KR20160064082A - 광경화성 수지 조성물, 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법 - Google Patents

광경화성 수지 조성물, 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법 Download PDF

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요이치 기무라
데쓰야 오카자키
히로카 신도
마사유키 와다
도모히로 호리노우치
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히타치가세이가부시끼가이샤
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Abstract

(A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물, (B) 광중합 개시제, 및 (C) 가소제를 포함하는 광경화성 수지 조성물로서, (B) 광중합 개시제의 함유량이, 4.0∼10 질량%인 광경화성 수지 조성물에 관한 것이다

Description

광경화성 수지 조성물, 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법{PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, IMAGE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 광경화성 수지 조성물, 이것을 사용한 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
스마트 폰 등의 정보 단말기에 사용되고 있는 액정 표시 패널 등의 화상 표시용 장치는, 액정 표시 패널, 유기 EL 패널 등의 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재의 사이에, 광경화성 수지 조성물을 배치한 후, 그 조성물에 자외선을 조사하여 경화시켜 광투과성 경화 수지층으로 만들고, 이로써, 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재를 접착 및 적층하는 방법에 의해 제조되고 있다(특허 문헌 1).
그런데, 광투과성 커버 부재의 화상 표시 부재 측 표면의 주연부(周緣部)에는, 표시 화상의 휘도 및 콘트라스트 향상을 위해 차광층이 형성되어 있다. 상기 차광층의 존재에 의해, 차광층과 화상 표시 부재의 사이에 협지된 광경화성 수지 조성물로의 자외선의 조사가 불충분하게 되어, 경화가 충분히 진행되지 않는 경우가 있다. 그 결과, 부재 사이의 충분한 접착력을 얻지 못하여, 광투과성 커버 부재와 화상 표시 부재의 사이의 박리나, 그 간극(間隙)으로의 습기의 침입에 의한 화상 품질의 저하 등이 생기는 것이 우려되고 있다.
이에, 광경화성 수지 조성물에 열중합 개시제를 배합하여 열 및 광경화성 수지 조성물로 만들고, 차광층이 형성된 광투과성 커버 부재의 표면에, 이 열 및 광경화성 수지 조성물을 도포하고, 이 도포면을 화상 표시 부재에 중첩시키고, 자외선을 조사하여 광경화시킨 후에, 전체를 가열함으로써 차광층과 화상 표시 부재의 사이에 협지된 열 및 광경화성 수지 조성물을 열경화시키는 방법이 제안되어 있다(특허 문헌 2).
또한, 열중합 개시제를 함유하고 있지 않은 액상(液狀)의 광경화성 수지 조성물을, 차광층이 형성된 광투과성 커버 부재의 표면 또는 화상 표시 부재의 표면에 도포한 후, 그 상태에서 자외선을 조사하여 가경화(假硬化)시킨 가경화 수지층을 통하여 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재를 적층한 후에, 자외선을 조사하여 본경화시켜 광투과성 경화 수지층을 형성하는 방법이 제안되어 있다(특허 문헌 3).
국제 공개 제2010/027041호 국제 공개 제2008/126860호 일본 특허 제5138820호
그러나, 특허 문헌 2의 기술에 의하면, 특허 문헌 1에서 우려된 문제의 해소는 기대할 수 있지만, 광중합 개시제와 열중합 개시제를 병용하므로, 광중합 프로세스뿐만 아니라 열중합 프로세스를 실시하지 않으면 안된다. 따라서, 열중합 프로세스를 위한 설비 투자의 부담이 커지는 문제, 및 열 및 광경화성 수지 조성물의 보존 안정성이 저하되는 문제가 있었다.
또한, 특허 문헌 3의 기술에 의하면, 특허 문헌 2에서 우려된 문제의 해소는 기대할 수 있지만, 차광층과 화상 표시 부재의 사이에 협지된 광경화성 수지 조성물은, 가경화 공정을 거쳐 반경화의 상태로 접합을 행하므로, 차광층과 광투과성 커버 부재 표면의 사이로부터의 기포의 발생, 광투과성 커버와 광경화성 수지 조성물과의 층간 박리의 발생이 우려된다. 또한, 반경화의 상태로 접합시킨 후, 본경화 공정을 행할 때까지의 사이에는, 광경화성 수지 조성물로부터의 액의 부유(liquid floating)에 의한 광투과성 커버와 광경화성 수지 조성물의 위치 어긋남의 발생이 우려된다. 또한, 광투과성 커버 부재와 화상 표시 부재를 접합시킨 후, 또한 자외선 조사에 의한 광경화를 행하여 접착시키기 때문에, 본경화 프로세스를 위한 설비 투자의 부담이 커지는 문제가 있다.
본 발명의 과제는, 이상의 종래의 기술의 문제점을 해결하는 것이다. 즉, 화상 표시용 장치에서의 보호 패널 등의 광투과성 커버 부재와 화상 표시 부재 등과의 사이의 공간을 충전하기 위해 적합하고, 광투과성 커버 부재와 화상 표시 부재를 접합시키기 전의 공정에서의 활성 에너지선 조사에 의하여, 광경화 후의 액의 부유를 억제할 수 있고, 충분한 접착력을 발휘하며, 제조 공정의 간편화를 도모할 수 있는 광경화성 수지 조성물, 이것을 사용한 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 문제점을 해결하기 위하여, 여러 가지로 연구를 거듭한 결과, 각종 성분의 배합비, 특히 광중합 개시제의 함유량을 특정한 범위가 되도록 조정한 광경화성 수지 조성물이, 상기 문제점을 해결하는 것을 발견하고, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은, 하기의 [1]∼[15]를 제공한다.
[1] (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물, (B) 광중합 개시제, 및 (C) 가소제를 포함하는 광경화성 수지 조성물로서, (B) 광중합 개시제의 함유량이, 4.0∼10 질량%인 광경화성 수지 조성물.
[2] (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물로서, (메타)아크릴로일기를 가지는 이소프렌 중합체를 포함하는, 상기 [1]에 기재된 광경화성 수지 조성물.
[3] (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물의 함유량이, 상기 광경화성 수지 조성물 총량에 대하여, 10∼90 질량%인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광경화성 수지 조성물.
[4] (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물로서, (A1) 분자 내에 (메타)아크릴로일기를 가지는 중합체, 및 (A2) 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체를 포함하는, 상기 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 광경화성 수지 조성물.
[5] (A2) 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체가, 디시클로펜타닐기, 디시클로펜테닐기, 또는 이소보르닐기를 가지는 (메타)아크릴레이트 중 적어도 1종을 포함하고, 상기 광경화성 수지 조성물 총량 중의 (A2) 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체의 함유량이 10∼40 질량%인, 상기 [4]에 기재된 광경화성 수지 조성물.
[6] (D) 산화 방지제를 포함하는, 상기 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 광경화성 수지 조성물.
[7] (D) 산화 방지제가 (D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물, 및 (D2) 티오에테르 구조를 가지는 화합물을 포함하는, 상기 [6]에 기재된 광경화성 수지 조성물.
[8] 25℃에서의 점도가 5.0×102 mPa·s∼5.0×104 mPa·s인, 상기 [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 광경화성 수지 조성물.
[9] 화상 표시 부재와, 주연부에 차광층이 형성된 광투과성 커버 부재가, 상기 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광경화성 수지 조성물로 형성된 광투과성 경화 수지층을 통하여, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성면이 화상 표시 부재 측에 배치되도록 적층된 화상 표시용 장치의 제조 방법으로서, 이하의 공정(I)∼공정(III)을 가지는 제조 방법이며, 공정(II)에 있어서, 광투과성 경화 수지층의 경화율이 80% 이상이 되도록, 광경화성 수지 조성물에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는, 화상 표시용 장치의 제조 방법.
공정(I): 광경화성 수지 조성물을, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면, 또는 화상 표시 부재의 차광층측 표면에 층 형성하여, 광경화성 수지 조성물층을 형성하는 공정.
공정(II): 형성된 광경화성 수지 조성물층에 대하여, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 광투과성 경화 수지층을 형성하는 공정.
공정(III): 차광층과 광투과성 경화 수지층이 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재의 사이에 개재되도록, 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재를 접합시키는 공정.
[10] 공정(I)에 있어서, 광경화성 수지 조성물층을, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면에 형성하는, 상기 [9]에 기재된 화상 표시용 장치의 제조 방법.
[11] 공정(I)에 있어서, 광경화성 수지 조성물층을, 화상 표시 부재의 표면에 형성하는, 상기 [9]에 기재된 화상 표시용 장치의 제조 방법.
[12] 공정(III)에 있어서, 광투과성 경화 수지층을 형성한 화상 표시 부재와 차광층이 형성된 광투과성 커버 부재를, 광투과성 경화 수지층이, 화상 표시 부재와 차광층, 및 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재로 형성되는 간극에 매립되도록, 접합하는, 상기 [11]에 기재된 화상 표시 장치의 제조 방법.
[13] 공정(I)에 있어서, 광경화성 수지 조성물층을, 화상 표시용 부재 또는 광투과성 커버 부재의 표면에, 6㎛∼1.5×103㎛의 두께로 형성하는, 상기 [9]∼[12] 중 어느 하나에 기재된 화상 표시용 장치의 제조 방법.
[14] 화상 표시 부재가, 액정 표시 패널, 유기 EL 표시 패널, 플라즈마 표시 패널, 터치 패널, 또는 시차(視差) 배리어(barrier) 패널인, 상기 [9]∼[13] 중 어느 하나에 기재된 화상 표시용 장치의 제조 방법.
[15] 상기 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광경화성 수지 조성물의 경화물을 가지는 화상 표시용 장치.
