JP5418230B2 - 露光方法、及び露光装置 - Google Patents
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Description
さらに、2つのミラーデバイスからの光の偏光方向が常に直交している必要があるため、同時に露光できる2種類のパターンは、偏光状態が異なる照明光で照明されるパターンに限られるという制限があった。
また、本発明による別のデバイス製造法は、リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、そのリソグラフィ工程において、本発明の露光装置を用いるものである。
以下、本発明の第1の実施形態につき図1〜図7を参照して説明する。
図1は、本実施形態の露光装置100の概略構成を示す図である。図1において、露光装置100は、パルス発光を行う露光用の光源10と、光源10からの露光用の照明光(露光光)ILで被照射面を照明する照明光学系ILSと、その被照射面又はその近傍の面上に二次元のアレイ状に配列されたそれぞれ傾斜角が可変の微小なミラーである多数のミラー要素5を備えた第2の空間光変調器25とを備えている。さらに、露光装置100は、多数のミラー要素5によって生成すべき可変のパターンからの光束にほぼ相当する照明光ILを受光して、そのパターンの像をウエハW(感光性基板)上に投影する投影光学系PLと、ウエハWの位置決め及び移動を行うウエハステージWSTと、装置全体の動作を制御するコンピュータよりなる主制御系30と、各種制御系等とを備えている。図1において、ウエハステージWSTのガイド面(不図示)に垂直にZ軸を設定し、Z軸に垂直な平面内において図1の紙面に平行な方向にY軸を、図1の紙面に垂直な方向にX軸をそれぞれ設定する。本実施形態では、露光時にウエハWはY方向(走査方向)に走査される。
光源10から射出された断面形状が矩形でほぼ平行光束のパルスレーザ光よりなる照明光ILは、1対の凹レンズ及び凸レンズよりなるビームエキスパンダ11に入射して、その断面形状が所定形状に拡大される。ビームエキスパンダ11から射出された照明光ILは、集光レンズ12によって、第1の空間光変調器13の上面に二次元のアレイ状に配列されたそれぞれ傾斜角が可変の微小なミラーである多数のミラー要素3の反射面を照明する。空間光変調器13は、各ミラー要素3の反射面の直交する2軸の周りの傾斜角を個別に制御する駆動部4を備えている。空間光変調器13は、各ミラー要素3の反射面の傾斜方向及び傾斜角を個別に制御すること(又は空間光変調器13の変換状態を制御すること)によって、照明光ILをほぼ任意の複数の方向に反射することができる(詳細後述)。また、空間光変調器13は、その遠視野に所望の瞳輝度分布を形成する。主制御系30が照明光ILの所定パルス数(1パルス又は複数パルス)の発光毎に、転写用のパターンの情報に基づいて、変調制御部31に照明条件の情報を供給し、これに応じて変調制御部31が駆動部4に各ミラー要素3の反射面の傾斜方向及び傾斜角の設定情報を供給する。また、主制御系30が転写用のパターンの情報に基づく照明条件の情報を変調制御部31に予め供給しておき、照明光ILのパルス発光に合わせて変調制御部31が駆動部4に各ミラー要素3の反射面の傾斜方向及び傾斜角の設定情報を供給してもよい。この場合、主制御系30は、変調制御部31に発光トリガパルスTPを供給すればよい。
フライアイレンズ15に入射した照明光ILは、多数のレンズエレメントにより二次元的に分割され、各レンズエレメントの後側焦点面にはそれぞれ光源が形成される。こうして、フライアイレンズ15の後側焦点面である照明光学系ILSの瞳面(照明瞳面22)には、フライアイレンズ15への入射光束によって形成される照明領域とほぼ同じ強度分布を有する二次光源、すなわち実質的な面光源からなる二次光源が形成される。本実施形態においては、空間光変調器13の各ミラー要素3の反射面の傾斜方向及び傾斜角を個別に制御することによって、フライアイレンズ15の入射面上の光強度分布、ひいては照明瞳面22における二次光源の強度分布をほぼ任意の分布に制御することが可能である。なお、フライアイレンズ15の代わりに、マイクロレンズアレイ等も使用可能である。
図2(A)は、図1の照明光学系ILS中の空間光変調器13の一部を示す拡大斜視図である。図2(A)において、空間光変調器13は、X方向、Z方向に一定ピッチでほぼ密着するように配列された多数のミラー要素3と、この多数のミラー要素3の反射面の角度を個別に制御する駆動部4とを含んでいる。X方向、Z方向のミラー要素3の配列数は例えば数1000である。
また、図3(A)及び(C)はそれぞれ図1の空間光変調器13のZ方向に配列された一列の数1000個のミラー要素3から代表的に選択された複数個のミラー要素3A〜3Gからの反射光を示している。また、図3(B)及び(D)はそれぞれ図3(A)及び(C)の照明瞳面22における二次光源(斜線を施した部分)の形状を示している。
また、図1の投影光学系PLの物体面側(マスク用)の空間光変調器25は、空間光変調器13と同様に構成することができる。ただし、空間光変調器25の各ミラー要素5は、上記の第1の角度及び第2の角度に設定できればよいため、ミラー要素5の駆動機構は、空間光変調器13のミラー要素3の駆動機構よりも簡素化が可能である。
