KR20170133436A - 수지용 개질제 및 이것을 사용한 수지 조성물 - Google Patents

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KR20170133436A
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지카코 가사이
히로시 이케다
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Abstract

수지에 대하여 우수한 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성을 부여할 수 있는 수지용 개질제 및 이것을 사용한 수지 조성물을 제공한다.
하기 일반식(1)
Figure pct00015

으로 표시되는 화합물을 함유하는 수지용 개질제이며, 식(1) 중, m은 1∼5의 정수, n은 0∼50의 정수를 나타내고, RA, RB 및 RC는 탄소 원자수 2∼20의 탄화수소기, 또는 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 원자를 가지는 탄소 원자수 2∼20의 탄화수소기를 나타낸다.

Description

수지용 개질제 및 이것을 사용한 수지 조성물
본 발명은, 수지용 개질제(이하, 간단하게 「개질제」라고도 함) 및 이것을 사용한 수지 조성물에 관한 것이며, 상세하게는, 수지에 대하여 우수한 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성을 부여할 수 있는 수지용 개질제 및 이것을 사용한 수지 조성물에 관한 것이다.
최근, 셀룰로오스아실레이트, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트, 폴리올레핀 등의 수지 필름이, 주로 액정 표시 장치용 편광판 보호 필름이나 광학 보상 필름으로 사용되어 오고 있다. 그중에서도, 셀룰로오스아실레이트 필름은 편광자에 사용되는 폴리비닐알코올에 대한 접합성이 우수한 점이나, 투명도가 높고, 적절한 강도를 가지고 있으므로 널리 사용되고 있다.
그러나, 셀룰로오스아실레이트 필름은 투습성이 높기 때문에, 외부의 습기가 투과함으로써, 편광자로부터의 박리나 편광자 자체를 열화시키는 결점이 있었다. 또한, 고온고습 하에 있어서는, 흡습(吸濕)에 의한 편광판 보호 필름이나 광학 보상 필름의 수축(치수 안정성)이나, 시인성에 관여하는 위상차 변동(광학적 특성)에도 과제가 있었다. 최근에는 액정 표시 장치의 박형화에 따른 편광판 보호 필름이나 광학 보상 필름의 박막화도 진행되어, 보다 고도의 방습성, 치수 안정성 및 광학적 특성이 요구되고 있다.
이러한 문제에 대하여, 특허문헌 1에서는, 셀룰로오스 에스테르 수지로 이루어지는 필름에 높은 리타데이션값(retardation value)을 부여하는, 방향환를 포함하지 않는, 2가의 알코올과 2염기산으로 이루어지는 폴리에스테르로 이루어지는 셀룰로오스 에스테르 수지용 첨가제가 제안되어 있다. 또한, 특허문헌 2에서는, 고온다습 하에서의 내(耐)블리딩성이 우수하고, 또한 제조 공정에서 휘발하기 어려운 에스테르 화합물로 이루어지는 셀룰로오스 에스테르 수지용 첨가제가 제안되어 있다.
WO2007/000910호 공보 일본공개특허 제2010-248493호 공보
그러나, 특허문헌 1에서는, 투습도가 작은 것이 기대되고 있는 것에 대해서는 개시되어 있지만, 구체적인 개선에 관한 검토는 이루어지지 않고 있다. 또한, 특허문헌 2에서는, 치수 안정성에 관해서는 검토되어 있지 않고, 투습도에 관해서도 아직 성능이 충분히 만족할 수 있는 것은 아니었다. 이러한 것을 감안하면, 방습 성능, 치수 안정성, 광학적 특성의 모두를 만족할 수 있는 개질제는 지금까지 발견되고 있지 않은 것이 현재의 실정이다.
이에, 본 발명의 목적은, 수지에 대하여 우수한 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성을 부여할 수 있는 수지용 개질제 및 이것을 사용한 수지 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은, 상기 문제점을 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 하기의 구조를 가지는 화합물을 수지용 개질제로서 사용함으로써, 상기 문제점을 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 수지용 개질제는, 하기 일반식(1)
[화1]
Figure pct00001
(식(1) 중, m은 1∼5의 정수, n은 0∼50의 정수를 나타내고, RA, RB 및 RC는 탄소 원자수 2∼20의 탄화수소기 또는, 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 원자를 가지는 탄소 원자수 2∼20의 탄화수소기를 나타낸다)으로 표시되는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명의 수지용 개질제에 있어서는, 상기 일반식(1)으로 표시되는 화합물의, RA, RB 및 RC는 탄소 원자수 2∼12의 탄화수소기 또는, 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 원자를 가지는 탄소 원자수 2∼12의 탄화수소기인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 수지용 개질제는, 열가소성 수지에 사용하기에 적합하며, 특히, 셀룰로오스계 수지에 사용하기에 적합하다.
본 발명의 수지 조성물은, 본 발명의 수지용 개질제를 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명으로 의하면, 수지에 대하여 우수한 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성을 부여할 수 있는 수지용 개질제 및 이것을 사용한 수지 조성물을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대하여, 상세하게 설명한다.
