CN110573334B

CN110573334B - 膜

Info

Publication number: CN110573334B
Application number: CN201880026540.3A
Authority: CN
Inventors: 真锅功; 荘司秀夫; 田中照也
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2017-04-26
Filing date: 2018-04-06
Publication date: 2022-03-29
Anticipated expiration: 2038-04-06
Also published as: KR20190139829A; CN110573334A; KR102566683B1; TWI761493B; TW201843052A; JPWO2018198720A1; JP7412884B2; WO2018198720A1

Abstract

本发明提供一种膜，是至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上的膜，通过该膜，在作为转印膜使用的情况下，能够均匀地转印低光泽调外观，并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，也能够进行低光泽外观的转印、形状固定，具有粒子脱落、削减这样的不良状况不易发生的良好的加工工序适应性。

Description

膜

技术领域

本发明涉及膜。

背景技术

近年来，通过伴随智能手机、平板的扩大的电路的集成化，印刷配线基板的高精度、高密度化进展。在印刷配线基板的制造工序中，在绝缘基材(聚酰亚胺树脂、聚苯硫醚树脂等)的表面设置电路后，以绝缘和电路保护作为目的，被覆作为具有粘接层的耐热树脂膜的覆盖层，经由脱模膜，通过加压层压进行成型。此时，对脱模膜要求与印刷配线板材料、加压板的脱模性、形状追随性、均匀的成型性、哑光风格外观的转印性等。此外，即使是通过加热加压使绝缘层、硬涂层、电磁波屏蔽层等功能层转印于电路基板表面的基材，哑光风格膜的需求也提高。

以往，作为哑光风格的膜，一般是砂消光膜、化学消光膜、涂布消光膜等加工品。然而，加工品具有由工序增加导致的成本升高、品质的课题，期望改善。针对这些课题，确认到通过将大量粒子与树脂一起挤出的方法制造的粒子掺入膜具有优势性，但该粒子掺入膜难以达到近年来要求的高水平的低光泽外观。此外，该粒子掺入膜的光线透射率低，因此在应用光固化性的树脂作为进行叠层的功能层的情况下存在固化变得不充分，应用范围受限定的课题。

作为以往使用的哑光风格的转印基材，提出了高浓度含有无机粒子、或有机粒子的聚酯膜(例如专利文献1、2)。此外，作为具有高度的哑光风格外观的膜，提出了通过涂布在表面设置了树脂层的膜(例如专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-97522号公报

专利文献2：日本特开2014-24341号公报

专利文献3：日本特开2005-24942号公报

发明内容

发明所要解决的课题

专利文献1、2所记载的膜不为确保透明性的设计，此外表面粗糙度的偏差也不能充分地降低，因此在应用光固化性树脂作为功能层时，存在不能均匀地转印低光泽表面的课题。

此外，专利文献3所记载的膜的光泽度非常低，外观优异，但在用于转印用途的情况下，有时因为粗大粒子的脱落，而发生转印表面的品质降低、粒子附着等不良状况。此外，在通过涂布而设置了脱模层的情况下，叠层的脱模层填埋膜表面的凹部，光泽度增加，因此存在转印后的光泽度不降低，得不到目标的哑光风格外观的课题。

本发明的课题是解决上述现有技术的问题。即，提供在作为转印膜而使用的情况下，能够均匀地转印低光泽风格外观，并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，也能够进行低光泽外观的转印、形状固定，不易发生粒子脱落、错位这样的不良状况的具有良好的加工工序适应性的膜。

用于解决课题的方法

为了解决这样的课题，本发明采用以下构成。

(1)一种膜，其至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上。

(2)根据(1)所述的膜，上述表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的最大凸起高度(SRp)、与最大凹陷深度(SRv)满足下述式(II)。

1≤SRp/SRv≤3···(II)

(3)根据(1)或(2)所述的膜，上述表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的中心面面积率(SSr)满足下述式(III)。

30≤SSr≤60···(III)

(4)根据(1)～(3)中任一项所述的膜，在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化为0.1％以上且10％以下。

(5)根据(1)～(4)中任一项所述的膜，是具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜，在将A层整体设为100质量％时，上述A层中含有1质量％以上且40质量％以下的平均粒径为1μm以上且10μm以下的粒子。

(6)根据(1)～(5)中任一项所述的膜，上述ST320为60％以上。

(7)根据(1)～(6)中任一项所述的膜，在20cm×14cm范围内，膜的上述ST320的偏差为0.1％以上且10％以下。

(8)根据(1)～(7)中任一项所述的膜，膜雾度为70％以下。

(9)根据(1)～(8)中任一项所述的膜，上述表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的表面自由能为44mN/m以下。

(10)根据(1)～(9)中任一项所述的膜，其以聚酯为主成分。

(11)根据(1)～(10)中任一项所述的膜，其用于转印用途。

(12)一种叠层膜，是在基材层的至少一个表面具有光泽度为30以下的低光泽层的叠层膜，低光泽层表面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且在20cm×14cm范围内膜的表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上。

发明的效果

根据本发明，可以提供在作为转印膜而使用的情况下，低光泽外观的转印性和工序适合性优异的膜。该膜在电路形成工序中可以作为哑光风格外观的转印性优异的转印用膜而适合使用。

具体实施方式

作为本发明的膜的一方案，可举出至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且在20cm×14cm范围内膜的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上的膜。

本发明的膜所使用的树脂没有特别限定，可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯、聚芳酯、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚醚醚酮、聚砜、聚醚砜、氟树脂、聚醚酰亚胺、聚苯硫醚、聚氨酯和环状烯烃系树脂等。其中，从膜的操作性、尺寸稳定性、制造时的经济性的观点考虑，优选以聚酯为主成分。在本发明中，所谓以聚酯为主成分，表示构成膜的树脂之中的、50质量％以上为聚酯。此外，在本发明的膜为包含基材层、以高浓度含有粒子的层的叠层膜的情况下，优选基材层、以高浓度含有粒子的层都以聚酯为主成分。在本发明中所谓聚酯，是主链中的主要的键为酯键的高分子的总称，通常，可以通过使二羧酸成分与二醇成分进行缩聚反应而获得。

作为这里使用的二羧酸成分，可以举出对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、2,6-萘二甲酸、二苯基二甲酸、二苯基砜二甲酸、二苯氧基乙烷二甲酸、5-磺酸钠二甲酸等芳香族二羧酸、草酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、二聚酸、马来酸、富马酸等脂肪族二羧酸、1,4-环己烷二甲酸等脂环族二羧酸、对羟基苯甲酸等羟基羧酸等各成分。此外，作为二羧酸酯衍生物成分，可以举出上述二羧酸化合物的酯化物，例如对苯二甲酸二甲酯、对苯二甲酸二乙酯、对苯二甲酸2-羟基乙基甲基酯、2,6-萘二甲酸二甲酯、间苯二甲酸二甲酯、己二酸二甲酯、马来酸二乙酯、二聚酸二甲酯等各成分。在构成本发明的树脂膜的聚酯树脂中，全部二羧酸成分中的、对苯二甲酸和/或萘二甲酸的比例优选为95摩尔％以上，更优选为98摩尔％以上从耐热性、生产性方面考虑是优选的。

