KR20090060430A

KR20090060430A - 오염성 평가 방법, 오염성 평가 장치, 광학 부재의 제조 방법, 광학 적층체 및 디스플레이 제품

Info

Publication number: KR20090060430A
Application number: KR1020097007109A
Authority: KR
Inventors: 기요시 이또오
Original assignee: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2006-09-08
Filing date: 2007-09-10
Publication date: 2009-06-12
Also published as: US20120147469A1; JP5531408B2; CN101512323B; KR101466414B1; CN101512323A; US20100118309A1; US20120147378A1; US8314936B2; US8339609B2; US8144330B2; JPWO2008029946A1; WO2008029946A1

Abstract

본 발명은, 다양한 부재에 적용 가능하고, 재현성이 높고, 미묘한 오염의 차이의 검출이 가능해지는 오염 방지성의 정량적인 오염성 평가 방법, 오염성 평가 장치, 광학 부재의 제조 방법, 및 지문 부착 방지성, 내오염성, 오염으로부터의 회복도를 갖는 광학 적층체, 및 상기 광학 적층체를 구비하는 디스플레이 제품을 제공한다. 본 발명은, 시험체에 광을 조사하고, 상기 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 상기 시험체의 표면의 오염 정도를 평가하는 오염성 평가 방법이다.

광학 적층체, 산란광 검출기, 적분구, 오염성 평가 장치, 하드 코트층

Description

오염성 평가 방법, 오염성 평가 장치, 광학 부재의 제조 방법, 광학 적층체 및 디스플레이 제품 {CONTAMINATION EVALUATION METHOD, CONTAMINATION EVALUATING DEVICE, OPTICAL MEMBER FABRICATING METHOD, OPTICAL MULTILAYER BODY, AND DISPLAY PRODUCT}

본 발명은, 시험체로부터 투과 또는 반사되는 산란광을 이용하는 오염성 평가 방법, 이 방법을 이용한 오염성 평가 장치, 광학 부재의 제조 방법, 광학 적층체 및 상기 광학 적층체를 사용한 디스플레이 제품에 관한 것이다.

디스플레이용 반사 방지 필름이나, 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름에 대표되는 광학 부재에 있어서 요구되는 성능 중 하나로 오염 방지성이 있다. 오염 방지성에서 중요시되는 점으로서, 구체적으로는 지문 부착성이나 지문 닦아냄성을 들 수 있다. 즉, 광학 부재에 있어서는, 지문의 부착에 의한 오염이나, 지문 닦아냄 후에 잔류하는 오염에 의해, 본래 발현되어야 할 광학 특성이 저감되어 버리므로, 지문 부착성이 낮고, 부착해도 간단하게 닦아낼 수 있는 성능이 요구된다.

또한, 광학 부재의 오염 방지성의 향상이 요구됨에 따라서, 당해 오염 방지성 자체의 평가의 재현성도 중요해지고 있다. 예를 들어, 특허 문헌 1에 있어서 는, 광 디스크 표면의 오염 방지성, 지문 부착성 또는 지문 제거성을 정량적으로 재현성 좋게 평가하기 위한 인공 지문액에 대해 기재되어 있다.

특허 문헌 1 : 일본 특허 제3745317호 공보(단락 0006, 0057)

상기한 바와 같이, 오염 방지성 자체의 평가의 재현성이 중요시되고 있음에도 불구하고, 오염 방지성을 재현성 좋게 정량 평가하는 방법은 제안되고 있지 않은 것이 실정이다. 예를 들어, 특허 문헌 1은, 인공 지문액의 개발에 의해, 지문 부착의 단계에 있어서의 재현성의 향상을 목적으로 하는 것이다. 지문 부착성이나 지문 제거성의 정량적인 평가에 대해서는, 동 문헌에서는, 광 디스크에 기록된 신호의 지터를 측정함으로써 평가하고 있다. 이는, 광 디스크만으로 실현 가능한 평가 방법이며, 다른 용도로 사용하는 광학 부재(예를 들어, 디스플레이용 반사 방지 필름이나 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름)에 널리 채용할 수 없다.

이로 인해, 지문 부착성이나 지문 제거성의 오염 방지성의 평가는, 오로지 시각에 의한 관능 평가가 행해지고 있는 것이 현실이다. 그러나, 시각 관찰에서는, 미묘한 오염의 차이의 검출, 평가가 어려워, 반드시 재현성이 높다고는 할 수 없다.

또한, 지문 부착성이나 지문 제거성의 오염 방지성의 평가를 조금이라도 정량화하고자 하는 디스플레이용 광학 부재에 있어서의 시험으로서는, 예를 들어 광학 부재를 평가하는 장치를 사용하여, 헤이즈의 변화나, 물방울이나 기타 용제의 접촉각, 반사율의 변화로 평가하는 것이 있었다. 그러나, 헤이즈나 반사율의 측정에 사용하는 광은 정반사광이며, 이 정반사광의 광량은 강하기 때문에, 감도(분광 기로서는 S/N비)가 낮고, 한번 지문에 의해 오염되어 그것을 닦아낸 후의 잔류하고 있는 지문 등의 미소 이물질이 존재하고 있어도, 잘 검출할 수 없다는 문제가 있었다. 즉, 정반사광을 사용한 장치에서는, 정확한 지문 부착, 제거 후의 차이를 정량화할 수 없다는 과제가 있었다.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그 목적은, 다양한 부재에 적용 가능하고, 재현성이 높고, 미묘한 오염의 차이의 검출이 가능해지는 오염성 평가 방법, 오염성 평가 장치, 및 광학 부재의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.

상기 목적 하에서, 본 발명자는, 오염 방지성이 왜 문제가 되는 것인지의 근본으로 되돌아가 검토를 행하였다. 그 결과, 통상, 사람이, 예를 들어 디스플레이 표면 등에 이물질이 있다고 느끼는 것은, 투과광(디스플레이 안으로부터의 투과광), 반사광(디스플레이 표면으로의 외광 반사)과 함께, 실내 조명광에 대한 이물질의 확산광의 색이나 휘도의 변화를 보고 감지하는 것이 대부분이며, 이물질이 존재함으로써, 정반사광이 변화하는 것을 보고 감지하는 일은 거의 없다. 광학 부재 등의 시험체에 부착된 오염(예를 들어 지문)에서 난반사되는 산란광이 사람의 눈에 오염으로 되어 관측되고 있다. 본 발명자들은, 이에 착안하여, 상기 산란광을 검출함으로써, 광학 부재 등의 시험체의 오염 정도를 재현성 좋게 평가할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.

즉, 본 발명의 오염성 평가 방법은, 시험체에 광을 조사하고, 상기 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 상기 시험체의 표면의 오염 정도를 평가하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 다양한 광학 부재를 비롯한 시험체에 적용 가능하여, 재현성이 높아, 미묘한 오염의 차이의 검출이 가능해지는 오염 방지성의 정량적인 오염성 평가 방법이 제공된다.

또한, 본 발명의 오염성 평가 방법에 있어서는, 상기 시험체의 표면이 인위적으로 오염되어 있는 것이라도 좋다. 본 발명에 따르면, 시험체의 오염 정도뿐만아니라 시험체의 오염 방지 성능(내오염성)의 평가도 가능해진다.

또한, 본 발명의 오염성 평가 방법에 있어서는, 상기 인위적인 오염이 지문 부착에 의한 오염인 것이 바람직하다. 지문 부착에 의한 오염에 있어서는, 특히 재현성 좋아, 시험체의 오염 정도나, 시험체의 오염 방지 성능(내오염성)의 평가를 행하는 것이 가능해진다.

또한, 본 발명의 오염성 평가 방법에 있어서는, 상기 시험체의 표면의 오염 정도를 평가한 후, 상기 시험체의 표면을 세정하여 상기 시험체의 오염 정도를 다시 평가함으로써, 상기 표면의 오염으로부터의 회복 정도를 평가할 수 있다. 본 발명에 따르면, 시험체의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)를 평가할 수 있게 된다.

또한, 본 발명의 오염성 평가 방법에 있어서는, 상기 시험체의 표면의 오염 정도의 평가를 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델에 의해 행하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따르면, 정량성, 객관성이 높은 평가 결과를 얻을 수 있게 된다.

본 발명의 오염성 평가 장치는, 시험체의 설치대와, 상기 설치대에 설치된 시험체에 광을 조사하는 광원과, 상기 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 집광하는 적분구와, 집광한 산란광을 검출하여 상기 시험체의 표면의 오염 정도를 평가하는 산란광 검출기를 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 다양한 광학 부재를 비롯한 시험체에 적용 가능하고, 재현성이 높아, 미묘한 오염의 차이의 검출이 가능해지는 오염 방지성의 정량적인 오염성 평가 장치가 제공된다.

본 발명의 광학 부재의 제조 방법은, 광학 부재를 얻는 공정과, 상기 광학 부재의 표면이 인위적으로 오염된 후에, 상기 광학 부재에 광을 조사하여, 상기 광학 부재에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 상기 광학 부재의 오염 정도를 평가하는 검사 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 다양한 광학 부재를 비롯한 시험체에 적용 가능하고, 재현성이 높아, 미묘한 오염의 차이의 검출이 가능해지는 오염 방지성의 정량적인 검사 공정이 제공된다.

또한, 본 발명의 광학 부재의 제조 방법에 있어서는, 상기 인위적인 오염이 지문 부착에 의한 오염인 것이 바람직하다. 지문 부착에 의한 오염에 있어서는, 특히 재현성이 좋아, 시험체의 오염 정도나, 시험체의 오염 방지 성능(내오염성)의 평가를 행하는 것이 가능해진다.

또한, 본 발명의 광학 부재의 제조 방법에 있어서는, 상기 검사 공정에 있어서, 상기 광학 부재의 표면의 오염 정도를 평가한 후, 상기 광학 부재의 표면을 세정하여 상기 광학 부재의 오염 정도를 다시 평가함으로써, 상기 표면의 오염으로부터의 회복 정도를 평가하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따르면, 시험체의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)를 평가할 수 있는 검사 공정이 제공된다.

또한, 본 발명의 광학 부재의 제조 방법에 있어서는, 상기 광학 부재의 표면의 오염 정도의 평가를, 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델에 의해 행하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따르면, 정량성, 객관성이 높은 평가 결과를 얻을 수 있게 된다.

또한, 본 발명의 광학 부재의 제조 방법에 있어서는, 상기 광학 부재가 광학 필름인 것이 바람직하다. 본 발명에 따르면, 광학 부재로서 바람직한 예인 광학 필름의 유효한 제조 방법이 제공된다. 광학 필름으로서는, 예를 들어 액정 디스플레이용 광학 필름뿐만 아니라, PDP, CRT, ELD 등 모든 디스플레이에 적용할 수 있는 광학 필름을 들 수 있다.

본 발명에 따르면, 다양한 광학 부재를 비롯한 시험체에 적용 가능하고, 재현성이 높아, 미묘한 오염의 차이의 검출이 가능해지는 오염 방지성의 정량적인 오염성 평가 방법, 이 평가 방법을 실시하기 위한 오염성 평가 장치, 및 이 평가 방법을 이용한 광학 부재의 제조 방법이 제공된다.

도 1은 반사형의 오염성 평가 장치의 모식적인 단면도를 도시한다.

도 2는 투과형의 오염성 평가 장치의 모식적인 단면도를 도시한다.

도 3은 ΔE*ab에 의한 오염 정도의 정량 평가의 관계를 나타내는 그래프이다.

[부호의 설명]

1a, 1b : 광원

2a, 2b : 설치대

3a, 3b : 적분구

4 : 산란광 검출기

5, 5a, 5b : 시험체

6 : 아크릴판

10, 11 : 오염성 평가 장치

다음에, 본 발명의 실시 형태에 대해 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 그 요지의 범위 내에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.

