KR20160081829A - 폴리아마이드-이미드 전구체, 폴리아마이드-이미드 필름 및 이를 포함하는 표시소자 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 디안하이드라이드와 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 1 블록; 및 방향족 디카르보닐 화합물과 방향족 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 2 블록을 분자구조 내에 포함하며, 상기 디안하이드라이드는 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)을 포함하는 것이고, 상기 디아민은 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)를 포함는 것임을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 전구체에 관한 것이며, 이를 이미드화 한 폴리아마이드-이미드, 폴리아마이드-이미드 필름 및 상기 필름을 포함하는 영상표시소자에 관한 것이다.

Description

폴리아마이드-이미드 전구체, 폴리아마이드-이미드 필름 및 이를 포함하는 표시소자{POLYAMIDE-IMIDE PRECURSOR COMPOSITION, POLYAMIDE-IMIDE FILM AND DISPLAY DEVICE}
본 발명은 폴리아마이드-이미드 전구체와 이를 이미드화한 폴리아마이드-이미드 필름, 그리고 상기 폴리아마이드-이미드 필름을 포함하는 표시소자에 관한 것이다.
일반적으로 폴리이미드(PI) 필름은 폴리이미드 수지를 필름화한 것으로, 폴리이미드 수지는 방향족 디안하이드라이드와 방향족 디아민 또는 방향족 디이소시아네이트를 용액 중합하여 폴리아믹산 유도체를 제조한 후, 고온에서 폐환 탈수시켜 이미드화하여 제조되는 고내열 수지를 일컫는다. 이와 같은 폴리이미드 필름은 뛰어난 기계적, 내열성, 전기 절연성을 가지고 있기 때문에 반도체의 절연막, TFT-LCD의 전극 보호막 플랙시블 인쇄 배선 회로용 기판 등의 전자재료에 광범위한 분야에서 사용되고 있다.
그러나 폴리이미드 수지는 보통 높은 방향족 고리 밀도로 인하여 갈색 및 황색으로 착색되어 있어 가시광선 영역에서의 투과도가 낮고 노란색 계열의 색을 나타낸다. 이에 따라, 광투과율이 저하되고, 큰 복굴절률을 나타내어 광학부재로 사용하기에는 곤란한 점이 있다.
이러한 한계를 해결하기 위하여 단량체 및 용매를 정제하여 중합하는 방법이 기존에 시도된 바 있었으나, 투과율 개선은 크지 않았다. 이에 대해, 미국특허 제5053480호는 방향족 디안하이드라이드 대신 지방족 고리계 디안하이드라이드 성분을 사용하는 방법을 이용하여, 용액상이나 필름화 하였을 때의 투명도 및 색상을 개선하기도 하였다. 그러나 이는 정제방법에 비해 향상된 효과였을 뿐, 궁극적으로 투과도를 개선하기에는 한계가 있어 높은 투과도는 달성하지 못하였고, 오히려 열적 및 기계적 저하를 가져오는 결과를 보였다.
또한, 미국특허 제4595548호, 제4603061호, 제4645824, 제4895972호, 제5218083호, 제5093453호, 제5218077호, 제5367046호, 제5338826호. 제5986036호, 제6232428호 및 대한민국 특허공개공보 제2003-0009437호를 통해 -CF3 등의 치환기를 갖거나, -O-, -SO2-, CH2- 등의 연결기에 의해 p-위치가 아닌 m-위치로 연결된 굽은 구조의 방향족 디안하이드라이드 이무수물과 방향족 디아민 단량체를 사용하여, 열적 특성이 크게 저하되지 않는 한도에서 투과도 및 색상의 투명도를 향상시킨 신규 구조의 폴리이미드가 개시되기도 하였다. 그러나 이 역시, 기계적 특성, 내열성, 복굴절 측면에서 한계가 발생하여, OLED, TFT-LCD, 플렉시블 디스플레이 등의 표시소자 소재로 사용하기에는 부족한 것으로 확인되었다.
이에 본 발명을 통해 복굴절률이 낮고 무색투명하면서도 기계적 특성 및 내열성이 우수한 필름을 형성하기 위한 폴리아마이드-이미드 전구체를 제공하고자 한다. 아울러, 상기 폴리아마이드-이미드 전구체를 이미드화하여 제조한 폴리아마이드-이미드 필름 및 이를 포함하는 영상 표시소자를 제공하고자 한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 바람직한 제 1 구현예는 디안하이드라이드와 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 1 블록; 및 방향족 디카르보닐 화합물과 방향족 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 2 블록을 분자구조 내에 포함하는 폴리아마이드-이미드 전구체이다. 단, 여기서 상기 디안하이드라이드는 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)을 포함하고, 상기 디아민은 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)를 포함한다.
또한, 본 발명의 바람직한 제 2 구현예는 상기 제 1 구현예의 폴리아마이드-이미드 전구체를 이미드화시킨 구조를 갖는 폴리아마이드-이미드이며, 제 3 구현예는 상기 제 1 구현예의 폴리아마이드-이미드 전구체를 이미드화하여 제조된 폴리아마이드-이미드 필름이다.
나아가, 본 발명의 바람직한 제 4 구현예는 상기 제 3 구현예의 폴리아마이드-이미드 필름을 포함하는 영상 표시소자이다.
본 발명의 폴리아마이드-이미드 전구체는 이미드화 할 경우 복굴절률이 낮고 무색투명하면서도 기계적 특성 및 내열성이 우수한 필름 또는 막을 형성할 수 있다. 특히, 본 발명에 따라 제조된 폴리아마이드-이미드 필름은 반도체 절연막, TFT-LCD 절연막, 패시베이션막, 액정배향막, 광통신용 재료, 태양전지용 보호막, 플랙시블 디스플레이 기판 등의 다양한 분야에 유용하게 사용될 수 있다.
도 1은 열변형해석법(TMA-Method)에 의해 50 내지 250℃ 구간에서 1~3회 반복 측정한 본 발명의 폴리이미드 필름(필름 두께 12㎛ 기준) 일예의 치수변형(Dimension change) 그래프이다.
본 발명은 디안하이드라이드와 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 1 블록; 및 방향족 디카르보닐 화합물과 방향족 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 2 블록을 분자구조 내에 포함하는 폴리아마이드-이미드 전구체를 제공한다. 단, 여기서 상기 디안하이드라이드는 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)을 포함하고, 상기 디아민은 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)를 포함하는 것이다.
