KR20090031782A - 자모 활용형 가발 - Google Patents

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KR20090031782A
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하루미 기무라
에미코 엔도
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가부시키가이샤 아데랑스 홀딩스
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Abstract

본 발명은, 장착자의 두부(頭部)에 안정적으로 장착할 수 있어 외부로의 심한 노출을 저감시켜, 가발 장착자의 자모(自毛)를 가발의 의모(擬毛)와 혼합하여 전체적으로 모량을 풍부하게 할 수 있는, 자모 활용형의 가발을 제공한다. 본 발명은, 의모(20)를 장착한 가발 베이스(10)의 개구(11A)로부터 장착자의 자모를 인출하여, 의모(20)와 혼합하는 자모 활용형 가발(1)로서, 가발 베이스(10)를, 내부에 개구(11A)를 가지는 환형 부재(11)와 개구(11A)를 종단(縱斷)하도록 연장되고 서로 떨어져 환형 부재(11)에 병설된 복수개의 선형 부재(12)로 구성하고, 각 선형 부재(12)를 복수개의 굴곡부(12A)를 구비한 지그재그형으로 형성한다.
자모 활용형 가발, 가발, 자모, 의모, 환형 부재, 굴곡부, 선형 부재

Description

자모 활용형 가발 {WEARER'S HAIR UTILIZING TYPE WIG}
본 발명은, 두부(頭部)에 장착한 가발의 아래쪽에 위치하는 장착자 자신의 자모(自毛)를, 가발의 간극으로부터 외측으로 인출하여, 가발에 장착한 의모(擬毛)와 혼합하도록 한 자모 활용형의 가발에 관한 것이며, 특히, 환형 부재를 설치함으로써 장착자의 두부에 안정적으로 장착할 수 있는 동시에, 외부로의 노출을 저감할 수 있는 자모 활용형 가발에 관한 것이다.
자모 활용형의 가발은, 가발 베이스에 복수개의 구멍 또는 망눈을 형성하고, 그 구멍 또는 망눈으로부터 자모를 인출하여 가발 베이스에 장착한 의모와 혼합하는 형식의 것이다. 이 종류의 자모 활용형의 가발로서 도 29에 나타낸 바와 같이, 가발의 전체 형상, 즉 아웃 라인을 구획하는 가발 베이스를 구비하고 있지 않은 타입의 것이 알려져 있다.
도 29에 나타낸 공지의 가발(200)은, 골격형의 프레임(210)과 이 프레임(210)에 장착한 의모(220)로 구성되어 있다. 프레임(210)은, 장착자 두부의 전후방향으로 대략 평행하게 직선형으로 연장되도록 배치한 복수개의 리브(211)와, 이들 리브(211)가 풀어지지 않도록 복수개의 리브(211)를 병설한 중앙 위치에서 가로 방향으로 배치되어 각 리브(211)를 연결 고정하는 연결용 리브(212)로 구성되어 있다. 도 29에서는, 프레임(210)의 구조를 알기 쉽게 하기 위해, 프레임(210)에 장착한 의모(220)의 묘사를 불과 수개만 나타내고 대부분을 도시하지 않고 있지만, 의모(220)는 실제로는 프레임(210) 전체에 걸쳐 치밀하게 장착되어 있다.
리브(211)와 연결용 리브(212)는, 이들 교점을 접착, 결착(結着), 봉착(縫着), 용착(溶着) 등에 의해 연결되어 고착되어 있다. 각 리브(211) 및 연결용 리브(212)는, 드라이어 등의 열의 영향을 쉽게 받지 않는 재료, 예를 들면, 폴리아미드계 합성 섬유, 폴리에스테르 등의 합성 수지 재료에 의해 직선형으로 형성되고, 강성과 탄성을 구비하고 있다. 리브(211) 및 연결용 리브(212)에 장착하는 의모(220)는, 인모(人毛) 외에, 나일론(등록 상표), 폴리에스테르 등으로 만든, 예를 들면, 직경 0.05 내지 0.2mm 정도의 인공 모발이 매우 적합하고, 리브(211) 및 연결용 리브(212)에 결착, 봉착, 또는 권취하여 접착하고, 다수 개를 소정 방향으로 돌출시켜 장착한다.
상기한 가발(200)을 장착하는 경우, 먼저 가발(200)을 장착자의 머리에 탑재하여 위치를 맞춘다. 장착자의 두부에 탑재하는 부위로서, 각 리브(211)의 선단부가 헤어라인으로부터 수㎝ 천정부 측으로 비집고 들어간 위치를 선정하고, 그 위치에 세팅한다. 이어서, 자모의 인출 작업을 행한다. 이 작업중, 가발(200)을 머리 위로부터 한쪽 손으로 누르면서, 브러시나 빗을 사용하여, 바람직하게는 리브(211)에 따라 브러싱한다. 장착자는, 연결용 리브(212)를 경계로, 예를 들면, 앞쪽은 전방을 향하여, 뒤쪽은 후방으로 향하여 브러싱하면, 가발(200)에 억눌려 있는 자모를 리브(211) 사이로부터 위쪽으로 인출할 수 있다. 이 경우, 각 리브(211)가 브러싱 방향을 따라 서로 평행하게 연장되어 있으므로, 브러싱 중에 브러시나 빗이 리브(211)에 걸리지 않고, 또 자모가 리브(211)에 얽히지 않아, 거의 100% 가까이의 자모를 간단하게 리브(211) 사이로부터 인출할 수 있다.
전술한 바와 같이, 자모를 프레임(210)의 외면으로 인출한 곳에서, 정발용(整髮用) 브러시 등에 의해 가볍게 브러싱하여, 자모과 의모(220)을 혼합하면서 원하는 모발형으로 정발함으로써, 가발(200)의 장착이 완료된다. 그리고, 가발(200)의 두부에의 고정은, 공지의 가발용 스토퍼를 가발의 배면측에 고착하여 두고, 이 스토퍼에 의해 자모를 협착하여 고정하면 편리하다.
이와 같이 구성된 가발(200)은, 가발 베이스(210)의 외형을 구획하는 에지 프레임 부재가 존재하지 않고, 리브(211)가 자모 중에 매립되어 장착되므로, 장착자의 자모를 충분히 가발의 간극으로부터 인출할 수 있는 동시에, 자모와 의모(220)가 서로 양호하게 서로 혼합된다.
이와 같이 구성된 가발이, 특허 문헌에 개시되어 있다.