본 발명에 있어서는, 시험체에 광을 조사하여, 이 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 시험체의 표면의 오염 정도를 평가한다.

본 발명은, 산란광을 이용한 평가 방법을 채용한 것에 특징이 있다. 디스플레이용 반사 방지 필름이나, 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름에 대표되는 광학 부재의 표면에 부착된 오염에 의해, 당해 표면으로부터의 반사광이 난반사되고, 이 난반사에 의한 산란광이 사람의 눈으로 볼 때「오염(흐트러짐)」으로서 인식된다. 예를 들어, 휴대 전화의 디스플레이에 부착된 지문이 사람의 눈으로 볼 때 신경이 쓰이는 것은, 부착된 지문에 의해 휴대 전화의 디스플레이로부터의 반사광이 난반사되어 당해 디스플레이의 표시가 사람의 눈에 잘 보이지 않기 때문이다. 따라서, 오염으로서 사람의 눈에 인식되는 산란광을 광학 부재 표면의 오염 정도의 평가 지표로서 이용함으로써, 오염 정도를 정량화할 수 있게 된다.

이하에, 본 발명의 오염성 평가 방법 및 오염성 평가 장치의 구체적인 예에 대해, 도면을 참조하면서 설명한다. 우선 오염성 평가 장치부터 설명한다.

[오염성 평가 장치]

오염성 평가 장치는 시험체의 설치대와, 설치대에 설치된 시험체에 광을 조사하는 광원과, 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 집광하는 적분구와, 집광한 산란광을 검출하여 시험체의 표면의 오염 정도를 평가하는 산란광 검출기를 갖는다.

도 1은 반사형의 오염성 평가 장치의 모식적인 단면도를 도시한다. 도 1의 오염성 평가 장치(10)는 시험체(5)의 설치대(2a), 설치대(2a)에 설치된 시험체(5)에 광을 조사하는 광원(1a), 시험체(5)에서 반사 또는 투과된 산란광을 집광하는 적분구(3a), 및 집광한 산란광을 검출하여 시험체(5)의 표면의 오염 정도를 평가하는 산란광 검출기(4)를 갖는다.

설치대(2a)는 시험체(5)를 설치하기 위해 사용된다. 시험체(5)로서는, 표면의 오염 정도를 평가하는 필요성이 있는 것이면 제한은 되지 않는다. 이와 같은 시험체(5)로서는, 예를 들어 디스플레이용 반사 방지 필름, 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름에 대표되는 광학 부재나, CD, DVD, 청색 레이저 대응 디스크 등의 광 디스크를 들 수 있다. 시험체(5)는 설치대(2a)에 설치할 수 있는 크기로 할 필요가 있으므로, 필요에 따라서 상기 광학 필름이나 광 디스크는 소정의 크기가 되도록 각각 절취된다. 또한, 시험체(5)는 오염된 또는 오염될 우려가 있는 시험체(5a)와, 오염되어 있지 않은 시험체(5b) 두 개를 준비한다.

설치대(2a)에, 시험체(5a, 5b)를 각각 설치하고, 측정함으로써, 오염되어 있지 않은 시험체(5b)를 레퍼런스(기준)로 하여, 오염된 또는 오염될 우려가 있는 시험체(5a)의 오염 정도의 확인을 행할 수 있다. 여기서, 각각의 시험체(5a, 5b)가 필름 형상의 샘플인 경우에는, 설치시에는 필름에 주름ㆍ느슨해짐이 발생하지 않도록 한다. 이때, 설치대(2a)에 점착 시트를 부착하면, 시험체(5a, 5b)의 고정이 용이해지므로 바람직하다. 또한, 오염성 평가 장치(10)에 있어서는, 설치대(2a)를 흑색의 아크릴판(6)으로만 구성해도 좋다.

설치대(2a)에의 시험체(5a)의 설치ㆍ고정에 있어서는, 광원(1a)으로부터 조사되는 광이 시험체(5a)의 오염된 부위 또는 오염될 우려가 있는 부위에 확실하게 조사되도록, 지그로 위치 맞춤을 행한다.

광원(1a)은 설치대(2a)에 설치된 시험체(5)에 광을 조사하기 위해 사용된다. 구체적으로는, 설치대(2a)에 시험체(5a, 5b)를 고정한 후, 표준 광인 D65 광원 내지 C 광원인 광원(1a)으로부터 광을 시험체(5a, 5b)에 조사한다. 이들 표준 광은, 인쇄물의 색 교정이나, 색의 비교에 사용되는 것으로, 평가의 정밀도를 확보하는 면에서 바람직하다.

적분구(3a)는 시험체(5)에서 반사 또는 투과된 산란광을 집광하기 위해 사용된다. 적분구(3a)에는, 도 1에 도시한 바와 같이 광원(1a)으로부터 시험체(5a, 5b)에 조사되는 광이 입사하기 위한 슬릿 및 시험체(5a, 5b)로부터 정반사되는 광이 출사하기 위한 슬릿이 설치되어 있다. 조사된 광 중 정반사광은, 도 1에 도시한 바와 같이 슬릿으로부터 적분구(3a) 밖으로 출사하는 한편, 반사된 산란광은 적분구(3a)의 내벽에서 반사를 반복하면서, 산란광 검출기(4)에 집광된다(도 1 중 점선으로 나타내어진 화살표 참조).

산란광 검출기(4)는 상기 집광된 산란광을 검출하여 시험체(5)의 표면의 오염 정도를 평가하기 위해 사용된다. 산란광 검출기(4)로서는, 통상 분광기가 사용된다. 이에 의해, 시험체(5a, 5b)의 분광 확산 반사율을 측정할 수 있다. 이 결과, 시험체(5a, 5b)에 대해, 확산 반사광의 색도 x, y 및 휘도 Y값을 얻을 수 있다. 그리고, 도 1에는 도시하지 않은 소프트웨어 등을 사용하여, 상기 데이터를 또한 a*b*L*값으로 변환하고, 시험체(5a)와 시험체(5b)의 색차(ΔE*ab)를 구함으로써, 오염된 또는 오염될 우려가 있는 시험체(5a)의 오염 정도를 정량적으로 평가할 수 있다. 이와 같이, 본 발명에 있어서는, 시험체(5a)의 표면의 오염 정도의 평가를, 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델(L*a*b* 표색계)에 의해 행하는 것이 바람직하다. 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델을 사용함으로써, 정량성, 객관성이 높은 평가 결과를 얻을 수 있다는 장점이 있다. x, y, Y 및 L*a*b* 및 ΔE*ab는, 모두 CIE 규정에 준거한 값이다.

또한, 도3에 ΔE*ab에 의한 오염 정도의 정량 평가의 관계를 나타내는 그래 프를 나타낸다. 도 3에 있어서, X1→X2는 지문 부착 등의 오염이 발생한 경우를 나타내고, X2→X3은 지문 등의 오염을 세정(닦아냄)한 경우를 나타낸다. 이때, X1-X2간 거리가 작으면, 오염 방지성(지문 부착 방지성)이 높은 것을 나타내고, X1-X3 문 거리가 작으면, 오염으로부터의 회복도(지문 닦아냄성)이 높은 것을 나타낸다.

오염성 평가 장치(10)로서는, 예를 들어 적분구 유닛을 탑재한 시판되고 있는 분광 광도계를 사용할 수 있다. 따라서, 기본적으로는, 광원(1a), 설치대(2a), 적분구(3a), 산란광 검출기(4)로서는, 분광 광도계에서 종래부터 사용되고 있는 것을 그대로 이용할 수 있다. 단, 일반적인 분광 광도계나 헤이즈 미터에서는, 적분구가 소형이며, 또한 검출부의 슬릿 입체각이 크기 때문에, 지문의 부착 등에 의한 시험체 표면의 오염으로부터의 반사광 또는 투과광 중에 발생하는 미약한 산란광을 검출하기 어려운 경우가 있다.

오염성 평가 장치(10)에 있어서, 산란광이 미약하기 때문에, 보다 고감도로의 검출이 필요해지는 경우에는, 예를 들어 시험체(5)를 설치하는 적분구의 창의 크기가 일정하면, 적분구(3a)를 크게 하여 S/N비를 크게 하고, 입체각을 작게 하고, 적분구(3a)의 크기가 일정하면, 시험체(5)를 설치하는 적분구의 창을 작게 하여 산란광량을 크게 취하는 장치 구성을 채용하는 것이 바람직하다. 더욱 구체적으로는, 적분구(3a)의 크기를 150㎜φ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 시험체를 설치하는 적분구의 창의 크기를 1㎝×1cm 이하로 하는 것이 바람직하다.

도 2는 투과형의 오염성 평가 장치의 모식적인 단면도를 도시한다. 도 2의 오염성 평가 장치(11)는 광원(1b), 시험체(5)를 설치하기 위한 설치대(2b), 적분구(3b), 및 산란광 검출기(4)를 갖는다. 도 2에 있어서는, 도 1과 동일 요소에 대해서는 동일 부호를 부여하고 있다.

오염성 평가 장치(11)는, 기본적인 장치 구성, 측정시의 조작, 측정 원리 등에 대해서는 오염성 평가 장치(10)와 마찬가지로 하면 된다. 단, 오염성 평가 장치(11)는, 이하의 점에 있어서 오염성 평가 장치(10)와 다르다. 우선, 오염성 평가 장치(10)에 있어서는, 광원(1a)으로부터의 반사광 강도를 확보하기 위해, 설치대(2a)의 배면에 흑색의 아크릴판(6)이 설치되어 있지만, 시험체(5)로부터 투과되는 산란광을 이용하는 오염성 평가 장치(11)에 있어서는, 상기한 바와 같은 흑색의 아크릴판은 불필요하다. 또한, 장치 구성의 차이에 의해 적분구(3a, 3b)에 약간의 형상의 차이가 있다. 또한, 오염성 평가 장치(10)에 있어서는, 시험체(5)가 광 투과성을 갖는지 여부를 불문하고 오염 정도의 평가를 행할 수 있는 한편, 오염성 평가 장치(11)에 있어서는, 시험체(5)는 어느 정도의 광 투과성을 갖는 것이 필요해진다. 단, 시험체의 대표적인 예인 광학 부재는, 광 투과성을 갖는 것이 일반적이므로, 반사형의 오염성 평가 장치(10) 및 투과형의 오염성 평가 장치(11)의 어느 것이라도 평가를 행할 수 있다.

이하, 도 2를 이용하여, 투과형의 오염성 평가 장치(11)에 있어서의, 시험체의 표면의 평가 방법에 대해 설명한다.

설치대(2b)는 시험체(5)를 설치하기 위해 사용된다. 시험체(5)의 설치대(2b)에의 고정은, 반사형의 오염성 평가 장치(10)와 마찬가지로 하여 행할 수 있 으면 된다. 구체적으로는, 설치대(2a)에 시험체(5a, 5b)를 각각 설치하여 측정함으로써, 오염되어 있지 않은 시험체(5b)를 레퍼런스(기준)로 하여, 오염된 또는 오염될 우려가 있는 시험체(5a)의 오염 정도의 확인을 행할 수 있는 것이나, 필요에 따라서 설치대(2b)에 점착 시트를 사용해도 되는 것 등, 반사형의 오염성 평가 장치(10)와 마찬가지로 하여 행하면 된다.