본 발명의 수지용 개질제는, 하기 일반식(1)
[화2]
Figure pct00002
으로 표시되는 화합물을 함유하는 것이며, 수지에 대하여 우수한 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성을 부여할 수 있다. 여기서, 상기 식(1) 중, m은 1∼5의 정수이며, 1∼3이 바람직하고, 1이 더욱 바람직하다. m이 3인 경우에는, 방향환 상의 3번 위치, 4번 위치, 5번 위치에 하이드록실기가 있는 것이 바람직하고, m이 2인 경우에는, 방향환 상의 3번 위치, 5번 위치에 하이드록실기가 있는 것이 바람직하고, m이 1인 경우에는, 방향환 상의 4번 위치에 하이드록실기가 있는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 상기 식(1) 중, n은 0∼50의 정수이며, 0∼30이 바람직하고, 0∼20이 더욱 바람직하다. 본 발명의 수지용 개질제의 제조방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 숙신산, 테레프탈산등의 2가의 산 성분, 이들 산 성분의 무수 화합물 및 이들 산 클로라이드를 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜 성분과, p-하이드록시벤조산 등의 1가의 산 성분을 촉매 존재 하 또는 무촉매 하에서 일괄적으로 또는 분할하여 투입하여, 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환 반응을 행하고, 그 후, 통상적인 방법의 후처리를 하여 일반식(1)으로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
이 경우, 얻을 수 있는 화합물은 분자량 분포를 가진다. 본 발명의 수지용 개질제는, 분자량 분포를 가진 화합물의 혼합물이라도 되고, 이들을 증류 등에 의해 정제한 단일품이라도 되지만, 경제성의 관점에서 분자량 분포를 가지는 화합물의 혼합물이 바람직하다. 분자량 분포를 가지는 화합물의 혼합물의 경우, 투습성과 광학적 특성(위상차 변동값)이 우수하므로, n이 0인 화합물은, 일반식(1)으로 표시되는 화합물 중에, 0∼80 질량% 함유되는 것이 바람직하고, 5∼75 질량%가 보다 바람직하고, 10∼60 질량%가 더욱 바람직하다.
본 발명의 수지용 개질제에 있어서, 식(1) 중, RA, RB 및 RC로 표시되는 탄소 원자수 2∼20, 바람직하게는 2∼12의 탄화수소기로서는, 예를 들면, 탄소 원자수 2∼20의 직쇄상 또는 분지상의 알킬렌기, 직쇄상 또는 분지상의 알케닐렌기, 직쇄상 또는 분지상의 치환기를 가질 수도 있는 시클로알킬렌기, 직쇄상 또는 분지상의 치환기를 가질 수도 있는 아릴렌기 등이 있고, 치환기란, 알킬기나 알킬렌기를 나타낸다.
이 중에서도 직쇄상 또는 분지상의 알킬렌기나 아릴렌기가 바람직하고, 탄소 원자수 2∼12의 직쇄상 또는 분지의 알킬렌기나 아릴렌기인 것이 더욱 바람직하고, 에틸렌기, n-프로필렌기, 이소프로필렌 , n-부틸렌기, 이소부틸렌기, n-펜틸렌기, 이소펜틸렌기, n-헤키시렌기, 이소헥실렌 기, n-헵틸렌기, 이소헵틸렌기, n-옥틸렌기, 이소옥틸렌기, n-노닐렌기, 이소노닐렌기, n-데실렌기, 이소데실렌기, n-운데실렌기, 이소운데실렌기, n-도데실렌기, 이소도데실렌기, 페닐렌기, 나프틸렌기가 더욱 바람직하고, 에틸렌기, n-프로필렌기, 이소프로필렌기, n-부틸렌기, 이소부틸렌기가 가장 바람직하다.
본 발명의 수지용 개질제에 있어서는, 식(1) 중, RA, RB 및 RC의 탄화수소기은, 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 원자로 치환되어 있어도 되고, 탄소 원자수 2∼20, 바람직하게는 2∼12의 탄화수소기로서는, 1개 이상의 수소 원자를 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자를 가지는 치환기로 치환하는 경우나, 1개 이상의 탄소 원자를 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 치환하는 경우를 예로 들 수 있다.
1개 이상의 수소 원자를 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자를 가지는 치환기로 치환하는 경우로서는, 예를 들면, 하이드록시기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실기, 카르보닐기, 카르복시기 등이 있다.
1개 이상의 탄소 원자를 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 치환하는 경우로서는, 예를 들면, 에테르 결합, 술피드 결합, 아민 결합 등이 있다. RA 및 RC로서는, 디에틸에테르-1,1'-디일이 바람직하다. 또한, RB로서는, 에틸렌기, n-프로필렌기, 페닐렌기가 바람직하다. 그리고, n개 있는 RA, RB 및 RC는, 동일할 수도 있고 상이할 수도 있다.
본 발명의 수지용 개질제에 있어서는, 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 수지에 대한 상용성(相溶性)이나 방습 성능의 관점에서, 수평균분자량 350∼5,000이 바람직하고, 350∼2,000이 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 350∼1,500이다. 그리고, 수평균분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)를 사용하여 측정할 수 있다.
