KR20080029894A - 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 변형량이 증가됨에 따라 화상 처리에 시간이 걸리는 회전이나 변배 등의 변형 처리이여도, 처리 능력을 낮게 억제하여 화상 묘화를 위한 노광 데이터를 저비용으로 또한 고 택트(tact)로 취득할 수 있는 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
이를 위해, 미리 복수의 다른 변형 처리 조건에 대하여, 각각 원 화상 데이터에 변형 처리를 행하여 취득된 변형 완료 화상 데이터를 복수 세트 유지해 두고, 이 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터 중에서 입력되는 변형 처리 조건에 가까운 변형 처리 조건에 있어서 얻어진 가상의 변형 완료 화상 데이터를 1세트 선출하고, 입력 변형 처리 조건과 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터의 변형 처리 조건의 차분에 따라, 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터에 변형 처리를 행하고, 묘화점 데이터로서 변형 완료 화상 데이터를 취득함으로써 상기 과제를 해결한다.
묘화점 데이터 취득 방법, 묘화점 데이터 취득 장치, 묘화 방법, 묘화 장치

Description

묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING DRAWING POINT DATA, AND DRAWING METHOD AND APPARATUS}
본 발명은 원 화상 데이터를 변형 처리하여 묘화 대상 위에 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위해 이용되는 묘화점 데이터로서 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 및 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 묘화 대상 위에 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하는 묘화 방법 및 장치에 관한 것이다.
종래부터, 원 화상 데이터를 회전, 확대, 축소, 자유 변형 등을 하여 화상 변형하여 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 화상 변형 처리가 필요로 되고, 이를 위해 여러가지의 화상 변형 처리 방법이 제안되어 있다.
이러한 화상 변형 처리 방법으로서, 예컨대, 특허문헌1에는, 복사기나 프린터 등의 화상 기록 장치에 있어서, 읽어들인 화상이나 입력된 화상(원 화상 데이터)을 회전하여, 예컨대, 90°회전해서 화상(회전 완료 화상 데이터)을 출력하기 위해서 미리 화상 사이즈나 회전 방향이나 각도, 구체적으로는, 32×32bit의 화상 사이즈, 90°반시계방향 회전 등의 화상 회전에 필요한 설정을 행해 두고, 예컨대, 화상 데이터가 2치 데이터이고, 원 화상 데이터가 기록된 RAM 등의 메모리로부터 통상의 판독 방법으로 각 화소 데이터를, 예컨대 행(X)방향으로 32bit 단위로 판독하고, 회전 완료 화상 데이터가 기록되는 RAM 등에 통상의 판독 방법으로 판독한 경우에 원하는 각도로 회전되어 있도록 불연속 어드레싱에 의해 전송하여 회전 완료 화상 데이터로서, 별도의 화상 메모리에 열(Y)방향으로 32bit 단위로 기록함으로써 통상의 판독 방법으로 회전 완료 화상 데이터의 각 화소를 판독한 경우에 90°로 회전되어 있도록 하고 있다(특허문헌1의 도 8, 도 9, 및 단락0040~단락0042 참조).
이 때문에, 특허문헌1에 있어서는, 상술한 방법에서는 32×32bit의 회전 화상을 얻기 위해서는 상술한 32bit 단위의 데이터 전송을 32회 행하는 필요가 있고, 또한 불연속인 어드레스로부터 화상 데이터를 전송할 필요가 있기 때문에 화상을 회전하는 처리에는 시간이 걸리고, 화상 회전 처리를 하지 않는 출력 처리에 비해서 출력 처리 시간에 장시간을 요하기 때문에, 화상 회전 처리를 출력 처리를 실제로 행하는 것에 앞서서, 특히, 다른 처리가 전혀 실행되어 있지 않은 처리 대기 상태의 기간에 미리 행하여 두는 것을 제안하고 있다.
다른 화상 변형 처리 방법으로서, 예컨대, 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 각 화소 데이터의 배치 위치를 나타내는 각 화소 위치 정보마다의 좌표값을 원 화상 데이터의 좌표계로 변환하고, 즉, 원하는 변형과는 반대의 변형을 나타내는 역변환을 상기 좌표값에 실시하고, 그 역변환 후의 좌표값에 대응하는 원 화상 데이터 상에 있어서의 원 화소 데이터를 취득하고, 그 원 화소 데이터를 상기 변형 완료 화상 데이터의 화소 위치 정보의 화소 데이터로 함으로써 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 소위 다이렉트 맵핑 방법이 제안되어 있다.
이 다이렉트 맵핑 방법에서는, 예컨대, 도 21(A)에 나타내는 원 화상 데이터를 시계방향으로 회전해서 도 21(B)에 나타내는 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 경우에는 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 배치 위치를 나타내는 화소 위치 정보(x,y,)에 반 시계방향의 회전 연산을 실시해서 역변환 화소 위치 정보(x,y)를 취득하고, 그 역변환 화소 위치 정보(x,y)가 나타내는 위치에 있는 원 화소 데이터를 취득하고, 그 원 화소 데이터를 상기 화소 위치 정보(x,y')의 화소 데이터로 함으로써 도 21(B)에 나타내는 변형 완료 화상 데이터를 취득할 수 있다.
그러나, 이러한 다이렉트 맵핑 방법에 있어서도 원 화소 데이터로부터 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 때에는 역변환 화소 위치 정보(x,y)가 나타내는 위치에 있는 원 화소 데이터를 판독할 필요가 있기 때문에 불연속인 어드레스로부터 화상 데이터를 판독하는 것이 필요하게 되고, 회전 등의 화상 변형 처리에는 시간이 걸린다는 문제가 있다.
그런데, 프린트 배선판(PWB)이나 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 표시 장치(PDP) 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)의 기판에 배선 패턴이나 필터 패턴 등의 소정의 패턴을 기록하는 장치로서 포토리소그래프의 기술을 이용한 노광 장치가 여러가지로 제안되어 있다.
이러한 노광 장치에 있어서는, 예컨대, 디지털 마이크로 미러 장치(DMD) 등의 공간 광변조 소자를 이용하고, 소정의 패턴을 나타내는 화상 데이터에 따라 공 간 광변조 소자에 의해 변조된 다수의 광 빔을 주사하여 포토레지스트가 도포된 기판 상에 조사함으로써 소정의 패턴을 기판 상에 형성하고 있다.
이러한 DMD를 이용하는 노광 장치에 있어서는, 예컨대, DMD를 기판 상의 노광면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 주사 방향으로의 이동에 따라 DMD의 메모리셀에 DMD의 다수의 마이크로 미러에 대응한 다수의 묘화점 데이터로 이루어지는 프레임 데이터를 입력하고, DMD의 마이크로 미러에 대응한 묘화점군을 시계열으로 순차적으로 형성함으로써 원하는 화상을 노광면에 형성하는 노광 장치가 제안되어 있다(예컨대 특허문헌2 참조).
여기서, 이러한 노광 장치에 의해 형성되는 PWB의 배선 패턴 등은 점점 고정밀ㆍ세밀화가 진행되는 경향이 있고, 예컨대, 다층 프린트 배선판을 형성하는 경우에는 각 층의 배선 패턴의 위치 맞춤을 고정밀도로 행할 필요가 있다. 또한, FPD의 사이즈는 점점 대형화가 진행되는 경향이 있고, 큰 사이즈인데도 불구하고 필터 패턴의 위치 맞춤은 고정밀도로 행할 필요가 있다.
이 때문에, DMD를 이용하는 노광 장치에 있어서는 DMD를 소정 각도 경사지게 하여 노광 도트의 고밀도화를 도모하여 패턴의 고밀도화에 대응하려고 하고 있다. 그 결과, DMD의 메모리셀에 입력하기 위해서, DMD의 다수의 마이크로 미러에 대응한 다수의 묘화점 데이터로 하기 위해서는, 원 화상 데이터를 그대로가 아니라, 소정 각도 회전시킨 회전 완료 화상 데이터로 할 필요가 있다.
따라서, 이러한 경우에는 예컨대 상술한 다이렉트 맵핑 방법을 적용할 수 있다.
[특허문헌1] 일본 특허 공개 2001-285612호 공보
[특허문헌2] 일본 특허 공개 2004-233718호 공보
그러나, 상술한 다이렉트 맵핑 방법을 행할 때, 변형 완료 화상 데이터에 있어서의 모든 화소 위치 정보에 상기와 같은 역변환을 실시하도록 한 것에서는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 수만큼 역변환의 연산처리를 행해야만 하고, 긴 시간이 필요할 경우가 있다. 특히, 최근 취급되는 화상 데이터의 해상도는 점점 높아지는 경향이 있고, 그러한 경향에 있어서 상기와 같은 화상 변형 처리를 행하고 있는 것에서는 점점 처리 시간이 길어져 버린다는 문제가 있다.
또한, 종래의 화상 변형 처리 방법에서는 반드시 화상 데이터의 전송에 불연속 어드레싱이 필요하게 되기 때문에, 화상의 회전 처리나 변배 처리는 회전 각도나 변형량이 크면 어드레싱이 불연속으로 되는 개소가 많아지기 때문에 시간이 걸리고, 회전 각도나 변형량에는 거의 비례해서 화상 처리의 시간이 길어진다는 문제가 있었다. 특히, 화상 데이터가 압축 화상 데이터인 경우에는, 상술한 바와 같이, 불연속 어드레싱마다 압축 화상 데이터를 해동하고, 예컨대, 다른 행의 화상 데이터를 편집하고, 편집 후의 화상 데이터를 압축할 필요가 있기 때문에 편집 개소가 증가되면 화상 변형 처리에 또한 시간이 걸린다는 문제가 있다.
이 때문에, 특허문헌1과 같이, 미리 화상 사이즈나 회전 방향이나 각도 등의 화상 회전에 필요한 설정을 행하고, 출력 처리를 실제로 행하는 것에 앞서서 미리 행해 두는 것이 고려되지만, DMD를 이용하는 노광 장치에 있어서는 DMD의 경사 각도는 미리 설정할 수 있지만, 노광 장치에 있어서 DMD에 의해 노광되는 기판은 DMD와 상대적으로 이동하는 스테이지 상에 적재되거나, 기판을 DMD에 대하여 정확하게 위치 맞춤해서 적재하는 것은 곤란하고, 이동시의 상대 위치의 변동이나, 이동 스테이지의 변동이나, 열처리를 받는 기판의 경우에는 기판 자체의 변형 등도 생기기 때문에 미리 이들 변형을 모두 고려할 수는 없으므로 특허문헌1에 기재된 방법은 적용할 수 없다는 문제가 있다.
상술한 바와 같이, 이러한 종래의 DMD를 이용하는 노광 장치에서는 회전 처리나 변배 처리 등의 화상 변형 처리는 시간이 걸리기 때문에 그것을 피하기 위해서 비용을 들여서 화상 처리 능력을 늘릴 필요가 있다.
예컨대, 기판을 적재하는 스테이지로서 θ스테이지(회전 스테이지)를 이용하여 DMD에 대하여 적어도 경사 각도에 대해서는 정확하게 위치 맞춤할 수 있지만, θ스테이지는 노광 장치의 비용 상승을 초래한다는 문제가 있다.
또한, 시간이 걸리는 회전 처리나 변배 처리 등의 화상 변형 처리를 리얼타임으로 하기 위해서 다이나믹 서포트 프로그램(DSP)으로 행하는 것도 고려되지만, DSP의 경우이면 라인 버퍼의 수에 제한이 있기 때문에 처리 능력에 한계가 있다는 문제가 있다.
또한, 퍼스널 컴퓨터(PC) 등의 컴퓨터나 상술의 DSP의 처리 능력(파워)을 증대시키는 것도 고려되지만. 파워 업은 비용 상승을 초래한다는 문제가 있다.
본 발명은 상기 종래기술의 문제점을 감안하여, 회전 각도나 신축 배율 등의 변형량이 증가됨에 따라 화상 처리에 시간이 걸리는 회전이나 변배 등의 화상 변형 처리이여도 화상 처리 능력을 낮게 억제하고, 묘화 대상 위에 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위해서 원 화상 데이터로부터 화상 묘화에 이용되는 묘화 점 데이터를 취득하는 것을 저비용으로 또한 고택트로 실현할 수 있는 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치를 제공하는 것을 제 1 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 제 1 목적을 달성할 수 있는 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 묘화 대상 위에 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하는 것을 저비용으로 또한 고택트로 실현할 수 있는 묘화 방법 및 장치를 제공하는 것을 제 2 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 회전이나 변배 등의 화상 변형 처리에 있어서 보다 고속화를 도모할 수 있는 것을 다른 목적으로 하는 것이다.
또한, 본 발명은 기판의 변형이나 기판의 이동 방향의 어긋남 등에 영향을 주는 일 없이 기판 상의 원하는 위치에 원하는 화상을 묘화하는 것을 다른 목적으로 하는 것이다.
상기 제 1 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제 1 형태는, 원 화상 데이터를 변형 처리하여 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위해 이용되는 묘화점 데이터로서 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서, 미리 복수의 다른 변형 처리 조건에 대하여 각각 제 1 처리법에 의해 상기 원 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하여 취득된 변형 완료 화상 데이터를 복수 세트 유지해 두고, 이 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터 중에서 입력되는 변형 처리 조건에 가까운 변형 처리 조건에 있어서 얻어진 가상의 변형 완료 화상 데이터를 1세트 선출하고, 상기 입력 변형 처리 조건과 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터의 상기 변형 처리 조건의 차분에 따라 제 2 처리법에 의해 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하고, 상기 묘화점 데이터로서 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법을 제공하는 것이다.
