WO2022145825A1 - 낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치 - Google Patents

낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치 Download PDF

Info

Publication number
WO2022145825A1
WO2022145825A1 PCT/KR2021/019141 KR2021019141W WO2022145825A1 WO 2022145825 A1 WO2022145825 A1 WO 2022145825A1 KR 2021019141 W KR2021019141 W KR 2021019141W WO 2022145825 A1 WO2022145825 A1 WO 2022145825A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optical film
based compound
chlorine
reaction solution
dicarbonyl
Prior art date
Application number
PCT/KR2021/019141
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
최민희
박효준
정학기
Original Assignee
코오롱인더스트리 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코오롱인더스트리 주식회사 filed Critical 코오롱인더스트리 주식회사
Publication of WO2022145825A1 publication Critical patent/WO2022145825A1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1039—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042—Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14—Polyamide-imides
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Definitions

  • An embodiment of the present invention is to provide an optical film having a large light transmittance slope (sT), while effectively blocking the light of the ultraviolet wavelength region, while passing the light of the visible ray region with high transmittance.
  • ST light transmittance slope
  • the optical film may include 30 ppm (0.003 wt%) or less of a cyclic ether-based compound by weight.
  • the cyclic ether-based compound may include an epoxide-based compound, an oxetane-based compound, a tetrahydrofuran-based compound, and a tetrahydropyran-based compound.
  • the second dicarbonyl-based compound and the second chlorine (Cl) acceptor may be added until the apparent viscosity of the second reaction solution becomes 250 ⁇ 30 Ps.
  • the forming of the third reaction solution may include adding a dehydrating agent and an imidization catalyst to the second reaction solution, and stirring under reflux at a temperature of 60° C. to 80° C. for 30 minutes to 2 hours.
  • 1 is a view for explaining a light transmittance slope (sT).
  • the optical film according to an embodiment of the present invention includes a polymer resin.
  • the optical film according to an embodiment of the present invention may include an amide repeating unit formed by a diamine-based compound and a dicarbonyl-based compound.
  • a 1 and A 3 included in Formula 5 are the same as previously described.
  • sonication extraction is performed for 2 hours using distilled water.
  • a chlorine (Cl) extract can be obtained.
  • concentration of chlorine By performing ion chromatography analysis on the chlorine extract and calculating the concentration of chlorine, the content of chlorine can be evaluated.
  • two columns [IonPac AS18 Analytical (4x250 mm) + AG18 Guard (4x50 mm)] and eluent in the ICS 2000 model (Dionex ICS-2000 Ion Chromatography System) Analysis can be performed by installing [Dionex's EGC-KOH III Cartridge].
  • the chlorine (Cl) acceptor reacts with hydrochloric acid (HCl) in the manufacturing process of the optical film to become a chlorine (Cl) compound, and then is removed during the manufacturing process of the optical film.
  • HCl hydrochloric acid
  • a portion of the chlorine (Cl) acceptor may not react with hydrochloric acid and may not be removed during the manufacturing process of the optical film. Therefore, the optical film according to an embodiment of the present invention may include a trace amount of chlorine (Cl) receptor.
  • the optical film according to an embodiment of the present invention has a low chlorine (Cl) concentration, so even when exposed to light for a long time, it can be prevented that the light transmittance of the optical film is lowered.
  • the rate of change of light transmittance ( ⁇ TT) is calculated by Equation 2 below.
  • the heat treatment is to treat the optical film with heat at 150° C. for 30 minutes.
  • heat treatment may be performed by storing or leaving the optical film in an oven at 150° C. for 30 minutes.
  • the optical film according to an embodiment of the present invention may be applied to a display device to protect the display surface of the display panel.
  • the optical film according to an embodiment of the present invention may have a thickness sufficient to protect the display panel.
  • the optical film may have a thickness of 10 to 100 ⁇ m.
  • the organic emission layer 572 is disposed on the first electrode 571 .
  • the organic emission layer 572 may also be disposed on the bank layer 580 .
  • the organic emission layer 572 may include one emission layer or two or more emission layers stacked vertically. Light having any one of red, green, and blue colors may be emitted from the organic emission layer 572 , and white light may be emitted.
  • based on 100 mole parts of the diamine-based compound 20 to 60 mole parts of the dianhydride-based compound may be used.
  • propylene oxide (PO) among the epoxide-based compounds may be used as the first chlorine (Cl) acceptor.
  • the content of the first chlorine (Cl) acceptor is adjusted to 4 to 7 times the content of the first dicarbonyl-based compound, based on the number of moles.
  • the viscosity of the reaction solution may be adjusted by the second dicarbonyl-based compound and the second chlorine (Cl) acceptor.
  • the second dicarbonyl-based compound and the second chlorine (Cl) acceptor are reacted until the apparent viscosity of the second reaction solution is 250 ⁇ 30 Ps. may be added.
  • the apparent viscosity is 20 by subdividing the second reaction solution into a 100ml defoaming cup, preparing a reaction solution sample, and using a Viscometer (Brookfield, DV2TRV), a viscosity measuring device, with the 6th spindle. It is measured in rpm. After the measurement is completed, the subdivided reaction solution sample is put back into the reaction tank containing the second reaction solution, and the next process is continued.
  • a dehydrating agent and an imidization catalyst are added to the second reaction solution, and then reflux stirring may be performed at a temperature of 60 to 80° C. for 30 minutes to 2 hours. . As a result, a third reaction solution may be formed.
  • hydrochloric acid (HCl) generated during the formation of the first reaction solution and the second reaction solution is not sufficiently removed, so that chlorine (Cl) and chlorine compounds derived from the remaining hydrochloric acid (HCl) are It is more likely to be present in polyamide-imide based films.
  • the polymer resin thus obtained is in a solid powder state, and may include an imide repeating unit and an amide repeating unit.
  • the polymer resin may be, for example, a polyamide-imide-based resin.
  • a coating film of the polymer resin can be prepared.
  • the coating film prepared in this way can be said to be an intermediate of the optical film.
  • heat treatment is performed while raising the temperature from 120° C. to 250 to 350° C. at a temperature increase rate of 3° C./min.
  • additional heat treatment may be performed in an isothermal atmosphere for 10 to 30 minutes. As a result, an optical film can be manufactured.
  • Chlorine (Cl) content (ppm):
  • ⁇ T (light transmittance at 430 nm) - (light transmittance at 370 nm)

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예는, 중량 기준으로, 120 ppm (0.012 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함하는 광학 필름, 그 제조방법 및 상기 광학 필름을 포함하는 표시장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 낮은 염소 농도를 가져, 우수한 광학적 특성을 가지며, 장시간 사용되더라도 광학적 특성이 저하되지 않고 유지될 수 있다.