본 발명의 수지용 개질제의 배합량은 특별히 한정되지 않지만, 수지 100질량부에 대하여, 0.1∼100 질량부, 0.5∼80 질량부가 바람직하고, 1∼50 질량부가 보다 바람직하고, 1∼30 질량부가 더욱 바람직하다. 0.1질량부 미만인 경우에는, 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성(위상차 변동값) 등의 성능이 충분히 발휘되지 않는 경우가 있고, 100질량부보다 많으면 블리딩하는 경우가 있다.
이하에서 본 발명의 일반식(1)으로 표시되는 수지용 개질제를 예시하지만, 본 발명은 이것에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 수지용 개질제 A∼Q의 괄호 내는 몰비를 나타내고, 이들 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용하여 사용할 수도 있다.
개질제 A: 숙신산(95)/테레프탈산(5)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 880, n이 0인 화합물의 비율: 15질량%)
개질제 B: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 880, n이 0인 화합물의 비율: 15질량%)
개질제 C: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 650, n이 0인 화합물의 비율: 20질량%)
개질제 D: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/에틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 570, n이 0인 화합물의 비율: 23질량%)
개질제 E: 숙신산(30)/테레프탈산(70)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 740, n이 0인 화합물의 비율: 17질량%)
개질제 F: 숙신산(30)/테레프탈산(70)/1,3-부틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 660, n이 0인 화합물의 비율: 20질량%)
개질제 G: 숙신산(5)/테레프탈산(95)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 1190, n이 0인 화합물의 비율: 10질량%)
개질제 H: 숙신산(100)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 650, n이 0인 화합물의 비율: 29질량%)
개질제 I: 테레프탈산(100)/1,3-부틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 700, n이 0인 화합물의 비율: 23질량%)
개질제 J: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/에틸렌글리콜(50)/1,2-프로필렌글리콜(50)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 550, n이 0인 화합물의 비율: 24질량%)
개질제 K: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/1,3-부틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 670, n이 0인 화합물의 비율: 27질량%)
개질제 L: 프탈산(100)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 640, n이 0인 화합물의 비율: 30질량%)
개질제 M: 테레프탈산(100)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 640, n이 0인 화합물의 비율: 24질량%)
개질제 N: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 490, n이 0인 화합물의 비율: 39질량%)
개질제 O: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/에틸렌글리콜(10)/디에틸렌글리콜(90)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 410, n이 0인 화합물의 비율: 51질량%)
개질제 P: 테레프탈산(100)/에틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 370, n이 0인 화합물의 비율: 39질량%)
개질제 Q: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/1,6-헥산디올(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-하이드록시벤조산 에스테르체(수평균분자량: 390, n이 0인 화합물의 비율: 54질량%)
다음으로, 본 발명의 수지 조성물에 대하여 설명한다. 본 발명의 수지 조성물은, 본 발명의 수지용 개질제를 함유하는 것이며, 우수한 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성을 가지고 있다. 본 발명의 수지 조성물에 사용되는 수지는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 열가소성 수지, 열경화성 수지가 있지만, 열가소성 수지에 바람직하게 사용할 수 있다.
열가소성 수지로서는, 예를 들면, 폴리 염화 비닐 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아세트산 비닐 수지, 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스계 수지, 아크릴 수지, AS(아크릴로니트릴-스티렌) 수지, ABS(아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌) 수지, 불소계 수지, 열가소성 탄성체, 폴리아미드 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리카보네이트 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리락트산계 수지, 환형 폴리올레핀 수지, 폴리페닐렌설파이드 수지 등이 있고, 이들 수지는 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
폴리 염화 비닐 수지로서는, 예를 들면, 폴리 염화 비닐, 폴리 염화 비닐리덴 등의 단독 중합체, 염화 비닐 또는 염화 비닐리덴과 아세트산 비닐의 공중합체 등의 비닐계 화합물 공중합체 등이 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
폴리에틸렌 수지로서는, 예를 들면, 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌 등이 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
폴리프로필렌 수지는, 중합 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 호모 폴리머, 랜덤 폴리머, 블록 폴리머 등을 방법이 있으며, 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
셀룰로오스계 수지로서는, 예를 들면, 셀로판, 셀룰로이드, 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스트리아세테이트, 셀룰로오스프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트, 메틸아세테이트, 에틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스, 에틸하이드록시에틸셀룰로오스, 카르복시메틸에틸셀룰로오스 등이 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
아크릴 수지로서는, 예를 들면, 폴리아크릴산 메틸, 폴리메타크릴산 메틸 등이 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
폴리아미드 수지로서는, 예를 들면, 나일론-6, 나일론-66, 나일론-10, 나일론-12, 나일론-46 등의 지방족 폴리아미드, 방향족 디카르본산과 지방족 디아민에 의해 제조되는 방향족 폴리아미드 등이 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
폴리아세탈 수지로서는, 예를 들면, 폴리포름알데히드, 폴리아세트알데하이드, 폴리프로피온알데히드, 폴리부틸알데히드 등이 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
이들 중에서도, 셀룰로오스계 수지가 더욱 바람직하고, 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르인 것이 더욱 바람직하다. 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르에서의 저급 지방산이란, 탄소 원자수가 6 이하인 지방산을 의미한다. 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르로서는, 예를 들면, 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스프로피오네이트, 셀룰로오스부티레이트 등이나, 일본공개특허 평 10-45804호 공보, 일본공개특허 평 8-231761호 공보, 미국특허 제2,319,052호 명세서 등에 기재되어 있는 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트 등의 혼합 지방산 에스테르가 있다.