[특허 문헌 1] 일본 특허출원 공개번호 2002-115115호 공보
그런데, 도 29에 나타낸 가발(200)을 장착자의 두부에 장착한 경우, 리브(211)의 선단부가 고정되어 있지 않으므로 리브(211)의 선단부가 뜨기 쉬워, 예를 들면, 장착자가 모발을 빗거나 장착자가 격하게 두부를 움직이거나 하면, 리브(211)의 선단부가 두부 표면으로부터 떨어져 부상하여 리브(211)의 일부가 장착자의 모발 내로부터 나타나거나, 리브(211)의 선단측이 움직여 어긋나거나 하여, 가발(200)의 노출로 연결될 우려가 있다.
상기 공지의 가발(200)에서는, 프레임(210) 자체는 선형의 리브(211) 및 연결용 리브(212)만으로 구성되어 있으므로, 가발(200)을 장착자의 두부에 고정하기 위한 스토퍼를 프레임(210)에 안정적으로 고정 유지하는 것이 어렵다. 또한, 리브(211)는 장착자 두부의 전후방향으로 배치되지만, 리브(211)에 장착한 의모(220)에, 리브(211)에 따라 모발의 갈림길이 생기는 경우가 있으므로 리브(211)가 외부에서 쉽게 눈에 띄게 되어, 가발(200)의 심한 노출로 연결될 우려가 있다.
본 발명은, 상기한 문제점을 해결하기 위해, 환형 부재를 설치하고, 이 환형 부재에 리브를 병설함으로써 장착자의 두부에 안정적으로 장착하여, 외부로부터의 심한 노출을 저감시켜, 가발 장착자의 자모를 가발의 의모와 혼합하여 전체적으로 모량을 풍부하게 할 수 있는, 자모 활용형의 가발을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 의모를 장착한 가발 베이스의 개구로부터 장착자의 자모를 인출하여 의모와 혼합하는 자모 활용형 가발로서, 상기 가발 베이스는 내부에 개구를 가지는 환형 부재와, 이 개구를 종단(縱斷)하도록 연장되고 서로 떨어져 환형 부재에 병설된 복수개의 선형 부재로 구성되어 있고, 각 선형 부재는 지그재그형으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하고 있다.
상기 환형 부재는, 예를 들면, 인공 피부와 이 인공 피부 상에 적층된 하측 네트와 이 하측 네트 상에 적층된 상측 네트로 구성되고, 바람직하게는, 인공 피부의 저면에, 레이스 테이프 및/또는 새틴(satin) 테이프가 장착되어 있다. 또한, 환형 부재의 외주 에지로부터 외측으로 돌출하도록, 가발 노출 방지용 네트를 설치하면 바람직하다.
상기 각 선형 부재는 그 양 단부가 편평한 평면부로 형성되고, 이 평면부가 환형 부재에 협지되고, 또한 실재(絲材)로 봉착되어 고정되어 있으면 바람직하다. 각 선형 부재는, 가로 방향으로 꾸불꾸불한 굴곡부를 구비하고 있어도 되고, 인접하는 선형 부재끼리의 굴곡부가 서로 근접 및 이격되도록 환형 부재에 지그재그형으로 병설되어 각 선형 부재끼리 사이에 장착자의 자모 인출용으로 넓게 열린 공극(空隙)이 형성될 수 있다. 상기 환형 부재를 구성하는 하측 네트는, 인공 피부에 대하여 우레탄 피막을 통하여 고착할 수 있다. 환형 부재 및 각 선형 부재는, 바람직하게는 장착자 두부의 형상을 따라 만곡 형성된다.
본 발명에 의하면, 비교적 간단한 구성에 의해, 각 선형 부재의 양 단부가 환형 부재에 고정되어 있으므로, 예를 들면, 브러싱 등에 의해 선형 부재(12)가 끌려갔다고 해도, 선형 부재의 단부가 부상하거나, 선형 부재의 방향이 변경되거나 하는 일은 없다. 따라서, 도 29에 나타낸 공지의 가발(200)과 같이, 자유단으로 되어 있는 리브(211)의 선단측이 움직이거나 부상하거나 하여 외부에 나타나 가발(200)이 노출될 우려가 저감된다.
또한, 상기한 공지의 가발(200)에서는, 리브(211)가 전후방향으로 직선형으로 연장되어 있으므로 모발에 이 리브(211)에 따라 직선형의 모 분리가 생기고, 그 결과 가발(200)이 노출될 우려가 있었지만, 본 발명에 의하면 선형 부재가 지그재그형으로 굴곡져 있으므로, 모발의 모 분리가 쉽게 생기지 않는다. 이로써도, 본 발명에서는 종래의 가발(200)에 비하여, 가발의 노출을 저감할 수 있다. 선형 부재가 장착자의 자모 내에서 지그재그형으로 설치되어 있으면, 이들 선형 부재는 장착자의 자모 및 가발 베이스의 의모로 빠짐없이 덮히므로, 외부에서 쉽게 눈에 띄지 않는다. 또한, 선형 부재를 지그재그형으로 굴곡시키면, 직선형의 선형 부재에 비해 그 길이가 길어지므로, 장착하는 의모의 양을 많게 할 수 있는데 더하여 헤어스타일의 자유도를 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 관한 자모 활용형 가발의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 관한 자모 활용형 가발의 저면도이다.
도 3은 도 1의 A-A선 단면도이다.
도 4는 도 3의 B-B선 단면도이다.
도 5는 본 발명의 자모 활용형 가발의 가발 베이스의 제조 공정을 나타낸 도면이다.
도 6은 본 실시예에 관한 가발 베이스의 제조에 사용하는 석고형의 평면도이다.
도 7은 본 실시예에 관한 선형 부재를 제작하는 성형판을 나타낸 것이며, (A)는 평면도, (B)는 단면도이다.
도 8은 도 7의 성형판에 제1 선재(線材)를 장착한 상태를 나타낸 도면이다.
도 9는 도 6의 석고형에 제2 선재를 고정한 상태를 나타낸 도면이다.
도 10은 도 6의 석고형에 제1 인공 피부를 배치한 상태를 나타낸 도면이다.
도 11은 도 10의 석고형에 제1 네트를 씌운 상태를 나타낸 도면이다.
도 12는 제1 중간물에 가발 노출 방지용 네트를 장착하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 13은 제1 중간물에 가발 노출 방지용 네트를 장착하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 14는 제2 중간물에 마스킹 테이프를 접착한 상태를 나타낸 도면이다.
도 15는 제2 중간물로부터 절제하는 제1 인공 피부의 부분을 나타낸 도면이다.
도 16은 마스킹 테이프에 선형 부재의 고정 위치를 기입한 상태를 나타낸 도면이다.
도 17은 제3 중간물 상에 제3 선재를 배치한 상태를 나타낸 도면이다.
도 18은 제3 선재를 사용하여 본 실시예에 관한 선형 부재를 제작하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 19는 제4 선재를 사용하여 본 실시예에 관한 선형 부재를 제작하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 20은 제4 선재를 사용하여 본 실시예에 관한 선형 부재를 제작하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 21은 선형 부재의 평판부의 단부를 가공한 상태를 설명하기 위한 도면이다.