광원(1b)은 설치대(2b)에 설치된 시험체(5)에 광을 조사하기 위해 사용된다. 구체적으로는, 설치대(2b)에 시험체(5a, 5b)를 고정한 후, 표준의 광인 D65 광원 내지 C 광원인 광원(1a)으로부터 광을 시험체(5a, 5b)에 조사한다. 조사하는 광은, 오염성 평가 장치(10)와 마찬가지로 가시광인 것이 바람직하다. 단, 반사형의 오염성 평가 장치(10)와 달리, 오염성 평가 장치(11)에 있어서의 광원(1b)으로부터의 광은 시험체(5a, 5b)의 이면으로부터 조사하여 시험체(5a, 5b)를 투과시키도록 한다.

적분구(3b)는 시험체(5)에서 반사 또는 투과된 산란광을 집광하기 위해 사용된다. 적분구(3b)는 오염성 평가 장치(10)에서 사용한 적분구(3a)와 같은 것을 사용할 수 있지만, 입사광용 슬릿이 불필요해지는 한편, 출사광용 슬릿이 시험체(5)에 입사하는 광의 연장선 상에 설치되어 있다. 이로 인해, 시험체(5a, 5b)를 투과한 후에 직진하는 광은 슬릿으로부터 적분구(3b) 밖으로 출사하는 한편, 투과한 산란광은 적분구(3b)의 내벽에서 반사를 반복하면서, 산란광 검출기(4)에 집광된다(도 2 중의 점선으로 나타내어진 화살표 참조).

산란광 검출기(4)는 상기 집광된 산란광을 검출하여 시험체(5)의 표면의 오 염 정도를 평가하기 위해 사용된다. 산란광 검출기(4)로서는, 오염성 방지 장치(10)의 경우와 마찬가지로, 통상, 분광기가 사용된다. 산란광의 측정 방법도 반사형의 오염성 평가 장치(10)와 마찬가지로 하면 된다. 예를 들어, 시험체(5a, 5b)의 색차도, 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델을 이용하면 된다.

[오염성 평가 방법]

본 발명의 오염성 평가 방법에 있어서는, 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 시험체의 표면의 오염 정도를 평가한다. 오염성 평가 방법에 대해서는, 상기 오염성 평가 장치의 설명시에 이미 언급하고 있는 부분도 있어서, 설명의 중복을 피하기 위해, 이하에서는 본 발명의 오염성 평가 방법의 응용적인 평가에 대해 설명한다.

응용적인 평가 방법으로서, 시험체의 표면이 인위적으로 오염되어 있고, 이 표면의 오염 정도를 평가하는 방법을 채용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 응용적인 평가에 의해, 시험체의 오염 정도뿐만 아니라 시험체의 오염 방지 성능(내오염성)의 평가도 가능해진다.

다양한 종류의 시험체에 대해, 각각 인위적인 오염을 실시한 후에, 오염된 시험체와 레퍼런스(오염되어 있지 않은 시험체)의 색차를 측정하여, 각각의 시험체에서 얻어진 색차의 대소를 비교함으로써, 오염되기 쉬움, 오염되기 어려움(오염 방지 성능)의 정밀한 상대 평가를 행할 수 있게 된다. 이 결과, 예를 들어, 오염되기 어려운 시험체(예를 들어 광학 부재)의 개발에 있어서의 유효한 평가 수단을 얻을 수 있다.

오염 방지 성능의 평가를 행할 때에 중요한 것은, 인위적인 오염을 재현성 좋게 행하는 것이다. 복수의 시험체 사이에서 오염 방지 성능을 비교하는 경우에, 객관적인 오염의 정도가 시험체마다 다르면, 정확한 평가가 행해지기 어려워지기 때문이다. 구체적으로는, 상기 인위적인 오염을 지문 부착에 의한 오염으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 평가간의 편차를 억제하기 위해, 사람의 손가락을 사용하여 시험체에 지문을 부착시키는 방법보다도, 인공 지문액을 일정한 가중에 의해 시험체에 압박하여 당해 인공 지문액을 시험체에 부착시키는 방법을 채용하는 것이 바람직하다. 사람의 손가락을 사용하면, 컨디션에 따라 분비되는 피지가 일정해지지 않을 가능성이 있기 때문이다.

인공 지문액으로서는, 예를 들어 특허 제3745317호 명세서에 소개되어 있는 것을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 트리올레인 및 미립자를 함유하는 유사 지문액을 예로 들 수 있다. 그리고, 소정의 무게를 갖는 전사 부재(예를 들어 원통형의 압자)를 사용하여, 상기 인공 지문액을 시험체 표면에 압박하여 부착시킨다.

본 발명의 또 다른 응용적인 평가로서, 시험체의 표면의 오염 정도를 평가한 후, 이 시험체의 표면을 세정하여 시험체의 오염 정도를 다시 평가하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 상기 표면의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)를 평가할 수 있다.

세정 후에 상기 색차의 값이 작아져, 레퍼런스에 보다 가까워지는 시험체일수록 청정도의 회복 정도가 높다고 할 수 있으므로, 이 응용적인 평가에 의해 시험 체의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)의 평가도 가능해진다. 시험체 표면의 오염 정도만의 평가라면, 정밀도는 낮지만, 사람의 눈에 의한 시각 평가라도 어느 정도의 평가는 가능하다. 그러나, 세정된 시험체는, 통상은 오염되어 있지 않은 시험체와 구별이 되지 않으므로, 시험체의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)를 시각으로 평가하는 것은 곤란하다. 이에 대해, 본 발명의 평가 방법은, 미약한 산란광을 정밀도 좋게 검출할 수 있으므로, 시험체의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)라는 미묘한 평가를 정밀도 좋게 또한 재현성 좋게 행하기 쉬워진다는 이점이 있다.

본 발명에서는, 오염성의 시험과, 청정도의 회복 정도의 시험을 분리하여 행할 수 있는 이점도 있다. 시험체의 일례인 광학 부재에 있어서는, 오염되기 어렵고, 오염을 깨끗하게 닦아낼 수 있는(청정도의 회복 정도가 높은) 것이 바람직하게 요구되지만, 가령 오염되기 쉬워도, 오염을 깨끗하게 닦아낼 수 있는(청정도의 회복 정도가 높은) 것이라도 용도에 따라서는 실제 사용에 적합한 경우가 있다. 이와 같은,「오염되기 쉬워도, 오염을 깨끗하게 닦아낼 수 있는(청정도의 회복 정도가 높은)」광학 부재의 개발을 행할 때에, 본 발명의 오염성 평가 방법을 바람직하게 채용할 수 있다.

시험체의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)의 평가시에 행하는 세정의 구체적인 방법은, 특별히 제한은 없다. 단, 중요한 것은, 시험체의 표면의 세정을 재현성 좋게 행하는 것이다. 복수의 시험체간에 청정도의 회복 정도를 비교하는 경우에, 객관적인 세정의 정도가 시험체마다 다르면, 정확한 평가가 행해지 기 어려워지기 때문이다.

시험체가, 디스플레이용 반사 방지 필름이나, 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름에 대표되는 광학 부재인 경우에는, 일반적으로는, 세정은 킴와이프(등록상표) 등의 닦아냄 아이템으로 시험체 표면의 오염(오염 부위)을 일정한 힘, 각도 가감으로 닦아내는 방법이 채용된다. 세정마다 힘, 각도 가감을 일정하게 할 수 있는 것이면, 인력으로 행해도 되지만, 기계적으로 세정을 행하는 방법의 일례로서 내마모 시험기를 이용하는 방법을 들 수 있다. 또한, 본 발명의 반사 방지 필름이라 함은, 광학 간섭에 의한 반사 방지 필름과, 요철 형상에 의한 방현성 부여에 의한 반사 방지 필름의 양쪽을 의미한다.

기계적인 세정을 내마모 시험기로 행하는 경우, 내마모 시험기(예를 들어, 헤이든사제의 내마모 시험기 TYPE F)의 압자 부위에 권취한 킴와이프(등록상표) 등의 닦아냄 아이템을, 일정한 가중으로 시험체의 오염된 표면에 압박한 후, 상기 압자 부위를 왕복 운동시켜 시험체의 오염을 닦아내면 된다. 닦아냄 아이템이나 닦아낼 때의 가중을 제어함으로써, 재현성이 높은 세정을 행하기 쉬워진다.

이상과 같이 하여 세정된 시험체에 대해, 상술한 반사형 또는 투과형의 오염성 평가 장치로 오염성을 다시 평가하면, 시험체의 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)의 평가를 정량적으로 또한 재현성 좋게 행할 수 있다.

[광학 부재의 제조 방법]

본 발명의 광학 부재의 제조 방법은, 광학 부재를 얻는 공정과, 광학 부재의 표면이 인위적으로 오염된 후에, 광학 부재에 광을 조사하여, 광학 부재에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 광학 부재의 오염 정도를 평가하는 검사 공정을 갖는다. 본 발명의 광학 부재의 제조 방법은, 상술한 오염성 평가 방법을 제조 공정 중에 포함한 것이다. 그 결과, 시험체의 표면의 오염 정도, 내오염성, 오염으로부터의 회복 정도(청정도의 회복 정도)를 광학 부재의 제조 공정 중에서 평가할 수 있다. 이로 인해, 예를 들어 광학 부재의 제조 공정의 마지막 단계에서 오염성 평가 방법에 의해 검사 공정을 행하면, 광학 부재의 품질 관리 또는 성능 확인을 행할 수 있다.

광학 부재로서, 디스플레이용 반사 방지 필름이나, 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름에 대표되는 광학 부재를 들 수 있다. 또한, 광학 부재 이외라도, 예를 들어 상기 시험체의 예로서 서술한 바와 같이, 표면의 오염 정도를 평가할 필요성이 있는 것이면 상기 제조 방법에 적용 가능하다.

광학 부재의 대표예로서는, 상기한 바와 같이 디스플레이용 반사 방지 필름이나, 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름이 있다. 광학 필름도 다양한 형태가 있다. 대표적인 예로서는, 예를 들어 광 투과성 기재 상에 적어도 하드 코트층이 적층된 구조의 광학 적층체를 들 수 있다. 또한, 예를 들어, 광 투과성 기재/하드 코트층(고굴절률층을 겸해도 좋음)/고굴절률층(또는 중굴절률층)/저굴절률층, 광 투과성 기재/하드 코트층(고굴절률층을 겸해도 좋음)/저굴절률층 등의 층 구성을 갖는 반사 방지 성능이 우수한 반사 방지 적층체(Anti Reflection 제품)나, 최표면에 요철 형상을 갖는 광 투과성 기재/방현층(하드 코트 기능을 가짐)의 층 구성을 갖는 방현성 광학 적층체(Anti Glare 제품) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 방현층은 단층이라도 좋고, 다층이라도 좋다. 또한, 상기 방현층 상에 저굴절률층을 적층해도 좋다. 또한, 상기 반사 방지 적층체, 방현성 광학 적층체의 각 층에, 또는 층 사이에 대전 방지성 등 다양한 기능성을 갖게 해도 좋다.

(광학 부재를 얻는 공정)

광학 부재를 얻는 공정으로서, 이하에서는 상기 광학 적층체를 얻기 위한 공정을 예로서 설명한다.

상기 광학 적층체를 얻는 공정은, 통상, 광 투과성 기재 상에 하드 코트층 형성용 조성물을 도공하는 공정을 갖는다.

상기 광 투과성 기재로서는, 평활성, 내열성을 구비하여, 기계적 강도가 우수한 것이 바람직하다.