보다 구체적으로 본 발명은 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)을 포함하는 디안하이드라이드와 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)를 포함하는 디아민이 공중합된 제 1 블록; 및 방향족 디카르보닐 화합물과 방향족 디아민이 공중합된 제 2 블록을 분자구조 내에 포함하는 폴리아마이드-이미드 전구체를 제공하는 것이다.
본 발명의 폴리아마이드-이미드 전구체는 영상표시소자의 기판 또는 보호층 등의 용도로 필름화되었을 때, 광학 특성은 물론 열적, 기계적 특성이 우수할 수 있도록, 이미드 결합을 포함하는 제 1 블록과 아마이드 결합을 포함하는 제 2 블록이 분자 구조내에 동시에 존재하도록 중합한 것이다. 즉, 통상 이미드 구조로만 이루어진 경우, 부족할 수 있는 기계적 물성을 아마이드 결합을 포함한 제 2 블록 통해 확보함으로써, 최종적으로 열적 안정성, 기계적 물성, 낮은 복굴절률 및 광학 특성을 균형있게 개선시킬 수 있는 것이다.
특히, 본 발명에서는 제 1 블록을 형성하는 디아민로 비스트리플루오로메틸 벤지딘(TFDB)을 사용함으로써 열 안정성과 광학 특성을 향상시킬 수 있고, 디안하이드라이드로서 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)와 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA)를 사용함으로써, 복굴절 향상 및 내열성을 확보할 수 있다.
이때, 제 1 블록을 형성하는 상기 디안하이드라이드는 두 종류의 디안아이드라이드 즉, 6FDA와 BPDA를 동시에 포함함에 따라, 제 1 블록에는 TFDB와 6FDA가 결합된 중합체 및 TFDB와 BPDA가 결합된 중합체가 별도의 반복단위를 기준으로 각각 구분되어 포함될 수도 있고, 동일한 반복단위 내에 규칙적으로 배열될 수도 있으며, 또는 완전히 랜덤하게 배열되어 포함되어 있을 수도 있다.
본 발명에서 상기 제 1 블록을 형성하는 단량체 중 디안하이드라이드로서 BPDA와 6FDA는 1:3 내지 3:1의 몰비로 포함되는 것이 광학적 특성 확보는 물론, 기계적 물성과 내열성 저하를 방지할 수 있고 우수한 복굴절을 갖기에 유리하다. BPDA의 비율이 6FDA에 비해 1/3 미만 즉, 6FDA가 BPDA의 3배 초과하여 첨가될 경우 내열성 및 기계적 특성을 확보할 수 없고, 반대로 BPDA가 6FDA의 3배를 초과 즉, 6FDA의 비율이 BPDA의 1/3 미만일 경우 기계적 특성은 향상될 수 있으나, 복굴절 값이 함께 증가하므로 바람직하지 않다.
또한, 본 발명에서 상기 제 1 블록과 제 2 블록은 몰비가 5:1 내지 1:1인 것이 바람직하다. 만약 제 2 블록의 함량이 현저히 낮을 경우 열적 안정성 및 기계적 특성의 개선이 미미하여 디스플레이 제조 공정시, 뒤틀림 현상 및 찢어지는 현상이 발생할 수 있다. 반면, 제 1 블록의 함량보다 더 높을 경우 열적 안정성 및 기계적 물성은 향상될 수 있으나, 황색도나 투과도 등이 저하되는 등 광학 특성이 감소되며, 복굴절 특성 높아져 광학용 소자로 적용되기에는 부적합할 수 있다. 다만, 상기 제 1 블록과 제 2 블록은 랜덤 공중합체를 이루는 것일 수도 있고, 블록 공중합체를 이루는 것일 수도 있어 블록의 반복단위는 본 발명에서 특별히 제한되지 않는다.
본 발명에서 상기 제 2 블록을 형성하는 방향족 디카르보닐 화합물로는 테레프탈로일 클로라이드(p-Terephthaloyl chloride, TPC), 테레프탈릭 엑시드(Terephthalic acid), 이소프탈로일 디클로라이드(Iso-phthaloyl dichloirde) 및 4,4'-벤조일 디클로라이드(4,4'-benzoyl chloride)로 구성된 군에서 선택된 1 종 이상인 것일 수 있으며, 보다 바람직하게는 테레프탈로일 클로라이드(p-Terephthaloyl chloride, TPC) 및 이소프탈로일 디클로라이드(Iso-phthaloyl dichloirde) 중 선택된 1 종 이상인 것을 사용할 수 있다.
또, 상기 제 2 블록을 형성하는 디아민으로는 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판(HFBAPP), 비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)술폰(BAPS), 비스(4-(3-미노페녹시)페닐)술폰(BAPSM), 4,4'-디아미노디페닐술폰(4DDS), 3,3'-디아미노디페닐술폰(3DDS), 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐 프로판(BAPP), 4,4'-디아미노디페닐프로판(6HDA), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(134APB), 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠(133APB), 1,4-비스(4-아미노페녹시)비페닐(BAPB), 4,4'-비스(4-아미노-2-트리플루오로 메틸페녹시)비페닐(6FAPBP), 3,3-디아미노-4,4,-디하이드록시디페닐술폰(DABS), 2,2,-비스(3-아미노-4-하이드록시페널)프로판(BAP), 4,4'-디아미노디페닐메탄(DDM), 4,4'-옥시디아닐린(4-ODA), 3,3'-옥시디아닐린(3-ODA)로 구성된 군에서 선택된 1종 이상의 유연기를 갖는 디아민을 사용할 수 있다.
방향족 디카르보닐 화합물을 사용할 경우 높은 열 안정성과 기계적 물성을 구현하기에는 용이할 수 있으나, 분자 구조내의 벤젠링에 의해 복굴절이 높게 나타날 수 있다. 이에 본 발명에서 제 2 블록에 의한 복굴절 저하를 방지하기 위해서 상기 디아민은 분자구조에 유연기가 도입된 것을 사용하는 것이 바람직하며, 비스(4-(3-아미노페녹시)페닐)술폰(BAPSM), 4,4'-디아미노디페닐술폰(4DDS) 및 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판(HFBAPP) 중 선택된 1 종 이상의 디아민인 것이 보다 바람직하다. 특히, BAPSM와 같이 유연기의 길이가 길고, 치환기의 위치가 meta 위치에 있는 디아민일수록 우수한 복굴절율을 나타낼 수 있다.