次に、本実施形態の露光装置100による露光動作(主制御系30によって制御される)の一例につき図7のフローチャートを参照して説明する。この場合、一例として、図5(A)に示すマスクパターンMPの縮小像をウエハW上に露光するものとする。マスクパターンMPの情報は主制御系30の記憶部に記憶されている。マスクパターンMPは、X方向に解像限界に近いピッチで配列されたライン・アンド・スペースパターン(以下、L&Sパターンという。)40A〜40C、Y方向に解像限界に近いピッチで配列されたL&Sパターン41A〜41D、及び比較的粗いピッチで配列されたL&Sパターン42A,42B,43を含んでいる。なお、L&Sパターン40A〜40C等は拡大して表示されている。また、実際には、マスクパターンMPは、ウエハW上に投影されるパターンと形状が異なる場合がある。
(1)本実施形態の図1の露光装置100による露光方法は、複数のパルス発光される照明光ILでウエハW(物体)を露光する露光方法であって、空間光変調器25の複数のミラー要素5(第2の光学要素としての反射要素)の反射面の状態(ひいては空間光変調器25の変換状態)を個別に制御するステップ104と、所定面上における照明光ILの強度分布を制御するために空間光変調器13の複数のミラー要素3(第1の光学要素としての反射要素)の反射面の状態(ひいては空間光変調器13の変換状態)を制御するステップ106と、照明光ILによって照明される複数のミラー要素3からの光を複数のミラー要素5へ導光し、複数のミラー要素5からの光でウエハWを露光するステップ107とを含んでいる。
ここで、ウエハWに入射する光とは、ウエハW上での結像に寄与する光(露光光)、つまり転写用のパターンにほぼ相当する光である。また、ウエハWに入射しない光とは、ウエハW上での結像に寄与しない光(非露光光)であって、例えば、その光を投影光学系PL内に入射させないようにすればよいし、その光を投影光学系PL内の開口絞り(不図示)によって遮光してもよい。
また、マスクパターン(又は空間変調器25の変換状態)、又はウエハW上に形成すべきパターンに応じて照明条件を最適化して露光できるので、光量ロスを低減し、良好なパターンを露光することができる。
(4)また、上記の実施形態では、照明光ILが所定パルス数発光される毎に、ステップ104及び106における複数のミラー要素5の反射面の状態の設定、及び複数のミラー要素3における反射面の状態の設定の切り換えを行っている。従って、ウエハW上に露光すべきパターンの切り換え、及び照明条件の最適化を高速に行うことができる。
この結果、複数パルスの照明光ILで露光を行う場合、始めにステップ107において、第1パルス光によって照明される複数のミラー要素3からの光で複数のミラー要素5を照明し、このミラー要素5からの光でウエハWを露光した後、ステップ104、106で複数のミラー要素5及びミラー要素3の少なくとも一方の反射面の状態を変えてから、次のステップ107において、第2パルス光によって照明される複数のミラー要素3からの光で複数のミラー要素5を照明し、このミラー要素5からの光でウエハWを露光することができる。
これに対応して、ステップ106は、照明光ILが所定パルス数発光される毎に、その第1状態に対応して空間光変調器13の複数のミラー要素3からの光の個別の状態を第3状態(例えば図3(E)のX方向の2極照明の状態)に切り換える工程、又はその第2状態に対応して複数のミラー要素3からの光の個別の状態を第4状態(例えば図3(B)のY方向の2極照明の状態)に切り換える工程を含む。これによって、パターン毎に照明条件を最適化できる。
なお、空間光変調器13のミラー要素3は、1軸の周りの反射面の傾斜角が可変範囲内のいずれかの角度になるように設定するのみでもよい。この場合には、照明光ILの利用効率は低下するが、二次光源の生成に使用されないミラー要素3からの光は、フライアイレンズ15に入射させないようにすればよい。
(10)なお、上記の実施形態では、照明光ILはエキシマレーザ光源から発光されるパルス光であるが、その代わりに固体レーザ光源から発光されるパルス光を用いてもよい。この固体レーザ光源は、パルス周波数を1〜2MHz程度に高められるため、このパルス周波数に同期してミラー要素5及びミラー要素3の反射面の状態を高速に切り換えることによって、より多くの種類のパターンが混在するマスクパターンを1回の露光で短時間にウエハ上に露光できる。
(12)また、上記の実施形態のデバイスの製造方法は、上記の実施形態の露光方法を用いてウエハWを露光する工程と、露光されたウエハWを処理する工程(ステップ122)とを含んでいる。
また、この第1の実施形態は以下のような変更も可能である。
本発明の第2の実施形態につき図8を参照して説明する。
図8は、本実施形態の露光装置100Aの概略構成を示す。図1に対応する部分に同一符号を付した図8において、空間光変調器25の多数のミラー要素5によって生成される可変のパターン(光強度分布)の縮小像をウエハW上に投影する投影光学系PLAは、空間光変調器25(物体面)側及びウエハW(像面)側の両側にテレセントリックである。このため、空間光変調器25は、その中心が投影光学系PLAの光軸AXにほぼ合致するように、投影光学系PLAの上方に配置されている。また、空間光変調器25の多数のミラー要素5の設置面とウエハWの露光面とはほぼ平行である。
[第3の実施形態]
本発明の第3の実施形態につき図9を参照して説明する。
(1)図9の露光装置100Bによれば、両側テレセントリックな投影光学系PLAを使用できるとともに、空間光変調器25の設置面(又はミラー要素5の設置面)とウエハWの露光面とをほぼ平行に配置できるため、露光装置の設計、製造が容易である。