본 발명에 의하면, 화상 표시용 장치에서의 보호 패널 등의 광투과성 커버 부재와 화상 표시 부재 등의 사이의 공간을 충전하기 위해 적합하고, 광투과성 커버 부재와 화상 표시 부재를 접합시키기 전의 공정에서의 활성 에너지선 조사에 의하여, 광경화 후의 액의 부유를 억제할 수 있고, 충분한 접착력을 발휘하고, 제조 공정의 간편화를 도모할 수 있는 광경화성 수지 조성물, 이것을 사용한 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 화상 표시용 장치의 제조 방법의 공정(I)의 일례를 설명한 도면이다.
도 2는 본 발명의 화상 표시용 장치의 제조 방법의 공정(I)의 일례를 설명한 도면이다.
도 3은 본 발명의 화상 표시용 장치의 제조 방법의 공정(II)의 일례를 설명한 도면이다.
도 4는 본 발명의 화상 표시용 장치의 제조 방법의 공정(III)의 일례를 설명한 도면이다.
도 5는 본 발명의 화상 표시용 장치의 제조 방법의 공정(I)의 일례를 설명한 도면이다.
도 6은 본 발명의 화상 표시용 장치의 제조 방법의 공정(II)의 일예를 설명한 도면이다.
도 7은 본 발명의 화상 표시용 장치의 제조 방법의 공정(III)의 일례를 설명한 도면이다.
도 8은 광투과성 경화 수지층의 접착력 시험의 설명도이다.
도 9는 광경화성 수지 조성물의 액 부유 시험을 설명하기 위한 설명도이다.
이하에서, 본 발명의 광경화성 수지 조성물, 이것을 사용한 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법을 실시형태에 의해 상세하게 설명한다. 그리고, 이 실시형태에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
그리고, 도면 중, 동일하거나 또는 상당 부분에는 동일 부호를 부여하고, 중복되는 설명은 생략한다.
또한, 본 명세서에서의 「(메타)아크릴레이트」란, 「아크릴레이트」 및 그에 대응하는 「메타크릴레이트」를 의미한다. 마찬가지로 「(메타)아크릴」이란, 「아크릴」 및 그에 대응하는 「메타크릴」을 의미하고, 「(메타)아크릴로일」이란 「아크릴로일」 및 그에 대응하는 「메타크릴로일」을 의미한다.
또한, 본 명세서에 있어서, 분자량은 겔투과크로마토그래피(GPC)에 의해 측정하고, 표준 폴리스티렌의 검량선을 사용하여 환산한 값이며, 구체적으로는 이하에 기재된 방법에 의해 측정한 값이다.
<분자량 측정>
수평균 분자량(Mn)은, 이하의 방법에 기초하여 측정한다.
·검량선의 작성 방법: 테트라하이드로퓨란(이하, 「THF」라고도 함)을 용매로 한 겔투과 크로마토그래피(GPC)를 사용하여 행하고, 폴리스티렌을 표준 물질로서 검량선을 작성하여 결정한다. 검량선 작성 시에는, 표준 폴리스티렌으로서 5 샘플 세트(PStQuickMP-H, PStQuick B[도소(주) 제조, 상품명])를 사용한다.
·장치: 고속 GPC 장치 HCL-8320GPC(검출기: 시차 굴절계 또는 UV)
(도소(주) 제조, 상품명)
·사용 용매: THF
·컬럼: 컬럼 TSKGEL SuperMultipore HZ-H
(도소(주) 제조, 상품명)
·컬럼 사이즈: 컬럼 길이 15 cm, 컬럼 내경(內徑) 4.6 ㎜
·측정 온도: 40℃
·유량: 0.35 ml/분
·시료 농도: 10 mg/THF 5ml
·주입량: 20μl
또한, 수평균 분자량, 중량 평균 분자량 및 분산도는, 하기와 같이 정의된다.
(a) 수평균 분자량(Mn)
Mn=Σ(NiMi)/ΣNi=ΣXiMi
(Xi=분자량 Mi의 분자의 몰분율=Ni/ΣNi)
(b) 중량 평균 분자량(Mw)
Mw=Σ(NiMi 2)/ΣNiMi=ΣWiMi
(Wi=분자량 Mi의 분자의 중량분율=NiMi/ΣNiMi)
(c) 분자량 분포(분산도)
분산도=Mw/Mn
[광경화성 수지 조성물]
본 발명의 광경화성 수지 조성물(이하, 간단히 「수지 조성물」이라고도 함)은, (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물(이하, 「(A) 성분」이라고도 함), (B) 광중합 개시제(이하, 「(B) 성분」이라고도 함), 및 (C) 가소제(이하, 「(C) 성분」이라고도 함)를 함유하고, (B) 광중합 개시제의 함유량이 4.0∼10 질량%이다.
<(A) 성분: (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물>
본 발명의 수지 조성물은, (A) 성분으로서, (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물을 함유한다. (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물로서는, (A1) 분자 내에 (메타)아크릴로일기를 가지는 중합체(이하, 「(A1) 성분」이라고도 함), (A2) 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체(이하, 「(A2) 성분」이라고도 함)를 예로 들 수 있고, 수지 조성물의 점도의 조정의 관점, 및 경화 수축율의 저감, 및 점착성을 높이고 접착성을 향상시키는 관점에서, (A1) 성분 및 (A2) 성분을 병용하는 것이 바람직하다. (A1) 성분만을 사용하는 경우와 비교하여, (A2) 성분을 병용함으로써, 점착성을 보다 향상시킬 수 있다. 또한, (A2) 성분만을 사용하는 경우와 비교하여, (A1) 성분을 병용함으로써, 수지 조성물의 경화 수축율을 저감하고, 피착체와의 계면에서의 박리를 억제할 수 있다.
또한, (A) 성분으로서, (A1) 성분 및 (A2) 성분 이외의 성분을 병용할 수도 있지만, (A1) 성분 및 (A2) 성분만을 사용하는 것이 바람직하다.
이하, (A1) 성분 및 (A2) 성분에 대하여 설명한다.
((A1) 성분: 분자 내에 (메타)아크릴로일기를 가지는 중합체)
(A1) 성분인 분자 내에 (메타)아크릴로일기를 가지는 중합체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴로일기를 가지는 폴리에스테르 올리고머, (메타)아크릴로일기를 가지는 우레탄 중합체, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴로일기를 가지는 부타디엔 중합체, (메타)아크릴로일기를 가지는 이소프렌 중합체 등이 있다
이들 중에서도, 투명성, 내황변성(耐黃變性), 및 각종 특성의 밸런스의 관점에서, (메타)아크릴로일기를 가지는 이소프렌 중합체가 바람직하다.
(메타)아크릴로일기를 가지는 이소프렌 중합체로서는, 예를 들면, 하기 일반식(1)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00001
상기 일반식(1) 중, m은 50∼1000의 수를 나타내고, n는 1∼5의 수를 나타내고, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.
m은, 50∼1000의 수이며, 바람직하게는 100∼800의 수이며, 보다 바람직하게는 150∼700의 수이며, 더욱 바람직하게는 200∼600의 수이다.
n은, 1∼5의 수이며, 바람직하게는 1.5∼4.0의 수이며, 더욱 바람직하게는 2.0∼3.5의 수이며, 더욱 바람직하게는 2.0∼3.0의 수이다.
상기 일반식(1)으로 표시되는 화합물의 시판품으로서는, 폴리이소프렌 중합체의 무수말레산 부가물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물인 UC-102, UC-203(모두 제품명, (주)크라레 제조) 등을 예로 들 수 있다.
(A1) 성분에서의 평균 관능기 수는, 수지 조성물의 경화 수축율, 및 탄성율을 더욱 저감할 수 있는 관점에서, 바람직하게는 1.5∼4.0, 보다 바람직하게는 2.0∼3.5, 더욱 바람직하게는 2.0∼3.0이다.
그리고, 「관능기 수」란 (A1) 성분의 1분자 중의 관능기((메타)아크릴로일기)의 수를 나타내고, 「평균 관능기 수」란, (A1) 성분 전체에서의 분자당 관능기 수의 평균값을 나타낸다.
또한, (A1) 성분의 수평균 분자량(Mn)은, 배합 후의 점도, 작업성, 경화물의 인성, 및 탄성율의 관점에서, 바람직하게는 1.0×104 이상, 보다 바람직하게는 1.25×104 이상, 더욱 바람직하게는 1.5×104 이상이며, 그리고, 바람직하게는 1.0×105 이하, 더욱 바람직하게는 5.0×104 이하, 더욱 바람직하게는 4.0×104 이하, 특히 바람직하게는 3.5×104 이하, 극히 바람직하게는 2.0×104 이하이다.
수지 조성물 중의(A1) 성분의 함유량은, 경화성 및 내습열 신뢰성의 관점에서, 수지 조성물 총량에 대하여, 바람직하게는 5 질량% 이상, 또한 접착력을 고려하면, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 15 질량% 이상이며, 그리고, 경화 수축율 및 탄성율의 관점에서, 바람직하게는 55 질량% 이하, 또한 접착력을 고려하면, 보다 바람직하게는 40 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 25 질량% 이하이다.
(A1) 성분의 함유량이 5 질량% 이상이면, 수지 조성물의 경화성을 향상시킬 수 있는 동시에, 경화물의 내습열 신뢰성을 양호하게 할 수 있다. 한편, (A1) 성분의 함유량이 55 질량% 이하이면, 경화 수축율이 양호하게 되는 동시에, 경화물의 탄성율이 지나치게 커지지 않으므로 바람직하다.
((A2) 성분: 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체)
(A2) 성분인 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체는, 상온(25℃)에서 액상인 것이 바람직하다.
또한, (A2) 성분으로서는, 분자 내에 디시클로펜타닐기, 디시클로펜테닐기, 또는 이소보르닐기를 가지는 화합물이 바람직하고, 분자 내에 디시클로펜테닐기, 또는 이소보르닐기를 가지는 화합물이 보다 바람직하고, 분자 내에 디시클로펜테닐기를 가지는 화합물이 더욱 바람직하다. 이들 복수 종류의 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 병용할 수도 있다.
