KR20180103771A

KR20180103771A - 압분자심

Info

Publication number: KR20180103771A
Application number: KR1020180028213A
Authority: KR
Inventors: 료마 나카자와; 타케시 타카하시
Original assignee: 티디케이가부시기가이샤
Priority date: 2017-03-09
Filing date: 2018-03-09
Publication date: 2018-09-19
Also published as: JP2018152557A; JP7283031B2; KR102048566B1

Abstract

금속 자성 재료 및 수지를 포함하는 압분자심이다. 압분자심의 표면에 미립자가 존재한다.

Description

압분자심{Dust Core}

본 발명은 압분자심에 관한 것이다.

최근, 인덕터, 초크 코일, 트랜스 등과 같은 코일 부품이나 모터 등의 소형화가 요구되고 있는 것으로부터, 페라이트와 비교해 포화 자속 밀도가 높고, 직류 중첩 특성이 고자계까지 유지되는 금속 자성 재료가 널리 이용되고 있다. 또한, 이들 압분자심은 여러 가지 환경하에서의 사용도 기대되기 때문에, 신뢰성의 향상이 요구되고 있다.

그리고, 신뢰성 중에서도 특히 내식성의 향상이 요구되고 있다. 현재 사용되고 있는 압분자심은 대부분 Fe계 합금 입자로 구성되기 때문에, 특히 내식성의 향상이 요구된다.

특허 문헌 1에는, 금속 자성 재료로서 Cr을 함유시킴으로써 내식성을 향상시킨 예가 기재되어 있다. 그러나, Cr을 필수로 하는 경우에는 재료 선택의 폭이 좁아진다.

특허 문헌 2에는, 금속 자성 재료를 무기물 코팅(인산염)으로 피복한 예가 기재되어 있다. 그러나, 인산염은 인성(toughness)이 낮아 성형 압력을 증가시키는 경우에 코팅막이 파손되는 경우가 있다.

특허 문헌 3에는, 자성 제품을 세라믹스 및 수지로 코팅함으로써 내식성을 향상시킨 예가 기재되어 있다. 그러나, 특허 문헌 3에 기재된 방법에서는 압분자심을 800℃ 이상의 고온으로 열처리할 필요가 있다. 압분자심 중에 절연 처리한 동의 권선 등을 포함하는 경우에는, 권선의 절연성이 파괴되는 경우가 있다.

특허 문헌 1: 일본 특허공개 2010-062424호 공보 특허 문헌 2: 일본 특허공개 2009-120915호 공보 특허 문헌 3: 일본 특허 제5190331호 공보

본 발명은 이와 같은 실상을 감안하여 이루어진 것으로, 내식성이 뛰어난 압분자심을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 압분자심은, 금속 자성 재료 및 수지를 포함하는 압분자심으로서, 상기 압분자심의 표면에 미립자가 존재하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 압분자심은, 상기 구성을 가짐으로써 내식성이 뛰어난 압분자심이 된다.

상기 압분자심 표면에서의 상기 미립자의 평균 입경은 1.0∼200㎚인 것이 바람직하다.

상기 압분자심 표면에서의 상기 미립자 입경의 표준 편차(σ)는 30㎚ 이하인 것이 바람직하다.

상기 미립자가 Si-O계의 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.

상기 금속 자성 재료에 상기 미립자가 부착되어 있는 것이 바람직하다.

상기 금속 자성 재료가 Fe를 주성분으로 함유하는 것이 바람직하다.

상기 금속 자성 재료가 Fe 및 Si를 주성분으로 함유하는 것이 바람직하다.

상기 금속 자성 재료의 표면에 Si-O계의 산화물로 이루어지는 산화막이 존재하는 것이 바람직하다.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 압분자심의 단면의 모식도이다.
도 2는 표 1의 실시예에서의 미립자의 평균 입경과 녹면적 비율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 3은 표 2의 실시예에서의 미립자 입경의 표준 편차(σ)와 녹면적 비율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 4는 압분자심의 표면을 원자간력 현미경으로 관찰한 사진이다.

이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 근거해 설명한다.

본 실시 형태에 따른 압분자심은 금속 자성 재료 및 수지로 이루어지고, 당해 압분자심의 표면에 미립자가 존재하는 것을 특징으로 한다. 당해 압분자심의 표면에 미립자가 존재함으로써 당해 압분자심의 내식성이 향상된다.