여기서, 본 형태의 제 1 형태에 있어서는, 상기 제 2 처리법은 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건을 상기 차분으로 할 때, 상기 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 배치 위치를 나타내는 화소 위치 정보를 연결하는 변형후 벡터 정보를 설정하고, 상기 설정된 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보 중 일부의 상기 화소 위치 정보를 취득하고, 상기 취득된 일부의 화소 위치 정보에 대해서만 상기 변형 처리와는 반대의 변형 처리를 나타내는 역변환 연산을 실시해서 상기 일부의 화소 위치 정보에 대응하는 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 역변환 화소 위치 정보를 취득하고, 상기 취득된 역변환 화소 위치 정보에 기초하여 상기 입력 화상 데이터로부터 상기 변형후 벡터에 대응하는 입력 화소 데이터를 취득하고, 상기 취득된 입력 화소 데이터를 상기 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 역변환 화소 위치 정보를 연결하는 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 입력 벡터 정보를 설정하고, 상기 설정된 입력 벡터 정보가 나타내는 입력 벡터 상에 있어서의 상기 입력 화소 데이터를 상기 입력 화상 데이터로부터 취득하고, 상기 취득된 입력 화소 데이터를 상기 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화 소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 역변환 화소 위치 정보를 곡선으로 연결해서 상기 입력 벡터 정보를 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 입력 벡터 정보에 상기 입력 화소 데이터를 취득하는 피치 성분이 포함되어 있거나, 또는 상기 입력 벡터 정보에 기초하여 상기 입력 화소 데이터를 취득하는 피치 성분을 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제 1 처리법은 상기 원 화상 데이터를 상기 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건을 상기 복수의 다른 변형 처리 조건의 하나인 것으로 할 때, 상기 제 2 처리법과 마찬가지로 행하는 것인 것이 바람직하다.
또한, 상기 묘화점 데이터는 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역에 맵핑되고, 상기 복수의 묘화점 형성 영역에서 묘화하기 위한 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성되는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태의 제 2 형태에 있어서는, 상기 제 2 처리법은 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건이 상기 차분이며, 상기 묘화 대상이 상기 차분만큼 변형되어 있는 것으로 할 때, 상기 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 상기 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 이 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 상기 입력 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위한 상기 묘화점 데이터를 취득함에 있어서, 상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 상기 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 입력 화상 데이터로부터 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 스텝은 상기 입력 화상 데이터가 담지하는 상기 화상의 묘화를 행할 때의 상기 묘화 대상 위에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고, 상기 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 것인 것이 바람직하다.
또한, 상기 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 스텝은 상기 묘화 대상 위의 화상 공간에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 것인 것이 바람직하다.
또한, 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크 및/또는 기준 부위를 검출하여 그 기준 마크 및/또는 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고, 그 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하고, 그 취득한 어긋남 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하고, 그 취득한 어긋남 정보 및 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 묘화 궤적의 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것이 바람직하다.
또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하고, 그 취득한 속도 변동 정보에 기초하여 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 묘화 대상 위의 묘화 영역만큼 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 각 화소 데이터로부터 묘화점 데이터를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 복수의 묘화점 형성 영역에 의해 묘화를 행할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서, 묘화점 형성 영역마다 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것이 바람직하다.
또한, 묘화점 형성 영역을 공간 광변조 소자에 의해 형성되는 빔 스폿으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 묘화점 데이터 궤적 정보에 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되는 것이 바람직하다.
또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비한 것으로 하고 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 2차원상으로 배열하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제 1 처리법은 상기 원 화상 데이터를 상기 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형의 변형량을 상기 복수의 다른 변형량의 하나인 것으로 할 때, 본 형태의 제 1 형태에 있어서의 상기 제 2 처리법과 마찬가지로 행하는 것임이 바람직하다.
또는, 상기 제 1 처리법은 상기 원 화상 데이터를 상기 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형의 변형량을 상기 복수의 다른 변형량의 하나인 것으로 할 때, 상기 제 2 처리법과 마찬가지로 행하는 것임이 바람직하다.
또한, 상기 묘화점 데이터는 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역 각각마다 취득되고, 상기 복수의 묘화점 형성 영역에 대하여 2차원적으로 배열되고, 이 2차원적으로 배열된 상기 묘화점 데이터는, 옮겨 놓아져 상기 2차원 공간 변조 소자의 상기 복수의 묘화 소자로 묘화하기 위해 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성되는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는 상기 원 화상 데이터 및 상기 변형 완료 화상 데 이터가 압축 화상 데이터인 것이 바람직하다.
또한, 상기 원 화상 데이터 및 상기 변형 완료 화상 데이터가 2치 화상 데이터인 것이 바람직하다.
상기 제 2 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제 2 형태는, 본 발명의 제 1 형태의 묘화점 데이터 취득 방법에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법을 제공하는 것이다.
상기 제 1 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제 3 형태는, 원 화상 데이터를 변형 처리하여 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위해 이용되는 묘화점 데이터로서 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서, 미리 복수의 다른 변형 처리 조건에 대하여 각각 제 1 처리법에 의해 상기 원 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하여 취득된 변형 완료 화상 데이터를 복수 세트 유지하는 데이터 유지부와, 이 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터 중에서 입력되는 변형 처리 조건에 가까운 변형 처리 조건에 있어서 얻어진 가상의 변형 완료 화상 데이터를 1세트 선출하는 화상 선택부와, 상기 입력 변형 처리 조건과 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터의 상기 변형 처리 조건의 차분에 따라 제 2 처리법에 의해 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하고, 상기 묘화점 데이터로서 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 변형 처리부를 갖는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치를 제공하는 것이다.
여기서, 본 형태의 제 1 형태에 있어서는, 상기 변형 처리부는 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건을 상기 차분으로 할 때, 상기 제 2 처리법을 실시하는 것이고, 상기 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 배치 위치를 나타내는 화소 위치 정보를 연결하는 변형후 벡터 정보를 설정하는 변형후 벡터 정보 설정부와, 상기 변형후 벡터 정보 설정부에 의해 설정된 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보 중 일부의 상기 화소 위치 정보를 취득하는 화소 위치 정보 취득부와, 상기 화소 위치 정보 취득부에 의해 취득된 일부의 화소 위치 정보에 대해서만 상기 변형 처리와는 반대의 변형 처리를 나타내는 역변환 연산을 실시해서 상기 일부의 화소 위치 정보에 대응하는 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 역변환 화소 위치 정보를 취득하는 역변환 연산부와, 상기 역변환 연산부에 의해 취득된 역변환 화소 위치 정보에 기초하여 상기 입력 화상 데이터로부터 상기 변형후 벡터에 대응하는 입력 화소 데이터를 취득하는 입력 화소 데이터 취득부와, 상기 입력 화소 데이터 취득부에 의해 취득된 입력 화소 데이터를 상기 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 변형 완료 화상 데이터 취득부를 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는, 또한, 상기 묘화점 데이터를 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역에 대하여 맵핑하고, 상기 복수의 상기 묘화점 형성 영역에 의해 묘화하기 위한 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성하는 프레임 데이터 작성부를 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는, 또한, 역변환 화소 위치 정보를 연결하는 원 화상 데이터 상에 있어서의 원 벡터 정보를 설정하는 원 벡터 정보 설정부를 추가로 구비하는 것이 바람직하고, 원 화소 데이터 취득부를 원 벡터 정보 설정부에 의해 설정된 원 벡터 정보가 나타내는 원 벡터 상에 있어서의 원 화소 데이터를 원 화상 데이터로부터 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 원 벡터 정보 설정부는 역변환 화소 위치 정보를 곡선으로 연결해서 원 벡터 정보를 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 원 벡터 정보에 원 화소 데이터를 취득하는 피치 성분을 포함하거나 또는 원 벡터 정보에 기초하여 원 화소 데이터를 취득하는 피치 성분을 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태의 제 2 형태에 있어서는, 상기 변형 처리부는 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건이 상기 차분이며, 상기 묘화 대상이 상기 차분만큼 변형되어 있는 것으로 할 때, 상기 제 2 처리법을 실시하는 것이고, 상기 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 상기 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 이 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 상기 입력 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위한 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것이며, 상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득부와, 상기 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 입력 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득부를 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는, 또한, 상기 묘화점 데이터를 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역 각각마다 취득되고, 상기 복수의 묘화점 형성 영역에 대하여 2차원적으로 배열하고, 이 2차원적으로 배열된 상기 묘화점 데이터를 옮겨 놓아서 상기 2차원 공간 변조 소자의 상기 복수의 묘화 소자로 묘화하기 위해 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성하는 프레임 데이터 작성부를 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는, 또한, 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크 및/또는 기준 부위를 검출하여 그 기준 마크 및/또는 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하는 위치 정보 검출부를 구비하는 것이 바람직하고, 또한, 묘화 궤적 정보 취득부는 위치 정보 검출부에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는, 또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득부를 구비하는 것이 바람직하고, 또한, 묘화점 궤적 정보 취득부는 어긋남 정보 취득부에 의해 취득된 어긋남 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는, 또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득부를 구비하는 것이 바람직하고, 또한, 묘화점 궤적 취득부는 어긋남 정보 취득부에 의해 취득된 어긋남 정보 및 위치 정보 검출부에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 묘화점 데이터 취득부는 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 묘화 궤적의 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것이 바람직하다.
또한, 본 형태에 있어서는, 또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득부를 구비하는 것이 바람직하고, 또한, 묘화점 데이터 취득부는 속도 변동 정보 취득부에 의해 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 묘화 대상 위의 묘화 영역만큼 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 각 화소 데이터로부터 묘화점 데이터를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 묘화점 형성 영역을 복수개 갖는 것이 바람직하고, 묘화점 데이터 취득부가 묘화점 형성 영역마다 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것이 바람직하다.
또한, 묘화점 형성 영역을 형성하는 공간 광변조 소자를 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 묘화점 데이터 궤적 정보에 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분을 부수하는 것이 바람직하다.
또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비하는 것이 바람직하고, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득부가 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것이 바람직하다.
또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 2차원상으로 배열하도록 하는 것이 바람직하다.
상기 제 2 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제 4 형태는, 본 발명의 제 3 형태의 묘화점 데이터 취득 장치와, 상기 묘화점 데이터 취득 장치에 있어서 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하는 묘화부를 갖는 것을 특징으로 하는 묘화 장치를 제공하는 것이다.
여기서, 「벡터 정보」는 화소 위치 정보 또는 역변환 화소 위치 정보를 직선으로 연결하는 것뿐만 아니라 곡선으로 연결하는 것도 들 수 있다.
또한, 「역변환 연산」은, 예컨대, 상기 변형이 소정의 방향으로의 회전인 경우에는 그 소정의 방향과는 반대 방향의 회전을 나타내는 연산, 상기 변형이 확대인 경우에는 축소를 나타내는 연산, 상기 변형이 소정의 방향으로의 시프트인 경우에는 그 소정의 방향과는 반대 방향의 시프트를 나타내는 연산 등도 들 수 있다.
또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 2차원상으로 배열하도록 할 수 있다. 여기서, 상기 「묘화점 형성 영역」은 기판 상에 묘화점을 형성하는 영역이면 어떠한 것으로 형성되는 영역이어도 되고, 예컨대, DMD와 같은 공간 광변조 소자의 각 변조 소자에 의해 반사된 빔 광에 의해 형성되는 빔 스폿이어도 되고, 광원으로부터 발생한 빔 광 자체에 의해 형성되는 빔 스폿이어도 되며, 혹은 잉크젯 방식의 프린터의 각 노즐로부터 토출된 잉크가 부착되는 영역으로 해도 된다.
<발명의 효과>
본 발명의 제 1 및 제 3 형태의 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치에 의하면, 회전 각도나 신축 배율 등의 변형량이 증가됨에 따라 화상 처리에 시간이 걸리는 회전이나 변배 등의 화상 변형 처리이여도 실제의 처리 조건(회전 각도나 신축 배율 등의 변형량)과 관계 없이 고정의 복수 조건(회전 각도나 신축 배율 등의 변형량)으로 미리 화상 변형 처리한 변형 완료 화상을 유지해 두고, 실제의 처리 조건에 가까운 변형 완료 화상을 선택하고, 선택된 변형 완료 화상을 소정 차분만을 화상 변형 처리함으로써 화상 처리 능력을 낮게 억제하고, 묘화 대상 위에 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위해서 원 화상 데이터로부터 화상 묘화에 이용되는 묘화점 데이터를 저비용으로 또한 고택트로 취득할 수 있다.
또한, 본 발명의 제 2 및 제 4 형태의 묘화 방법 및 장치에 의하면, 상기 효과를 발휘하는 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 묘화 대상 위에 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 저비용으로 또한 고택트로 묘화할 수 있다.
또한, 본 발명의 각 형태의 제 1 형태에 의하면, 상기 효과에 추가로, 회전이나 변배 등의 화상 변형 처리에 있어서 변형 완료 화상 데이터에 있어서의 일부의 화소 위치 정보에만 역변환 연산을 실시하면 되고, 종래와 같이 모든 화소 위치 정보에 역변환 연산을 실시하는 경우와 비교해서 보다 고속으로 변형 완료 화상 데이터를 취득할 수 있다.
또한, 본 발명의 각 형태의 제 2 형태에 의하면, 상기 효과에 추가로, 기판 등의 묘화 대상의 변형이나 묘화 대상의 이동 방향의 어긋남 등에 영향을 주어지는 일 없이 묘화 대상 위의 원하는 위치에 원하는 화상을 묘화할 수 있다. 본 형태에 의하면, 화상을 나타내는 화상 데이터 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하므로, 예컨대, 기판에 변형이나 위치 어긋남이 생긴 경우에도 기판 등의 묘화 대상 위나 화상 공간 위에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 미리 취득하고, 그 묘화 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득할 수 있으므로, 상기 변형이나 위치 어긋남에 따른 화상을 묘화 대상 위에 묘화할 수 있다. 이 경우, 예컨대, 다층 프린트 배선판을 형성하는 때에는 각 층의 배선 패턴을 그 각 층의 변형에 따라 형성할 수 있으므로 각 층의 배선 패턴의 위치 맞춤을 행할 수 있다.
