 했다.

(10) 320nm의 평행선 투과율(ST320)

분광 광도계 U-3410(Hitachi, Ltd.제)을 사용하여 파장 320nm의 범위에 있어서 평행선 투과율을 측정했다. 또한, (7)에서 측정한 표면 거칠기(SRa)가 작은 면측으로부터 광을 입사해서 측정을 행했다. 측정은 (8)과 마찬가지로 해서 각 샘플을 작성하고, 합계 20점의 측정점의 평균을 320nm의 평행선 투과율(ST320)로서 구했다.

(11) 필름의 20cm×14cm 범위에 있어서의 320nm의 평행선 투과율(ST320)의 불균일

(8)과 마찬가지로 해서 각 샘플을 작성하고, 합계 20점의 측정점에 대해서 (10)과 마찬가지로 해서 320nm의 평행선 투과율(ST320)을 산출하고, 하기와 같이 불균일을 구했다.

ST320 불균일(%)={(최대값-최소값)/평균값}×100

(12) 100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화

필름을 임의의 위치에서 길이 10cm×폭 10cm의 크기로 잘라내어 샘플로 하고, (3)과 마찬가지로 해서 필름 중심부, 필름 중심부로부터 길이방향으로 4cm의 위치(2점), 폭방향으로 4cm 위치(2점)의 5점의 두께를 측정하고, 그 평균값을 열 처리 전의 필름 두께로 했다. 그 후, 상기 샘플을 100℃로 설정한 열풍 오븐 중에서 10분간 유지하여 열 처리를 행하고, 열 처리 후의 샘플에 대해서도 마찬가지로 5점의 두께를 측정하고, 그 평균값을 열 처리 후의 필름 두께로 했다. 구한 열 처리 전, 열 처리 후의 두께로부터 하기와 같이 두께 변화를 산출했다.

두께 변화(%)={|열 처리 후의 두께-열 처리 전의 두께|/열 처리 전의 두께}×100

(13) 표면 자유 에너지

측정액으로서는 물, 에틸렌글리콜, 포름아미드 및 디요오드메탄의 4종류를 사용하고, 접촉각계(Kyowa Interface Science, Inc제 CA-D형)를 사용하여 각 액체의 필름 표면에 대한 정적 접촉각을 구했다. 각각의 액체에 대해서 5회 측정하고, 그 평균 접촉각(θ)과 측정액(j)의 표면 장력의 각 성분을 하기 식에 각각 대입하여 4개의 식으로 이루어지는 연립 방정식을 γ^L, γ⁺, γ^-에 대해서 풀었다.

(γ^Lγj^L)^1/2+2(γ⁺γj^-)^1/2+2(γj⁺γ^-)^1/2

=(1+cosθ)[γj^L+2(γj⁺γj^-)^1/2]/2

단, γ=γ^L+2(γ⁺γ^-)^1/2

γj=γj^L+2(γj⁺γj^-)^1/2

여기서, γ, γ^L, γ⁺, γ^-는 각각 필름 표면의 표면 자유 에너지, 장거리간력항, 루이스산 파라미터, 루이스 염기 파라미터를, 또한 γj, γj^L, γj⁺, γj^-는 각각 사용한 측정액의 표면 자유 에너지, 장거리간력항, 루이스산 파라미터, 루이스염기 파라미터를 나타낸다. 또한, 여기서 사용한 각 액체의 표면 장력은 Oss("fundamentals of Adhesion", L. H. Lee(Ed.), p153, Plenum ess, New York(1991).)에 의해 제안된 값을 사용했다.

(14) 박리성[I]

필름을 길이 20cm×폭 14cm로 잘라내어 사용했다. 하기의 이형층 형성용 용액을 그라비아 코트법으로 필름의 SRa가 100nm 이상 3000nm 이하인 면(양면 모두 SRa가 100nm 이상 3000nm 이하인 경우는 표면 거칠기(SRa)가 작은 면)에 도포하고, 오븐에 의해 180℃에서 20초간 건조시켰다. 또한, 하드코트층 형성용 도료 조성물을 건조 후의 두께가 5㎛가 되도록 유량을 제어해서 슬롯 다이 코터를 사용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 용제를 제거하여 하드코트층이 적층된 적층체를 얻었다.