본 발명에서 상기 단량체를 중합하여 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)을 포함하는 디안하이드라이드와 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)를 포함하는 디아민이 공중합된 제 1 블록; 및 방향족 디카르보닐 화합물과 방향족 디아민이 공중합된 제 2 블록을 분자구조 내에 포함하는 폴리아마이드-이미드 전구체는 GPC(Gel Permeation Chromatography)에 의해 측정한 중량평균 분자량이 200,000내지 215,000이며, 점도가 2400 poise 내지 2600 poise인 것이 바람직하다.
한편, 본 발명은 상기 폴리아마이드-이미드 전구체를 탈수폐환 즉, 이미드화시킨 구조를 갖는 폴리아마이드-이미드 내지 이미드화하여 제조된 폴리아마이드-이미드 필름을 제공할 수도 있다. 본 발명에서 상기 폴리아마이드-이미드 전구체를 이용하여 폴리아마이드-이미드 수지나 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하기 위해서는 다음과 같은 이미드화 단계를 거칠 수 있다.
먼저 상술한 본 발명의 조건을 만족하는 <방향족 디안하이드라이드> 및 <방향족 디카르보닐 화합물과 디아민>을 1 : 1의 당량비로 공중합시켜 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 제조한다. 이때, 중합반응 조건은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 -10 내지 80℃에서 2 내지 48시간 동안 질소 또는 아르곤과 같은 불활성 분위기에서 수행할 수 있다.
이때, 상기 단량체들의 용액 중합반응을 위해 용매를 사용할 수 있고, 상기 용매로는 공지된 반응용매라면 이에 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 m-크레졸, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭사이드(DMSO), 아세톤, 디에틸아세테이트 등에서 선택된 하나 이상의 극성용매를 사용할 수 있다. 이외에도 테트라하이드로퓨란(THF), 클로로포름 등과 같은 저비점 용액 또는 γ-부티로락톤 등과 같은 저흡수성 용매를 사용할 수 있다.
또한, 상기 용매의 함량의 경우도 특별히 한정되지는 않으나, 적절한 폴리아마이드-이미드 전구체 용액의 분자량과 점도를 얻기 위하여 용매의 함량은 전체 폴리아마이드-이미드 전구체 용액의 50 내지 95중량%가 바람직하고, 70 내지 90중량%인 것이 보다 바람직할 수 있다.
이어서 수득된 폴리아마이드-이미드 전구체 용액은 공지된 이미드화법으로 적절하게 선택하여 이미드화할 수 있고, 그 일 예로는 열이미드화법, 화학이미드화법, 열이미드화법과 화학이미드화법을 병용하여 적용할 수 있다.
상기 화학이미드화법은 폴리아마이드-이미드 전구체 용액에 아세트산 무수물 등의 산무수물로 대표되는 탈수제와 이소퀴놀린, β-피콜린, 피리딘 등의 3급 아민류 등으로 대표되는 이미드화 촉매를 투입하여 반응시키는 방법이고, 열이미드화법은 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 40 내지 300℃의 온도범위에서 서서히 승온시키며 1 내지 8시간 가열하여 반응시키는 방법이다.
본 발명에서는 폴리아마미드-이미드 필름을 제조하는 일예로 열이미드화법과 화학이미드화법이 병용된 복합 이미드화법을 적용할 수 있다. 여기서 복합 이미드화법은 보다 구체적으로, 폴리아마이드-아미드 전구체 용액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 투입하여 지지체상에 캐스팅한 후, 80 내지 200℃ 바람직하게는 100 내지 180℃에서 가열하여 탈수제 및 이미드화 촉매를 활성화하고, 부분적으로 경화 및 건조한 후에 200 내지 400℃에서 5 내지 400초간 가열하는 일련의 과정으로 수행될 수 있다.
또한, 본 발명에서는 수득된 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 이미드화한 후, 이미드화한 용액을 제 2 용매에 투입하고 침전, 여과 및 건조하여 폴리아마이드-이미드 수지의 고형분을 수득하고, 수득된 폴리아마이드-이미드수지 고형분을 다시 제 1 용매에 용해시켜 제막함으로써 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하는 것도 가능하다. 상기 폴리아마이드-이미드 수지 고형분을 여과한 후 건조하는 조건은 제 2 용매의 끓는점을 고려하여 온도는 50 내지 120℃, 시간은 3 내지 24 시간인 것이 바람직하며, 제막 공정은 캐스팅하여 40 내지 400℃의 온도범위에서 서서히 승온시키면서 1분 내지 8시간 가열하여 수행될 수 있다.
또, 상기 제 1 용매로는 폴리아마이드-이미드 전구체 용액 중합시 사용한 용매와 동일한 용매를 사용할 수 있고, 상기 제 2 용매로는 폴리아마이드-이미드 수지의 고형분을 수득하기 위하여 제 1 용매보다 극성이 낮은 용매 즉, 물, 알코올류, 에테르류 및 케톤류 중 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 이때, 상기 제 2 용매의 함량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리아마이드-이미드 전구체 용액의 중량에 대해 5 내지 20중량배인 것이 바람직하다.
본 발명에서는 필름 내에 남아 있는 열 이력 및 잔류 응력을 해소하기위해 얻어진 폴리아마이드-이미드 필름을 한번 더 열처리할 수 있다. 이때, 추가 열처리공정의 온도는 300 내지 500℃가 바람직하며, 열처리 시간은 1분 내지 3시간이 바람직하고, 열처리를 마친 필름의 잔류 휘발성분은 5%이하이며, 바람직하게는 3%이하일 수 있다. 이로써, 열처리된 필름은 최종적으로 열적 특성이 매우 안정적으로 나타나게 되는 것이다.
본 발명에서 상기 폴리아마이드-이미드 필름의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5 내지 100㎛의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 9 내지 15㎛인 것이 좋다.
본 발명에 따른 상기 폴리아마이드-이미드 필름은 필름 두께 10 내지 50㎛를 기준으로 TE(Transeverse Elictric)-TM(Transverse magnetic)으로 정의되는 복굴절(n)이 0.017 이하이고, 550nm에서 측정한 투과도가 88% 이상이며, 황색도가 6.5이하인 광학특성을 나타내므로 디스플레이의 기판 또는 보호층 등의 광학 소자로서 유용하게 이용될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 폴리아마이드-이미드 필름은 필름 두께 10 내지 50㎛를 기준으로 열변형해석법(TMA-Method)에 의해 50 내지 250℃에서 2회 반복하여 측정한 선형 열팽창 계수(CTE)가 70ppm/℃ 이하일 수 있으며, 10 내지 50㎛를 기준으로 열변형해석법(TMA-Method)에 의해 50 내지 250℃ 구간에서 1 내지 3회 반복하여 측정하였을 때, 첫번째 승온 곡선에서의 최소값(50℃에서 측정된 치수변형 값, A)과 냉각 곡선에서의 최소값(50℃에서 측정된 치수변형값, B)의 차이(|A-B|)로 정의되는 치수변형 차(△DC)가 100㎛ 이하일 수 있다.