또한, 본 형태에 의하면, 예컨대, 묘화 대상이 되는 기판을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써 기판 위를 광 빔으로 주사하도록 했을 때, 기판의 이동 방향으로 어긋남이 생긴 경우이여도 그 이동 방향의 어긋남에 따른 묘화 궤적의 정보 를 미리 취득하고, 그 묘화 궤적 정보에 대응한 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득할 수 있으므로, 상기 이동 방향의 어긋남에 영향을 주어지는 일 없이 기판 상의 원하는 위치에 원하는 화상을 묘화할 수 있다.
또한, 본 형태에 의하면, 화상 데이터를 기억하는 메모리의 어드레스를 상기 묘화점 데이터 궤적에 따라 계산해서 묘화점 데이터를 취득하도록 할 수 있으므로, 상기 어드레스의 계산을 용이하게 행할 수 있다. 이 때문에, 본 형태에 의하면 화상 데이터가 압축 화상 데이터일 때에 특히 효과적이다.
본 발명에 따른 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치 및 묘화 방법 및 장치를 첨부의 도면에 나타내는 바람직한 실시형태를 참조해서 이하에 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 묘화 방법을 실시하는 본 발명의 묘화 장치를 적용하는 노광 장치의 일실시형태의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다. 도시예의 노광 장치는 다층 프린트 배선판의 각 층의 배선 패턴 등의 각종 패턴을 노광하는 장치이며, 그 패턴을 노광하기 위해서 이용되는 노광점 데이터의 취득 방법에 특징을 갖는 것이지만, 우선은 노광 장치의 개략적인 구성에 대해서 설명한다.
노광 장치(10)는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 그 길이 방향이 스테이지 이동 방향을 향하도록 배치되고, 기판(12)을 표면에 흡착해서 유지하는 직사각형 평판 형상의 이동 스테이지(14)와, 스테이지 이동 방향으로 연장되도록 배치되고, 이동 스테이지(14)를 스테이지 이동 방향으로 왕복 이동 가능하게 지지하는 2개의 가이드(20)와, 그 상면에 스테이지 이동 방향을 따라 연장된 2개의 가이드(20)가 설 치되는 두꺼운 판형상의 설치대(18)와, 설치대(18)를 지지하는 4개의 다리부(16)와, 설치대(18)의 중앙부에 이동 스테이지(14)의 이동 경로를 걸치도록 설치되고, 그 단부의 각각이 설치대(18)의 양측면에 고정되는 コ자 형상의 게이트(22)와, 이 게이트(22)를 사이에 두고 한쪽측에 설치되며 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)에 배선 패턴 등의 소정의 패턴을 노광하는 노광 스캐너(24)와, 게이트(22)를 사이에 두고 다른쪽측에 설치되며 기판(12)의 선단 및 후단과, 기판(12)에 미리 설치되어 있는 원형상의 복수의 기준 마크(12a)의 위치를 검지하기 위한 복수의 카메라(26)를 갖는다.
여기서, 기판(12)에 있어서의 기준 마크(12a)는 미리 설정된 기준 마크 위치 정보에 기초하여 기판(12) 상에 형성된 가령 구멍이다. 또한, 구멍 외에 랜드나 뷰어나 에칭 마크를 이용해도 된다. 또한, 기판(12)에 형성된 소정의 패턴, 예컨대, 노광하려고 하는 층의 하층의 패턴 등을 기준 마크(12a)로서 이용하도록 해도 된다. 또한, 도 1에 있어서는 기준 마크(12a)를 6개밖에 도시하고 있지 않지만 실제로는 다수의 기준 마크(12a)가 설치되어 있다.
노광 스캐너(24) 및 카메라(26)는 게이트(22)에 각각 부착되어 이동 스테이지(14)의 이동 경로의 상방에 고정 배치되어 있다. 또한, 스캐너(24) 및 카메라(26)는 이들을 제어하는 후술의 컨트롤러(52)(도 5 참조)에 접속되어 있다.
노광 스캐너(24)는, 도 2 및 도 3(B)에 나타내는 바와 같이, 도시예에서는 2행 5열의 대략 매트릭스상으로 배열된 10개의 노광 헤드(30)(30A~30J)를 구비하고 있다.
각 노광 헤드(30)의 내부에는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 입사된 광 빔을 공간 변조하는 공간 광변조 소자(SLM)인 디지털 마이크로 미러 장치(DMD)(36)가 설치되어 있다. DMD(36)는 마이크로 미러(38)가 직교하는 방향으로 2차원상으로 다수배열된 것이며, 그 마이크로 미러(38)의 열방향이 주사 방향과 소정의 설정 경사 각도(θ)를 이루도록 부착되어 있다. 따라서, 각 노광 헤드(30)에 의한 노광 영역(32)은 주사 방향에 대하여 경사진 직사각형상의 영역으로 된다. 스테이지(14)의 이동에 따라 기판(12)에는 노광 헤드(30)마다 띠형상의 노광 완료 영역(34)이 형성된다. 또한, 각 노광 헤드(30)에 광 빔을 입사하는 광원에 대해서는 도시 생략하고 있지만, 예컨대, 레이저 광원 등을 이용할 수 있다.
노광 헤드(30) 각각에 설치된 DMD(36)는 마이크로 미러(38) 단위로 온/오프 제어되고, 기판(12)에는 DMD(36)의 마이크로 미러(38)의 상(像)(빔 스폿)에 대응한 도트 패턴(흑/백)이 노광된다. 상술한 띠형상의 노광 완료 영역(34)은 도 4에 나타내는 마이크로 미러(38)에 대응한 2차원 배열된 도트에 의해 형성된다. 2차원 배열의 도트 패턴은 주사 방향에 대하여 경사져 있는 것으로, 주사 방향으로 나열되는 도트가 주사 방향과 교차하는 방향으로 나열되는 도트 사이를 통과하게 되어 있어 고해상도화를 도모할 수 있다. 또한, 경사 각도의 조정의 불균형에 의해 이용하지 않은 도트가 존재하는 경우도 있고, 예컨대, 도 4에서는 사선으로 된 도트는 이용하지 않은 도트로 되고, 이 도트에 대응하는 DMD(36)에 있어서의 마이크로 미러(38)는 항상 오프 상태로 된다.
또한, 도 3(A) 및 (B)에 나타내는 바와 같이, 띠형상의 노광 완료 영역(34) 각각이 인접하는 노광 완료 영역(34)과 부분적으로 겹치도록 라인상으로 배열된 각행의 노광 헤드(30) 각각은 그 배열 방향으로 소정 간격 어긋나게 해서 배치되어 있다. 이 때문에, 예컨대, 1행째의 가장 좌측에 위치하는 노광 영역(32A), 노광 영역(32A)의 우측 이웃에 위치하는 노광 영역(32C)과의 사이의 노광할 수 없는 부분은 2행째의 가장 좌측에 위치하는 노광 영역(32B)에 의해 노광된다. 마찬가지로, 노광 영역(32B)과, 노광 영역(32B)의 우측 이웃에 위치하는 노광 영역(32D)과의 사이의 노광할 수 없는 부분은 노광 영역(32C)에 의해 노광된다.
다음에, 노광 장치(10)의 주된 전기적 구성에 대해서 설명한다. 이하에서는 화상의 변형 처리로서 회전 처리 및 확대ㆍ축소 등의 변배 처리를 대표예로서 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 유사성이 있으면 자유 변형 등이어도 되는 것은 물론이다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10)는, 데이터 작성 장치(40)로부터 벡터 데이터를 받고, 래스터 데이터로 변환하고, 미리 설정된 복수의 다른 소정의 회전 각도, 변배율 등의 변형량에 대하여 화상 변형(회전, 변배) 처리된 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터를 작성하는 데이터 입력 처리부(이하, 단지 데이터 입력부라고 함)(42)와, 카메라(26)를 이용하여 실제로 노광되는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)의 변형량(회전 각도, 변배율 등)을 측정하는 기판 변형 측정부(44)와, 데이터 입력부(42)에서 취득된 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터를 유지하고, 기판 변형 측정부(44)에서 측정된 변형량(회전 각도, 변배율)에 가장 가까운 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 선출하고, 양 변형량의 차분만을 처리 조건으로 하여 화 상 변형(회전, 변배) 처리하여 실제로 노광되는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)의 변형량(회전 각도, 변배율 등)」에 따른 변형 완료 화상 데이터를 노광 데이터(묘화점 데이터)로서 작성하는 노광 데이터 작성부(46)와, 노광 데이터 작성부(46)에서 작성된 노광 데이터에 기초하여 노광 헤드(30)에 의해 기판(12)을 노광하는 노광부(48)와, 이동 스테이지(14)를 스테이지 이동 방향으로 이동시키는 이동 스테이지 이동 기구(이하, 단지 이동 기구라고 함)(50)와, 이 노광 장치(10) 전체를 제어하는 컨트롤러(52)를 구비한다.
이 노광 장치(10)에 있어서 데이터 작성 장치(40)는 CAM(Computer Aided Manufacturing) 스테이션을 갖고, 노광해야 할 배선 패턴을 나타내는 벡터 데이터를 데이터 입력부(42)를 향해서 출력한다.
데이터 입력부(42)는 데이터 작성 장치(40)로부터 출력된 노광해야 할 배선 패턴을 나타내는 벡터 데이터를 받고, 이 벡터 데이터를 래스터 데이터(비트맵 데이터)로 변환하는 벡터ㆍ래스터 변환부(raster image processor: RIP)(54)와, 얻어진 래스터 데이터를 원 화상 데이터로 하고, 미리 소정의 회전 각도 및 소정의 변배율을 처리 조건으로 하여 원 화상 데이터에 소정의 회전ㆍ변배 처리를 행해서 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 것을 미리 설정된 복수의 다른 소정의 회전 각도 및 복수의 다른 소정의 변배율에 대하여 반복하여 각각 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 회전ㆍ변배부(56)를 구비한다.
노광 데이터 작성부(46)는, 데이터 입력부(42)의 회전ㆍ변배부(56)에서 복수의 다른 소정의 회전 각도 및 복수의 다른 소정의 변배율에 대하여 취득된 복수 세 트의 변형 완료 화상 데이터를 각각 받아 기억하는 메모리부(58)과, 기판 변형 측정부(44)로부터 출력된 실제로 노광되는 기판(12)의 변형량(회전 각도, 변배율)에 가장 가까운 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 선출함과 아울러, 선택된 변형 완료 화상의 변형량(회전 각도, 변배율)과, 측정된 실제로 노광되는 기판(12)의 변형량(회전 각도, 변배율)의 차분을 처리 조건으로 하여 구하는 화상 선택부(60)와, 화상 선택부(60)로부터 출력되는 처리 조건(차분)을 받음과 아울러, 메모리부(58)로부터 출력되는 화상 선택부(60)에서 선택된 변형 완료 화상의 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 가상의 변형 완료 화상 데이터로서 받고, 받은 차분(처리 조건)에 따른 소정의 화상 변형(회전ㆍ변배) 처리를 선택된 가상의 변형 완료 화상 데이터에 행해서 최종의 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 묘화(노광)점 데이터로서 취득하는 회전ㆍ변배부(62)와, 회전ㆍ변배부(62)에서 취득된 묘화(노광)점 데이터를 노광 헤드(30)의 DMD(32)의 각 마이크로 미러(38)에 대응하도록 맵핑하여 DMD(32)의 각 마이크로 미러(38)에 의해 노광 묘화하기 위해 DMD(32)의 전체 마이크로 미러(38)에 주는 복수의 묘화(노광) 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성하는 프레임 데이터 작성부(64)를 구비한다.
기판 변형 측정부(44)는 기판(12) 상에 형성된 기준 마크(12a), 기판(12)의 선단 및 후단의 화상을 촬영하는 카메라(26)와, 카메라(26)에 의해 촬영된 기준 마크(12a)의 화상에 기초하여, 또는, 기준 마크(12a), 기판(12)의 선단 및 후단의 화상에 기초하여 실제로 노광에 제공되는 기판(12)의 기준 위치 및 사이즈에 대한 변형량, 즉, 기판(12)의 기준 위치에 대한 회전 각도, 기판(12)의 기준 사이즈에 대 한 확대율 또는 축소율 등의 변배율을 산출하는 기판 변형 산출부(66)를 구비한다.
노광부(48)는 노광 데이터 작성부(46)의 프레임 데이터 작성부(64)에서 작성된 노광 헤드(30)의 DMD(36)(전체 마이크로 미러(38))에 주는 프레임 데이터(노광 데이터)에 기초하여 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 의해 노광되도록 노광 헤드(30)를 제어하는 노광 헤드 제어부(68)과, 노광 헤드 제어부(68)의 제어하에서, 복수의 DMD(36)를 가지며, 각 마이크로 미러(38)에 의해 레이저 빔 등의 노광 빔을 변조하고, 변조된 노광 빔에 의해 기판(12)에 원하는 패턴을 노광하는 노광 헤드(30)를 구비한다.
이동 기구(50)는 컨트롤러(52)의 제어하에서 이동 스테이지(14)를 스테이지 이동 방향으로 이동시킨다. 또한, 이동 기구(50)는 이동 스테이지(14)를 가이드(20)를 따라 왕복 이동시키는 것이면 어떠한 구성을 채용해도 된다.
컨트롤러(52)는 데이터 입력부(42)의 벡터ㆍ래스터 변환부(54), 노광부(48)의 노광 헤드 제어부(68) 및 이동 기구(50) 등에 접속되고, 이들 개개의 구성 요소를 포함하고, 이 노광 장치(10)를 구성하는 요소 및 노광 장치(10) 전체를 제어한다.
도 5에 나타내는 노광 장치(10)에 있어서 데이터 입력부(42) 및 노광 데이터 작성부(46)는 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법을 실시하는 본 발명의 묘화점 데이터 취득 장치를 구성한다.