얻어진 필름/이형층/하드코트층 적층체를 상금형 온도, 하금형 온도 모두에 온도 160℃로 가열한 프레스기를 사용하여 두께 0.2mm의 알루미늄판/두께 0.125mm의 폴리이미드 필름(DU PONT-TORAY CO., LTD.제 Kapton 500H/V)/적층체/두께 0.125mm의 폴리이미드 필름(DU PONT-TORAY CO., LTD.제 Kapton 500H/V)/두께 0.2mm의 알루미늄판의 구성체를 1.5MPa의 조건 하에서 1시간 가열 프레스를 행했다. 가열 프레스 후에 적층체/폴리이미드 필름을 꺼내고, 고압 수은등을 이용하여 300mJ/㎠의 자외선을 적층체측으로부터 조사하고, 하드코트층을 경화시켜 샘플을 얻는다. 이 샘플을 필름과 이형층의 계면(필름/(이 계면)/이형층/하드코트층)에서 박리 테스트를 실시하고, 이하 기준에서 박리성의 평가를 행했다.

(이형층 형성용 용액)

메틸화 멜라민:파라톨루엔술폰산아민:아크릴 모노머 공중합체=20:0.4:1의 질량비로 조제하고, 톨루엔으로 희석했다.

(하드코트층 형성용 도료 조성물)

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용하여 희석해서 고형분 농도 40질량%의 하드코트층 형성용 도료 조성물을 얻었다.

톨루엔 30질량부

다관능 우레탄아크릴레이트(DAICEL-ALLNEX LTD.제 KRM8655) 25질량부

펜타에리스리톨트리아크릴레이트 혼합물(Nippon Kayaku Co., LTD.제 PET30) 25질량부

다관능 실리콘아크릴레이트(DAICEL-ALLNEX LTD.제 EBECRYL1360) 1질량부

광 중합개시제(Ciba Specialty Chemicals제 Irgacure184) 3질량부

(평가 기준)

A: 저항 없이 박리가능했음

B: 박리 시에 저항을 느꼈지만, 박리가능했음

C: 박리할 수 없었음

(15) 박리성[II]

필름을 길이 20cm×폭 14cm로 잘라내어 사용했다. 광 경화형 수지인 감광성 폴리이미드층 형성용 도료 조성물을 그라비아 코트법으로 필름의 SRa가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면(양면 모두 SRa가 100nm 이상 3000nm 이하인 경우는 표면 거칠기(SRa)가 작은 면)에 도포하고, 오븐에 의해 90℃에서 60초간 건조시켜 필름/감광성 폴리이미드층의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체를 70℃/0.2MPa로 폴리이미드 필름(DU PONT-TORAY CO., LTD.제 "Kapton"(등록상표) 500H/V)에 라미네이트를 행하고, 고압 수은등을 이용하여 800mJ/㎠의 자외선을 적층체측으로부터 조사했다. 이 때, 샘플의 반분(길이 20cm×폭 7cm)의 부분은 포토마스크를 행했다(포토마스크를 행한 부분은 UV 노광이 되지 않음). UV 노광 있음 부분, UV 노광 없음 부분 각각에 대해서 필름과 감광성 폴리이미드층 사이의 박리 강도를 측정하고, 하기 기준으로 평가를 행했다. 또한, 박리 강도는 필름/감광성 폴리이미드층 적층체를 길이 15cm×폭 5cm의 스트립 형상으로 하고, 필름과 감광성 폴리이미드층 사이에서 강제적으로 박리하고, 180° 박리 시험을 인장 시험기(ORIENTEC CORPORATION제 TENSILON UCT-100)를 사용하여 25℃, 50%RH 분위기 하에서 박리 속도 300mm/분으로 측정을 행했다. 또한, 측정 길이 50%로부터 100% 사이에서의 강도의 평균값을 박리 강도로 했다.

A: UV 노광 있음 부분과 UV 노광 없음 부분의 박리 강도의 차가 0.5N/50mm 미만

B: UV 노광 있음 부분과 UV 노광 없음 부분의 박리 강도의 차가 0.5N/50mm 이상 1N/50mm 미만

C: UV 노광 있음 부분과 UV 노광 없음 부분의 박리 강도의 차가 1N/50mm 이상

D: UV 노광 있음 부분, UV 노광 없음 부분 중 적어도 어느 하나에서 박리를 할 수 없었음

(16) 박리성 [III]