此外，作为二醇成分，可举出乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-二甲基-1,3-丙二醇等脂肪族二羟基化合物、二甘醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇等聚氧亚烷基二醇、1,4-环己烷二甲醇、螺环二醇等脂环族二羟基化合物、双酚A、双酚S等芳香族二羟基化合物等各成分。其中，从成型性、操作性方面考虑，优选使用乙二醇、1,4-丁二醇、2,2-二甲基-1,3-丙二醇、1,4-环己烷二甲醇的各成分。在构成本发明的树脂膜的聚酯树脂中，如果全部二醇成分中的、乙二醇的比例为65摩尔％以上，则从耐热性、生产性方面考虑是优选的。这些二羧酸成分、二醇成分可以并用2种以上。

从哑光风格外观转印性的观点考虑，本发明的膜的至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下是必要的。在表面粗糙度SRa小于100nm的情况下，难以获得充分的哑光风格转印性，如果要使表面粗糙度SRa大于3000nm则膜的强度降低。从哑光风格转印性和膜强度的观点考虑，如果至少一面的表面粗糙度SRa为200nm以上且2000nm以上则更优选，如果为300nm以上且2000nm以下则最优选。

在本发明中，用于使至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的方法没有特别限制。例如，可举出使膜中以高浓度含有粒子的方法、如压纹加工那样使形状转印于膜表面的方法等。在通过使膜中高浓度含有粒子的方法，使至少一面的表面粗糙度SRa为上述范围的情况下，从使膜强度与表面粗糙度兼有的观点考虑，制成具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜，上述A层所含有的粒子优选为平均粒径1μm以上且10μm以下，在将A层整体设为100质量％时，其含量优选为1质量％以上且40质量％以下。A层所含有的粒子的含量更优选为3质量％以上且35质量％以下，含有5质量％以上且30质量％以下是最优选的。此外，A层所含有的粒子的平均粒径如果为2μm以上且10μm以下则更优选，如果为3μm以上且9μm以下则进一步优选，如果为4μm以上8μm以下则最优选。另外，本发明中的所谓平均粒径，是指D＝ΣDi/N(Di：粒子的等效圆直径，N：粒子的个数)所示的数均径D。

本发明的粒子高浓度含有(A层)所使用的粒子可以应用无机粒子、有机粒子的任一种。也能够并用无机粒子与有机粒子。

这里，作为所使用的无机粒子、有机粒子，没有特别限定。例如，作为无机粒子，可以使用二氧化硅、硅酸铝、水合硅酸铝、碳酸钙、磷酸钙、氧化铝、云母、粘土、滑石等。作为有机粒子，可以使用以苯乙烯、有机硅、丙烯酸类、甲基丙烯酸类、聚酯类、二乙烯基化合物等作为构成成分的粒子。在无机粒子之中，适合使用湿式和干式二氧化硅、胶体二氧化硅、硅酸铝等。在有机粒子之中，适合使用以苯乙烯、有机硅、丙烯酸、甲基丙烯酸、聚酯、二乙烯基苯等作为构成成分的粒子。从消光外观、经济性的观点考虑，特别优选使用二氧化硅、硅酸铝、水合硅酸铝。另外，这些粒子可以并用二种以上。

此外，关于本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的面，20cm×14cm范围内的表面粗糙度SRa的偏差为10％以下是必要的。本发明中的表面粗糙度SRa的偏差如下算出：关于将膜在任意位置切出成长度20cm×宽度14cm大小的样品，沿长度方向5等分，沿宽度方向4等分，由切出成长度4.0cm×宽度3.5cm大小的20个样品的表面粗糙度SRa利用后述记载的方法来算出。如果表面粗糙度SRa的偏差大于10％则哑光风格转印性产生偏差，制品外观差。从哑光风格制品外观的观点考虑，表面粗糙度SRa的偏差如果为8％以下则更优选，如果为6％以下则最优选。本发明人等进行了深入研究，结果明确了在使用本发明的膜作为转印膜的情况下，具有一定以上的表面粗糙度SRa的偏差时剥离性优异。目前，该现象通过何种机制而发生并不清楚，但推定如果具有某程度表面粗糙度SRa的偏差，则用于引起剥离的起点较多地形成，结果，剥离性变得良好。因此，从剥离性的观点考虑，表面粗糙度SRa的偏差优选为0.1％以上，更优选为0.5％以上，进一步优选为1％以上。

在本发明中，作为使表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面在20cm×14cm范围内的表面粗糙度SRa的偏差为上述范围的方法，没有特别限制，但优选使用例如，制成具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜，A层的叠层厚度TA(μm)、与A层所包含的粒子的平均粒径DA(μm)满足下述(I)式的方法。

0.8≤DA/TA≤10.0···(I)

通过满足式(I)，可以控制粒子的形状以使表面粗糙度SRa在表面存在的程度更均匀地，易于将表面粗糙度SRa的偏差控制在上述范围。从表面粗糙度SRa的偏差和抑制粒子脱落的观点考虑，如果满足式(I’)则更优选，如果满足式(I”)则进一步优选，如果满足式(I”’)则最优选。

1.1≤DA/TA≤10.0···(I’)

1.2≤DA/TA≤8.0···(I”)

1.3≤DA/TA≤6.0···(I”’)。

在本发明的膜为具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜的情况下，A层可以仅配置在基材层的一个表面，也可以配置在两表面。

在将本发明的膜用于转印用途的情况下，在本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的膜面上设置功能层(转印本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的膜面的形状的被转印材料层)。作为功能层，适合使用光固化性树脂。为了充分地确保由光固化性树脂形成的功能层的固化性，本发明的膜的320nm的平行光线透射率ST320为30％以上是必要的。如果ST320小于30％，则光固化性树脂的固化性变得不充分，转印消光外观的特性降低。如果ST320为45％以上则更优选，如果为60％以上则最优选。从膜的操作性的观点考虑，ST320优选为95％以下。另外，作为透射率，一般而言，有(i)考虑了反射、散射的透射率(将透射的光用积分球收集而测定的全光线透射率)、(ii)不考虑反射、散射的透射率(用平行光线测定透射率的平行光线透射率)。为了充分地确保由光固化性树脂形成的功能层的固化性，需要使(ii)的平行光线透射率高。