따라서, 도 5에 나타내는 노광 장치(10)는 데이터 입력부(42) 및 노광 데이터 작성부(46)를 구비하는 묘화점 데이터 취득 장치(11)와, 기판 변형 측정부(44) 와, 노광부(48)와, 이동 스테이지(14)의 이동 기구(50)와, 컨트롤러(52)를 갖는 것이라고 말할 수도 있다.
또한, 도 5에 나타내는 노광 장치(10)에 있어서는 벡터ㆍ래스터 변환부(54)에 있어서 처리 조건(회전 각도 및 변배율 등)을 파라미터로 하여 복수의 파라미터에 대응하는 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터를 데이터 작성 장치(40)로부터 받아 래스터 데이터로 변환하여, 혹은 내부에서 래스터 데이터로서 작성하고, 도면 중 점선으로 나타내는 바와 같이, 직접 노광 데이터 작성부(46)의 메모리부(58)에 출력하고, 기억시켜도 된다.
또한, 상기 각 구성 요소의 작용에 대해서는 나중에 상세히 설명한다.
도 5에 나타내는 본 발명의 노광 장치(10)(묘화점 데이터 취득 장치(11))에 있어서, 데이터 입력부(42)의 회전ㆍ변배부(56)와, 노광 데이터 작성부(46)의 회전ㆍ변배부(62)는 처리 조건(회전 각도, 변배율)이 미리 설정된 소정 값인지, 차분인지에서 다르고, 원(元)이 되는 입력 데이터가 데이터 입력부(42)의 벡터ㆍ래스터 변환부(54)로부터 출력되는 래스터 데이터(원 화상 데이터)인지, 노광부(48)의 화상 선택부에서 선택되며 메모리부(58)로부터 판독된 가상의 변환 완료 화상 데이터인지에 따라 다르지만, 모든 회전ㆍ변배부(56 및 62)에 있어서 실시되는 화상 변형(회전ㆍ변배) 처리는 소정의 처리 조건에 따라 원하는 화상 변형(회전ㆍ변배) 처리가 가능하면 어떠한 처리 수단이어도 처리법이어도 되고, 처리 수단이나 처리법 자체는 특별히 제한적이지는 않고, 회전ㆍ변배부(56 및 62)에 있어서 실시되는 화상 변형(회전ㆍ변배) 처리는 동일한 처리 수단이나 동일한 처리법이여도 되고, 양 자에서 달라도 된다.
이하의 설명에서는 회전ㆍ변배부(56 및 62)에 동일 처리 수단 및 처리법이 이용되는 것으로 하여 설명한다.
그런데, 본 발명의 묘화점 데이터 취득 장치(11)(노광 장치(10))의 노광부(48)의 회전ㆍ변배부(62)에서는 처리 조건(회전 각도, 변배율 등의 변형량)이 차분이므로 회전 각도나 변배율 등의 변형량이 작다. 이 때문에, 본 발명의 묘화 데이터 취득 장치(11)에 있어서는 회전ㆍ변배부(62)에 적용되는 화상 변형(회전ㆍ변배) 처리로서, 도 21에 나타내는 종래기술의 다이렉트 맵핑 방법을 이용하더라도, 후술하는 바와 같이, 동일 라인에 있어서 연속적으로 판독되는 어드레스를 길게 할 수 있고, 연속 어드레싱을 많이 할 수 있으며, 판독 어드레스의 라인을 변경하는 편집 개소를 적게 하여 불연속 어드레싱을 적게 할 수 있으므로, 묘화점 데이터의 작성을 고속화할 수 있다. 또한, 데이터 입력부(42)의 회전ㆍ변배부(56)에서는 실제의 노광 처리 등의 처리전에 미리 행해 둘 수 있으므로, 변형량이 크고, 불연속 어드레싱이 많아져도 시간을 들일 수 있으므로, 종래기술의 다이렉트 맵핑 방법을 적용해도 된다.
그러나, 상술한 바와 같이, 종래기술의 다이렉트 맵핑 방법은, 화상 변형(회전ㆍ변배) 처리로서는 시간이 걸리는 방법이므로, 본 발명자가 본 출원인의 출원에 따른 일본 특원 2006-89958호 명세서(일본 특허 공개 2006-287534호 공보 참조)에 제안하고 있는 후술의 화상 변형 처리 장치나, 본 출원인의 출원에 따른 일본 특원 2005-103788호 명세서(일본 특허 공개 2006-309200호 공보 참조)에 제안되어 있는 빔 추적법으로 칭해지는 묘화점 데이터 궤적을 이용하는 묘화점 데이터 취득 장치를 적용하는 것이 바람직하다.
도 6은 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법을 실시하는 묘화점 데이터 취득 장치에 적용되는 화상 변형 처리 장치의 일실시형태의 블록도이다.
도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치(70)는 회전ㆍ변배부(56 및 62)에 이용할 수 있는 장치로서, 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 배치 위치를 나타내는 화소 위치 정보를 연결하는 변형후 벡터 정보가 설정되는 변형후 벡터 정보 설정부(72)와, 변형후 벡터 정보 설정부(72)에 의해 설정된 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 화소 위치 정보 중 일부의 화소 위치 정보를 취득하는 화소 위치 정보 취득부(74)와, 화소 위치 정보 취득부(74)에 의해 취득된 일부의 화소 위치 정보에 대하여만 역변환 연산을 실시해서 일부의 화소 위치 정보에 대응하는 입력 화상 데이터 상에 있어서의 역변환 화소 위치 정보를 취득하는 역변환 연산부(76)와, 역변환 연산부(76)에 의해 취득된 역변환 화소 위치 정보를 연결하는 입력 화상 데이터 상에 있어서의 원 벡터 정보가 설정되는 입력 벡터 정보 설정부(78)와, 입력 벡터 정보 설정부(78)에 의해 설정된 입력 벡터 정보가 나타내는 입력 벡터 상에 있어서의 입력 화소 데이터를 입력 화상 데이터로부터 취득하는 입력 화소 데이터 취득부(80)와, 입력 화소 데이터 취득부(80)에 의해 취득된 입력 화소 데이터를 변형후 벡터 상에 있어서의 화소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 변형 완료 화상 데이터 취득부(84)와, 입력 화상 데이터를 기억하는 입력 화상 데이터 기억부(82) 를 구비하고 있다.
다음에 화상 변형 처리 장치(70)의 작용에 대해서 설명한다. 우선, 도 7(A)에 나타내는 입력 화상 데이터를 시계방향으로 회전하고, 도 7(B)에 나타내는 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 방법에 대해서 설명한다.
우선, 도 5에 나타내는 노광 장치(10)의 데이터 입력부(42)의 벡터ㆍ래스터 변환부(54)로부터 래스터 데이터(원 화상 데이터)가 출력되거나, 또는, 노광 데이터 작성부(46)의 메모리부(58)로부터 선택된 가상의 변형 완료 화상 데이터가 출력되며, 입력 화상 데이터로서, 도 6에 나타내는 입력 화상 데이터 기억부(82)에 기억된다. 이와 함께, 변형후 벡터 정보 설정부(72)에 있어서 변형후 벡터 정보가 설정된다. 여기서, 변형후 벡터 정보 설정부(72)에는 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 각 화소 위치를 나타내는 화소 위치 정보가 설정되어 있다. 이 화소 위치 정보로서는, 예컨대, 각 화소 위치의 좌표값을 설정하도록 하면 된다.
그리고, 변형후 벡터 정보 설정부(72)에 있어서 도 7(B)에 나타내는 바와 같은 좌단의 화소 위치 정보와 우단의 화소 위치 정보를 각각 수평한 직선으로 연결한 변형후 벡터 정보(V1)가 설정된다. 또한, 도 7(B)에 있어서는 상기 좌단의 화소 위치 정보와 우단의 화소 위치 정보를 사선으로 나타내고 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 상기와 같이 좌단의 화소 위치 정보와 우단의 화소 위치 정보를 각각 수평한 직선으로 연결해서 변형후 벡터 정보(V1)를 설정하도록 했지만, 이것에 한정되지 않고, 예컨대, 직선이 아니라 스플라인 등의 곡선으로 연결해서 변형후 벡터 정보(V1)를 설정하도록 해도 되고, 반드시 좌단의 화소 위치 정보와 우단의 화 소 위치 정보를 연결해서 변형후 벡터 정보(V1)로 하지 않아도 되며, 요는, 미리 설정된 복수의 화소 위치 정보를 직선 또는 곡선으로 연결한 것이면 어떠한 것이어도 된다. 단, 변형 완료 화상 데이터의 각 화소 위치 정보가 어느 하나의 변형후 벡터 정보(V1)에 속하도록 설정되어 있는 것으로 한다.
그리고, 상기와 같이 설정된 변형후 벡터 정보(V1)는 화소 위치 정보 취득부(74)에 출력된다. 그리고, 화소 위치 정보 취득부(74)는 입력된 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 화소 위치 정보 중 일부의 화소 위치 정보를 취득한다. 본 실시형태에서는 도 7(B)에 있어서 사선으로 나타내는 화소 위치 정보가 상기 일부의 화소 위치 정보로서 취득된다. 또한, 본 실시형태에 있어서는 변형후 벡터 정보(V1)가 나타내는 변형후 벡터의 양단의 화소 위치 정보를 취득하도록 했지만, 이것에 한정되지 않고, 그 외의 위치의 화소 위치 정보를 취득하도록 해도 되고, 더 다수의 화소 위치 정보를 취득하도록 해도 된다. 단, 변형후 벡터 정보의 모든 화소 위치 정보를 취득하는 것은 아니고, 일부의 화소 위치 정보를 취득하는 것으로 한다.
그리고, 상기와 같이 해서 취득된 일부의 화소 위치 정보는 역변환 연산부(76)에 출력되고, 역변환 연산부(76)에 있어서 상기 일부의 화소 위치 정보에만 역변환 연산이 실시된다. 본 실시형태에 있어서는 상술한 바와 같이 입력 화상 데이터를 시계방향으로 회전시키는 변형을 행하므로, 이 변형의 반대, 즉 반시계방향으로 회전시키는 역변환 연산이 상기 일부의 화소 위치 정보에 실시된다. 구체적으로는, 도 7(B)에 나타내는 좌측의 시단의 사선 부분의 화소 위치 정보(sx',sy') 및 우측의 종단의 사선 부분의 화소 위치 정보(ex',ey')에 대해서 하기 식에 나타내는 역변환 연산이 실시되어 도 7(A)에 나타내는 역변환 화소 위치 정보(sx,sy) 및 (ex,ey)가 취득된다. 여기서, 회전 각도(θ)는 반시계방향으로 취하는 것으로 한다.
sx = sx'cosθ + sy'sinθ
sy = -sx'sinθ + sy'cosθ
ex = ex'cosθ + ey'sinθ
ey = -ex'sinθ + ey'cosθ
또한, 본 실시형태에 있어서는 입력 화상 데이터를 시계방향으로 회전시킨 변형 완료 화상 데이터를 취득하기 위해서 역변환 연산으로서 반시계방향의 회전을 나타내는 연산을 행하도록 했지만, 역변환 연산으로서는 이것에 한정되지 않고, 변형의 방법에 따라 그 변형의 반대를 나타내는 연산을 적절하게 선택하도록 하면 된다. 예컨대, 입력 화상 데이터를 소정의 확대율로 확대한 변형 완료 화상 데이터를 취득하기 위해서는 상기 확대율에 대응한 축소율의 축소 연산을 역변환 연산으로 하면 된다. 구체적으로는, 예컨대, 입력 화상 데이터를 2배로 확대하는 경우에는 동일한 벡터 정보에 속하는 화소 위치 정보끼리의 거리가 1/2로 되는 축소 연산을 역변환 연산으로서 채용하도록 하면 된다. 반대로, 입력 화상 데이터를 소정의 축소율로 축소한 변형 완료 화상 데이터를 취득하기 위해서는 상기 축소율에 대응한 확대율의 확대 연산을 역변환 연산으로 하면 된다. 또한, 예컨대, 입력 화상 데이터의 소정의 부분의 화소 데이터를 소정의 방향으로 시프트시켜 변형 완료 화상 데 이터를 취득하기 위해서는 화소 위치 정보를 상기 소정의 방향과는 반대의 방향으로 시프트시키는 연산을 역변환 연산으로 하면 된다.
그리고, 도 7(B)의 사선 부분의 화소 위치 정보에 대응하는 역변환 화소 위치 정보가 취득되고, 그 취득된 역변환 화소 위치 정보는 입력 벡터 정보 설정부(78)에 출력된다. 그리고, 입력 벡터 정보 설정부(78)에 있어서, 도 7(A)에 나타내는 바와 같이, 입력 화상 데이터 상에 있어서의 입력 벡터 정보(V2)가 설정된다. 구체적으로는, 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터의 양단에 배치하는 화소 위치 정보에 대응하는 역변환 화소 위치 정보가 직선에 의해 연결되고, 도 7(A)에 나타내는 입력 벡터 정보(V2)가 취득된다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 도 7(A)에 나타내는 바와 같이 역변환 화소 위치 정보를 직선으로 연결해서 입력 벡터 정보(V2)를 설정하도록 했지만, 이것에 한정되지 않고, 예컨대, 직선이 아니라 스플라인 등의 곡선으로 연결해서 입력 벡터 정보(V2)를 설정하도록 해도 된다.
그리고, 그 입력 벡터 정보(V2)는 입력 화소 데이터 취득부(80)에 출력된다. 그리고, 입력 화소 데이터 취득부(80)는 입력된 입력 벡터 정보(V2)가 나타내는 입력 벡터 상에 있어서의 입력 화소 데이터(d)를 입력 화상 데이터로부터 취득한다. 구체적으로는, 입력 화소 데이터 취득부(80)는 입력된 입력 벡터 정보에 기초하여 입력 화상 데이터에 있어서의 M행의 N번째로부터 L번째의 화소 데이터를 어떤 피치로 판독할지를 나타내는 판독 정보를 설정하고, 그 판독 정보에 기초하여 입력 화상 데이터부(82)에 기억된 입력 화상 데이터의 입력 화소 데이터를 판독한다.