본 실시 형태에 따른 압분자심(1)은, 도 1에 나타낸 바와 같이, 금속 자성 재료(11) 및 수지(12)를 포함한다. 또한, 금속 자성 재료(11)의 표면에 미립자(13)가 부착되어 있다. 한편, 본 실시 형태에서는, 금속 자성 재료(11)의 표면에 후술하는 산화막(미도시)이 존재하는 경우에는, 당해 산화막에 미립자(13)가 부착되어 있는 경우도 금속 자성 재료(11)의 표면에 미립자(13)가 부착되어 있는 경우에 포함되는 것으로 한다.

금속 자성 재료(11)의 성분에는 특별히 제한이 없지만, 금속 자성 재료(11)가 Fe를 주성분으로 함유하는 것이 포화 자화가 높아지기 때문에 바람직하다. 또한, 금속 자성 재료(11)가 Fe 및 Si를 주성분으로 함유하는 것이 투자율이 높아지기 때문에 바람직하다. 한편, 본 실시 형태에서의 '주성분으로 함유한다'란, 금속 자성 재료 전체를 100 중량%로 하는 경우에, 함유량이 합계 80 중량% 이상인 것을 가리킨다. 즉, Fe를 주성분으로 함유하는 경우에는, Fe의 함유량이 80 중량% 이상이다. 또한, Fe 및 Si를 주성분으로 함유하는 경우에는, Fe 및 Si의 함유량이 합계 80 중량% 이상이다. 또한, Fe와 Si의 비율에는 특별히 제한이 없지만, 중량비로 Si/Fe=0/100∼10/90인 것이 포화 자화가 높아지기 때문에 바람직하다. 한편, 본 실시 형태의 금속 자성 재료에서의 주성분 이외의 성분의 종류에는 특별히 제한이 없다. 주성분 이외의 성분의 종류로는, 예를 들면 Ni, Co 등을 들 수 있다.

수지(12)의 종류에는 특별히 제한이 없지만, 에폭시 수지 및/또는 이미드 수지를 이용해도 된다. 에폭시 수지로는, 예를 들면 크레졸 노볼락(cresol novolac) 등을 들 수 있다. 이미드 수지로는, 예를 들면 비스말레이미드(bismaleimide) 등을 들 수 있다.

금속 자성 재료(11) 및 수지(12)의 함유량에는 특별히 제한이 없다. 압분자심(1) 전체에 차지하는 금속 자성 재료(11)의 함유량은 90 중량%∼98 중량%인 것이 바람직하고, 수지(12)의 함유량은 2 중량%∼10 중량%인 것이 바람직하다.

본 실시 형태에 따른 압분자심(1)은 윤활제를 더 함유해도 된다. 윤활제의 종류는 임의이지만, 예를 들면 스테아린산아연을 들 수 있다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시 형태에 따른 압분자심(1)은, 금속 자성 재료(11)에 미립자(13)가 부착되어 있는 것에 특징이 있다. 또한, 미립자(13)의 재질에는 특별히 제한이 없지만, 예를 들면 Si-O계 산화물을 들 수 있다. Si-O계 산화물의 종류에는 특별히 제한이 없다. 예를 들면, SiO₂ 등의 Si 산화물 외에, Si 및 기타 원소를 함유하는 복합 산화물 등이어도 된다.

본 실시 형태에 따른 압분자심(1)은, 금속 자성 재료(11)에 미립자(13)가 부착되어 있는 것에 의해 내식성이 향상된다. 미립자(13)의 부착에 의해 압분자심(1)의 표면에 미립자(13)가 존재하고, 압분자심(1)의 내식성이 향상되는 메커니즘은 다음과 같은 메커니즘이라고 본 발명자들은 생각하고 있다.

금속 자성 재료(11)에 미립자(13)가 부착됨으로써, 최종적으로 얻어지는 압분자심(1)의 표면 또는 표면 근방에 미립자(13)가 존재한다. 그리고, 미립자(13)의 존재에 의해 압분자심(1)의 표면에 나노 스케일의 요철이 생긴다. 압분자심(1)의 표면에 나노 스케일의 요철이 생기는 것은, 원자간력 현미경(AFM)에 의해 확인할 수 있다. 그리고, 당해 요철이 생김으로써 압분자심(1)의 발수성이 높아진다. 그리고, 압분자심(1)의 발수성이 높아짐으로써 압분자심(1)의 내식성이 높아진다.