Description

낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
본 발명은 낮은 염소(Cl) 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치에 대한 것이다.
최근, 표시장치의 박형화, 경량화, 플렉서블화로 인하여, 커버 윈도우로 유리 대신 광학 필름을 사용하는 것이 검토되고 있다. 광학 필름이 표시장치의 커버 윈도우로 사용되기 위해서는, 우수한 광학적 특성 및 기계적 특성을 가져야 한다. 특히, 광학 필름이 외부 환경에서 장시간 사용되더라도, 광학 특성에 변화가 없는 광학 필름을 개발하는 것이 필요하다.
본 발명의 일 실시예는 낮은 염소(Cl) 농도를 가져, 우수한 광학 특성을 갖는 광학 필름을 제공하고자 한다.
본 발명의 다른 일 실시예는, 필름 내의 염소(Cl) 농도를 제어함으로써, 장시간 사용되더라도 광학적 특성이 유지될 수 있는 광학 필름을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예는, 큰 광투과도 기울기(sT)를 가져, 자외선 파장 영역의 빛은 효과적으로 차단하면서, 가시광선 영역의 빛은 높은 투과율로 통과시키는 광학 필름을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예는, 낮은 염소(Cl) 농도를 가져, 열처리 및 노광 처리 후에도 광투과도 변화율(ΔTT)이 작은 광학 필름을 제공하고자 한다.
본 발명의 다른 일 실시예는, 필름 내의 염소(Cl) 농도를 최소화할 수 있는, 광학 필름의 제조방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 또 다른 일 실시예는, 이러한 광학 필름을 포함하는 표시장치를 제공한다.
이러한 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시예는, 중량 기준으로 120 ppm (0.012 중량%) 이하의 염소(Cl) 농도를 갖는, 광학 필름을 제공한다. 상기 염소 농도는, 상기 광학 필름을 동결 건조 및 분말화한 후, 증류수를 이용하여 추출하여 얻어진 염소(Cl) 추출액에 대하여 이온 크로마토그래피 분석을 실시하여 측정된다.
상기 광학 필름은, 중량 기준으로 50 ppm (0.005 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함할 수 있다.
상기 광학 필름은, 중량 기준으로 10 ppm (0.001 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함할 수 있다.
상기 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로 88% 이상의 광투과도를 갖는다.
상기 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로 3 이하의 황색도를 갖는다.
상기 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로 1.0% 이하의 헤이즈(haze)를 갖는다.
상기 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로, 370nm에서 430nm까지의 파장 영역에서, 1.65 [%/nm] 이상의 광투과도 기울기(sT)를 가질 수 있다. 상기 광투과도 기울기(sT)는 파장 변화에 대한 광투과도 변화로서, 다음 식 1에 의하여 계산된다.
[식 1]
sT (%/nm) = ΔT/Δλ
상기 식 1에서, Δλ는 nm 단위로 표시되는 광의 파장을 나타내며, ΔT는 % 단위로 표시되는 광투과도 변화를 나타낸다.
상기 광학 필름은, 이미드 반복 단위 및 아마이드 반복 단위 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 광학 필름은, 중량 기준으로 30 ppm (0.003 중량%) 이하의 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예는, 표시패널 및 상기 표시패널 상에 배치된 상기의 광학 필름을 포함하는, 표시장치를 제공한다.
본 발명의 또 다른 일 실시예는, 디아민계 화합물, 디안하이드라이드계 화합물, 제1 디카르보닐계 화합물 및 제1 염소(Cl) 수용체를 이용하여 제1 반응액을 형성하는 단계, 상기 제1 반응액에 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체를 첨가하고 반응시켜 제2 반응액을 형성하는 단계, 상기 제2 반응액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 첨가하고 반응시켜 제3 반응액을 형성하는 단계, 상기 제3 반응액을 처리하여 고체 상태의 고분자 수지를 제조하는 단계, 상기 고체 상태의 고분자 수지를 용해시켜 고분자 수지 용액을 제조하는 단계 및 상기 고분자 수지 용액을 캐스팅하는 단계를 포함하며, 상기 제1 염소(Cl) 수용체의 함량은 몰(mole) 수 기준으로 상기 제1 디카르보닐계 화합물 함량의 4 내지 7배이고, 상기 제2 염소(Cl) 수용체의 함량은 몰(mole) 수 기준으로 상기 제2 디카르보닐계 화합물 함량의 4 내지 7배인, 광학 필름의 제조방법을 제공한다.
상기 디아민계 화합물 100 몰부(mole part)에 대하여, 상기 제1 디카르보닐계 화합물의 함량은 35 내지 79 몰부이고, 상기 제2 디카르보닐계 화합물의 함량은 1 내지 5 몰부일 수 있다.
상기 제2 디카르보닐계 화합물의 함량은, 상기 디아민계 화합물 100 몰부에 대하여 1 내지 3 몰부일 수 있다.
상기 제1 반응액 형성 후 1 내지 24 시간 경과 후, 상기 제1 반응액에 상기 제2 디카르보닐계 화합물 및 상기 제2 염소(Cl) 수용체를 첨가할 수 있다.
상기 제1 염소(Cl) 수용체 및 상기 제2 염소(Cl) 수용체는 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을 포함할 수 있다.
상기 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은, 에폭사이드(epoxide)계 화합물, 옥세탄(oxetane)계 화합물, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)계 화합물 및 테트라하이드로피란(tetrahydropyran)계 화합물을 포함할 수 있다.
상기 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은 프로필렌옥사이드(propylene oxide)계 화합물을 포함할 수 있다.
상기 제2 반응액을 형성하는 단계에서, 상기 제2 디카르보닐계 화합물 및 상기 제2 염소(Cl) 수용체는 상기 제2 반응액의 겉보기 점도가 250 ㅁ 30 Ps이 될 때까지 첨가될 수 있다.
상기 제3 반응액을 형성하는 단계는, 상기 제2 반응액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 첨가하고, 60℃ 내지 80℃의 온도에서 30분 내지 2시간 동안 환류 교반하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제3 반응액은 8 내지 9의 pH를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 낮은 염소 농도를 가져, 우수한 광학적 특성을 가질 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 낮은 염소 농도를 가져, 장시간 사용되더라도 광학적 특성이 저하되지 않고 유지될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 큰 광투과도 기울기(sT)를 가져, 자외선 파장 영역의 빛은 효과적으로 차단하면서, 가시광선 영역의 빛은 높은 투과율로 통과시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 낮은 염소(Cl) 함량비를 가지며, 열처리 및 노광 처리 후에도 광투과도 변화율(ΔTT)이 작아, 우수한 광학적 안정성을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 제조방법은, 광학 필름의 제조 과정에서 염소 수용체를 사용하는 단계를 포함하여, 광학 필름 내의 염소 농도를 최소화할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름을 포함하는 표시장치는 우수한 표시품질을 가지며, 장시간 사용되더라도 우수한 표시품질을 유지할 수 있다.
도 1은 광투과도 기울기(sT)를 설명하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시장치의 일부에 대한 단면도이다.
도 3은 도 1의 "P" 부분에 대한 확대 단면도이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명한다. 다만, 아래에서 설명되는 실시예들은 본 발명의 명확한 이해를 돕기 위한 예시적 목적으로 제시되는 것일 뿐, 본 발명의 범위를 제한하지 않는다.
본 발명의 실시예들을 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도면에 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 구성 요소는 동일 참조 부호로 지칭될 수 있다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명은 생략된다.
본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이라는 표현이 사용되지 않는 이상, 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소가 단수로 표현된 경우, 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함한다. 또한, 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수 있다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below, beneath)", "하부 (lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해 되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 마찬가지로, 예시적인 용어인 "위" 또는 "상"은 위와 아래의 방향을 모두 포함할 수 있다.
시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1 항목, 제2 항목 및 제3 항목 중 적어도 하나"의 의미는 제1 항목, 제2 항목 또는 제3 항목 각각 뿐만 아니라 제1 항목, 제2 항목 및 제3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동이 가능하다.
발명의 일 실시예는 광학 필름을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 고분자 수지를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 이미드 반복 단위 및 아마이드 반복 단위 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 디아민계 화합물 및 디안하이드라이드계 화합물에 의하여 형성된 이미드 반복 단위를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 디아민계 화합물 및 디카르보닐계 화합물에 의하여 형성된 아마이드 반복 단위를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 디아민계 화합물, 디안하이드라이드계 화합물 및 디카르보닐계 화합물에 의하여 형성된 아마이드 반복 단위 및 이미드 반복 단위를 모두 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 폴리이미드계 고분자, 폴리아마이드계 고분자 및 폴리아마이드-이미드계 고분자 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 폴리이미드 수지, 폴리아마이드 수지 및 폴리아마이드-이미드 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름은 폴리이미드계 필름, 폴리아마이드계 필름 및 폴리아마이드-이미드계 필름 중 어느 하나일 수 있다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 광투과성을 갖는 필름이라면 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름이 될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디아민계 화합물은 하기 화학식 1로 표현될 수 있다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000001
화학식 1에서, A1은 2가의 기(group)를 나타낸다. 예를 들어, A1은 탄소수 4 내지 40의 2가의 유기기(organic group)를 포함할 수 있다. 화학식 1에 포함된 유기기 중의 수소 원자는 할로겐 원소, 탄화수소기, 또는 할로겐 원소로 치환된 탄화수소기에 의해 치환될 수 있다. 여기서, 탄화수소기 또는 할로겐 원소로 치환된 탄화수소기의 탄소수는 1 내지 8일 수 있다. 예를 들어, A1에 포함된 수소는 -F, -CH3, -CF3 등으로 치환될 수 있다.
수소 원자가 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환된 디아민계 화합물을 사용하여 제조된 광학 필름은 우수한 광투과성 및 가공 특성을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 제조에 사용되는 디아민계 화합물로, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물이 있다.
본 발명의 일 실시예에서, "방향족 디아민"은 아미노기가 방향족 고리에 직접 결합되어 있는 디아민을 의미하며, 그 구조의 일부에 지방족 기 또는 기타의 치환기를 포함할 수도 있다. 방향족 고리는, 단일 고리 또는 단일 고리가 직접 또는 헤테로원자로 연결된 결합 고리일 수도 있고, 축합 고리일 수도 있다. 방향족 고리는, 예를 들어, 벤젠 고리, 비페닐 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리 및 플루오렌 고리를 포함할 수 있으며, 이들에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시예에서, "지방족 디아민"은 아미노기가 지방족 기에 직접 결합해 있는 디아민을 의미하며, 그 구조의 일부에 방향족 고리 또는 기타의 치환기를 포함할 수도 있다. 지방족 디아민은, 고리형 지방족 디아민 및 고리형이 아닌 비환식 지방족 디아민을 포함할 수 있다.
화학식 1의 A1은, 예를 들어, 하기의 구조식들 중 어느 하나로 표현되는 구조를 포함할 수 있다.
Figure PCTKR2021019141-appb-I000002