도 8에 도 7(A)의 일부 확대도를 나타낸다. 예컨대, 원 벡터 정보(V2)가 도 8에 나타내는 원 벡터를 나타내는 것일 경우에는 3행의 1번째로부터 3번째의 입력 화소 데이터(d)와, 2행의 4번째로부터 10번째까지의 입력 화소 데이터(d)와, 1행의 11번째로부터 12번째까지의 입력 화소 데이터(d)를 각각 1화소 피치로 연속적으로 판독하는 판독 정보를 설정하고, 그 판독 정보에 기초하여 도 8의 사선 부분의 입력 화소 데이터(d)를 입력 화상 데이터로부터 판독한다. 즉, 도 8에 나타내는 예에서는 12화소로 이루어지는 1행의 변형 완료 화상 데이터를 취득할 때에 입력 화소 데이터(d)의 판독 행(위치)의 변경이 3행의 3번째로부터 2행의 4번째로와, 2행의 10번째로부터 1행의 11번째로의 2개소에 있어서 불연속으로 되고, 불연속 어드레싱이 되는 편집 개소가 2개소 존재하게 된다.
또한, 역변환 화소 위치 정보가 나타내는 위치가 입력 화상 데이터의 외측이고, 상기 위치에 입력 화소 데이터가 존재하지 않을 경우에는 그 역변환 화소 위치 정보가 나타내는 위치 근방에 위치하는 입력 화소 데이터를 상기 역변환 화소 위치 정보에 대응하는 입력 화소 데이터로서 판독하도록 하면 된다. 또한, 판독 정보에 있어서의 판독 피치는 반드시 1화소 피치에 한정되지 않고, 예컨대, 1개의 입력 화소 데이터를 복수회 판독하도록 해도 되고, 입력 화소 데이터를 하나 걸러 하나씩 판독하도록 해도 된다. 그리고, 상기 입력 벡터 정보에 상기와 같은 판독 피치 성분을 포함시키도록 해도 된다.
또한, 본 실시형태에 있어서는, 역변환 연산부(76)에 있어서 취득된 역변환 화소 위치 정보에 기초하여 입력 벡터 정보 설정부(78)에 있어서 입력 벡터 정보(V2)를 설정하도록 했지만, 반드시 입력 벡터 정보(V2)를 설정할 필요는 없고, 예컨대, 역변환 화소 위치 정보를 직접 입력 화소 데이터 취득부(80)에 입력하고, 입력 화소 데이터 취득부(80)에 있어서, 입력된 역변환 화소 위치 정보에 기초하여 입력 화상 데이터에 있어서의 M행의 N번째로부터 L번째의 화소 데이터를 어떤 피치로 판독할지를 나타내는 판독 정보를 설정하고, 그 판독 정보에 기초하여 입력 화상 데이터부(82)에 기억된 입력 화상 데이터의 입력 화소 데이터를 판독하도록 해도 된다.
그리고, 상기와 같이 해서 입력 화소 데이터 취득부(80)에 의해 판독된 입력 화소 데이터는 변형 완료 화상 데이터 취득부(84)에 출력된다. 그리고, 변형 완료 화상 데이터 취득부(84)는 상기와 같이 해서 입력 벡터 정보(V2)에 기초하여 취득된 입력 화소 데이터(d)를 그 입력 벡터 정보(V2)에 대응하는 변형후 벡터 정보(V1)가 나타내는 변형후 벡터 상의 화소 위치 정보의 화소 데이터로 한다. 입력 벡터 정보(V2)에 대응하는 변형후 벡터 정보(V1)는 소정의 입력 벡터 정보(V2)의 역변환 연산 전의 변형후 벡터 정보(V1)이다. 그리고, 상기와 같이 해서 각 입력 벡터 정보(V2)에 대응하는 각 변형후 벡터 정보의 각 화소 위치 정보의 화소 데이터가 취득되고, 모든 변형후 벡터 정보의 모든 화소 위치 정보의 화소 데이터가 취득되어 변형 완료 화상 데이터가 취득된다.
상기 실시형태의 화상 변형 처리 장치(70)에 의하면, 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 배치 위치를 나타내는 화소 위치 정보를 연결하는 변형후 벡터 정보(V1)를 설정하고, 그 설정한 변형후 벡터 정보(V1)가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 화소 위치 정보 중 일부의 화소 위치 정보를 취득하고, 그 취 득한 일부의 화소 위치 정보에 대해서만 상기 변형과는 반대의 변형을 나타내는 역변환 연산을 실시해서 상기 일부의 화소 위치 정보에 대응하는 입력 화상 데이터 상에 있어서의 역변환 화소 위치 정보를 취득하고, 그 취득한 역변환 화소 위치 정보를 연결하는 입력 화상 데이터 상에 있어서의 입력 벡터 정보(V2)를 설정하고, 그 설정한 입력 벡터 정보(V2)가 나타내는 입력 벡터 상에 있어서의 입력 화소 데이터(d)를 입력 화상 데이터로부터 취득하고, 그 취득한 입력 화소 데이터(d)를 변형후 벡터 상에 있어서의 화소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 변형 완료 화상 데이터를 취득하도록 했으므로, 변형 완료 화상 데이터에 있어서의 일부의 화소 위치 정보에만 역변환 연산을 실시하면 되고, 종래와 같이 모든 화소 정보에 역변환 연산을 실시한 경우와 비교하면 보다 고속으로 변형 완료 화상 데이터를 취득할 수 있다.
또한, 상기와 같이 입력 화상 데이터를 회전시켜 변형하는 경우, 그 회전 각도가 작은 쪽이 보다 입력 화상 데이터에 충실한 회전 변형을 행할 수 있고, 특히, 1도~2도 정도 회전시키는 경우에는 입력 화상 데이터에 의해 충실한 회전 변형을 행할 수 있다. 즉, 회전 변형 처리의 경우, 그 회전 각도가 작으면 작을수록 1개의 행에 있어서 연속적으로 입력 화상 데이터를 판독하는 화소수가 많아지므로, 1행분의 변형 완료 화상 데이터를 취득하기 위해서 입력 화상 데이터의 판독 행의 전환 회수, 즉, 불연속 어드레싱이 되는 편집 개소를 적게 할 수 있고, 회전 각도가 큰 경우에 비해서 보다 고속으로 변형 완료 화상 데이터를 취득할 수 있다. 여기서, 입력 화상 데이터가 압축 화상 데이터인 경우에는 편집 개소가 적을수록 데이터의 해동 및 압축의 회수도 적게 할 수 있으므로 고속화의 효과는 크다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는 입력 화상 데이터를 회전시켜 변형하는 경우에 대해서 설명했지만, 상술한 바와 같이 회전에 추가로, 변배도 동시에 행하는 경우에는 도 7(A)에 나타내는 화상과 도 7(B)에 나타내는 화상 사이에 변배 변형 처리가 이루어지고 있는 것으로 하면, 회전 각도를 θ(시계방향), X방향의 변배율을 mx, Y방향의 변배율을 my로 할 때, 도 7(B)에 나타내는 양단의 사선 부분의 화소 위치 정보(sx',sy'),(ex',ey,)에 대해서 하기 식에 나타내는 역변환 연산이 실시되어 역변환 화소 위치 정보(sx,sy),(ex,ey)가 취득된다.
sx = (sx'cosθ + sy'sinθ) / mx
sy = (-sx'sinθ + sy'cosθ) / my
ex = (ex'cosθ + ey'sinθ) / mx
ey = (-ex'sinθ + ey'cosθ) / my
Y방향의 변배에서는 Y방향의 화소수의 과부족, 즉, 라인(행) 수(벡터 정보(V2)의 수)의 과부족은 (ey'-sy'-ey+sy) 화소(라인)로 되므로, 이 과부족 라인수에 따라 판독 라인(벡터 정보(V2))을 증감하면 된다.
또한, X방향의 변배에서는 X방향의 화소수의 과부족은 (ex'_sx'-ex+sx) 화소로 되므로, 이 과부족 화소수에 따라 판독 화소를 증감하면 된다.
예컨대, 도 7(A)로부터 도 7(B)로의 변형 변환에 있어서 얻어진 1라인이 도 9(A)에 나타내어지는 13화소의 나열이고, X방향의 과부족 화소수가 2화소인 것으로 하면, 도 9(A)에 나타내는 바와 같이, 5화소째마다 즉 5화소째와 6화소째 사이 및 10화소째와 11화소째 사이의 삽입 개소에 삽입 지정 개소의 데이터, 여기서는 5화소째 및 10화소째의 데이터를 복제해서 도입한다. 이렇게 해서, 도 9(B)에 나타내는 X방향으로 변배되어 처리가 완료된 1라인을 얻을 수 있다. 도 9(B)에 나타내는 1라인에 있어서 사선으로 빈틈없이 칠되어 있는 개소가 삽입된 화소를 나타낸다.
또한, 상술한 실시형태와 같이, 회전 및 변배에 한정되지 않고, 자유 변형하는 경우에 본 발명의 화상 변형 처리 방법을 채용하도록 해도 된다. 도 10에 자유 변형의 일례를 나타낸다.
도 10(A)에 나타내는 입력 화상 데이터를 자유 변형해서 도 10(B)에 나타내는 변형 완료 화상 데이터를 얻는 경우에는, 예컨대, 변형후 벡터 정보 설정부(72)에 있어서 도 10(B)에 나타내는 사선 부분의 화소 위치 정보를 각각 수평한 직선으로 연결한 변형후 벡터 정보(V1)를 설정한다. 그리고, 화소 위치 정보 취득부(74)에 있어서 상기 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 화소 위치 정보 중 도 10(B)에 나타내는 사선 부분의 화소 위치 정보를 취득하고, 역변환 연산부(76)에 있어서 상기 일부의 화소 위치 정보에만 역변환 연산을 실시하여 도 10(B)의 사선 부분의 화소 위치 정보에 대응하는 역변환 화소 위치 정보를 취득한다.
그리고, 상기와 같이 해서 취득된 역변환 화소 위치 정보는 입력 벡터 정보 설정부(78)에 출력되고, 입력 벡터 정보 설정부(78)에 있어서, 도 10(A)에 나타내는 바와 같이, 입력 화상 데이터 상에 있어서의 입력 벡터 정보(V2)가 설정된다. 구체적으로는, 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 배치하는 4개의 화 소 위치 정보에 대응하는 역변환 화소 위치 정보가 직선에 의해 연결되고, 도 10(A)에 나타내는 입력 벡터 정보(V2)가 취득된다. 그리고, 입력 화소 데이터 취득부(80)에 있어서 입력된 입력 벡터 정보(V2)가 나타내는 입력 벡터 상에 있어서의 입력 화소 데이터(d)를 입력 화상 데이터로부터 취득한다. 그리고, 상기와 같이 해서 입력 화소 데이터 취득부(80)에 의해 판독된 입력 화소 데이터는 변형 완료 화상 데이터 취득부(84)에 출력된다. 그리고, 변형 완료 화상 데이터 취득부(84)는 상기와 같이 해서 입력 벡터 정보(V2)에 기초하여 취득된 입력 화소 데이터(d)를 그 입력 벡터 정보(V2)에 대응하는 변형후 벡터 정보(V1)가 나타내는 변형후 벡터상의 화소 위치 정보의 화소 데이터로 한다. 그리고, 상기와 같이 해서 각 입력 벡터 정보(V2)에 대응하는 각 변형후 벡터 정보의 각 화소 위치 정보의 화소 데이터가 취득되고, 모든 변형후 벡터 정보의 모든 화소 위치 정보의 화소 데이터가 취득되어 변형 완료 화상 데이터가 취득된다.
다음에, 본 발명의 노광 장치(10) 및 그 묘화점 데이터 취득 장치(11)의 작용에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.
우선, 도 5에 나타내는 노광 장치(10)의 묘화점 데이터 취득 장치(11)의 데이터 입력부(42)에 있어서 미리 오프라인으로 행해지는 데이터 입력 처리에 대해서 설명한다. 도 11은 도 5에 나타내는 묘화점 데이터 취득 장치(11)의 데이터 입력부(42)에 있어서의 오프라인 데이터 입력 처리의 플로우의 일례를 나타내는 플로우차트이다.
처음에, 데이터 작성 장치(40)에 있어서 기판(12)에 노광해야 할 배선 패턴 을 나타내는 벡터 데이터가 작성된다.
그리고, 스텝S100에 있어서 작성된 벡터 데이터는 데이터 작성 장치(40)로부터 데이터 입력부(42)의 벡터ㆍ래스터 변환부(54)에 입력된다.
데이터 작성 장치(40)로부터 입력된 벡터 데이터는 벡터ㆍ래스터 변환부(54)에 있어서 래스터 데이터로 변환되어 회전ㆍ변배부(56)에 출력된다(스텝S102).
회전ㆍ변배부(56)에 있어서는 처리 조건 파라미터로서 기판(12)의 회전 각도 및 변배율을 각각 소정 각도 및 소정 변배율로 설정한다(스텝S104 및 S106).
여기서, 예컨대, 도 11에서는, 회전 각도는 -1.0°로부터 1.0°까지, 0.5°씩 5단계로 변화시키고, 변배율은 0.9로부터 1.1까지 0.05씩 5단계로 변화시킨다. 또한, 처리 조건 파라미터로서 설정되는 회전 각도 및 변배율은 이들에 한정되지 않고, 기판(12) 및 기판에 형성되는 패턴에 따라 적절하게 상하한치, 변화시키는 간격을 설정하면 된다.
우선, 회전 각도를 -1.0°로 변배율을 0.9로 설정하여(스텝S104 및 S106) 회전ㆍ변배부(56)에 있어서 화상(입력 화상 데이터)의 회전ㆍ변배 처리를 행하고(스텝S108), 이 화상의 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 취득한다. 여기서, 화상(입력 화상 데이터)의 회전ㆍ변배 처리는, 예컨대, 상술한 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치(70)에서 행할 수 있고, 입력 화상 데이터로부터 변형 완료 화상 데이터를 취득할 수 있다. 또한, 회전ㆍ변배부(56)에서 행하는 화상 변형 처리 장치(70)에 의한 화상의 회전ㆍ변배 처리에 있어서의 변형 완료 화상 데이터의 취득 방법에 대해서는 후술한다.