상기 광 투과성 기재를 형성하는 재료로서는, 예를 들어 폴리에스테르계(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등), 셀룰로오스계(셀룰로오스트리아세테이트, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트 등), 아크릴계(폴리메틸메타크릴레이트 등), 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리카보네이트 등의 열가소성 수지를 들 수 있다. 또한, 지환 구조를 갖는 비정질 올레핀폴리머(Cyclo-Olefin-Polymer : COP) 필름도 예로 들 수 있다. 이는, 노보넨계 중합체, 단환(單環)의 환형 올레핀계 중합체, 환형 공역 디엔계 중합체, 비닐 지환식 탄화수소계 중합체 수지 등이 사용되는 기재이다. 예를 들어, 니혼 제온 가부시끼가이샤제의 제오넥스나 제오노아(노보넨계 수지), 스미또모 베이크 라이트 가부시 끼가이샤제의 스미라이트 FS-1700(스미라이트는 등록상표), JSR 가부시끼가이샤제의 아톤(변성 노보넨계 수지), 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤제의 아펠(환형 올레핀 공중합체, 아펠은 등록상표), 티코나(Ticona)사제의 토파스(Topas)(환형 올레핀 공중합체, 토파스는 등록상표), 히타치 가세에 가부시끼가이샤제의 옵토레즈(OPTOREZ) OZ-1000 시리즈(지환식 아크릴 수지) 등을 들 수 있다.

또한, 트리아세틸셀룰로오스의 대체 기재로서 아사히 가세이 케미컬즈 가부시끼가이샤제의 FV 시리즈(저복굴절률, 저광탄성률 필름)도 바람직하다.

상기 광 투과성 기재의 두께로서는, 통상 20㎛ 이상 300㎛ 이하이지만, 경우에 따라서는 300㎛ 이상 5000㎛ 이하라도 좋다.

상기 하드 코트층 형성용 조성물로서는, 경화형 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 경화형 수지로서는, 예를 들어 자외선 또는 전자선에 의해 경화되는 수지인 전리 방사선 경화형 수지, 전리 방사선 경화형 수지와 용제 건조형 수지(도포 공정시에 고형분을 조정하기 위해 첨가한 용제를 건조시키는 것만으로 피막이 되는 수지)와의 혼합물, 열경화형 수지의 3종류를 들 수 있고, 바람직하게는 전리 방사선 경화형 수지를 들 수 있다. 또한 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 전리 방사선 경화형 수지 또는 열경화형 수지를 적어도 포함하여 이루어지는 수지를 사용할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서,「수지」는 모노머, 올리고머 등의 수지 성분도 포함하는 개념이다.

상기 전리 방사선 경화형 수지로서는, 예를 들어 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 화합물 등의 1 또는 2 이상의 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다.

상기 하나의 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 예를 들어 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.

또한, 상기 2 이상의 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 예를 들어 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 다관능 화합물과 (메타)알릴레이트 등의 반응 생성물[예를 들어 다가 알코올의 폴리(메타)아크릴레이트에스테르] 등을 들 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서「(메타)아크릴레이트」는, 메타크릴레이트 및 아크릴레이트를 가리키는 것이다.

상기 화합물 이외에, 불포화 이중 결합을 갖는 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등도 상기 전리 방사선 경화형 수지로서 사용할 수 있다.

상기 전리 방사선 경화형 수지를 자외선 경화형 수지로서 사용하는 경우에는, 광 중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 광 중합 개시제의 구체예로서는, 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아미녹심에스테르, 티옥산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 아실포스핀옥사이드류를 들 수 있다. 또한, 광 증감제를 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 그 구체예로서는, n- 부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.

상기 광 중합 개시제로서는, 라디칼 중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우에는, 아세토페논류[예를 들어, 상품명 이가큐어 184(치바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤제, 이가큐어는 등록상표)로서 시판되고 있는 1-히드록시-시클로헥실-페닐케톤], 벤조페논류, 티옥산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 아실포스핀옥사이드류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 양이온 중합성 관능기를 갖는 수지계의 경우에는, 광 중합 개시제로서, 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오드늄염, 메탈로센 화합물, 벤조인술폰산에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 광 중합 개시제의 첨가량은, 전리 방사선 경화성 조성물 100질량부에 대해, 0.1 내지 10질량부인 것이 바람직하다.

상기 전리 방사선 경화형 수지에 혼합하여 사용되는 용제 건조형 수지로서는, 주로 열가소성 수지를 들 수 있다.

상기 열가소성 수지로서는 일반적으로 예시되는 것이 이용된다. 상기 용제 건조형 수지의 첨가에 의해, 도포면의 도막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 바람직한 열가소성 수지의 구체예로서는, 예를 들어 스티렌계 수지, (메타)아크릴계 수지, 아세트산비닐계 수지, 비닐에테르계 수지, 할로겐 함유 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 셀룰로오스 유도체, 실리콘계 수지, 및 고무 또는 엘라스토머 등을 들 수 있다.

상기 열가소성 수지로서는, 통상 비결정성이며, 또한 유기 용제(특히 복수의 폴리머나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통 용제)에 가용인 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 성형성 또는 제막성, 투명성이나 내후성이 높은 수지, 예를 들어 스티렌계 수지, (메타)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스에스테르류 등) 등이 바람직하다.

본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 광 투과성 기재의 재료가 트리아세틸셀룰로오스「TAC」등의 셀룰로오스계 수지인 경우, 열가소성 수지의 바람직한 구체예로서, 셀룰로오스계 수지, 예를 들어 니트로셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 에틸히드록시에틸셀룰로오스 등을 들 수 있다. 셀룰로오스계 수지를 사용함으로써, 광 투과성 기재와 하드 코트층의 밀착성 및 투명성을 향상시킬 수 있다.

상기 경화 반응성을 갖는 수지로서 사용할 수 있는 열경화성 수지로서는, 페놀 수지, 요소 수지, 디아릴프탈레이트 수지, 멜라닌 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민-요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다. 상기 열경화성 수지를 사용하는 경우, 필요에 따라서, 가교제, 중합 개시제 등의 경화제, 중합 촉진제, 용제, 점도 조정제 등을 병용하여 사용할 수도 있다.

상기 하드 코트층 형성용 조성물은 요철 형성성 미립자를 함유하고 있어도 좋다. 이 경우, 형성하는 하드 코트층은, 요철 형상을 갖는 것이 되어 방현성을 갖는 방현층으로 할 수 있다.

상기 요철 형성성 미립자로서는, 종류, 크기, 형태가 다른 것을 몇 종류 적 절하게 선택하여 사용할 수 있다. 일반적으로는, 입경이 1㎛ 이상 20㎛ 이하인, 폴리스티렌 비즈, 멜라민 비즈, 아크릴(폴리메틸메타크릴레이트 등) 비즈, 아크릴-스티렌 비즈, 벤조구아나민-포름알데히드 비즈, 폴리카보네이트 비즈, 폴리에틸렌 비즈 등의 플라스틱 비즈나, 실리카 비즈가 사용된다. 비즈는 몇 종류를 동시에 사용할 수도 있고, 예를 들어 입경이 1 내지 20㎛(바람직하게는 1 내지 10㎛)인 아크릴 비즈 등의 플라스틱 비즈와 평균 입경이 1 내지 3㎛인 부정형 실리카 비즈를 병용할 수 있다.

상기 하드 코트층 형성용 조성물은, 상기 경화형 수지나 요철 형성성 미립자를 적절한 용제, 예를 들어 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류 ; 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로헥사논 등의 케톤류 ; 아세트산 메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 할로겐화 탄화수소 ; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 ; 또는 이들의 혼합물에 혼합함으로써 얻을 수 있다.

또한, 상기 하드 코트층 형성용 조성물은 불소계 또는 실리콘계 등의 레벨링제를 함유하고 있어도 좋다. 상기 레벨링제를 첨가한 상기 하드 코트층용 조성물은, 도포 적성이 향상되고, 또한 형성되는 하드 코트층에 내찰상성이라는 효과를 부여할 수 있다.

상기 하드 코트층 형성용 조성물을 광 투과성 기재에 도포하는 방법으로서는, 롤 코트법, 미야바 코트법, 그라비아 코트법, 다이 코트법 등의 도포 방법을 들 수 있다.

상기 하드 코트층 형성용 조성물의 도포 후에, 필요에 따라서 건조와 자외선 경화를 행한다.

상기 자외선원의 구체예로서는, 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크등, 블랙 라이트 형광등, 메탈 할라이드 램프등의 광원을 들 수 있다.

상기 자외선의 파장으로서는, 190 내지 380㎚의 파장 영역을 사용할 수 있다.

상기 전자선원의 구체예로서는, 콕크로프트왈톤형, 반데그라프형, 공진 변압기형, 절연 코어 변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 들 수 있다.

상기 경화형 수지를 경화시킴으로써, 상기 광 투과성 기재 상에 하드 코트층을 적층할 수 있고, 또한 상술한 요철 형성성 미립자를 함유하는 경우, 경화형 수지 중의 요철 형성성 미립자가 고정되어, 하드 코트층의 최표면에 원하는 요철 형상이 형성된다(즉, 광 투과성 기재 상에 방현층이 형성됨).

상기 광학 적층체의 형성 공정에서는, 상기 하드 코트층이 표면에 요철 형상을 갖는 방현층인 경우, 상기 방현층 상에 수지 바인더를 함유하는 표면 조정층 형성용 조성물에 의해 표면 조정층을 형성하는 공정을 갖고 있어도 좋다.

상기 표면 조정층이라 함은, 상기 요철을 갖는 방현층의 요철 형상을 보다 바람직한 형태로 조정하기 위한 층이다. 특히, 방현층에 있어서는, 흑색의 계조가 불량한 것(광이 요철면에서 산란하므로, 흑색이 회색처럼 보이게 되는 것)이 과제로 되어 있어, 표면 조정층을 형성함으로써, 이 과제를 양호하게 개량할 수 있다. 여기서, 흑색의 계조가 향상되어, 흑색이 윤기있는 흑색으로 보이는 물성을 흑색 광택감(glossy black feeling)이라 한다.

상기 표면 조정층 형성용 조성물은 수지 바인더를 함유하는 것이다. 상기 수지 바인더로서는 특별히 한정되지 않지만, 투명성인 것이 바람직하고, 예를 들어 상술한 자외선 또는 전자선에 의해 경화되는 수지인 전리 방사선 경화형 수지를 들 수 있다. 또한, 상기 표면 조정층 형성용 조성물은 상술한 용제나 레벨링제를 함유하는 것이 바람직하다.

상기 표면 조정층은, 전술한 바와 같이 흑색 광택감을 향상시키기 위해 유효하다. 한편, 표면 조정층에 따라서는, 흑색 광택감은 향상되지만, 방현성이 악화되어 버리는 경우도 있다. 따라서, 흑색 광택감을 잃지 않고 방현성을 향상시키는 목적에서, 유동성 조정제를 함유시켜도 좋다. 유동성 조정제로서는 유기 미립자나 무기 미립자가 일반적으로 사용된다. 유동성 조정제로서는, 바람직하게는 콜로이달 실리카, ATO, 지르코니아 초미립자, 초미립자 산화 안티몬 등이 사용되고, 콜로이달 실리카가 특히 바람직하다. 그 바람직한 사이즈는, 1 내지 70㎚ 정도이다. 또한, 본 발명에 있어서「콜로이달 실리카」라 함은, 콜로이드 상태의 실리카 입자를 물 또는 유기 용매에 분산시킨 콜로이드 용액을 의미한다. 상기 콜로이달 실리카의 입자 직경은, 예를 들어 1 내지 70㎚의 초미립자인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서의 콜로이달 실리카의 입자 직경은 BET법에 의한 평균 입자 직경[BET법에 의해 표면적을 측정하고, 입자가 진구(眞球)인 것으로서 환산하여 평균 입자 직경을 산출함]이다.