본 발명의 수지 조성물에 있어서는, 본 발명의 수지용 개질제의 이외에, 가소제, 또한 각종 첨가제, 예를 들면, 페놀계, 또는, 유황계 산화방지제, 자외선 흡수체, 힌더드 아민계 광안정제, 폴리올류, 그 외의 무기 화합물 등을 배합할 수도 있다. 이들 가소제나 각종 첨가제는, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
가소제로서는, 예를 들면, 디부틸프탈레이트, 부틸헥실프탈레이트, 디헵틸 프탈레이트, 디-(2-에틸헥실)프탈레이트, 디이소노닐프탈레이트, 디이소데실프탈레이트, 디라우릴프탈레이트, 디시클로헥실프탈레이트, 디옥틸테레프탈레이트 등의 프탈레이트계 가소제; 디옥틸아디페이트, 디이소노닐아디페이트, 디이소데실아디페이트, 디(부틸글리콜)아디페이트 등의 아디페이트계 가소제; 트리페닐포스페이트, 트리크레실포스페이트, 트리크실레닐포스페이트, 트리(이소프로필페닐)포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트, 트리옥틸포스페이트, 트리(부톡시에틸)포스페이트, 옥틸디페닐포스페이트 등의 포스페이트계 가소제; 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올과, 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 신남산 등의 2염기산을 사용하고, 필요에 따라 1가의 알코올, 모노카르본산(아세트산, 방향족산 등) 등을 스토퍼로서 사용한, 본 발명 이외의 폴리에스테르계 가소제; 에폭시화 대두유, 에폭시화 아마인유, 에폭시화 동유, 에폭시화 어유, 에폭시화 우지유, 에폭시화 피마자유, 에폭시화 홍화유, 에폭시화 스테아르산 메틸, 에폭시화 스테아르산 부틸, 에폭시화 스테아르산 2-에틸헥실, 에폭시화 스테아르산 스테아릴에스테르, 에폭시화 폴리부타디엔, 트리스(에폭시프로필)이소시아누레이트, 에폭시화 톨유 지방산 에스테르, 에폭시화 아마인유 지방산 에스테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 비닐시클로헥센디에폭사이드, 디시클로헥센디에폭사이드, 3,4-에폭시시클로헥실메틸, 에폭시시클로헥산카르복실레이트 등의 에폭시계 가소제, 기타, 테트라하이드로프탈산계 가소제, 아젤라산계 가소제, 디-2-에틸헥실세바케이트(DOS), 디부틸세바케이트(DBS) 등의 세바스산계 가소제, 스테아르산계 가소제, 시트르산계 가소제, 피로멜리트산계 가소제, 비페닐렌폴리카르본산계 가소제, 다가 알코올의 방향족산 에스테르계 가소제(트리메틸올프로판의 트리벤조에이트 등) 등이 있다. 바람직하게는, 본 발명 이외의 폴리에스테르계 가소제, 프탈레이트계 가소제, 트리멜리테이트계 가소제, 아디페이트계 가소제, 세바스산계 가소제, 에폭시계 가소제를 예로 들 수 있다.
본 발명에 따른 수지용 개질제 이외의 폴리에스테르계 가소제의 구체적인 화합물을, 가소제 1∼13에서 예시하지만 이들로 한정되지 않으며, 이들 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상을 혼합물로 만들어 사용할 수도 있다.
하기 가소제 1∼4의 괄호 내는 몰비를 나타내고, 이들 폴리에스테르계 가소제는 단독으로 사용할 수도 있고 2종류 이상을 혼합물로 만들어 사용할 수도 있다.
가소제-1: 하기 일반식(2)
[화3]
Figure pct00003
의, 다가 알코올 성분 G로서, 에틸렌글리콜(50) 및 1,2-프로필렌글리콜(50)과, 다가 카르복시산 성분 A로서, 숙신산(50) 및 테레프탈산(50), 말단 E가 아세틸기로 이루어지는 n=5인 화합물.
가소제-2: 상기 일반식(2)의, 다가 알코올 성분 G로서, 1,2-프로필렌글리콜과, 다가 카르복시산 성분 A로서, 2,6-나프탈렌디카르복시산, 말단 E가 수소로 이루어지는 n=2인 화합물.
가소제-3: 상기 일반식(2)의, 다가 알코올 성분 G로서, 에틸렌글리콜과, 다가 카르복시산 성분 A로서, 아디프산, 말단 E가 아세틸기로 이루어지는 n=10인 화합물.
가소제-4: 상기 일반식(2)의, 다가 알코올 성분 G로서, 1,2-프로필렌글리콜과, 다가 카르복시산 성분 A로서, 테레프탈산, 말단 E가 톨루일기로 이루어지는n=5인 화합물.