압분자심(1) 표면에서의 미립자(13)의 평균 입경에는 특별히 제한이 없고, 예를 들면 0.5∼247.3㎚로 해도 된다. 압분자심(1) 표면에서의 미립자(13)의 평균 입경은 1.0∼200㎚인 것이 바람직하다. 미립자(13)의 평균 입경이 1.0∼200㎚인 것에 의해, 압분자심(1)의 발수성이 높아져 내식성이 향상된다. 한편, 미립자(13)의 평균 입경은 1.1∼199.4㎚로 해도 된다.

한편, 압분자심(1) 표면에서의 미립자(13)의 평균 입경은 원자간력 현미경(AFM)에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 우선, 압분자심(1)의 표면을 원자간력 현미경으로 촬영한다. 압분자심(1)의 표면을 원자간력 현미경으로 촬영한 화상의 일례를 도 4에 나타낸다. 다음으로, 압분자심(1) 표면에서의 금속 자성 재료(11)를 최저 5 입자 이상, 바람직하게는 10 입자 이상을 랜덤으로 선택한다. 그리고, 선택한 입자를 중심으로 주위 5㎛×5㎛를 원자간력 현미경에 의해 관찰한다. 얻어진 형상상의 관찰 범위내에 존재하는 미립자(13)의 입경을 모두 측정한다. 구체적으로는, 미립자(13)의 면적을 화상 해석에 의해 구한 다음, 그 면적을 갖는 원의 직경(원상당 직경)을 미립자(13)의 입경으로 한다. 그리고, (미립자(13) 입경의 합계치)/(미립자(13)의 개수)에 의해 산출한 산술 평균치를 평균 입경이라고 정의한다.

또한, 압분자심(1) 표면에서의 미립자(13) 입경의 표준 편차(σ)는 30㎚ 이하인 것이 바람직하다. 압분자심(1) 표면에서의 미립자(13) 입경의 표준 편차(σ)가 30㎚ 이하인 것에 의해, 내식성을 더욱 향상시킬 수 있다.

미립자(13)의 함유량에 특별히 제한은 없다. 압분자심(1)의 표면에 차지하는 미립자(13)의 면적 비율이 1∼100%라도 무방하다.

한편, 압분자심(1) 표면에서의 금속 자성 재료(11)의 평균 입경(D50)은 3∼100㎛인 것이 바람직하다. 금속 자성 재료(11)의 입경은 원자간력 현미경(AFM)에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 우선, 압분자심(1)의 표면을 원자간력 현미경으로 촬영한다. 압분자심(1)의 표면을 원자간력 현미경으로 촬영한 화상의 일례를 도 4에 나타낸다. 다음으로, 압분자심(1) 표면에서의 금속 자성 재료(11)를 최저 5 입자 이상, 바람직하게는 10 입자 이상을 랜덤으로 선택한다. 그리고, 선택한 금속 자성 재료의 입경을 측정한다. 구체적으로는, 금속 자성 재료(11)의 면적을 화상 해석에 의해 구한 다음, 그 면적을 갖는 원의 직경(원상당 직경)을 금속 자성 재료(11)의 입경으로 한다. 그리고, 측정한 각 금속 자성 재료(11)의 입경으로부터 평균 입경(D50)을 산출할 수 있다.

이하, 본 실시 형태에 따른 압분자심(1)의 제조 방법을 설명하는데, 압분자심(1)의 제조 방법이 하기 방법으로 한정되는 것은 아니다.

우선, 금속 자성 재료(11)가 되는 금속 입자를 제작한다. 금속 입자의 제작 방법에는 특별히 제한이 없지만, 예를 들면 가스 아토마이즈법(gas atomization), 물 아토마이즈법(water atomization) 등을 들 수 있다. 금속 입자의 입자경 및 원형도에는 특별히 제한이 없지만, 입자경의 중앙치(D50)는 1㎛∼100㎛인 것이 투자율이 높아지기 때문에 바람직하다.