또한, 표면 조정층은, 상술한 바와 같은 기능 외에, 대전 방지, 굴절률 조 정, 고경도화, 오염 방지성 등을 부여하는 기능을 갖는 것이라도 좋다. 이 경우, 상기 표면 조정층은 필요에 따라서 그 밖의 첨가제(예를 들어 오염 방지제)를 함유하는 표면 조정층 형성용 조성물에 의해 형성할 수 있다. 특히 오염 방지제를 함유하는 경우, 제작하는 광학 적층체의 표면의 오염으로부터의 회복도가 우수하고, 또한 지문 부착 방지성 등의 내오염성이 우수한 것이 되므로, 바람직하다.

상기 표면 조정층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 상기한 유기 미립자 또는 무기 미립자, 수지 바인더(모노머, 올리고머 등의 수지 성분을 포함함), 용제 및 임의의 성분을 혼합하여 얻은 표면 조정층 형성용 조성물을 방현층 상에 도포함으로써 형성할 수 있다.

상기 표면 조정층 형성용 조성물은, 미야바 코트법, 롤 코트법, 그라비아 코트법, 다이 코트법 등의 공지의 도포 방법에 의해 도장할 수 있다. 표면 조정층 형성용 조성물의 도포 후에, 필요에 따라서 건조와 경화를 행한다.

또한, 상기 표면 조정층의 형성 방법으로서는, 상술한 하드 코트층과 같은 방법을 들 수 있다.

또한, 상기 방현층은 단층이라도 좋고 다층이라도 좋지만, 그 요철 형상은 광학 적층체의 최표면 층의 요철의 평균 간격을 Sm으로 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa로 하고, 요철의 십점 평균 거칠기를 Rz로 한 경우에(Sm, θa, Rz의 정의는 JIS B0601 1994에 준거함), Sm이 40㎛ 이상 600㎛ 이하이며, θa가 0.3도 이상 5.0도 이하이며, Rz가 0.3㎛ 이상 4.0㎛ 이하인 것이 바람직하다.

상기 광학 적층체의 형성 공정에서는, 상기 하드 코트층 상에 저굴절률층을 형성하는 공정을 갖고 있어도 좋다.

상기 저굴절률층은, 외부로부터의 광(예를 들어 형광등, 자연광 등)이 광학 적층체의 표면에서 반사될 때, 그 반사율을 낮게 하는 역할을 하는 층이다. 이들 저굴절률층은, 그 굴절률이 1.45 이하, 특히 1.42 이하인 것이 바람직하고, 1.35 이하인 것이 가장 바람직하다.

또한, 저굴절률층의 건조 두께는 한정되지 않지만, 통상은 30㎚ 내지 1㎛ 정도의 범위 내로부터 적절하게 설정하면 된다.

상기 저굴절률층으로서는, 바람직하게는 1) 실리카 또는 불화마그네슘을 함유하는 수지, 2) 저굴절률 수지인 불소계 수지, 3) 실리카 또는 불화 마그네슘을 함유하는 불소계 수지, 4) 실리카 또는 불화 마그네슘의 박막 등의 어느 하나에 의해 구성된다. 상기 불소계 수지 이외의 수지에 대해서는, 상기 하드 코트층 형성용 조성물을 구성하는 수지를 사용할 수 있다.

상기 불소계 수지로서는, 적어도 분자 중에 불소 원자를 포함하는 중합성 화합물 또는 그 중합체를 사용할 수 있다. 상기 중합성 화합물로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 전리 방사선 경화성기, 열경화성 극성기 등의 경화 반응성기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이들 반응성기를 동시에 함께 갖는 화합물이라도 좋다. 이 중합성 화합물에 대해, 상기 중합체라 함은, 상기한 바와 같은 반응성기 등을 전혀 갖지 않는 것이다.

상기 저굴절률층의 형성에 있어서는, 예를 들어 원료 성분을 포함하는 조성물(굴절률층용 조성물)을 사용하여 형성할 수 있다. 보다 구체적으로는, 원료 성 분(수지 등) 및 필요에 따라서 첨가제(예를 들어, 후술하는「공극을 갖는 미립자」, 중합 개시제, 대전 방지제, 방현제, 오염 방지제 등)를 용제에 용해 또는 분산하여 이루어지는 용액 또는 분산액을 저굴절률층용 조성물로서 사용하고, 상기 조성물에 의한 도막을 형성하고, 상기 도막을 경화시킴으로써 저굴절률층을 얻을 수 있다. 또한, 중합 개시제, 대전 방지제, 방현제, 오염 방지제 등의 첨가제는 특별히 한정되지 않고, 공지인 것을 들 수 있다. 특히 오염 방지제를 함유하는 경우, 제작하는 광학 적층체의 표면의 오염으로부터의 회복도가 우수하고, 또한 지문 부착 방지성 등의 내오염성이 우수한 것이 되므로 바람직하다.

상기 저굴절률층에 있어서는, 저굴절률제로서,「공극을 갖는 미립자」를 이용하는 것이 바람직하다. 「공극을 갖는 미립자」는 저굴절률층의 층 강도를 유지하면서, 그 굴절률을 낮출 수 있다. 본 발명에 있어서,「공극을 갖는 미립자」라 함은, 미립자의 내부에 기체가 충전된 구조 및/또는 기체를 포함하는 다공질 구조체를 형성하고, 미립자 본래의 굴절률에 비해 미립자 중의 기체의 점유율에 반비례하여 굴절률이 저하되는 미립자를 의미한다. 또한, 본 발명에 있어서는, 미립자의 형태, 구조, 응집 상태, 피막 내부에서의 미립자의 분산 상태에 의해 내부 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노포라스 구조의 형성이 가능한 미립자도 포함된다. 이 미립자를 사용한 저굴절률층은, 굴절률을 1.30 내지 1.45로 조절하는 것이 가능하다.

공극을 갖는 무기계의 미립자로서는, 예를 들어 일본 특허 출원 공개 제2001-233611호 공보에 기재된 방법에 의해 조제된 실리카 미립자를 들 수 있다. 또한, 일본 특허 출원 공개 평7-133105, 일본 특허 출원 공개 제2002-79616호 공보, 일본 특허 출원 공개 제2006-106714호 공보 등에 기재된 제법에 의해 얻을 수 있는 실리카 미립자이면 된다. 공극을 갖는 실리카 미립자는 제조가 용이하고 그 자체의 경도가 높기 때문에, 바인더와 혼합하여 저굴절률층을 형성하였을 때, 그 층 강도가 향상되고, 또한 굴절률을 1.20 내지 1.45 정도의 범위 내로 조제하는 것을 가능하게 한다. 특히, 공극을 갖는 유기계의 미립자의 구체예로서는, 일본 특허 출원 공개 제2002-80503호 공보에 개시되어 있는 기술을 사용하여 조제한 중공 폴리머 미립자를 바람직하게 예로 들 수 있다.

상기 용제로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 상기 하드 코트층 형성용 조성물로 예시한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 이소프로필알코올(IPA), n-부탄올, t-부탄올, 디에틸케톤, PGME 등이다.

상기 저굴절률층용 조성물의 조제 방법은, 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 되고, 공지의 방법에 따라서 실시하면 된다. 예를 들어, 하드 코트층 형성용 조성물에 있어서 상술한 공지의 장치를 사용하여 혼합할 수 있다.

또한, 도막의 형성 방법은 공지의 방법에 따르면 된다. 예를 들어, 하드 코트층의 형성에서 상술한 각종 방법을 사용할 수 있다.

얻어진 도막의 경화 방법은 조성물의 내용 등에 따라서 적절하게 선택하면 된다. 예를 들어, 자외선 경화형이면, 도막에 자외선을 조사함으로써 경화시키면 된다. 경화 처리를 위해 가열 수단이 이용되는 경우에는, 가열에 의해 예를 들어 라디칼을 발생하여 중합성 화합물의 중합을 개시시키는 열 중합 개시제가 첨가되는 것이 바람직하다.

또한, 상기 광학 적층체의 형성 공정에서는, 오염 방지층이나 대전 방지층을 형성하는 공정을 갖고 있어도 좋다. 이들 오염 방지층이나 대전 방지층을 형성하는 방법으로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 방법과 같은 방법을 사용할 수 있다.

(검사 공정)

이상과 같이 하여 얻어진 광학 적층체에 예시되는 광학 필름에 대해 이하의 검사 공정을 행한다. 즉, 광학 필름의 표면이 인위적으로 오염된 후에, 광학 필름에 대해 광을 조사하고, 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 이 광학 필름의 오염 정도를 평가한다. 이와 같은 평가는, 광학 필름의 제조 라인에 있어서 자동으로 행해도 좋고, 제조 직후의 광학 필름을 소정의 빈도로 제조 라인으로부터 채취하여, 이 채취된 광학 필름(시험체)을 별도 평가해도 좋다. 광학 필름의 표면의 평가를, 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델에 의해 행하는 것이 바람직한 취지 등의 평가 방법의 상세에 대해서는, 상기 오염성 평가 방법 및 오염성 평가 장치에 있어서 설명한 원리ㆍ방법ㆍ장치 등을 이용할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다. 또한, 상기 검사 공정에 있어서는, 광학 필름의 인위적인 오염을 행하지 않고, 광학 필름을 얻은 직후의 표면 상태를 평가해도 좋다. 이와 같은 평가를 행함으로써, 얻어진 광학 필름의 표면 상태(오염 정도)를 평가할 수 있으므로, 만일 불순물이나 오염물이 제조 라인에 혼입된 경우에 있어서도, 이들 불순물이나 오염물에 의한 문제의 발생을 용이하게 검지할 수 있게 된다.

상기 검사 공정은, 광학 필름의 표면 상태의 평가가 인위적으로 오염된 후에 행해지는 오염 정도의 평가로 된다. 이에 의해, 광학 필름의 오염 방지 성능의 품질 확인을 행할 수 있다. 특히, 제조 직후의 광학 필름을 소정의 빈도로 제조 라인으로부터 채취하고, 이 채취된 광학 필름(시험체)을 별도 평가하는 경우에, 상기 평가를 행하는 것이 바람직하다. 상기 인위적인 오염이 지문 부착에 의한 오염인 것이 바람직한 취지 등의 평가 방법의 상세에 대해서는, 상기 오염성 평가 방법 및 오염성 평가 장치에 있어서 설명한 원리ㆍ방법ㆍ장치 등을 이용할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.

상기 검사 공정에 있어서는, 광학 필름의 표면의 오염 정도를 평가한 후, 이 광학 필름의 표면을 세정하여, 광학 필름의 오염 정도를 다시 평가함으로써, 상기 표면의 오염으로부터의 회복 정도를 평가해도 좋다. 이와 같은 새로운 응용적인 평가에 의해, 광학 필름의 청정도의 회복 성능의 품질 확인을 행할 수 있다. 특히, 제조 직후의 광학 필름을 소정의 빈도로 제조 라인으로부터 채취하여, 이 채취된 광학 필름(시험체)을 별도 평가하는 경우에, 상기의 더욱 응용적인 평가를 행하는 것이 바람직하다. 평가 방법의 상세에 대해서는, 상기 오염성 평가 방법 및 오염성 평가 장치에 있어서 설명한 원리ㆍ방법ㆍ장치 등을 이용할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.

또한, 이상 서술한 검사 공정은, 상기 예시한 바와 같이 광학 부재를 얻는 공정 자체가 완전히 완료된 후에 실시할 수도 있지만, 광학 부재를 얻는 공정 중의 적절한 단계에서(제조 공정 도중의 반제품이라도 오염성의 평가를 행할 필요성이나 의의가 생긴 이후이면) 실시할 수도 있다. 또한, 광학 부재를 얻는 공정 자체의 완료 후에 검사 공정을 실시하는 경우도, 2개의 공정간의 시간 간격은 임의로(1초 후, 1일 후, 1개월 후 등), 적절하게 설정하면 좋다.