도 22는 선형 부재와 네트의 가고정 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 23은 선형 부재와 네트의 가고정 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 24는 선형 부재와 네트의 가고정 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 25는 제4 중간물과 제2 네트의 일체화의 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 26은 제1 인공 피부의 잉여 부분을 절제하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 27은 제5 중간물에 레이스 테이프 및 새틴 테이프를 접착하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 28은 제6 중간물로부터 잉여 부분을 절제하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 29은 종래의 가발을 나타낸 평면도이다.
[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명]
1: 자모 활용형 가발, 10: 가발 베이스, 11: 환형 부재, 11A: 개구, 11B: 공극, 12: 선형 부재, 12A: 굴곡부, 13: 인공 피부, 14: 하측 네트, 15: 상측 네트, 16: 레이스 테이프, 17: 새틴 테이프, 18: 가발 노출 방지용 네트, 20: 의모, 50: 석고형, 51: 외주선, 51A, 52A, 55A: 교점의 위치, 52: 내주선, 53: 배치선, 54: 가발 노출 방지용 네트(18)의 장착 위치를 나타내는 선, 55: 가발 노출 방지용 네트와 제1 네트(140)의 경계선, 60: 성형판, 61: 베이스, 62: 원기둥 부재, 63, 64: 못, 66: 압정, 67A, 67B: 고정용 침구, 71~75: 마스킹 테이프, 71A, 72A: 고정 위치, 73A, 74B: 마스킹 테이프의 경계선, 80: 실, 121: 제1 선재, 122: 제2 선재, 123: 제3 선재, 124: 제4 선재, 131: 제1 인공 피부, 131A: 잉여 부분, 140: 제1 네트, 150: 제2 네트
이하, 도 1~도 28을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예에 관한 자모 활용형 가발(이하, 단지 가발이라고 함)(1)을 나타낸 개략도이며, 도 1은 가발(1)의 평면도를, 도 2는 가발(1)의 저면도를 나타내고 있다. 가발(1)은, 가발 베이스(10)와, 가발 베이스에 심은 의모(20)와, 도시하지 않은 가발용 스토퍼로 구성되어 있다. 도 1 및 도 2에서는, 가발 베이스(10)의 구조를 알기 쉽게 설명하기 위해, 가발 베이스(10)에 장착한 의모(20)의 묘사를 불과 수개만 도시하고 대부분을 생략하고 있지만, 의모(20)는 실제로는, 가발 베이스(10)의 전체에 걸쳐 위쪽으로 돌출되어 치밀하게 장착되어 있다.
가발 베이스(10)는, 가발(1)의 주위 부분을 형성하는 환형 부재(11)와, 이 환형 부재(11)의 내부에 형성된 개구(11A)와, 장착자 두부의 전후 방향을 따라 개구(11A)를 종단(縱斷)하도록 연장되고 서로 떨어져 환형 부재(11)에 병설된 복수개의 선형 부재(12)로 구성되어 있다. 도 3은 도 1의 A-A선 단면도이며, 이 단면도에 나타낸 바와 같이, 환형 부재(11)는 외주 에지와 내주 에지 사이가 소정 폭을 가지도록 밴드형으로 형성되고, 도시한 예에서는, 복수개의 부재가 적층된 적층체로서 구성되어 있다. 구체적으로는, 환형 부재(11)는, 인공 피부(13)와, 인공 피부(13) 상에 적층된 하측 네트(14)와, 이 하측 네트(14) 상에 적층된 상측 네트(15)로 구성되어 있다. 그리고, 도시하지 않지만, 하측 네트(14)는, 이 하측 네트(14)에 도포한 우레탄 피막을 통하여 인공 피부(13)에 대하여 고착되어 있다.
환형 부재(11)는, 바람직하게는 장착자 두부의 형상을 따라 만곡 형성되어 있다. 환형 부재(11)의 보강 및 촉감을 양호하게 하기 위해, 인공 피부(13)의 저면에는, 외주 에지를 따라 레이스 테이프(16)가 설치되고, 내주 에지를 따라 새틴 테이프(17)가 설치되어 있다. 또한, 가발 노출 방지용 네트(18)가, 환형 부재(11)의 외주 에지로부터 외측으로 돌출하도록 가발 베이스(10)에 설치되어 있다.
하측 네트(14) 및 상측 네트(15)는 모두 합성 수지로 이루어지고, 예를 들면, 폴리에스테르제의 25메시로 두께가 0.3mm이다. 레이스 테이프(16)는, 예를 들면, 폴리에스테르제로 폭 8mm, 두께 0.45mm의 것, 새틴 테이프(17)는, 예를 들면, 폴리에스테르제로 폭 3mm, 두께 0.30mm의 것을 적용할 수 있다.
선형 부재(12)에는 복수개의 굴곡부(12A)가 형성되어 있고, 굴곡부(12A)끼리를 연결하는 부위의 연장 방향이 굴곡점마다 좌측 전방 또는 우측 전방으로 교대로 전환되고, 전체적으로 두부 표면을 따라 가로 방향으로 지그재그형으로 꾸불꾸불하여, 환형 부재(11)에 가설되어 있다. 또한, 인접하는 선형 부재(12)끼리는, 도시한 예에서는, 환형 부재(11)의 개구(11A) 내에서 전두부(前頭部)로부터 후두부(後頭部)에 있어서 서로의 굴곡부(12A, 12A)의 간격이 교대로 근접 및 이격되도록 하여 병설되어 있다. 이로써, 인접하는 각 선형 부재(12) 사이에는, 장착자의 자모를 용이하게 인출하는데 편리한 큰, 예를 들면, 마름모형 또는 다이어몬드형의 공극(11B)이 형성된다. 그리고, 선형 부재(12)는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 장착자 두부의 전후 방향의 만곡 형상을 따르도록 약간 철형(凸形)으로 형성되어 있다.
선형 부재(12)는, 드라이어 등의 열 영향을 쉽게 받지 않는 재료, 예를 들 면, 폴리아미드계 합성 섬유, 폴리에스테르 등의 합성 수지 재료가 바람직하고, 그 외에, 금속, 경질지(硬質紙), 경질 고무, 나무, 대나무, 유리 섬유, 카본 섬유 등의 탄성 및 강성을 구비한 재료를 사용할 수 있고, 예를 들면, 직경 0.1~ 3.0mm 정도의 폴리에스테르 및 나일론(등록 상표)으로 구성되는 초심(
Figure 112009009998019-PCT00001
) 구조로 형성하면 바람직한 강성과 탄성의 선형 부재를 얻을 수 있다. 초심 구조란, 심부(芯部)와 이 심부를 덮는 초부(
Figure 112009009998019-PCT00002
)로 이루어지는 구조를 말하며, 예를 들면, 심부가 폴리에스테르로 구성되며, 초부가 나일론(등록 상표)으로 구성된다.