(A2) 성분으로서는, 하기 일반식(2)으로 표시되는 (메타)아크릴레이트를 바람직하게 예로 들 수 있다.
Figure pct00002
상기 일반식(2) 중, R2는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R3는 탄소수 4∼20의 알킬기를 나타낸다. 유연성를 더욱 부여시키는 관점에서, R3는 탄소수 6∼18의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 8∼16의 알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 8∼12의 알킬기가 더욱 바람직하다.
(A2) 성분으로서는, 예를 들면, n-부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, n-펜틸(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 1-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 1-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 1-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기 함유 (메타)아크릴레이트; 디메틸(메타)아크릴아미드, 이소프로필(메타)아크릴아미드, 디메틸아미노프로필(메타)아크릴아미드 등의 (메타)아크릴아미드; 하이드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 수산기 함유 (메타)아크릴아미드; 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜 등의 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트; 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜 등의 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트; 디부틸렌글리콜, 트리부틸렌글리콜 등의 폴리부틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트; 아크릴로일모르폴린 등의 모르폴린기 함유 (메타)아크릴레이트; 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸메타아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등이 있다.
이들의 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
이들 중에서도, 광학적 특성, 액의 부유, 접착력, 내습열 신뢰성 및 경화 후의 점착성의 관점에서, 디시클로펜타닐기, 디시클로펜테닐기, 또는 이소보르닐기를 가지는 (메타)아크릴레이트 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 디시클로펜테닐기, 또는 이소보르닐기를 가지는 (메타)아크릴레이트 중 적어도 1종을 포함하는 것이 보다 바람직하고, 디시클로펜테닐기를 가지는 (메타)아크릴레이트가 더욱 바람직하다. 이들 복수 종류의 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 병용할 수도 있다.
수지 조성물 중의 (A2) 성분의 함유량은, 적절한 점도를 가지는 수지 조성물을 얻는 관점, 및 경화 수축율 조정의 관점 및 경화물의 투명성을 향상시키는 관점에서, 수지 조성물 총량에 대하여, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상이며, 그리고, 경화 수축율 및 경화물의 탄성율의 조정의 관점에서, 수지 조성물 총량에 대하여, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 35 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다.
(A2) 성분의 함유량이 10 질량% 이상이면, 적절한 점도를 가지는 수지 조성물로 만들 수 있어, 도포 등의 작업성을 양호하게 할 수 있는 동시에, 경화 수축율을 낮게 할 수 있다. 또한, 경화물의 투명성을 향상시킬 수 있다.
(A2) 성분의 함유량이 40 질량% 이하이면, 경화 수축율, 및 탄성율이 지나치게 높아지는 것을 억제할 수 있고, 화상 표시용 장치에 사용한 경우에, 표시 불균일 및 모듈의 휨의 발생을 억제할 수 있다.
또한 (A1) 성분과 (A2) 성분의 질량비 (A1)/(A2)는, 바람직하게는 0.1 이상, 보다 바람직하게는 0.2 이상, 더욱 바람직하게는 0.3 이상, 특히 바람직하게는 0.4 이상, 극히 바람직하게는 0.5 이상이며, 그리고, 바람직하게는 5.5 이하, 보다 바람직하게는 4.0 이하, 더욱 바람직하게는 3.0 이하, 특히 바람직하게는 2.0 이하, 극히 바람직하게는 1.0 이하이다.
(A) 성분의 함유량은, 수지 조성물 총량에 대하여, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 20 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상이며, 그리고, 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하, 특히 바람직하게는 50 질량% 이하이다.
<(B) 성분: 광중합 개시제>
(B) 성분의 광중합 개시제는, 자외선, 전자선, α선, β선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생시켜, 수지 조성물의 경화 반응을 촉진시키는 중합 개시제의 일종이다.
(B) 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조페논, N,N'-테트라메틸-4,4'-디아미노벤조페논(미힐러케톤), N,N'-테트라에틸-4,4'-디아미노벤조페논, 4-메톡시-4,4'-디메틸아미노벤조페논, α-하이드록시이소부틸페논, 2-에틸안트라퀴논, tert-부틸안트라퀴논, 1,4-디메틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2,3-디클로로안트라퀴논, 3-클로로-2-메틸안트라퀴논, 1,2-벤조안트라키논, 2-페닐안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논, 9,10-페난트라퀴논, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 2,2-디에톡시아세토페논 등의 방향족 케톤 화합물; 벤조인, 메틸벤조인, 에틸벤조인 등의 벤조인 화합물; 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인페닐에테르 등의 벤조인에테르 화합물; 벤질, 벤질디메틸케탈 등의 벤질 화합물; β-(아크리딘-9-일)(메타)아크릴산 등의 에스테르 화합물; 9-페닐아크리딘, 9-피리딜아크리딘, 1,7-디아크리디노헵탄 등의 아크리딘 화합물; 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)이미다졸 2량체, 2-(o-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(o-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(p-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2,4-디(p-메톡시페닐)5-페닐이미다졸 2량체, 2-(2,4-디메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체, 2-(p-메틸메르캅토페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체 등의 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체; 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로판 등의 알킬페논계 화합물; 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-하이드록시-1-{4-[4-(2-하이드록시-2-메틸프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 올리고{2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논} 등의 α-하이드록시알킬페논계 화합물; 페닐글리옥실릭 애시드 메틸에스테르; 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드 등의 포스핀옥사이드계 화합물 등이 있다. 이들 중에서도 특히, 경화성, 반응성의 관점에서, 방향족 케톤 화합물, 페닐글리옥실릭 애시드 메틸에스테르, 포스핀옥사이드계 화합물 또는 α-하이드록시알킬페논계 화합물이 바람직하고, α-하이드록시알킬페논계 화합물 또는 포스핀옥사이드계 화합물이 보다 바람직하고, 포스핀옥사이드계 화합물이 더욱 바람직하다.
이들 화합물은, 단독으로 사용할 수 있고, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서, (B) 성분의 함유량은, 수지 조성물 총량에 대하여, 4.0 질량% 이상 10 질량% 이하이며, 경화 반응을 촉진시키는 관점에서, 바람직하게는 4.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5.0 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 5.2 질량% 이상, 특히 바람직하게는 5.4 질량% 이상, 극히 바람직하게는 5.5 질량% 이상이며, 그리고, 점착성의 관점에서, 바람직하게는 9.0 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8.0 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 7.5 질량% 이하, 특히 바람직하게는 7.0 질량%, 극히 바람직하게는 6.5 질량% 이하이다.
(B) 성분의 함유량이 4.0 질량% 미만이면, 산소 존재 하의 도막 표면에서 충분히 경화 반응을 촉진시킬 수 없어, 경화물로 만들 수 없다. 한편, (B) 성분의 함유량이 10 질량%를 넘으면, 점착성이 저하된다.
또한, (B) 성분으로서 포스핀옥사이드계 화합물을 사용하는 경우, 포스핀옥사이드계 화합물의 함유량은, 수지 조성물 총량에 대하여, 경화 반응을 촉진시키는 관점에서, 바람직하게는 4.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5.0 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 5.2 질량% 이상, 특히 바람직하게는 5.4 질량% 이상, 극히 바람직하게는 5.6 질량% 이상이며, 그리고, 점착성의 관점에서, 바람직하게는 9.0 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8.0 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 7.5 질량% 이하, 특히 바람직하게는 7.0 질량%, 극히 바람직하게는 6.5 질량% 이하이다.
(A) 성분과 (B) 성분의 질량비 (B)/(A)는, 바람직하게는 0.05 이상, 보다 바람직하게는 0.07 이상, 더욱 바람직하게는 0.08 이상, 또한 더욱 바람직하게는 0.09 이상, 특히 바람직하게는 0.1 이상, 극히 바람직하게는 0.12 이상이며, 그리고, 바람직하게는 0.9 이하, 보다 바람직하게는 0.5 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 이하, 또한 더욱 바람직하게는 0.25 이하, 특히 바람직하게는 0.2 이하, 극히 바람직하게는 0.14 이하이다.
<(C) 성분: 가소제>
본 발명에서 (C) 성분으로서 사용하는 가소제는, 실질적으로 (메타)아크릴로일기를 가지지 않는다. 또한, (C) 성분은, 광경화성 수지 조성물 제작 시의 작업성, 및 재결정화 등에 의한 가소제의 석출을 억제하는 관점에서, 25℃에서 액상인 것이 바람직하다.