此外，为了将哑光风格转印性的偏差抑制得低，本发明的膜在20cm×14cm范围内，膜的ST320的偏差优选为10％以下。通过使ST320的偏差为10％以下，从而应用了光固化性树脂时的树脂的固化性变得均匀，可以抑制哑光风格转印性的偏差。ST320的偏差与上述的表面粗糙度SRa的偏差的评价同样地，关于将膜在任意位置切出成长度20cm×宽度14cm大小的样品，沿长度方向5等分，沿宽度方向4等分，切出成长度4.0cm×宽度3.5cm大小，由各个样品的320nm的平行光线透射率ST320算出。在20cm×14cm范围内膜的ST320的偏差优选为8％以下，如果为6％以下则最优选。另一方面，本发明人等进行了深入研究，结果明确了在使用本发明的膜作为转印膜的情况下，具有一定以上ST320的偏差时剥离性优异。目前，该现象通过何种机制而发生还不清楚，但推定如果具有某程度的ST320的偏差，则在由光固化性树脂形成的功能层中产生固化进行的部分和固化不易进行的部分而形成硬度高的部分和低的部分。其结果，在由光固化性树脂形成的功能层中在硬度低的部分的附近存在的硬度高的部分变为引起剥离的起点，剥离性变得良好。因此，从剥离性的观点考虑，ST320的偏差优选为0.5％以上，更优选为1％以上。

此外，本发明的膜优选膜雾度为70％以下。通过膜雾度为70％以下，从而利用层压于被转印材料的叠层体的构成，缺点检查性大幅提高，因此是优选的。

在本发明中，作为使320nm的平行光线透射率ST320为30％以上的方法，可举出制成具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜，将上述以高浓度含有粒子的层(A层)仅配置在基材层的一方，使基材层中的粒子浓度相对于基材层整体小于1质量％的方法。基材层中的粒子浓度优选相对于基材层整体小于0.5质量％。进一步，优选降低以高浓度含有粒子的层(A层)的粒子周边的空隙。例如，在基材层、以高浓度含有粒子的层(A层)都由聚酯形成，制成双轴拉伸聚酯膜的情况下，为了抑制以高浓度含有粒子的层(A层)在后述的拉伸时产生空隙，优选使用提高以高浓度含有粒子的层(A层)的拉伸性的方法、在后述的拉伸后的热处理工序中进行高温处理从而减少空隙的方法等。为了提高拉伸性，以高浓度含有粒子的层(A层)优选含有共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚对苯二甲酸丙二醇酯树脂和/或其共聚物、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂和/或其共聚物。

此外，在本发明中，控制膜在20cm×14cm范围内ST320的偏差的方法可举出调整膜拉伸工序中的拉伸条件。例如，在将本发明的膜制成双轴拉伸聚酯膜的情况下，优选使长度方向拉伸、宽度方向拉伸工序中的至少任一拉伸工序为2阶段以上的阶段拉伸。即使在长度方向、宽度方向的同时双轴拉伸的情况下，也优选为2阶段以上的阶段拉伸。在本发明中所谓2阶段以上的阶段拉伸，是指设置2区间以上的拉伸区间，在2区间采用不同的拉伸条件。推定通过进行2阶段以上的阶段拉伸，从而粒子附近的应变降低，因此拉伸不匀被抑制，可以将ST320的偏差控制在优选的范围。此外，使拉伸速度为后述的适合范围也作为优选的方法而举出。拉伸区间优选为2区间以上且3区间以下。

此外，在本发明中，为了使膜雾度为70％以下，可举出控制膜中含有的粒子量的方法。在本发明的膜为具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜的情况下，优选使基材层中的粒子含量相对于基材层整体小于3质量％。

从哑光风格转印性和转印后的膜剥离性的观点考虑，优选本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的面的最大凸起高度(SRp)、与最大凹陷深度(SRv)满足下述式(II)。

1≤SRp/SRv≤3···(II)

通过表面的最大凸起高度(SRp)、与最大凹陷深度(SRv)满足式(II)，能够具有对于使哑光风格转印而言充分的凸起形状，同时良好地控制从功能层的转印剥离性。表面的最大凸起高度(SRp)、与最大凹陷深度(SRv)更优选满足下述式(II)’，最优选满足式(II)”。

1.1≤SRp/SRv≤2.9···(II)’

1.2≤SRp/SRv≤2.8···(II)”

用于使表面的最大凸起高度(SRp)、与最大凹陷深度(SRv)满足(II)式的方法没有特别限制。例如，在本发明的膜为具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜的情况下，优选使用通过使A层所含有的粒子的粒径小，使粒子浓度高的方法来控制膜表面的形状的方法。优选使A层所含有的粒子的平均粒径小于2.5μm，在将A层整体设为100质量％时，使其含量为含有3质量％以上且40质量％以下。更优选A层所含有的粒子的平均粒径小于2.3μm。此外，A层的粒子含量更优选含有5质量％以上且30质量％以下。

此外，从使从功能层的转印剥离性更良好的观点考虑，优选本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的面的中心面面积率(SSr)满足下述式(III)。

30≤SSr≤60···(III)

所谓中心面面积率(SSr)，是通过后述的测定方法求出的，是表示在中心面中凸部占基准面积的比例的指标。如果该值大则表示膜表面所存在的突起的凸部为缓和的形状，如果该值小则表示膜表面所存在的突起为陡峭的形状。通过表面的中心面面积率(SSr)满足式(III)，从而对于表面凹凸形状，能够使消转印光调转印，同时良好地控制从功能层的转印剥离性。表面的中心面面积率(SSr)更优选满足式(III)’，最优选满足式(III)”。

30≤SSr≤55···(III)’

35≤SSr≤55···(III)”

用于使表面的中心面面积率(SSr)满足式(III)的方法没有特别限制。例如，在本发明的膜为具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜的情况下，优选使用使A层所含有的粒子的粒径小，使粒子浓度高，同时使A层的厚度为一定以下的方法。优选使A层所含有的粒子的平均粒径小于2.5μm，在将A层整体设为100质量％时，使其含量为3质量％以上且40质量％以下，并且使A层的叠层厚度小于3μm。此外，A层所含有的粒子的平均粒径与A层的叠层厚度之比(DA(μm)/TA(μm))如果0.8以上且10以下则优选，如果为1.1以上且10以下则更优选，如果为1.3以上且6以下则最优选。

