KR20150135317A

KR20150135317A - 도포 장치

Info

Publication number: KR20150135317A
Application number: KR1020157026624A
Authority: KR
Inventors: 다이스케 츠카하라; 신스케 스기우라; 다카시 우가이; 고지 마에다
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2013-03-27
Filing date: 2014-02-21
Publication date: 2015-12-02
Also published as: WO2014156403A1; TW201438294A; CN204234272U; JP2014188436A; CN104069982A; JP5791649B2; CN203853230U; CN204234279U

Abstract

도포 장치(1)는 입자 및 수지를 포함하는 바니시를 도포하기 위한 도포 장치(1)이다. 도포 장치(1)는, 바니시를 교반하기 위한 스태틱 믹서(4)와, 스태틱 믹서(4)의 토출 방향 하류측에 마련되는 노즐(5)을 구비한다. 노즐(5)은, 스태틱 믹서(4)에 의해 교반되면서 토출되는 바니시를, 토출 방향에 직교하는 제 1 방향으로 넓히기 위한 매니폴드(21)를 구비한다. 매니폴드(21)에는, 제 1 방향 길이가 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 점차 길어지는 확대부(33)가 마련되어 있다.

Description

도포 장치{COATING DEVICE}

본 발명은 도포 장치, 상세하게는, 입자 및 수지를 포함하는 바니시(varnish)를 도포하기 위한 도포 장치에 관한 것이다.

종래, 입자 및 수지를 포함하는 바니시를 도포하기 위한 도포 장치가 알려져 있다.

예를 들면, 슬러리 탱크와, 그 토출 방향 하류측에 배치되는 다이 코터(die coater)와, 그들을 접속하는 배관에 개재되는 스태틱 믹서(static mixer)를 구비하는 슬러리 도포 장치가 제안되어 있다(예를 들면, 하기 특허문헌 1 참조).

특허문헌 1의 슬러리 도포 장치에서는, 슬러리 탱크로부터 공급되는 슬러리가 스태틱 믹서를 통과하고, 그 후, 다이 코터로부터 토출되는 것에 의해, 다이 코터로부터 토출될 때의 불균일성을 해소하며, 이것에 의해서, 형성되는 도막의 평탄성을 확보하고 있다.

일본 특허 공개 제 2008-117541 호 공보

그런데, 다이 코터에 형성되는 매니폴드는, 통상, 폭 방향(토출 방향에 대하여 직교하는 방향)으로 넓어지는 정면에서 보아 대략 직사각형상을 이루고 있으며, 매니폴드의 토출 방향 상류 부분의 폭 방향 양단부에서는, 바니시의 흐름이 완만하게 되고, 그 때문에, 바니시가 체류되기 쉽다. 그리고, 바니시의 체류 부분에서는, 입자의 비중이 상대적으로 크면 입자가 침강한다. 그 때문에, 체류 부분에 있어서의 입자의 분포가 불균일하게 되고, 또한 매니폴드에 있어서의 입자의 분포가 불균일하게 되기 쉽다고 하는 결점이 있다. 그 결과, 도막에 있어서의 입자의 분포가 불균일하게 된다고 하는 결점이 있다.

본 발명의 목적은 도막에 있어서의 입자의 균일성을 확보할 수 있는 도포 장치를 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 도포 장치는, 입자 및 수지를 포함하는 바니시를 도포하기 위한 도포 장치이며, 상기 바니시를 교반하기 위한 스태틱 믹서와, 상기 스태틱 믹서의 토출 방향 하류측에 마련되는 노즐을 구비하며, 상기 노즐은, 상기 스태틱 믹서에 의해 교반되면서 토출되는 바니시를, 상기 토출 방향으로 직교하는 제 1 방향으로 넓히기 위한 매니폴드를 구비하고, 상기 매니폴드에는, 상기 제 1 방향 길이가 상기 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 점차 길어지는 확대부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하고 있다.

이러한 도포 장치에서는, 노즐에 공급하기 전의 바니시를 스태틱 믹서에 의해서 교반할 수 있다. 그 때문에, 바니시에 있어서의 입자 및 수지의 균일성을 확보할 수 있다.

또한, 이러한 도포 장치에서는, 매니폴드를 통과하는 바니시는, 확대부에 있어서, 토출 방향 하류측을 향함에 따라서, 제 1 방향 외측으로 점차 넓어진다. 그 때문에, 바니시의 토출 흐름이 완만하게 되는 것을 방지하여, 바니시의 체류가 생기는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 매니폴드에 대해 바니시에 있어서의 입자의 불균일성을 해소할 수 있다. 따라서, 얻어지는 도막에 있어서의 입자의 균일성을 충분히 확보할 수 있다.

또한, 본 발명의 도포 장치에서는, 상기 매니폴드는, 상기 스태틱 믹서에 의해 토출되는 바니시가 유입되고, 상기 토출 방향에 대한 직교 방향을 따르는 개구 단면적이 상기 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 확대되는 유입부와, 상기 유입부의 상기 토출 방향 하류측에 마련되며, 바니시가 상기 유입부로부터 유출되고, 상기 직교 방향을 따르는 개구 단면적이 상기 토출 방향을 향함에 따라서 축소되는 유출부를 구비하며, 상기 확대부는 상기 유입부에 마련되어 있는 것이 호적하다.

매니폴드에 있어서, 직교 방향을 따르는 개구 단면적이 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 확대되는 유입부에서는, 직교 방향을 따르는 개구 단면적이 토출 방향을 향함에 따라서 축소되는 유출부에 비해, 상기한 바니시의 토출 흐름이 완만하게 되기 쉬워서, 그것에 기인하는 바니시의 체류를 일으키기 쉽다.

그러나, 이러한 도포 장치에서는, 확대부가 유입부에 마련되어 있으므로, 상기한 바니시의 토출 흐름이 완만하게 되는 것을 방지하여, 바니시의 체류가 생기는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명의 도포 장치에서는, 상기 스태틱 믹서는, 상기 토출 방향을 향함에 따라서 비틀어진 비틀림 블레이드를 상기 토출 방향을 따라서 6개 이상 구비하는 것이 호적하다.

이러한 도포 장치에서는, 스태틱 믹서는, 비틀림 블레이드를 6개 이상 구비하므로, 바니시에 있어서의 입자 및 수지의 균일성을 보다 더욱 충분히 확보할 수 있다.

또한, 본 발명의 도포 장치에는, 상기 확대부를 구획하기 위한, 상기 매니폴드에 대하여 착탈 가능한 어태치먼트 부재(attachment member)가, 상기 매니폴드의 상기 토출 방향 상류측에 있어서의 상기 제 1 방향 단부에 마련되어 있는 것이 호적하다.

이러한 도포 장치에 의하면, 어태치먼트 부재가 매니폴드에 대하여 착탈 가능하므로, 바니시의 특성에 따라서 소망 형상의 어태치먼트 부재로 교환할 수 있다.