(2)また、図7のステップ107に対応する工程(ウエハWに照明光ILを照射する工程)において、図9の照明光学系ILS内の空間光変調器13の複数のミラー要素3(図1参照)からの照明光IL(パルス光)を、空間光変調器25の複数のミラー要素5に略垂直に(駆動電力がオフの状態での反射面に対して略垂直に)入射させている。従って、光学系の調整が容易である。
なお、本発明は、例えば国際公開第99/49504号パンフレット、国際公開第2004/019128号パンフレットなどに開示される液浸型の露光装置、又は投影光学系を用いないプロキシミティ方式の露光装置等にも適用することができる。
また、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む2007年11月6日付け提出の日本国特許出願第2007−289090号の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。
Claims (49)
- 複数のパルス光で物体を露光する露光方法であって、
前記パルス光によって照明されるとともに複数の第1の光学要素を含む第1の光学デバイスからの光を複数の第2の光学要素を含む第2の光学デバイスへ導光し、前記第2の光学デバイスからの光で前記物体を露光するとともに;
前記第2の光学デバイスの変換状態を制御する第1工程と;
前記第1の光学デバイスと前記第2の光学デバイスとの間の所定面上における前記パルス光の強度分布を制御するために、前記第1の光学デバイスの変換状態を制御する第2工程と;
を含み、
前記第1工程は、前記パルス光が所定パルス数発光された後に、前記第2の光学デバイスの変換状態を第1状態から該第1状態とは異なる第2状態に切り換える工程を含み、
前記第2工程は、前記パルス光が所定パルス数発光された後に、前記第1の光学デバイスの変換状態を第3状態から該第3状態とは異なる第4状態に切り換える工程を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記第1工程は、前記物体上に形成すべきパターンに応じて前記第2の光学デバイスの変換状態を制御する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 前記第2工程は、前記第2の光学デバイスの変換状態に応じて前記第1の光学デバイスの変換状態を制御する工程を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の露光方法。
- 前記第2工程は、前記物体上に形成すべきパターンに応じて前記第1の光学デバイスの変換状態を制御する工程を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の露光方法。
- 前記パルス光が所定パルス数発光される毎に、前記第1工程における前記第2の光学デバイスの変換状態と、前記第2工程における前記第1の光学デバイスの変換状態とを、それぞれ切り換えることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1工程は、前記パルス光が所定パルス数発光される毎に、前記第2の光学デバイスの変換状態を前記第1状態又は前記第2状態に切り換える工程を含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第2工程は、前記パルス光が所定パルス数発光される毎に前記第1状態に対応して前記第1の光学デバイスの変換状態を前記第3状態に切り換える工程と、前記パルス光が所定パルス数発光される毎に前記第2状態に対応して前記第1の光学デバイスの変換状態を前記第4状態に切り換える工程とのうち、少なくとも1つの工程を含むことを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記複数のパルス光のうち、第1パルス光によって照明される前記第1の光学デバイスからの光で前記第2の光学デバイスを照明し、該第2の光学デバイスからの光で前記物体を露光する工程と、
前記第1パルス光を用いる場合に対して、前記第1および第2の光学デバイスのそれぞれの変換状態の少なくとも一方を切り換えて、
前記複数のパルス光のうち、第2パルス光によって照明される前記第1の光学デバイスからの光で前記第2の光学デバイスを照明し、該第2の光学デバイスからの光で前記物体を露光する工程と、
を有することを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記所定面は、照明瞳面又は該照明瞳面と共役な面であることを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第2の光学デバイスに対して前記物体を所定方向に走査しながら前記物体を露光する工程を含み、