가소제-5: 하기 일반식(3),
[화4]
Figure pct00004
의 치환기 QA가 모두 수소 원자인 화합물.
가소제-6: 상기 일반식(3)의, 치환기 QA가 모두 메톡시기인 화합물.
가소제-7:
[화5]
Figure pct00005
가소제-8:
[화6]
Figure pct00006
가소제-9:
[화7]
Figure pct00007
가소제-10:
[화8]
Figure pct00008
가소제-11:
[화9]
Figure pct00009
가소제-12:
[화10]
Figure pct00010
가소제-13:
[화11]
Figure pct00011
이들 가소제의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수 있지만, 수지 100질량부에 대하여, 1∼90 질량부가 바람직하고, 10∼80 질량부가 더욱 바람직하다.
페놀계 항산화제로서는, 예를 들면, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 스테아릴 (3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 디스테아릴(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)포스포네이트, 트리데실·3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질티오아세테이트, 티오디에틸렌비스[(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-m-크레졸), 2-옥틸티오-4,6-디(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페녹시)-s-트리아진, 2,2'-메틸렌 비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 비스[3,3-비스(4-하이드록시-3-tert-부틸페닐)부티릭 애시드]글리콜에스테르, 4,4'-부틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸 페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)부탄, 비스[2-tert-부틸-4-메틸-6-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸벤질)페닐]테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-제3 부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리스[(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 2-tert-부틸-4-메틸-6-(2-아크릴로일옥시-3-tert-부틸-5-메틸벤질)페놀, 3,9-비스[2-{3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로파노일옥시}-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[β-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트] 등이 있다. 이들 페놀계 산화방지제의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수 있지만, 수지 100질량부에 대하여, 0.01∼1 질량부가 바람직하고, 0.03∼0.8 질량부가 더욱 바람직하다.
유황계 항산화제로서는, 예를 들면, 지오지프로피온산의 디라우릴, 디미리스틸, 미리스틸스테아릴, 디스테아릴에스테르 등의 디알킬티오디프로피오네이트류 및 펜타에리트리톨테트라(β-도데실머캅토프로피오네이트) 등의 폴리올의 β-알킬머캅토프로피온산 에스테르류 등이 있다. 이들 유황계 항산화제의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수 있지만, 수지 100질량부에 대하여, 0.01∼1 질량부가 바람직하고, 0.03∼0.8 질량부가 더욱 바람직하다.
자외선 흡수체로서는, 예를 들면, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-tert-부틸-4'-(2-메타크릴로일옥시에톡시에톡시)벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-하이드록시벤조페논류; 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3-도데실-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-C7∼9 혼합 알콕시카르보닐에틸페닐)트리아졸, 2-(2-하이드록시-3,5-디쿠밀페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-tert-옥틸-6-벤조트리아졸릴페놀), 2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-카르복시페닐)벤조트리아졸의 폴리에틸렌글리콜에스테르 등의 2-(2-하이드록시페닐)벤조트리아졸류; 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥톡시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-아크릴로일옥시에톡시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-(2-(2-에틸헥사노일옥시)에틸옥시)페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-하이드록시-3-메틸-4-(2-옥타노일옥시에틸)페닐)-1,3,5-트리아진, 등의 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진류; 페닐살리실레이트, 레조르시놀모노벤조에토, 2,4-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2,4-디-tert-아밀페닐-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트 등의 벤조에이트류; 2-에틸-2'-에톡시옥사닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥사닐리드 등의 치환 옥사닐리드류; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트, 테트라키스(α-시아노-β,β-디페닐아크릴로일옥시메틸)메탄 등의 시아노아크릴레이트류 등이 있다. 이들 자외선 흡수체의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수 있지만, 수지 100질량부에 대하여, 0.01∼5 질량부가 바람직하고, 0.03∼3 질량부가 더욱 바람직하다.
힌더드 아민계 광안정제로서는, 예를 들면, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜스테아레이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜스테아레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)·비스(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)·비스(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 1-(2-하이드록시 에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/숙신산 디에틸 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/디브로모에탄 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-tert-옥틸아미노-s-트리아진 중축합물, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)부틸카르보닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{트리스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)부틸카르보닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 비스(1-운데실옥시-2,2,6,6-데트라메틸피페리딘-4-일)카르보네이트 등이 있다. 이들 힌더드 아민계 광안정제의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수 있지만, 수지 100질량부에 대하여, 0.01∼1 질량부가 바람직하고, 0.03∼0.8 질량부가 더욱 바람직하다.
폴리올류로서는, 예를 들면, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 폴리펜타에리트리톨, 펜타에리트리톨 또는 디펜타에리트리톨의 스테아르산 하프 에스테르, 비스(디펜타에리트리톨)아디페이트, 글리세린, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트, 소르비톨, 만니톨, 락티톨 등이 있다. 이들 폴리올류의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수 있지만, 수지 100질량부에 대하여, 0.01∼2 질량부가 바람직하고, 0.01∼1 질량부가 더욱 바람직하다.