또한, 본 발명의 도포 장치에서는, 상기 노즐은 상기 확대부를 통과하는 바니시를 목시(目視)할 수 있는 투명 부재를 구비하고 있는 것이 호적하다.

이러한 도포 장치에 의하면, 투명 부재를 거쳐서, 확대부를 통과하는 바니시를 목시할 수 있으므로, 바니시에서의 입자 상태를 간단하게 검사할 수 있다.

본 발명의 도포 장치에 의하면, 얻어지는 도막에 있어서의 입자의 균일성을 충분히 확보할 수 있다.

도 1은 본 발명의 도포 장치의 일 실시형태의 사시도,
도 2는 도 1의 도포 장치의 스태틱 믹서의 일부 절결 정면도,
도 3은 도 1의 도포 장치의 노즐의 평면도,
도 4는 도 3의 노즐의 저면도,
도 5는 도 3의 노즐의 측면도,
도 6은 도 3의 노즐의 A-A선을 따르는 측단면도,
도 7은 도 3의 노즐의 B-B선을 따르는 측단면도,
도 8은 도 3의 노즐의 정단면도,
도 9는 도 3의 노즐의 분해 사시도,
도 10은 도 3의 노즐의 분해 측단면도,
도 11은 도 6에 도시하는 노즐에 의해서 바니시를 도포하는 상태를 도시하는 도면,
도 12는 실시예 1의 도포 장치의 노즐의 바니시 상태의 사진의 화상 처리도,
도 13은 비교예 1의 도포 장치의 노즐의 바니시 상태의 사진의 화상 처리도,
도 14는 비교예 2의 도포 장치의 노즐의 바니시 상태의 사진의 화상 처리도.

도 1 내지 도 11을 참조하여, 본 발명의 도포 장치의 일 실시형태에 대해 설명한다.

도 3에 있어서, 지면 좌우 방향을 좌우 방향(제 1 방향 혹은 폭 방향)으로 하고, 지면 상하 방향을 전후 방향(제 2 방향 혹은 두께 방향)으로 하고, 지면 두께 방향을 상하 방향(제 3 방향 혹은 토출 방향)으로 하며, 구체적으로는, 도 3에 기재된 방향 화살표에 준거한다. 도 3 이외의 도면에 있어서도, 도 3의 방향을 기준으로 한다.

또한, 도 8에 있어서, 매니폴드(21)(후술), 시임(13)(후술) 및 어태치먼트 부재(25)(후술)의 상대 배치를 명확하게 도시하기 위해서, 제 2 블록(12)(후술)을 생략하고 있다. 또한, 도 9에 있어서, 시임(13), 제 1 블록(11) 및 제 2 블록(12)의 상대 배치를 명확하게 도시하기 위해서, 어태치먼트 부재(25)를 생략하고 있다.

도 1에 있어서, 이 도포 장치(1)는 입자 및 수지를 포함하는 바니시(이후에 상술함)를 도포하기 위한 도포 장치이다. 도포 장치(1)는 탱크(2)와, 펌프(3)와, 스태틱 믹서(4)와, 노즐(5)을 구비한다. 탱크(2), 펌프(3), 스태틱 믹서(4) 및 노즐(5)은 바니시의 토출 방향 상류측으로부터 하류측을 향하여 순차 배치되어 있다.

탱크(2)는 바니시를 저장하는 저장소이며, 도포 장치(1)의 상측 부분에 마련되어 있다.

펌프(3)는 탱크(2)와 배관(61)을 거쳐서 접속되어 있으며, 구체적으로는, 탱크(2)의 후측에 배치되어 있다. 펌프(3)는, 탱크(2) 내에 저장되는 바니시를 스태틱 믹서(4)에 압력을 부하하여 토출할 수 있는 펌프이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 모노 펌프(구체적으로는, 헤이신모노 펌프(헤이신 소우비사제)로 시판되는 펌프 등) 등을 들 수 있다.

스태틱 믹서(4)는 상하 방향을 따라서 연장되도록 배치되어 있다. 스태틱 믹서(4)는 펌프(3)의 하측에 배치되어 있으며, 펌프(3)의 하단부에 접속되어 있다. 스태틱 믹서(4)로서는, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 개정 6판 화학 공학 편람의 제 453 쪽에 기재되는 바와 같은, Kenics mixer형, Sulzer SMV형, Sulzer SMX형, Tray Hi-mixer형, Komax mixer형, Lightnin mixer형, Ross ISG형, Bran＆Lube mixer형의 스태틱 믹서를 들 수 있다. 바람직하게는, 도 2에 도시하는 Kenics mixer형이 이용된다.

Kenics mixer형의 스태틱 믹서(4)는 상하 방향으로 연장되는 직관(直管)(6)과, 직관(6)에 비틀림 블레이드(7)를 구비한다.

비틀림 블레이드(7)는, 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 시계 방향(우회전)으로 180도 비틀린 우측 비틀림 블레이드(8)와, 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 반시계 방향(좌회전)으로 180도 비틀린 좌측 비틀림 블레이드(9)를 구비한다. 우측 비틀림 블레이드(8) 및 좌측 비틀림 블레이드(9)는 각각 복수(도 2에서는, 9개) 마련되어 있으며, 토출 방향을 따라서 교대로 배치되어 있다. 또한, 우측 비틀림 블레이드(8)의 토출 방향 하류측 단부 가장자리와, 좌측 비틀림 블레이드(9)의 토출 방향 상류측 단부 가장자리는 토출 방향으로 투영했을 때에, 직교하도록 접합되어 있다. 또한, 우측 비틀림 블레이드(8)의 토출 방향 상류측 단부 가장자리와, 좌측 비틀림 블레이드(9)의 토출 방향 하류측 단부 가장자리는 토출 방향(상하 방향)으로 투영했을 때에, 직교하도록 접합되어 있다.

스태틱 믹서(4)의 치수는, 적절히 설정되어 있으며, 예를 들면, 관 길이가, 예를 들어 10㎜ 이상, 바람직하게는, 30㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 400㎜ 이하, 바람직하게는, 350㎜ 이하이다. 또한, 내경은, 예를 들어 3㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어, 30㎜ 이하, 바람직하게는, 15㎜ 이하이다. 또한, 관 길이/내경비는, 예를 들어 3 이상, 바람직하게는, 5 이상이며, 또한 예를 들어 30 이하, 바람직하게는, 25 이하이다. 또한, 스태틱 믹서(4)가 Kenics mixer형인 경우에는, 각 우측 비틀림 블레이드(8) 및 각 좌측 비틀림 날개(9)의 토출 방향 길이는, 예를 들어 3㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 50㎜ 이하, 바람직하게는, 30㎜ 이하이다.