선형 부재(12)는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 그 선단이 환형 부재(11)의 외측 에지로부터 약간 내측으로 들어간 위치에 세팅되도록 하여, 각 단부가 하측 네트(14)와 상측 네트(15)와 가발 노출 방지용 네트(18) 사이에 협지되어 도시하지 않은 실재로 환형 부재(11)에 봉착되어 고정되어 있다. 여기서, 도 4는 도 3의 B―B선 단면도이며, 이 도면에 나타낸 바와 같이 환형 부재(11)의 외프레임에 근접하는 선형 부재(12)의 선단으로부터 예를 들면, 약 5mm까지의 부위가 평판형으로 형성되어 있고, 상측 네트(15)와 가발 노출 방지용 네트(18)에 끼워져 있다. 그리고, 선형 부재(12) 끝의 평판부(12B) 이외의 부위는, 단면이 원형으로 형성되어 있다.
가발 베이스(10)를 구성하는 환형 부재(11) 및 선형 부재(12)에는 의모(20)가 장착되어 있다. 의모(20)는, 인모 외에, 나일론(등록 상표), 폴리에스테르 등으로 만든, 예를 들면, 직경 0.05 내지 0.2mm 정도의 인공 모발로 이루어지고, 가발 베이스(10)에 결착(結着), 봉착(縫着), 또는 권취하여 접착하고, 다수 개를 위 쪽으로 돌출시켜 장착된다.
가발 베이스(10)를 구성하는 환형 부재(11) 저면의 원하는 부위에는, 가발(1)을 장착자의 두부에 고정시키기 위해, 공지의 가발용 스토퍼가 설치된다.
본 발명에 의한 가발(1)은 이상과 같이 구성되어 있고, 다음에, 그 제조 방법에 대하여 설명한다. 특히, 본 발명에 의한 가발(1)의 가발 베이스(10)는, 도 5에 나타낸 제조 공정에 따라 제조된다. 먼저, 가발 베이스(10)의 제조 방법부터 설명한다.
도 5에 나타낸 제조 공정에 의하면, 먼저, 스텝 S1에서, 장착자의 두부를 형(型)을 뜨거나 또는 전형적 두부 형상을 모방한 석고형을 준비한다. 스텝 S2에서, 2개의 네트를 준비하고, 이들 네트에 두부 형상의 형(型)을 부여한다. 즉, 편평한 네트 부재를 열 가공 또는 초음파 가공 등으로, 철형(凸形)으로 팽출하는 형상으로 가공한다. 스텝 S3에서, 직선형의 선재를 준비하고, 이 선재에 파형, 즉 지그재그형 등의 형을 부여한다. 또한, 스텝 S4에서, 두부 형상에 따른 인공 피부를 제작한다.
그리고, 스텝 S5에서, 스텝 S4에서 제작한 인공 피부와 스텝 S2에서 제작한 한쪽의 네트의 일체화를 행하여, 제1 중간물을 제작한다. 다음에, 스텝 S6에서, 스텝 S5에서 제작한 제1 중간물에 가발 노출 방지용 네트(18)를 장착하여, 제2 중간물을 제작한다. 스텝 S7에서, 불필요한 인공 피부의 절제 및 선재의 장착 위치를 기입하여 제3 중간물을 제작한다. 그리고, 스텝 S8에서, 스텝 S3에서 파형 등의 형상을 부여한 선재의 선단부의 가공 처리를 행한다. 즉, 단면이 원형인 선재 의 양 단부를 잡아 평면 형상으로 가공한다. 이 공정은, 상기 스텝 3에서 행해도 된다. 스텝 S9에서, 선재를 제3 중간물에 가(假)고정하여, 제4 중간물을 제작한다.
다음에, 스텝 S10에서, 스텝 S2에서 제작한 다른 쪽의 네트를 제4 중간물과 일체화하여, 제5 중간물을 제작한다. 스텝 S11에서, 제5 중간물에 레이스 테이프(16) 및 새틴 테이프(17)를 접착하여 제6 중간물을 제작한다. 최후에, 스텝 S12에서, 제6 중간물로부터 불필요한 부분을 절제함으로써, 가발 베이스(10)가 완성된다.
이하에, 전술한 각 스텝 S1~S12에 대하여 상세하게 설명한다.
스텝 S1(석고의 준비):
두부 형상으로 제작한 석고형을 준비한다. 그리고, 석고 표면에 가발 베이스(10)를 제작하기 위해 필요한 선을 기입한다. 도 6은 석고형(50)의 평면도이며, 이 도면에 나타낸 바와 같이, 석고 표면에, 환형 부재(11)의 범위를 구획하기 위한 외주선(51) 및 내주선(52)과, 선형 부재(12)의 배치 위치를 나타낸 배치선(53)과, 가발 노출 방지용 네트(18)의 장착 위치를 나타내는 선(54)을 기입한다.
스텝 S2(네트의 두부 형상의 성형):
먼저, 스텝 S1에서 준비한 석고형(50)에 폴리프로필렌 시트를 씌운 후, 이 폴리프로필렌 시트 상에 나일론(등록 상표)제의 스타킹을 씌워 고정한다. 그리고, 폴리프로필렌 시트 상에, 합성수지로 이루어지는 네트를 2개 중첩하여, 고정용 침구(針具)로 석고형(50)에 고정한다. 2개의 네트 중, 후술하는 공정에 의해 하방향 에 있는 네트가 하측 네트(14)로서 형성되고, 상방향에 있는 네트가 상측 네트(15)로서 형성된다. 여기서, 각 합성수지로 이루어지는 네트로서는, 바람직하게는, 폴리에스테르제로 25메시이고, 두께가 0.3mm인 것을 사용한다.
이어서, 열경화성 우레탄 수지 용액과 유기용제(메틸에틸케톤)를 혼합한 것을, 2개의 네트를 친 석고형(50)에 도포한 후, 100℃의 온도로 8시간 건조시킴으로써, 각 네트에 두부 형상의 형이 부여된다. 열경화성 우레탄 수지 용액으로서는, 예를 들면, 변성 폴리이소시아네이트 용액을 주성분으로 하는 주제(主劑)와, 폴리에테르폴리올 혼합물을 주성분으로 하는 경화제를 사용하고, 이들 배합 비율은, 주제를 6.5g, 경화제를 3.5g, 메틸에틸케톤을 80.0g으로 한다. 그리고, 석고형(50)이 냉각된 후에, 네트를 석고형(50)으로부터 벗겨낸다. 이 공정에 의해, 두부 형상의 형이 부여된 2개의 네트 중, 한쪽을 제1 네트(140), 다른 쪽을 제2 네트(150)라고 한다.