그 외의 무기 화합물로서는, 예를 들면, 규산 칼슘, 인산 칼슘, 산화 칼슘, 수산화 칼슘, 규산 마그네슘, 인산 마그네슘, 산화 마그네슘, 수산화 마그네슘 등이 있다. 그 외의 무기화합물의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수 있지만, 수지 100질량부에 대하여, 0.01∼5 질량부가 바람직하고, 0.03∼3 질량부가 더욱 바람직하다.
그 외에, 본 발명의 수지 조성물에는, 또한 필요에 따라 그 외의 첨가제, 예를 들면, 충전제, 착색제, 가교제, 대전방지제, 김서림방지제(anti-fogging agent), 플레이트아웃 방지제, 표면 처리제, 윤활제, 난연제, 형광제, 항진균제, 살균제, 금속 불활성화제, 이형제, 안료, 가공 조제, 발포제, 유기산 금속염, 하이드로탈사이트 화합물, 아연 변성 하이드로탈사이트, 제올라이트 화합물 등을, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서 배합할 수도 있다.
본 발명의 수지 조성물은, 상기 일반식(1)으로 표시되는 수지용 개질제를 함유하는 것을 특징으로 하며, 그 배합 방법 및 성형 방법은 특별히 한정되지 않지만, 배합 방법으로서는, 통상의 블렌더, 믹서 등으로 혼합하는 방법, 압출기 등으로 용융 혼련하는 방법, 용매와 함께 혼합하고 용액 유연(流延)하는 방법 등을 예로 들 수 있고, 성형 방법으로서는, 압출 성형, 사출 성형, 연신 필름 성형, 블로우 성형법 등을 예로 들 수 있다.
본 발명의 수지 조성물을 형성하여 얻어진 성형체의 형상으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 시트형, 필름형, 특수한 형상을 가지는 것 등이 있다.
얻어진 성형체의 용도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 식품 용기, 전자 부품, 자동차 부품, 의료용 재료, 필름·시트 재료, 섬유 소재, 광학 소재, 도료용 수지, 잉크용 수지, 토너용 수지, 접착제용 수지 등이 있다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 전혀 제한을 받지 않는다.
<실시예 1∼17 및 비교예 1∼14>
하기 표 1 및 2에 기재된 수지용 개질제를 사용하여, 하기의 수순에 따라 방습성(투습도), 광학적 특성(위상차 변동값) 및 치수 안정성에 대하여 평가를 행하였다. 얻어진 결과를 표에 병기한다. 그리고, 수평균분자량의 측정은 하기의 수순으로 행해졌다.
<수평균분자량>
본 발명의 수지용 개질제 A∼Q, 혹은 비교 화합물 1∼14를 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해하여 0.5질량%의 샘플 용액을 조제하고, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)를 사용하여 하기 조건으로 수평균분자량를 측정했다. 그리고, 검량선은 폴리스티렌(지엘사이언스제 분자량 스탠다드: 분자량 162, 370, 580, 1000, 2000, 3000, 5000)을 사용하여 작성했다. 컬럼은, 쇼와전공(昭和電工)(주)제 SHODEX KF-802를 사용했다. 컬럼 온도는 40℃로 하고, 용리액으로서 THF를 사용하였고, 유량을 1ml/분으로 하고, 검출기로서 굴절율계(RI)를 사용하여 측정했다.
<방습성(투습도)>
셀룰로오스트리아세테이트 85질량부(아세틸화도 61%, 중합도 260), 및 개질제 15질량부를, 메틸렌클로라이드 900질량부와 메틸알코올 100질량부로 이루어지는 혼합 용제에 교반하면서 균일하게 용해시켜, 각종 평가용 및 필름 작성용 도프(dope)액을 조제했다. 이어서, 얻어진 도프액을 유리판 상에 약 80㎛가 되도록 유연하고, 실온에서 16시간 건조시킨 후, 50℃에서 1시간 건조시키고, 120℃에서 1시간 더 건조시켜, 각종 평가 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 막 두께는 모두 약 80㎛였다. 얻어진 필름을, JIS Z 0208에 기재된 방법에 따라, 투습도를 측정했다. 측정 조건은 40℃, 상대 습도 80%이다. 투습도는, 수치가 작은 것이 방습성이 양호한 것을 나타낸다. 방습 성능은, 투습도가 360g/m2/day 이하인 것이 성능으로서 우수한 것을 나타내고 있다. 얻어진 평가 결과를 하기 표 1 및 표 2에 병기한다.
<광학적 특성(위상차 변동값)>
셀룰로오스트리아세테이트 90질량부(아세틸화도 61%, 중합도 260), 및 개질제 10질량부를, 메틸렌클로라이드 900질량부와 메틸알코올 100질량부로 이루어지는 혼합 용제에 교반하면서 균일하게 용해시켜, 각종 평가용 및 필름 작성용 도프액을 조제했다. 이어서, 얻어진 도프액을 유리판 상에 약 80㎛가 되도록 유연하고, 실온에서 16시간 건조시킨 후, 50℃에서 1시간 건조시키고, 120℃에서 1시간 더 건조시켜, 각종 평가 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 막 두께는 모두 약 80㎛였다. 얻어진 필름을, 25℃, 상대 습도 15% 환경 하에서 48시간 건조시키고, 건조 후의 필름의 두께 방향의 위상차를 「건조시 위상차」, 그 후 동일한 필름을 40℃, 상대 습도 80%, 72시간 둔 후의 필름의 두께 방향의 위상차를 「고온고습시 위상차」로 하고, 「위상차 변동값」을 하기 식으로부터 산출하되, 위상차 변동값은 절대값으로 나타낸다. 위상차 변동값은, 수치가 작을수록 성능이 양호하며, 30 이하라면 우수한 것을 나타내고 있다.