(C) 성분으로서는, 예를 들면, 부타디엔 고무, 이소프렌 고무, 실리콘 고무, 스티렌부타디엔 고무, 클로로프렌 고무, 니트릴 고무, 부틸 고무, 에틸렌프로필렌 고무, 우레탄 고무, 아크릴 고무, 클로로술폰화 폴리에틸렌 고무, 불소 고무, 수소화 니트릴 고무, 에피클로로히드린 고무의 액상물; 폴리부텐 등의 폴리 α-올레핀, 수첨 폴리부텐 등의 수첨 α-올레핀 올리고머, 어택틱(atactic) 폴리프로필렌 등의 폴리비닐계 올리고머; 비페닐, 트리페닐 등의 방향족계 올리고머; 수첨 액상 폴리 부타디엔 등의 수첨 폴리엔계 올리고머; 파라핀유, 염화 파라핀유 등의 파라핀계 올리고머; 나프텐유 등의 시클로파라핀계 올리고머; 디메틸프탈레이트, 디에틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 디(2-에틸헥실)프탈레이트, 디-n-옥틸프탈레이트, 디이소부틸프탈레이트, 디헵틸프탈레이트, 디페닐프탈레이트, 디이소데실프탈레이트, 디트리데실프탈레이트, 디운데실프탈레이트, 디(헵틸, 노닐, 운데실)프탈레이트, 벤질프탈레이트, 부틸벤질프탈레이트, 디노닐프탈레이트, 디시클로헥실프탈레이트 등의 프탈산 유도체; 디메틸이소프탈레이트, 디(2-에틸헥실)이소프탈레이트, 디이소옥틸이소프탈레이트 등의 이소프탈산 유도체; 디-(2-에틸헥실)테트라하이드로프탈레이트, 디-n-옥틸테트라하이드로프탈레이트, 디이소데실테트라하이드로프탈레이트 등의 테트라하이드로프탈산 유도체; 디-n-부틸아디페이트, 디(2-에틸헥실)아디페이트, 디이소데실아디페이트, 디이소노닐아디페이트 등의 아디프산 유도체; 디-(2-에틸헥실)아젤레이트, 디이소옥틸아젤레이트, 디-n-헥실아젤레이트 등의 아젤라산 유도체; 디-n-부틸세바케이트, 디-(2-에틸헥실)세바케이트 등의 세바스산 유도체; 디-n-부틸말레이트, 디메틸말레이트, 디에틸말레이트, 디(2-에틸헥실)말레이트 등의 말레산 유도체; 디-n-부틸푸말레이트, 디-(2-에틸헥실)푸말레이트 등의 푸마르산 유도체; 트리(2-에틸헥실)트리멜리테이트, 트리-n-옥틸트리멜리테이트, 트리이소데실트리멜리테이트, 트리이소옥틸트리멜리테이트, 트리-n-헥실트리멜리테이트, 트리이소노닐트리멜리테이트 등의 트리멜리트산 유도체; 테트라-(2-에틸헥실)피로멜리테이트, 테트라-n-옥틸피로멜리테이트 등의 피로멜리트산 유도체; 트리에틸시트레이트, 트리-n-부틸시트레이트, 아세틸트리에틸시트레이트, 아세틸트리(2-에틸헥실)시트레이트 등의 시트르산 유도체; 모노메틸이타코네이트, 모노부틸이타코네이트, 디메틸이타코네이트, 디에틸이타코네이트, 디부틸이타코네이트, 디-(2-에틸헥실)이타코네이트 등의 이타콘산 유도체; 부틸올레이트, 글리세릴모노올레이트, 디에틸렌글리콜모노올레이트 등의 올레산 유도체; 메틸아세틸리시놀레이트, 부틸아세틸리시놀레이트, 글리세릴모노리시놀레이트, 디에틸렌글리콜모노리시놀레이트 등의 리시놀산 유도체; n-부틸스테아레이트, 글리세린모노스테아레이트, 디에틸렌글리콜디스테아레이트 등의 스테아르산 유도체; 디에틸렌글리콜모노라우레이트, 디에틸렌글리콜디펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 지방산 에스테르 등의 그 외의 지방산 유도체; 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트, 트리(2-에틸헥실)포스페이트, 트리부톡시에틸포스페이트, 트리페닐포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 트리크레실포스페이트, 트리크실레닐포스페이트, 트리스(클로로에틸)크레질 등의 인산 유도체; 디에틸렌글리콜디벤조에이트, 디프로필렌글리콜디벤조에이트, 트리에틸렌글리콜디벤조에이트, 트리에틸렌글리콜디(2-에틸부티레이트), 트리에틸렌글리콜디(2-에틸헥소에이트), 디부틸메틸렌비스티오글리콜레이트 등의 글리콜 유도체; 글리세롤모노아세테이트, 글리세롤트리아세테이트, 글리세롤트리부티레이트 등의 글리세린 유도체, 에폭시화 대두유, 에폭시 헥사하이드로프탈산 디이소데실, 에폭시트리글리세라이드, 에폭시화 올레산 옥틸, 에폭시화 올레산 데실 등의 에폭시 유도체 등이 있다.
이들 화합물은, 단독으로 사용할 수 있고, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
이들 중에서도, (A1) 성분으로서 (메타)아크릴로일기를 가지는 이소프렌 중합체를 사용하는 경우, 휘발성, 점도, 작업성, 내황변성, 상용성(相溶性) 및 내열성의 관점에서, 부타디엔 고무, 이소프렌 고무, 폴리 α-올레핀, 수첨 α-올레핀 올리고머, 디-(2-에틸헥실)세바케이트가 바람직하고, 부타디엔 고무, 말단에 수산기를 가지는 부타디엔 고무가 더욱 바람직하다.
(C) 성분의 수평균 분자량은, 가소제의 광학적 특성 및 점도 조정의 관점, 및 수지 조성물의 점도 조정의 관점에서, 바람직하게는 3.5×102 이상, 보다 바람직하게는 4.0×102 이상, 더욱 바람직하게는 5.0×102 이상, 특히 바람직하게는 8.0×102 이상이며, 그리고, 가소제의 휘발성 및 수지 조성물의 점도 조정의 관점에서, 바람직하게는 3.0×104 이하, 보다 바람직하게는 1.0×104 이하, 더욱 바람직하게는 5.0×103 이하, 특히 바람직하게는 3.5×103 이하이다.
(C) 성분의 수평균 분자량이 3.5×102 이상이면, 가소제의 휘발을 억제할 수 있다. 그리고, (C) 성분의 수평균 분자량이 3.0×104 이하이면, 가소제의 점도가 지나치게 높아지는 것과, 및 가소제의 백탁(白濁)을 억제할 수 있다.
(C) 성분의 함유량은, 경화물의 탄성력을 적절한 범위로 조정하는 관점에서, 수지 조성물 총량에 대하여, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 30 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 35 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상이며, 그리고, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 65 질량% 이하, 특히 바람직하게는 60 질량% 이하이다.
(C) 성분의 함유량이 20 질량% 이상이면, 탄성율이 지나치게 높아지는 것에 의한 휨의 발생을 억제할 수 있다. 그리고, (C) 성분의 함유량이 80 질량% 이하이면, 탄성율이 지나치게 낮아지는 것에 의한 접착력 및 신뢰성의 저하를 억제할 수 있다.
<그 외의 첨가제>
본 발명의 수지 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서, 또한 그 외의 첨가제를 배합할 수 있다.
그 외의 첨가제로서는, 실란커플링제 등의 접착 개선제, 열중합 개시제, 습기 경화제, (D) 산화 방지제(이하, 「(D) 성분」이라고도 함), 틱소트로픽제, 연쇄 이동제, 안정제, 광 증감제 등의 일반적인 첨가제를 함유할 수 있다.
<(D) 성분: 산화 방지제>
그 중에서도, 본 발명의 수지 조성물은, 액의 부유 및 황변을 억제할 수 있는 관점에서, (D) 산화 방지제를 사용하는 것이 바람직하다.
(D) 산화 방지제의 바람직한 태양으로서는 (D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물(이하, 「(D1) 성분」이라고도 함), 아민계, 인계, 유황계, 히드라진계, 아미드계 화합물 등을 예로 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 블리드아웃(bleed-out)을 억제할 수 있는 관점에서, (D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물이 더욱 바람직하다. 또한, (D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물 중에서도, 황변을 억제할 수 있는 관점에서, 후술하는 (D1') 티오에테르 구조를 가지는 힌더드 페놀계 화합물(힌더드 페놀-티오에테르계 화합물), 또는 (D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물과 유황계 화합물을 병용하는 것이 더욱 바람직하다. 병용하는 유황계 화합물로서는, 후술하는 (D2) 티오에테르 구조를 가지는 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
[(D1) 성분: 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물]
(D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물로서는, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 보다 황변을 억제할 수 있는 관점에서는, 하기 일반식(4)으로 표시되는 (D1') 티오에테르 구조를 가지는 힌더드 페놀계 화합물(힌더드 페놀-티오에테르계 화합물)을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
Figure pct00003
일반식(3) 중, R5는 tert-부틸기 또는 -CH2-S-Ra를 나타내고, R4는 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 -CH2-S-Ra를 나타내고, R4는 각각 독립된 치환기로서, 복수 개 존재할 수도 있다. 또한, n은, 1∼4의 정수를 나타낸다. A는 n가의 유기기를 나타낸다. 또한, 상기 Ra는, 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다.
Figure pct00004
일반식(4) 중, R6는 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, 또한, R7 및 R8은, 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다.
(D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물로서는, 예를 들면, 펜타에리트리톨 테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-하이드록시페닐)프로피오네이트](BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1010), 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1035), 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1076), N,N'-헥산-1,6-디일비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온아미드](BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1098), 벤젠프로판산, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시, C7-C9 측쇄 알킬 에스테르(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1135), 2,4-디메틸-6-(1-메틸펜타데실)페놀(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1141), 디에틸[{3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐}메틸]포스포네이트(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1222), 3,3',3",5,5',5"-헥사-tert-부틸-a,a',a"-(메시틸렌-2,4,6-트리일)트리-p-크레졸(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1330), 칼슘디에틸비스[[3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐]메틸]포스포네이트]와 폴리에틸렌 왁스의 혼합물(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1425WL), 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX1520L), 에틸렌비스(옥시에틸렌)비스[3-(tert-부틸-4-하이드록시-m-톨릴)프로피오네이트](BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX245), 1,6-헥산디올-비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX259), 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누르산(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX3114), 1,3,5-트리스[(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-크실릴)메틸]-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX3790), N-페닐벤젠아민과 2,4,4-트리메틸펜텐과의 반응 생성물(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX5057), 6-(4-하이드록시-3-5-디-tert-부틸 아닐리노)-2,4-비스옥틸티오-1,3,5-트리아진(BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX565), 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누르산((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-20), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)부탄((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-30), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀)((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-40), 3-(4'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)프로피온산-n-옥타데실((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-50), 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3',5'-디-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-60), 트리에틸렌글리콜비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트]((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-70), 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[β-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐프로피오닐옥시]에틸]2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-80), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠((주)ADEKA 제조, 상품명: 아데카스타브AO-330), 2,2-옥사미드비스[에틸-3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](Chemtura사 제조, 상품명: 나우가드XL-1), 1,1,3-트리스{2-메틸-4-[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시]-5-tert-부틸페닐}부탄((주)에이피아이코포레이션 제조, 상품명: GSY-242) 등이 있다. 이들 중에서도, 블리드아웃을 억제할 수 있는 관점에서는, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트] 및 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸이 바람직하고, 블리드아웃과 함께 황변성도 억제할 수 있고, 취급하기 쉬운 관점에서는, 분자 내에 티오에테르 구조를 가지는 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸이 더욱 바람직하고, 넓은 범위에서 사용하는 경우 등에는, 블리드아웃을 억제할 수 있고, 냄새가 적고, 조작성이 우수한 관점에서, 액상인 벤젠프로판산, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시, C7-C9 측쇄 알킬 에스테르가 더욱 바람직하다.
