KR20150097648A - 얇은-규소 태양 전지의 금속-포일-보조식 제조 - Google Patents

얇은-규소 태양 전지의 금속-포일-보조식 제조 Download PDF

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Abstract

일 실시예는 태양 전지를 제조하는 방법에 관한 것이다. 규소 라미나가 규소 기판으로부터 클리빙된다(704). 규소 라미나의 배면은 P-형(104) 및 N-형(106) 도핑된 영역을 포함한다. 금속 포일이 규소 라미나의 배면에 부착된다(706). 금속 포일은 유리하게는 규소 라미나의 전면의 처리 동안 규소 라미나를 조작하기 위한 내장 캐리어로서 사용될 수 있다. 다른 실시예는 배면 상에 P-형(104) 및 N-형(106) 도핑된 영역을 갖는 규소 라미나(302)를 포함하는 태양 전지에 관한 것이다. 금속 포일(306)이 라미나의 배면에 접착되며, 금속 포일과 도핑된 영역 사이에 형성된 접점(604, 606)이 존재한다. 다른 실시예, 태양 및 특징이 또한 개시된다.

Description

얇은-규소 태양 전지의 금속-포일-보조식 제조{METAL-FOIL-ASSISTED FABRICATION OF THIN-SILICON SOLAR CELL}
본 명세서에 기술된 발명 요지의 실시예는 일반적으로 태양 전지(solar cell)에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 발명 요지의 실시예는 태양 전지 제조 공정 및 구조에 관한 것이다.
태양 전지는 태양 방사선을 전기 에너지로 변환시키기 위한 잘 알려진 장치이다. 태양 전지는 태양 방사선을 수집하기 위해 정상 작동 동안 태양을 향하는 전면(front side) 및 전면 반대편의 배면(backside)을 갖는다. 태양 전지에 충돌하는 태양 방사선은 부하(load)와 같은 외부 전기 회로에 전력을 공급하도록 이용될 수 있는 전하를 생성한다.
태양 전지 제조 공정은 전형적으로 마스킹(masking), 에칭(etching), 침착, 확산 및 다른 단계를 수반하는 다수의 단계를 포함한다. 본 발명의 실시예는 유리한 태양 전지 공정을 제공한다.
일 실시예는 태양 전지를 제조하는 방법에 관한 것이다. 규소 라미나(silicon lamina)가 규소 기판(silicon substrate)으로부터 클리빙된다(cleaved). 규소 라미나의 배면은 P-형 및 N-형 도핑된 영역을 포함한다. 금속 포일(metal foil)이 규소 라미나의 배면에 부착된다. 금속 포일은 유리하게는 규소 라미나의 전면의 처리 동안 규소 라미나를 조작하기 위한 내장 캐리어(built-in carrier)로서 사용될 수 있다.
다른 실시예는 배면 상에 P-형 및 N-형 도핑된 영역을 갖는 규소 라미나를 포함하는 태양 전지에 관한 것이다. 금속 포일이 라미나의 배면에 접착되며, 금속 포일과 도핑된 영역 사이에 형성된 접점이 존재한다.
다른 실시예는 금속 포일을 규소 기판의 배면에 접착하는 단계를 포함하는, 태양 전지를 제조하는 방법에 관한 것이다. 규소 라미나가 이어서 규소 기판의 배면으로부터 분리될 수 있다. 금속 포일은 규소 라미나의 전면의 처리 동안 규소 라미나를 조작하기 위한 내장 캐리어로서 사용된다.
본 발명의 이들 실시예 및 다른 실시예, 태양 및 특징이 첨부 도면 및 청구범위를 포함하는 본 개시 내용 전체를 읽을 때 당업자에게 용이하게 명백할 것이다.
유사한 도면 부호가 도면 전체에 걸쳐 유사한 요소를 지칭하는 하기 도면과 관련하여 고려될 때, 상세한 설명 및 청구범위를 참조함으로써 발명 요지의 더욱 완전한 이해가 얻어질 수 있다. 도면은 축척대로 그려진 것은 아니다.
도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지의 제조를 개략적으로 예시하는 단면도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지를 제조하는 방법의 흐름도.
도 8은 본 발명의 대안의 실시예에 따른 태양 전지를 제조하는 방법의 흐름도.
도 9는 도 8의 방법에 따라 제조되는 바와 같은, 제조된 태양 전지의 단면도.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 규소 라미나의 배면 위의 금속 포일의 평면도.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 얇은-규소 태양 전지를 제조하는 방법의 흐름도.