상기 구조식에서 *은 결합 위치를 나타낸다. 상기 구조식에서 X는 독립적으로 단일 결합, O, S, SO2, CO, CH2, C(CH3)2 및 C(CF3)2 중 어느 하나일 수 있다. X와 각 고리에 대한 결합 위치가 특별히 한정되는 것은 아니지만, X의 결합 위치는, 예를 들어, 각 고리에 대해 메타 또는 파라 위치일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디안하이드라이드계 화합물은 하기 화학식 2로 표현될 수 있다.
[화학식 2]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000003
화학식 2에서, A2는 4가의 기(group)를 나타낸다. 예를 들어, A2는 탄소수 4 내지 40의 4가의 유기기(organic group)를 포함할 수 있다. 화학식 2에 포함된 유기기 중의 수소 원자는 할로겐 원소, 탄화수소기 또는 할로겐 치환된 탄화수소기에 의해 치환될 수 있다. 여기서, 탄화수소기 또는 할로겐 치환된 탄화수소기의 탄소수는 1 내지 8일 수 있다.
화학식 2의 A2는, 예를 들어, 하기의 구조식들 중 어느 하나로 표현되는 구조를 포함할 수 있다.
Figure PCTKR2021019141-appb-I000004
상기 구조식에서 *은 결합 위치를 나타낸다. 상기 구조식에서 X는 독립적으로 단일 결합, O, S, SO2, CO, (CH2)n, (C(CH3)2)n 및 (C(CF3)2)n 중 어느 하나일 수 있고, n은 1 내지 5인 정수일 수 있다. X와 각 고리에 대한 결합 위치가 특별히 한정되는 것은 아니지만, X의 결합 위치는, 예를 들어, 각 고리에 대해 메타 또는 파라 위치일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 제조를 위해 복수 종류의 디안하이드라이드계 화합물들이 사용될 수 있다.
수소 원자가 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환된 디안하이드라이드계 화합물을 사용하여 제조된 광학 필름은 우수한 광투과성 및 우수한 가공 특성을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디카르보닐계 화합물은 하기 화학식 3으로 표현될 수 있다.
[화학식 3]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000005
화학식 3에서, A3는 2가의 기(group)를 나타낸다. 예를 들어, A3는 탄소수 4 내지 40의 2가의 유기기(organic group)를 포함할 수 있다. 또한, A3는 탄소 원자, 질소 원자 또는 산소 원자를 표시할 수도 있다. 화학식 3에 포함된 유기기 중의 수소 원자는 할로겐 원소, 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환될 수 있다. 여기서, 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 1 내지 8일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 제조에 사용되는 디안하이드라이드계 화합물과 디카르보닐계 화합물의 함량에 특별한 제한이 있는 것은 아니다. 예를 들어, 화학식 2로 표현되는 디안하이드라이드계 화합물과 화학식 3으로 표현되는 디카르보닐계 화합물의 몰비(디안하이드라이드계 화합물:디카르보닐계 화합물)는 "20 내지 60": "80 내지 40"의 범위로 조정될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 하기 화학식 4로 표현되는 이미드 반복단위를 포함할 수 있다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000006
화학식 4에 포함된 A1과 A2는 이미 설명된 바와 같다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 하기 화학식 5로 표현되는 아마이드 반복 단위를 포함할 수 있다.
[화학식 5]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000007
화학식 5에 포함된 A1과 A3는 이미 설명된 바와 같다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 이미드 반복단위를 갖는 광학 필름으로, 예를 들어, 폴리이미드 필름이 있고, 아마이드 반복단위를 갖는 광학 필름으로, 예를 들어, 폴리아마이드 필름이 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 이미드 반복단위와 아마이드 반복단위를 갖는 광학 필름으로, 예를 들어, 폴리아마이드-이미드 필름이 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름은 광투과성 및 플렉서블 특성을 가질 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 벤딩(bending) 특성, 폴딩(folding) 특성 및 롤러블(rollable) 특성을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 중량 기준으로, 120 ppm (0.012 중량%) 이하의 염소(Cl) 농도를 가질 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 120 ppm은 0.012 중량%에 대응될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, ppm은 광학 필름 안에 포함된 염소 이온의 농도를 중량 기준으로 측정한 단위이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 염소(Cl) 농도는 이온 크로마토그래피를 이용하여 측정될 수 있으며, 이온 크로마토그래피 표준 용액의 농도를 이용하여 계산될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름을 동결 건조 및 분말화한 후, 증류수를 이용하여 광학 필름으로부터 염소(Cl)를 추출하여 염소(Cl) 추출액을 얻고, 얻어진 염소(Cl) 추출액에 대하여 이온 크로마토그래피 분석을 실시하여, 광학 필름에 포함된 염소(Cl) 농도가 측정될 수 있다. 분말화된 광학 필름은, 예를 들어, 5 중량%의 비율로 증류수에 혼합되며, 분말화된 광학 필름과 증류수의 혼합물로부터 염소(Cl)가 추출된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 염소(Cl) 농도를, 염소 이온의 물(H2O) 추출 농도라고도 할 수 있다.
보다 구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 50㎛ 두께의 광학 필름을 약 0.5 cm x 0.5 cm 로 자른 후, 동결 건조 및 분말화한 후, 증류수를 이용하여 2시간 동안 Sonication 추출을 진행하여 염소(Cl) 추출액을 얻을 수 있다. 염소 추출액에 대하여 이온 크로마토그래피 분석을 실시하여 염소의 농도를 계산함으로써, 염소의 함량을 평가할 수 있다. 이온 크로마토그래피 분석을 위해, Dionex社의 이온 크로마토그래프 장치인 ICS 2000 모델(Dionex ICS-2000 Ion Chromatography System)에 2종의 컬럼[IonPac AS18 Analytical (4x250 mm) + AG18 Guard (4x50 mm)]과 용리액[Dionex社의 EGC-KOH III Cartridge]을 설치하여 분석이 이루질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 낮은 염소(Cl) 농도를 가져, 우수한 열 안정성 및 광학 안정성을 가질 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 열처리되거나 장시간 광에 노출되더라도, 광학 필름 내의 고분자 구조가 손상되거나 분해되지 않거나 최소화되어, 우수한 광학 특성 및 기계적 특성을 유지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 장시간 광에 노출되더라도 광투과도가 저하되지 않으며, 유연성 및 강도가 저하되지 않거나 최소화될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름에 포함된 염소(Cl)의 함량을 최소화하여, 광학 필름의 광학 특성 및 기계적 특성의 저하를 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 중량 기준으로, 120 ppm (0.012 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함할 수 있으며, 50 ppm (0.005 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함할 수 있으며, 10 ppm (0.001 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함할 수도 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 0.1 내지 120 ppm (0.00001내지 0.012 중량%)의 염소(Cl)를 포함할 수 있고, 1 내지 120 ppm (0.0001 내지 0.012 중량%)의 염소(Cl)를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 중량 기준으로, 0.1 내지 50 ppm (0.00001 내지 0.005 중량%)의 염소(Cl)를 포함할 수도 있으며, 1 내지 50 ppm (0.0001 내지 0.005 중량%)의 염소(Cl)를 포함할 수 있으며, 1 내지 10 ppm (0.0001 내지 0.001 중량%)의 염소(Cl)를 포함할 수도 있다.
본 발명자들은, 광학 필름에 염소(Cl) 원자가 잔존하는 경우, 광학 필름의 광투과도 및 기계적 특성이 변할 가능성이 증가한다는 것을 확인하였다.
예를 들어, 광학 필름의 제조 과정 중 고분자 중합과정, 예를 들어, 폴리아마이드-이미드계 고분자의 중합 과정에서 발생된 염산(HCl)이 충분히 제거되지 않아, 광학 필름 제조를 위한 반응액, 예를 들어, 폴리아마이드-아믹산 용액 내에 염산(HCl)이 존재하는 경우, 반응액의 산도(acidity)가 증가되어 중합 과정에서 반응성이 저하되고, 고분자의 분해(degradation)가 발생될 수 있다. 또한, 광학 필름을 제조를 위한 화학적 또는 열적 이미드화 과정에서, 염산(HCl)이 물(H2O)과 반응하여 하이드로늄 이온(H3O+)과 염소 이온(Cl-)의 생성 등과 같은 부반응이 유발되어 필름의 광학적 물성 또는 기계적 물성이 저하될 수 있다.
염소(Cl) 원자를 포함하는 광학 필름에, 예를 들어, 광이 조사되는 경우, 염소(Cl) 원자에 의해 광학 필름을 구성하는 고분자의 분해 또는 열화가 가속화되거나, 고분자 수지의 화학 구조에 변화가 생길 수 있다. 이와 같이, 광학 필름을 구성하는 고분자 수지의 화학 구조가 분해되거나 열화되어 변하는 경우, 광학 필름의 광투과도가 저하될 수 있으며, 광학 필름의 유연성 또는 기계적 강도가 저하될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, "염소(Cl)"는 염소 원자 및 염소 이온(Cl-)를 포함하는 의미이다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 염소(Cl)는 다른 원자와 결합하여 분자를 형성할 수 있으며, 분자 내에 포함된 염소 원자 및 염소 이온은 본 발명의 일 실시예에 따른 염소(Cl)에 포함된다.
이미 설명한 바와 같이, 광학 필름의 제조 과정에서 염산(HCl)이 발생될 수 있는데, 광학 필름의 제조 과정 중 발생된 염산이 제거되지 않는 경우, 결과물인 광학 필름에 염소(Cl)가 잔존할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름에 잔존하는 염소(Cl) 함량을 최소화하기 위해, 광학 필름의 제조 과정에서 발생되는 염산을 제거하기 위한 염소(Cl) 수용체가 사용된다.
염소(Cl) 수용체는 광학 필름의 제조 과정에서 염산(HCl)과 반응하여 염소(Cl) 화합물이 된 후, 광학 필름의 제조 과정 중 제거된다. 그러나, 염소(Cl) 수용체의 일부는 염산과 반응하지 않을 수 있고, 광학 필름의 제조 과정 중 제거되지 않을 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 미량의 염소(Cl) 수용체를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 염소(Cl) 수용체는 염산(HCl) 또는 염소이온(Cl-)과 반응할 수 있는 물질이다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 염소(Cl) 수용체는, 염산(HCl) 또는 염소이온(Cl-)과 반응한 후, 광학 필름의 제조 과정 중 후속 공정에 제거될 수 있는 물질로부터 선택될 수 있다. 염소(Cl) 수용체는, 예를 들어, 염산과 반응하여 염(salt) 또는 할로하이드린 화합물(halohydrine compound)를 형성함으로써, 중합 과정에서 생성되는 염산을 제거하는 역할을 할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 염소(Cl) 수용체로, 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물이 사용될 수 있다. 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은, 예를 들어, 에폭사이드(epoxide)계 화합물, 옥세탄(oxetane)계 화합물, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)계 화합물 및 테트라하이드로피란(tetrahydropyran)계 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 중량 기준으로, 30 ppm (0.003 중량%) 이하의 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을, 중량 기준으로 0.1 내지 30 ppm 만큼 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 중량 기준으로 0.1 내지 12 ppm의 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 염소(Cl) 수용체로, 하기 화학식 6으로 표현되는 에폭사이드계 화합물이 사용될 수 있다.
[화학식 6]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000008
화학식 6에서 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 20의 유기기 중 어느 하나일 수 있다. 보다 구체적으로, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소, 또는 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 20의 탄화수소기일 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소, 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기일 수 있다.