아울러 ASTM D882(필름 두께 10 내지 50㎛)를 기준으로 측정한 파단신율이 7% 이상이므로 디스플레이 제작시 가혹한 공정 조건 또는 급격한 온도 변화에도 휘어지거나 변형이 쉽게 일어나지 않으므로 우수한 수율을 나타낼 수 있다.
나아가 본 발명은 전술한 폴리이미드 필름을 포함함으로써 광학적 특성과 물리적 특성이 동시에 우수하며 제조수율이 높은 영상 표시소자를 제공할 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 이에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 280.215g을 채운 후에 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB) 30.742g(0.096mol)을 용해하였다. 여기에 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA) 21.184g(0.072mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA) 9.063g(0.0204mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판(HFBAPP) 12.443g(0.024mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드(Propylene oxide) 6.434g(0.1104mol)을 넣은 후, 테레프탈로일 클로라이드(TPC) 5.603g(0.0276mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 2510poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 60㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 30분, 150℃에서 30분, 280℃에서 30분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 12㎛인 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
실시예 2
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 291.254g을 채운 후에 TFDB 30.742g(0.096mol)을 용해하였다. 여기에 BPDA 14.123g(0.048mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 6FDA 19.725g(0.0444mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 12.443g(0.024mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 6.434g(0.1104mol)을 넣은후 TPC 5.603g(0.0276mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 2010poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
실시예 3
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 291.254g을 채운 후에 TFDB 30.742g(0.096mol)을 용해하였다. 여기에 BPDA 7.061g(0.024mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 6FDA 30.387g(0.0684mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 12.443g(0.024mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 6.434g(0.1104mol)을 넣은 후, TPC 5.603g(0.0276mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 1860poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
실시예 4
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 292.981g을 채운 후에 TFDB 30.742g(0.096mol)을 용해하였다. 여기에 BPDA 14.123g(0.048mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 6FDA 19.725g(0.0444mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 12.443g(0.024mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 6.434g(0.1104mol)을 넣은 후 이소프탈로일 디클로라이드(IPC) 5.603g(0.0276mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 1460poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
실시예 5
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 294.343g을 채운 후에 TFDB 26.899g(0.084mol)을 용해하였다. 여기에 BPDA 12.357g(0.042mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 6FDA 17.059g(0.0384mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 18.665g(0.036mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 9.232g(0.1584mol)을 넣은 후 TPC 8.040g(0.0396mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 1560poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
실시예 6
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 298.958g을 채운 후에 TFDB 19.214g(0.06mol)을 용해하였다. 여기에 BPDA 8.827g(0.03mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 6FDA 12.261g(0.0276mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 31.108g(0.06mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 14.826g(0.254mol)을 넣은 후 TPC 12.912g(0.0636mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 1364poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
실시예 7
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 285.666g을 채운 후에 TFDB 30.742g(0.096mol)을 용해하였다. 여기에 BPDA 14.123g(0.048mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 6FDA 19.725g(0.0444mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 비스(4-(3-아미노페녹시)페닐)술폰(BAPSM) 10.38g(0.024mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 6.434g(0.1104mol)을 넣은 후 TPC 5.603g(0.0276mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 3010poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
실시예 8
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 291.254g을 채운 후에 TFDB 30.742g(0.096mol)을 용해하였다. 여기에 BPDA 14.123g(0.048mol)을 1시간 동안 반응시켰다. 그 후, 6FDA 19.725g(0.0444mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 4,4'-디아미노디페닐술폰(4DDS) 5.959g(0.024mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 6.434g(0.1104mol)을 넣은 후 TPC 5.603g(0.0276mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 518poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 1
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 327.071g을 채운 후에 HFBAPP 41.477g(0.08mol)을 넣고 용해 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 18.65g(0.32mol)을 넣은 후 TPC 16.242g(0.08mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 15 중량%이고, 점도가 1640poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 2
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 327.071g을 채운 후에 HFBAPP 41.477g(0.08mol)을 넣고 용해 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 18.65g(0.32mol)을 넣은 후 IPC 16.242g(0.08mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 15 중량%이고, 점도가 1140poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 3
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 288.098g을 채운 후에 BAPSM 34.599g(0.08mol)을 넣고 용해 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 18.65g(0.32mol)을 넣은 후 TPC 16.242g(0.08mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 15 중량%이고, 점도가 210poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 4
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 324.958g을 채운 후에 4DDS 19.865g(0.08mol)을 넣고 용해 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 18.65g(0.32mol)을 넣은 후 TPC 16.242g(0.08mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 10 중량%이고, 점도가 24poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 5
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 312.94g을 채운 후에 TFDB 38.428g(0.12mol)을 넣고 용해 후 BPDA 26.48g(0.09mol)을 넣고 2시간 반응시킨 후 여기에 6FDA 13.328g(0.03mol)을 넣은 후 18시간 반응하여 고형분의 농도가 20 중량%이고, 점도가 450poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 6
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 330.943g을 채운 후에 TFDB 38.428g(0.12mol)을 넣고 용해 후 BPDA 17.653g(0.06mol)을 넣고 2시간 반응시킨 후 여기에 6FDA 26.655g(0.03mol)을 넣은 후 18시간 반응하여 고형분의 농도가 20 중량%이고, 점도가 342poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 7
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 348.947g을 채운 후에 TFDB 38.428g(0.12mol)을 넣고 용해 후 BPDA 8.827g(0.03mol)을 넣고 2시간 반응시킨 후 여기에 6FDA 39.983g(0.09mol)을 넣은 후 18시간 반응하여 고형분의 농도가 20 중량%이고, 점도가 245poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다.