노즐(5)은, 예를 들어 슬롯 다이 코터이며, 구체적으로는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 스태틱 믹서(4)의 하측에 배치되어 있으며, 스태틱 믹서(4)의 하단부에 접속되어 있다. 노즐(5)은 상하 방향 및 좌우 방향으로 연장되는 두꺼운 평판 형상으로 형성되어 있다. 노즐(5)은, 제 1 블록(11)과, 제 1 블록(11)의 전측에 대향 배치되는 제 2 블록(12)과, 제 1 블록(11) 및 제 2 블록(12) 사이에 개재되는 시임(13)을 구비한다.

제 1 블록(11)은, 예를 들어 스테인리스 등의 금속, 혹은 아크릴 수지 등의 수지로 형성되어 있다. 제 1 블록(11)은, 바람직하게는 내구성의 관점에서, 금속으로 형성되어 있다.

도 3 및 도 9에 도시하는 바와 같이, 제 1 블록(11)은, 상하 방향 및 좌우 방향으로 연장되는 두꺼운 평판 형상을 이루며, 구체적으로는, 평면에서 및 정면에서 보아, 대략 직사각형상으로 형성되며, 측면에서 보아, 상측 부분이 대략 직사각형상으로 형성되며, 하측 부분이, 하측을 향함에 따라서 전후 방향 길이가 짧아지는 대략 삼각형상으로 형성되어 있다. 또한, 제 1 블록(11)은 전면의 중앙부가 후측으로 오목한 바닥을 갖는 프레임 형상으로 형성되어 있다. 제 1 블록(11)은 상벽(46a)과, 하벽(46b)과, 한쌍의 측벽(46c)을 일체적으로 구비한다.

상벽(46a)은, 좌우 방향으로 연장되는 평면에서 보아 대략 직사각형상, 또한 정면에서 보아 대략 직사각형상으로 형성되어 있다. 또한, 상벽(46a)은, 도 6 및 도 7에 도시하는 바와 같이 측면에서 보아, 상측 부분이 대략 직사각형상을 이루고, 하측 부분의 하면(47)이 만곡면이 되도록 형성되어 있다. 구체적으로는, 상벽(46a)의 하면(47)은 후방을 향함에 따라서 점차 하측으로 만곡되는 원호 형상으로 형성되어 있다.

하벽(46b)은 상벽(46a)의 하단부에 인접하여 마련되어 있다. 하벽(46b)은, 도 4 및 도 8에 도시하는 바와 같이, 좌우 방향으로 연장되는 저면에서 보아 대략 직사각형상, 또한 정면에서 보아 대략 직사각형상으로 형성되어 있다. 또한, 하벽(46b)은, 도 6 및 도 7에 도시하는 바와 같이 측면에서 보아, 그 하면이 전측을 향함에 따라서 하방으로 직선형상으로 경사지는 경사면으로 형성되는 동시에, 그 상면(48)이 전측을 향함에 따라서 하방으로 직선형상으로 경사지는 경사면으로 형성된다. 하벽(46b)의 상면(48)의 상단 가장자리는 상벽(46a)의 하면(47)의 하단 가장자리에 연속하도록 형성되어 있다.

한쌍의 측벽(46c)은, 도 8 및 도 9에 도시하는 바와 같이, 상벽(46a) 및 하벽(46b)의 좌우 방향 양단부에 연속하여 있으며, 상하 방향으로 연장되는 평면에서 보아 대략 직사각형상으로 형성되어 있다. 또한, 측벽(46c)은, 측면에서 보아, 상측 부분이 대략 직사각형상을 이루며, 하측 부분이, 하측을 향함에 따라서 전후 방향 길이가 짧아지는 대략 삼각형상으로 형성되어 있다.

그리고, 제 1 블록(11)에서는, 상벽(46a), 하벽(46b) 및 한쌍의 측벽(46c)의 전면이, 면일(面一)의 정면에서 보아 대략 직사각형 프레임 형상으로 형성되어 있다. 또한, 도 6 및 도 8에 도시하는 바와 같이, 제 1 블록(11)에서는, 상벽(46a)의 하면(47)과, 하벽(46b)의 상면(48)과, 한쌍의 측벽(46c)의 내면(내측면)으로부터, 매니폴드(21)가 형성된다. 매니폴드(21)는 후술하는 공급 구멍(20)으로부터 공급되는 바니시를 좌우 방향으로 넓히기 위해서 마련된다.

구체적으로는, 매니폴드(21)는 유입부(50) 및 유출부(51)를 구비한다.

유입부(50)는 상벽(46a)의 하면(47)과, 한쌍의 측벽(46c)의 내면(내측면)에 의해서 형성된다. 유입부(50)는, 좌우 방향 및 전후 방향(토출 방향에 대한 직교 방향)을 따르는 개구 단면적이 하방(토출 방향 하류측)을 향함에 따라서 확대되도록 형성되어 있다. 이러한 유입부(50)에 의해서, 유입 공간(52)이 구획된다.

유출부(51)는, 하벽(46b)의 상면(48)과, 한쌍의 측벽(46c)의 내면(내측면)에 의해서 형성된다. 유출부(51)는, 좌우 방향 및 전후 방향(토출 방향에 대한 직교 방향)을 따르는 개구 단면적이 토출 방향을 향함에 따라서 축소되도록 형성되어 있다. 이러한 유출부(51)에 의해서, 유출 공간(53)이 유입 공간(52)에 연통하도록 구획된다.

이러한 매니폴드(21)에 의해서, 매니폴드 공간이 구획된다.

매니폴드 공간은 유입 공간(52)과, 유출 공간(53)으로 형성된다.

또한, 상벽(46a)에는, 상벽(46a)을 상하 방향으로 관통하는 공급 구멍(20)이 형성되어 있다. 공급 구멍(20)은, 스태틱 믹서(4)(도 1 및 도 2 참조)로부터 공급되는 바니시를 캐비티(49)(후술함)로 안내하기 위해서 상벽(46a)에 형성되어 있으며, 대략 원주형상으로 되어 있다. 또한, 도 3에 도시하는 바와 같이, 공급 구멍(20)은, 평면에서 보아, 상벽(46a)의 좌우 방향 대략 중앙부에 마련되어 있다. 또한, 도 6에 도시하는 바와 같이, 공급 구멍(20)의 하단부는, 하측 경사 전방으로 굴곡되어, 상벽(46a)의 하면(47)으로 개구되어 있다.

또한, 도 8에 도시하는 바와 같이, 상벽(46a) 및 한쌍의 측벽(46c)에는, 그들 전면으로부터 후방을 향하여 천공되는 제 1 고정 구멍(28)이 형성된다. 제 1 고정 구멍(28)은 서로 간격을 두고 복수 마련되어 있다. 구체적으로는, 제 1 고정 구멍(28)은 상벽(46a)의 전면에 있어서, 좌우 방향으로 등간격을 두고 형성되어 있다. 또한, 제 1 고정 구멍(28)은 한쌍의 측벽(46c)의 전면에 있어서, 상하 방향으로 등간격을 두고 형성되어 있다.