이렇게 해서 취득된 1세트의 변형 완료 화상 데이터는 회전 각도 -1.0° 및 변배율 0.9라는 처리 조건과 함께, 노광 데이터 작성부(46)의 메모리부(58)에 출력되어 기억된다(스텝S110).
이 후, 스텝S112에서는 변화시켜야 할 변배율 파라미터가 남아 있는 경우에는 변배율의 설정을 바꾸기 위해서 스텝S112와 함께 변배 루프를 형성하는 스텝S106으로 되돌아가고, 이 경우에는 변배율의 설정을 0.9로부터 0.95로 바꾸어서 다시 스텝S108의 화상의 회전ㆍ변배 처리 및 스텝S110의 화상(변형 완료 화상 데이터)ㆍ처리 조건의 출력을 행하고, 실행해야 할 변배율 파라미터가 없어질 때까지 스텝S106과 스텝S112 사이의 변배 루프를 반복한다.
여기서, 실행해야 할 변배율 파라미터가 없어지면, 예컨대, 변배율을 1.1로 설정한 화상의 회전ㆍ변배 처리 및 화상ㆍ처리 조건의 출력이 종료되면, 변배 루프를 빠져나와 스텝S112로부터 다음의 스텝S114로 이동하고, 스텝S114에서는 변화시켜야 할 회전 각도 파라미터가 남아 있는 경우에는 회전 각도의 설정을 바꾸기 위해서 스텝S114와 함께 회전 루프를 형성하는 스텝S104로 되돌아가고, 이 경우에는 회전 각도의 설정을 -1.0°로부터 -0.5°로 바꾸어서 다시 스텝S104~스텝S112의 변배 루프를 반복하고, 화상의 회전ㆍ변배 처리 및 화상ㆍ처리 조건의 출력을 반복하는 것을 행하고, 실행해야 할 회전 각도 파라미터가 없어질 때까지 스텝S104와 스텝S114 사이의 회전 루프를 반복한다.
그 결과, 실행해야 할 회전 각도 파라미터가 없어지면, 예컨대, 회전 각도를 1.0°로 설정한 화상의 회전ㆍ변배 처리 및 화상ㆍ처리 조건의 출력이 종료되면, 스텝S114로부터 변배 루프를 빠져나와 오프라인에 의한 데이터 입력 처리를 종료한다.
이렇게 해서, 이 예에서는 5단계의 회전 각도와 5단계의 변배율의 합계 25종류의 처리 조건의 조합에 대응하는 25세트의 변형 완료 화상 데이터가 메모리(58)에 기억된다.
다음에, 회전ㆍ변배부(56)에서 행해지는 도 11의 스텝S108의 화상의 회전ㆍ변배 처리에 대해서 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치(70)를 이용하여 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 경우를 대표예로 들어서 설명한다. 또한, 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치(70)의 작용에 대해서는 상술하고 있으므로 그 상세한 것은 생략한다.
도 12는 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치(70)에 있어서의 회전ㆍ변배 처리의 플로우의 일례를 나타내는 플로우차트이다. 또한, 이 플로우는 회전ㆍ변배부(62)에서 행해지는 후술하는 도 13의 스텝S150의 화상의 회전ㆍ변배 처리에 적용가능한 것은 물론이다.
상술한 바와 같이, 도 11에 나타내는 데이터 입력 처리의 스텝S104 및 S106에 있어서 설정된 회전 각도 및 변배율을 포함하는 처리 조건이 입력되고(스텝S120), 입력 화상 데이터(래스터 데이터)가 입력되며(스텝S122), 입력 화상 데이터 기억부(82)에 기억된다.
이렇게 해서 입력된 회전 각도 및 변배율에 기초하여 변형후 벡터 정보 설정부(72)에 있어서, 도 7(B)에 나타내는 바와 같이, 취득되는 변형 완료 화상 데이 터(래스터 데이터)가 나타내는 출력 화상(변형후)의 좌단(개시점)의 화소 위치 정보와 우단(종점)의 화소 위치 정보를 각각 수평한 직선으로 연결한 변형후 벡터 정보(V1)가 출력 화상 위에 소정 라인(라인 번호:1, 2, 3, …, N)만큼 설정된다. 그리고, 우선, 라인 번호1의 라인으로 설정한다(스텝S124).
다음에, 출력 화상 위의 제 1 라인의 개시점과 종점의 좌표를 도 7(A)에 나타내는 입력 화상 데이터가 나타내는 입력 화상(변형전) 위로 좌표 변환함으로써 회전 및 세로(Y) 방향의 변배를 행한다(스텝S126). 구체적으로는, 화소 위치 정보 취득부(74)에 있어서 상기 변형후 벡터 정보(V1)가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 화소 위치 정보 중 상기 양단의 화소 위치 정보를 취득하고, 역변환 연산부(76)에 있어서 상기 양단의 화소 위치 정보에만 역변환 연산을 실시하고, 상기 양단의 화소 위치 정보에 대응하는 역변환 화소 위치 정보를 취득한다. 역변환 연산에 대해서는 회전 행렬을 이용한 상기 식에 의한 역변환 연산과 같다.
그리고, 상기와 같이 해서 취득된 역변환 화소 위치 정보는 입력 벡터 정보 설정부(78)에 출력되고, 입력 벡터 정보 설정부(78)에 있어서, 도 7(A)에 나타내는 바와 같이, 입력 화상 데이터 상에 있어서의 입력 벡터 정보(V2)가 설정된다. 구체적으로는 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 배치하는 양단의 화소 위치 정보에 대응하는 역변환 화소 위치 정보가 직선에 의해 연결되고, 도 7(A)에 나타내는 입력 벡터 정보(V2)가 취득된다.
입력 벡터 정보 설정부(78)에서는 이렇게 해서 취득된 입력 벡터 정보(V2)가 입력 화상 상의 수평한 화소 라인(수평으로 배열되는 화소의 행)을 가로지르는 위 치가 복수 라인에 걸쳐 구해진다. 즉, 입력 화상 상의 복수 라인에 걸쳐서 각 라인의 잘라냄 위치, 도 8에 나타내는 예에서는 2행째의 화소4, 1행째의 화소11의 위치를 산출한다(스텝S128).
그리고, 입력 화소 데이터 취득부(80)에 있어서, 입력된 입력 벡터 정보(V2)가 나타내는 입력 벡터 상에 있어서의 입력 화소 데이터를 각 라인으로부터 잘라내서 판독하고, 순차적으로 연결시켜 출력 화상 데이터의 제 1 라인을 생성한다(스텝S130).
다음에, X방향의 변배 조건에 따라 입력 벡터 정보(V2) 및 변형후 벡터 정보(V1)로부터, 상술한 바와 같이, 과부족 화소수를 산출하고, 과부족 화소가 존재할 경우에는 그것에 따라 화소를 가감한다(스텝S132). 이렇게 해서 출력 화상 데이터로서 변형 완료 화상 데이터의 제 1 라인이 취득된다. 이와 같이 하여 입력 화소 데이터 취득부(80)에 의해 판독된 입력 화소 데이터는 변형 완료 화상 데이터 취득부(84)에 출력된다. 그리고, 변형 완료 화상 데이터 취득부(84)는 상기와 같이 해서 입력 벡터 정보(V2)에 기초하여 취득된 입력 화소 데이터를 그 입력 벡터 정보(V2)에 대응하는 변형후 벡터 정보(V1)가 나타내는 변형후 벡터상의 제 1 라인의 화소 위치 정보의 화소 데이터로 한다.
이 후, 스텝S134에서는, 취득해야 할 출력 화상 상의 변형후 벡터 정보(V1)가 나타내는 처리 라인이 남아 있을 경우에는 라인 번호의 설정을 바꾸기 위해 스텝S134와 함께 라인 처리 루프를 형성하는 스텝S124로 되돌아오고, 이 경우에는 처리 라인의 설정을 1로부터 2로 바꾸어서 다시 스텝S126으로부터 스텝S132까지의 화 상의 회전ㆍ변배 처리를 행하여 실행해야 할 처리 라인이 없어질 때까지, 즉, 처리 라인이 N이 될 때까지 스텝S124와 스텝S134 사이의 라인 처리 루프를 반복한다. 이렇게 해서, 출력 화상 상의 각 라인의 변형 완료 화소 데이터를 취득한다.
그 결과, 실행해야 할 처리 라인이 없어지면, 예컨대, 처리 라인을 N으로 설정한 화상의 회전ㆍ변배 처리가 종료되면 스텝S134로부터 라인 처리 루프를 빠져나와 화상의 회전ㆍ변배 처리를 종료한다.
이렇게 해서, 각 입력 벡터 정보(V2)에 대응하는 각 변형후 벡터 정보의 각 화소 위치 정보의 화소 데이터가 취득되고, 모든 변형후 벡터 정보의 모든 화소 위치 정보의 화소 데이터가 취득되어 1세트의 변형 완료 화상 데이터가 취득된다.
이와 같이 하여 취득된 1세트의 변형 완료 화상 데이터는 데이터 입력부(42)의 회전ㆍ변배부(56)로부터 노광 데이터 작성부(46)의 메모리부(58)에 출력되어 기억된다.
여기서는, 도 12에 나타내는 화상의 회전ㆍ변배 처리를 데이터 입력부(42)의 회전ㆍ변배부(56)에서 실행하는 처리로서 설명했지만, 상술한 바와 같이, 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치는 노광 데이터 작성부(46)의 회전ㆍ변배부(62)에 적용가능하고, 처리 조건이 회전 각도 및 변배율의 각 차분이고, 입력 화상 데이터가 선택된 변형 완료 화상 데이터인 점을 제외하면 완전히 동일하므로, 도 12에 나타내는 화상의 회전ㆍ변배 처리를 회전ㆍ변배부(62)에 있어서 실행할 수 있는 것은 명확하다. 따라서, 회전ㆍ변배부(62)에 있어서 실행하는 도 12에 나타내는 화상의 회전ㆍ변배 처리의 설명은 생략한다.
다음에, 본 발명의 노광 장치(10)에 있어서 행해지는 노광 처리에 대해서 설명한다.
도 13은 노광 장치(10)에 있어서의 온라인 노광 처리의 플로우의 일례를 나타내는 플로우차트이다.
이 온라인 노광 처리에 있어서는 처음에 데이터 작성 장치(40)에 있어서 기판(12)에 노광해야 할 배선 패턴을 나타내는 벡터 데이터가 작성되고, 묘화점 데이터 취득 장치(11)의 데이터 입력부(42)의 벡터ㆍ래스터 변환부(54)에 입력되고, 벡터ㆍ래스터 변환부(54)에 있어서 래스터 데이터(원 화상 데이터)로 변환되어 회전ㆍ변배부(56)에 출력되고, 복수의 처리 조건(회전 각도, 변배율의 조합)에 대해서 미리 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터가 취득되고, 노광 데이터 작성부(46)의 메모리부(58)에 기억되어 있는 것으로 한다.
한편, 상기와 같이 해서 벡터 데이터가 벡터ㆍ래스터 변환부(54)에 입력되면, 노광 장치(10) 전체의 동작을 제어하는 컨트롤러(52)가 이동 기구(50)에 제어 신호를 출력하고, 이동 기구(50)는 그 제어 신호에 따라 이동 스테이지(14)를 도 1에 나타내는 위치로부터 가이드(20)를 따라 일단 상류측의 소정의 초기 위치까지 이동시킨 후에 정지시키고, 이동 스테이지(14) 상에 기판의 받아들임을 행하고, 이동 스테이지(14) 상에 기판을 고정한다(스텝S140).
다음에, 이이와 같이 이동 스테이지(14) 상에 기판이 고정되면 노광 장치(10) 전체의 동작을 제어하는 컨트롤러(52)가 이동 기구(50)에 제어 신호를 출력하고, 이동 기구(50)는 상류측의 소정의 초기 위치로부터 하류측을 향해 원하는 속 도로 이동시킨다. 또한, 상기 상류측은 도 1에 있어서의 우측, 즉 게이트(22)에 대해서 스캐너(24)가 설치되어 있는 측이고, 상기 하류측은 도 1에 있어서의 좌측, 즉 게이트(22)에 대하여 카메라(26)가 설치되어 있는 측이다.
그리고, 상기와 같이 해서 이동하는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)이 복수의 카메라(26) 아래를 통과할 때, 기판 변형 측정부(44)에 의한 얼라인먼트 측정이 행해진다. 즉, 이들 카메라(26)에 의해 기판(12)이 촬영되고, 그 촬영 화상을 나타내는 촬영 화상 데이터가 기판 변형 측정부(44)의 기판 변형 산출부(66)에 입력된다. 기판 변형 측정부(44)(기판 변형 산출부(66))는 입력된 촬영 화상 데이터에 기초하여 기판(12)의 선후단 및 기판(12)의 기준 마크(12a)의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고, 선후단의 위치 및 기준 마크(12a)의 위치의 검출 위치 정보로부터 기판의 변형량, 즉, 기판 변형의 회전 각도 및 변배율을 산출한다(스텝S142).
또한, 선후단 및 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보의 취득 방법에 대해서는, 예컨대, 선상의 에지 화상이나 원형상의 화상을 추출함으로써 취득하도록 하면 되지만, 다른 어떠한 이미 알려진 취득 방법을 채용해도 된다. 또한, 상기 선후단 및 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 구체적으로는 좌표값으로서 취득되지만, 그 좌표값의 원점은, 예컨대, 기판(12)의 촬영 화상 데이터의 4개의 각 중 1개의 각만으로 해도 되고, 촬영 화상 데이터에 있어서의 미리 설정된 소정의 위치이어도 되고, 복수의 기준 마크(12a) 중 1개의 기준 마크(12a)의 위치로 해도 된다. 또한, 회전 각도 및 변배율 등의 변형량의 산출 방법에 대해서도 선단 또는 후단과 기준 마 크(12a) 사이나, 복수의 기준 마크(12a) 사이의 간격을 계측하거나, 혹은 산출하여 이미 알려진 표준값과 비교하는 등 종래 공지의 산출 방법을 이용할 수 있다.