스텝 S3(선형 부재의 제작(파형화(波形化)의 성형):
먼저, 나일론(등록 상표) 등의 폴리아미드계 합성 섬유, 폴리에스테르 등의 합성 수지 재료로 이루어지는 직경 0.1~ 3.0mm 정도의 직선형의 제1 선재를 열 성형하여 지그재그형으로 성형한다. 이 때, 도 7에 나타낸 바와 같은 성형판을 사용하면 편리하다. 도 7 (A)는 성형판(60)의 평면도이며, 도 7 (B)는 성형판(60)의 단면도이다. 이들 도면에 나타낸 바와 같이, 성형판(60)은, 예를 들면, 목제의 가늘고 긴 베이스(61)와 베이스(61)의 표면으로부터 기립하여 베이스 길이 방향으로 병설한 복수개의 목제로 된 원기둥 부재(62)로 구성되어 있다. 서로 인접하는 원 기둥 부재(62)는, 그 원기둥의 축이 중첩되지 않도록, 베이스 길이 방향에 대하여 교대로 좌우로 어긋나 있다. 각 원기둥 부재(62)는, 못(63)으로 베이스(61)에 고정되어 있다. 원기둥 부재(62)의 직경은, 예를 들면, 0.9~ 1.7cm의 범위에서 적당히 선정되고, 인접하는 원기둥 부재(62)의 좌우의 편차량도 적당히 선택 가능하다. 원기둥 부재의 직경과 편차량을 변경함으로써 지그재그형으로 만곡되는 곡률을 적당히 설정할 수 있다.
이와 같이 구성되어 있는 성형판(60)에 제1 선재를 배치한다. 구체적으로는, 도 8에 나타낸 바와 같이, 인접하는 원기둥 부재(62, 62) 사이에 제1 선재(121)를 통하여, 베이스(61)의 양 단부의 표면으로부터 세워설치된 못(64, 64)에 제1 선재(121)의 양 단부를 권취하여 고정한다. 제1 선재(121)를 권취한 성형판(60)을, 예를 들면, 150℃로 5시간 가열하여 열성형을 행함으로써 굴곡부(12A)의 형상이 부여된다. 이같이 하여 전체적으로 파형 형상의 제2 선재(122)가 제작된다.
이상의 스텝 S2의 공정을 반복하여, 복수개의 제2 선재(122)를 제작한다.
다음에, 파형 형상으로 성형한 각 제2 선재(122)를, 도 6에 나타낸 석고형(50)의 표면에 기입된 배치선(53) 상에 놓고, 석고형(50)과 제2 선재(122)를 밀착시키기 위해, 도 9에 나타낸 바와 같이, 제2 선재(122)의 굴곡부(12A)를 압정(66)으로 석고 표면에 가압하여 고정한다. 또한, 석고형(50)의 표면에 기입한 외주선(51)보다 외측으로 돌출하는 제2 선재(122)의 부위를 고정용 침구(67A)로 석고형(50)에 밀착되도록 고정한다. 이와 같이, 제2 선재(122)를 석고형(50)의 표면 에 밀착시킨 상태에서, 석고형(50)을 예를 들면, 150℃로 5시간 가열하여, 제2 선재(122)에 석고형(50)의 형상, 즉 가발 장착자 두부의 형상을 부여하여, 제3 선재(123)(도 17 참조)를 제작한다. 그 후, 석고형(50)을 상온까지 냉각하고 나서, 외주선(51) 및 내주선(52)과 제3 선재(123)가 교차하는 부분에 마크를 표시하고, 석고형(50)으로부터 압정(66) 및 고정용 침구(67A)를 제거하고, 각 제3 선재(123)를 석고형으로부터 벗겨내어, 부착된 석고 가루를 물로 씻어 없앤다.
이 공정에 의해, 지그재그형 및 장착자의 두부 형상을 따라 만곡 형성한 제3 선재(123)를 제작할 수 있다.
스텝 S4(인공 피부의 제작):
먼저, 석고형(50)에 폴리프로필렌 시트를 씌워 고정하고, 석고형(50)의 위로부터 광택 제거제를 첨가한 열가소성 엘라스토머 용액을 도포하여 도막(塗膜)을 형성하고, 이것을 60℃의 온도로 2시간 건조하여, 도 10에 나타낸 바와 같이, 두부 형상의 제1 인공 피부(131)를 제작한다. 광택 제거제를 첨가한 열가소성 엘라스토머 용액으로서는, 예를 들면, 열가소성 엘라스토머를 유기용제로 용해시킨 것에 무기 입자를 첨가한 용액을 사용한다. 구체적으로는, 디메틸포름아미드와 메틸에틸케톤을 8:2의 비율로 혼합한 유기용제로 우레탄 엘라스토머를 용해한 것에, 입경이 10㎛ 이하의 분말 실리카를 5~ 25% 첨가한 용액을 사용한다.
스텝 S5(인공 피부와 네트의 일체화):
도 11에 나타낸 바와 같이, 스텝 S4에 의해 제작한 제1 인공 피부(131) 상에, 스텝 S2에서 성형한 두부 형상의 제1 네트(140)를 씌워, 제1 인공 피부(131) 및 제1 네트(140)를 고정용 침구(67B)로 석고형(50)에 고정한다. 그리고, 석고형(50)의 표면에 기입된, 환형 부재(11)의 범위를 구획하는 외주선(51) 및 내주선(52)을 마크로 하여 외주선(51)과 내주선(52) 사이의 영역의 제1 네트(140) 부분에, 열가소성 엘라스토머 용액을 도포한다. 이 열가소성 엘라스토머 용액으로서는, 예를 들면, 열가소성 엘라스토머를 유기용제로 용해시킨 용액을 사용한다. 구체적으로는, 디메틸포름아미드와 메틸에틸케톤을 8:2의 비율로 혼합한 유기용제로 우레탄 엘라스토머를 용해한 것이 바람직하다.
외주선(51)과 내주선(52) 사이 영역의 제1 네트(140) 부분에, 원환형으로 열가소성 엘라스토머 용액을 도포한 후, 60℃의 온도로 30분간 건조한다. 그 후, 외주선(51)과 내주선(52) 사이의 영역의 제1 네트(140) 부분에, 다시 광택 제거제를 첨가한 열가소성 엘라스토머 용액을 도포한다. 이 광택 제거제를 첨가한 열가소성 엘라스토머 용액은 스텝 S4에 있어서의 용액과 동일하다. 그 후, 60℃의 온도에서 2시간 건조시킴으로써, 제1 인공 피부(131)와 제1 네트(140)가, 외주선(51)과 내주선(52) 사이의 영역에 있어서 일체화된다. 여기서, 일체화하여 제작된 것을 제1 중간물이라고 한다.