(15)와 마찬가지로 해서 필름/감광성 폴리이미드층의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체를 70℃/0.2MPa로 폴리이미드 필름(DU PONT-TORAY CO., LTD.제 "Kapton " (등록상표) 500H/V)에 라미네이트를 행했다. 그 후, 100℃에서 10분간의 열 처리를 행한 후, 고압 수은등을 이용하여 800mJ/㎠의 자외선을 적층체측으로부터 조사했다. 이 때, 샘플의 반분(길이 20cm×폭 7cm)의 부분은 포토마스크를 행했다(포토마스크를 행한 부분은 UV 노광이 되지 않음). 얻어진 라미네이트 적층체의 자외선 조사 샘플에 대해서 UV 노광 있음 부분과 UV 노광 없음 부분 각각에 대해서 필름과 감광성 폴리이미드층 사이의 박리 강도를 측정하고, 하기 기준으로 평가를 행했다.

(17) 매트조 외관의 전사성, 균일성이 좋음

(14)의 방법으로 얻어진 이형층의 박리면측에 대해서 길이 20cm×폭 14cm의 크기로 잘라내어 샘플로 하고, 상기 샘플을 길이방향으로 5등분, 폭방향으로 4등분하여 길이 4.0cm×폭 3.5cm의 크기로 더 잘라냈다(합계 20개 샘플). 상기 샘플에 대해서 각각 (9)와 마찬가지로 해서 광택도를 측정하고, 그 평균값에 대해서 이하의 기준에서 평가했다.

(매트조 외관의 전사성)

A: 광택도 10 이하

B: 광택도가 10을 초과하고 20 이하

C: 광택도가 20을 초과하고 30 이하

D: 광택도가 30을 초과함

(매트조 외관 균일성이 좋음)

20점의 광택도의 최대값과 최소값의 차로부터 하기 기준으로 평가했다.

A: 광택도의 최대값과 최소값의 차가 2 이하

B: 광택도의 최대값과 최소값의 차가 2를 초과하고 4 이하

C: 광택도의 최대값과 최소값의 차가 4를 초과함

(18) 헤이즈

필름을 1변 10cm의 정사각형 형상으로 잘라내고, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.제 헤이즈미터 NDH-5000을 사용하여 헤이즈 측정을 행했다. 측정은 3개소에서 실시하고, 그 평균값을 본 발명에 있어서의 헤이즈로 했다.

또한, 상기 각 측정에 있어서 측정하는 필름의 길이방향, 폭방향이 불명한 경우는 필름에 있어서 최대의 굴절률을 갖는 방향을 폭방향, 상기 폭방향에 직교하는 방향을 길이방향으로 간주했다.

(폴리에스테르의 제조)

제막에 제공한 폴리에스테르 수지는 이하와 같이 준비했다.

(폴리에스테르 A)

디카르복실산 성분으로서 테레프탈 성분이 100몰%, 글리콜 성분으로서 에틸렌글리콜 성분이 100몰%인 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(고유 점도 0.65).

(폴리에스테르 B)

이소프탈산이 디카르복실산 성분에 대하여 20몰% 공중합된 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(고유 점도 0.8).

(폴리에스테르 C)

디카르복실산 성분으로서 테레프탈 성분이 100몰%, 글리콜 성분으로서 1,4-부탄디올 성분이 100몰%인 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지(고유 점도 1.2).

(폴리에스테르 D)

DU PONT-TORAY CO., LTD.제 "Hytrel(등록상표)" 7247.

(입자 마스터 E)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 3㎛의 콜로이달 실리카 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.65).

(입자 마스터 F)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 5㎛의 콜로이달 실리카 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.65).

(입자 마스터 G)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 3㎛의 규산알루미나 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.65).

(입자 마스터 H)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 5㎛의 규산알루미나 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.65).

(입자 마스터 I)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 2.2㎛의 콜로이달 실리카 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.65)

(입자 마스터 J)

폴리에스테르 A 중에 평균 입자 지름 2.4㎛의 규산알루미나 입자를 입자 농도 30질량%로 함유한 폴리에틸렌테레프탈레이트 입자 마스터(고유 점도 0.65)

(이형 코트 용액(수분산체))

이하에 나타내는 가교제:바인더 수지:이형제:입자를 각각 질량비 60:23:17로 혼합하고, 고형분이 1%의 질량비가 되도록 순수로 희석해서 조정했다.