[광학 적층체]

본 발명의 광학 적층체는, 표면이 인위적으로 오염된 후의 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 ΔE*ab와, 그 후 세정 처리를 실시한 후의 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 ΔE*ab의 차(오염으로부터의 회복도)가 1.5 이하이다.

상기 오염으로부터의 회복도가 1.5를 초과하면, 세정 처리에 의해 오염을 제거할 수 있었던 경우라도, 미오염 부분과의 색차가 커져 실용적인 디스플레이 제품을 얻을 수 없다. 상기 오염으로부터의 회복도는 1.3 이하인 것이 바람직하고, 1.0 이하인 것이 보다 바람직하다.

여기서, 상기「오염으로부터의 회복도」에 대해서는, 상술한 본 발명의 오염성 평가 방법이나, 본 발명의 광학 부품의 제조 방법의 검사 공정에 있어서 설명한 원리ㆍ방법ㆍ장치 등을 이용할 수 있으므로, 여기서는 그 설명은 생략한다.

표면이 인위적으로 오염된 후의 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 ΔE*ab에 의해 나타내어지는 내오염성(지문 부착 방지성)이 3.5 이하인 광학 적층체도 또한 본 발명의 하나이다.

상기 내오염성이 3.5를 초과하면, 본 발명의 광학 적층체를 통과해 문자 등의 표시물을 본 경우에, 표시물이 비뚤어져 보여, 실용적인 디스플레이 제품을 얻을 수 없다. 상기 내오염성은, 2.5 이하인 것이 바람직하고, 1.5 이하인 것이 보 다 바람직하고, 1.0 이하인 것이 가장 바람직하다.

여기서, 상기「내오염성」에 대해서는, 상술한 본 발명의 오염성 평가 방법이나, 본 발명의 항학 부품의 제조 방법의 검사 공정에 있어서 설명한 원리ㆍ방법ㆍ장치 등을 이용할 수 있으므로, 여기서는 그 설명은 생략한다.

이와 같은 오염으로부터의 회복도나, 내오염성(지문 부착 방지성)을 갖는 본 발명의 광학 적층체로서는, 예를 들어 상술한 반사 방지 성능이 우수하고, 광 투과성 기재 상에 적어도 하드 코트층이 적층된 구조의 광학 적층체를 들 수 있다. 또한, 예를 들어 광 투과성 기재/하드 코트층(고굴절률층을 겸해도 좋음)/고굴절률층(또는 중굴절률층)/저굴절률층, 광 투과성 기재/하드 코트층(고굴절률층을 겸해도 좋음)/저굴절률층 등의 층 구성을 갖는 반사 방지 성능이 우수한 반사 방지 적층체(Anti Reflection 제품)나, 최표면에 요철 형상을 갖는 광 투과성 기재/방현층(하드 코트 기능을 가짐)의 층 구성을 갖는 방현성 광학 적층체(Anti Glare 제품) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 방현층은 단층이라도 좋고, 다층이라도 좋다. 또한, 상기 방현층 상에 저굴절률층을 적층해도 좋다. 또한, 상기 반사 방지 적층체, 방현성 광학 적층체의 각 층에, 또는 층 사이에 대전 방지성 등 다양한 기능성을 갖게 해도 좋다.

여기서, 본 발명의 광학 적층체는, 반사 방지 적층체(Anti Reflection 제품)인 경우와, 방현성 광학 적층체(Anti Glare 제품)인 경우에는, 다른 표면을 갖게 된다. 그러나, 어떠한 구성을 갖는 것이라도, 본 발명의 광학 적층체는, 상술한 오염으로부터의 회복도나, 내오염성(지문 부착 방지성)을 갖는 것이다.

또한, 본 발명의 광학 적층체는, 상술한 오염으로부터의 회복도와 내오염성(지문 부착 방지성)을 양립하는 것이라도 좋다.

본 발명의 광학 적층체는, 예를 들어 음극 선관 표시 장치(CRT), 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 엘렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD) 등 종래 공지의 디스플레이 제품에 장착할 수 있다.

이와 같은 본 발명의 광학 적층체를 구비하는 디스플레이 제품도 또한 본 발명의 하나이다.

본 발명의 디스플레이 제품은, 상술한 본 발명의 광학 적층체를 구비하기 위해, 표면의 내오염성이 우수하고, 또한, 오염된 경우라도 회복성이 우수한 것으로 할 수 있다.

다음에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 실시예의 기재에 한정되는 것은 아니다.

(광학 적층체 및 시험체의 조제)

우선, 하기 재료를 충분히 혼합하여, 고형분 40.5%의 조성물로서 조제하였다. 이 조성물을 구멍 직경 30㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여 방현층 형성용 조성물을 조제하였다.

자외선 경화형 수지 ;

펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51)

2.20질량부

이소시아눌산 변성 디아크릴레이트 M215(니혼 가야꾸 가부시끼가이샤제, 굴 절률 1.51)

1.21질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 0.34질량부

광 경화 개시제 ;

이가큐어 184(치바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤제)

0.22질량부

이가큐어 907(치바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤제)

0.04질량부

투광성 제1 미립자 ;

단분산 아크릴 비즈(입자 직경 9.5㎛, 굴절률 1.535)

0.68질량부

투광성 제2 미립자 ;

부정형 실리카 잉크(평균 입자 직경 1.5㎛, 고형분 60%, 실리카 성분은 전체 고형분의 15%) 0.64질량부

레벨링제 ;

실리콘계 레벨링제

0.02질량부

용제 ;

톨루엔 5.88질량부

시클로헥사논 1.55질량부

다음에, 하기 재료를 충분히 혼합하여 조성물로서 조정하였다. 이 조성물을 구멍 직경 10㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여 고형분 40.5%의 표면 조정층용 조성물을 조제하였다.

다관능 우레탄아크릴레이트 UV1700B(니혼 고오세이 가가꾸 고오교오 가부시끼가이샤제 굴절률 1.51)

31.1질량부

아로닉스 M315(상품명, 도오아 고오세이 가부시끼가이샤제 이소시아눌산의 에틸렌옥사이드 3몰 부가물의 트리아크릴레이트) 10.4질량부

광 경화 개시제 ;

이가큐어 184(치바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤제)

1.49질량부

이가큐어 907(치바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤제)

0.41질량부

오염 방지제 ;

UT-3971(니혼 고오세이 가가꾸 고오교오 가부시끼가이샤제)

(고형분의 5% 첨가) 2.07질량부

용제 ;

톨루엔 525.18질량부

시클로헥사논 60.28질량부

두께 100㎛의 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도오요오 보오세끼사 제, 상품명「A4300」)을 투명 기재로서 사용하고, 방현층 형성용 조성물을 필름 상에 코팅용 권선 로드(미야바) #8을 사용하여 도포하고, 70℃의 오븐 내에서 1분간 가열 건조하고, 용제분을 증발시킨 후, 자외선을 조사선량이 30mJ이 되도록 조사하여 도막을 경화시켜 방현층을 형성하였다. 형성된 방현층의 요철 형상은 Sm : 78㎛, Rz : 3.354㎛, θa : 4.8°였다.

또한 방현층 상에, 표면 조정층용 조성물을 코팅용 권선 로드(미야바) #10을 사용하여 도포하고, 70℃의 오븐 내에서 1분간 가열 건조하고, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지 하(산소 농도 200ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100mJ가 되도록 조사하여 도막을 경화시키고, 표면 조정층을 적층하여 광학 적층체를 얻었다(기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 12.5㎛). 이 방현성 광학 적층체의 요철 형상은 Sm : 145㎛, Rz : 0.51㎛, θa : 0.38°였다.

이상과 같이 하여 얻어진 필름 형상의 광학 적층체로부터, 오염성 평가용 시험체로서, 10㎝×10㎝의 크기의 필름을 절취하였다. n수는 3으로 하였다.

(제1 실시예)

[시험체의 오염(지문 부착)]

트리올레인 미립자를 함유하는 유사 지문액(인공 지문액)을 500g 하중이 가해지는 압자(접촉면은 직경 12㎜φ의 원, 사람의 손가락을 상정한 직경)에 의해 시험체 상에 압박하여, 인공 지문액을 시험체 표면에 부착시켰다. 이 부착 방법에 의해, 지문을 정량적으로 시험체에 부착시키는 것이 가능하며, 본 실험은 상기한 부착 조건에서, 1㎟당, 0.04㎎의 인공 지문을 부착시켰다.

(오염성 평가의 시험)

지문 부착 처리 전의 시험체(레퍼런스)와, 지문 부착의 처리를 행한 시험체를 각각 주름, 느슨해짐이 없도록, 롤러에 의해 점착 시트가 부착된 흑색 아크릴판에 광학 필름용 아크릴계 점착제(히타치 가세이 고오교오사제, DA-1000)를 사용하여 각각 부착하였다. 그리고, 니혼 분꼬오 가부시끼가이샤제 150㎜φ 적분구 유닛을 탑재한 동사(同社)제 분광 광도계 V-650(측정 파장 범위 190㎚ 내지 900㎚)에 의해, 각 평가 샘플의 분광 확산 반사율을 측정하였다. 구체적으로는, 확산 반사광의 색도 x, y값, 및 휘도 Y값을 구하고, 이 데이터를 a*b*L*값으로 변환하여 레퍼런스의 시험체와 지문 부착 처리를 행한 시험체의 색차(ΔE*ab)를 구함으로써, 지문의 부착 정도를 수치화, 정량화하였다. 또한, 이 색차가 작을수록 오염 물질(이 경우에는 지문) 방부착성이 높다고 할 수 있다. 본 발명의 x, y, Y값, a*b*L*값, 색차 ΔE*ab의 정의는 국제 조명 위원회(CIE)의 규정에 준거하였다.

상술한 방법에 의해 제작한 지문 부착 처리 시험체의, 분광 확산 반사율을 상술한 분광 광도계에 의해 측정하고, 확산 반사광의 색도 및 휘도 x, y, Y값을 구하고, 이 데이터를 a*b*L*값으로 변환하여, 레퍼런스의 시험체와의 색차(ΔE*ab)를 구하는 작업을, 합계 3회 반복하여 행하였다. 또한, 분광 확산 반사율 측정시에는, 상기 기재의 압자의 원 내에 측정 스폿(측정 범위는 0.8㎜φ의 원)이 위치하도록 지그로 위치 맞춤을 행하여 측정 정밀도를 확보하였다. 그 결과, 3회의 색차 측정 결과는 ΔE*ab=3.36±0.03의 범위 내가 되었다. 이 결과로부터, 시험체의 오염(지문 부착)성을 편차 없이, 또한 재현성 좋게 정량 평가할 수 있는 것을 알 수 있었다. 또한, ΔE*ab의 3회의 실제 측정 결과를 하기에 나타낸다.

(ΔE*ab의 결과)

1회째 측정치 3.33

2회째 측정치 3.39

3회째 측정치 3.36

다음에, 하기의 방법에 의해, 각 시험체 상에 부착된 오염 물질(인공 지문액)의 세정을 행한 후에, 각 시험체의 오염 정도를 다시 평가함으로써, 각 시험체의 오염으로부터의 회복 정도를 평가하였다.

(오염 물질의 세정 처리)

헤이든사제 마모 시험기 TYPE F의 압자 부위에 닦아냄 아이템[킴와이프(등록상표)]을 권취하고, 부착성을 평가한 샘플에 대해, 500g 가중, 10㎝ 폭×20 왕복시킴으로써 오염 물질을 닦아내고, 각 시험체에 세정 처리를 실시하였다.