本发明的叠层膜优选将在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化控制为0.1％以上且10％以下。在使用本发明的膜作为转印膜的情况下，在本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的膜面上设置功能层(转印本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的膜面的形状的被转印材料层)，但在设置功能层时的功能层涂覆干燥时施加热负荷。通过将施加热负荷时的膜的厚度方向的尺寸变化，即在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化控制在10％以下，从而在功能层涂覆干燥时膜对功能层的侵入变小，可以将转印剥离性进行进一步良好的控制。在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化更优选为8％以下，进一步优选为6％以下。另一方面，本发明人等进行了深入研究，结果明确了在使用本发明的膜作为转印膜的情况下，具有一定以上的施加热负荷时的膜的厚度方向的尺寸变化时剥离性优异。目前，该现象通过何种机制而发生还不清楚，但推定施加热负荷时的膜的厚度方向的尺寸变化为某种程度时，在膜对功能层的侵入大的地方和侵入小的地方以斑驳状存在，结果，在膜对功能层的侵入大的地方的附近，膜对功能层的侵入小的地方成为用于引起剥离的起点。因此，从剥离性的观点考虑，在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化优选为0.5％以上，更优选为1％以上。作为控制在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化的方法，例如，在将本发明的膜制成双轴拉伸聚酯膜的情况下，可举出调整膜拉伸工序中的拉伸条件。可举出使拉伸倍率(面倍率＝长度方向拉伸倍率×宽度方向拉伸倍率)为14倍以上、优选为16倍以上的高倍率化，进一步使拉伸后的热处理温度为230℃以上，优选为235℃以上且250℃以下作为优选的方法。

从转印性的观点考虑，本发明的膜优选使表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的表面自由能为44mN/m以下。通过使表面自由能为44mN/m以下，从而与转印材料的剥离性提高，因此转印、剥离变得容易，转印性提高。A层侧的表面自由能如果为42mN/m以下则更优选，如果为15mN/m以上且40mN/m以下则最优选。

作为使本发明的膜的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的表面自由能为上述范围的方法，没有特别限定，可举出使膜中含有有机硅化合物、蜡化合物、氟系化合物等脱模剂的方法、实施脱模涂布的方法等。另外，在本发明的膜为具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜的情况下，优选为在以高浓度含有粒子的层(A层)中添加上述脱模剂、对上述(A层)表面实施脱模涂布的方法。

在本发明中，在对以高浓度含有粒子的层(A层)表面实施脱模涂布的构成的情况下，由于在脱模涂层的表面出现通过以高浓度含有粒子的层(A层)中含有的粒子而形成的凹凸，因此脱模涂层的厚度优选为0.01μm以上且3μm以下，如果为0.02μm以上且2μm以下则更优选，如果为0.03μm以上且1.5μm以下则进一步优选。此外，从加热时的耐热性的观点考虑，优选使脱模层中含有三聚氰胺树脂和脱模剂。从耐热性、脱模稳定性的观点考虑，脱模层中的三聚氰胺树脂的含量优选为50质量％以上。

作为可以用于本发明的三聚氰胺树脂，可举出三聚氰胺甲醛树脂、甲基化三聚氰胺甲醛树脂、丁基化三聚氰胺甲醛树脂、醚化三聚氰胺甲醛树脂、环氧改性三聚氰胺甲醛树脂等三聚氰胺甲醛树脂、脲三聚氰胺树脂、丙烯酸系三聚氰胺树脂等。其中优选为三聚氰胺甲醛树脂，从具有适度的脱模性考虑，特别优选使用甲基化三聚氰胺甲醛树脂。此外，从制膜性、拉伸追随性的观点考虑，本发明中的脱模层优选除了脱模剂以外还含有粘合剂树脂。作为粘合剂树脂，优选使用聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、氨基甲酸酯系树脂，特别优选使用丙烯酸系树脂。作为丙烯酸系树脂，可举出(甲基)丙烯酸烷基酯的均聚物或共聚物、在侧链和/或主链末端具有固化性官能团的(甲基)丙烯酸酯共聚物，作为固化性官能团，可举出羟基、羧基、环氧基、氨基等。其中优选为由丙烯酸系单体与在侧链和/或主链末端具有固化性官能团的丙烯酸酯共聚而成的丙烯酸系单体共聚物。此外，作为本发明的脱模层所含有的脱模剂，可举出例如，氟化合物、长链烷基化合物和蜡化合物等。这些脱模剂可以单独使用，也可以使用多种。

作为可以用于本发明的氟化合物，是在化合物中含有氟原子的化合物。可举出例如，含有全氟烷基的化合物、含有氟原子的烯烃化合物的聚合物、氟苯等芳香族氟化合物等。在将本发明的脱模膜用于成型同时转印箔用途等的情况下，在转印时受到高的热负荷，因此如果考虑耐热性、污染性，则氟化合物优选为高分子化合物。

所谓长链烷基化合物，是具有碳原子数为6以上，特别优选为8以上的直链或支链的烷基的化合物。作为具体例，没有特别限定，可举出含有长链烷基的聚乙烯基树脂、含有长链烷基的丙烯酸系树脂、含有长链烷基的聚酯树脂、含有长链烷基的胺化合物、含有长链烷基的醚化合物、含有长链烷基的季铵盐等。如果长链烷基化合物为高分子化合物，则可以抑制在脱模膜剥离时来源于脱模层的成分向进行贴合的对方基材表面转移粘着，因此是优选的。

作为可以用于本发明的蜡化合物，是选自天然蜡、合成蜡、配合了它们的蜡中的蜡。所谓天然蜡，是植物系蜡、动物系蜡、矿物系蜡、石油蜡。作为植物系蜡，可举出小烛树蜡、巴西棕榈蜡、米糠蜡、木蜡、霍霍巴油。作为动物系蜡，可举出蜂蜡、羊毛脂、鲸蜡。作为矿物系蜡，可举出褐煤蜡、地蜡、纯地蜡。作为石油蜡，可举出石蜡、微晶蜡、矿脂。作为合成蜡，可举出合成烃、改性蜡、氢化蜡、脂肪酸、酸酰胺、胺、酰亚胺、酯、酮。作为合成烃，费托蜡(别名沙索蜡)、聚乙烯蜡是有名的，但除此以外也包含低分子量的高分子(具体而言为粘均分子量500～20000的高分子)的以下聚合物。即，有聚丙烯、乙烯/丙烯酸共聚物、聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇与聚丙二醇的嵌段或接枝结合体。作为改性蜡，可举出褐煤蜡衍生物、石蜡衍生物、微晶蜡衍生物。这里的所谓衍生物，是通过精制、氧化、酯化、皂化的任一处理、或它们的组合而获得的化合物。作为氢化蜡，可举出硬化蓖麻油、和硬化蓖麻油衍生物。

通过使这些脱模剂均匀地分散于脱模层的表面，可以使与在脱模层上进行叠层、剥离的被脱模层的密合力、剥离力为适当范围。作为脱模剂，如果使用长链烷基化合物，则可以宽范围地调整剥离力，从这方面看在本发明的用途上是优选的。