또한, 도 5 및 도 8에 도시하는 바와 같이, 한쌍의 측벽(46c)에는, 좌우 방향을 관통하는 제 2 고정 구멍(29)이 형성되어 있다. 제 2 고정 구멍(29)은 측벽(46c)에 있어서, 유입 공간(52)(도 6 참조)에 연통하는 위치에 마련되어 있다.

그리고, 도 7 및 도 8에 도시하는 바와 같이, 매니폴드(21)에는, 어태치먼트 부재(25)가 장착되어 있다.

어태치먼트 부재(25)는, 매니폴드(21)의 상측(토출 방향 상류측) 부분에 있어서, 좌우 방향으로 서로 간격을 두고 2개 마련되어 있다.

각 어태치먼트 부재(25)는, 도 3의 파선 및 도 7에 도시하는 바와 같이, 좌우 방향으로 연장되는 평면에서 보아 대략 직사각형상을 이루며, 그 좌우 방향 외측면이 상하 방향으로 연장되는 평탄 형상으로 형성되어 있다. 또한, 어태치먼트 부재(25)는, 측면에서 보아 부채 형상을 이루며, 그 하면이 평탄면에 형성되어 있으며, 표면이 후방을 향함에 따라서 점차 하측으로 만곡되는 원호 형상으로 형성되어 있다. 도 8의 굵은선 및 가는선의 해칭으로 나타내는 바와 같이, 어태치먼트 부재(25)는, 정면에서 보아 대략 삼각형상(구체적으로는, 직각 삼각형상)으로 형성되어 있다. 또한, 2개의 어태치먼트 부재(25)의 하면은, 정면에서 보아, 좌우 방향 외측을 향함에 따라서 하측으로 경사지는 경사면으로 형성되어 있으며, 그들은 좌우 방향으로 서로 대향하도록 배치되어 있다.

또한, 도 7에 도시하는 바와 같이, 어태치먼트 부재(25)에는, 상하 방향 및 좌우 방향으로 투영했을 때에, 제 1 블록(11)으로부터 전측으로 약간 돌출되는 돌출 부분이 형성되어 있다.

도 7 및 도 8에 도시하는 바와 같이, 어태치먼트 부재(25)의 하면의 좌우 방향 양쪽 외측단 가장자리는, 전후 방향으로 투영했을 때에, 상벽(46a)의 하면(47)의 하단 가장자리와 중첩되도록 배치되어 있다. 또한, 어태치먼트 부재(25)의 하면의 좌우 방향 내측단 가장자리는, 공급 구멍(20)의 좌우 방향 양단부에 인접하여, 공급 구멍(20)을 노출하도록, 공급 구멍(20)의 하단부의 좌우 방향 양쪽 외측에 인접 배치되어 있다.

이러한 어태치먼트 부재(25)가 매니폴드(21)에 장착되는 것에 의해서, 캐비티(49)의 유입 공간(52)에, 좌우 방향 길이가 하측을 향함에 따라서 점차 길어지는 확대부(33)가 형성된다.

확대부(33)는, 공급 구멍(20)을 중심으로 하여, 그 좌우 방향 길이가 하방을 향함에 따라서 점차 길어지도록, 대략 역 V자 형상으로 형성되어 있다.

제 2 블록(12)은, 예를 들어 아크릴 수지(구체적으로는, 폴리메타크릴산 메틸), 실리콘 수지 등의 투명 수지 등의 투명 재료로 형성되는 투명 부재이다.

제 2 블록(12)은, 도 9에 도시하는 바와 같이, 좌우 방향으로 연장되는 평판 형상을 이루며, 하단부가 하측을 향함에 따라서 전후 방향 길이가 짧아지는 대략 삼각형상으로 형성되어 있다. 또한, 제 2 블록(12)은, 전후 방향으로 투영했을 때에, 제 1 블록(11)과 중복되도록 형성되어 있다. 제 2 블록(12)의 표면 및 양측면은, 제 1 블록(11)에 있어서의 상면 및 양측면과 면일하게 형성되며, 또한, 제 2 블록(12)의 하단부는, 제 1 블록(11)에 있어서의 하단부와 전후 방향으로 투영했을 때에, 동일 위치에 배치되어 있다.

또한, 도시하지 않지만, 제 2 블록(12)에는, 정면에서 보아, 제 1 블록(11)과 동일한 배치 및 크기의 복수의 제 1 고정 구멍(28)(도 8 참조)이 형성되어 있다.

시임(13)은, 예를 들면, 제 1 블록(11)과 동일한 재료로 형성되어 있다. 시임(13)은, 하측으로 개방되는 정면에서 보아 대략 역 U자 형상의 박판이다. 도 8의 가는선의 해칭이 참조되는 바와 같이, 시임(13)은, 전후 방향으로 투영했을 때에, 상벽(46a)의 전면, 및 한쌍의 측벽(46c)의 전면에 중복되도록, 제 1 블록(11) 및 제 2 블록(12) 사이에 개재되어 있다.

또한, 도시하지 않지만, 시임(13)에는, 정면에서 보아, 제 1 블록(11)과 동일한 배치 및 크기의 복수의 제 1 고정 구멍(28)이 형성되어 있다.

다음에, 노즐(5)의 조립에 대하여, 도 9 및 도 10을 참조하여 설명한다.

우선, 제 1 블록(11), 어태치먼트 부재(25), 시임(13) 및 제 2 블록(12)의 각각을 준비한다.

이어서, 제 1 블록(11)의 매니폴드(21)에, 어태치먼트 부재(25)를 장착하는 동시에, 상벽(46a)의 전면 및 한쌍의 측벽(46c)의 전면에 시임(13)을 배치한다.

구체적으로는, 어태치먼트 부재(25)를, 매니폴드(21)의 유입부(50)에 끼운 후, 도시하지 않은 고정 부재(도시하지 않음, 예를 들어 나사, 볼트 등)를 제 2 고정 구멍(29)(도 5 및 도 8 참조)에 관통 삽입하여, 어태치먼트 부재(25)에 도달시키고, 이것에 의해서 어태치먼트 부재(25)를 매니폴드(21)에 고정한다.

또한, 시임(13)을, 상벽(46a)의 전면 및 한쌍의 측벽(46c)의 전면에 접촉시킨다.

이어서, 제 2 블록(12)의 후면을, 시임(13)의 전면과 어태치먼트 부재(25)의 전면에 접촉시킨다. 이어서, 도시하지 않는 고정 부재를, 제 1 블록(11), 시임(13) 및 제 2 블록(12)의 제 1 고정 구멍(28)(도 8 참조)에 관통 삽입하고, 고정한다. 이것에 의해서, 제 1 블록(11) 및 제 2 블록(12)에 의해서, 시임(13)을 끼워넣어, 노즐(5)을 조립한다.