[(D2) 성분: 티오에테르 구조를 가지는 화합물]
(D2) 티오에테르 구조를 가지는 화합물로서는, 하기 일반식(5)으로 표시되는 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
Figure pct00005
일반식(5) 중, R9는 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다.
(D2) 티오에테르 구조를 가지는 화합물로서는, 예를 들면, 디도데실티오디프로피오네이트(시프로 화성(주) 제조, 상품명: SEENOX DL; BASF 재팬(주) 제조, 상품명: IRGANOX PS 800 FL; 스미토모 화학(주) 제조, 상품명: Sumilizer TPL-R), 디트리데실-3,3'-티오디프로피오네이트((주)ADEKA 제조, 상품명: AO-503), 디테트라데실티오디프로피오네이트(스미토모 화학(주) 제조, 상품명: Sumilizer TPM), 디스테아릴티오디프로피오네이트(스미토모 화학(주) 제조, 상품명: Sumilizer TPD)가 있다.
(D) 성분의 함유량은, 블리드아웃을 더욱 억제할 수 있는 관점에서, 수지 조성물 총량에 대하여, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.6 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.7 질량% 이상이며, 그리고, 바람직하게는 3.0 질량% 이하, 보다 바람직하게는 2.7 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 질량% 이하이다.
(D) 성분의 함유량이 0.5 질량% 이상이면, 수지 조성물의 황변 및 블리드아웃을 억제할 수 있다. 그리고, (D) 성분의 함유량이 3.0 질량% 이하이면, 경화성 및 감도의 저하를 억제할 수 있다.
또한, 상기 (D1) 성분과 (D2) 성분을 병용하는 경우, (D1) 성분과 (D2) 성분의 질량비 (D1)/(D2)는, 바람직하게는 0.25 이상, 보다 바람직하게는 0.3 이상, 더욱 바람직하게는 0.5 이상이며, 그리고, 바람직하게는 4 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이다.
(연쇄 이동제 및 안정제)
또한, 본 발명의 수지 조성물은, 분자량의 조정을 위해 연쇄 이동제를 함유할 수 있다.
연쇄 이동제로서는, 예를 들면, 2-메르캅토에탄올, 라우릴메르캅탄, 글리시딜메르캅탄, 메르캅토아세트산, 티오글리콜산 2-에틸헥실, 2,3-디메틸카프토-1-프로판올, α-메틸스티렌 다이머, 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H, 3H, 5H)-트리온, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트) 등의 티올 화합물 등이 있다.
또한, 본 발명의 수지 조성물은, 광경화 시의 산소 저해 방지를 위하여, 아인산 트리페닐 등의 안정제를 함유할 수 있다.
(유기용매)
그리고, 본 발명의 수지 조성물은, 내습열 신뢰성, 및 경화물 중의 기포 발생을 억제하는 관점에서, 유기용매를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다.
그리고, 본 발명에 있어서 「유기용매」란, (메타)아크릴로일기를 가지지 않고, 25℃에 있어서 액상이며, 또한 대기압에서의 비점(沸点)이 250℃ 이하인 유기 화합물을 의미한다.
여기서 「실질적으로 유기용매를 함유하지 않는」이란, 의도적으로 유기용매를 첨가하지 않는 의미이며, 본 발명의 수지 조성물의 광경화 후의 특성을 현저하게 저하시키지 않는 정도이면, 미량의 유기용매가 존재하고 있어도 된다.
구체적으로는, 수지 조성물 중의 유기용매의 함유량이, 수지 조성물 총량에 대하여, 바람직하게는 1.0×103 ppm 이하, 보다 바람직하게는 5.0×102 ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1.0×102 ppm 이하이며, 유기용매를 전혀 함유하지 않는 것이 특히 바람직하다.
<광경화성 수지 조성물의 점도>
본 발명의 수지 조성물의 25℃에서의 점도는, 작업성의 관점에서, 바람직하게는 10 mPa·s 이상, 보다 바람직하게는 4.0×102 mPa·s 이상, 더욱 바람직하게는 5.0×102 mPa·s 이상, 또한 더욱 바람직하게는 1.0×103 mPa·s 이상, 특히 바람직하게는 2.0×103 mPa·s 이상, 극히 바람직하게는 3.0×103 mPa·s 이상이며, 그리고, 바람직하게는 5.0×104 mPa·s 이하, 보다 바람직하게는 2.0×104 mPa·s 이하, 더욱 바람직하게는 1.5×104 mPa·s 이하, 또한 더욱 바람직하게는 1.25×104 mPa·s 이하, 특히 바람직하게는 1.0×104 mPa·s 이하이다.
그리고, 여기서 언급하는 25℃에서의 점도는, JIS Z 8803에 기초하여 측정한 값이며, 구체적으로는, B형 점도계(도키 산업(주) 제조, 상품명: BL2)에 의해 측정할 수 있다. 그리고, 점도계의 교정은, JIS Z 8809-JS14000에 기초하여 행할 수 있다.
<광경화성 수지 조성물의 경화 수축율>
본 발명의 수지 조성물의 경화 수축율은, 화상 표시용 장치의 구성 부재로서 사용한 경우에, 보호 패널, 화상 표시 유닛 등의 기판의 휨을 더욱 고도로 억제하는 관점에서, 바람직하게는 4.0% 미만, 보다 바람직하게는 3.5% 미만, 더욱 바람직하게는 3.0% 미만이다. 경화 수축율이 4.0% 미만이면, 기판의 휨을 충분히 억제할 수 있다.
그리고, 여기서 언급하는 경화 수축율은 하기의 계산식에 의해 산출할 수 있다.
경화 수축율(%)=((1/액 비중)-(1/경화물 비중))/(1/액 비중)
또한, 상기 식 중의 액 비중 및 경화물 비중은, 하기 방법에 의해 측정할 수 있다.
(액 비중의 측정 방법)
하버드형 비중병을 사용하여, JIS K0061에 따라 측정을 행한다.
(경화물 비중의 측정 방법)
표면이 이형(離型) 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, 「PET」라고도 함) 필름에, 수지 조성물을 적하하고, 상기 수지 조성물의 경화 후의 막 두께가 1 ㎜가 되도록, 다른 1장의 PET 필름을 접합시킨다. 그리고, 한쪽 PET 필름 측으로부터, 자외선 조사 장치를 사용하여, 노광량 1.0×104 mJ/cm2의 자외선을 조사하여, 수지 조성물을 경화시켜, 경화물을 제작한다.
이어서, PET 필름을 박리하고, 상기 경화물을 10 ㎜×10 ㎜로 분취한 시험편을 비중계(알파미라주(주) 제조, 상품명: SD-200L)를 사용하여, 25℃에서 측정한 비중을, 경화물의 비중으로 할 수 있다.
<광경화성 수지 조성물의 경화물의 탄성율>
본 발명의 수지 조성물의 경화물의 탄성율은, 화상 표시용 장치의 구성 부재로서 사용한 경우에, 화상 표시 유닛 등으로의 국소적인 응력 부가를 억제하고, 표시 불균일의 발생을 억제하는 관점에서, 바람직하게는 2.0×105 Pa 이하, 보다 바람직하게는 1.5×105 Pa 이하, 더욱 바람직하게는 1.0×105 Pa 이하이다. 탄성율이 2.0×105 Pa 이하이면, 표시 불균일의 발생의 원인이 될 수도 있는 화상 표시 유닛으로의 국소적인 응력 부가를 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 수지 조성물의 경화물의 탄성율은, 가열했을 때 경화물로부터 액상물이 분리되거나, 늘어져서 떨어지지 않는 정도이면 탄성율의 하한값에 한정은 없지만, 바람직하게는 1.0×104 Pa 이상이다.
그리고, 본 발명에 있어서, 수지 조성물의 경화물의 탄성율은, 막 두께 t=1 ㎜, 폭 10 ㎜의 경화물을, 척(chuck)간 거리 25 ㎜로 오토 그래프((주)시마즈제작소 제조, 상품명: EZ Test)를 사용하여, 25℃에서 측정함으로써 얻어진 인장 탄성율의 값을 의미한다.
[화상 표시용 장치의 제조 방법]
다음으로, 본 발명의 수지 조성물을 사용하여 제조할 수 있는 화상 표시용 장치의 제조 방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법은, 화상 표시 부재와 주연부에 차광층이 형성된 광투과성 커버 부재가, 본 발명의 광경화성 수지 조성물로 형성된 광투과성 경화 수지층을 통하여, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성면이 화상 표시 부재 측에 배치되도록 적층된 화상 표시용 장치의 제조 방법으로서, 이하의 공정(I)∼공정(III)을 가지는 제조 방법이며, 공정(II)에 있어서, 광투과성 경화 수지층의 경화율이 80% 이상이 되도록, 광경화성 수지 조성물에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는, 화상 표시용 장치의 제조 방법이다.
공정(I): 광경화성 수지 조성물을, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면, 또는 화상 표시 부재의 차광층측 표면에 층 형성하여, 광경화성 수지 조성물층을 형성하는 공정.
공정(II): 형성된 광경화성 수지 조성물층에 대하여, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 광투과성 경화 수지층을 형성하는 공정.