다음으로, 금속 자성 재료(11)에 Si-O계의 산화물로 이루어지는 산화막을 형성하기 위한 코팅을 실시했다. 코팅 방법에는 특별히 제한이 없지만, 예를 들면 알콕시실란 용액을 금속 자성 재료(11)에 도포하는 방법을 들 수 있다. 알콕시실란 용액을 금속 자성 재료(11)에 도포하는 방법에는 특별히 제한이 없고, 예를 들면 습식 분무에 의한 방법을 들 수 있다. 알콕시실란의 종류에 특별히 제한은 없고, 트리메톡시실란 등이 이용된다. 또한, 알콕시실란 용액의 농도 및 용매에도 특별히 제한은 없다. 알콕시실란 용액의 농도는 50 중량%∼95 중량%인 것이 바람직하다. 또한, 알콕시실란 용액의 용매에도 특별히 제한은 없다. 예를 들면 물, 에탄올 등을 들 수 있다.

습식 분무 후의 분체에 대해 제1 소성을 실시함으로써, Si-O계의 산화물로 이루어지는 산화막을 형성했다. 이때 수소 분압 1∼3%의 질소 분위기하에서 제1 소성을 실시함으로써 가열중의 분위기가 환원성이 된다. 환원성 분위기에서 가열 처리를 실시함으로써, 산화막은 Si 결정성이 낮은 아몰퍼스층이 된다. 또한, 가열 조건은 400℃∼600℃에서 1∼10시간으로 해도 된다. 수소 분압이 높아질수록, 최종적으로 얻어지는 미립자(13)의 평균 입경이 커지는 경향이 있다. 가열 시간(소성 시간)이 길어질수록 미립자(13) 입경의 표준 편차(σ)가 작아지는 경향이 있다.

다음으로, Si-O계 산화물로 이루어지는 미립자(13)를 금속 자성 재료(11)에 부착시키기 위해 제2 소성을 실시한다. 산소 분압 0.1∼1%의 질소 분위기하에서 800℃∼1200℃, 10∼30시간, 제2 소성을 실시한다. 당해 소성에 의해 전술한 Si 결정성이 낮은 아몰퍼스층의 구상화가 진행된다. 그 결과, 금속 자성 재료(11)의 표면에 산화막이 생성되고, 산화막에 미립자(13)가 더 생성되어 부착된다. 여기까지에서 얻어진 분체를 '미립자 부착 금속 재료'라고 한다. 소성 시간이 길어질수록 미립자(13)의 평균 입경이 커지는 경향이 있다. 산소 분압이 낮아질수록 미립자(13) 입경의 표준 편차(σ)가 작아지는 경향이 있다.

다음으로, 수지 용액을 조성한다. 수지 용액에는 전술한 에폭시 수지 및/또는 이미드 수지 외에, 경화제를 첨가해도 된다. 경화제의 종류에 특별히 제한은 없고, 예를 들면 에피클로로히드린(epichlorohydrin) 등을 들 수 있다. 또한, 수지 용액의 용매에 대해서도 특별히 제한은 없지만, 휘발성 용매인 것이 바람직하다. 예를 들면, 아세톤, 에탄올 등을 이용할 수 있다. 또한, 수지 용액 전체를 100 중량%로 한 경우에서의 수지 및 경화제의 합계 농도는 0.01∼0.1 중량%로 하는 것이 바람직하다.

다음으로, 미립자 부착 금속 재료 및 수지 용액을 혼합한다. 그리고, 수지 용액의 용매를 휘발시켜 과립을 얻는다. 얻어진 과립은 그대로 금형에 충전해도 되지만, 정립(整粒)하고 나서 금형에 충전해도 된다. 정립하는 경우, 정립 방법에는 특별히 제한이 없고, 예를 들면 그물눈 45∼500㎛의 메시를 이용해도 된다.

다음으로, 얻어진 과립을 소정 형상의 금형에 충전하고 가압해 압분체를 얻었다. 가압시의 압력에는 특별히 제한이 없고, 예를 들면 600∼1500㎫로 할 수 있다. 또한, 가압시에 미립자(13)는 윤활재의 역할도 한다. 이에 따라, 금속 자성 재료(11) 상의 산화막이 금형의 슬라이딩면에서도 박리되기 어려워진다. 그 결과, 압분자심 표면에 미립자가 잔존하게 되어, 발수성이 향상되어 내식성이 향상된다.

제작한 압분체에 대해 열경화 처리를 실시함으로써 압분자심이 얻어진다. 열경화 처리의 조건에 특별히 제한은 없고, 예를 들면 150∼220℃에서 1∼10시간 열처리를 실시한다. 또한, 열처리시의 분위기에도 특별히 제한은 없고, 대기중에서 열처리해도 된다.