이와 같이 하여, 기판 변형 측정부(44)에서 측정ㆍ산출된 회전 각도 및 변배율 등의 기판의 변형량은 노광 데이터 작성부(46)의 화상 선택부(60)에 출력된다.
화상 선택부(60)에 있어서는 기판 변형 측정부(44)로부터 출력된 회전 각도 및 변배율 등의 기판의 변형량을 받고, 노광 스캐너(24)의 노광 헤드(30)로 노광하기 위한 노광 데이터를 작성하기 위해 이용하는 원 화상 데이터의 화상 처리 조건으로서 원 화상 데이터를 회전ㆍ변배하기 위한 회전 각도 및 변배율이 산출된다(스텝S144). 즉, 도 4에 나타내는 바와 같이, 노광 헤드(30)의 DMD(36)(마이크로 미러(38)의 배열)가 주사 방향에 대하여 경사져 있는 경우에는 이 경사 각도도 회전 각도로서 더할 필요가 있다. 또한, 회전 각도 및 변배율 등의 화상 처리 조건은 기판 변형 측정부(44)의 기판 변형 산출부(66)에서 산출해 두어도 된다.
다음에, 화상 선택부(60)에서는 메모리부(58)에 화상 처리 조건과 함께 기억되어 있는 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터 중에서 화상 처리 조건으로서 산출된 회전 각도 및 변배율에 가장 가까운 회전 각도 및 변배율을 가지는 1세트의 변형 완료 화상 데이터가 선택된다(스텝S146). 또한, 화상 선택부(60)에 의한 1세트의 변형 완료 화상 데이터의 선택은, 예컨대, 화상 처리 조건을 키로 하여 메모리부(58) 내를 검색함으로써 행할 수 있다.
또한, 화상 선택부(60)에서는 선택된 1세트의 변형 완료 화상 데이터가 가지는 화상 처리 조건과, 실제로 노광되는 기판(12)으로부터 측정된 화상 처리조건의 차분 처리 조건, 구체적으로는 양자에 관한 회전 각도 및 변배율의 각 차분이 산출된다(스텝S148).
다음에, 화상 선택부(60)로부터 산출된 차분 처리 조건(회전 각도 및 변배율의 각 차분)이 회전ㆍ변배부(62)에 출력된다. 한편, 메모리부(58)로부터 화상 선택부(60)에 의해 선택된 1세트의 변형 완료 화상 데이터도 회전ㆍ변배부(62)에 출력된다.
회전ㆍ변배부(62)에서는 화상 선택부(60)로부터 출력된 차분 처리 조건(회전 각도 및 변배율의 각 차분) 및 메모리부(58)로부터 출력된 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 이용하여 화상의 회전ㆍ변배 처리를 행한다.
구체적으로는, 회전ㆍ변배부(62)에서는 차분 처리 조건, 즉 차분 회전 각도 및 차분 변배율을 처리 조건으로 하고, 선택된 1세트의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하여, 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치(70)에 있어서 도 12에 나타내는 화상의 회전ㆍ변배 처리를 행하고, 변형 완료 화상 데이터를 취득하고, 묘화점 데이터, 예컨대, 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)에 대응하는 화소 데이터(미러 데이터)로 할 수 있다.
이와 같이, 회전ㆍ변배부(62)에서 행해지는 화상의 회전ㆍ변배 처리에서는 회전 각도나 변배율이 가장 가까운 것과의 차분이기 때문에 필요로 되는 회전ㆍ변배 처리의 회전 각도나 변배율을 작고, 유사도가 높으면 매우 작게 할 수 있으므로, 도 12에 나타내는 스텝S128에서의 입력 화상 상의 복수 라인의 각각에서의 잘라내기 위치를 적게 하는, 잘라내기 위치가 있는 라인수를 적게 할 수 있으므로, 입력 화상 데이터로부터 화소 데이터를 연속적으로 판독할 수 있는 1라인의 화소수를 많게 할 수 있고, 불연속 어드레싱을 행할 필요가 있는 편집 개소를 줄일 수 있다. 따라서, 입력 화상 데이터가 압축 화상 데이터이여도 해동 및 압축의 회수를 줄일 수 있으므로 처리의 고속화를 도모할 수 있다.
또한, 여기서는 화상 변형 처리 장치(70)에서의 도 12에 나타내는 화상의 회전ㆍ변배 처리를 행함으로써 입력 화상의 양단의 화소의 좌표만을 좌표 변환하면 되므로 종래기술의 다이렉트 맵핑에 비해서 변환 처리를 고속화할 수 있다.
이렇게 해서, 스텝S150의 화상의 회전ㆍ변배 처리에서 얻어진 묘화점 데이터(예컨대, 미러 데이터)는 회전ㆍ변배부(62)로부터 프레임 데이터 작성부(64)에 출력된다.
프레임 데이터 작성부(64)에서는 묘화점 데이터(예컨대, 미러 데이터)로부터 노광시에 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)에 주는 노광 데이터의 집합인 프레임 데이터가 작성된다.
이렇게 해서 프레임 데이터 작성부(64)에서 작성된 프레임 데이터는 노광부(48)의 노광 헤드 제어부(68)에 출력된다.
한편, 이동 스테이지(14)가 다시 상류측에 원하는 속도로 이동시켜진다.
그리고, 기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되면(또는, 센서에 의해 검출된 스테이지(14)의 위치로부터 기판(12)의 묘화 영역의 위치가 특정되면) 노광이 개시된다. 구체적으로는 노광 헤드 제어부(68)로부터 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 상기 프레임 데이터에 기초한 제어 신호가 출력되고, 노광 헤드(30)는 입력된 제어 신호에 기초하여 DMD(36)의 마이크로 미러를 온/오프시켜서 기판(12)을 노광한다(스텝S152).
또한, 노광 헤드 제어부(68)로부터 각 노광 헤드(30)로 제어 신호가 출력될 때에는 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 대응한 제어 신호가 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 노광 헤드 제어부(68)로부터 각 노광 헤드(30)에 출력된다.
그리고, 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 각 노광 헤드(30)에 제어 신호가 출력되어 노광이 행해지고, 기판(12)의 후단이 카메라(12)에 의해 검출되면 노광이 종료된다.
노광 스캐너(24)의 각 노광 헤드(30)에 의해 기판(12)의 전체면에 노광되면 스테이지(14)는 상류측으로 이동해서 초기 위치로 되돌려져 정지하면 노광 종료된 기판(12)이 스테이지(14)로부터 배출된다(스텝S154).
이렇게 해서, 다음에 노광해야 할 기판(12)이 있으면 노광 장치(10)에 의한 노광 처리가 스텝S140로부터 S154까지 반복되고, 다음에 노광해야 할 기판(12)이 없을 경우에는 노광 장치(10)에 의한 노광 처리는 종료된다.
상기 실시형태에서는 노광 장치(10)의 묘화점 데이터 취득 장치(11)의 회전ㆍ변배부(56 및 62)에 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치(70)를 이용하고 있지만, 상술한 바와 같이 도 14에 나타내는 노광점 데이터 취득 장치(90)를 이용해도 된다.
도 14에 나타내는 노광점 데이터 취득 장치(90)는 본 발명자가 본 출원인의 출원에 따른 일본 특원 2005-103788호 명세서(일본 특허 공개 2006-309200호 공보 참조)에 제안하고 있는 빔 추적법으로 칭해지는 묘화점 데이터 궤적을 이용하는 묘화점 데이터 취득 장치의 일실시예이다.
도 14는 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법을 실시하는 묘화점 데이터 취득 장치에 적용되는 노광점 데이터 취득 장치의 일실시형태의 블록도이다.
도 14에 나타내는 노광점 데이터 취득 장치(90)는 회전ㆍ변배부(56 및 62)에 바람직하게는 회전ㆍ변배부(62)에 이용되는 장치로서, 카메라(26)에 의해 촬영된 기준 마크(12a)의 화상에 기초하여 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보를 취득하는 검출 위치 정보 취득부(96)와, 검출 위치 정보 취득부(96)에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12) 상의 화상 공간 상의 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적의 정보를 취득하는 노광 궤적 정보 취득부(94)와, 노광 궤적 정보 취득부(94)에 의해 취득된 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보와 입력 화상 데이터(래스터 데이터)에 기초하여 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터(묘화점 데이터)를 취득하는 노광점 데이터 취득부(92)를 구비한다. 여기서, 입력 화상 데이터는, 도 5에 나타내는 노광 장치(10)의 데이터 입력부(42)의 회전ㆍ변배부(56)에 적용되는 경우에는 벡터ㆍ래스터 변환부(54)로부터 출력된 래스터 데이터(원 화상 데이터)이고, 노광 데이터 작성부(46)의 회전ㆍ변배부(62)에 적용되는 경우에는 화상 선택부(60)에 의해 선택되어 메모리부(58)로부터 출력된 가상의 변형 완료 화상 데이터이다.
여기서, 검출 위치 정보 취득부(96)는 카메라(26)로부터 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보를 취득하는 것이므로, 노광점 데이터 취득 장치(90)를 회전ㆍ변배부(62)에 적용하는 경우에는 도 5에 나타내는 기판 변형 측정부(44)의 기판 변형 산출부(66)와 겸용하고, 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보를 노광 데이터 작성부(46)의 화상 선택부(60)를 통해서 회전ㆍ변배부(62)에 입력하도록 구성하면 특별히 설치하지 않아도 된다.
다음에 노광점 데이터 취득 장치(90)의 작용에 대해서 설명한다.
이하에서는 노광점 데이터 취득 장치(90)를 회전ㆍ변배부(62)에 적용하는 경우에 대해서 설명하지만, 상술한 바와 같이 회전ㆍ변배부(56)에 적용가능한 것은 말할 필요도 없다.
그런데, 노광점 데이터 취득 장치(90)는 단독으로 노광점 데이터를 취득하는 것은 아니고, 노광 장치(10)에 의해 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적을 취득함으로써 노광점 데이터를 취득할 수 있는 것이므로, 도 1 및 도 5에 나타내는 노광 장치(10)의 작용도 포함해서 설명한다.
또한, 이하에서는 설명의 용이화를 위해, 후술하는 도 16 및 도 17에 나타내는 바와 같이, 기판(12)에 단지 회전 변형만이 생겨 있는 것으로 하여 설명하지만, 노광점 데이터 취득 장치(90)를 이용하여 행하는 빔 추적법은 신축 등의 변배, 왜곡 등의 자유 변형, 이동 스테이지(14)의 스테이지 이동 방향과 직교하는 방향으로의 어긋남, 기판(12)의 이동의 속도 변동, 기판(12)의 사행이나 좌우 흔들림 등에 대하여 보다 효과적인 것이다.
우선, 도 5에 나타내는 노광 장치(10)의 노광 데이터 작성부(46)의 화상 선 택부(60)에서 선택된 가상의 변형 완료 화상 데이터가 메모리부(58)로부터 도 14에 나타내는 노광점 데이터 취득 장치(90)의 노광점 데이터 취득부(92)에 출력되고, 입력 화상 데이터로서 노광점 데이터 취득부(92)에 의해 일시 기억된다.
한편, 도 1에 나타내는 노광 장치(10)에 있어서는 그 전체의 동작을 제어하는 컨트롤러(52)가 이동 기구(50)에 제어 신호를 출력하고, 이동 기구(50)는 그 제어 신호에 따라 이동 스테이지(14)를 도 1에 나타내는 위치로부터 가이드(20)를 따라 일단 상류측의 소정의 초기 위치까지 이동시킨 후, 하류측을 향해 원하는 속도로 이동시킨다.
그리고, 상기와 같이 해서 이동하는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)이 복수의 카메라(26) 아래를 통과할 때, 이들 카메라(26)에 의해 기판(12)이 촬영되고, 그 촬영 화상을 나타내는 촬영 화상 데이터가 검출 위치 정보 취득부(96)에 입력된다. 검출 위치 정보 취득부(96)는 입력된 촬영 화상 데이터에 기초하여 기판(12)의 기준 마크(12a)의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득한다. 본 실시형태에 있어서는 카메라(26)와 검출 위치 정보 취득부(96)에 의해 위치 정보 검출부가 구성되어 있다.
그리고, 이와 같이 하여 취득된 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 검출 위치 정보 취득부(96)로부터 노광 궤적 정보 취득부(94)에 출력된다.
그리고, 노광 궤적 정보 취득부(94)에 있어서 입력된 검출 위치 정보에 기초하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12) 상의 화상 공간 상의 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적의 정보가 취득된다. 구체적으로는, 노광 궤적 정보 취득 부(94)에는 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)의 상이 통과하는 위치를 나타내는 통과 위치 정보가 각 마이크로 미러(38)마다 미리 설정되어 있다. 상기 통과 위치 정보는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)의 설치 위치에 대한 각 노광 헤드(30)의 설치 위치에 의해 미리 설정되어 있는 것이며, 상기 기준 마크 위치 정보 및 상기 검출 위치 정보와 동일 점을 원점으로 하여 벡터 또는 복수 점의 좌표값으로 나타내어지는 것이다. 도 15에, 프레스 공정 등을 거치지 않고 있는 이상적인 형상의 기판(12), 즉, 왜곡이나 변배 등의 변형이 생겨 있지 않고, 또한, 기판(12) 자체의 회전이 없고, 기준 마크(12a)가 미리 설정된 기준 마크 위치 정보(12b)가 나타내는 위치에 배치하고 있는 기판(12)과, 소정의 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)의 관계를 나타내는 모식도를 나타낸다.