염소(Cl) 수용체로 사용되는 에폭사이드계 화합물은 하기 반응식 1에 따라 염산(HCl) 또는 염소(Cl)와 반응할 수 있다.
[반응식 1]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000009
본 발명의 일 실시예에 있어서, 염소(Cl) 수용체와 염산(HCl)의 반응물은 광학 필름의 제조 과정 중에 제거된다. 그 결과, 염소(Cl)가 제거될 수 있다. 그러나, 염소(Cl) 수용체와 염소(Cl)의 반응물이 제거되지 않고 광학 필름에 잔존할 수도 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 염소(Cl) 수용체와 염산(HCl) 또는 염소(Cl)의 반응물을 미량 포함할 수도 있다.
염소(Cl) 수용체로 프로필렌옥사이드(PO)가 사용되는 경우, 염소(Cl) 수용체는 하기 반응식 2에 따라 염산(HCl)과 반응할 수 있다.
[반응식 2]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000010
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로, 88% 이상의 광투과도를 가질 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로, 90% 이상의 광투과도를 가질 수도 있고, 91% 이상의 광투과도를 가질 수도 있다. 광투과도는, 광학 필름 제조 후, 물성 변화 측정을 위한 열처리 또는 노광 처리 전 측정된 값이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로, 3 이하의 황색도를 가질 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로, 2 이하의 황색도를 가질 수도 있고, 1 이하의 황색도를 가질 수도 있다.
광투과도 및 황색도는 표준규격 ASTM E313에 따라 분광 광도계(spectrophotometer)에 의하여, 파장 360 내지 740nm의 범위에서 측정될 수 있다. 분광 광도계(spectrophotometer)로, 예를 들어, KONICA MINOLTA 社의 CM-3700D가 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로, 1.0% 이하의 헤이즈(haze)를 가질 수 있다.
헤이즈는 ASTM D1003에 따라 헤이즈 미터에 의하여 측정될 수 있다. 헤이즈 측정을 위해 50㎜ x 50㎜ 크기의 광학 필름 샘플이 사용될 수 있다. 5회 측정된 헤이즈 값의 평균을 그 샘플의 헤이즈라고 할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 헤이즈 미터로 MURAKAMI 社의 HM-150이 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 낮은 염소(Cl)의 함량을 가져, 큰 광투과도 기울기(sT)를 가질 수 있으며, 작은 광투과도 변화율(ΔTT)을 가질 수 있다. 구체적으로, 광학 필름이 중량 기준으로 120 ppm 이하의 염소(Cl) 또는 50 ppm 이하의 염소(Cl)를 포함하는 경우, 광학 필름에 광이 조사되더라도 염소(Cl)로 인해 광학 필름 내에서 발생되는 화학 반응이 저하될 수 있다. 그 결과, 광학 필름의 광투과도 저하가 방지될 수 있고, 광투과도 기울기(sT) 감소가 방지될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 50㎛ 두께를 기준으로, 370nm에서 430nm까지의 파장 영역에서, 1.65 [%/nm] 이상의 광투과도 기울기를 가질 수 있다.
광투과도 기울기(sT)는 파장 변화에 대한 광투과도 변화를 의미하며, 다음 식 1에 의하여 계산될 수 있다.
[식 1]
sT (%/nm) = ΔT/Δλ
식 1에서, Δλ는 nm 단위로 표시되는 광의 파장을 나타내며, ΔT는 % 단위로 표시되는 광투과도 변화를 나타낸다.
광투과도 기울기(sT)를 측정하기 위해, 광학 필름의 광투과도가 측정된다. 본 발명의 일 실시예예 따르면, 광학 필름의 광투과도는 표준규격 ASTM E313에 따라 분광 광도계(spectrophotometer)에 의하여, 파장 360 내지 740nm의 범위에서 측정될 수 있다. 분광 광도계로, 예를 들어, KONICA MINOLTA 社의 CM-3700D가 사용될 수 있다.
도 1은 광투과도 기울기(sT)를 설명하는 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 파장 변화에 대한 광투과도 변화를 측정함으로써, 광투과도 기울기(sT)가 측정될 수 있다.
예를 들어, 370nm에서의 광투과도가 1%이고, 430nm에서 광투과도가 99%인 경우, 다음과 같이 광투과도 기울기(sT)가 계산될 수 있다.
ΔT = 99%(430nm에서 광투과도) - 1%(370nm에서의 광투과도) = 98%
Δλ= 430nm - 370nm = 60nm
sT (%/nm) = ΔT/Δλ= 98%/60nm = 1.63 [%/nm]
본 발명의 일 실시예에 따르면, 370 내지 430nm의 파장 영역에서 광투과도 기울기가 낮을수록, 필름이 녹색 또는 황색이나 오렌지색에 가까운 색상을 띄게 된다. 따라서, 무색 또는 무색에 근접하는 투명한 광학 필름이 되기 위해서는, 광학 필름이 370 내지 430nm의 단파장 영역에서 높은 투과도 기울기를 가져, 430nm 이상의 파장을 갖는 광을 최대한 흡수하지 않고 투과하여야 한다.
태양광 스펙트럼 중 10 내지 400nm의 파장대 빛은 자외선에 해당된다. 특히, 태양광 중 오존층과 대기층에 의해 흡수 또는 반사되지 않고 지표면에 도달하는 강한 광자 에너지를 갖는 빛은 UV-A선이며, 이는 315 내지 400nm의 파장을 갖는다. 광학 필름의 광투과도 변화의 원인 중 하나는 열 및 빛에 의한 광학 필름 내의 라디칼 형성 및 고분자 수지의 분해이다. 이러한 라디칼 형성 및 고분자 수지의 분해가 방지되도록 하기 위해, 광학 필름이 370 내지 430nm의 단파장 영역에서 높은 투과도 기울기를 가질 필요가 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 낮은 염소(Cl) 농도를 가져, 장시간 광에 노출되더라도, 광학 필름의 광투과도가 저하되는 것이 방지될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름이 150℃에서 30분간 열처리되고, 150시간 동안 노광 처리되는 경우, 열처리 및 노광 처리 전과 후, 50㎛ 두께를 기준으로, 광학 필름의 광투과도 변화율(ΔTT)이 0% 초과 0.5% 이하이다. 여기서, "노광 처리"는 광학 필름에 가시광선을 조사하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광투과도 변화율(ΔTT)은 다음 식 2로 계산된다.
[식 2]
ΔTT (%) = [|TT2-TT1|/TT1] x 100
식 2에서, TT1은 150℃의 온도에서의 30분간 열처리 및 150시간 동안 가시광선에서 노광 처리되기 전 광학 필름의 광투과도(TT)이다. TT2는 150℃의 온도에서 30분간 열처리 및 150시간 동안 가시광선에서 노광 처리된 후 광학 필름의 광투과도(TT)이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 광투과도 변화율은 TT1과 TT2 차이의 절대값(|TT2-TT1|)으로부터 계산될 수 있다.
열처리는 광학 필름을 30분간 150℃의 열로 처리되는 것이다. 예를 들어, 광학 필름이 150℃ 오븐에서 30분간 보관 또는 방치하는 것에 의하여 열처리가 이루어질 수 있다.
가시광선에 의한 노광 처리 조건은, 평균 온도 25℃, 평균 상대 습도 30%가 유지되는 환경에서 제논(xenon) 램프를 사용하여, 중심 파장 420nm에서 0.8 W/m2 의 광량으로, 150 시간 동안 상기 광학 필름에 가시광선을 조사하는 조건이다.
광투과도는 표준규격 ASTM E313에 따라 분광 광도계(spectrophotometer)에 의하여, 파장 360 내지 740nm의 범위에서 측정될 수 있다. 분광 광도계로, 예를 들어, KONICA MINOLTA 社의 CM-3700D가 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름이 낮은 광투과도 변화율(ΔTT)를 가져, 장시간 광에 노출되더라도 광학 필름의 광투과도가 저하되지 않거나 거의 저하되지 않을 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 우수한 광투과성 유지 능력을 가질 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 우수한 광학적 안정성을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 광학 필름이 광에 장시간 노출된 후 광학 필름의 광투과도가 향상될 수도 있다. 그 결과, 광에 장시간 노출되더라도 광학 필름에서 투명도 저하가 발생하지 않고 오히려 투명도가 상승할 수도 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 예를 들어, 0.01% 내지 0.5%의 광투과도 변화율(ΔTT)을 가질 수 있다. 또는, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 0.05% 내지 내지 0.5%의 광투과도 변화율(ΔTT)을 가질 수 있다. 또는, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 0.1% 내지 내지 0.5%의 광투과도 변화율(ΔTT)을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은 표시장치에 적용되어 표시패널의 표시면을 보호할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 표시패널을 보호하기 충분한 정도의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 광학 필름은 10 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다.
이하, 도 2 및 도 3를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름이 사용된 표시장치에 대하여 설명한다.
도 2은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시장치(200)의 일부에 대한 단면도이고, 도 3는 도 2의 "P" 부분에 대한 확대 단면도이다.
도 2을 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시장치(200)는 표시패널(501) 및 표시패널(501) 상의 광학 필름(100)을 포함한다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 표시패널(501)은 기판(510), 기판(510) 상의 박막 트랜지스터(TFT) 및 박막 트랜지스터(TFT)와 연결된 유기 발광 소자(570)를 포함한다. 유기 발광 소자(570)는 제1 전극(571), 제1 전극(571) 상의 유기 발광층(572) 및 유기 발광층(572) 상의 제2 전극(573)을 포함한다. 도 2 및 도 3에 개시된 표시장치(200)은 유기발광 표시장치이다.
기판(510)은 유리 또는 플라스틱으로 만들어질 수 있다. 구체적으로, 기판(510)은 폴리이미드계 수지와 같은 플라스틱으로 만들어질 수 있다. 도시되지 않았지만, 기판(510) 상에 버퍼층이 배치될 수 있다.
박막 트랜지스터(TFT)는 기판(510) 상에 배치된다. 박막 트랜지스터(TFT)는 반도체층(520), 반도체층(520)과 절연되어 반도체층(520)의 적어도 일부와 중첩하는 게이트 전극(530), 반도체층(520)과 연결된 소스 전극(541) 및 소스 전극(541)과 이격되어 반도체층(520)과 연결된 드레인 전극(542)을 포함한다.
도 3를 참조하면, 게이트 전극(530)과 반도체층(520) 사이에 게이트 절연막(535)이 배치된다. 게이트 전극(530) 상에 층간 절연막(551)이 배치되고, 층간 절연막(551) 상에 소스 전극(541) 및 드레인 전극(542)이 배치될 수 있다.
평탄화막(552)은 박막 트랜지스터(TFT) 상에 배치되어 박막 트랜지스터(TFT)의 상부를 평탄화시킨다.
제1 전극(571)은 평탄화막(552) 상에 배치된다. 제1 전극(571)은 평탄화막(552)에 구비된 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(TFT)와 연결된다.
뱅크층(580)은 제1 전극(571)의 일부 및 평탄화막(552) 상에 배치되어 화소 영역 또는 발광 영역을 정의한다. 예를 들어, 뱅크층(580)이 복수의 화소들 사이의 경계 영역에 매트릭스 구조로 배치됨으로써, 뱅크층(580)에 의해 화소 영역이 정의될 수 있다.
유기 발광층(572)은 제1 전극(571) 상에 배치된다. 유기 발광층(572)은 뱅크층(580) 상에도 배치될 수 있다. 유기 발광층(572)은 하나의 발광층을 포함할 수도 있고, 상하로 적층된 2개 이상의 발광층을 포함할 수도 있다. 이러한 유기 발광층(572)에서 적색, 녹색 및 청색 중 어느 하나의 색을 갖는 광이 방출될 수 있으며, 백색(White) 광이 방출될 수도 있다.
제2 전극(573)은 유기 발광층(572) 상에 배치된다.
제1 전극(571), 유기 발광층(572) 및 제2 전극(573)이 적층되어 유기 발광 소자(570)가 이루어질 수 있다.
도시되지 않았지만, 유기 발광층(572)이 백색(White) 광을 발광하는 경우, 개별 화소는 유기 발광층(572)에서 방출되는 백색(White) 광을 파장 별로 필터링하기 위한 컬러 필터를 포함할 수 있다. 컬러 필터는 광의 이동경로 상에 형성된다.
제2 전극(573) 상에 박막 봉지층(590)이 배치될 수 있다. 박막 봉지층(590)은 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막을 포함할 수 있으며, 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막이 교호적으로 배치될 수 있다.