이상, 본 실시 형태에 따른 압분자심 및 그 제조 방법에 대해 설명했지만, 본 발명의 압분자심 및 그 제조 방법이 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 성형 공정까지는 통상의 방법으로 압분자심을 제조하고, 성형 종료후의 압분자심 표면에 화학적인 처리를 실시하는 것에 의해 미립자를 부착시켜도 된다.

또한, 본 발명의 압분자심의 용도에도 특별히 제한은 없다. 예를 들면, 인덕터, 초크 코일, 트랜스 등의 코일 부품을 들 수 있다.

《실시예》

이하, 본 발명을 더 상세한 실시예에 기초해 설명하는데, 본 발명이 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.

실험예 1

금속 자성 재료로서, 중량비로 Si/Fe=4.5/95.5이고, Fe와 Si의 합계량이 99 중량%인 Fe-Si계 합금 입자를 가스 아토마이즈법으로 제작했다. 한편, 당해 Fe-Si계 합금 입자의 입자경의 중앙치(D50)는 30㎛였다.

다음으로, 상기 금속 자성 재료에 Si-O계 산화물로 이루어지는 산화막을 형성하기 위해, 금속 자성 재료 100 wt%에 대해 알콕시실란 용액 2 wt%를 습식 분무했다. 한편, 상기 알콕시실란 용액으로 트리메톡시실란의 50 wt% 용액을 이용했다.

여기에서, 습식 분무량은 5 mL/min로 하여 알콕시실란 용액의 전량을 도포했다.

습식 분무 후의 분체에 대해, 제1 소성을 실시했다. 제1 소성은 수소 분압 1%∼3%의 질소 분위기하, 600℃에서 0.5시간∼3시간 행하였다. 한편, 최종적으로 얻어지는 압분자심 표면에서의 미립자의 평균 입경 및 입경의 표준 편차(σ)를 표 1 및 표 2에 기재한 크기로 하기 위해, 제1 소성의 조건을 제어했다.

다음으로, SiO₂로 이루어지는 미립자를 형성하기 위해, 제2 소성을 실시했다. 제2 소성은 산소 분압 0.1%∼1%의 질소 분위기하, 1000℃에서 10시간∼30시간 행하였다. 한편, 최종적으로 얻어지는 압분자심 표면에서의 미립자의 평균 입경 및 입경의 표준 편차(σ)를 표 1 및 표 2에 기재한 크기로 하기 위해, 제2 소성의 조건을 제어했다.

다음으로, 에폭시 수지, 경화제, 이미드 수지 및 아세톤을 혼합해 수지 용액을 조성했다. 에폭시 수지로는 크레졸 노볼락을 이용했다. 경화제로는 에피클로로히드린을 이용했다. 이미드 수지로는 비스말레이미드를 이용했다. 에폭시 수지, 경화제 및 이미드 수지의 중량비가 96:3:1이고, 수지 용액 전체를 100 중량%로 하여 에폭시 수지, 경화제 및 이미드 수지의 합계가 4 중량%가 되도록 각 성분을 혼합했다.

상기 미립자 부착 금속 재료에 대해 상기 수지 용액을 혼합했다. 다음으로, 아세톤을 휘발시켜 과립을 얻었다. 다음으로, 그물눈 355㎛의 메시를 이용해 정립했다. 얻어진 과립을 외경 17.5㎜, 내경 11.0㎜의 토로이달(toroidal) 형상의 금형에 충전하고, 성형압 980㎫로 가압해 압분체를 얻었다. 압분체의 중량이 5g이 되도록 충전했다. 다음으로, 제작한 압분체를 대기중, 200℃에서 5시간 가열함으로써 열경화 처리를 실시해 압분자심을 얻었다. 수지의 혼합량은, 최종적으로 얻어지는 압분자심을 100 중량%로 하는 경우에, 금속 자성 재료가 97 중량% 정도가 되도록 했다. 한편, 압분자심은, 이하에 기재하는 측정을 모두 행하기 위해 필요한 수를 제조했다.