|위상차 변동값| = 건조시 위상차 - 고온고습 시 위상차
<치수 안정성>
셀룰로오스트리아세테이트 85질량부(아세틸화도 61%, 중합도 260), 및 개질제 15질량부를, 메틸렌클로라이드 900질량부와 메틸알코올 100질량부로 이루어지는 혼합 용제에 교반하면서 균일하게 용해시켜, 각종 평가용 및 필름 작성용 도프액을 조제했다. 이어서, 얻어진 도프액을 유리판 상에 약 80㎛가 되도록 유연하고, 실온에서 16시간 건조시킨 후, 50℃에서 1시간 건조시키고, 120℃에서 1시간 더 건조시켜, 각종 평가 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 막 두께는 모두 약 80㎛였다. 얻어진 필름을, 40℃ 상대 습도 80%의 환경 하에 24시간 정치한 후, 육안으로 확인하여, 하기 기준으로 3단계 평가를 행하였다.
우수: 필름의 변형이 확인되지 않음
양호: 필름이 약간 변형되어 있는 것이 확인됨
불가: 필름이 크게 변형되어 있는 것이 확인됨
치수 안정 성능은, 우수 및 양호인 것이 성능으로서 좋은 것을 나타내고 있다. 얻어진 평가 결과를 하기 표 1 및 표 2에 병기한다.
필름의 두께 방향의 위상차는, 하기 식에 따라 자동복굴절율계 RETS-100(오츠카(大塚) 전자(주) 제)를 사용하여, 25℃, 상대 습도 60% 환경 하, 파장 590nm에서 측정했다.
두께 방향의 위상차= {(nx+ny)/2-nz}×d
여기서, 식 중, nx는 필름면 내의 굴절율이 가장 큰 방향의 굴절율, ny는 nx에 대하여 직각인 방향에서의 필름면 내의 굴절율, nz는 필름의 두께 방향의 굴절율, d는 필름의 두께(nm)를 나타낸다. 얻어진 평가 결과를 하기 표 1 및 표 2에 병기한다.
[표 1]
Figure pct00012
[표 2]
Figure pct00013
비교 화합물 1: 트리페닐포스페이트
비교 화합물 2: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/에틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 미봉지체(未封止體)(수평균분자량: 670)
비교 화합물 3: 비교 화합물 2의 에틸렌글리콜을 1,2-프로필렌글리콜로 대체한 축합 생성물(수평균분자량: 1000)
비교 화합물 4: 비교 화합물 2의 축합 생성물(수평균분자량: 1400)
비교 화합물 5: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/에틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 벤조산 에스테르체(수평균분자량: 450)
비교 화합물 6: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 벤조산 에스테르체(수평균분자량: 450)
비교 화합물 7: 비교 화합물 5의 축합 생성물(수평균분자량: 1050)
비교 화합물 8: 숙신산(30)/테레프탈산(70)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 벤조산 에스테르체(수평균분자량: 1050)
비교 화합물 9: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/에틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 n-옥틸산 에스테르체(수평균분자량: 500)
비교 화합물 10: 숙신산(50)/테레프탈산(50)/에틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 아세트산 에스테르체(수평균분자량: 1130)
비교 화합물 11: 아디프산(100)/에틸렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 벤조산 에스테르체(수평균분자량: 1300)
비교 화합물 12: 테레프탈산(100)/1,2-프로필렌글리콜(100)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 벤조산 에스테르체(수평균분자량: 480)
비교 화합물 13: 테레프탈산(100)/에틸렌글리콜(50)/1,2-프로필렌글리콜(50)로 이루어지는 축합 생성물의 양 말단 p-tert부틸벤조산 에스테르체(수평균분자량: 500)
표 1 및 2로부터 밝혀진 바와 같이, 본 발명의 개질제는 방습성(투습도), 치수 안정성, 광학적 특성(위상차 변동값)이 모두 만족하는 것에 비해, 비교 화합물은, 방습성이 양호해도 광학적 특성이 좋지 못한 경우나, 치수 안정성이 양호해도 방습성과 광학적 특성이 좋지 못한 경우가 있다. 따라서, 본 발명은 방습성, 치수 안정성, 광학적 특성이 균형잡힌 우수한 수지용 개질제인 것으로 밝혀졌다.

Claims (7)

  1. 하기 일반식(1)
    Figure pct00014

    (상기 일반식(1) 중에서, m은 1∼5의 정수, n은 0∼50의 정수를 나타내고, RA, RB 및 RC는 탄소 원자수 2∼20의 탄화수소기, 또는 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 원자를 가지는 탄소 원자수 2∼20의 탄화수소기를 나타냄)으로 표시되는 화합물을 함유하는, 수지용 개질제.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(1)으로 표시되는 화합물의, RA, RB 및 RC는 탄소 원자수 2∼12의 탄화수소기, 또는 산소 원자, 유황 원자, 질소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 원자를 가지는 탄소 원자수 2∼12의 탄화수소기인, 수지용 개질제.