·가교제: 메틸화 멜라민/요소 공중합의 가교제 수지(Sanwa Chemical Co., Ltd.제 "NIKALAC"(등록상표) 「MW12LF」)

·바인더 수지: 아크릴 모노머 공중합체(NIPPON CARBIDE INDESTRIES CO., INC.제)

·이형제: 유리제 반응 용기 중에 퍼플루오로알킬기 함유 아크릴레이트인 CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂OCOCH=CH₂(n=5~11, n의 평균=9) 80.0g, 아세토아세톡시에틸메타크릴레이트 20.0g, 도데실메르캅탄 0.8g, 탈산소한 순수 354.7g, 아세톤 40.0g, C₁₆H₃₃N(CH₃)₃Cl 1.0g 및 C₈H₁₇C₆H₄O(CH₂CH₂O)_nH(n=8) 3.0g을 넣고, 아조비스이소부틸아미딘 2염산염 0.5g을 첨가하고, 질소 분위기 하에서 교반하면서 60℃에서 10시간 공중합 반응시켜서 얻어진 공중합체 에멀전.

·입자: 수 평균 입자 지름 170nm의 실리카 입자(Nissan Chemical Corporation제 "SNOWTEX"(등록상표) MP2040)를 고형분 농도가 40중량%가 되도록 순수로 희석해서 얻어진 수분산체.

(실시예 1)

조성, 적층비가 표와 같이 되도록 원료를 각각 압출기에 공급하고, 압출기 실린더 온도를 270℃, 단관 온도를 275℃, 구금 온도를 280℃로 설정하고, 수지 온도 280℃에서 T 다이로부터 25℃로 온도 제어한 냉각 드럼 상에 시트 형상으로 토출했다. 그 때, 직경 0.1mm의 와이어 형상 전극을 사용해서 정전 인가하고, 냉각 드럼에 밀착시켜 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 길이방향으로 연신 온도 85℃에서 1단째로서 1.5배, 연신 속도 50,000%/분으로 연신하고, 연신 온도 88℃에서 2단째로서 2.2배, 연신 속도 80,000%/분으로 연신(토탈 연신 배율 3.3배)했다. 그 후, 코로나 방전 처리를 실시하고, A층측의 표면에 이형 코트 용액(수분산체)을 미터링 바를 이용하여 웨트 두께가 13.5㎛가 되도록 도포하고, 이어서 텐터식 횡연신기에 의해 폭방향으로 연신 온도 100℃에서 1단째로서 1.8배, 연신 속도 30,000%/분으로 연신하고, 연신 온도 120℃에서 2단째 연신 2배, 연신 속도는 40,000%/분으로 연신(토탈 연신 배율 3.6배)했다. 그 후, 텐터 내에서 235℃에서 열 처리를 행하여 필름 두께 16㎛(이형 코트층: 0.04㎛, A층: 3.5㎛, 기재층: 12.5㎛)의 필름을 얻었다.

(실시예 2)

조성, 적층비를 표와 같이 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 필름 두께 25㎛의 필름을 얻었다.

(실시예 3)

조성, 적층비를 표와 같이 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 필름 두께 16㎛의 필름을 얻었다.

(실시예 4)

(실시예 5)

조성, 적층비를 표와 같이 변경하고, 길이방향 연신 후에 이형 코트 용액을 도포하지 않은 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 필름 두께 16㎛의 필름을 얻었다.

(실시예 6)

길이방향의 연신 조건으로서 85℃에서 3.3배 연신, 폭방향의 연신 조건으로서 100℃에서 3.6배 연신한 이외는 실시예 2와 마찬가지로 해서 필름 두께 16㎛의 필름을 얻었다.

(실시예 7)

(실시예 8)

조성, 구성, 적층비를 표와 같이 변경하고, 길이방향 연신 후에 이형 코트 용액을 도포하지 않은 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 필름 두께 19.5㎛의 필름을 얻었다.

(실시예 9)

조성, 적층비를 표와 같이 변경하고, 길이방향으로 연신 온도 85℃에서 1단째로서 1.6배 연신하고, 연신 온도 88℃에서 2단째로서 2.4배 연신(토탈 연신 배율 3.8배)하고, 폭방향으로 연신 온도 100℃에서 1단째로서 1.9배 연신하고, 연신 온도 120℃에서 2단째 연신 2.2배 연신(토탈 연신 배율 4.2배)한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 필름 두께 14.5㎛(이형 코트층: 0.03㎛, A층: 2㎛, 기재층: 12.5㎛)의 필름을 얻었다.

(실시예 10)

조성, 적층비를 표와 같이 변경한 이외는 실시예 9와 마찬가지로 해서 필름 두께 14.5㎛의 필름을 얻었다.