接下来关于本发明的膜的具体制造方法，对具有基材层和以高浓度含有粒子的层(A层)的叠层膜的例子进行记载，但本发明不限定于这样的例子而解释。

在本发明的膜的基材层、以高浓度含有粒子的层(A层)使用聚酯树脂的情况下，分别供给到分开的挤出机进行熔融挤出。此时，树脂温度优选控制为255℃～295℃。接着，通过过滤器、齿轮泵分别进行异物的除去、挤出量的匀整化，从T型模以片状共挤出到冷却鼓上，获得叠层片。此时，通过使用施加了高电压的电极通过静电使冷却鼓与树脂密合的静电施加法、在流延鼓与挤出的聚合物片间设置水膜的流延法、使将流延鼓温度设为聚酯树脂的玻璃化转变点～(玻璃化转变点-20℃)进行挤出的聚合物粘着的方法、或将这些方法多种组合了的方法，使片状聚合物密合于流延鼓，进行冷却固化。在这些流延法中，在使用聚酯的情况下，从生产性、平面性的观点考虑，优选使用进行静电施加的方法。

从耐热性、尺寸稳定性的观点考虑，本发明的叠层膜优选为双轴取向膜。双轴取向膜可以通过在将未拉伸膜沿长度方向拉伸后，沿宽度方向拉伸，或在沿宽度方向拉伸后，沿长度方向拉伸的逐次双轴拉伸方法，或者通过将膜的长度方向、宽度方向大致同时拉伸的同时双轴拉伸方法等进行拉伸来获得。

作为这样的拉伸方法中的拉伸倍率，沿长度方向优选为2.8倍以上且5倍以下，进一步优选为2.9倍以上且4.5倍以下。此外，拉伸速度优选为1,000％/分钟以上且200,000％/分钟以下。此外长度方向的拉伸温度优选为70℃以上且90℃以下。此外，作为宽度方向的拉伸倍率，优选为2.8倍以上且5倍以下，进一步优选为3倍以上且4.5倍以下。宽度方向的拉伸速度优选为1,000％/分钟以上且200,000％/分钟以下。另外，从控制在20cm×14cm范围内膜的320nm的平行光线透射率ST320的偏差的观点考虑，本发明的叠层膜优选为2阶段以上的阶段拉伸。另外，上述拉伸倍率表示连各方向在内的总的拉伸倍率。

进一步，在双轴拉伸后进行膜的热处理。热处理可以通过烘箱中、加热了的辊上等以往公知的任意方法来进行。该热处理在120℃以上且聚酯的结晶熔融峰温度以下的温度下进行，但为了使320nm的平行光线透射率ST320为30％以上，从减少以高浓度含有粒子的层(A层)的粒子周边的空隙的观点考虑，热处理温度优选为以高浓度含有粒子的层(A层)的熔点-20℃以上且熔点+10℃以下，更优选设定为熔点-10℃以上且熔点-5℃。热处理时间在不使特性恶化的范围内可以为任意的，优选进行5秒以上且60秒以下，更优选进行10秒以上且40秒以下，最优选进行15秒以上且30秒以下为好。进一步，为了确保稳定的脱模性，也可以使脱模层在线涂布于A层的表面。作为通过膜制造工序内的在线设置涂层的方法，优选为使用金属棒、凹版辊等将使涂层组合物分散于水的物质均匀地涂布在至少进行了单轴拉伸的膜上，一边实施拉伸一边使涂布剂干燥的方法。此时，作为脱模层的厚度，优选为0.02μm以上且0.1μm以下。此外，可以在脱模层中添加各种添加剂，例如，抗氧化剂、耐热稳定剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、颜料、染料、有机或无机粒子、抗静电剂、成核剂等。

此外，作为本发明的膜的一方案，可举出下述叠层膜，是在基材层的至少一个表面具有光泽度为30以下的低光泽层的叠层膜，低光泽层表面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且在20cm×14cm范围内膜的表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上。通过具有光泽度为30以下的低光泽层，从而在作为转印膜使用的情况下，可以转印低光泽外观。低光泽层的光泽度更优选为25以下，进一步优选为20以下。关于低光泽层的光泽度，如果含有以高浓度含有粒子的层(A)所使用的粒子，则可以通过调制低光泽层的表面粗糙度等来控制。在该构成中，低光泽层更优选为以高浓度含有粒子的层(A)。另外，本发明中的所谓光泽度，表示通过后述的测定方法求出的60°镜面光泽度。

本发明的膜由于至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且在20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差小，320nm的平行光线透射率高，因此在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，可以充分地进行低光泽外观的转印、形状固定。因此，在电路形成工序中可以作为哑光风格外观的转印性优异的转印用膜而适合使用。

实施例

(1)聚酯的组成

可以将聚酯树脂和膜溶解于六氟异丙醇(HFIP)，使用¹H-NMR和¹³C-NMR对各单体残基成分、副生二甘醇定量含量。在叠层膜的情况下，通过根据叠层厚度来削掉膜的各层，可以采取构成单独各层的成分，进行评价。另外，关于本发明的膜，由膜制造时的混合比率通过计算来算出组成。

(2)聚酯的特性粘度

聚酯树脂和膜的特性粘度是通过将聚酯溶解于邻氯苯酚，使用奥斯特瓦尔德粘度计在25℃下测定。在叠层膜的情况下，根据叠层厚度来削取膜的各层，可以评价单独各层的特性粘度。

(3)膜厚度

使用前端平坦且直径4mm的直读式厚度计((株)ミツトヨ制)，测定了叠层膜厚度。测定膜中心部、距膜中心部沿长度方向为4cm的位置(2点)、沿宽度方向为4cm位置(2点)的5点的厚度，将其平均值设为膜厚度。

(4)各层厚度

将叠层膜包埋于环氧树脂，将膜截面用切片机切出。用透射型电子显微镜(日立制作所制TEM H7100)以5000倍的倍率对该截面进行观察，求出各层的厚度。

(5)粒子的平均粒径

通过等离子体低温灰化处理法(ヤマト科学制PR-503型)将构成膜的树脂从叠层膜除去使粒子露出。用透射型电子显微镜(日立制作所制TEM H7100)对其进行观察，将粒子的图像(通过粒子形成的光的深浅)与图像分析器(ケンブリッジインストルメント制QTM900)关联，改变观察位置以粒子数5000个以上进行以下的数值处理，将由此求出的数均径D设为平均粒径。

D＝ΣDi/N

这里Di为粒子的等效圆直径，N为粒子的个数。

(6)粒子的含量

将聚合物1g投入到1N-KOH甲醇溶液200ml中进行加热回流，将聚合物溶解。在溶解结束了的该溶液中加入200ml的水，接着将该液体供于离心分离器使粒子沉降，除去上清液。在粒子中进一步加入水进行洗涤、离心分离，将该操作重复2次。使这样操作而获得的粒子干燥，测量其质量从而算出粒子的含量。

(7)表面粗糙度SRa、最大凸起高度SRp、最大凹陷深度SRv、中心面面积率SSr

将切出成长度4.0cm×宽度3.5cm尺寸的物质作为样品，使用触针法的高精细微细形状测定仪(3维表面粗糙度计)按照JIS B0601-1994，在下述条件下测定了聚酯膜的表面形态。