스텝 S6(가발 노출 방지용 네트의 장착):
도 12에 나타낸 바와 같이, 석고형(50)의 표면에 기입되어 있는 가발 노출 방지용 네트(18)의 장착 위치의 마크가 되는 선(54)에 따라 제1 중간물에, 즉 스텝 S5에서 제1 인공 피부(131)와 일체화된 제1 네트(140) 상에, 가발 노출 방지용 네트(18)를 배치하고, 초음파 발생 장치를 사용하여 가발 노출 방지용 네트(18)를 제 1 네트(140)에 초음파 용착시켜 가고정한다. 그리고, 도 12에서는 제1 중간물의 표시를 생략하고 있다. 가발 노출 방지용 네트(18)는, 폴리에스테르제로 14메시의 밴드형의 것을 사용하고, 도 13에 나타낸 바와 같이, 환형 부재(11)의 범위를 선을 구분짓는 외주선(51)으로부터 2mm 정도 돌출하도록, 가발 노출 방지용 네트(18)를 제1 네트(140)에 중첩하여 가고정한다. 그리고, 스텝 S4에 있어서 사용한 것과 같은 광택 제거제를 첨가한 열가소성 엘라스토머 용액을 제1 네트(140)에 가고정한 가발 노출 방지용 네트(18)에 외주선(51)으로부터 가발 노출 방지용 네트(18)의 장착 위치를 나타내는 선(54)의 범위에 있어서 도포하고, 60℃의 온도에서 1시간 건조함으로써, 가발 노출 방지용 네트(18)가 제1 네트(140)에 고정된다. 여기서, 가발 노출 방지용 네트(18)가 제1 네트(140)에 고정된 것을 제2 중간물이라고 한다.
스텝 S7(인공 피부의 절제 및 선형 부재의 장착 위치의 기입):
스텝 S6에서 가발 노출 방지용 네트(18)의 장착이 종료한 후, 석고형(50)을 상온까지 냉각하고, 석고형(50)의 표면에 기입된 환형 부재(11)의 범위를 구획하는 외주선(51) 및 내주선(52)을 따라 제1 네트(140) 상에, 도 14에 나타낸 바와 같이 마스킹 테이프(71, 72)를 접착한다. 그리고, 도 14에서는, 제1 인공 피부(131)와 제1 네트(140)의 표시를 생략하고 있다. 제1 인공 피부(131)와 제1 네트(140)와 가발 노출 방지용 네트(18)가 일체화된 제2 중간물을 석고형(50)으로부터 분리하고, 이것을 뒤집어, 제1 네트(140)와 일체화되어 있지 않은 제1 인공 피부(131) 부분을 절제한다. 구체적으로는, 제1 인공 피부(131) 중, 도 15에 있어서, 내주선(52)으로 에워싸인 내측의 일점 쇄선으로 표현된 부분을 절제한다.
다음에, 제1 인공 피부(131)와 제1 네트(140)와 가발 노출 방지용 네트(18)가 일체화된 것을 표면으로 되돌려 석고형(50) 상에 세팅하고, 고정용 침구로 석고형에 고정한다. 그리고, 석고형(50)의 표면에 기입되어 있는 선형 부재(12)의 배치선(53)을 마크로 하여 도 16에 나타낸 바와 같이, 마스킹 테이프(71, 72)에 선형 부재(12)의 고정 위치(71A, 72A)를 기입한다. 그리고, 도 16에서는, 제1 인공 피부(131)와 제1 네트(140)의 표시를 생략하고 있다. 여기서, 이 공정에서 제2 중간물에 가공 처리를 가한 후의 것을 제3 중간물이라고 한다.
스텝 S8(선형 부재의 선단부의 가공):
먼저, 도 17에 나타낸 바와 같이, 스텝 S3에서 제작한 제3 선재(123)를 스텝 S7에서 마스킹 테이프(71, 72)에 기입한 마크(71A, 72A)와, 석고형(50)의 표면에 기입되어 있는 선형 부재(12)의 배치선(53)에 맞추어, 제1 네트(140) 상에 배치한다. 도 17에서는, 제1 인공 피부(131)와 제1 네트(140), 즉 제3 중간물의 표시를 생략하고 있다. 다음에, 도 18에 나타낸 바와 같이, 제3 선재(123)의 내주선(52)에 대한 교점의 위치(52A)와, 가발 노출 방지용 네트(18)와 제1 네트(140)의 경계선(55)에 대한 제3 선재(123)의 교점의 위치(55A)와, 제3 선재(123)의 외주선(51)에 대한 교점의 위치(51A)에, 마크를 부여한다. 그리고, 제3 선재(123)를 다른 장소로 옮겨, 제3 선재(123)의 외주선(51)에 대한 교점 부분을 초음파 발생 장치로 찌그러뜨려 평면 형상의 평판부(12B)를 형성하여, 제4 선재(124)를 제작한다. 그 후, 다시, 도 19에 나타낸 바와 같이, 제4 선재(124)를 석고형(50) 상에 배치선(53)에 맞도록 탑재하여, 도 20에 나타낸 바와 같이 외주선(51)보다 1mm 정도 내 측으로 들어간 위치를 경계로 하여, 제4 선재(124)를 절단한다. 제4 선재(124)의 다른 쪽의 단부에도 마찬가지의 가공 처리를 행한다. 이같이 하여, 선형 부재(12)가 제작된다. 또한, 도 21에 나타낸 바와 같이 선형 부재(12)의 평판부(12B) 단부의 각을 깎아, 만곡면으로서 형성하면 된다.
스텝 S9(선형 부재와 네트의 가고정):
스텝 S8에 의해 가공의 종료한 선형 부재(12)를, 스텝 S7에서 마스킹 테이프(71, 72)에 기입한 마크(71A, 72A)나, 석고형(50)의 표면에 기입되어 있는 선형 부재(12)의 배치선(53)에 맞추어 제1 네트(140) 상에 배치하고, 도 22에 나타낸 바와 같이 선형 부재(12)의 위치가 어긋나지 않도록 선형 부재(12)를 마스킹 테이프(75)로 제1 네트(140)에 고정시킨다. 그 후, 이들을 석고형(50)으로부터 벗겨내어, 환형 부재(11)의 범위를 구획하는 외주 에지(51)와 내주 에지(52)에 각각 대응한 제1 네트(140) 부위에 근접한 각 선형 부재(12)를 부분적으로 실로 결착하여, 선형 부재(12)를 제1 네트(140)에 가고정한다. 모식적으로는, 도 23에 나타낸 바와 같이, 외주선(51)에 근접한 선형 부재(12)의 부위α와, 내주선(52)에 근접한 선형 부재(12)의 부위β를, 제1 네트(140)에 고정한다. 구체적으로는, 도 24에 나타낸 바와 같이, 외주 에지(51)로부터 3mm 정도 내측으로 들어간 선형 부재(12)의 선단부의 주위에, 실(80)을 2~ 3회 정도 권취시키도록 제1 네트(140)에 실(80)을 꽂고 빼고하여, 선형 부재(12)를 부분적으로 제1 네트(140)에 고정한다. 선형 부재(12)의 부위β도, 마찬가지로 실로 고정한다. 그리고, 도 23 및 도 24에서는, 제1 네트(140)의 표시를 생략하고 있다. 이 공정에서 제3 중간물에 선형 부재(12) 를 가고정한 것을 제4 중간물이라고 한다.