본 개시 내용에서, 본 발명의 실시예의 완전한 이해를 제공하기 위해 장치, 구조, 재료, 및 방법의 예들과 같은 다수의 구체적인 상세 사항이 제공된다. 그러나, 당업자는 본 발명이 구체적인 상세 사항들 중 하나 이상이 없이도 실시될 수 있다는 것을 인식할 것이다. 다른 경우에, 본 발명의 태양을 불명료하게 하는 것을 피하기 위해, 잘 알려진 상세 사항은 도시되거나 기술되지 않는다.
본 개시 내용은 금속 포일을 사용하여 얇은-규소 태양 전지를 형성하기 위한 기술을 제공한다. 유리하게는, 금속 포일은 라미나의 전면의 처리 동안 다른 방식으로 손상되기 쉬운 규소 라미나를 조작하기 위한 내장 캐리어로서 사용될 수 있다. 후속하여, 금속 포일은 라미나의 배면 상에 P-형 및 N-형 이미터(emitter)에 대한 금속 핑거(finger) 및 접점을 형성하도록 재사용될 수 있다.
도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 얇은-규소 태양 전지의 제조를 개략적으로 예시하는 단면도이다. 도 1에 규소 기판(102)이 도시되어 있고, 이 기판에는 기판(102)의 배면 상에 형성된 P-형 도핑된(P+) 영역(104) 및 N-형 도핑된(N+) 영역(106)이 그 상에 형성된다. P+ 및 N+ 도핑된 영역은 제조되는 태양 전지와 관련하여 P-형 및 N-형 이미터로서 지칭될 수 있다. 도 1에 도시된 배면 접점(backside contact) 태양 전지에서, 이미터 및 대응하는 접점은 태양 전지의 배면 상에 있다. 도핑된 영역은 예를 들어 도펀트 소스(dopant source)로부터 도펀트를 확산시킴으로써 형성될 수 있다.
얇은 유전체 층(108)이 전기 절연, 부동태화(passivation), 및/또는 다른 목적을 위해 배면 상의 P+ 및 N+ 영역 위에 형성될 수 있다. 유전체 층(108)은 예를 들어 산화규소 및/또는 질화규소를 포함할 수 있다. 대안적으로, 이미터 표면은 예를 들어 화학적 부동태화에 의한 것과 같이, 유전체 층(108)을 형성하는 것 이외의 수단에 의해 부동태화될 수 있다.
도 1의 태양 전지 구조물은 "이온 주입기(ion implanter)"로도 지칭되는 이온 주입 도구 내에 배치될 수 있다. 주입기는 도 2에 도시된 바와 같이, 사전결정된 주입 깊이(202)로 이온을 주입하도록 사용될 수 있다. 이온은 수소 이온(즉, 양성자)일 수 있다. 대안의 실시예에서, 다른 이온이 주입될 수 있거나 수소와 공동-주입될 수 있다. 예를 들어, 헬륨 이온이 수소 이온 대신에 주입될 수 있거나, 수소 이온과 공동-주입될 수 있다. 주입 투입량은 주입 깊이에서의 결함을 유도하여, 주입 깊이 위의 평탄한 규소 라미나가 주입 깊이 아래의 규소 기판의 나머지 부분으로부터 분리되거나 박리될 수 있다. 주입 에너지는 주입 깊이를 제어하고, 따라서 박리 이후의 얇은 규소 기판의 두께를 제어한다. 예를 들어, 주입 에너지는 10 마이크로미터 내지 100 마이크로미터 범위 내의 두께를 가진 얇은 라미나를 클리빙하기 위해 교정될 수 있다. 박리는 상승된 온도에서 기판을 가열함으로써 달성될 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 금속 포일(306)이 규소 라미나(302)의 배면 상의 유전체 층(108)에 접착될 수 있다. 금속 포일(306)은 알루미늄 포일일 수 있다. 포일이 라미나에 대한 캐리어로서 사용되는 것을 용이하게 하도록, 금속 포일(306)의 연장된 영역(조작 영역)이 규소 라미나(302)의 주연부를 넘어 연장될 수 있다. 예시적인 구현에서, 금속 포일(306)의 조성은 Al-1%Si (99% 알루미늄 및 1% 규소), 또는 더욱 일반적으로는 Al-x%Si일 수 있으며, 여기서 x%는 0% 내지 3%이다. 알루미늄 포일에 대한 다른 조성이 사용될 수 있다. 예를 들어, 은 포일과 같은, 알루미늄 이외의 금속 포일을 사용하는 것이 또한 가능하다.