·测定装置：3维微细形状测定仪((株)小坂研究所制，ET-4000A型)

·解析设备：3维表面粗糙度解析系统(TDA-31型)

·触针：前端半径0.5μmR，直径2μm，金刚石制

·针压：100μN

·测定方向：将膜长度方向、膜宽度方向各测定1次后平均

·X测定长度：1.0mm

·X进给速度：0.1mm/s(测定速度)

·Y进给间距：5μm(测定间隔)

·Y线数：81条(测定条数)

·Z倍率：20倍(纵向倍率)

·低域截止：0.20mm

·高域截止：R+Wmm(粗糙度截止值)R+W意味着不截止。

·过滤方式：高斯空间型

·矫正：有(倾斜校正)

·基准面积：1mm²。

在上述条件下进行测定，然后使用解析系统算出中心面平均粗糙度SRa、最大凸起高度SRp、最大凹陷深度(SRv)、中心面面积率(SSr)。

(8)20cm×14cm范围内膜的表面粗糙度SRa的偏差

将膜在任意位置切出成长度(与长度方向平行)20cm×宽度(与宽度方向平行)14cm大小而作为样品，将该样品进一步沿长度方向5等分，沿宽度方向4等分，切出成长度4.0cm×宽度3.5cm大小(合计20样品)。关于该样品，与(7)同样地操作，由各自的表面粗糙度SRa算出，如下所述求出偏差。

表面粗糙度SRa的偏差(％)＝{(最大值-最小值)/平均值}×100

(9)光泽度

按照JIS-Z-8741(1997年)中规定的方法，使用スガ试验机制数字变角光泽度计UGV-5D，以N＝3测定60°镜面光泽度，将平均值设为本发明的光泽度。

(10)320nm的平行光线透射率ST320

使用分光光度计U-3410((株)日立制作所制)，在波长320nm的范围内测定了平行光线透射率。另外，从(7)中测定的表面粗糙度(SRa)小的面侧入射光进行了测定。测定与(8)同样地操作而制作各样品，将合计20点的测定点的平均作为320nm的平行光线透射率ST320而求出。

(11)20cm×14cm范围内膜的320nm的平行光线透射率ST320的偏差

与(8)同样地操作而制作各样品，关于合计20点的测定点，与(10)同样地操作而算出320nm的平行光线透射率ST320，如下所述求出偏差。

ST320偏差(％)＝{(最大值-最小值)/平均值}×100

(12)在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化

将膜在任意位置切出成长度10cm×宽度10cm大小而作为样品，与(3)同样地操作而测定膜中心部、距膜中心部沿长度方向为4cm的位置(2点)、沿宽度方向为4cm位置(2点)的5点的厚度，将其平均值设为热处理前的膜厚度。然后，将该样品在设定为100℃的热风炉中保持10分钟，进行热处理，关于热处理后的样品也同样地测定5点的厚度，将其平均值设为热处理后的膜厚度。由求出的热处理前、热处理后的厚度，如下所述算出厚度变化。

厚度变化(％)＝{|热处理后的厚度-热处理前的厚度|/热处理前的厚度}×100

(13)表面自由能

作为测定液，使用水、乙二醇、甲酰胺和二碘甲烷4种，使用接触角计(协和界面科学(株)制CA-D型)求出各液体对膜表面的静态接触角。对各个液体测定5次，将其平均接触角(θ)和测定液(j)的表面张力的各成分分别代入下式，对由4个式构成的联立方程式求解出γ^L、γ⁺、γ^-。

(γ^Lγj^L)^1/2+2(γ⁺γj^-)^1/2+2(γj⁺γ^-)^1/2

＝(1+cosθ)[γj^L+2(γj⁺γj^-)^1/2]/2

其中，γ＝γ^L+2(γ⁺γ^-)^1/2

γj＝γj^L+2(γj⁺γj^-)^1/2

这里，γ、γ^L、γ⁺、γ^-分别表示膜表面的表面自由能、长程力项、路易斯酸参数、路易斯碱参数，此外，γj、γj^L、γj⁺、γj^-分别表示所使用的测定液的表面自由能、长程力项、路易斯酸参数、路易斯碱参数。此外，这里所使用的各液体的表面张力使用了由Oss(“fundamentals of Adhesion”,L.H.Lee(Ed.),p153,Plenumess,New York(1991).)提出的值。

(14)剥离性[I]

将膜切出成长度20cm×宽度14cm而使用。将下述脱模层形成用溶液利用凹版涂布法涂布于膜的SRa为100nm以上且3000nm以下的面(在两面SRa都为100nm以上且3000nm以下的情况下，表面粗糙度(SRa)小的面)，利用烘箱在180℃下干燥20秒。进一步，使用槽模涂布机将硬涂层形成用涂料组合物以干燥后的厚度成为5μm的方式控制流量进行涂布，在100℃下干燥1分钟将溶剂除去，获得了叠层了硬涂层的叠层体。

将所得的膜/脱模层/硬涂层叠层体，使用上模具温度、下模具温度都加热到温度160℃的加压机，将厚度0.2mm的铝板/厚度0.125mm的聚酰亚胺膜(東レデュポン制カプトン500H/V)/叠层体/厚度0.125mm的聚酰亚胺膜(東レデュポン制カプトン500H/V)/厚度0.2mm的铝板的构成体在1.5MPa的条件下进行了1小时加热加压。在加热加压后，取出叠层体/聚酰亚胺膜，使用高压水银灯从叠层体侧照射300mJ/cm²的紫外线，使硬涂层固化而获得样品。将该样品在膜与脱模层的界面(膜/(其界面)/脱模层/硬涂层)实施剥离测试，通过以下基准进行了剥离性的评价。

(脱模层形成用溶液)

以甲基化三聚氰胺：对甲苯磺酸胺：丙烯酸系单体共聚物＝20：0.4：1的质量比调制，用甲苯稀释。

(硬涂层形成用涂料组合物)

将下述材料混合，使用甲基乙基酮稀释而获得了固体成分浓度40质量％的硬涂层形成用涂料组合物。

甲苯 30质量份

多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯 25质量份

(ダイセルオルネクス株式会社制KRM8655)

季戊四醇三丙烯酸酯混合物 25质量份

(日本化药株式会社制PET30)

多官能有机硅丙烯酸酯 1质量份

(ダイセルオルネクス株式会社制EBECRYL1360)

光聚合引发剂 3质量份

(チバスペシャリティーケミカルズ社制イルガキュア184)

(评价基准)

A：能够无阻力地剥离

B：在剥离时感到阻力，但能够剥离

C：不能剥离。

(15)剥离性[II]