이것에 의해서, 도 6에 도시하는 바와 같이, 노즐(5)에는, 제 1 블록(11)의 매니폴드(21)와, 시임(13)의 내측면과, 제 2 블록(12)의 후면에 의해서 구획되는 캐비티(49)가 형성된다.

이와 동시에, 제 1 블록(11)의 하벽(46b)의 전면과, 시임(13)의 내측면과, 제 2 블록(12)의 후면에 의해서 구획되는 슬릿(56)이 형성된다. 슬릿(56)은, 도 8이 참조되는 바와 같이, 좌우 방향으로 연장되는 평면에서 보아 대략 직사각형상으로 개구되며, 또한 도 6에 도시하는 바와 같이, 상하 방향으로 연장되는 측면에서 보아 대략 직사각형상으로 개구되어 있다.

또한, 도 4 및 도 6에 도시하는 바와 같이, 슬릿(56)의 하단부(토출구)는 슬롯(57)이 개구된다. 슬롯(57)은, 저면에서 보아, 좌우 방향으로 가늘고 길게 연장되는 대략 직사각형상의 바니시의 토출구에 형성된다.

또한, 슬릿(56)을 구획하는 하벽(46b), 시임(13) 및 제 2 블록(12)은 토출부(23)가 된다.

또한, 제 1 블록(11)의 하벽(46b)의 하단부의 하면 및 제 2 블록(12)의 하단부의 하면은 모두 평탄면이어서, 닥터(doctor)(26)가 된다.

노즐(5)의 치수는, 바니시의 물성(점도를 포함함), 도막(60)(도 11 참조)의 형상 및/또는 두께에 의해서 적절히 설정되며, 특별히 한정되지 않는다. 노즐(5)의 폭(좌우 방향 길이)은, 예를 들어 30㎜ 이상, 바람직하게는, 50㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 500㎜ 이하, 바람직하게는, 200㎜ 이하이다. 또한, 공급 구멍(20)의 내경은, 예를 들어 2㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 30㎜ 이하, 바람직하게는, 15㎜ 이하이다. 또한, 캐비티(49), 슬릿(56) 및 슬롯(57)의 폭(좌우 방향 길이)은, 예를 들어 10㎜ 이상, 바람직하게는, 30㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 450㎜ 이하, 바람직하게는, 150㎜ 이하이다. 또한, 유입 공간(52)의 상하 방향 길이는, 예를 들어 3㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 80㎜ 이하, 바람직하게는, 50㎜ 이하이며, 전후 방향 길이는, 예를 들어 3㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 50㎜ 이하, 바람직하게는, 30㎜ 이하이다. 유출 공간(53)의 상하 방향 길이는, 예를 들어 3㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 80㎜ 이하, 바람직하게는, 50㎜ 이하이다.

또한, 어태치먼트 부재(25)의 폭(좌우 방향 길이)은, 예를 들어 5㎜ 이상, 바람직하게는, 15㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 200㎜ 이하, 바람직하게는, 70㎜ 이하이다. 또한, 어태치먼트 부재(25)의 상하 방향 길이는, 예를 들어 3㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 80㎜ 이하, 바람직하게는, 50㎜ 이하이다. 또한, 어태치먼트 부재(25)의 전후 방향 길이는, 예를 들어 3㎜ 이상, 바람직하게는, 5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 50㎜ 이하, 바람직하게는, 30㎜ 이하이다.

슬릿(56)의 전후 방향 길이 및 슬롯(57)(토출구)의 전후 방향 길이는, 시임(13)의 전후 방향의 길이와 실질적으로 동일하며, 예를 들어 0.1㎜ 이상, 바람직하게는, 0.5㎜ 이상이며, 또한 예를 들어 3㎜ 이하, 바람직하게는, 2㎜ 이하이다.

또한, 이러한 도포 장치(1)에는, 도 1에 도시하는, 노즐(5)을 전후 방향, 좌우 방향 및/또는 상하 방향으로 이동 가능한 이동 장치(55)가 펌프(3)의 상측에 인접하여 마련되어 있다.

이어서, 이러한 도포 장치(1)를 이용하여 바니시를 도포하는 방법에 대하여, 도 1 및 도 11을 참조하여 설명한다.

이러한 방법에서는, 우선 바니시를 조제한다.

바니시는 입자 및 수지를 필수 성분으로서 함유한다.

입자로서는, 도막의 용도 및 목적에 따라 적절하게 설정되며, 예를 들어 형광체, 충진제를 들 수 있다.

형광체는, 파장 변환 기능을 갖고 있으며, 예를 들어 청색광을 황색광으로 변환할 수 있는 황색 형광체, 청색광을 적색광으로 변환할 수 있는 적색 형광체 등을 들 수 있다.

황색 형광체로서는, 예를 들어 (Ba,Sr,Ca)₂SiO₄；Eu, (Sr,Ba)₂SiO₄:Eu(바륨 오르소실리케이트(BOS)) 등의 실리케이트 형광체, 예를 들어 Y₃Al₅O₁₂:Ce(YAG(이트륨 알루미늄 가닛):Ce), Tb₃Al₃O₁₂:Ce(TAG(테르븀 알루미늄 가닛):Ce) 등의 가닛형 결정 구조를 갖는 가닛형 형광체, 예를 들어 Ca-α-SiAlON 등의 산질화물 형광체 등을 들 수 있다.

적색 형광체로서는, 예를 들면, CaAlSiN₃:Eu, CaSiN₂:Eu 등의 질화물 형광체 등을 들 수 있다.

형광체의 형상으로서는, 예를 들어 구형상, 판형상, 바늘형상 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 유동성의 관점에서, 구형상을 들 수 있다.

형광체의 최대 길이의 평균값(구형상인 경우에는, 평균 입자 직경)은, 예를 들어 0.1㎛ 이상, 바람직하게는, 1㎛ 이상이며, 또한 예를 들어 200㎛ 이하, 바람직하게는, 100㎛ 이하이기도 하다.

형광체의 비중은, 예를 들어 2.0 이상이며, 또한 예를 들어 9.0 이하이다.

형광체는 단독 사용 또는 병용할 수 있다.

형광체의 배합 비율은, 수지 100 질량부에 대하여, 예를 들어 0.1 질량부 이상, 바람직하게는, 0.5 질량부 이상이며, 예를 들어 80 질량부 이하, 바람직하게는, 50 질량부 이하이기도 하다.

충진제는, 도막의 인성을 향상시키기 위해서 바니시에 배합되고, 예를 들어 실리콘 입자 등의 유기 미립자, 예를 들어 실리카, 탈크, 알루미나, 질화알루미늄, 질화규소 등의 무기 미립자를 들 수 있다.

충진제의 비중은, 예를 들어 0.5 이상이며, 또한 예를 들어 7.0 이하이다.

