KR20080089198A - 리소그래피 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (26)
- 조명 시스템을 이용하여 방사선 빔을 제공하는 단계;상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하도록 패터닝 디바이스를 이용하는 단계; 및기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계를 포함하고,상기 조명 시스템은 상기 방사선 빔을 원하는 조명 모드로 전환하도록 배치된 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 및 연계된 광학 구성요소들을 포함하며,상기 조명 모드의 상이한 부분들에 대해 상이한 개별적으로 제어가능한 요소들을 할당하기 위해 할당 기법(allocation scheme)이 사용되고, 상기 할당 기법은 상기 방사선 빔 또는 상기 조명 모드의 1 이상의 특성에 있어서 원하는 수정(modification)을 제공하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 할당 기법은 상기 조명 모드에서 인접한 위치들로 방사선을 지향하도록, 상기 어레이의 상이한 부분들 내에 위치된 개별적으로 제어가능한 요소들을 이용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 할당 기법은 상기 개별적으로 제어가능한 요소들을 랜덤하게 할당하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 할당 기법은 상기 조명 모드에서 주어진 위치로 방사선을 지향하도록 한 쌍의 개별적으로 제어가능한 요소들을 할당하는 단계를 포함하고, 상기 한 쌍의 개별적으로 제어가능한 요소 각각은 상기 어레이의 상이한 부분 내에 위치되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 할당 기법은 상기 모드에서 주어진 위치로 방사선을 지향하는 다수의 개별적으로 제어가능한 요소들을 선택하는 단계를 포함하고, 상기 선택은 상기 각각의 개별적으로 제어가능한 요소로부터 제공된 방사선의 세기에 의존하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 선택은 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 반사율에 기초하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 선택은 상기 개별적으로 제어가능한 요소들 상에 입사하는 상기 방사선 빔의 세기에 기초하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 할당 기법은 상기 기판 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 동안 상기 방사선 빔의 애포다이제이션(apodization)의 효과를 감소시키기 위해, 상기 방사선 빔의 중심부로 방사선을 지향하도록 할당되는 것보다 상기 방사선 빔의 외측부들로 방사선을 지향하도록 더 많은 개별적으로 제어가능한 요소들을 할당하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 할당 기법은 후속하여 상기 조명 모드에서 주어진 위치로 방사선을 지향하도록 상이한 개별적으로 제어가능한 요소들을 이용하는 단계를 포함하고, 상기 개별적으로 제어가능한 요소들은 상기 방사선 빔의 세기 변동의 효과를 감소시키기 위해 상기 어레이의 상이한 부분들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 할당 기법은 상기 조명 모드의 상이한 구역들로 방사선을 지향하도록 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이의 상이한 부분들을 이용하는 단계를 포함하고, 상기 어레이의 부분들은 상기 방사선 빔의 에너지 분포에 있어서 원하는 수정을 적용하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 10 항에 있어서,상기 에너지 분포 수정은 상기 방사선 빔의 텔레센트리시티(telecentricity) 또는 타원율(ellipticity)의 수정인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 10 항에 있어서,상기 방사선 빔의 에너지 분포에 있어서 원하는 수정을 적용하도록 상기 부분들의 형상들이 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 10 항에 있어서,상기 방사선 빔의 에너지 분포에 있어서 원하는 수정을 적용하도록 상기 부분들의 위치들이 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 할당 기법은 상기 조명 모드의 상이한 구역들로 방사선을 지향하도록 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이의 상이한 부분들을 이용하는 단계를 포함하고, 상기 어레이의 부분들은 상기 조명 모드의 상이한 부분들에 대해 상기 방사선 빔의 원하는 비율들을 지향하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 14 항에 있어서,상기 조명 모드의 상이한 부분들로 지향되는 상기 방사선 빔의 비율들을 수정하도록 상기 어레이의 부분들의 크기들이 수정되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 14 항에 있어서,상기 조명 모드의 상이한 영역들 사이에 경계(boundary)들이 존재하고, 상기 조명 모드의 상이한 부분들은 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이의 상이한 부분들을 이용하여 형성되며, 상기 어레이의 이 부분들의 경계들에 가깝게 위치되는 개별적으로 제어가능한 요소들이 상기 조명 모드의 인접한 영역들로 방사선을 지향하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 14 항에 있어서,상기 할당 기법은 대다수의 거울들보다 더 적은 방사선을 지향하는 거울들을 고려하고, 상기 할당 기법은 상기 조명 모드의 상이한 부분들로 지향되는 상기 방사선 빔의 비율들에 있어서 미세한(fine) 조정을 제공하도록 이 거울들 중 1 이상을 이용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 각각의 개별적으로 제어가능한 요소들 상에 입사하는 방사선은 선택적으로 차단되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 개별적으로 제어가능한 요소들은 피스톤 동작(piston movement)을 수행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 개별적으로 제어가능한 요소들은 거울들인 것을 특징으로 하는 방법.