일 실시예에서, 접착제 층(304)이 규소 라미나(302)의 배면에 금속 포일(306)을 접착시키도록 사용될 수 있다. 접착제 층(304)은 에폭시, 실리콘, 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA) 또는 기판의 배면에 적용되는 다른 봉지재 재료의 얇은 층일 수 있다. 일 구현에서, 접착제 층은 접착 전에 금속 포일에 사전-적용되는 코팅일 수 있다.
대안의 실시예에서, 금속 포일(306)은 금속 포일(306)과 기판의 배면 사이의 접점 스폿(contact spot)들의 어레이를 사용하여 기판의 배면에 접착될 수 있다. 접점 스폿은 예를 들어 펄스형 레이저를 사용하는 금속 포일의 스폿 용융(spot melting)에 의해 형성될 수 있다. 이러한 실시예에서, 접착제 층(304)은 필요하지 않다. 접점 스폿들 사이의 포일 아래의 공기 간극은 포일을 평탄화시킴으로써 제거될 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 라미나를 지지하기 위한 내장 또는 통합된(integrated) 캐리어로서 포일을 사용하여, 라미나(302)의 전면의 표면(402)이 이어서 텍스처화(textured) 및 부동태화될 수 있다. 표면 텍스처화는 광을 흡수하는 규소 표면의 용량을 증가시키는 역할을 하며, 표면 부동태화는 표면에서의 전하 재결합을 감소시키는 역할을 한다. 표면 텍스처화는 예를 들어 습식 표면 에칭 공정을 사용하여 달성될 수 있다. 표면 부동태화는 화학적 부동태화에 의해 또는 다른 수단에 의해 달성될 수 있다.
그 후에, 유리 봉지 공정이 규소 라미나(302)의 전면 상에서 수행될 수 있다. 도 5는 봉지재 재료(503)를 사용하여 전면에 부착된 생성된 유리 층(502)을 도시한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 추가의 단계들이 이어서 규소 라미나(302)의 배면 상에서 수행될 수 있다. 이러한 단계들은 각각 대응하는 P+ 영역(104) 및 N+ 영역(106)에 전기적으로 결합되도록 접점 구멍 내에 금속 접점(604, 606)을 형성하는 것을 포함한다. 금속 접점(604)들의 제1 세트가 금속 포일(304)로부터 P+ 영역(104)까지 형성될 수 있고, 금속 접점(606)들의 제2 세트가 금속 포일(304)로부터 N+ 영역(106)까지 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 금속 접점(604, 606)은 레이저-기반 접점 형성 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 그러한 공정에서, 레이저 스캐너가 제조 중인 태양 전지의 배면을 가로질러 펄스형 레이저 빔을 제어가능하게 스캔할 수 있다. 펄스형 레이저 빔은 접착제 층(304) 및 유전체 층(108)을 통과하는 접점 개구를 형성할 수 있으며, 접점 개구는 포일(306)로부터의 용융된 금속에 의해 충전될 수 있다.
또한, 금속 접점(604)들의 제1 세트를 금속 접점(606)들의 제2 세트로부터 전기적으로 분리시키기 위해 포일 영역 상에 핑거 분리(608) 패턴(finger separation pattern)이 형성될 수 있다. 핑거 분리부(608)는 접점으로 이어지는 포일의 핑거들이 상호맞물리도록(interdigitated) 구성될 수 있다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 얇은-규소 태양 전지를 제조하는 예시적인 방법(700)의 흐름도이다. 도 7의 예시적인 방법(700)에서, 블록(702)에 의해 이미터 영역이 규소 웨이퍼 상에 먼저 형성될 수 있다. 규소 웨이퍼는 수백 마이크로미터 이상의 두께를 가질 수 있으며, 두꺼운 조작 웨이퍼(handle wafer)로 지칭될 수 있다. 이미터 영역은 P-도핑된 영역 및 N-도핑된 영역 둘 모두를 포함하며, 도 1에 도시된 바와 같이 웨이퍼의 배면 상에 형성될 수 있다.
블록(704)에 의해, 얇은 규소 라미나가 규소 웨이퍼로부터 클리빙될 수 있다. 예를 들어, 규소 라미나는 10 마이크로미터 내지 100 마이크로미터의 두께를 가질 수 있다. 일 구현에서, 클리빙은 도 2와 관련하여 전술된 바와 같이 이온 주입 및 박리를 사용하여 수행될 수 있다. 대안적으로, 클리빙은 웨이퍼의 전면으로부터 희생 층을 스폴링(spalling) 또는 에칭함으로써 수행될 수 있다.