(실시예 11)

(실시예 12)

(실시예 13)

(실시예14)

(실시예 15)

(실시예 16)

조성, 적층비를 표와 같이 변경한 이외는 실시예 4와 마찬가지로 해서 필름 두께 9㎛의 필름을 얻었다.

(실시예 17)

길이방향으로 연신 온도 85℃에서 1단째로서 1.7배 연신하고, 연신 온도 88℃에서 2단째로서 2.4배 연신(토탈 연신 배율 4.1배)하고, 폭방향으로 연신 온도 100℃에서 1단째로서 1.9배 연신하고, 연신 온도 120℃에서 2단째 연신 2.2배 연신(토탈 연신 배율 4.2배)하고, 그 후 텐터 내에서 252℃에서 열 처리를 행한 이외는 실시예 11과 마찬가지로 해서 필름 두께 14.5㎛(이형 코트층: 0.03㎛, A층: 2㎛, 기재층: 12.5㎛)의 필름을 얻었다.

(실시예 18)

길이방향으로 연신 온도 85℃에서 1단째로서 1.2배 연신하고, 연신 온도 86℃에서 2단째로서 1.2배 연신, 연신 온도 87℃에서 3단째로서 1.6배, 연신 온도 88℃에서 4단째로서 1.7배(토탈 연신 배율 3.9배)하고, 폭방향으로 연신 온도 100℃에서 1단째로서 1.2배 연신하고, 연신 온도 110℃에서 2단째 연신 1.2배 연신하고, 연신 온도 115℃에서 3단째 연신 1.6배 연신하고, 120℃에서 4단째 연신 1.8배 연신(토탈 연신 배율 4.1배)한 이외는 실시예 11과 마찬가지로 해서 필름 두께 14.5㎛(이형 코트층: 0.03㎛, A층: 2㎛, 기재층: 12.5㎛)의 필름을 얻었다.

(비교예 1)

조성, 적층비를 표와 같이 변경한 이외는 실시예 8과 마찬가지로 해서 필름 두께 22.5㎛의 필름을 얻었다.

(비교예 2)

조성, 적층비를 표와 같이 변경한 이외는 실시예 4와 마찬가지로 해서 필름 두께 25㎛의 필름을 얻었다.

(비교예 3)

조성, 적층비를 표와 같이 변경한 이외는 실시예 2와 마찬가지로 해서 필름 두께 20.5㎛의 필름을 얻었다.

또한, 표에는 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 필름면을 A면, 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하가 아닌 필름면을 B면으로서 기재하고 있다. 양면 모두 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 필름의 경우는 표면 거칠기가 큰 면을 A1면, 표면 거칠기(SRa)의 거칠기가 낮은 면을 A2면으로서 기재하고 있다.

(산업상 이용가능성)

Claims

적어도 편면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하이며, 또한 20cm×14cm 범위에 있어서의 상기 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하이며, 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 최대 피크 높이(SRp)와 최대 밸리 깊이(SRv)가 하기 (II)식을 만족하는 필름.
1≤SRp/SRv≤3···(II)
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 중심 면적률(SSr)이 하기 (III)식을 만족하는 필름.
30≤SSr≤60···(III)
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
100℃, 10분간의 열 처리 전후의 두께 변화가 0.1% 이상 10% 이하인 필름.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
기재층과 입자 고농도 함유층(A층)을 갖는 적층 필름이며, 상기 A층에 평균 입자 지름이 1㎛ 이상 10㎛ 이하인 입자를 A층 전체를 100질량%로 해서 1질량% 이상 40질량% 이하 함유하는 필름.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 ST320이 60% 이상인 필름.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
필름의 20cm×14cm 범위에 있어서 상기 ST320의 불균일이 0.1% 이상 10% 이하인 필름.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
필름 헤이즈가 70% 이하인 필름.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하인 표면의 표면 자유 에너지가 44mN/m 이하인 필름.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리에스테르를 주성분으로 하는 필름.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
전사 용도에 사용되는 필름.
기재층의 적어도 한쪽의 표면에 광택도가 30 이하인 저광택층(A층)을 갖는 적층 필름으로서, A층 표면의 표면 거칠기(SRa)가 100nm 이상 3000nm 이하, 또한 필름의 20cm×14cm 범위에 있어서의 표면 거칠기(SRa)의 불균일이 10% 이하이며, 320nm의 평행선 투과율(ST320)이 30% 이상인 적층 필름.