(각 시험체의 오염으로부터의 회복 정도의 평가)

상기 세정 후, 상기한 오염성 평가의 시험과 마찬가지로 하여 분광 광도계에 의해 분광 확산 반사율, 색차를 구하는 작업을, 같은 방법에 의해 조제한 세정 처리 시험체에 대해, 합계 3회 반복하여 행하였다. 그 결과, 세정 처리를 실시한 각 시험체의 표면에 있어서의 색차는, 모두 ΔE*ab=0.66±0.05의 범위에서, 세정에 의한 회복 정도를 재현 좋게 정량 평가할 수 있는 것을 알 수 있었다. ΔE*ab의 3회의 실제 측정 결과를 하기에 나타낸다.

(ΔE*ab의 결과)

1회째 측정치 0.71

2회째 측정치 0.61

3회째 측정치 0.66

또한, ΔEa*b*에 착안하여, {세정 처리 전의 수치(평균값)-세정 처리 후의 수치(평균값)}을 분자로, 세정 처리 전의 수치(평균값)를 분모로 하고, 또한 100배로 함으로써, 세정에 의한 청정도 회복률을 구한 결과, 80.36%인 것을 알 수 있었다. 또한, 통상, 평가 결과의 수치의 편차가 큰 경우에는, 극단적으로 큰 값 내지 작은 값에 의한 통계값에의 영향을 경감시키기 위해 중앙값을 이용하지만, 본 발명에 의한 평가 방법은 수치의 편차가 작으므로, 평균값을 사용함으로써 유의한 청정도 회복도율을 얻을 수 있다.

(제1 비교예)

(1) 오염도의 시각 평가(오염 처리 후)

상술한 방법으로 제작한 3매의 시험체를 준비하고, 제1 실시예의「[시험체의 오염(지문 부착)]」과 마찬가지로 하여, 이 시험체에 인위적인 오염 처리를 실시하였다. 이 시험체의 오염 정도를 미리 준비한 평가 지표 견본과 비교해 봄으로써 사람의 눈(시각)에 의해 평가하였다.

시각에 의한 평가는 이하와 같이 행하였다. 우선, 미리 지문의 부착(오염) 정도를 5단계로 바꾼 평가 지표 견본을 준비하였다. 또한, 평가 지표 견본은 평가 지표 견본의 베이스가 되는 광학 적층체로서, 실시예에 기재된 방현층을 제작하고, 이 방현층 상에, 이하와 같이 5단계로 오염물을 부착시켜 제작하였다. 그리고, 이 평가 지표 견본과, 상기 오염 처리를 실시한 시험체를 나열하여, 동일 조도 1000lux의 조명광 하에서 시각 관찰을 행하였다. 평가는 5단계의 평가 견본을 기초로, 가장 가깝게 보이는 단계를 가지고 평가값으로 함으로써 행하였다. 여기서, 오염이 가장 심한 경우가「레벨 1」, 지문의 미부착면과 동등한 청정도를 갖는 경우(지문 미부착의 경우)가「레벨 5」가 되도록 하였다. 또한, 평가는 다른 관찰자 5명에 의해 실시하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.

(레벨 1 내지 레벨 5의 평가 지표 견본 제작 방법)

제1 실시예의「[시험체의 오염(지문 부착)]」과 같은 방법으로, 500g 하중이 가해지는 압자로 오염 방지층에 압박하고, 방현층에 1㎟당 0.04㎎의 지문 오염물을 부착시켰다. 단, 사용한 유사 지문액의 농도를 이하와 같이 바꾸어, 5단계의 평가 지표 견본을 제작하였다.

레벨 1 레벨 4의 4배 농도의 유사 지문액

레벨 2 레벨 4의 3배 농도의 유사 지문액

레벨 3 레벨 4의 2배 농도의 유사 지문액

레벨 4 기본 농도의 유사 지문액

레벨 5 유사 지문액을 부착시키지 않았음

(2) 오염 회복도의 시각 평가(세정 처리 후)

다음에, 제1 실시예의「(오염 물질의 세정 처리)」와 마찬가지로 하여, 상기 3매의 시험체에 세정 처리를 실시하였다. 그리고, 세정 처리 후에, 상기 (1)의 5단계의 평가 지표 견본을 사용한 시각 관찰과 같은 방법으로, 시험체의 오염으로부 터의 회복 정도를 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.

이상의 결과로부터, 조명은 같아도, 오염 정도의 감지 방법은 사람에 따라 다르고, 특히 세정 처리 후에는 평가 레벨에 큰 편차가 생기는 것을 알 수 있다. 사람의 눈에만 의한 평가는, 평가 방법으로서는 신뢰성, 재현성에 문제가 있다고 할 수 있다. 특히, 디스플레이는 사람의 눈에 의한 평가도 중요한 제품이지만, 관능 평가만으로는 재현성을 얻을 수 없다.

한편, 본 발명과 같이 오염성, 오염 회복성을 정량화하고, 이 수치와 관능 평가를 조합함으로써, 생산 효율을 크게 향상시킬 수 있다고 생각된다.

(제2 실시예)

하기 조성물과 제조 방법으로 4종류의 요철 형상을 갖지 않는 평탄한 표면을 갖는 AR 시험체(4 내지 7)를 제작하였다. 여기서는, 디스플레이 표면에 바람직한 오염성 회복도가 어느 정도의 ΔE*ab인지를 평가하였다. 오염 회복도를 비교하기 위해, 시험체(4 내지 7)는 시험체 자체의 오염 방지성을 4단계로 변화시킨 것으로 하였다. 엄격하게 평가하기 위해, 각 시험체로서는, 요철 표면을 갖지 않는 평탄한 면을 갖는 AR 적층체를 사용하였다(요철 형상이 있는 표면은, 표면이 외광을 산란시키므로, 오염 정도를 판단하기 어려워지기 때문임). n수는 3으로 하였다.

(시험체 4의 제조)

하드 코트용 조성물

ㆍ우레탄아크릴레이트(UV1700B ; 니혼 고오세이사제) 5중량부

ㆍ폴리에스테르아크릴레이트(M9050 ; 도오아 고오세이사제) 5중량부

ㆍ중합 개시제(이가큐어 184 ; 치바 스페셜티 케미컬즈사제)

0.4중량부

ㆍ메틸에틸케톤 10중량부

저굴절률층용 조성물

ㆍ처리 실리카졸 함유 용액(실리카졸 고형분 20중량%「공극을 갖는 미립자, 용액 ; 메틸이소부틸케톤」) 14.3중량부

ㆍ펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95중량부

ㆍ중합 개시제(이가큐어 127 ; 치바 스페셜티 케미컬즈사제)

0.1중량부

ㆍ오염 방지제(불소계, 메가팩 RS : 다이니뽄 잉크사제, 고형분)

0.07중량부

ㆍ메틸이소부틸케톤 54.0중량부

ㆍ프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 29.5중량부

이 조성물 중의 오염 방지제는 고형분에 대해 1.5%이다.

제조 방법

트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름(후지 샤싱 필름제, TF80UL, 두께 80㎛)을 준비하고, 이 필름의 표면에 하드 코트 조성물을 습윤 중량 20g/㎡(건조 중량 10g/㎡) 도포(바아 코팅)하고, 계속해서 50℃로 건조함으로써 용제를 제거하였다. 그 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬 가부시끼가이샤)를 사용하여, 조사선량 50mJ/㎠로 자외선 조사를 행함으로써, 조성물을 경화시켜 10㎛의 하드 코트층을 형성시켰다.

다음에, 하드 코트층의 표면에 저굴절률층용 조성물을 건조 중량 0.1g/㎡ 도포(바아 코팅)하고, 계속해서 40℃로 건조함으로써 용제를 제거하였다. 그 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬 가부시끼가이샤)를 사용하여, 조사선량 200mJ/㎠로 자외선 조사를 행하여 광학 적층체(시험체 4)를 제조하였다. 막 두께는, 반사율 극소값이 파장 550㎚ 부근(막 두께 0.10㎛)이 되도록 형성시켰다.

(시험체 5의 제조)

저굴절률층용 조성물의 오염 방지제량을 고형분에 대해 1.0%로 한 이외는, 시험체 4와 마찬가지로 하여 시험체 5를 제조하였다.

(시험체 6의 제조)

저굴절률 조성물의 오염 방지제량을 고형분에 대해 0.3%로 한 이외는, 시험체 4와 마찬가지로 하여 시험체 6을 제조하였다.

(시험체 7의 제조)

저굴절률 조성물의 오염 방지제를 첨가하지 않은 이외는, 시험체 4와 마찬가지로 하여 시험체 7을 제조하였다.

(오염으로부터의 회복도의 평가)

ΔE*ab에 의한 오염으로부터의 회복도의 정량

한번 오염된 것이, 같은 세정 방법으로 어느 레벨까지 회복하는지를 평가하였다.

각 시험체 4 내지 시험체 7에, 제1 실시예의 「[시험체의 오염(지문 부착)]」과 마찬가지로 하여, 유사 지문액을 부착시켜, 제1 실시예의「(오염성 평가의 시험)」과 마찬가지로 분광 확산 반사율을 측정하였다. 계속해서, 제1 실시예의「(오염 물질의 세정 처리)」와 같은 방법으로 오염 물질의 세정 처리를 실시하고, 그 분광 확산 반사율을 측정하고, 상기 지문액 부착 적층체와의 사이의 색차 ΔE*ab를 구하였다. 측정에 있어서는, 제1 실시예와 마찬가지로 실시하여, 측정 정밀도를 확보하였다. 각 시험체 모두 3매씩 같은 측정을 실시하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타냈다.

세정 후의 실용성 평가

오염 물질 세정 후의 각 시험체 4 내지 시험체 7을, 조도 1000lux 하, 각 시험체를 수평한 받침대에 설치하고, 그 30㎝ 상부, 시험체로부터 45도의 방향으로부터 시각으로 관찰하여, 남은 오염의 레벨을 이하의 기준을 기초로 하여 판단하였다. 또한, 반사 방지막으로 되어 있으므로, 흑판에 부착한 상태에서 관찰하면, 오염이 남아 있으면 미오염 부분과 비교하여, 간섭색이 다르기 때문에 판단을 용이하게 할 수 있다.

(평가 기준)

○ : 오염물이 닦여져 있는 동시에, 미오염 부분과의 색의 차이가 작음(실용성 있음).

× : 오염물이 닦여져 있지만, 미오염 부분과 명백하게 색이 다름(실용성 없음).

(표면에 요철 형상을 갖는 광학 적층체 및 시험체의 제작)

(방현층 형성용 조성물의 조성)

자외선 경화형 수지 ;

펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51)

100질량부

셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(분자량 50000)

1.25질량부

광 경화 개시제 ;

이가큐어 184(치바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤제)

5질량부

이가큐어 907(치바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤제)

1질량부

투광성 미립자 ;

단분산 아크릴-스티렌 비즈(입자 직경 3.5㎛, 굴절률 1.54)

8.1질량부

불소계 메가팩 RS(다이니뽄 잉크사제) 1.73질량부

(고형분의 1.5%)

용제 ;

톨루엔 134질량부

메틸이소부틸케톤 34질량부

(시험체 8의 제조)

트리아세테이트 셀룰로오스(TAC) 필름(후지 샤싱 필름제, TF80UL, 두께 80㎛)을 준비하고, 이 필름의 표면에 방현층 형성용 조성물(건조 중량 8g/㎡)을 도포(바아 코팅)하고, 계속해서 70℃로 건조함으로써 용제를 제거하였다. 그 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬 가부시끼가이샤)를 사용하여, 조사선량 100mJ/㎠로 자외선 조사를 행함으로써, 조성물을 경화시켜, 방현성 적층체(시험체 8)를 제작하였다. 이 요철 형상은 Sm : 108㎛, Rz : 0.61㎛, θa : 0.51°였다.