이상 설명된 적층 구조를 갖는 표시패널(501) 상에 광학 필름(100)이 배치된다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 제조방법을 설명한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 제조방법은, 디아민계 화합물, 디안하이드라이드계 화합물, 제1 디카르보닐계 화합물 및 제1 염소(Cl) 수용체를 이용하여 제1 반응액을 형성하는 단계, 제1 반응액에 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체를 첨가하고 반응시켜 제2 반응액을 형성하는 단계, 제2 반응액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 첨가하고 반응시켜 제3 반응액을 형성하는 단계, 제3반응액을 처리하여 고체 상태의 고분자 수지를 제조하는 단계, 고체 상태의 고분자 수지를 용해시켜 고분자 수지 용액을 제조하는 단계, 및 고분자 수지 용액을 캐스팅하는 단계를 포함할 수 있다. 이하, 각 단계를 구체적으로 설명한다.
먼저, 디아민계 화합물, 디안하이드라이드계 화합물, 제1 디카르보닐계 화합물 및 제1 염소(Cl) 수용체를 이용하여 제1 반응액을 형성한다.
제1 반응액 제조를 위한 용매로, 예를 들어, 디메틸아세트아마이드(DMAc, N,N-dimethylacetamide), 디메틸포름아마이드(DMF, N,N-dimethylformamide), 메틸피롤리돈(NMP, 1-methyl-2-pyrrolidinone), m-크레졸(m-cresol), 테트라하이드로퓨란(THF, tetrahydrofuran), 클로로포름(Chloroform), 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone, MEK) 등의 극성 비양성자성 용매 (polar aprotic solvent) 및 이들의 혼합물이 사용될 수 있다. 그러나, 본 발명의 일 실시예에 따른 용매가 이에 한정되는 것은 아니며 다른 용매가 사용될 수도 있다.
디아민계 화합물로 상기 설명된 화학식 1의 화합물들이 사용될 수 있고, 디안하이드라이드계 화합물로 상기 설명된 화학식 2의 화합물들이 사용될 수 있다. 제1 디카르보닐계 화합물로, 상기 설명된 화학식 3으로 표현되는 디카르보닐계 화합물들이 사용될 수 있다.
예를 들어, 디아민계 화합물로, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘(TFDB) 등이 있다.
디안하이드라이드계 화합물로, 싸이클로부탄-1,2,3,4-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, CBDA), 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, BPDA), 4,4'-(헥사플루오로이소프로피리덴) 디프탈산 이무수물( 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA)등이 있다.
디카르보닐계 화합물로, 테레프탈산 디클로라이드(테레프탈로일 클로라이드, terephthaloyl chloride, TPC), 이소프탈산 디클로라이드(isophthaloyl chloride, IPC), 나프탈렌 디카르복실산 디클로라이드, 4,4'-비페닐디카르복실산 디클로라이드, 3,3'-비페닐디카르복실산 디클로라이드 등이 있다.
디아민계 화합물, 디안하이드라이드계 화합물, 제1 디카르보닐계 화합물 각각은 단독으로 또는 2종 이상 혼합되어 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디아민계 화합물 100 몰부(mole part)에 대하여, 20 내지 60 몰부(mole part)의 디안하이드라이드계 화합물이 사용될 수 있다.
디아민계 화합물과 제1 디카르보닐계 화합물이 반응하는 과정에서 염소(Cl) 화합물이 발생할 수 있다. 염소 화합물을 제거하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 반응액 형성과정에서 제1 염소(Cl) 수용체가 사용된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 염소(Cl) 수용체로, 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물이 사용될 수 있다. 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은, 예를 들어, 에폭사이드(epoxide)계 화합물, 옥세탄(oxetane)계 화합물, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)계 화합물 및 테트라하이드로피란(tetrahydropyran)계 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 염소(Cl) 수용체로, 화학식 6으로 표현되는 에폭사이드계 화합물들이 사용될 수 있다.
[화학식 6]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000011
화학식 6에서 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 20의 유기기 중 어느 하나일 수 있다. 보다 구체적으로, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소, 또는 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 20의 탄화수소기일 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소, 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기일 수 있다.
제1 염소(Cl) 수용체로 사용되는 에폭사이드계 화합물은 반응식 1에 따라 염산(HCl)과 반응할 수 있다. 그에 따라, 제1 반응액에서 염산(HCl)이 제거될 수 있다.
[반응식 1]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000012
본 발명의 일 실시예에 따르면, 에폭사이드계 화합물 중 프로필렌옥사이드(propylene oxide, PO)가 제1 염소(Cl) 수용체로 사용될 수 있다.
프로필렌옥사이드(PO)가 제1 염소(Cl) 수용체로 사용되는 경우, 하기 반응식 2에 따라 염산(HCl)이 제거될 수 있다.
[반응식 2]
Figure PCTKR2021019141-appb-I000013
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 염소(Cl) 수용체의 함량은, 몰(mole) 수 기준으로, 제1 디카르보닐계 화합물 함량의 4 내지 7배가 될 수 있다.
디아민과 제1 카르보닐계 화합물의 반응식을 고려할 때, 이론적으로 제1 디카르보닐계 화합물에 대한 제1 염소(Cl) 수용체의 함량이 2배인 경우, 디아민과 제1 디카르보닐계 화합물의 반응에 의하여 생성된 염산(HCl)이 제1 염소 수용체에 의하여 제거될 수 있다. 그러나, 본 발명자들이 확인한 바에 따르면, 제1 염소(Cl) 수용체의 함량이 제1 디카르보닐계 화합물 몰 수의 4배 미만인 경우, 제1 염소(Cl) 수용체와 염산(HCl)의 반응이 충분히 이루어지지 않아, 염소(Cl) 제거 효율이 저하되었다. 또한, 디카르보닐계 화합물 몰 수의 7배를 초과하는 제1 염소(Cl) 수용체가 사용되는 경우, 과량의 염소(Cl) 수용체로 인하여 중합도가 저하되었다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 염소(Cl) 수용체의 함량은, 몰(mole) 수 기준으로, 제1 디카르보닐계 화합물 함량의 4 내지 7배로 조정된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 반응액은 폴리아믹산과 폴리아마이드 반복단위를 포함할 수 있다.
다음, 제1 반응액에, 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체를 첨가하고 반응시켜, 제2 반응액을 형성한다. 예를 들어, 제1 반응액 형성 후, 1 내지 24 시간 경과 후, 제1 반응액에 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체가 첨가될 수 있다. 보다 구체적으로, 제1 반응액 형성 후 1 내지 20 시간 경과 후, 제1 반응액에 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체가 첨가될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 반응액에 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체가 첨가되기 시작하면, 그 반응액을 제2 반응액이라고 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 디카르보닐계 화합물과 제2 디카르보닐계 화합물은 동일한 물질일 수 있다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 디카르보닐계 화합물과 제2 디카르보닐계 화합물은 다른 물질일 수도 있다. 제1 디카르보닐계 화합물과 제2 디카르보닐계 화합물을 통합하여 디카르보닐계 화합물이라고 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 염소(Cl) 수용체와 제2 염소(Cl) 수용체는 동일한 물질일 수 있다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 염소(Cl) 수용체와 제2 염소(Cl) 수용체는 다른 물질일 수도 있다. 제1 염소(Cl) 수용체와 제2 염소(Cl) 수용체를 통합하여 염소(Cl) 수용체라고 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 염소(Cl) 수용체는 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을 포함할 수 있다. 제2 염소(Cl) 수용체로 사용되는 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은, 에폭사이드(epoxide)계 화합물, 옥세탄(oxetane)계 화합물, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)계 화합물 및 테트라하이드로피란(tetrahydropyran)계 화합물을 포함할 수 있다. 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은 프로필렌옥사이드(propylene oxide)계 화합물을 포함할 수 있다.
제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체에 의하여 반응액의 점도가 조정될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 반응액을 형성하는 단계에서, 제2 반응액의 겉보기 점도가 250 ㅁ 30 Ps이 될 때까지 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체가 첨가될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 겉보기 점도는, 제2 반응액을 100ml 탈포컵에 소분하여 반응액 샘플을 준비하고, 점도 측정 장치인 Viscometer(Brookfield 社, DV2TRV)를 사용하여 6번 스핀들로 20 rpm으로 측정된다. 측정이 완료된 후, 소분된 반응액 샘플을 다시 제2 반응액이 담겨있는 반응조에 투입하고, 다음 공정을 이어간다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 염소(Cl) 수용체의 함량은, 몰(mole) 수 기준으로, 제2 디카르보닐계 화합물 함량의 4 내지 7배가 될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디아민계 화합물 100 몰부(mole part)에 대하여, 제1 디카르보닐계 화합물 및 제2 디카르보닐계 화합물의 총 함량은 40 내지 80 몰부일 수 있다.
또한, 디아민계 화합물 100 몰부(mole part)에 대하여, 제1 디카르보닐계 화합물의 함량은 35 내지 79 몰부이고, 제2 디카르보닐계 화합물의 함량은 1 내지 5 몰부일 수 있다.
보다 구체적으로, 제1 디카르보닐계 화합물의 함량은, 디아민계 화합물 100 몰부에 대하여 37 내지 79 몰부일 수 있다. 제2 디카르보닐계 화합물의 함량은, 디아민계 화합물 100 몰부에 대하여 1 내지 3 몰부일 수 있다.
다음, 제2 반응액에, 탈수제 및 이미드화 촉매를 첨가하고 반응시켜, 제3 반응액을 형성한다.
제3 반응액 형성 과정에서, 아믹산의 일부가 이미드화되어 이미드 반복단위가 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제3 반응액 형성을 위해, 제2 반응액에 탈수제 및 이미드화 촉매가 첨가된 후 60 내지 80℃의 온도에서 30분 내지 2시간 동안 환류 교반이 진행될 수 있다. 그 결과, 제3 반응액이 형성될 수 있다.
탈수제로, 무수 초산(acetic anhydride), 프로피온산 무수물, 이소낙산 무수물, 피발산 무수물, 낙산 무수물, 이소길초산 무수물과 같은 산무수물이 사용될 수 있다.
이미드화 촉매로, 이소퀴놀린(isoquinoline), 베타피콜린(β-picoline), 피리딘(pyridine)과 같은 3급 아민이 사용될 수 있다.
제1 염소(Cl) 수용체, 제2 염소(Cl) 수용체 및 이미드화 촉매에 의하여 제3 반응액의 pH가 조정될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제3 반응액은 8 이상의 pH를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 제3 반응액은 8 내지 9의 pH를 가질 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제3 반응액의 pH가 8 내지 9가 되도록, 제2 반응액 형성시 첨가되는 제2 염소(Cl) 수용체의 함량이 조정될 수 있다.
제3 반응액이 pH 8 내지 9 정도의 약 염기성 상태인 경우, 제1 반응액 및 2 반응액 형성시 생성되었던 염산(HCl)이 모두 또는 대부분 염소(Cl) 수용체와 반응하였다고 할 수 있다.
제3 반응액의 pH가 8 미만인 경우, 제1 반응액 및 2 반응액 형성시 생성되었던 염산(HCl)이 충분히 제거되지 않아, 잔존하는 염산(HCl)에서 유래된 염소(Cl) 및 염소 화합물이 폴리아마이드-이미드계 필름에 존재하게 될 가능성이 커진다.
제3 반응액 pH를 고려할 때, 디안하이드라이드 화합물의 몰 수의 2배 내지 7배의 이미드화 촉매가 사용될 수 있다.
다음, 제3 반응액을 처리하여, 고체 상태의 고분자 수지를 제조한다.
고체 상태의 고분자 수지 제조를 위해, 제3 반응액에 용매가 첨가될 수 있다. 용매로, 예를 들어, 에탄올, 메탄올, 헥산 등이 사용될 수 있다. 용매는 단독으로 사용될 수도 있고, 2종 이상의 용매가 혼합되어 사용될 수도 있다.
중합 용매와 잘 섞이면서 극성이 낮은 용매가 제3 반응액에 첨가되면, 분말 상태의 고체 고분자 수지가 침전된다. 침전물을 여과하여, 건조함으로써 고순도의 고체 고분자 수지가 얻어질 수 있다. 침전물을 여과하는 과정에서 액체 성분들이 제거될 때, 미반응 모노머, 올리고머, 첨가제, 반응 부산물이 제거되며, 이때, 염산(HCl)과 염소(Cl) 수용체의 반응물이 제거될 수 있다. 이와 같이 얻어진 고체 상태의 고분자 수지는 염소(Cl)를 포함하지 않거나, 미량의 염소(Cl) 만을 포함하게 된다.