충진제의 최대 길이의 평균값(구형상인 경우에는, 평균 입자 직경)은, 예를 들어 0.1㎛ 이상, 바람직하게는, 0.5㎛ 이상이며, 또한 예를 들어 200㎛ 이하, 바람직하게는, 100㎛ 이하이기도 하다.

충진제는 단독 사용 또는 병용할 수 있다.

충진제의 배합 비율은, 수지 100 질량부에 대하여, 예를 들어 0.1 질량부 이상, 바람직하게는, 0.5 질량부 이상이며, 또한 예를 들어 70 질량부 이하, 바람직하게는, 50 질량부 이하이기도 하다.

형광체와 충진제를 병용하는 경우의 배합 비율은, 수지 100 질량부에 대하여, 형광체와 충진제의 합계량이 예를 들어 0.1 질량부 이상, 바람직하게는, 0.5 질량부 이상이며, 예를 들어 80 질량부 이하, 바람직하게는, 60 질량부 이하이기도 하다.

수지로서는, 예를 들어 실리콘 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 페놀 수지, 요소 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지 등의 경화성 수지를 들 수 있다.

또한, 수지로서, 예를 들어 폴리올레핀(예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌프로필렌 공중합체 등), 아크릴 수지(예를 들면, 폴리메타크릴산 메틸 등), 폴리초산비닐, 에틸렌-초산비닐 공중합체, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리페닐렌설파이드, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리에텔에텔케톤, 폴리아릴술폰, 열가소성 폴리이미드, 열가소성 우레탄 수지, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 비스말레이미드트리아진 수지, 폴리메틸펜텐, 플루오르화 수지, 액정 폴리머, 올레핀-비닐알코올 공중합체, 아이오노머, 폴리아릴레이트, 아크릴로니트릴-에틸렌-스티렌 공중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 열가소성 수지도 들 수 있다.

수지로서, 바람직하게는, 경화성 수지, 보다 바람직하게는, 경화성 실리콘 수지를 들 수 있다.

경화성 실리콘 수지로서는, 예를 들면, 2단계 경화형 실리콘 수지, 1단계 경화형 실리콘 수지 등을 들 수 있다.

2단계 경화형 실리콘 수지는, 2단계의 반응 기구를 갖고 있으며, 1단계째의 반응에서 B 스테이지화(반경화)되고, 2단계째의 반응에서 C 스테이지화(완전 경화)되는 경화성 실리콘 수지이다.

또한, B 스테이지는, 2단계 경화형 실리콘 수지가, 용제에 가용인 A 스테이지와, 완전 경화된 C 스테이지의 사이의 상태로서, 경화 및 겔화가 약간 진행되고, 용제에 팽윤되지만 완전히 용해되지 않으며, 가열에 의해서 연화되지만 용해되지 않은 상태이다.

1단계 경화형 실리콘 수지는 1단계의 반응 기구를 갖고 있으며, 1단계째의 반응으로 완전 경화되는 경화성 실리콘 수지이다.

또한, 경화성 실리콘 수지로서, 예를 들어 가열에 의해 경화되는 열강화성 실리콘 수지, 예를 들어 활성 에너지선(예를 들면, 자외선, 전자선 등)의 조사에 의해 경화되는 활성 에너지선 경화성 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 열강화성 실리콘 수지를 들 수 있다.

수지의 비중은, 예를 들어 형광체 및/또는 충진제의 비중보다 가볍고, 구체적으로는, 예를 들어 0.5 이상이며, 또한 예를 들어 2.0 이하이다.

수지의 배합 비율은, 바니시에 대하여, 예를 들어 0.1 질량% 이상, 바람직하게는, 0.5 질량% 이상이며, 또한 예를 들어 100 질량% 미만, 바람직하게는, 99.5 질량% 이하이다.

또한, 바니시에는, 필요에 따라, 용매나 첨가제 등의 임의 성분을 적절한 비율로 배합할 수 있다. 용매로서는, 예를 들어 헥산 등의 지방족 탄화수소, 예를 들면, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 예를 들면, 비닐메틸 환상 실록산, 양 말단 비닐폴리디메틸 실록산 등의 실록산 등을 들 수 있다.

첨가제로서는, 예를 들어 분산제, 실란 커플링제, 레벨링제의 표면 조정제 등을 들 수 있다.

상기한 각 성분을 배합하여, 교반 혼합하는 것에 의해서, 바니시를 조제한다.

바니시의 25℃, 1기압의 조건하에 있어서의 점도는, 예를 들어 1,000mPa·s 이상, 바람직하게는, 4,000mPa·s 이상이며, 또한 예를 들어 1,000,000mPa·s 이하, 바람직하게는, 100,000mPa·s 이하이다. 또한, 점도는 바니시를 25℃로 온도 조절하고, E형 콘을 이용하여, 회전수 99s^-1로 측정된다.

그 다음에, 조제한 바니시를 탱크(2)에 투입한다.

별도, 기재(54)를 준비한다.

기재(54)는 시트 형상으로 형성되어 있으며, 그 외형 형상은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 도 1에 도시하는 바와 같이, 평면에서 보아 대략 직사각형상(스트립 형상, 장척 형상을 포함함) 등으로 형성되어 있다. 또한, 기재(54)는 수평 방향을 따라서 배치된다.

기재(54)는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르 수지, 예를 들어 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 수지 등의 수지로 시트 형상으로 형성되어 있다. 또한, 기재(54)를, 예를 들어 금속으로 형성할 수도 있다. 기재(54)의 표면에는, 박리 처리 등을 실시할 수도 있다.

이어서, 도 11이 도시되는 바와 같이, 노즐(5)의 토출부(23)(슬롯(57))를, 기재(54)에 대향시켜서, 토출부(23)를 기재(54)에 근접시킨다.

이 때, 닥터(26)와 기재(54)의 상하 방향 길이를, 예를 들어 도막(60)(도 10 참조)의 소망의 두께 이상, 혹은 예를 들어 동일한 두께로 설정하며, 구체적으로는, 예를 들어 10㎛ 이상, 바람직하게는, 30㎛ 이상이며, 또한 예를 들어 3000㎛ 이하, 바람직하게는, 2800㎛ 이하로 설정한다.

이어서, 펌프(3)를 구동시키는 동시에, 이동 장치(55)에 의해서 노즐(5)을 전방으로 수평 이동시킨다.

그러면, 펌프(3)의 구동에 의해, 바니시는 탱크(2)로부터 펌프(3)를 거쳐서 스태틱 믹서(4)에 도달한다. 그러면, 바니시에 있어서의 입자와 수지가 균일하게 혼합되면서, 도 11에 도시하는 바와 같이, 공급 구멍(20)을 거쳐서 캐비티(49) 내로 안내된다.