얻어진 압분자심의 표면을 원자간력 현미경(히타치 하이테크 사이언스사 제품 AFM5100II)에 의해 관찰했다. 화상의 스캔 모드는 DFM, 감지 레버는 SI-DF40P2, 주사 주파수는 0.3 ㎐, I 게인은 0.1, A 게인은 0.0249로 하고, SIS 모드를 이용해, 퇴피 거리는 20㎚로 했다. 압분자심 표면에서의 금속 자성 재료를 10 입자, 랜덤으로 선택했다. 그리고, 선택한 입자를 중심으로 주위 5㎛×5㎛를 관찰했다. 그리고, 관찰 범위내에 존재하는 미립자의 입경을 모두 측정해 평균함으로써, 압분자심 표면에서의 미립자의 평균 입경을 산출했다. 또한, 얻어진 미립자의 입경으로부터 입경의 표준 편차(σ)를 산출했다.

다음으로, 압분자심의 내식성을 평가하기 위해, 각 압분자심에 대해 염수 분무 시험을 실시했다. 염수 분무 시험은 W: 900mm, D: 600mm, H: 350mm의 염수 분무 시험기 내에서 실시했다. 염수 분무량은 1.5±0.5 mL/h(at 80㎠)로 했다. 이와 같은 조건하에서 35℃, 24시간 염수 분무 시험을 실시했다. 염수 분무 후, 3㎜×3㎜의 측정 부위를 랜덤으로 10개소 설정했다. 각 측정 부위에 대해 광학 현미경(배율 50배)에 설치한 카메라로 촬영하여, 각 측정 부위의 녹면적 비율을 산출했다. 그리고, 10개소의 측정 부위의 평균 녹면적 비율을 산출했다. 평균 녹면적 비율이 15.0% 이하인 경우를 '양호'로 했다. 그리고, 10.0% 이하인 경우를 '보다 양호'로 하고, 5.0% 이하인 경우를 '가장 양호'로 했다.

표 1의 실시예 1∼18은 제1 소성 및 제2 소성에서의 소성 시간 및 소성 분위기를 변화시킴으로써 미립자의 평균 입경을 변화시킨 실시예이다. 또한, 표 1의 결과를 그래프로 나타내면 도 2가 된다.

표 1에 기재한 미립자의 평균 입경은 전술한 평균 입경의 정의에 기초하는 값이다. 미립자의 평균 입경이 0보다 큰 경우에는, 압분자심의 표면에 미립자가 존재하게 된다. 표 1에서는, 모든 실시예에서 미립자의 평균 입경이 0보다 크다. 즉, 표 1의 모든 실시예에서 압분자심의 표면에 미립자가 존재한다. 표 1로부터, 모든 실시예에서 내식성이 양호하다는 것을 알 수 있다. 특히, 미립자의 평균 입경이 1.0㎚ 이상 200㎚ 이하인 실시예 3∼16은 미립자의 평균 입경이 상기 범위 외인 실시예 1, 2, 17 및 18보다 양호한 내식성을 나타냈다.

표 2의 실시예 21∼31은 제1 소성 및 제2 소성에서의 소성 온도를 변화시킴으로써 미립자의 평균 입경을 40㎚ 부근으로 제어하면서 미립자 입경의 표준 편차(σ)를 변화시킨 실시예이다. 또한, 표 2의 결과를 그래프로 나타내면 도 3이 된다.

표 2로부터, 모든 실시예에서 내식성이 양호하다는 것을 알 수 있다. 특히, 미립자 입경의 표준 편차(σ)가 30㎚ 이하인 실시예 24∼31은 σ가 30㎚를 넘는 실시예 21∼23과 비교해 내식성이 특히 양호했다.

1: 압분자심
11: 금속 자성 재료
12: 수지
13: 미립자

Claims

금속 자성 재료 및 수지를 포함하는 압분자심으로서,
상기 압분자심의 표면에 미립자가 존재하는 것을 특징으로 하는 압분자심.
제1항에 있어서,
상기 압분자심 표면에서의 상기 미립자의 평균 입경이 1.0∼200㎚인 압분자심.
제2항에 있어서,
상기 압분자심 표면에서의 상기 미립자 입경의 표준 편차(σ)가 30㎚ 이하인 압분자심.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 미립자가 Si-O계의 화합물을 함유하는 압분자심.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 자성 재료에 상기 미립자가 부착되어 있는 압분자심.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 자성 재료가 Fe를 주성분으로 함유하는 압분자심.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 자성 재료가 Fe 및 Si를 주성분으로 함유하는 압분자심.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 자성 재료의 표면에 Si-O계의 산화물로 이루어지는 산화막이 존재하는 압분자심.