将膜切出成长度20cm×宽度14cm而使用。将为光固化型树脂的感光性聚酰亚胺层形成用涂料组合物利用凹版涂布法涂布于膜的SRa为100nm以上且3000nm以下的表面(在两面SRa都为100nm以上且3000nm以下的情况下，表面粗糙度(SRa)小的面)，利用烘箱在90℃下干燥60秒，获得了膜/感光性聚酰亚胺层的叠层体。将所得的叠层体在70℃/0.2MPa下对聚酰亚胺膜(東レデュポン制“カプトン”(注册商标)500H/V)进行层压，使用高压水银灯从叠层体侧照射800mJ/cm²的紫外线。此时，样品的一半(长度20cm×宽度7cm)的部分进行了光掩蔽(进行了光掩蔽的部分未被UV曝光)。对有UV曝光的部分、无UV曝光的部分，分别测定膜与感光性聚酰亚胺层之间的剥离强度，通过下述基准进行了评价。另外，剥离强度是，使膜/感光性聚酰亚胺层叠层体为长度15cm×宽度5cm的长条状，在膜与感光性聚酰亚胺层之间强制地剥离，对于180°剥离试验，使用拉伸试验机(オリエンテック制テンシロンUCT-100)，在25℃、50％RH气氛下以剥离速度300mm/分钟进行了测定。另外，将测定长度50％～100％之间的强度的平均值设为剥离强度。

A：有UV曝光的部分与无UV曝光的部分的剥离强度之差小于0.5N/50mm

B：有UV曝光的部分与无UV曝光的部分的剥离强度之差为0.5N/50mm以上且小于1N/50mm

C：有UV曝光的部分与无UV曝光的部分的剥离强度之差为1N/50mm以上

D：在有UV曝光的部分、无UV曝光的部分的至少任一部分不能剥离。

(16)剥离性[III]

与(15)同样地操作，获得了膜/感光性聚酰亚胺层的叠层体。将所得的叠层体在70℃/0.2MPa下对聚酰亚胺膜(東レデュポン制“カプトン”(注册商标)500H/V)进行了层压。然后，在100℃下进行了10分钟的热处理后，使用高压水银灯从叠层体侧照射800mJ/cm²的紫外线。此时，样品的一半(长度20cm×宽度7cm)的部分进行了光掩蔽(进行了光掩蔽的部分未被UV曝光)。关于所得的层压叠层体的紫外线照射样品，对有UV曝光的部分和无UV曝光的部分，分别测定膜与感光性聚酰亚胺层之间的剥离强度，通过下述基准进行了评价。

D：在有UV曝光的部分、无UV曝光的部分的至少任一部分不能剥离

(17)哑光风格外观的转印性、均匀美观

关于利用(14)的方法获得的脱模层的剥离面侧，切出成长度20cm×宽度14cm大小而作为样品，将该样品进一步沿长度方向5等分，沿宽度方向4等分，切出成长度4.0cm×宽度3.5cm大小(合计20样品)。关于该样品，分别与(9)同样地操作而测定光泽度，关于其平均值，利用以下基准评价。

(哑光风格外观的转印性)

A：光泽度10以下

B：光泽度超过10且为20以下

C：光泽度超过20且为30以下

D：光泽度超过30。

(哑光风格外观均匀美观)

由20点的光泽度的最大值与最小值之差通过下述基准评价。

A：光泽度的最大值与最小值之差为2以下

B：光泽度的最大值与最小值之差超过2且为4以下

C：光泽度的最大值与最小值之差超过4。

(18)雾度

将膜切出成1边10cm的正方形状，使用日本电色(株)制雾度计NDH-5000，进行了雾度测定。测定在3处实施，将其平均值设为本发明中的雾度。

另外，在上述各测定中，在进行测定的膜的长度方向、宽度方向不清楚的情况下，将在膜中具有最大折射率的方向视为宽度方向，将与上述宽度方向正交的方向视为长度方向。

(聚酯的制造)

供于制膜的聚酯树脂如下准备。

(聚酯A)

作为二羧酸成分的对苯二甲酸成分为100摩尔％、作为二醇成分的乙二醇成分为100摩尔％的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(特性粘度0.65)。

(聚酯B)

相对于二羧酸成分共聚了20摩尔％的间苯二甲酸的共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(特性粘度0.8)。

(聚酯C)

作为二羧酸成分的对苯二甲酸成分为100摩尔％、作为二醇成分的1,4-丁二醇成分为100摩尔％的聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂(特性粘度1.2)。

(聚酯D)

東レ－デュポン社制“ハイトレル(注册商标)”7247。

(母粒E)

在聚酯A中以粒子浓度30质量％含有平均粒径3μm的胶体二氧化硅粒子的聚对苯二甲酸乙二醇酯母粒(特性粘度0.65)。

(母粒F)

在聚酯A中以粒子浓度30质量％含有平均粒径5μm的胶体二氧化硅粒子的聚对苯二甲酸乙二醇酯母粒(特性粘度0.65)。

(母粒G)

在聚酯A中以粒子浓度30质量％含有平均粒径3μm的水合硅酸铝粒子的聚对苯二甲酸乙二醇酯母粒(特性粘度0.65)。

(母粒H)

在聚酯A中以粒子浓度30质量％含有平均粒径5μm的水合硅酸铝粒子的聚对苯二甲酸乙二醇酯母粒(特性粘度0.65)。

(母粒I)

在聚酯A中以粒子浓度30质量％含有平均粒径2.2μm的胶体二氧化硅粒子的聚对苯二甲酸乙二醇酯母粒(特性粘度0.65)

(母粒J)

在聚酯A中以粒子浓度30质量％含有平均粒径2.4μm的水合硅酸铝粒子的聚对苯二甲酸乙二醇酯母粒(特性粘度0.65)

(脱模涂布溶液(水分散体))

将以下所示的、交联剂：粘合剂树脂：脱模剂：粒子分别以质量比60：23：17混合，以固体成分成为1％的质量比的方式用纯水稀释而调整。

·交联剂：甲基化三聚氰胺/脲共聚的交联制树脂((株)三和ケミカル制“ニカラック”(注册商标)“MW12LF”)

·粘合剂树脂I：丙烯酸系单体共聚物(日本カーバイド制)

·脱模剂：在玻璃制反应容器中，加入作为含有全氟烷基的丙烯酸酯的CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂OCOCH＝CH₂(n＝5～11，n的平均＝9)80.0g、乙酰乙酰氧基乙基甲基丙烯酸酯20.0g、十二烷基硫醇0.8g、脱氧了的纯水354.7g、丙酮40.0g、C₁₆H₃₃N(CH₃)₃Cl1.0g和C₈H₁₇C₆H₄O(CH₂CH₂O)_nH(n＝8)3.0g，加入偶氮二异丁基脒二盐酸盐0.5g，在氮气气氛下搅拌同时在60℃下共聚反应10小时而获得的共聚物乳液。

·粒子：将数均粒径170nm的二氧化硅粒子(日产化学工业(株)制“スノーテックス”(注册商标)MP2040)以固体成分浓度成为40重量％的方式用纯水稀释而获得的水分散体。