스텝 S10(선형 부재와 환형 부재의 일체화):
스텝 S9에서 제작한 제4 중간물을 석고형(50)에 세팅하고, 고정용 침구로 고정한다. 또한, 제1 네트(140) 상에, 스텝 S2에서 성형한 다른 제2 네트(150)를 씌워, 고정용 침구로 석고형(50)에 고정한다. 2개의 제1 및 제2 네트(140, 150)가 중첩된 상태에서, 석고형(50)의 표면에 기입한 외주선(51)보다 외측에 있어서, 2개의 네트를 초음파 장치를 사용하여 부분적으로 일체화시켜, 제1 인공 피부(131)와 일체화된 제1 네트(140)에 제2 네트(150)를 가고정한다. 다음에, 도 25에 나타낸 바와 같이, 외주선(51)과 내주선(52)을 따라 3mm폭의 마스킹 테이프(73, 74)를 접착한다. 그리고, 외주선(51)을 따라 접착하는 마스킹 테이프(73)는, 그 반정도가 외주선(51)의 내측과 겹쳐지도록 배치한다. 내주선(52)을 따라 접착하는 마스킹 테이프(74)는, 그 반정도가 내주선(52)의 외측과 겹쳐지도록 배치한다. 그리고, 제1 인공 피부(131)와 제1 네트(140)와 제2 네트(150)가 적층된 것을 석고형(50)으로부터 벗겨내고, 도 25에 있어서, 부호(73A, 74A)로 나타낸 마스킹 테이프(73, 74)의 경계선을 따라 미싱 작업을 행한다. 그리고, 봉제실로서는, 예를 들면, 나일론(등록 상표)실을 사용할 수 있다. 도 25에서는, 제1 네트(140) 및 제2 네트(150)의 표시를 생략하고 있다.
이와 같은 미싱 봉제에 의해, 제2 네트(150)와, 선형 부재(12)와, 제1 인공 피부(131)와 일체화된 제1 네트(140)가, 일체화된다. 이와 같이 일체화된 적층물을 도 26에 나타낸 바와 같이 뒤집어, 제1 네트(140)에 고정되어 있지 않은 제1 인 공 피부(131)의 잉여 부분(131A)을 절제한다. 구체적으로는, 외주선(51)을 따라 봉제된 미싱눈으로부터 외측에 위치하는 제1 인공 피부(131)의 잉여 부분(131A)을 절제한다. 여기서, 이 공정에서, 제4 중간물에 제2 네트(150)가 일체화되고, 또한 제1 인공 피부(131)의 잉여 부분(131A)이 절제된 것을 제5 중간물이라고 한다. 그리고, 이와 같이 제1 인공 피부(131)로부터 잉여 부분(131A)이 절제되어, 도 3에 나타낸 가발 베이스(10)에 있어서의 인공 피부(13)가 형성된다.
스텝 S11(레이스 테이프 및 새틴 테이프의 접착):
스텝 S10에서 제작한 제5 중간물을 뒤집어, 촉감을 양호하게 하기 위한, 또한 적층체를 보강하기 위한 부재로서, 인공 피부(13)의 배면에 레이스 테이프(16) 및 새틴 테이프(17)를 접착한다. 구체적으로는, 도 27에 나타낸 바와 같이, 인공 피부(13)의 외주 에지를 따라 레이스 테이프(16)를 인공 피부(13) 상에 배치하여 그 양쪽을 미싱으로 봉제하여, 제5 중간물에 장착한다. 이 레이스 테이프(16)로서는, 예를 들면, 폴리에스테르제로 폭 8mm, 두께 0.45mm의 것을 사용한다.
또한, 인공 피부(13)의 내주 에지를 따라 새틴 테이프(17)를 인공 피부(13) 상에 배치하여 그 양쪽을 미싱으로 봉제하여, 제5 중간물에 장착한다. 새틴 테이프(17)는, 예를 들면, 폴리에스테르제로 폭 3mm, 두께 0.30mm의 것을 사용한다. 또한, 봉제실로서는, 예를 들면, 합성 수지제의 실을 사용하면 된다. 이들 레이스 테이프(16) 및 새틴 테이프(17)는, 단부가 풀리기 쉬우므로, 예를 들면, 장착 전에 단부를 미리 인두로 지져서 풀림 방지 처리를 해 두는 것이 바람직하다. 이 공정에서, 제5 중간물에 레이스 테이프(16) 및 새틴 테이프(17)를 장착한 것을 제6 중 간물이라고 한다.
스텝 S12(불필요한 부분의 절제):
다음에, 스텝 S11까지 제작한 제6 중간물의 잉여 부분을 절제한다. 구체적으로는, 도 28에 나타낸 바와 같이, 인공 피부(13)와 중첩되어 있지 않은, 제1 네트(140) 및 제2 네트(150) 부분, 즉 A, B, C의 부위를 절제한다. 제1 네트(140) 및 제2 네트(150)로부터 잉여 부분이 절제되어, 도 3에 나타낸 가발 베이스(10)에 있어서의 하측 네트(14)와 상측 네트(15)가 형성된다. 이와 같이, 본 스텝에서 불필요한 부분을 삭제하면, 도 1~도 3에 나타낸 가발 베이스(10)가 완성된다.
이상과 같이 구성된 가발 베이스(10)에 의모(20)를 심는다. 또한, 가발 베이스(10)의 환형 부재(11)의 저면의 원하는 위치에, 공지의 가발용 스토퍼를 장착함으로써, 본 발명에 의한 가발(1)이 완성된다.
다음에, 이같이 하여 제조되는 본 발명의 가발(1)의 사용 방법에 대하여 설명한다.