이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 8
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 317.68g을 채운 후에 TFDB 26.899g(0.084mol)을 용해하였다. 여기에, 6FDA 36.197g(0.08148mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 18.665g(0.036mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 8.392g(0.144mol)을 넣은 후 TPC 7.309g(0.036mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 1840poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다. 이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 9
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 274.343g을 채운 후에 TFDB 26.899g(0.084mol)을 용해하였다. BPDA 23.973g(0.0814mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 18.665g(0.036mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 8.392g(0.144mol)을 넣은 후 TPC 7.309g(0.036mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 1140poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다. 이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 10
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 273.972g을 채운 후에 4DDS 20.859g(0.084mol)을 용해하였다. BPDA 12.357g(0.042mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 6FDA 17.539g(0.0394mol)을 투입 후 2시간 반응시킨다. 그 후 HFBAPP 18.665g(0.036mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 8.392g(0.144mol)을 넣은후 TPC 7.309g(0.036mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 214poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다. 이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 11
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 261.6g을 채운 후에 TFDB 26.899g(0.084mol)와 4DDS 8.94(0.036mol)을 용해하였다. BPDA 12.357g(0.042mol)과 6FDA 17.539g(0.0394mol)넣고 넣고 용해 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 8.392g(0.144mol)을 넣은 후 TPC 7.309g(0.036mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 524poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다. 이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 12
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 272.12을 채운 후에 TFDB 38.428g(0.12mol)와 용해 후. BPDA 12.357g(0.042mol)과 6FDA 17.539g(0.042mol)넣고 넣고 용해 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 8.392g(0.144mol)을 넣은 후 TPC 7.309g(0.036mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 1420poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다. 이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
비교예 13
반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 270.874g을 채운 후에 TFDB 11.528g(0.036mol)을 용해하였다. BPDA 3.531g(0.012mol)을 2시간 반응시킨 후, 6FDA 10.129g(0.0228mol)을 넣고 2시간 반응시키고, 그 후 HFBAPP 43.551g(0.084mol)을 넣고 1시간 용해 시킨다. 그 후 용액의 온도를 15℃ 이하로 유지한 후 프로필렌 옥사이드 19.582g(0.336mol)을 넣은 후 TPC 17.054g(0.084mol)을 넣고 18시간 반응하여 고형분의 농도가 22 중량%이고, 점도가 272poise인 폴리아마이드-이미드 전구체 용액을 수득하였다. 이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리아마이드-이미드 필름을 제조하였다.
< 측정예 >
상기 실시예 및 비교예로 제조된 폴리아마이드-이미드 필름을 하기의 방법으로 물성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
(1) 점도: Brookfield 점도계(RVDV-II+P)를 25에서 6번 또는 7번 scandal을 사용하여 50rpm에서 2회 측정하여 평균값을 측정하였다.
(2) 투과도 측정: UV분광계(코티카 미놀타 CM-3700d)를 이용하여 550nm에서 투과도를 3번 측정 하여 평균값을 표 1에 기재하였다.
(3) 황색도(Y.I.) 측정: UV분광계 (Konita Minolta, CM-3700d)를 이용하여 ASTM E313규격으로 황색도를 측정하였다.
(4) 복굴절 측정: 복굴절 분석기(Prism Coupler, Sairon SPA4000)를 이용하여 532nm에서 TE(Transeverse Elictric)모드와 TM(Transverse magnetic)모드에서 각각 3회씩 측정하여 평균값을 측정하였고, (TE 모드)-(TM 모드)를 복굴절 값으로 반영하였다.
(5) 열팽창 계수(CTE) 측정: TMA(TA Instrument사, Q400)을 이용하여 TMA- Method에 따라 2번에 걸쳐 50~250℃에서의 선형 열팽창 계수를 측정하였다. 시편의 크기는 4mm×24mm, 하중은 0.02N으로 승온 속도는 10℃/min으로 하였다. 이때, 필름을 제막하고 열처리를 통하여 필름 내에 잔류 응력이 남아 있을 수 있기 때문에 첫 번째 작동(Run)으로 잔류응력을 완전히 제거 후, 두 번째 값을 실측정치로 제시하였다.
(6) 치수 변형: Dimension Change(DC) 측정. TMA(TA Instrument사, Q400)을 이용하여 열변형해석법(TMA-Method)에 의해 50 내지 250℃ 구간에서 1 내지 3회 반복하여 측정하고, 첫번째 승온 곡선에서의 최소값(50℃에서 측정된 치수변형 값, A)과 냉각 곡선에서의 최소값(50℃에서 측정된 치수변형값, B)의 차(치수변형 차△DC=|A-B|)를 계산하였다.
(7) 파단신율 (Elongation at break)(%) 측정: Instron사의 5967을 사용하여 ASTM-D882의 기준에 맞추어 측정하였다. 시편의 크기는 15mm×100mm, Load cell 1KN, Tension rate를 10mm/min으로 측정하였다.
구분 성분
(제1블록)+(제2블록)
몰비 점도
(poise)
550nm
투과도
(%)
Y.I.