이와 같이 얻어진 고분자 수지는 고체 분말 상태이며, 이미드 반복단위 및 아마이드 반복 단위를 포함할 수 있다. 고분자 수지는, 예를 들어, 폴리아마이드-이미드계 수지일 수 있다.
다음, 고체 상태의 고분자 수지를 용해시켜 고분자 수지 용액을 제조한다. 고체 상태의 고분자 수지를 용매에 용해시켜 고분자 수지 용액을 제조하는 단계를 재용해 단계라고도 한다.
고체 상태의 고분자 수지를 용해시키기 위한 용매로, 중합 과정에서 사용된 용매와 동일한 용매들이 사용될 수 있다. 예를 들어, 디메틸아세트아마이드(DMAc, N,N-dimethylacetamide), 디메틸포름아마이드(DMF, N,N-dimethylformamide), 메틸피롤리돈(NMP, 1-methyl-2-pyrrolidinone), m-크레졸(m-cresol), 테트라하이드로퓨란(THF, tetrahydrofuran), 클로로포름(Chloroform), 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone, MEK) 등의 극성 비양성자성 용매 (polar aprotic solvent) 및 이들의 혼합물이 고체 상태의 고분자 수지를 용해시키기 위한 용매로 사용될 수 있다. 그러나, 본 발명의 일 실시예에 따른 용매가 이에 한정되는 것은 아니며 공지된 다른 용매가 사용될 수도 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 재용해된 고분자 수지 용액은 6 내지 7의 pH를 가질 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 폴리아마이드-이미드계 수지 용액은 약산성 또는 중성에 가까운 약산성의 특성을 가질 수 있다. 제3 반응액이 pH 8 내지 9의 약 염기성 상태로 제조되었기 때문에, 고분자 수지 용액이 pH 6 내지 7의 약산성을 나타낼 수 있다.
다음, 고분자 수지 용액을 캐스팅한다.
캐스팅을 위해 캐스팅 기판이 사용된다. 캐스팅 기판의 종류에 특별한 제한이 있는 것은 아니다. 캐스팅 기판으로, 유리 기판, 알루미늄 기판, 스테인레스(SUS) 기판, 테프론 기판 등이 사용될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 캐스팅 기판으로 유리 기판이 사용될 수 있다.
구체적으로, 고분자 수지 용액이 캐스팅 기판에 도포됨으로써 캐스팅이 이루어진다. 캐스팅을 위하여 코터(coater), 블레이드(blade) 등이 사용될 수 있다.
고분자 수지 용액을 캐스팅한 후, 80 내지 120℃ 온도 범위에서 2℃/분의 속도로 승온하며 건조시켜, 고분자 수지의 도막(coating film)이 제조될 수 있다. 이와 같이 제조된 도막(coating film)은 광학 필름의 중간체라고 할 수 있다. 도막(coating film)을 핀 형태의 텐터에 팽팽하게 당겨 고정시킨 후, 3℃/min의 승온 속도로 120℃부터 250 ~ 350℃까지 승온하면서 열처리한다. 최고 제막 온도에 도달하면 등온 분위기에서 10 내지 30분간 추가적인 열처리를 할 수 있다. 그 결과, 광학 필름이 제조될 수 있다.
이하, 예시적인 실시예 및 비교예를 참조하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 이하 설명되는 실시예 및 비교예에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
4구의 이중 자켓 반응조에 TFDB 80.06g(250 mmol)(디아민계 화합물)을 디메틸아세트아마이드(DMAc)(용매)에 용해시켰다. 여기에, 19.86g(68 mmol)의 BPDA(디안하이드라이드계 화합물)를 투입하고, 반응기의 온도를 25℃로 2시간 동안 유지하면서 교반시켰다. 반응이 완료되면, 6FDA(디안하이드라이드계 화합물) 13.33g(30 mmol)을 넣고 1시간 동안 25℃에서 교반시켰다. 이후 반응기 온도를 7℃ 이하로 낮춘 후, TPC 29.945g(148 mmol)(제1 디카르보닐계 화합물)과 프로필렌옥사이드(PO) (38.55g, 664 mmol, TPC 몰 수의 4.5배)(제1 염소 수용체)를 투입하였다. 1시간 동안 7℃에서 교반하였다[제1 반응액 형성].
제1 반응액을 상온에서 1시간 방치한 후, 제1 반응액의 점도를 확인하고, 25℃에서 반응액의 겉보기 점도가 250ㅁ 30 Ps가 될 때까지 TPC(1.269g, 6 mmol)(제2 디카르보닐계 화합물)와 프로필렌옥사이드(PO)(1.63g, 28 mmol, TPC 몰 수의 4.5배)(제2 염소 수용체)를 추가 투입하였다[제2 반응액 형성].
중합 반응이 종료된 후, 제2 반응액에, 이미드화 촉매인 피리딘(pyridine, Py)(16.97g, BPDA+6FDA 몰 수의 2.2배)과 탈수제인 아세트산 무수물(acetic anhydride, AA)(21.97g, BPDA+6FDA 몰 수의 2.2배)를 투입한 후, 온도를 80℃로 올려 1시간 교반하였다[제3 반응액 형성].
플라스크를 상온으로 식히고, 제3 반응액을 메탄올(3000 ml)에 부어 침전이 이루어지도록 하였다. 침전물을 여과하여 흰색 고체 상태의 고분자 수지를 획득하였다. 획득된 고분자 수지는 고체 분말 상태이다. 실시예 1에서 제조된 고분자 수지는, 폴리아마이드-이미드 고분자 수지이다.
이와 같이 획득된 고체 분말 상태의 고분자 수지를 디메틸아세트아마이드(DMAc)에 12.7 wt%의 농도로 용해하여, 고분자 수지 용액을 제조하였다.
제조된 고분자 수지 용액을 기판에 캐스팅하였다. 구체적으로, 메이어 바(Mayer bar) 코터를 이용하여 고분자 수지 용액을 유리 기판에 도포하고, 80℃의 열풍으로 10분 처리하여 도막(coating film)이 형성되도록 하였다.
이어서, 80℃부터 120℃까지 승온하면서, 도막을 17분간 1차 열처리하였다. 수득된 중간체 도막을 핀 형태의 텐터(tenter)에 팽팽하게 당겨 고정하여 오븐에 투입한 후, 3℃/min의 승온 속도로 120℃부터 270℃까지 승온하였다. 270℃에 도달하면 등온 분위기에서 10분간 2차 열처리하였다.
잔류 응력의 제거를 위해, 2차 열처리된 도막을 텐터(tenter)에서 분리하여 270℃에서 1분간 3차 열처리하였다. 그 결과, 50㎛ 두께의 광학 필름이 제조되었다.
<실시예 2 내지 5>
하기 표 1의 조건에 따라, 실시예 1에 개시된 방법을 적용하여, 실시예 2 내지 5에 따른 광학 필름을 제조하였다.
<비교예 1 내지 3>
하기 표 1의 조건에 따라, 실시예 1에 개시된 방법을 적용하여, 비교예 1 내지 3에 따른 필름을 제조하였다.
구분 제1 반응액 제2 반응액 제3 반응액
TFDB
(몰부)		 BPDA
(몰부)		 6FDA
(몰부)		 TPC
(몰부)		 PO
(배수)		 TPC
(몰부)		 PO
(배수)		 Py
(배수)		 AA
(배수)		 pH
실시예 1 100 27 12 59 4.5 2.5 4.5 2.2 2.2 8.09
실시예 2 59 4.5 1 4.5 3.3 8.41
실시예 3 59 4.5 1 4.5 6.6 8.55
실시예 4 59 4.9 1.6 4.9 2.2 8.62
실시예 5 59 4.9 1.6 4.9 3.3 8.64
비교예 1 59 2.5 1.5 2.5 3.3 4.04
비교예 2 59 3.8 1.5 3.7 2.2 4.64
비교예 3 59 3.8 1.3 3.7 3.3 5.17
표 1에서, "몰부(mole part)"는 디아민계 화합물인 TFDB 100몰(mole)에 대한 상대적인 몰수를 나타낸다. PO(Propylene oxide)의 함량을 표시하는 "배수"는 TPC의 몰수에 대한 배수이며, Py(피리딘)과 AA(아세트산 무수물, Acetic anhydride)의 함량을 표시하는 "배수"는 디안하이드라이드의 몰수에 대한 배수이다.
실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 광학 필름에 대하여 다음과 같이 물성을 측정하였다.
(1) 염소(Cl) 함량(ppm):
실시예 1 내지 5 및 비교예 1 및 3에서 제조된 광학 필름에 대해 다음과 같이 염소(Cl) 함량을 측정하였다.
측정 장치: Dionex社의 이온 크로마토그래프 장치인 ICS 2000 모델(Dionex ICS-2000 Ion Chromatography System)에 2종의 컬럼[IonPac AS18 Analytical (4x250 mm) + AG18 Guard (4x50 mm)]과 용리액[Dionex社의 EGC-KOH III Cartridge]을 설치하여 분석 하였다.
측정 방법: 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 및 3에서 제조된 50㎛ 두께의 광학 필름을 약 0.5 cm x 0.5 cm 로 자른 후 동결 건조하고 분쇄하여 광학 필름의 분말을 제조한 후, 분말화된 광학 필름을 5 중량%의 비율로 증류수에 혼합한 후, 광학 필름으로부터 염소(Cl), 특히 염소 이온(Cl-)을 추출한다. 구체적으로, 광학 필름 분말 0.2 g과 물 3.8 g을 20 mL Vial에 넣고 BRANSON社의 5510 ultrasonic bath를 사용하여 2시간 동안 Sonication 추출을 진행한다. 그 결과, 광학 필름으로부터 추출된 염소(Cl)를 포함하는 염소 추출 혼합액이 제조된다. 제조된 염소 추출 혼합액을 0.45 ㎛ 나일론 필터(nylon filter)로 걸러 측정용 샘플을 제조하였다. 컬럼 온도는 30℃, 측정 셀 온도는 35℃로 세팅된 이온 크로마토그래프 장치에 측정용 샘플을 20μL 투입하여 분리된 이온 피크들 중 염소 이온에 해당하는 피크의 면적을 확인한다. 염소 이온의 함량 계산을 위해 Thermo Scientific社의 Dionex Seven Anion Standard를 증류수로 희석하여 0.04 ppm 내지 1 ppm 농도 구간 (0.04ppm, 0.06ppm, 0.08 ppm, 0.1 ppm, 1.0 ppm)의 염소 이온 표준 용액을 제조하여, 측정용 샘플과 동일한 방법으로 이온 크로마토그래피 분석을 실시하였다. 표준 용액을 이용하여 측정된 염소 이온에 해당하는 피크의 면적을 확인하여, 검량선을 작성하였다.
검량선은, 다음 식 3과 같이 1차 함수로 표현될 수 있다.
[식 3]
y = ax + b
식 3에서, y는 피크 면적이고, x는 표준 용액의 농도이고, a는 검량선의 기울기이고, b는 검량선의 y축 절편이다. 식 3에서 얻어진 검량선을 측정용 샘플의 피크 면적(y)에 적용하여, 측정용 샘플의 염소 농도(x)를 계산할 수 있다. 측정용 샘플의 염소 농도(x)는 다음 식 4로 구해질 수 있다.
[식 4]
x = (y-b)/a
다음, 측정용 샘플 제조에 적용된 희석비를 고려하여, 광학 필름에 포함된 염소의 함량을 계산한다. 구체적으로, 측정용 샘플에 적용된 광학 필름의 중량비는 다음 식 5로 계산될 수 있다.
[식 5]
측정용 샘플 중 광학 필름의 중량비 = (광학 필름의 중량)/(광학 필름의 중량 + 증류수의 중량)
식 5에서 "광학 필름의 중량"은 측정용 샘플 제조에 사용된 광학 필름의 중량을 의미한다.
다음, 측정용 샘플 중 광학 필름의 중량비와 측정용 샘플의 염소 농도를 이용하여, 다음 식 6에 따라 광학 필름의 염소 농도를 계산한다.
[식 6]
광학 필름의 염소 농도 = (측정용 샘플의 염소 농도) / (측정용 샘플 중 광학 필름의 중량비)
(2) 광투과도(TT)(%)
표준규격 ASTM E313으로 Spectrophotometer (CM-3700D, KONICA MINOLTA)를 이용하여, 파장 360 내지 740nm 에서의 광학 필름의 평균 광투과도를 측정하였다.
(3) 황색도(Y.I.): 표준규격 ASTM E313으로 Spectrophotometer (CM-3700D, KONICA MINOLTA)를 이용하여 황색도를 측정하였다.
(4) 헤이즈(%): 제조된 광학 필름을 50㎜ ㅧ 50㎜로 잘라 MURAKAMI社의 헤이즈 미터(모델명: HM-150) 장비를 이용하여 ASTM D1003에 따라 5회 측정하여 그 평균 값을 헤이즈 값으로 하였다.
(5) 광투과도 기울기 (sT)
상기 (2)의 방법으로 광투과도를 측정한 다음, 식 1에 따라, 50㎛ 두께를 기준으로, 370nm에서 430nm까지의 파장 영역에서의 광투과도 기울기(sT)를 측정하였다.
[식 1]
sT (%/nm) = ΔT/Δλ
ΔT = (430nm에서 광투과도) - (370nm에서의 광투과도)
Δλ= 430nm - 370nm = 60nm
(6) 광투과도 변화율(ΔTT)(%)
광학 필름에 대해 상기 (1)의 방법으로 광투과도를 측정하여, 열처리 및 노광 처리 전 광학 필름의 광투과도 TT1를 얻었다.
다음, 광학 필름을 150℃의 오븐에서 30분간 열처리한 후, 평균 온도 25℃, 평균 상대 습도 30%가 유지되는 환경에서 제논(Xenon) 램프가 설치된 Q-Sun 장비(Suntest XXL+)를 사용하여, 중심 파장 420nm에서 0.8 W/m2 의 광량으로, 150 시간 동안 샘플에 광을 조사함으로써 노광 처리를 하였다.
제논(xenon) 램프: 에이비넥소(Atlas 社 수입업체)의 모델명 Xenon Lamp NXE 1700 램프를 사용하였다. XLSII+/XXL 규격에 따라 태양광과 가장 유사한 파장별 에너지를 갖는 램프이다.
열처리 및 노광 처리 후, 광학 필름에 대해 상기 (1)의 방법으로 광투과도를 측정하여, 열처리 및 노광 처리 후 광학 필름의 광투과도 TT2을 얻었다.
다음, 식 1에 따라 광투과도 변화율(ΔTT)을 계산하였다.
[식 2]
ΔTT (%) = [|TT2-TT1|/TT1] x 100
측정결과는 다음 표 2와 같다.
구분 염소 함량
(ppm)		 광투과도 (%) Y.I 헤이즈
(%)		 sT TT1 (%) TT2 (%) ΔTT (%)
실시예 1 49 88.94 2.91 0.2 1.6503 88.94 88.99 0.06
실시예 2 31 89.12 2.72 0.2 1.6574 89.12 89.56 0.49
실시예 3 10 88.81 2.71 0.2 1.6601 88.81 88.68 0.15
실시예 4 6.7 89.15 2.62 0.2 1.6518 89.15 88.94 0.24
실시예 5 2.4 89.06 2.54 0.2 1.6656 89.06 89.40 0.38
비교예 1 350 88.66 3.72 0.3 1.6183 88.66 89.32 0.74
비교예 2 286 88.59 3.54 0.3 1.6243 88.59 89.18 0.67
비교예 3 166 88.90 3.24 0.4 1.6339 88.90 88.22 0.76
표 2에서 노광 처리 전 광학 필름의 광투과도 TT1이 각각의 광학 필름의 광투과도에 해당된다.
표 2의 측정결과에 개시된 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 광학 필름은, 120 ppm 이하, 특히 50 ppm 이하의 낮은 염소(Cl) 농도를 가지며, 우수한 광투과도, 낮은 황색도, 낮은 헤이즈, 높은 광투과도 기울기(sT) 및 낮은 광투과도 변화율(ΔTT)을 가진다는 것을 확인할 수 있다.
[부호의 설명]
100: 광학 필름
200: 표시장치
501: 표시패널