공정(III): 차광층과 광투과성 경화 수지층이 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재의 사이에 개재되도록, 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재를 접합시키는 공정.
<공정(I)(광경화성 수지 조성물층의 형성 공정)>
먼저, 도 1에 나타낸 바와 같이, 한쪽 면의 주연부에 형성된 차광층(1)을 가지는 광투과성 커버 부재(2)를 준비하고, 도 2에 나타낸 바와 같이, 광투과성 커버 부재(2)의 표면(2a)에, 광경화성 수지 조성물층(3)을 형성한다.
구체적으로는, 차광층(1)과 광투과성 커버 부재(2)의 차광층 형성측 표면(2a)에 형성되는 단차(4)를 매립하도록, 차광층(1)의 두께보다 두껍고, 차광층(1)의 표면도 포함하고, 광투과성 커버 부재(2)의 차광층 형성측 표면(2a)의 전체면에, 광경화성 수지 조성물층(3)이 평탄하게 되도록 형성하는 것이 바람직하다. 그리고, 광경화성 수지 조성물층(3)은, 반드시 평탄하게 되도록 형성될 필요는 없으며, 광투과성 커버 부재(2)와 화상 표시 부재(6)을 접합한 경우에, 도 4에 나타낸 바와 같이, 광경화성 수지 조성물층(3)을 경화시켜 이루어지는 광투과성 경화 수지층(5)이, 화상 표시 부재(6)과 차광층(1), 및 화상 표시 부재(6)과 광투과성 커버 부재(2)로 형성되는 간극에 매립되도록 형성하면 된다.
광경화성 수지 조성물층(3)을, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 경화시켜 얻어지는, 광투과성 커버 부재(2)와 화상 표시 부재(6)의 사이의 광투과성 경화 수지층의 두께는, 바람직하게는 6㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상, 특히 바람직하게는 50㎛ 이상, 극히 바람직하게는 1.0×102㎛ 이상이며, 그리고, 바람직하게는 1.5×103㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1.0×103㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5.0×102㎛ 이하이다.
광경화성 수지 조성물층(3)의 형성 방법의 예로서는, 스크린 인쇄, 메탈 마스크 인쇄, 슬릿 코터, 바 코터 등에 의한 일반적인 코팅, 멀티 노즐(디스펜서의 노즐을 옆으로 무수히 배열한 것)에서의 디스펜스 등을 들 수 있다. 이들 중 1종 이상의 방법을 이용하여, 필요한 두께를 얻을 수 있도록 형성하면 된다. 그리고, 이 광경화성 수지 조성물층(3)의 형성은, 필요한 두께를 얻을 수 있도록 복수 회 행할 수도 있다.
광투과성 커버 부재(2)로서는, 화상 표시 부재에 형성된 화상이 육안에 의해 관찰 가능한 광투과성이 있으면 되고, 유리, 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트 등의 판형 재료 및 시트형 재료를 예로 들 수 있다.
이들 재료에는, 한쪽 면 또는 양면 하드 코트 처리, 반사 방지 처리 등을 행할 수 있다. 광투과성 커버 부재(2)의 두께, 탄성 등의 물성은, 사용 목적에 따라 적절하게 결정할 수 있다. 또한, 광투과성 커버 부재(2)는 터치 센서 층, 나안(裸眼) 3D용 시차 배리어층 등을 포함할 수도 있다.
차광층(1)은, 화상의 콘트라스트를 높이기 위해 등에 설치되는 것이며, 흑색 등으로 착색된 도료를 스크린 인쇄법 등으로 도포하고, 건조 및 경화시킨 것이다.
차광층(1)의 두께로서는, 통상 5㎛∼1.0×102㎛이며, 이 두께가 단차(4)에 상당한다.
<공정(II)(경화 공정)>
다음으로, 도 3에 나타낸 바와 같이, 공정(I)에서 형성된 광경화성 수지 조성물층(3)에 대하여 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 광투과성 경화 수지층(5)을 형성한다.
광투과성 경화 수지층(5)의 경화율(겔분율)은, 후술하는 실시예에 나타내는 방법에 의해 측정되는 값이며, 80% 이상이 바람직하고, 90% 이상이 보다 바람직하고, 95% 이상이 더욱 바람직하다.
자외선 등의 활성 에너지선의 광원의 종류, 출력, 누적 광량 등은, 경화율(겔분율)이 80% 이상이 되도록 경화시키는 것이 가능하다면 특별히 제한은 없고, 공지의 자외선 등의 활성 에너지선 조사에 의한 (메타)아크릴레이트의 광 라디칼 중합 프로세스 조건을 채용할 수 있다.
또한, 공정(I)(광경화성 수지 조성물층(3)의 형성 공정)으로부터 공정(II)(경화 공정)으로 이행하는 대기 시간, 즉 광경화성 수지 조성물층의 형성 완료로부터 활성 에너지선의 조사까지의 간격은, 60초 이내가 바람직하고, 30초 이내가 보다 바람직하며, 10초 이내가 더욱 바람직하고, 5초 이내가 특히 바람직하다. 광경화성 수지 조성물층의 형성 완료로부터 활성 에너지선의 조사 노광까지의 간격이 60초 이내이면, 광경화성 수지 조성물의 도포 단부(端部)가 표면 장력에 의해 후막화(厚膜化)되어 평활성을 얻을 수 없게 되는 것을 방지할 수 있다.
<공정(III)(접합 공정)>
다음으로, 도 4에 나타낸 바와 같이, 화상 표시 부재(6)에, 광투과성 커버 부재(2)를 그 광투과성 경화 수지층(5) 측으로부터 접합시킨다. 접합은, 공지의 압착(壓着) 장치를 사용하여, 예를 들면, 10℃∼80℃의 온도에서 가압함으로써 행할 수 있다.
화상 표시 부재(6)로서는, 액정 표시 패널, 유기 EL 표시 패널, 플라즈마 표시 패널, 터치 패널 등을 예로 들 수 있다. 여기서, 터치 패널은, 액정 표시 패널과 같은 표시 소자와 터치 패드와 같은 위치 입력 장치를 조합한 화상 표시 및 입력 패널을 의미한다.
그리고, 광투과성 경화 수지층(5)의 광투과성의 레벨은, 화상 표시 부재(6)에 형성된 화상이 육안에 의해 관찰 가능한 광투과성이면 된다.
이상으로, 도 1∼도 4에서는, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면에 광경화성 수지 조성물층을 형성한 예를 설명하였으나, 이하의 도 5∼도 7에서는, 화상 표시 부재의 표면에 광경화성 수지 조성물층을 형성한 예를 설명한다. 그리고, 도 1∼도 4와 도 5∼도 7에 있어서, 동일한 도면 부호는 동일한 구성 요소를 나타내고 있다.
또한, 화상 표시 부재의 표면측에 형성하는 방법도, 공정(I)에 포함되지만, 그 중의 일례를 나타낸 하기 설명 내에서는, 상기 설명과 구별하기 위해 공정(Ir)∼공정(IIIr)으로 기재한다.
<공정(Ir)(광경화성 수지 조성물층의 형성 공정)>
먼저, 도 5에 나타낸 바와 같이, 화상 표시 부재(6)의 표면에 광경화성 수지 조성물층(3)을 형성한다.
여기서, 화상 표시 부재(6)에 형성되는 광경화성 수지 조성물층(3)은, 반드시 평탄하게 되도록 형성될 필요는 없지만, 그 후의 공정을 안정적으로 행하는 관점에서는, 평탄한 것이 바람직하다.
이 경우에, 형성하는 광경화성 수지 조성물층(3)의 두께는, 바람직하게는 6㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상, 특히 바람직하게는 50㎛ 이상, 극히 바람직하게는 1.0×102㎛ 이상이며, 그리고, 바람직하게는 1.5×103㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1.0×103㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5.0×102㎛ 이하이다.
광경화성 수지 조성물층(3)의 형성 방법의 예로서는, 상기 공정(I)에서와 같은 공지의 방법을 채용할 수 있다. 그리고, 이 광경화성 수지 조성물층(3)의 형성은, 필요한 두께를 얻을 수 있도록 복수 회 행할 수도 있다.
<공정(IIr)(경화 공정)>
다음으로, 도 6에 나타낸 바와 같이, 공정(Ir)에서 형성된 광경화성 수지 조성물층(3)에 대하여 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 광투과성 경화 수지층(5)을 형성한다.
광투과성 경화 수지층(5)의 경화율(겔 분율)은, 80% 이상이 바람직하고, 90% 이상이 보다 바람직하고, 95% 이상이 더욱 바람직하다.
<공정(IIIr)(접합 공정)>
다음으로, 도 7에 나타낸 바와 같이, 화상 표시 부재(6)의 광투과성 경화 수지층(5)에, 광투과성 커버 부재(2)를 그 차광층(1) 측으로부터 접합시킨다.
구체적으로는, 광투과성 경화 수지층(5)이 형성된 화상 표시 부재(6)와, 차광층(1)이 형성된 광투과성 커버 부재(2)를, 광투과성 경화 수지층(5)이, 화상 표시 부재(6)과 차광층(1), 및 화상 표시 부재(6)과 광투과성 커버 부재(2)로 형성되는 간극에 매립되도록, 접합하는 것이 바람직하다.
접합은, 공지의 압착 장치를 사용하여, 예를 들면, 10℃∼80℃의 온도에서 가압함으로써 행할 수 있다.
화상 표시 부재(6)로서는, 액정 표시 패널, 유기 EL 표시 패널, 플라즈마 표시 패널, 터치 패널, 시차 배리어 패널 등을 예로 들 수 있다.
그리고, 광투과성 경화 수지층(5)의 광투과성의 레벨은, 화상 표시 부재(6)에 형성된 화상이 육안에 의해 관찰 가능한 광투과성이면 된다.