실시예1 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+TPC)
(80:60:20)
+ (20:20)
2510 88.42 6.2
실시예2 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+TPC)
(80:40:40)
+ (20:20)
2010 89.12 4.5
실시예3 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+TPC)
(80:20:60)
+ (20:20)
1860 89.72 4.1
실시예4 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+IPC)
(80:40:40)
+ (20:20)
1460 89.24 4.8
실시예5 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+TPC)
(70:35:35)
+ (30:30)
1560 88.2 5.3
실시예6 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+TPC)
(50:25:25)
+ (50:50)
1364 88 5.46
실시예7 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (BAPSM+TPC)
(80:40:40)
+ (20:20)
3010 89.16 3.8
실시예8 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (4DDS+TPC)
(80:40:40)
+ (20:20)
518 88.96 4.68
비교예1 HFBAPP+TPC 100:100 1640 83.24 11.2
비교예2 HFBAPP+IPC 100:100 1140 82.64 12.64
비교예3 BAPSM+TPC 100:100 210 85.43 6.51
비교예4 4DDS+TPC 100:100 24 87.25 2.11
비교예5 TFDB+BPDA+6FDA 100:75:25 450 90.1 2.71
비교예6 TFDB+BPDA+6FDA 100:50:50 342 90.34 2.1
비교예7 TFDB+BPDA+6FDA 100:25:75 245 90.46 1.89
비교예8 (TFDB+6FDA) + (HFBAPP+TPC) (70:70)
+ (30:30)
1840 89.85 3.46
비교예9 (TFDB+BPDA) + (HFBAPP+TPC) (70:70)
+ (30:30)
1140 88.1 8.41
비교예10 (4DDS+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+TPC)
(70:35:35)
+ (30:30)
214 88.01 5.6
비교예11 TFDB+4DDS:BPDA+6FDA:TPC 70+30:35+35:30 524 87.64 5.1
비교예12 TFDB:BPDA+6FDA:TPC 100:35+35:30 1420 89.4 2.8
비교예13 (TFDB+BPDA+6FDA)
+ (HFBAPP+TPC)
(30:10:20)
+ (70:70)
272 86.4 8.4
구분 Prism Coupler 선선형
열팽창계수
(ppm/℃)
Dimension Change (㎛) 파단신율
(%)
TE모드 TM모드 복굴절
실시예1 1.6429 1.6259 0.0170 52 100 8
실시예2 1.6115 1.5972 0.0143 56 65 7.6
실시예3 1.6095 1.6005 0.0090 62 42 7.1
실시예4 1.6083 1.6015 0.0068 60 32 7.5
실시예5 1.6233 1.6153 0.0080 67 45 8.6
실시예6 1.6249 1.6152 0.0097 62 36 9.4
실시예7 1.6236 1.6169 0.0067 54 58 7.2
실시예8 1.635 1.6223 0.0127 58 76 7.8
비교예1 1.634 1.614 0.02 75 35 22
비교예2 1.629 1.616 0.013 82 24 24
비교예3 1.6928 1.6922 0.0006 78 40 9
비교예4 1.7273 1.6979 0.0294 42 21 8
비교예5 1.6106 1.597 0.0136 54 185 5.5
비교예6 1.5978 1.5865 0.0113 62 120 5
비교예7 1.5758 1.5654 0.0104 68 104 4.8
비교예8 1.6197 1.6158 0.0039 72 46 5.6
비교예9 1.6459 1.6255 0.0204 47 115 9.1
비교예10 1.6601 1.6525 0.0076 69 50 6.7
비교예11 1.635 1.6223 0.0127 60 42 8.2
비교예12 1.6177 1.5996 0.0181 54 64 5.4
비교예13 1.624 1.611 0.013 66 41 14
상기 표 1 및 표 2에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 8은 비교예 1 내지 4와 비교하였을 때 평균적으로 투과도는 높고 황색도(YI)와 복굴절률이 낮아 무색투명하면서 우수한 복굴절률 특성을 갖는 필름으로서 적합하다는 것을 알 수 있었다. 또한, 열팽창 계수가 낮아 내열성이 우수함을 알 수 있었다.
한편, 비교예 5 내지 7은 투과도와 황색도 면에서 우수한 특성을 보이지만, 기계적 물성(파단신율 %)과 Dimension Change 부분에서 큰 값을 나타내는 것을 볼 수 있다. 이에 반해 실시예 1 내지 8은 비교예 5 내지 7과 동등수준의 투과도를 가지면서도 복굴절은 보다 우수하고 무엇보다 치수변화가 작고, 파단신율이 우수하게 나타나 기계적 특성이 일반 폴리이미드 필름에 비해 우수함을 알 수 있었다. 특히, 유연기의 길이가 길고 치환기의 위치가 meta인 디아민(BAPSM)을 첨가한 경우(실시예 7)는 복굴절과 CTE값이 보다 개선됨을 확인할 수 있었다.
또한, 디안하이드라이드에 BPDA가 포함되지 않은 비교예 8의 경우 내열성 및 신율 개선에 한계가 있었고, 비교예 9와 같이 6FDA가 포함되지 않을 경우엔 광학 특성 및 치수변형이 저하되었다. 아울러 제 1 블록을 형성하는 디아민으로 TFDB가 사용되지 않을 경우 비교예 10과 같이 파단신율 개선 효과가 저조하고, 제 1 블록과 제 2 블록을 순서대로 형성하지 않아 중합이 랜덤하게 일어난 비교예 11의 경우, 블록이 구분되도록 중합한 실시예 5와 비교하여 복굴절율이나 투과율이 낮음을 알 수 있었다.
나아가, 비교예 12에서와 같이 유연기를 가진 별도의 방향족 디아민을 쓰지 않고 제 1 블록이 형성되고 남은 디아민을 이용하여 제 2 블록을 형성할 경우에는 되면 복굴절의 제어 및 신율 개선이 힘든 것을 알 수 있었으며, 비교예 13과 같이 제 2 블록이 제 1 블록 보다 높은 몰비를 갖게 될 경우에는 파단신율은 개선이 많이 되지만 비교예 1 내지 4와 같이 황색도 등의 광학특성 및 내열도 개선의 향상에 한계가 있는 것으로 확인되었다.

Claims (13)

  1. 디안하이드라이드와 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 1 블록; 및 방향족 디카르보닐 화합물과 방향족 디아민을 포함하는 단량체들이 공중합된 제 2 블록을 분자구조 내에 포함하며,
    상기 디안하이드라이드는 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA) 및 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)을 포함하는 것이고, 상기 디아민은 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)를 포함는 것임을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 전구체.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 블록을 형성하는 방향족 디카르보닐 화합물은 테레프탈로일 클로라이드(p-Terephthaloyl chloride, TPC), 이소프탈로일 디클로라이드(Iso-phthaloyl dichloirde) 및 4,4'-벤조일 디클로라이드(4,4'-benzoyl chloride)로 구성된 군에서 선택된 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 전구체.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 블록을 형성하는 방향족 디아민은 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판(HFBAPP), 비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)술폰(BAPS), 비스(4-(3-미노페녹시)페닐)술폰(BAPSM), 4,4'-디아미노디페닐술폰(4DDS), 3,3'-디아미노디페닐술폰(3DDS), 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐 프로판(BAPP), 4,4'-디아미노디페닐프로판(6HDA), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(134APB), 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠(133APB), 1,4-비스(4-아미노페녹시)비페닐(BAPB), 4,4'-비스(4-아미노-2-트리플루오로 메틸페녹시)비페닐(6FAPBP), 3,3-디아미노-4,4,-디하이드록시디페닐술폰(DABS), 2,2,-비스(3-아미노-4-하이드록시페널)프로판(BAP), 4,4'-디아미노디페닐메탄(DDM), 4,4'-옥시디아닐린(4-ODA), 3,3'-옥시디아닐린(3-ODA)로 구성된 군에서 선택된 1종 이상인 것임을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 전구체.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 블록과 제 2 블록은 몰비가 5:1 내지 1:1인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 전구체.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 비페닐테트라카르복실산 디안하이드라이드(BPDA)와 2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)는 제 1 블록을 형성하는 디안하이드라이드 내에 1:3 내지 3:1의 몰비로 포함되는 것임을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 전구체.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항의 폴리아마이드-이미드 전구체를 이미드화시킨 구조를 갖는 폴리아마이드-이미드 수지.