Claims (20)

  1. 중량 기준으로, 120 ppm (0.012 중량%) 이하의 염소(Cl) 농도를 갖는, 광학 필름:
    여기서, 상기 염소 농도는, 상기 광학 필름을 동결 건조 및 분말화한 후, 증류수를 이용하여 추출하여 얻어진 염소(Cl) 추출액에 대하여 이온 크로마토그래피 분석을 실시하여 측정된다.
  2. 제1항에 있어서,
    중량 기준으로, 50 ppm (0.005 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함하는, 광학 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    중량 기준으로, 10 ppm (0.001 중량%) 이하의 염소(Cl)를 포함하는, 광학 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    50㎛ 두께를 기준으로, 88% 이상의 광투과도를 갖는, 광학 필름.
  5. 제1항에 있어서,
    50㎛ 두께를 기준으로, 3 이하의 황색도를 갖는, 광학 필름.
  6. 제1항에 있어서,
    50㎛ 두께를 기준으로, 1.0% 이하의 헤이즈(haze)를 갖는, 광학 필름.
  7. 제1항에 있어서,
    50㎛ 두께를 기준으로, 370nm에서 430nm까지의 파장 영역에서, 1.65 [%/nm] 이상의 광투과도 기울기(sT)를 갖는, 광학 필름:
    상기 광투과도 기울기(sT)는 파장 변화에 대한 광투과도 변화로서, 다음 식 1에 의하여 계산되며,
    [식 1]
    sT (%/nm) = ΔT/Δλ
    상기 식 1에서, Δλ는 nm 단위로 표시되는 광의 파장을 나타내며, ΔT는 % 단위로 표시되는 광투과도 변화를 나타낸다.
  8. 제1항에 있어서,
    이미드 반복 단위 및 아마이드 반복 단위 중 적어도 하나를 포함하는, 광학 필름.
  9. 제1항에 있어서,
    중량 기준으로, 30 ppm (0.003 중량%) 이하의 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을 포함하는, 광학 필름.
  10. 표시패널; 및
    상기 표시패널 상에 배치된, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 광학 필름;
    을 포함하는, 표시장치.
  11. 디아민계 화합물, 디안하이드라이드계 화합물, 제1 디카르보닐계 화합물 및 제1 염소(Cl) 수용체를 이용하여 제1 반응액을 형성하는 단계;
    상기 제1 반응액에, 제2 디카르보닐계 화합물 및 제2 염소(Cl) 수용체를 첨가하고 반응시켜, 제2 반응액을 형성하는 단계;
    상기 제2 반응액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 첨가하고 반응시켜, 제3 반응액을 형성하는 단계;
    상기 제3 반응액을 처리하여, 고체 상태의 고분자 수지를 제조하는 단계;
    상기 고체 상태의 고분자 수지를 용해시켜 고분자 수지 용액을 제조하는 단계; 및
    상기 고분자 수지 용액을 캐스팅하는 단계;를 포함하며,
    상기 제1 염소(Cl) 수용체의 함량은, 몰(mole) 수 기준으로, 상기 제1 디카르보닐계 화합물 함량의 4 내지 7배이고,
    상기 제2 염소(Cl) 수용체의 함량은, 몰(mole) 수 기준으로, 상기 제2 디카르보닐계 화합물 함량의 4 내지 7배인, 광학 필름의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 디아민계 화합물 100 몰부(mole part)에 대하여, 상기 제1 디카르보닐계 화합물의 함량은 35 내지 79 몰부이고, 상기 제2 디카르보닐계 화합물의 함량은 1 내지 5 몰부인, 광학 필름의 제조방법.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 제2 디카르보닐계 화합물의 함량은, 상기 디아민계 화합물 100 몰부에 대하여 1 내지 3 몰부인, 광학 필름의 제조방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 제1 반응액 형성 후 1 내지 24 시간 경과 후, 상기 제1 반응액에 상기 제2 디카르보닐계 화합물 및 상기 제2 염소(Cl) 수용체를 첨가하는, 광학 필름의 제조방법.
  15. 제11항에 있어서,
    상기 제1 염소(Cl) 수용체 및 상기 제2 염소(Cl) 수용체는 각각 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물을 포함하는, 광학 필름의 제조방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은, 에폭사이드(epoxide)계 화합물, 옥세탄(oxetane)계 화합물, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)계 화합물 및 테트라하이드로피란(tetrahydropyran)계 화합물을 포함하는, 광학 필름의 제조방법.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 환형 에테르(cyclic ether)계 화합물은 프로필렌옥사이드(propylene oxide)계 화합물을 포함하는, 광학 필름의 제조방법.
  18. 제11항에 있어서,
    상기 제2 반응액을 형성하는 단계에서, 상기 제2 디카르보닐계 화합물 및 상기 제2 염소(Cl) 수용체는 상기 제2 반응액의 겉보기 점도가 250 ㅁ 30 Ps이 될 때까지 첨가되는, 광학 필름의 제조방법.
  19. 제11항에 있어서,
    상기 제3 반응액을 형성하는 단계는, 상기 제2 반응액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 첨가하고, 60℃ 내지 80℃의 온도에서 30분 내지 2시간 동안 환류 교반하는 단계를 포함하는, 광학 필름의 제조방법.
  20. 제11항에 있어서,
    상기 제3 반응액은 8 내지 9의 pH를 갖는, 광학 필름의 제조방법.
PCT/KR2021/019141 2020-12-31 2021-12-16 낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치 WO2022145825A1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2020-0188958 2020-12-31
KR1020200188958A KR20220096482A (ko) 2020-12-31 2020-12-31 낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022145825A1 true WO2022145825A1 (ko) 2022-07-07