가발(1)을 장착하는 경우에는, 가발 베이스(10)의 배면에 설치한 가발용 스토퍼에 장착자의 자모를 협지하여, 가발(1)을 장착자 두부의 원하는 위치에 세팅한다. 이어서, 자모의 인출 작업을 행한다. 이 경우, 가발(1)을 머리 위로부터 한쪽 손으로 누르면서, 브러시나 빗을 사용하여, 바람직하게는 선형 부재(12)의 길이 방향을 향해 브러싱한다. 이로써, 선형 부재(12)에 억눌려 있는 자모를 환형 부재(11)의 개구(11A) 내의 선형 부재(12) 사이로부터 위쪽으로 인출할 수 있다. 이 경우, 각 선형 부재(12, 12)가 실질적으로 브러싱 방향을 따라 서로 평행하게 연장 되어 있으므로, 브러싱 중에 브러시나 빗이 선형 부재(12)에 걸리지 않고, 또 자모가 선형 부재(12)에 얽히지 않아, 대략 100% 가까운 자모를 간단하게 선형 부재(12, 12) 사이로부터 인출할 수 있다.
그리고, 자모를 가발(1)의 외면에 인출한 곳에서, 정발용 브러시 등에 의해 가볍게 브러싱하여, 자모과 의모(20)를 혼합하면서 원하는 모발형으로 정발함으로써, 가발(1)의 장착이 완료된다.
이와 같이 본 발명에 의한 가발(1)은, 각 선형 부재(12, 12)의 단부가 환형 부재(11)에 고정되어 있으므로, 브러싱 등에 의해 선형 부재(12)가 끌려갔다고 해도, 선형 부재(12)가 부상하거나, 선형 부재(12)의 방향이 어긋나 바뀌는 일은 없다. 이에 대하여, 도 29에 나타낸 종래의 가발(200)에서는, 리브(211)가 쉽게 움직일 수가 있었기 때문에, 브러싱이나 부주의한 취급 등으로 리브(211)가 외부에 드러나 노출될 우려가 있었지만, 본 발명에 의한 가발(1)은, 선형 부재(12)의 움직임이 규제되어 있으므로, 선형 부재(12)의 부상이나 어긋남에 의한 방향의 변화 등은 생기지 않는다.
또한, 도 29에 나타낸 종래의 가발(200)은, 리브(211)가 전후방향으로 직선형으로 연장되어 있으므로 모 분리가 생겨, 리브의 존재가 노출될 우려가 있었지만, 본 발명에 의한 가발(1)은, 선형 부재(12)가 지그재그형으로 굴곡져 전후방향으로 연장되어 있으므로, 모발의 모 분리가 쉽게 생기지 않는다. 따라서, 본 발명에 의한 가발(1)은, 종래의 가발(200)에 비하여, 가발의 노출을 저감할 수 있다. 또한, 선형 부재(12)는, 장착자의 자모 내에서 지그재그형으로 설치됨으로써, 장착 자의 자모 및 가발 베이스(10)의 의모(20)로 빠짐없이 덮히므로, 외부로부터 쉽게 눈에 띄지 않는다.
본 발명에 의한 가발(1)은, 선형 부재(12)가 지그재그형으로 굴곡져 있으므로, 일직선 상에 연장된 종래의 가발(200)의 리브(211)에 비하여, 장착하는 의모(20)의 양을 많게 할 수 있다. 따라서, 가발(1)의 모량을 증가시킬 수 있다. 또한, 환형 부재(11)에 설치된 인접하는 선형 부재(12, 12)끼리의 사이에 불균일하게 큰 공극(11B)이 형성되어 있으므로, 용이하게 자모를 인출할 수 있어, 취급이 간단하다.
본 발명에 의한 가발(1)에, 레이스 테이프(16) 및 새틴 테이프(17)를 장착함으로써, 미싱 봉제에 의한 일체화 시에 사용한 봉제실의 풀림이나 끊어짐을 방지하기 위한 보강을 행할 수 있다. 또한, 봉제실에 의해 미관을 해친 부분을 은폐할 수 있어 촉감을 양호하게 할 수 있다.
이상 설명하였으나, 본 발명은 그 취지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 형태로 실시할 수 있다. 예를 들면, 도 1에 나타낸 가발(1)에서는, 4개의 선형 부재(12)가 병설되어 있지만, 선형 부재(12)의 수는 도시한 예에 한정되는 것이 아님은 물론이다. 선형 부재(12)의 굴곡부(12A)의 수나 만곡의 정도도 도시한 예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 레이스 테이프(16), 새틴 테이프(17), 가발 노출 방지용 네트(18)는, 필요에 따라 구비되어 있으면 되고 반드시 필수적인 요소는 아니다. 그리고, 선형 부재(12)의 배치 방향은, 인접하는 선형 부재(12, 12)끼리가 서로 교차하지 않으면 되고, 도시한 전후방향에 한정되는 것은 아니다.

Claims (10)

  1. 의모(擬毛)를 장착한 가발 베이스의 개구로부터 장착자의 자모(自毛)를 인출하여, 상기 의모와 혼합하는 자모 활용형 가발로서,
    상기 가발 베이스는 내부에 개구를 가지는 환형 부재와, 상기 개구를 종단(縱斷)하도록 연장되고 서로 떨어져 상기 환형 부재에 병설된 복수개의 선형 부재로 구성되어 있는, 자모 활용형 가발.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 환형 부재는 인공 피부와, 상기 인공 피부 상에 적층된 하측 네트와, 상기 하측 네트 상에 적층된 상측 네트로 구성되어 있는, 자모 활용형 가발.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 인공 피부의 저면에 레이스 테이프 및/또는 새틴(satin) 테이프를 접착한, 자모 활용형 가발.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 환형 부재의 외주 에지로부터 외측으로 돌출되도록 가발 노출 방지용 네트가 상기 가발 베이스에 설치되어 있는, 자모 활용형 가발.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 각 선형 부재의 양 단부는 편평한 평면부로서 형성되고, 상기 평면부는 상기 환형 부재에 협지되고, 또한 실재(絲材)로 봉착(縫着)되어 고정되어 있는, 자모 활용형 가발.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 하측 네트는 우레탄 피막을 통하여 상기 인공 피부에 고착되어 있는, 자모 활용형 가발.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 환형 부재 및 각 선형 부재는 두부(頭部) 형상으로 팽출한 만곡형으로 형성되어 있는, 자모 활용형 가발.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 각 선형 부재는 가로 방향으로 꾸불꾸불한 굴곡부를 구비하고 있는, 자모 활용형 가발.
  9. 제8항에 있어서,
    인접하는 상기 선형 부재끼리의 굴곡부는, 서로 근접 및 이격되도록 상기 환형 부재에 지그재그형으로 병설되어, 각 선형 부재끼리 사이에 장착자의 자모 인출 용으로 넓게 열린 공극(空隙)이 형성되는, 자모 활용형 가발.
  10. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 각 선형 부재는 지그재그형으로 굴곡져 있는, 자모 활용형 가발.
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