前記第1工程は、前記物体の前記所定方向への走査に応じて、前記第2の光学デバイスの変換状態を制御する工程を含むことを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記第2の光学デバイスに対して前記物体をステップ移動して、前記物体を露光する工程を含むことを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1工程は、前記物体上に形成すべきパターンのピッチおよび方向に応じて前記第2の光学デバイスの変換状態を制御することを特徴とする請求項1から11のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第2工程は、前記物体上に形成すべきパターンのピッチおよび方向に応じて、前記第2の光学デバイスへ入射させる前記パルス光の入射角度および入射方向を前記第1の光学デバイスによって制御する工程を含むことを特徴とする請求項1から12のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1の光学デバイスは、前記所定面上における前記パルス光の強度分布を変えることで、前記第2の光学デバイスへ入射させる前記パルス光の入射角度および入射方向を制御することを特徴とする請求項1から13のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記複数の第1および第2の光学要素のうち、少なくとも一方の光学要素は反射要素であることを特徴とする請求項1から14のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記複数の第2の光学要素は、前記パルス光を反射する反射面を有する反射要素であり、
前記第1工程は、前記複数の第2の光学要素の各反射面の状態を、該反射面からの反射光が前記物体に入射する状態と、前記反射光が前記物体に入射しない状態とのいずれかに設定する工程を含むことを特徴とする請求項15に記載の露光方法。 - 前記複数の第1の光学要素は、前記パルス光を反射する反射面を有する反射要素であり、
前記第2工程は、前記複数の第1の光学要素の各反射面の状態を、少なくとも一軸の周りの前記反射面の傾斜角が可変範囲内のいずれかの角度になるように設定する工程を含むことを特徴とする請求項15または16に記載の露光方法。 - 前記複数の第1および第2の光学要素のうち、少なくとも一方の光学要素は透過要素であることを特徴とする請求項1から14のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記複数の第1および第2の光学要素のうち、少なくとも一方の光学要素は位相要素であることを特徴とする請求項1から14のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1の光学デバイスからの光を、前記第2の光学デバイスに略垂直に入射させる工程を含むことを特徴とする請求項1から19のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記所定面を通過する光を重畳して前記第2の光学デバイスに照射させるオプティカルインテグレータを用いることを特徴とする請求項1から20のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記パルス光は、固体レーザ光源から発光されるパルス光であることを特徴とする請求項1から21のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第2の光学デバイスからの光を前記物体上に投影する投影光学系を用いることを特徴とする請求項1から22のいずれか一項に記載の露光方法。
- 複数のパルス光で被照射面を照明し、前記被照射面を介した前記複数のパルス光で物体を露光する露光装置であって、
前記被照射面よりも上流に配置されて、複数の第1の光学要素を含む第1の光学デバイスを有する照明光学系と;
前記被照射面またはその近傍に配置されて、複数の第2の光学要素を含む第2の光学デバイスと;
前記第1の光学デバイスの変換状態および前記第2の光学デバイスの変換状態を制御する照明制御装置と;
を備え、
前記照明制御装置は、
前記パルス光が所定パルス数発光された後に、前記第1の光学デバイスの変換状態を第1状態から該第1状態とは異なる第2状態に切り換え、且つ前記第2の光学デバイスの変換状態を第3状態から該第3状態とは異なる第4状態に切り換えることを特徴とする露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記物体上に形成すべきパターンに応じて前記第1の光学デバイスの変換状態を制御することを特徴とする請求項24に記載の露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記第1の光学デバイスと前記第2の光学デバイスとの間の所定面上における前記パルス光の強度分布を制御するために、前記第1の光学デバイスの変換状態を制御することを特徴とする請求項24または25に記載の露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記第2の光学デバイスの変換状態に応じて前記第1の光学デバイスの変換状態を制御することを特徴とする請求項24から26のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記物体上に形成すべきパターンに応じて前記第1の光学デバイスの変換状態を制御することを特徴とする請求項24から26のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記パルス光が所定パルス数発光される毎に、前記第1の光学デバイスの変換状態および前記第2の光学デバイスの変換状態をそれぞれ切り換えることを特徴とする請求項24から28のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記所定面は、前記照明光学系の照明瞳面または該照明瞳面と共役な面であることを特徴とする請求項26に記載の露光装置。
- 前記第2の光学デバイスに対して前記物体を所定方向に走査するステージ装置を備え、