Family

ID=82260583

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2021/019141 WO2022145825A1 (ko) 2020-12-31 2021-12-16 낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR20220096482A (ko)
TW (1) TWI797893B (ko)
WO (1) WO2022145825A1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1149858A (ja) * 1997-07-31 1999-02-23 Toray Ind Inc ポリアミドイミドおよびその製造方法
KR20160081829A (ko) * 2014-12-30 2016-07-08 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아마이드-이미드 전구체, 폴리아마이드-이미드 필름 및 이를 포함하는 표시소자
WO2018147606A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
KR20200092628A (ko) * 2019-01-25 2020-08-04 주식회사 엘지화학 폴리아미드계 (공)중합체의 제조방법, 및 이를 이용한 폴리아미드계 (공)중합 수지 조성물, 고분자 필름
KR102247146B1 (ko) * 2020-04-20 2021-05-04 에스케이이노베이션 주식회사 폴리아미드이미드 필름 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 패널

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1149858A (ja) * 1997-07-31 1999-02-23 Toray Ind Inc ポリアミドイミドおよびその製造方法
KR20160081829A (ko) * 2014-12-30 2016-07-08 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아마이드-이미드 전구체, 폴리아마이드-이미드 필름 및 이를 포함하는 표시소자
WO2018147606A1 (ko) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
KR20200092628A (ko) * 2019-01-25 2020-08-04 주식회사 엘지화학 폴리아미드계 (공)중합체의 제조방법, 및 이를 이용한 폴리아미드계 (공)중합 수지 조성물, 고분자 필름
KR102247146B1 (ko) * 2020-04-20 2021-05-04 에스케이이노베이션 주식회사 폴리아미드이미드 필름 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 패널

Also Published As

Publication number Publication date
TWI797893B (zh) 2023-04-01
KR20220096482A (ko) 2022-07-07
TW202235493A (zh) 2022-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2015183056A1 (ko) 폴리이미드계 용액 및 이를 이용하여 제조된 폴리이미드계 필름
WO2017111299A1 (ko) 접착력이 향상된 폴리아믹산 조성물 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름
WO2017111300A1 (ko) 신규 구조의 디아민 모노머를 적용한 폴리아믹산 용액 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름
WO2018038436A1 (ko) 디아민 화합물 및 이의 제조방법
EP2553001A2 (en) Polyimide film
WO2014104557A1 (ko) 낮은 열팽창 계수를 갖는 신규한 폴리아미드이미드
WO2018117551A1 (ko) 투명 폴리이미드 필름
WO2019235712A1 (ko) 실록산 화합물 및 이를 포함하는 폴리이미드 전구체 조성물
WO2020111522A1 (ko) 감광성 수지 조성물, 필름 및 전자장치
WO2021060752A1 (ko) 우수한 표면 평탄성을 갖는 폴리이미드계 필름 및 이의 제조방법
WO2020159174A1 (ko) 폴리이미드계 수지 필름 및 이를 이용한 디스플레이 장치용 기판, 및 광학 장치
WO2022145825A1 (ko) 낮은 염소 농도를 갖는 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145824A1 (ko) 낮은 광투과도 변화율을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2015182925A1 (ko) 신규 디아민 합성 및 이를 이용한 액정 배향제
WO2020105933A1 (ko) 액정 배향제 조성물, 이를 이용한 액정 배향막의 제조 방법, 이를 이용한 액정 배향막 및 액정표시소자
WO2022145823A1 (ko) 우수한 광학 특성을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145826A1 (ko) 낮은 색변환 지수를 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022145891A1 (ko) 우수한 중합도를 갖는 고분자 수지를 포함하는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치
WO2022010253A1 (ko) 광투과성 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
WO2020130261A1 (ko) 가교제 화합물, 이를 포함하는 감광성 조성물, 및 이를 이용한 감광 재료
WO2023128075A1 (ko) 광학 필름 및 이의 제조방법
WO2022045737A1 (ko) 포지티브형 감광성 수지 조성물
WO2018147617A1 (ko) 폴리아마이드-이미드 필름 및 이의 제조방법
WO2022145950A1 (ko) 전구체, 중합체, 중합체를 포함하는 광학 필름 및 광학 필름을 포함하는 표시장치
WO2020184972A1 (ko) 폴리이미드 공중합체, 폴리이미드 공중합체의 제조방법, 이를 이용한 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 필름 및 광학 장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21915623

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21915623

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1