그러면, 바니시는, 유입 공간(52)에 유입되고, 확대부(33)에 있어서, 도 8이 참조되는 바와 같이, 좌우 방향으로 점차 넓어지는 동시에, 펌프(3)의 구동 및/또는 중력에 의해서, 유출 공간(53)으로 유출된다. 이어서, 유출 공간(53)에 있어서, 도 6에 도시하는 바와 같이, 바니시는 전후 방향으로 좁아지면서, 하방으로 흐르고, 슬릿(56)에 도달한다. 그 후, 슬롯(57)으로부터 기재(54)를 향하여 토출된다.

기재(54)에 토출된 바니시는, 도 11에 도시되는 바와 같이, 전방으로 이동하는 노즐(5)의 제 1 블록(11)의 닥터(26)에 의해서 두께가 조절된다.

그 후, 필요에 따라서, 바니시를 건조시켜서, 도막(60)을 형성한다.

또한, 바니시를 기재(54)에 대하여 단속적으로 도포하는 것에 의해서, 도막(60)을 낱장식으로 형성할 수 있거나, 혹은 바니시를 기재(54)에 대하여 연속적으로 토출하는 것에 의해서, 도막(60)을 연속식으로 형성할 수도 있다. 또한, 그 후, 연속식의 도막(60)을 절단 등의 외형 가공에 의해서 낱장식으로 할 수도 있다.

그 후, 필요에 따라서, 수지가 경화성 수지를 포함하는 경우에는, 열이나 활성 에너지선 등에 의해서 경화 처리를 실시한다. 이것에 의해서, 경화 후(혹은 반경화 후)의 도막(60)을 형성한다.

또한, 수지가 열가소성 수지를 포함하는 경우에는, 도포 장치(1)에 히터를 마련하여, 상기한 처리를 가열하여, 수지를 용융 혹은 연화시키면서 실시한다.

그리고, 이러한 도포 장치(1)에서는, 노즐(5)에 공급하기 전의 바니시를 스태틱 믹서(4)에 의해서 교반할 수 있다. 그 때문에, 바니시에 있어서의 입자 및 수지의 균일성을 확보할 수 있다.

또한, 이러한 도포 장치(1)에서는, 매니폴드(21)를 통과하는 바니시는, 확대부(33)에 있어서, 하측(토출 방향 하류측)을 향함에 따라서, 좌우 방향(제 1 방향) 외측으로 점차 넓어진다. 그 때문에, 바니시의 토출 흐름이 완만하게 되고, 그것에 기인하는 바니시의 체류가 생기는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 매니폴드(21)에 대하여 바니시에 있어서의 입자의 불균일성을 해소할 수 있다. 따라서, 얻어지는 도막에 있어서의 입자의 균일성을 충분히 확보할 수 있다.

또한, 매니폴드(21)에 있어서, 유입부(50)에서는, 유출부(51)에 비해, 상기한 바니시의 토출 흐름이 완만하게 되기 쉬워서, 그것에 기인하는 바니시의 체류를 일으키기 쉽다.

그러나, 이러한 도포 장치(1)에서는, 확대부(33)가 유입부에 마련되어 있으므로, 상기한 바니시의 토출 흐름이 완만하게 되는 것을 방지하여, 바니시의 체류가 생기는 것을 방지할 수 있다.

또한, 스태틱 믹서(4)에 있어서의 비틀림 블레이드(7)의 수는, 복수이면 특별히 한정되지 않으며, 바람직하게는, 6 이상(구체적으로는, 좌측 비틀림 블레이드(9)의 수가 3 이상, 우측 비틀림 블레이드(8)의 수가 3 이상), 또한, 예를 들어 30 이하(구체적으로는, 좌측 비틀림 블레이드(9)의 수가 15 이하, 우측 비틀림 블레이드(8)의 수가 15 이하)이다. 이러한 도포 장치(1)에서는, 스태틱 믹서(4)는 비틀림 블레이드(7)를 6개 이상 구비하므로, 바니시에 있어서의 입자 및 수지의 균일성을 한층 더 충분히 확보할 수 있다.

도 8의 설명에서는, 어태치먼트 부재(25)를 매니폴드(21)에 대하여 착탈 가능하게 구성하고 있지만, 예를 들면, 도시하지 않지만, 어태치먼트 부재(25)를 매니폴드(21)와 일체적으로 구성할 수도 있다. 바람직하게는, 어태치먼트 부재(25)를 매니폴드(21)에 대하여 착탈 가능하게 구성한다. 이러한 도포 장치(1)에 의하면, 바니시의 특성에 따라서, 소망 형상의 어태치먼트 부재(25)로 교환할 수 있다. 구체적으로는, 바니시의 점도에 따라서, 어태치먼트 부재(25)의 하면(경사면)의 경사각을 변경한다. 상세하게는, 입자의 종류, 배합 비율, 형상, 평균 입자 직경이나, 수지의 종류, 배합 비율, 점도 등, 즉 바니시의 처방에 따라서, 상기한 어태치먼트 부재(25)의 (경사면의) 경사각을 변경하여, 상기한 바니시의 체류를 간단하게 방지할 수 있다.

또한, 제 2 블록(12)을, 투명 부재로 하고 있지만, 예를 들면, 금속으로 이루어지는 불투명 부재로 할 수도 있다. 바람직하게는, 제 2 블록(12)을 투명 부재로 한다. 이러한 도포 장치(1)에 의하면, 투명 부재인 제 2 블록(12)을 거쳐서, 확대부(33)를 포함하는 캐비티(49)를 통과하는 바니시를 목시할 수 있으므로, 바니시에서의 입자 상태를 간단하게 검사할 수 있다.

또한, 확대부(33)에 있어서 바니시의 체류를 확인하기 위해서, 상기한 투명 재료로 이루어지는 제 2 블록(12)에 한정되지 않으며, 예를 들면, 제 2 블록(12)에 있어서, 확대부(33)에 대향하는 부분(예를 들면, 창문부)을 투명 재료로 형성하고, 그 이외의 부분을 불투명 부재로 할 수도 있다.

또한, 도 1의 실시형태에서는, 기재(54)에 대하여, 노즐(5)을 이동시키고 있지만, 예를 들면, 기재(54)와 노즐(5)이 상대 이동하면 좋고, 도시하지 않지만, 노즐(5)에 대하여 기재(54)를 이동시킬 수도 있다.

상기한 설명에서는, 슬롯(57)을 하방을 향하도록 노즐(5)을 마련하고 있지만, 예를 들어 측방 또는 상방을 향할 수도 있다.

또한, 도 1의 실시형태에서는, 노즐(5)을 전방으로 이동시키고 있지만, 이동 방향은 이것에 한정되지 않으며, 예를 들어 노즐(5)을 후방으로 이동시킬 수도 있다. 이 경우에는, 도 11이 참조되는 바와 같이, 제 2 블록(12)의 닥터(26)에 의해서 도막(60)의 두께를 조정한다.

또한, 상기 각 실시형태에 있어서, 스태틱 믹서(4) 및/또는 노즐(5)에 있어서의 각 부품에 면취 가공 등의 가공 처리를 실시할 수도 있다.