前記照明制御装置は、
前記ステージ装置による前記物体の前記所定方向への走査に応じて、前記第2の光学デバイスの変換状態を制御することを特徴とする請求項24から30のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第2の光学デバイスに対して前記物体を交差する2方向にステップ移動するステージ装置を備え、
前記照明制御装置は、
前記ステージ装置によって前記物体がステップ移動する毎に、前記第2の光学デバイスから前記物体に向かう光で前記物体を露光することを特徴とする請求項24から30のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記物体上に形成すべきパターンのピッチおよび方向に応じて、前記第1の光学デバイ
スの変換状態または前記第2の光学デバイスの変換状態を制御することを特徴とする請求項24から32のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記物体上に形成すべきパターンのピッチおよび方向に応じて、前記第2の光学デバイスへ入射させる前記パルス光の入射角度および入射方向を制御することを特徴とする請求項24から32のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記照明制御装置は、
前記第1の光学デバイスによって前記所定面上における前記パルス光の強度分布を変えることで、前記第2の光学デバイスへ入射させる前記パルス光の入射角度および入射方向を制御することを特徴とする請求項26または30に記載の露光装置。 - 前記複数の第1および第2の光学要素のうち、少なくとも一方の光学要素は反射要素であることを特徴とする請求項24から35のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記複数の第2の光学要素は、前記パルス光を反射する反射面を有する反射要素であり、
前記第2の光学デバイスは、前記複数の第2の光学要素の各反射面の状態を、該反射面からの反射光が前記物体に入射する状態と、前記反射光が前記物体に入射しない状態とのいずれかに設定することを特徴とする請求項36に記載の露光装置。 - 前記複数の第1の光学要素は、前記パルス光を反射する反射面を有する反射要素であり、
前記第1の光学デバイスは、前記複数の第1の光学要素の各反射面の状態を、少なくとも一軸の周りの前記反射面の傾斜角が可変範囲内のいずれかの角度になるように設定することを特徴とする請求項36または37に記載の露光装置。 - 前記複数の第1および第2の光学要素のうち、少なくとも一方の光学要素は透過要素であることを特徴とする請求項24から35のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記複数の第1および第2の光学要素のうち、少なくとも一方の光学要素は位相要素であることを特徴とする請求項24から35のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2の光学デバイスにおける前記複数の第2の光学要素を有する面と、前記物体が配置される面とは互いに略平行に配置されることを特徴とする請求項24から40のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2の光学デバイスと前記第1の光学デバイスとの間に配置されて、前記パルス光を前記第2の光学デバイスの前記複数の第2の光学要素に対して略垂直に入射させるための第1光学部材をさらに備えることを特徴とする請求項24から41のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1光学部材は、偏光ビームスプリッタであることを特徴とする請求項42に記載の露光装置。
- 前記照明光学系は、
前記パルス光で照明された前記第1の光学デバイスからの光で前記第2の光学デバイスを均一に照明するためのオプティカルインテグレータをさらに有することを特徴とする請求項24から43のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記複数のパルス光を供給する光源部を備えることを特徴とする請求項24から44のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記複数のパルス光を供給する固体レーザ光源を備えることを特徴とする請求項24から44のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2の光学デバイスからの光を前記物体上に投影する投影光学系をさらに備えることを特徴とする請求項24から46のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1から23のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光する工程と、
前記露光された物体を処理する工程と、を含むデバイス製造方法。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程において、請求項24から47のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
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