(实施例1)

以组成、叠层比成为如表所示的方式，将原料分别供给到挤出机，将挤出机料筒温度设定为270℃，将短管温度设定为275℃，将口模温度设定为280℃，在树脂温度280℃下，从T型模片状地排出到温度控制为25℃的冷却鼓上。此时，使用直径0.1mm的线状电极进行静电施加，与冷却鼓密合而获得了未拉伸片。接着，沿长度方向在拉伸温度85℃下作为第1段以1.5倍、拉伸速度50,000％/分钟拉伸，在拉伸温度88℃下作为第2段以2.2倍、拉伸速度80,000％/分钟拉伸(总拉伸倍率3.3倍)。然后，实施电晕放电处理，在A层侧的表面使用金属棒以湿厚度成为13.5μm的方式涂布脱模涂布溶液(水分散体)，接着利用拉幅机式横拉伸机，沿宽度方向在拉伸温度100℃下作为第1段以1.8倍、拉伸速度30,000％/分钟拉伸，在拉伸温度120℃下以第2段拉伸2倍、拉伸速度40,000％/分钟拉伸(总拉伸倍率3.6倍)。然后，在拉幅机内，在235℃下进行热处理，获得了膜厚度16μm(脱模涂层：0.04μm，A层：3.5μm，基材层：12.5μm)的膜。

(实施例2)

将组成、叠层比如表所示变更，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了膜厚度25μm的膜。

(实施例3)

将组成、叠层比如表所示变更，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了膜厚度16μm的膜。

(实施例4)

(实施例5)

将组成、叠层比如表所示变更，在长度方向拉伸后不涂布脱模涂布溶液，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了膜厚度16μm的膜。

(实施例6)

作为长度方向的拉伸条件，在85℃下进行了3.3倍拉伸，作为宽度方向的拉伸条件，在100℃进行了3.6倍拉伸，除此以外，与实施例2同样地操作，获得了膜厚度16μm的膜。

(实施例7)

(实施例8)

将组成、构成、叠层比如表所示变更，在长度方向拉伸后不涂布脱模涂布溶液，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了膜厚度19.5μm的膜。

(实施例9)

将组成、叠层比如表所示变更，沿长度方向在拉伸温度85℃下作为第1段进行1.6倍拉伸，在拉伸温度88℃下作为第2段进行2.4倍拉伸(总拉伸倍率3.8倍)，沿宽度方向在拉伸温度100℃下作为第1段进行1.9倍拉伸，在拉伸温度120℃下进行第2段拉伸2.2倍拉伸(总拉伸倍率4.2倍)，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了膜厚度14.5μm(脱模涂层：0.03μm，A层：2μm，基材层：12.5μm)的膜。

(实施例10)

将组成、叠层比如表所示变更，除此以外，与实施例9同样地操作，获得了膜厚度14.5μm的膜。

(实施例11)

(实施例12)

(实施例13)

(实施例14)

(实施例15)

(实施例16)

将组成、叠层比如表所示变更，除此以外，与实施例4同样地操作，获得了膜厚度9μm的膜。

(实施例17)

沿长度方向在拉伸温度85℃下作为第1段进行1.7倍拉伸，在拉伸温度88℃下作为第2段进行2.4倍拉伸(总拉伸倍率4.1倍)，沿宽度方向在拉伸温度100℃下作为第1段进行1.9倍拉伸，在拉伸温度120℃下进行第2段拉伸2.2倍拉伸(总拉伸倍率4.2倍)，然后，在拉幅机内，在252℃下进行热处理，除此以外，与实施例11同样地操作，获得了膜厚度14.5μm(脱模涂层：0.03μm，A层：2μm，基材层：12.5μm)的膜。

(实施例18)

沿长度方向在拉伸温度85℃下作为第1段进行1.2倍拉伸，在拉伸温度86℃下作为第2段进行1.2倍拉伸，在拉伸温度87℃下作为第3段进行1.6倍，在拉伸温度88℃下作为第4段进行1.7倍(总拉伸倍率3.9倍)，沿宽度方向在拉伸温度100℃下作为第1段进行1.2倍拉伸，在拉伸温度110℃下进行第2段拉伸1.2倍拉伸，在拉伸温度115℃下进行第3段拉伸1.6倍拉伸，在120℃下进行第4段拉伸1.8倍拉伸(总拉伸倍率4.1倍)，除此以外，与实施例11同样地操作，获得了膜厚度14.5μm(脱模涂层：0.03μm，A层：2μm，基材层：12.5μm)的膜。

(比较例1)

将组成、叠层比如表所示变更，除此以外，与实施例8同样地操作，获得了膜厚度22.5μm的膜。

(比较例2)

将组成、叠层比如表所示变更，除此以外，与实施例4同样地操作，获得了膜厚度25μm的膜。

(比较例3)

将组成、叠层比如表所示变更，除此以外，与实施例2同样地操作，获得了膜厚度20.5μm的膜。

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

【表4】

[表5]

【表5】

另外，表中，将表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的膜面记载为A面，将表面粗糙度SRa不为100nm以上且3000nm以下的膜面记载为B面。在两面的表面粗糙度SRa都为100nm以上且3000nm以下的膜的情况下，将表面粗糙度大的面记载为A1面，将表面粗糙度SRa的粗糙度低的面记载为A2面。

产业可利用性

本发明的膜由于至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差小，320nm的平行光线透射率高，因此在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，可以充分地进行低光泽外观的转印、形状固定。因此，可以适合用作在电路形成工序中哑光风格外观的转印性优异的转印用膜。

Claims

1.一种叠层膜，是在基材层的至少一个表面具有光泽度为30以下的低光泽层即A层的叠层膜，A层表面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的所述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上，在20cm×14cm范围内的所述ST320的偏差为0.1％以上且10％以下。

2.根据权利要求1所述的叠层膜，表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的最大凸起高度SRp、与最大凹陷深度SRv满足下述式(II)，

1≤SRp/SRv≤3···(II)。

3.根据权利要求1或2所述的叠层膜，表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的中心面面积率SSr满足下述式(III)，

30≤SSr≤60···(III)。

4.根据权利要求1或2所述的叠层膜，在100℃下热处理10分钟前后的厚度变化为0.1％以上且10％以下。

5.根据权利要求1或2所述的叠层膜，在将A层整体设为100质量％时，所述A层中含有1质量％以上且40质量％以下的平均粒径为1μm以上且10μm以下的粒子。

6.根据权利要求1或2所述的叠层膜，所述ST320为60％以上。

7.根据权利要求1或2所述的叠层膜，膜雾度为70％以下。

8.根据权利要求1或2所述的叠层膜，表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的表面自由能为44mN/m以下。

9.根据权利要求1或2所述的叠层膜，其以聚酯为主成分。

10.根据权利要求1或2所述的叠层膜，其用于转印用途。