  7. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항의 폴리아마이드-이미드 전구체를 이미드화하여 제조된 폴리아마이드-이미드 필름.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 폴리아마이드-이미드 필름은 TE(Transeverse Elictric)-TM(Transverse magnetic)으로 정의되는 복굴절(n)이 0.017 이하인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 필름.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 폴리아마이드-이미드 필름은 필름 두께 10 내지 50㎛를 기준으로 열변형해석법(TMA-Method)에 의해 50 내지 250℃에서 2회 반복하여 측정한 선형 열팽창 계수(CTE)가 70ppm/℃ 이하인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 필름.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 폴리아마이드-이미드 필름은 필름 두께 10 내지 50㎛를 기준으로 550nm에서 측정한 투과도가 88% 이상이며, 황색도가 6.5이하인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 필름.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름은 ASTM D882(필름 두께 10 내지 50㎛)를 기준으로 측정한 파단신율이 7% 이상인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 필름.
  12. 제 7 항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름은 필름 두께 10 내지 50㎛를 기준으로 열변형해석법(TMA-Method)에 의해 50 내지 250℃ 구간에서 1 내지 3회 반복하여 측정하였을 때, 첫번째 승온 곡선에서의 최소값(50℃에서 측정된 치수변형 값, A)과 냉각 곡선에서의 최소값(50℃에서 측정된 치수변형값, B)의 차이(|A-B|)로 정의되는 치수변형 차(△DC)가 100㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드-이미드 필름.
  13. 제 7 항의 폴리아마이드-이미드 필름을 포함하는 영상 표시소자.
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Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018062887A1 (ko) * 2016-09-29 2018-04-05 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아믹산, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 영상 표시소자 및 폴리아믹산의 제조방법
KR20180037893A (ko) * 2016-10-05 2018-04-13 삼성전자주식회사 조성물, 폴리아미드이미드 복합체 및 폴리아미드이미드 필름 및 전자 소자
WO2018147618A1 (ko) * 2017-02-09 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름의 제조방법
WO2018147617A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
WO2018147602A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름
WO2018147606A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
WO2018147611A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름의 제조방법
JP2019002001A (ja) * 2017-06-09 2019-01-10 三星電子株式会社Samsung Electronics Co., Ltd. ポリイミドまたはポリ(アミド−イミド)コポリマーを含むフィルム、該フィルムを含む表示装置、および該フィルムの製造方法
JP2019105830A (ja) * 2017-12-08 2019-06-27 住友化学株式会社 光学積層体
KR20190080426A (ko) * 2017-12-28 2019-07-08 에스케이씨 주식회사 폴리(아마이드-이미드) 필름의 제조방법 및 이에 의해 제조된 폴리(아마이드-이미드) 필름
US20190233590A1 (en) * 2018-01-31 2019-08-01 Skc Co., Ltd. Polyamide-imide film and preparation method thereof
KR20200031593A (ko) * 2020-03-13 2020-03-24 에스케이씨 주식회사 폴리(아마이드-이미드) 필름의 제조방법 및 이에 의해 제조된 폴리(아마이드-이미드) 필름
KR20210001809A (ko) * 2019-06-28 2021-01-06 에스케이씨 주식회사 폴리이미드계 필름, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 커버 윈도우 및 디스플레이 장치
CN114685793A (zh) * 2020-12-25 2022-07-01 律胜科技股份有限公司 聚酰胺酰亚胺共聚物及含其的薄膜
WO2022145824A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 낮은 광투과도 변화율을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145823A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 우수한 광학 특성을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145826A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 낮은 색변환 지수를 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145825A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
US11407858B2 (en) 2018-01-09 2022-08-09 Lg Chem, Ltd. Polyamide-imide resin film
US11518853B2 (en) 2018-01-11 2022-12-06 Lg Chem, Ltd. Polyamide-imide resin film
US11970579B2 (en) 2017-09-12 2024-04-30 Sk Innovation Co., Ltd. Polyamic acid resin and polyamideimide film

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102350095B1 (ko) 2018-01-03 2022-01-11 주식회사 엘지화학 방향족 폴리(아미드-이미드) 공중합체 필름과 이의 제조 방법
CN113045756A (zh) * 2021-04-02 2021-06-29 北京大学 一种含有氢键的透明聚酰亚胺及其制备方法和应用
CN117106303A (zh) * 2023-08-21 2023-11-24 中山大学 一种聚酰胺-聚酰亚胺复合物及其制备方法和应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130029129A (ko) * 2011-05-18 2013-03-22 삼성전자주식회사 폴리(아미드-이미드) 블록 코폴리머, 이를 포함하는 성형품 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치
KR20130035691A (ko) * 2011-09-30 2013-04-09 코오롱인더스트리 주식회사 공중합 폴리아마이드-이미드 필름 및 공중합 폴리아마이드-이미드의 제조방법
KR20130074167A (ko) * 2011-12-26 2013-07-04 코오롱인더스트리 주식회사 플라스틱 기판
KR20140085064A (ko) * 2012-12-27 2014-07-07 한국과학기술원 낮은 열팽창 계수를 갖는 신규한 폴리아미드이미드

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8545975B2 (en) * 2006-06-26 2013-10-01 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Articles comprising a polyimide solvent cast film having a low coefficient of thermal expansion and method of manufacture thereof
WO2009107429A1 (ja) * 2008-02-25 2009-09-03 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム
CN103502314B (zh) * 2011-04-20 2016-02-03 株式会社钟化 聚酰胺酰亚胺溶液以及聚酰胺酰亚胺膜
KR101646283B1 (ko) * 2011-12-27 2016-08-08 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아믹산 용액
KR101961115B1 (ko) * 2012-02-07 2019-03-26 삼성전자주식회사 성형품, 이의 제조 방법 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치
KR101968258B1 (ko) * 2012-02-07 2019-04-12 삼성전자주식회사 폴리(아미드-이미드) 블록 코폴리머, 이를 포함하는 성형품 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치