(실시예)

이하에 나타내는 실시예 및 비교예에 있어서의 수치는, 상기의 실시형태에 대하여 기재되는 대응하는 수치(즉, 상한값 또는 하한값)로 대체할 수 있다.

(실시예 1)

＜바니시의 조제＞

액상 실리콘 수지(LR7665의 A액, 1단계 경화형 실리콘 수지, 비중 1.0, 신에츠가가쿠고교사제) 80 질량부에, 실리콘 입자(토스 펄 2000B, 비중 1.32, 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 재팬사제) 20 질량부를 첨가하고, 또한 YAG:Ce(Y-468, 비중 4.5, 황색 형광체, 네모트 루미머티리얼사제) 15 질량부를 첨가하고, 이것들을 교반 혼합하여, 바니시를 조제했다.

바니시의 25℃, 1 기압의 조건하에 있어서의 점도는, 40,000mPa·s이었다.

＜기재로의 도포＞

도 1 내지 도 11에 도시하는 바와 같이, 탱크, 펌프, 스태틱 믹서, 노즐(어태치먼트 부재 부착) 및 이동 장치를 구비하는 도포 장치를 준비했다. 스태틱 믹서 및 노즐의 형식 및 치수를 이하에 나타낸다.

[스태틱 믹서]

Kenics mixer형

관 길이 : 260㎜

내경 : 11㎜

관 길이/내경비 : 23.6

우측 비틀림 블레이드의 토출 방향 길이 : 10㎜

좌측 비틀림 블레이드의 토출 방향 길이 : 10㎜

우측 비틀림 블레이드의 수 : 7

좌측 비틀림 블레이드의 수 : 8

[노즐]

노즐의 폭(좌우 방향 길이) : 70㎜

공급 구멍의 내경 : 10.5㎜

캐비티의 폭(좌우 방향의 최대 길이) : 54㎜

유입 공간의 상하 방향 길이 : 10㎜

유입 공간의 전후 방향 길이 : 10㎜

유출 공간의 상하 방향 길이 : 10㎜

어태치먼트 부재의 폭 : 22㎜

어태치먼트 부재의 상하 방향 길이 : 10㎜

어태치먼트 부재의 전후 방향 길이 : 10㎜

슬롯의 폭(좌우 방향의 최대 길이) : 50㎜

슬릿의 전후 방향 길이 : 10㎜

슬롯의 전후 방향 길이 : 10㎜

이어서, 조제한 바니시를 탱크에 투입하고, 별도, PET로 이루어지는 기재를 준비했다.

이어서, 이동 장치에 의해서, 닥터와 기재의 상하 방향 길이가 400㎛가 되도록 노즐의 슬롯을 기재에 대향시켰다.

이어서, 펌프를 구동시키는 동시에, 이동 장치에 의해서 노즐을 전방으로 140㎜만큼 수평 이동시켰다.

이것에 의해서, 좌우 방향 길이 54㎜, 전후 방향 길이가 140㎜, 두께 0.4㎜의 도막을 제조했다.

(비교예 1)

노즐에 어태치먼트 부재를 장착하지 않은 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 처리하여, 도막을 제조했다.

(비교예 2)

도포 장치에 있어서, 스태틱 믹서를 대신하여, 직관을 마련한 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 처리하여, 도막을 제조했다.

＜평가＞

실시예 1 및 비교예 1, 2에 있어서의 도포시의 노즐에 있어서의 바니시를 제 2 블록측으로부터 목시로 관찰했다. 그 사진을 도 12 내지 도 14에 나타낸다.

노즐에 어태치먼트 부재를 장착하지 않은 비교예 1에서는, 상측 공간의 상단부 및 좌우 방향 양단부의 코너부에, YAG:Ce(황색 형광체)가 희박하게 되는 희박 부분을 확인할 수 있고, 코너부에 있어서서, 바니시의 체류를 확인할 수 있었다.

비교예 2에서는, 상측 공간에 있어서 어태치먼트 부재의 하단면과, 하측 공간에 있어서, 매니폴드의 내면을 따라서, YAG:Ce(황색 형광체)가 희박한 흐름을 확인할 수 있으며, 바니시에 대해 YAG:Ce(황색 형광체)의 농도가 불균일하게 되는 점을 확인할 수 있었다.

비교예 1 및 비교예 2에 대하여, 실시예 1에서는, 바니시에 대해 YAG:Ce(황색 형광체)의 희박 부분이 확인되지 않고, YAG:Ce(황색 형광체)가 균일한 것을 알 수 있었다.

또한, 상기 발명은 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공했지만, 이것은 단순한 예시에 지나지 않으며, 한정적으로 해석해서는 안된다. 해당 기술분야의 당업자에 의해서 분명한 본 발명의 변형예는, 후기 특허청구범위에 포함된다.

(산업상의 이용 가능성)

도포 장치는 각종 용도에 이용되는 도막의 제조 방법에 이용된다.

1 : 도포 장치 4 : 스태틱 믹서
5 : 노즐 7 : 비틀림 블레이드
12 : 제 2 블록(투명 부재) 21 : 매니폴드
33 : 확대부

Claims

입자 및 수지를 포함하는 바니시를 도포하기 위한 도포 장치에 있어서,
상기 바니시를 교반하기 위한 스태틱 믹서와,
상기 스태틱 믹서의 토출 방향 하류측에 마련되는 노즐을 구비하며,
상기 노즐은, 상기 스태틱 믹서에 의해 교반되면서 토출되는 바니시를, 상기 토출 방향으로 직교하는 제 1 방향으로 넓히기 위한 매니폴드를 구비하고,
상기 매니폴드에는, 상기 제 1 방향 길이가 상기 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 점차 길어지는 확대부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는
도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 매니폴드는,
상기 스태틱 믹서에 의해 토출되는 바니시가 유입되고, 상기 토출 방향에 대한 직교 방향을 따르는 개구 단면적이 상기 토출 방향 하류측을 향함에 따라서 확대되는 유입부와,
상기 유입부의 상기 토출 방향 하류측에 마련되고, 바니시가 상기 유입부로부터 유출되며, 상기 직교 방향을 따르는 개구 단면적이 상기 토출 방향을 향함에 따라서 축소되는 유출부를 구비하며,
상기 확대부는 상기 유입부에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는
도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 스태틱 믹서는 상기 토출 방향을 향함에 따라서 비틀어진 비틀림 블레이드를 상기 토출 방향을 따라서 6개 이상 구비하는 것을 특징으로 하는
도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 확대부를 구획하기 위한, 상기 매니폴드에 대하여 착탈 가능한 어태치먼트 부재가, 상기 매니폴드의 상기 토출 방향 상류측에 있어서의 상기 제 1 방향 단부에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는
도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 노즐은 상기 확대부를 통과하는 바니시를 목시할 수 있는 투명 부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는
도포 장치.