블록(706)에서, 금속 포일이 도 3과 관련하여 전술된 바와 같이 규소 라미나에 접착될 수 있다. 특히, 금속 포일은 규소 라미나의 배면 표면에 접착될 수 있다. 금속 포일은 얇은 규소 라미나에 대한 기계적 지지를 제공하기 위해 50 마이크로미터 내지 1 밀리미터의 두께를 가질 수 있다. 포일이 라미나에 대한 캐리어로서 사용되는 것을 용이하게 하도록, 금속 포일의 연장된 영역(조작 영역)이 규소 라미나의 주연부를 넘어 연장될 수 있다. 일 구현에서, 접착은 레이저를 사용하여 금속 포일과 규소 라미나 사이의 접점을 소성시켜(fire) 달성될 수 있다. 다른 구현에서, 접착은 금속 포일 상에 코팅된 얇은 접착제 층을 사용하여 달성될 수 있다.
블록(708)에 의해, 규소 라미나의 전면 표면이 처리될 수 있도록, 금속 포일이 규소 라미나를 조작하기 위한 통합된 캐리어로서 사용될 수 있다. 전면 표면 처리는 도 4와 관련하여 기술된 바와 같은, 텍스처화 및 부동태화를 포함할 수 있다. 표면 텍스처화 및 부동태화는 예를 들어 전면 표면을 에칭 및 부동태화하기 위해 라미나를 화학 용액에 침지시킴으로써 달성될 수 있다. 후속하여, 금속-포일-지지된 규소 라미나는 그의 전면이 도 5와 관련하여 전술된 바와 같은, 유리 라미네이션 절차에 의해 처리될 수 있다. 전면 처리에 후속하여, 금속 포일의 연장된 영역(조작 영역)이 트리밍될 수 있다.
블록(710)에 의해, 접점이 금속 포일로부터 이미터 영역까지 형성될 수 있다. 도 6과 관련하여 전술된 바와 같이, 형성된 접점은 P-도핑된 이미터 영역(104)으로의 접점(604)들의 제1 세트 및 N-도핑된 이미터 영역(106)으로의 접점(606)들의 제2 세트를 포함할 수 있다. 또한, 접점들의 제1 세트 및 제2 세트를 전기적으로 분리시키도록 포일 상에 핑거 분리(608) 패턴이 형성될 수 있다.
대안의 실시예에서, 연속적인 금속 포일 층을 배면에 접착하고 후속하여 포일이 배면에 부착되어 있는 동안 핑거 분리 패턴을 생성하는 대신에, 금속 포일이 규소 라미나의 배면에 적용되기 전에 금속 포일 내에 핑거 분리 패턴이 사전-형성될 수 있다. 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 그러한 사전-패턴화된 금속 포일을 사용하는, 얇은-규소 태양 전지를 제조하는 대안의 방법(800)의 흐름도이다.
도 8에 도시된 바와 같이, 블록(704)에 의해 얇은 규소 라미나가 웨이퍼로부터 클리빙된 후에, 사전-패턴화된 금속 포일이 규소 라미나의 배면과 부 기판(secondary substrate) 사이에 개재될 수 있다(806). 금속 포일의 패턴화는 P-형 접점과 N-형 접점 사이의 핑거 분리부를 달성한다. 부 기판은 레이저 광이 그를 통해 투과될 수 있도록 투과성일 수 있다. 부 기판은 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 층 또는 플루오로중합체 층과 같은 강성 중합체 층일 수 있다. 그 후에, 블록(807)에 의해, 접점이 금속 포일과 이미터 영역 사이에 형성될 수 있다. 접점의 형성은 예를 들어 접점 개구를 생성하고 용융된 금속을 포일로부터 이들 개구 내로 유동시키기 위해 부 기판을 통해 투과되는 펄스형 레이저를 사용하여 달성될 수 있다. 블록(708)에 의해, 도 7과 관련하여 전술된 바와 같이, 전면 표면이 이어서 처리될 수 있다. 전면 처리에 후속하여, 금속 포일의 연장된 영역(조작 영역)이 트리밍될 수 있다.