[화상 표시용 장치]
본 발명의 화상 표시용 장치는, 본 발명의 광경화성 수지 조성물의 경화물을 가진다.
본 발명의 화상 표시용 장치는, 본 발명의 광경화성 수지 조성물의 경화물을 가지는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 예로서, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 얻어지는 화상 표시 장치를 들 수 있다.
실시예
이하에서, 실시예 및 비교예에 따라 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기의 예로 한정되는 것은 아니다. 그리고, 실시예 및 비교예에 있어서, 광경화성 수지 조성물 및 그 경화물의 각 성상(性狀) 등에 대해서는, 이하에 나타내는 방법에 의해 측정 및 평가했다.
[평가 방법]
<광경화성 수지 조성물의 점도>
실시예 및 비교예에서 얻어진 광경화성 수지 조성물의 25℃에서의 점도는, JIS Z 8803에 기초하여 측정하였다. 구체적으로는, B형 점도계(도키 산업(주) 제조, 상품명: BL2)에 의해 측정하였다. 그리고, 점도계의 교정은, JIS Z 8809-JS14000에 기초하여 행하였다.
<광경화성 수지 조성물의 경화율>
본 발명에서의 경화율(겔분율)이란, 자외선 조사 전의 광경화성 수지 조성물층 중의 (메타)아크릴로일기의 존재량에 대한, 자외선 조사 후의 (메타)아크릴로일기의 존재량으로부터 산출되는 (메타)아크릴로일기의 소비량의 비율로 정의되는 수치이며, 이 수치가 클수록, 경화가 진행되고 있는 것을 나타낸다.
후술하는 광학적 특성 평가용 샘플, 및 접착력 평가용의 유리 접합체 내의 광경화성 수지 조성물층의 경화율(겔분율)은, 푸리에 변환 적외 분광(FT-IR) 분석 장치(Perkin Elmer사 제조, 상품명: Spectrum One)를 사용하여, 전반사 측정법(ATR: Attenuated Total Reflection)에 의해, 경화 전후의 광경화성 수지 조성물층의 분석을 행함으로써 측정하였다.
구체적으로는, 자외선 조사 전의 광경화성 수지 조성물층의 FT-IR 측정 차트에서의 베이스 라인으로부터의 800 cm-1∼820 cm-1의 흡수 피크 높이(X)와, 후술하는 조사량으로 자외선 조사 후의 수지 조성물층의 FT-IR 측정 차트에서의 베이스 라인으로부터의 800 cm-1∼820 cm-1의 흡수 피크 높이(Y)와 2.0×104 mJ/cm2 자외선 조사 후의 수지 조성물층의 FT-IR 측정 차트에서의 베이스 라인으로부터의 800 cm-1∼820 cm-1의 흡수 피크 높이(Z)를, 하기의 수식(1)에 대입함으로써 산출하였다.
경화율(%)={(X-Y)/(X-Z)}×100 (1)
<광학적 특성 평가>
막 두께 700㎛의 표면 연마 유리(아사히 유리(주) 제조, 상품명: AN100)(이하, 「AN100」이라고도 함) 상에 막 두께가 200㎛로 되도록, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광경화성 수지 조성물을 도포했다. 이어서, 광원으로서 메탈 할라이드 램프(아이그래픽스(주) 제조, 상품명: M04-L41)를 구비한 자외선 조사 장치(아이그래픽스(주) 제조, 상품명: US5-X0401)를 사용하여 자외선을 1.0×104 mJ/cm2 조사하여 광경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써, 표면 연마 유리 상에 광투과성 경화 수지층이 형성된 광학적 특성 평가용 샘플을 제작하였다. 그리고, 형성된 광투과성 경화 수지층의 경화율은 100%였다.
상기 샘플의 파장 400 ㎚에서의 투과율, 및 b*를, 색상계(일본전색공업(주)사 제조, 상품명: Σ90)를 사용하여, AN100을 레퍼런스로서 측정하고, 하기의 기준으로 평가했다.
A: 400 ㎚의 투과율이 98% 이상, 또한 b*의 값이 1.0 이하
F: 400 ㎚의 투과율이 98% 미만, 또는 b*의 값이 1.0 초과
<접착력 평가(유리 도포)>
먼저, 도 8의 (a)에 나타낸 바와 같이, 26 ㎜(폭)×76 ㎜(길이)×0.2 ㎜(두께)의 사이즈의 유리 베이스(7) 상에 편광판(8)을 라미네이팅한 유리/편광판 적층체(9)를 준비하였다.
다음으로, 26 ㎜(폭)×76 ㎜(길이)×0.2 ㎜(두께)의 유리 베이스(10) 상에, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광경화성 수지 조성물을 도포하고, 상기한 자외선 조사 장치를 사용하여 자외선을 1.0×104 mJ/cm2 조사하여 광경화성 수지 조성물층을 경화시킴으로써, 한쪽 면에 광투과성 경화 수지층(5)이 형성된 유리 베이스(10)를 준비하였다.
이어서, 도 8의 (b)에 나타낸 바와 같이, 광투과성 경화 수지층(5)이 형성된 유리 베이스(10)를, 유리 베이스(7)와 유리 베이스(10)의 단변(短邊)끼리가 평행하게 되도록, 광투과성 경화 수지층(5) 측으로부터, 유리/편광판 적층체(9)의 편광판(8) 측에 접합시킴으로써 유리 접합체를 얻었다.
유리 접합체의 접착 부분의 면적은, 26 ㎜×20 ㎜(520 ㎜2), 광투과성 경화 수지층(5)의 두께는 0.2 ㎜로 하였다. 접합하기 전에 광조사를 행했을 때의 광투과성 경화 수지층(5)의 경화율은 100%였다.
얻어진 유리 접합체의 유리 베이스(7)을, 그 장변(長邊)이 지면에 대하여 수직으로 되고, 또한 유리 베이스(10)와 접합시킨 개소(箇所)가 연직 방향으로 아래 방향으로 되도록 고정하고, 이어서, 유리 베이스(10)에 500 g의 중량을 연직 방향으로 아래 방향으로 가하여 24시간 후의 형상 변화를 관찰하고, 하기의 기준으로 평가했다.
A: 형상 변화는 확인되지 않았다.
F: 유리/편광판 적층체(9)과 유리 베이스(10)와의 위치 어긋남이 확인되었다.
<접착력 평가(편광판 도포)>
26 ㎜(폭)×76 ㎜(길이)×0.2 ㎜(두께)의 유리 베이스(7)에 편광판(8)을 라미네이팅한 유리/편광판 적층체(9) 상의 편광판(8) 측에, 실시예 및 비교예에서 얻은 광경화성 수지 조성물을 도포하고, 상기한 자외선 조사 장치를 사용하여 자외선을 1.0×104 mJ/cm2 조사하여 광경화성 수지 조성물층을 경화시킴으로써, 광투과성 경화 수지층(5)이 형성된 유리/편광판 적층체(9)를 준비하였다.
이어서, 도 8의 (b)에 나타낸 바와 같이, 상기 유리/편광판 적층체(9)를, 26 ㎜(폭)×76 ㎜(길이)×0.2 ㎜(두께)의 사이즈의 유리 베이스(10)에, 유리 베이스(7)와 유리 베이스(10)의 단변끼리가 평행하게 되도록, 광투과성 경화 수지층(5) 측으로부터 접합시킴으로써 유리 접합체를 얻었다.
접착 부분의 면적은, 26 ㎜×20 ㎜(520 ㎜2), 광투과성 경화 수지층(5)의 두께는 0.2 ㎜로 하였다. 접합하기 전에 광조사를 행했을 때의 광투과성 경화 수지층(5)의 경화율은 100%였다.
얻어진 유리 접합체의 유리 베이스(7)를, 그 장변이 지면에 대하여 수직으로 되고, 또한 유리 베이스(10)와 접합시킨 개소가 연직 방향으로 아래 방향으로 되도록 고정하고, 이어서, 유리 베이스(10)에 500 g의 중량을 연직 방향으로 아래 방향으로 가하여 24시간 후의 형상 변화를 관찰하고, 하기의 기준으로 평가했다.
A: 형상 변화는 확인되지 않았다.
F: 유리/편광판 적층체(9)와 유리 베이스(10)와의 위치 어긋남이 확인되었다.
<액의 부유에 대한 평가>
상기 광학적 특성 평가용 샘플을 30 ㎜×30 ㎜로 잘라낸 샘플의 광투과성 경화 수지층(5)을 도 9에 나타낸 바와 같이 손가락으로 접촉하고, 하기의 기준으로 평가했다. 평가를 행할 때의 온도는 25±5℃로 하였다.
A: 액의 부유가 인정되지 않으며, 점착질이며, 손가락에 샘플이 부착되었다.
F: 샘플이 손가락에 부착되지 않고, 샘플 표면에 배어나온 액만이 손가락에 부착되었다.