EP2864400A4 (en) 2012-06-25 2016-02-24 Kolon Inc POLYAMIDE IMIDE COPOLYMER FILM AND PROCESS FOR PREPARING A POLYAMIDE IMIDE COPOLYMER
KR101535343B1 (ko) * 2012-06-29 2015-07-09 코오롱인더스트리 주식회사 폴리이미드 및 상기 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 필름
KR101995916B1 (ko) 2012-07-19 2019-07-03 삼성전자주식회사 폴리이미드 전구체 조성물, 이를 사용하여 제조된 성형품 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치
EP2690124B1 (en) * 2012-07-27 2015-09-16 Samsung Electronics Co., Ltd Composition Comprising Polyimide Block Copolymer And Inorganic Particles, Method Of Preparing The Same, Article Including The Same, And Display Device Including The Article
KR102110520B1 (ko) * 2013-08-26 2020-05-14 삼성전자주식회사 폴리(이미드-아미드) 코폴리머, 및 폴리(이미드-아미드) 코폴리머를 포함하는 조성물
CN104151823B (zh) 2014-09-02 2019-02-26 长春聚明光电材料有限公司 聚酰亚胺薄膜及其制备方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130029129A (ko) * 2011-05-18 2013-03-22 삼성전자주식회사 폴리(아미드-이미드) 블록 코폴리머, 이를 포함하는 성형품 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치
KR20130035691A (ko) * 2011-09-30 2013-04-09 코오롱인더스트리 주식회사 공중합 폴리아마이드-이미드 필름 및 공중합 폴리아마이드-이미드의 제조방법
KR20130074167A (ko) * 2011-12-26 2013-07-04 코오롱인더스트리 주식회사 플라스틱 기판
KR20140085064A (ko) * 2012-12-27 2014-07-07 한국과학기술원 낮은 열팽창 계수를 갖는 신규한 폴리아미드이미드

Cited By (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018062887A1 (ko) * 2016-09-29 2018-04-05 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아믹산, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 영상 표시소자 및 폴리아믹산의 제조방법
KR20180037893A (ko) * 2016-10-05 2018-04-13 삼성전자주식회사 조성물, 폴리아미드이미드 복합체 및 폴리아미드이미드 필름 및 전자 소자
CN110300773A (zh) * 2017-02-08 2019-10-01 Skc株式会社 聚酰胺-酰亚胺膜及其制备方法
CN110337460B (zh) * 2017-02-08 2022-03-22 Skc株式会社 聚酰胺酰亚胺膜及其制备方法
WO2018147602A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름
WO2018147606A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
WO2018147611A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름의 제조방법
KR20180092259A (ko) * 2017-02-08 2018-08-17 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
KR20180092300A (ko) * 2017-02-08 2018-08-17 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
US11434335B2 (en) 2017-02-08 2022-09-06 Skc Co., Ltd. Polyamide-imide film and method for producing same
CN110325568A (zh) * 2017-02-08 2019-10-11 Skc株式会社 聚酰胺-酰亚胺膜的制备方法
US11702519B2 (en) 2017-02-08 2023-07-18 SKC microworks CO., LTD. Polyamide-imide film and method for preparing same
CN110300773B (zh) * 2017-02-08 2022-07-01 Skc株式会社 聚酰胺-酰亚胺膜及其制备方法
CN110268004A (zh) * 2017-02-08 2019-09-20 Skc株式会社 聚酰胺-酰亚胺膜
CN114854014A (zh) * 2017-02-08 2022-08-05 Skc株式会社 聚酰胺-酰亚胺膜及其制备方法
US11433573B2 (en) 2017-02-08 2022-09-06 Skc Co., Ltd. Method for producing polyamide-imide film
US11267942B2 (en) 2017-02-08 2022-03-08 Skc Co., Ltd. Polyamide-imide film
WO2018147617A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
CN110337460A (zh) * 2017-02-08 2019-10-15 Skc株式会社 聚酰胺酰亚胺膜及其制备方法
CN110325568B (zh) * 2017-02-08 2021-12-10 Skc株式会社 聚酰胺-酰亚胺膜的制备方法
WO2018147618A1 (ko) * 2017-02-09 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름의 제조방법
US11559923B2 (en) 2017-02-09 2023-01-24 Skc Co., Ltd. Method for preparing polyamide-imide film
JP2019002001A (ja) * 2017-06-09 2019-01-10 三星電子株式会社Samsung Electronics Co., Ltd. ポリイミドまたはポリ(アミド−イミド)コポリマーを含むフィルム、該フィルムを含む表示装置、および該フィルムの製造方法
US11970579B2 (en) 2017-09-12 2024-04-30 Sk Innovation Co., Ltd. Polyamic acid resin and polyamideimide film
JP2019105830A (ja) * 2017-12-08 2019-06-27 住友化学株式会社 光学積層体
US11365287B2 (en) 2017-12-28 2022-06-21 Skc Co., Ltd. Process for preparing a poly(amide-imide) film and a poly(amide-imide) film prepared by the same
KR20190080426A (ko) * 2017-12-28 2019-07-08 에스케이씨 주식회사 폴리(아마이드-이미드) 필름의 제조방법 및 이에 의해 제조된 폴리(아마이드-이미드) 필름
US11407858B2 (en) 2018-01-09 2022-08-09 Lg Chem, Ltd. Polyamide-imide resin film
US11518853B2 (en) 2018-01-11 2022-12-06 Lg Chem, Ltd. Polyamide-imide resin film
US20190233590A1 (en) * 2018-01-31 2019-08-01 Skc Co., Ltd. Polyamide-imide film and preparation method thereof
KR20210001809A (ko) * 2019-06-28 2021-01-06 에스케이씨 주식회사 폴리이미드계 필름, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 커버 윈도우 및 디스플레이 장치
KR20200031593A (ko) * 2020-03-13 2020-03-24 에스케이씨 주식회사 폴리(아마이드-이미드) 필름의 제조방법 및 이에 의해 제조된 폴리(아마이드-이미드) 필름
CN114685793A (zh) * 2020-12-25 2022-07-01 律胜科技股份有限公司 聚酰胺酰亚胺共聚物及含其的薄膜
CN114685793B (zh) * 2020-12-25 2024-02-13 律胜科技股份有限公司 聚酰胺酰亚胺共聚物及含其的薄膜
WO2022145825A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145826A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 낮은 색변환 지수를 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145823A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 우수한 광학 특성을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145824A1 (ko) * 2020-12-31 2022-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 낮은 광투과도 변화율을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치

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Publication number Publication date
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