조성물 중의 오염 방지제 첨가량을 이하와 같이 변경한 이외는, 시험체 8과 마찬가지로 하여 표면에 요철 형상을 갖는 시험체 9, 시험체 10을 얻었다.

시험체 9 : 오염 방지제 첨가량을 고형분의 1.0%로 하였다.

시험체 10 : 오염 방지제 첨가량을 고형분의 0.3%로 하였다.

얻어진 시험체 8 내지 시험체 10에 대해, 시험체 4 내지 시험체 7과 마찬가지로, 디스플레이 표면에 바람직한 오염으로부터의 회복도가 어느 정도의 ΔE*ab인지를 평가하였다. 얻어진 결과를 표 3에 나타냈다. 또한, 시험체 8 내지 시험체 10은 오염으로부터의 회복도를 비교하기 위해, 시험체 자체의 오염 방지성을 3단계로 변화시킨 것이다.

시험체 8 내지 시험체 10과 같은 요철을 갖는 다른 시험체로서, 제1 실시예에서 조제한 방현층 형성용 조성물의 레벨링제를, 불소계 오염 방지제(메가팩 RS, 다이니뽄 잉크사제)로 변경하고, 표면 조정층을 적층하지 않는 방현층이나, 사용하는 미립자를 몇 종류의 평균 입자 직경을 갖는 부정형 실리카, 입경 2 내지 5㎛의 멜라민 비즈, 폴리스티렌 비즈로 한 방현층 시험체 제조하고, 시험체 8 내지 시험체 10과 같은 시험을 해 본 결과, ΔE*ab가 1.5 내지 1.3 이하이면, 실용성이 높은 오염으로부터의 회복도를 갖는 것을 확인하였다.

본 발명의 오염으로부터의 회복도 평가 방법을 사용함으로써, 디스플레이 최표면 등, 오염으로부터의 회복(지문 부착하고, 닦아내기 쉬운 것)이 필요해지는 물품이 바람직한 레벨을 갖는지 여부를 확인할 수 있다. 본 발명에 따르면, ΔE*ab가 1.5 이하이면, 회복성을 갖는 표면이라고 할 수 있다. 또한, 디스플레이용 표면에는 1.5 이하인 것이 바람직하고, 또한 1.3 이하인 것이 바람직하고, 가장 바람직한 것은 1.0 이하이다.

(제3 실시예)

오염 방지제로서, 불소계 오염 방지제「옵툴 DAC(다이킨 고오교오제)」를 사용한 이외는, 제2 실시예의 시험체 4 내지 시험체 7과 마찬가지로 5종류의 평면인 표면의 AR 시험체(11 내지 15)를 제작하였다. 여기서는, 어느 정도의 내오염성(지문 부착 방지성, ΔE*ab로 평가)을 가지면, 디스플레이용 표면에 바람직한지를 측정하였다. 단, 오염 방지제의 첨가량은 이하와 같다.

시험체 11 : 오염 방지제 첨가량을 고형분에 대해 1.3%로 하였다.

시험체 12 : 오염 방지제 첨가량을 고형분에 대해 0.7%로 하였다.

시험체 13 : 오염 방지제 첨가량을 고형분에 대해 0.3%로 하였다.

시험체 14 : 오염 방지제 첨가를 첨가하지 않았다.

시험체 15 : 저굴절률 조성물에 오염 방지제를 첨가하지 않은 것 이외에는, 시험체 11과 마찬가지로 광학 적층체를 제작하여, 저굴절률층 상에, 노벡 EGC-1720(3M사제, 고형분 0.1%, 하이드로플루오로에테르 희석)을 막 두께 약 10㎚로 도포하고, 계속해서 110℃×1분으로 용제를 건조, 및 도막을 경화시켜 오염 방지층을 적층하였다. 또한, 오염 방지층의 막 두께는, 도포 전과 후에, 백색 간섭식 정밀 현미경(Zygo New View 6000 시리즈, Zygo사제)으로 관찰하여 확인하였다.

(내오염성 평가)

ΔE*ab에 의한 지문 부착 방지성의 정량

각 시험체 11 내지 시험체 15에, 제1 실시예의「[시험체의 오염(지문 부착)]」과 마찬가지로 하여, 유사 지문액을 부착시키고, 시험체의 레퍼런스와, 지문액을 부착시킨 시험체 모두, 제1 실시예의「(오염성 평가의 시험)」과 마찬가지로 분광 확산 반사율을 측정하고, 색차 ΔE*ab를 측정하였다. 측정에 있어서는, 제1 실시예와 마찬가지로 실시하여, 측정 정밀도를 확보하였다. 각 시험체 모두 3매씩 같은 측정을 실시하였다. 얻어진 결과를 표 4에 나타냈다.

오염에 의한 실용성 평가

다음에, 각 시험체 11 내지 시험체 15를, 1280×1024픽셀의 디스플레이 모니터에 광학 필름용 아크릴계 점착제를 사용하여 부착하고, 지문 부착 부분 하에, MS 명조체, 12포인트의 크기로 일본어 "あ" 문자를 표시하고, 오염 정도에 따라서 판독하기 용이함을 디스플레이로부터 약 30㎝ 이격된 곳으로부터 육안으로 이하의 기준을 기초로 하여 판단하였다. 이 판단은 조도 1000lux 하에서 실시하였다.

(평가 기준)

○ : 문자가 거의 비뚤어져 보이지 않음. 제품으로서 사용할 수 있는 레벨.

× : 문자가 비뚤어져 보임. 제품으로서 사용할 수 없는 레벨.

(표면에 요철 형상을 갖는 광학 적층체 및 시험체의 제작)

오염 방지제를, 불소계 오염 방지제 「옵툴 DAC」(다이킨 고오교오제)로 변경하고, 그 첨가량을 하기와 같이 한 이외는, 제2 실시예의 시험체 8 내지 시험체 10과 마찬가지로 표면에 요철 형상을 갖는 3종류의 적층체를 제조하였다. 그 후 제1 실시예와 마찬가지로 하여 시험체 16 내지 시험체 18을 얻었다.

얻어진 시험체 16 내지 시험체 18에 대해, 시험체 11 내지 시험체 15와 마찬가지로, 디스플레이 표면에 바람직한 내오염성(지문 부착 방지성)이 어느 정도의 ΔE*ab인지를 평가하였다. 얻어진 결과를 표 5에 나타냈다. 또한, 시험체 16 내지 시험체 18은, 지문 부착 방지성을 비교하기 위해, 시험체 자체의 오염 방지성을 3단계로 변화시킨 것이다.

시험체 16 : 오염 방지제 첨가량을 고형분의 1.3%로 하였다.

시험체 17 : 오염 방지제 첨가량을 고형분의 0.7%로 하였다.

시험체 18 : 오염 방지제 첨가량을 고형분의 0.1%로 하였다.

또한, 시험체 16 내지 시험체 18과 같은 요철을 갖는 다른 시험체로서, 제1 실시예에서 조제한 방현층 형성용 조성물의 레벨링제를, 불소계 오염 방지제(옵툴 DAC, 다이킨 고오교오제)로 변경하고, 표면 조정층을 적층하지 않은 방현층이나, 사용하는 미립자를 몇 종류의 평균 입자 직경을 갖는 부정형 실리카, 입경 2 내지 5㎛의 멜라민 비즈, 폴리스티렌 비즈로 한 방현층 시험체 제조하여, 시험체 16 내지 시험체 18과 같은 시험을 해 본 결과, ΔE*ab가 대략 3.5 이하이면, 실용성이 높은 내오염성(지문 부착 방지성)을 갖는 것을 확인하였다.

본 발명의 지문 부착 방지 평가 방법을 사용함으로써, 디스플레이 최표면 등, 내오염성(지문 부착 방지성)이 필요해지는 물품이 바람직한 내오염성을 갖는지 여부를 간단하게 확인할 수 있다. 본 발명에 따르면, ΔE*ab가 3.5 이하이면, 내오염성(지문 부착 방지성)을 갖는 표면이라고 할 수 있고, 또한 2.5 이하이면, 더욱 우수한 내오염성(지문 부착 방지성)을 갖는 표면이라고 할 수 있다. 디스플레이용 표면에는 ΔE*ab가 3.5 이하인 것이 바람직하고, 또한 1.5 이하인 것이 바람직하고, 가장 바람직한 것은, 1.0 이하이다.

본 발명의 오염성 평가 방법, 오염성 평가 장치, 제조 방법, 및 내오염성(지문 부착 방지성), 오염으로부터의 회복도를 갖는 광학 적층체는 디스플레이용 반사 방지 필름, 터치 패널용 반사 방지 필름 등의 광학 필름이나, CD, DVD 등의 광학 디스크 등의 각 분야에 바람직하게 사용할 수 있다.

Claims

시험체에 광을 조사하고, 상기 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 상기 시험체의 표면의 오염 정도를 평가하는 것을 특징으로 하는, 오염성 평가 방법.
제1항에 있어서, 상기 시험체의 표면이 인위적으로 오염되어 있는 것을 특징으로 하는, 오염성 평가 방법.
제2항에 있어서, 상기 인위적인 오염이 지문 부착에 의한 오염인 것을 특징으로 하는, 오염성 평가 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시험체의 표면의 오염 정도를 평가한 후, 상기 시험체의 표면을 세정하여 상기 시험체의 오염 정도를 다시 평가함으로써, 상기 표면의 오염으로부터의 회복 정도를 평가하는 것을 특징으로 하는, 오염성 평가 방법.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시험체의 표면의 오염 정도의 평가를 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델에 의해 행하는 것을 특징으로 하는, 오염성 평가 방법.
시험체의 설치대와, 상기 설치대에 설치된 시험체에 광을 조사하는 광원과, 상기 시험체에서 반사 또는 투과된 산란광을 집광하는 적분구와, 집광한 산란광을 검출하여 상기 시험체의 표면의 오염 정도를 평가하는 산란광 검출기를 갖는 것을 특징으로 하는, 오염성 평가 장치.
광학 부재를 얻는 공정과, 상기 광학 부재의 표면이 인위적으로 오염된 후에, 상기 광학 부재에 광을 조사하여, 상기 광학 부재에서 반사 또는 투과된 산란광을 검출하여 상기 광학 부재의 오염 정도를 평가하는 검사 공정을 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 부재의 제조 방법.
제7항에 있어서, 상기 인위적인 오염이 지문 부착에 의한 오염인 것을 특징으로 하는, 광학 부재의 제조 방법.
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 검사 공정에 있어서, 상기 광학 부재의 표면의 오염 정도를 평가한 후, 상기 광학 부재의 표면을 세정하여 상기 광학 부재의 오염 정도를 다시 평가함으로써, 상기 표면의 오염으로부터의 회복 정도를 평가하는 것을 특징으로 하는, 광학 부재의 제조 방법.
제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 부재의 표면의 오염 정도의 평가를 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 L*a*b* 컬러 모델에 의해 행하는 것을 특징으로 하는, 광학 부재의 제조 방법.
제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 부재가 광학 필름인 것을 특징으로 하는, 광학 부재의 제조 방법.
표면이 인위적으로 오염된 후의 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 ΔE*ab와, 그 후 세정 처리를 실시한 후의 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 ΔE*ab의 차(오염으로부터의 회복도)가 1.5 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
제12항에 있어서, 오염으로부터의 회복도가 1.3 이하인, 광학 적층체.
표면이 인위적으로 오염된 후의 국제 조명 위원회(CIE)에서 규정하는 ΔE*ab에 의해 나타내어지는 내오염성이 3.5 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
제14항에 있어서, 내오염성이 2.5 이하인, 광학 적층체.
제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체를 구비하는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 제품.