[원료]
<(A) 성분: (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물>
「UC-102」: (주)크라레 제조, 상기 일반식(1)으로 표시되는 구조를 가지고, R1은 메틸기, n=2(메타크릴로일기 수=2), Mn=17000
「UC-203」: (주)크라레 제조, 상기 일반식(1)으로 표시되는 구조를 가지고, R1은 메틸기, n=3(메타크릴로일기 수=3), Mn=35000
「FA-513AS」: 히타치 화성(주) 제조, 디시클로펜타닐아크릴레이트
「FA-512M」: 히타치 화성(주) 제조, 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트
「라이트 아크릴레이트 IB-XA」: 쿄에이샤 화학(주) 제조, 이소보르닐아크릴레이트
「라이트 에스테르 IB-XM」: 쿄에이샤 화학(주) 제조, 이소보르닐메타크릴레이트
<(B) 성분: 광중합 개시제>
「LUCIRIN TPO」: BASF 재팬(주) 제조, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드
「IRGACURE 184」: BASF 재팬(주) 제조, 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤
「DAROCUR 1173」: BASF 재팬(주) 제조, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
「DAROCUR MBF」: BASF 재팬(주) 제조, 페닐글리옥실릭 애시드 메틸에스테르
<(C) 성분: 가소제>
「G-1000」: 일본소다(주) 제조, 말단 수산기 함유 폴리부타디엔
「B-2000」: 일본소다(주) 제조, 폴리부타디엔
「G-3000」: 일본소다(주) 제조, 말단 수산기 함유 폴리부타디엔
<(D) 성분: 산화 방지제>
「IRGANOX 1135」: BASF 재팬(주) 제조, 벤젠프로판산, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시, C7-C9 측쇄 알킬에스테르
「AO-503」: (주)ADEKA 제조, 디(트리데실) 3,3'-티오디프로피오네이트
[실시예 1∼13 및 비교예 1∼4]
표 1에 나타낸 배합 조성(질량%)으로, 전술한 원료 (A)∼(D) 성분을 배합하고, 90℃에서 30분간, 가열 및 교반 혼합하여, 실시예 1∼13 및 비교예 1∼4의 광경화성 수지 조성물을 조제하였다. 그리고, 표 1 중의, (A)∼(D) 성분에 대한 수치는, 광경화성 수지 조성물 총량에 대한 질량%를 의미한다.
[표 1]
Figure pct00006
표 1로부터, 실시예 1∼13의 광경화성 수지 조성물은, 특히 광중합 개시제의 함유량을 본 발명의 범위 내로 조정함으로써, 후속 공정을 필요로 하지 않고, 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재를 접합시키기 전의 광투과성 경화 수지층의 액의 부유가 없고, 광투과성 경화 수지층을 통하여 상기 부재끼리를 접합시킨 후의 접착력도 양호한 것을 알 수 있다.
[산업상 이용가능성]
본 발명의 광경화성 수지 조성물, 이것을 사용한 화상 표시용 장치, 및 화상 표시용 장치의 제조 방법은, 터치 패널, 나안 3D용 시차 배리어 등을 구비한 스마트 폰, 터치 패드, 퍼스널 컴퓨터, 텔레비전 등의 정보 단말기의 공업적 제조에 유용하다.
1: 차광층
2: 광투과성 커버 부재
2a: 광투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면
3: 광경화성 수지 조성물층
4: 단차
5: 광투과성 경화 수지층
6: 화상 표시 부재
7: 유리 베이스
8: 편광판
9: 유리/편광판 적층체
10: 유리 베이스
11: 표면 연마 유리
12: 배어 나온 액
13: 손가락

Claims (15)

  1. (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물;
    (B) 광중합 개시제; 및
    (C) 가소제
    를 포함하는 광경화성 수지 조성물로서,
    (B) 광중합 개시제의 함유량이, 4.0∼10 질량%인, 광경화성 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물로서, (메타)아크릴로일기를 가지는 이소프렌 중합체를 포함하는 광경화성 수지 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물의 함유량이, 상기 광경화성 수지 조성물 총량에 대하여, 10∼90 질량%인, 광경화성 수지 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    (A) (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물로서, (A1) 분자 내에 (메타)아크릴로일기를 가지는 중합체, 및 (A2) 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체를 포함하는 광경화성 수지 조성물.
  5. 제4항에 있어서,
    (A2) 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체가, 디시클로펜타닐기, 디시클로펜테닐기, 또는 이소보르닐기를 가지는 (메타)아크릴레이트 중 적어도 1종을 포함하고, 상기 광경화성 수지 조성물 총량 중의 (A2) 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기를 가지는 단량체의 함유량이 10∼40 질량%인, 광경화성 수지 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    (D) 산화 방지제를 포함하는 광경화성 수지 조성물.
  7. 제6항에 있어서,
    (D) 산화 방지제가 (D1) 힌더드 페놀 구조를 가지는 화합물, 및 (D2) 티오에테르 구조를 가지는 화합물을 포함하는, 광경화성 수지 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    25℃에서의 점도가 5.0×102 mPa·s∼5.0×104 mPa·s인, 광경화성 수지 조성물.
  9. 화상 표시 부재와, 주연부(周緣部)에 차광층이 형성된 광투과성 커버 부재가, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물로 형성된 광투과성 경화 수지층을 통하여, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성면이 화상 표시 부재 측에 배치되도록 적층된 화상 표시용 장치의 제조 방법으로서, 이하의 공정(I)∼공정(III)을 가지는 제조 방법이며, 공정(II)에 있어서, 광투과성 경화 수지층의 경화율이 80% 이상이 되도록, 광경화성 수지 조성물에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는, 화상 표시용 장치의 제조 방법:
    공정(I): 광경화성 수지 조성물을, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면, 또는 화상 표시 부재의 차광층측 표면에 층 형성하여, 광경화성 수지 조성물층을 형성하는 공정,
    공정(II): 형성된 광경화성 수지 조성물층에 대하여, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 광투과성 경화 수지층을 형성하는 공정,
    공정(III): 차광층과 광투과성 경화 수지층이 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재의 사이에 개재되도록, 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재를 접합시키는 공정.
  10. 제9항에 있어서,
    공정(I)에 있어서, 광경화성 수지 조성물층을, 광투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면에 형성하는, 화상 표시용 장치의 제조 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    공정(I)에 있어서, 광경화성 수지 조성물층을, 화상 표시 부재의 표면에 형성하는, 화상 표시용 장치의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    공정(III)에 있어서, 광투과성 경화 수지층이 형성된 화상 표시 부재와, 차광층이 형성된 광투과성 커버 부재를, 광투과성 경화 수지층이, 화상 표시 부재와 차광층, 및 화상 표시 부재와 광투과성 커버 부재로 형성되는 간극(間隙)에 매립되도록, 접합하는, 화상 표시용 장치의 제조 방법.
  13. 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    공정(I)에 있어서, 광경화성 수지 조성물층을, 화상 표시용 부재 또는 광투과성 커버 부재의 표면에, 6㎛∼1.5×103㎛의 두께로 형성하는, 화상 표시용 장치의 제조 방법.
  14. 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    화상 표시 부재가, 액정 표시 패널, 유기 EL 표시 패널, 플라즈마 표시 패널, 터치 패널, 또는 시차(視差) 배리어(barrier) 패널인, 화상 표시용 장치의 제조 방법.
  15. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물의 경화물을 가지는 화상 표시용 장치.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180005606A (ko) * 2016-07-06 2018-01-16 주식회사 엘지화학 가소제 조성물, 수지 조성물 및 이들의 제조 방법
KR20180071979A (ko) * 2016-12-20 2018-06-28 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 자외선 경화형 점착제, 경화물 및 점착시트
US11508789B2 (en) 2020-05-20 2022-11-22 Samsung Display Co., Ltd. Display device and method of manufacturing the same

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6188562B2 (ja) * 2013-04-26 2017-08-30 株式会社日本触媒 樹脂硬化物および表示装置
CN107849417B (zh) 2015-07-29 2021-06-29 昭和电工材料株式会社 粘接剂组合物、固化物、半导体装置及其制造方法
JP6370967B1 (ja) * 2017-06-28 2018-08-08 デクセリアルズ株式会社 画像表示装置の製造方法、光硬化性樹脂組成物及び光透過性硬化樹脂層
WO2020137401A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 デクセリアルズ株式会社 光硬化性樹脂組成物及び画像表示装置の製造方法
KR102586595B1 (ko) * 2018-12-26 2023-10-10 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 광경화성 수지 조성물 및 화상 표시 장치의 제조 방법
JP7244278B2 (ja) * 2019-01-02 2023-03-22 デクセリアルズ株式会社 光硬化性樹脂組成物、及び画像表示装置の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05138820A (ja) 1991-11-22 1993-06-08 Denki Kagaku Kogyo Kk 積層体およびその成型体
WO2008126860A1 (ja) 2007-04-09 2008-10-23 Sony Chemical & Information Device Corporation 画像表示装置、樹脂組成物、樹脂硬化物層、および画像表示装置の製造方法
WO2010027041A1 (ja) 2008-09-05 2010-03-11 協立化学産業株式会社 光学機能材料を貼り合わせるための光硬化型樹脂組成物

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4459859B2 (ja) * 2005-05-23 2010-04-28 電気化学工業株式会社 組成物及びそれを用いる部材の仮固定方法
JP2008200857A (ja) * 2007-02-16 2008-09-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物、及び電極形成用印刷原版
JP2012144634A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Jsr Corp 光学樹脂および光学樹脂層の製造方法、光学樹脂用組成物、ならびに画像表示装置
JP5647091B2 (ja) * 2011-10-27 2014-12-24 電気化学工業株式会社 表面保護用硬化性組成物
JP6014999B2 (ja) * 2011-12-16 2016-10-26 日立化成株式会社 液状硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置の製造方法、及び画像表示用装置
JP6031049B2 (ja) * 2012-02-03 2016-11-24 昭和電工株式会社 光硬化性透明粘着シート用組成物、光学用粘着シート

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05138820A (ja) 1991-11-22 1993-06-08 Denki Kagaku Kogyo Kk 積層体およびその成型体
WO2008126860A1 (ja) 2007-04-09 2008-10-23 Sony Chemical & Information Device Corporation 画像表示装置、樹脂組成物、樹脂硬化物層、および画像表示装置の製造方法
WO2010027041A1 (ja) 2008-09-05 2010-03-11 協立化学産業株式会社 光学機能材料を貼り合わせるための光硬化型樹脂組成物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180005606A (ko) * 2016-07-06 2018-01-16 주식회사 엘지화학 가소제 조성물, 수지 조성물 및 이들의 제조 방법
KR20180071979A (ko) * 2016-12-20 2018-06-28 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 자외선 경화형 점착제, 경화물 및 점착시트
US11508789B2 (en) 2020-05-20 2022-11-22 Samsung Display Co., Ltd. Display device and method of manufacturing the same

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