- 방사선 빔을 원하는 조명 모드로 전환하도록 배치된 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 및 연계된 광학 구성요소들을 포함하는 조명 시스템을 이용하여 방사선 빔을 제공하는 단계;상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하도록 패터닝 디바이스를 이용하는 단계;기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계; 및상기 방사선 빔을 제 1 조명 모드로 전환하도록 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이를 이용한 후, 상기 방사선 빔을 제 2 조명 모드로 전환하도록 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이를 이용하는 단계를 포함하고,상기 어레이는 상기 제 1 조명 모드에서의 위치들로 방사선을 지향하는 개별적으로 제어가능한 요소들이 상기 제 2 조명 모드에서의 위치들로 방사선을 지향하는데 사용되도록 할당 기법에 따라 제어되며, 상기 위치들은 상기 모드들 사이에서 스위칭(switch)하는 경우에 요구되는 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 이동이 랜덤 할당 기법이 사용되었던 경우에 요구되는 것보다 적도록 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 방사선 빔을 원하는 조명 모드로 전환하도록 배치된 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 및 연계된 광학 구성요소들을 포함하는 조명 시스템을 이용하여 방사선 빔을 제공하는 단계;상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하도록 패터닝 디바이스를 이용하는 단계;기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계;상기 방사선 빔의 빔 포인팅 변동(beam pointing variation)을 검출하도록 검출기를 이용하는 단계; 및상기 빔 포인팅 변동을 전체적으로 또는 부분적으로 보정하도록 상기 개별적으로 제어가능한 요소들을 조정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 리소그래피 장치에 있어서:방사선 빔을 제공하도록 구성된 조명 시스템 - 상기 조명 시스템은 상기 방사선 빔을 원하는 조명 모드로 전환하도록 배치된 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 및 연계된 광학 구성요소들, 및 할당 기법에 따라 상기 조명 모드의 상이한 부분들에 대해 상이한 개별적으로 제어가능한 요소들을 할당하도록 배치된 제어기 를 포함하고, 상기 할당 기법은 상기 조명 모드 또는 상기 방사선 빔의 1 이상의 특성에 있어서 원하는 수정을 제공하도록 선택됨 -;상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지 구조체;기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블; 및상기 기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 투영 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 23 항에 있어서,개별적으로 제어가능한 요소들에서 감소된 비율의 방사선을 지향하도록 배치된 빔 스플리터(beam splitter) 또는 감쇠기(attenuator)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 디바이스 제조 방법에 있어서:조명 시스템을 이용하여 방사선 빔을 컨디셔닝(condition)하는 단계 - 방사선 빔을 원하는 조명 모드로 전환하도록 조명 시스템의 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 및 연계된 광학 구성요소들을 제어하는 단계를 포함하고, 상기 제어하는 단계는 할당 기법에 따라 상기 조명 모드의 상이한 부분들에 대해 상이한 개별적으로 제어가능한 요소들을 할당하는 단계를 포함하며, 상기 할당 기법은 상기 조명 모드, 상기 방사선 빔 또는 둘 모두의 1 이상의 특성에 있어서 원하는 수정을 제공하도록 선택됨 -;패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해, 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 패터닝하는 단계; 및기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
- 디바이스 제조 방법에 있어서:조명 시스템을 이용하여 방사선 빔을 컨디셔닝하는 단계 - 상기 컨디셔닝 단계는 제 1 조명 모드에서의 위치들로 방사선을 지향하는 개별적으로 제어가능한 요소들이 제 2 조명 모드에서의 위치들로 방사선을 지향하는데 사용되도록 할당 기법에 따라, 상기 방사선 빔을 상기 제 1 조명 모드 및 상기 제 2 조명 모드로 전환하도록 상기 조명 시스템의 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이를 제어하는 단계를 포함하고, 상기 위치들은 상기 제 1 및 제 2 조명 모드 사이에서 스위칭하는 경우의 상기 개별적으로 제어가능한 요소들의 이동이 랜덤 할당 기법을 이용하는 것보다 적도록 선택됨 -;패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해, 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 패터닝하는 단계; 및기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
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