도 9는 도 8의 방법(800)에 따라 제조되는 바와 같은, 제조된 얇은-규소 태양 전지의 단면도이다. 도 9에 도시된 바와 같이, 사전-패턴화된 핑거 분리부(908)를 가진 금속 포일(306)이 부 기판(902)과 규소 라미나(302)의 배면 사이에 개재된다. 또한, P-형 접점(904) 및 N-형 접점(906)이 도시되어 있다. 전술된 바와 같이, 이들 접점은 투과성 부 기판(902)을 통한 펄스형 레이저의 투과에 의해 형성될 수 있다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 규소 라미나의 배면 위의 금속 포일의 평면도이다. 도 10의 도면은 라미나의 배면 위의 포일의 부분(1004) 및 라미나의 주연부(1002)를 넘어 연장되는 포일의 연장된 영역(1006)을 도시한다. 연장된 영역(1006)은 주연부의 하나 이상의 측면을 넘어 연장될 수 있으며, 반드시 주연부의 모든 측면을 넘어 연장될 필요는 없을 수 있다는 것에 유의하여야 한다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 얇은-규소 태양 전지를 제조하는 방법(1100)의 흐름도이다. 도 11의 예시적인 방법(1100)에서, 블록(1102)에 의해 희생 층이 규소 기판 상에 형성될 수 있다.
희생 층은 바이어스(bias)를 가진 HF 배스(bath) 내에서 형성된 것과 같은, 다공성 규소로 구성될 수 있다. 대안적으로, 희생 층은 예를 들어 에피택셜 침착(epitaxial deposition) 또는 화학 증착(CVD) 공정에 의해 형성될 수 있는, 게르마늄 도핑 및/또는 탄소 도핑을 가진 규소일 수 있다. 희생 층은 대략 700 마이크로미터 정도로 얇을 수 있지만, 이는 본 명세서에 기술된 기능을 수행하기 위한 특정 실시예에 대해 요구되는 바와 같이, 약간 또는 상당하게 더 크거나 더 작을 수 있다. 예를 들어, 소정 실시예에서, 희생 층은 10 마이크로미터만큼 얇을 수 있다. 더 작은 두께가 또한 소정의 경우에 사용될 수 있다.
블록(1104)에 의해, 규소의 에피택셜 층이 이어서 희생 층 위에서 성장될 수 있다. 블록(1106)에 의해 이미터 영역이 에피택셜 층 내에 형성될 수 있고, 블록(1108)에 의해 유전체 층이 이미터 영역 위에 형성될 수 있다.
블록(1110)에 의해, 금속 포일이 이어서 이미터 영역 위에 접착될 수 있다. 후속하여, 블록(1112)에 의한 에피택셜 리프트-오프(lift-off)가 선택적인 습식 에칭에 의해 또는 다른 방식으로 희생 층을 제거함으로써 수행될 수 있다. 리프트-오프 후에, 에피택셜 층이 태양 전지의 규소 라미나로 된다. 공정에서의 이 시점에서 구조물의 단면도가 도 3에 도시된 도면에 대응한다. 본 명세서에 개시된 바와 같이, 금속 포일은 규소 라미나에 대한 구조적 지지 및 통합된 캐리어 기능을 제공한다.
후속하여, 블록(708)에 의해, 전면 표면이 처리될 수 있다. 블록(710)에 의해, 금속 포일과 이미터 영역 사이에 접점이 이어서 형성될 수 있다. 다시 말하면, 블록(1110)에 의한 에피택셜 리프트-오프 후에, 도 4 내지 도 6과 관련하여 전술된 바와 같이 처리가 진행될 수 있다.
금속 포일을 사용하여 얇은-규소 태양 전지를 형성하는 기술이 개시되었다. 유리하게는, 금속 포일은 라미나의 전면의 처리 동안 다른 방식으로 손상되기 쉬운 규소 라미나를 조작하기 위한 내장 캐리어로서 사용될 수 있다. 후속하여, 금속 포일은 라미나의 배면 상에 P-형 및 N-형 이미터 접점 및 금속 핑거를 형성하도록 재사용될 수 있다.
본 발명의 특정 실시예가 제공되었지만, 이들 실시예가 예시 목적을 위한 것이고 제한하는 것이 아님을 이해하여야 한다. 많은 부가의 실시예가 본 개시 내용을 읽는 당업자에게 명백할 것이다.

Claims (21)

  1. 태양 전지(solar cell)를 제조하는 방법으로서,
    규소 기판(silicon substrate)으로부터 규소 라미나(silicon lamina)를 클리빙(cleaving) 단계 - 상기 규소 라미나의 배면은 P-형 및 N-형 도핑된 영역을 포함함 -; 및
    금속 포일(metal foil)을 규소 라미나의 배면에 부착하는 단계를 포함하는, 방법.