  3. 제1항에 있어서,
    열가소성 수지에 사용되는, 수지용 개질제.
  4. 제2항에 있어서,
    열가소성 수지에 사용되는, 수지용 개질제.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 열가소성 수지가 셀룰로오스계 수지인, 수지용 개질제.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 열가소성 수지가 셀룰로오스계 수지인, 수지용 개질제.
  7. 제1항에 기재된 수지용 개질제를 함유하는, 수지 조성물.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6536149B2 (ja) * 2015-04-21 2019-07-03 Dic株式会社 セルロースエステル樹脂用改質剤、セルロースエステル樹脂組成物、光学フィルム及び液晶表示装置
KR101856329B1 (ko) * 2015-07-01 2018-05-11 주식회사 엘지화학 코폴리카보네이트 수지 및 이의 제조방법
WO2017098831A1 (ja) * 2015-12-11 2017-06-15 Dic株式会社 セルロースエステル樹脂用改質剤、セルロースエステル樹脂組成物、光学フィルム及び液晶表示装置
JP6802678B2 (ja) * 2016-09-28 2020-12-16 株式会社Adeka 樹脂用改質剤およびこれを用いた樹脂組成物
CN110770204B (zh) * 2017-06-14 2022-05-31 Dic株式会社 酯树脂、反增塑剂、纤维素酯树脂组合物、光学薄膜和液晶显示装置
CN110753681B (zh) * 2017-06-14 2022-05-10 Dic株式会社 酯树脂、反增塑剂、纤维素酯树脂组合物、光学薄膜和液晶显示装置
JP6897880B2 (ja) * 2018-09-03 2021-07-07 Dic株式会社 セルロースエステル樹脂用添加剤及びセルロースエステル組成物

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5030085A (ko) * 1973-07-20 1975-03-26
JPS59193921A (ja) 1983-04-20 1984-11-02 Teijin Ltd ポリエステルの製造法
JPH078955B2 (ja) 1990-02-09 1995-02-01 大日本インキ化学工業株式会社 縮合系可塑剤及びそれを含有する重合体組成物
JPH11124431A (ja) 1997-10-23 1999-05-11 Mitsubishi Chemical Corp テレフタル酸系エステルオリゴマー
US6489386B1 (en) * 1999-08-12 2002-12-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method and composition for improving gas barrier properties of polymeric containers and films
KR101240049B1 (ko) 2005-06-29 2013-03-06 코니카 미놀타 어드밴스드 레이어즈 인코포레이티드 셀룰로오스 에스테르 필름, 그것을 이용한 횡전계 구동식표시 장치용 편광판 및 횡전계 구동식 표시 장치
US20080058466A1 (en) 2006-09-05 2008-03-06 Joshi Makarand V Polymeric Plasticizers for Polymer Compositions Exhibiting High Surface Energy
JP5386870B2 (ja) 2007-07-18 2014-01-15 東レ株式会社 樹状ポリエステル、その製造方法および熱可塑性樹脂組成物
JP5446109B2 (ja) * 2008-03-28 2014-03-19 Ｄｉｃ株式会社 ヒドロキシ安息香酸誘導体及び重合性化合物の製造方法
JP2010047705A (ja) 2008-08-22 2010-03-04 Dic Corp セルロースエステル改質用樹脂組成物及びそれを含むセルロースエステルフィルム
TWI452076B (zh) 2009-03-27 2014-09-11 Dainippon Ink & Chemicals Cellulose ester resin additives, cellulose ester resin compositions and optical films using the same
JP2011105924A (ja) 2009-06-05 2011-06-02 Fujifilm Corp セルロースエステルフィルム、光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP2011012186A (ja) * 2009-07-02 2011-01-20 Fujifilm Corp セルロースエステルフィルム、位相差フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JPWO2013027793A1 (ja) 2011-08-25 2015-03-19 Dic株式会社 光学フィルム、位相差フィルム及び波長板
JP2013061561A (ja) * 2011-09-14 2013-04-04 Konica Minolta Advanced Layers Inc 偏光板およびこれを用いた表示装置
JP5914059B2 (ja) * 2012-03-08 2016-05-11 株式会社Adeka セルロース系樹脂組成物及びフィルム
JP2013234273A (ja) 2012-05-09 2013-11-21 Adeka Corp セルロース系樹脂組成物
JP5729627B2 (ja) * 2013-01-25 2015-06-03 Dic株式会社 セルロースエステル樹脂用ポリエステル系改質剤組成物、セルロースエステル光学フィルム及び偏光板用保護フィルム
US20150051326A1 (en) 2013-08-13 2015-02-19 E I Du Pont De Nemours And Company Plasticizers comprising poly(trimethylene ether) glycol esters
JP6289865B2 (ja) * 2013-10-25 2018-03-07 株式会社Adeka セルロース系樹脂組成物、およびこれを用いたフィルム

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