  2. 제1항에 있어서, 금속 포일의 연장된 영역이 규소 라미나의 주연부를 넘어 연장되고,
    규소 라미나를 조작하기 위한 통합된 캐리어(integrated carrier)로서 금속 포일을 사용하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    금속 포일과 P-형 도핑된 영역 사이에 접점들의 제1 세트를 형성하는 단계; 및
    금속 포일과 N-형 도핑된 영역 사이에 접점들의 제2 세트를 형성하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 접점은 펄스형 레이저 빔을 사용하여 형성되는, 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    금속 포일 내에 핑거 분리 패턴(finger separation pattern)을 형성하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  6. 제5항에 있어서, 핑거 분리 패턴은 배면에 대한 부착 전에 금속 포일 내에 사전-형성되는, 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    배면에 대한 부착 전에 금속 포일을 부 기판(secondary substrate)에 부착하는 단계를 추가로 포함하고, 부 기판은 레이저 광에 대해 투과성인, 방법.
  8. 제1항에 있어서, 금속 포일은 접착제 층을 사용하여 배면에 부착되는, 방법.
  9. 제1항에 있어서, 금속 포일은 금속 포일과 규소 기판의 배면 사이의 접점 스폿(contact spot)들의 어레이에서 배면에 부착되는, 방법.
    [청구항 9]
    제8항에 있어서, 접점 스폿은 금속 포일의 스폿 용융(spot melting)에 의해 형성되는, 방법.
  10. 제1항에 있어서, 금속 포일은 알루미늄을 포함하는, 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    규소 라미나를 조작하기 위한 캐리어로서 금속 포일을 사용하는 동안 규소 라미나의 전면을 텍스처화(texturing) 및 부동태화(passivating)하는 단계; 및
    규소 라미나의 전면을 봉지하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  12. 태양 전지로서,
    규소 라미나;
    규소 라미나의 배면 상의 P-형 및 N-형 도핑된 영역;
    규소 라미나의 배면에 접착되는 금속 포일;
    금속 포일과 P-형 도핑된 영역 사이의 접점들의 제1 세트; 및
    금속 포일과 N-형 도핑된 영역 사이의 접점들의 제2 세트를 포함하는, 태양 전지.
  13. 제12항에 있어서, 규소 라미나는 10 내지 100 마이크로미터 범위 내의 두께를 갖는, 태양 전지.
  14. 제12항에 있어서,
    금속 포일과 규소 라미나의 배면 상의 P-형 및 N-형 도핑된 영역 사이의 접착제 층을 추가로 포함하고, 상기 접점은 접착제 층 내의 개구를 통과하는, 태양 전지.
  15. 제12항에 있어서,
    금속 포일과 규소 라미나의 배면 상의 P-형 및 N-형 도핑된 영역 사이의 접점 스폿을 추가로 포함하는, 태양 전지.
  16. 제12항에 있어서,
    규소 라미나의 전면의 텍스처화 및 부동태화된 표면;
    규소 라미나의 전면 위의 유리 층; 및
    규소 라미나의 전면과 유리 층 사이의 봉지재 재료를 추가로 포함하는, 태양 전지.
  17. 제12항에 있어서, 금속 포일은 알루미늄을 포함하는, 태양 전지.
  18. 제17항에 있어서, 금속 포일은 Al-x%Si를 포함하고, 여기서 x%는 0% 내지 3% 범위 내에 있는, 태양 전지.
  19. 태양 전지를 제조하는 방법으로서,
    금속 포일을 규소 기판의 배면에 접착하는 단계 - 상기 규소 기판의 배면은 P-형 및 N-형 도핑된 영역을 포함함 -;
    규소 기판의 배면으로부터 규소 라미나를 분리하는 단계; 및
    규소 라미나의 전면의 처리 동안 규소 라미나를 조작하기 위한 내장 캐리어(built-in carrier)로서 금속 포일을 사용하는 단계를 포함하는, 방법.
  20. 제19항에 있어서, 규소 라미나를 분리하는 단계는 에피택셜 리프트-오프(epitaxial lift-off)에 의해 수행되는, 방법.
  21. 제19항에 있어서,
    금속 포일과 P-형 도핑된 영역 사이에 접점들의 제1 세트를 형성하는 단계;
    금속 포일과 N-형 도핑된 영역 사이에 접점들의 제2 세트를 형성하는 단계; 및
    금속 접점들의 제1 세트와 제2 세트 사이에 분리부를 형성하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
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