그리고, 노광 궤적 정보 취득부(94)에 있어서는, 도 16에 나타내는 바와 같이, 주사 방향에 직교하는 방향에 대해서 인접하는 검출 위치 정보(12d)를 연결하는 직선과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 나타내는 직선의 교점의 좌표값이 구해진다. 즉, 도 16에 있어서의 X표시의 점의 좌표값이 구해지고, 또한, X표시와 그 X표시에 상기 직교하는 방향으로 인접하는 각 검출 위치 정보(12d)의 거리가 구해지며, 상기 인접하는 검출 위치 정보(12d) 중 한쪽의 검출 위치 정보(12d)와 X표시의 거리와, 다른쪽의 검출 위치 정보(12d)와 X표시의 거리의 비가 구해진다. 구체적으로는, 도 16에 있어서의 a1:b1, a2:b2, a3:b3 및 a4:b4이 노광 궤적 정보로서 구해진다. 이와 같이 해서 구해진 비가 회전 변형 후의 기판(12) 상에 있어서의 마이크로 미러(38)의 노광 궤적을 나타내고 있게 된다. 여기서, 각 기 준 마크 위치 정보(12b)를 하층의 패턴의 위치를 나타내는 것으로서 파악한 경우, 구해진 노광 궤적은 실제의 노광시의 기판(12) 상의 화상 공간 상에 있어서의 빔의 노광 궤적을 나타내고 있게 된다. 또한, 예컨대, 통과 위치 정보(12c)가 검출 위치 정보(12d)로 둘러싸여지는 범위 밖에 위치하는 경우에도 검출 위치 정보(12d)와 X표시의 외비(外比)가 구해진다.
또한, 회전ㆍ변배부(62)에 적용하는 경우에는, 노광 궤적 정보 취득부(94)에 있어서는 카메라(26)의 촬영 화상 데이터로부터 취득된 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보를 그대로 이용하는 것은 아니고, 입력 화상 데이터인 가상의 변형 완료 화상 데이터가 가지는 회전 각도(및 변배율) 등의 변형량을 제외한 차분, 즉 차분 처리 조건을 이용하여 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보(12d)로 할 필요가 있다. 이렇게 해서 구해진 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보(12d)로부터 구해진 기판(12)의 변형 상태가 도 16에 나타내어져 있는 것으로 한다.
그리고, 상기와 같이 해서 각 마이크로 미러(38)마다 구해진 노광 궤적 정보가 노광점 데이터 취득부(92)에 입력된다.
노광점 데이터 취득부(92)에는 상술한 바와 같이 래스터 데이터인 입력 화상 데이터가 일시 기억되어 있다. 노광점 데이터 취득부(92)는 상기와 같이 해서 입력된 노광 궤적 정보에 기초하여 입력 화상 데이터로부터 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터를 취득한다.
구체적으로는, 노광점 데이터 취득부(92)에 기억되는 입력 화상 데이터에는, 도 17에 나타내는 바와 같이, 상기 기준 마크 위치 정보(12d)가 나타내는 위치에 대응한 위치에 배치된 입력 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)가 첨부되어 있고, 주사 방향에 직교하는 방향으로 인접하는 입력 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)를 연결하는 직선을 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 기초하여 분할한 점의 좌표값이 구해진다. 즉, 이하의 식을 만족하는 점의 좌표값이 구해진다. 또한, 도 17에는 도시되어 있지 않지만 도 17의 각 화소는 노광해야 할 배선 패턴을 나타내는 화소로 되어 있다.
a1:b1=A1:B1
a2:b2=A2:B2
a3:b3=A3:B3
a4:b4=A4:B4
그리고, 상기와 같이 해서 구해진 점을 연결하는 선(데이터 판독 궤적 또는 데이터 궤적) 상에 있는 화소 데이터(d)가 실제로 마이크로 미러(38)의 노광 궤적 정보에 대응한 노광점 데이터이다. 따라서, 입력 화상 데이터 위를 상기 직선이 통과하는 점의 화소 데이터(d)가 노광점 데이터로서 취득된다. 또한, 화소 데이터(d)는 입력 화상 데이터를 구성하는 최소 단위의 데이터이다. 도 17의 오른쪽 위의 범위를 추출한 확대도를 도 18에 나타낸다. 구체적으로는, 도 18의 해칭된 부분의 화소 데이터가 노광점 화상 데이터로서 취득된다. 또한, 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 기초하여 분할한 점을 연결한 직선이 입력 화상 데이터 위에 존재하지 않는 경우에는 그 직선 위의 노광점 데이터는 0으로서 취득된다.
또한, 상기와 같이 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 기초하여 분할한 점을 직선에서 연결하고, 그 직선 위에 있는 화소 데이터를 노광점 데이터로서 취득하도록 해도 되고, 상기 점을 스플라인 보간 등에 의해 곡선으로 연결하고, 그 곡선 위에 있는 화소 데이터를 노광점 데이터로서 취득하도록 해도 된다. 상기와 같이 스플라인 보간 등에 의해 곡선으로 연결하도록 하면 보다 기판(12)의 변형에 충실한 노광점 데이터를 취득할 수 있다. 또한, 상기 스플라인 보간 등의 연산 방법에 기판(12)의 재질의 특성(예컨대, 특정의 방향으로밖에 신축하지 않는 것 등)을 반영하도록 하면 또한 보다 기판(12)의 변형에 충실한 노광점 데이터를 취득할 수 있다.
그리고, 상기와 마찬가지로 하여 각 마이크로 미러(38)마다에 대해서 복수의 노광점 데이터가 각각 취득된다. 이렇게 해서, 노광점 데이터 취득 장치(90)에서는 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 복수의 마이크로 미러(38)에 대한 노광점 데이터가 기판(12)을 노광하는데에 필요하게 되는 양이 취득된다. 즉, 회전ㆍ변배부(62)에서는 이렇게 해서 노광점 데이터 취득 장치(90)에 의해 노광점 데이터(미러 데이터)를 보다 고속으로 취득할 수 있다.
이렇게 해서, 회전ㆍ변배부(62)에서 얻어진 묘화점(노광점) 데이터(예컨대, 미러 데이터)는 회전ㆍ변배부(62)로부터 프레임 데이터 작성부(64)에 출력되고, 예컨대, 후술하는 바와 같이, 행렬의 옮겨놓기 변환을 행함으로써 노광시에 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)에 주는 노광 데이터의 집합인 프레임 데이터로 변환된다.
이렇게 해서 프레임 데이터 작성부(64)에서 작성된 프레임 데이터는, 상술한 바와 같이, 노광부(48)의 노광 헤드 제어부(68)에 출력되고, 노광 헤드(30)에 의한 기판(12)의 노광이 행해진다.
또한, 상술한 바와 같이, 노광 헤드 제어부(68)로부터 각 노광 헤드(30)로 제어 신호가 출력될 때에는 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 대응한 제어 신호가 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 노광 헤드 제어부(68)로부터 각 노광 헤드(30)에 출력되지만, 이 때, 예컨대, 도 19에 나타내는 바와 같이, 각 마이크로 미러(38)마다 취득된 m개의 노광점 데이터의 열의 각 열로부터 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 따른 노광점 데이터를 1개씩 순차적으로 판독하여 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 출력하도록 해도 되고, 도 19에 나타내는 바와 같이 취득된 노광점 데이터에 90도 회전 처리 혹은 행렬을 이용한 옮겨놓기 변환 등을 실시하고, 도 20에 나타내는 바와 같이, 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 따른 프레임 데이터(1~m)를 생성하고, 이 프레임 데이터(1~m)를 각 노광 헤드(30)에 순차적으로 출력하도록 해도 된다.
상술한 바와 같이, 노광점 데이터 취득 장치(90)를 회전ㆍ변배부(56)에 적용하는 경우에는, 노광 궤적 정보 취득부(94)에 있어서는 카메라(26)의 촬영 화상 데이터로부터 취득된 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보로서 입력 화상 데이터의 처리 조건인 회전 각도 및 변배율 등의 변형량을 이용하여 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보(12d)로 할 필요가 있다.
또한, 상술한 예에서는 입력 화상 데이터의 처리 조건인 회전 각도 및 변배율 등의 변형량이나, 차분 처리 조건 등의 차분 회전 각도나 차분 변배율 등의 변 형량을 이용하여 노광점 데이터 취득 장치(90)에서 노광점 데이터를 구하고 있지만, 자유 변형 등과 같은 경우에도 노광점 데이터 취득 장치(90)를 적용할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
상기 노광점 데이터 취득 장치(90)를 회전ㆍ변배부(56 및 62)에 이용한 노광 장치(10)에 의하면 기판(12) 상의 소정 위치에 미리 설치된 복수의 기준 마크(12a)를 검출해서 그 기준 마크(12a)의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고, 그 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적 정보를 취득하고, 그 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보에 대응한 화소 데이터(d)를 노광 화상 데이터(d)로부터 노광점 데이터로서 취득하도록 했으므로, 기판(12)의 변형에 따른 노광점 데이터를 취득할 수 있고, 기판(12)의 변형에 따른 노광 화상을 기판(12) 상에 노광할 수 있다. 따라서, 예컨대, 다층 프린트 배선판 등에 있어서의 각 층의 패턴을 그 각 층의 노광시의 변형에 따라 형성할 수 있으므로 각 층의 패턴의 위치 맞춤을 행할 수 있다.
또한, 상기 설명에 있어서는 프레스 공정 등에 있어서 변형한 기판(12)에 노광할 때의 노광점 데이터의 취득 방법에 대해서 설명했지만, 변형하지 않은 이상적인 형상의 기판(12)에 노광할 때에 대해서도 상기와 마찬가지의 방법을 채용해서 노광점 데이터를 취득할 수 있다. 예컨대, 각 마이크로 미러(38)마다 미리 설정된 상기 통과 위치 정보에 대응하는 노광 화상 데이터 상에 있어서의 노광점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 노광점 데이터 궤적 정보에 기초하여 노광점 데이터 궤적에 대응한 복수의 노광점 데이터를 노광 화상 데이터로부터 취득하도록 해도 된다.
또한, 상기와 같이 각 마이크로 미러(38)마다의 통과 위치 정보에 기초하여 미리 노광점 데이터 궤적 정보를 노광 화상 데이터 상에 설정하고, 그 노광점 데이터 궤적에 기초하여 노광점 데이터를 취득하는 방법은, 예컨대, 전혀 노광 화상이 노광되어 있지 않은 기판 위에 최초에 노광 화상을 노광하는 경우에도 채용할 수 있다. 아직, 기판의 변형에 따라 노광 화상 데이터를 변형시킨 경우에도 이 방법을 채용할 수 있다. 이 방법을 채용한 경우, 노광 화상 데이터를 기억하는 메모리의 어드레스를 노광점 데이터 궤적에 따라 계산해서 노광점 데이터를 취득하는 것이 가능하고, 그 때문에 어드레스의 계산을 용이하게 행할 수 있다.
또한, 주사 방향에 대해서 기판(12)이 신축하고 있는 경우에는 그 신축의 정도에 따라 입력 화상 데이터에 있어서의 1개의 화소 데이터(d)로부터 취득하는 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 해도 된다. 기판(12)이 주사 방향으로만 신축한 경우에 한정되지 않고, 그 외의 방향으로도 기판(12)이 변형되고 있는 경우에 있어서도 기판(12)의 검출 위치 정보(12d)로 구획되는 영역마다, 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보의 길이가 다른 경우에는 상기와 마찬가지로 그 길이에 따라 1개의 화소 데이터로부터 취득하는 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 해도 된다. 상기와 같이 기판(12)의 신축에 따라 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 하면 기판(12) 상의 원하는 위치에 원하는 노광 화상을 노광할 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이, 이동 스테이지(14)의 스테이지 이동 방향과 직교하는 방향으로의 어긋남, 또는, 기판(12)의 회전ㆍ변배에 추가로, 어긋남을 보정해서 노광하는 경우에는 노광점 데이터 취득 장치(90)에 있어서 검출 위치 정보 취득부(96) 대신에, 또는, 검출 위치 정보 취득부(96)에 추가로, 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득부를 설치하고, 노광 궤적 정보 취득부(94)에 있어서 어긋남 정보 취득부에서 취득된 어긋남 정보에 기초하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12) 상의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적의 정보를 취득하면 된다.
또한, 상술한 바와 같이, 기판(12)의 회전ㆍ변배에 추가로, 기판(12)의 이동의 속도 변동도 보정해서 노광하는 경우에는 노광점 데이터 취득 장치(90)에 있어서 검출 위치 정보 취득부(96)에 추가로, 기판(12)의 이동의 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득부를 설치하고, 노광 궤적 정보 취득부(94)에 있어서 속도 변동 정보 취득부에서 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12) 상의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적의 정보를 취득하면 된다.
또한, 노광점 데이터 취득 장치(90)에 있어서 기판(12)의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득부와, 기판(12)의 이동의 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득부를 설치하는 것에서는 이동 스테이지(14)의 사행을 보정할 수 있을 뿐만 아니라, 좌우 흔들림도 고려한 보정, 즉 기판의 이동 자세를 고려한 보정을 행할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 공간 광변조 소자로서 DMD를 구비한 노광 장치에 대해서 설명했지만, 이러한 반사형 공간 광변조 소자 이외에 투과형 공간 광변조 소자를 사용할 수도 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 소위 플랫 베드 타입의 노광 장치를 예로 들었 지만, 감광 재료를 감겨지는 드럼을 갖는 소위 아우터 드럼 타입(outer drum type) 또는 이너 드럼 타입(inner drum type)의 노광 장치로 해도 된다.
또한, 상기 실시형태의 노광 대상인 기판(12)은 프린트 배선 기판뿐만 아니라 플랫 패널 디스플레이의 기판이어도 된다. 이 경우, 패턴은 액정 디스플레이 등의 칼라 필터, 블랙 매트릭스, TFT 등의 반도체 회로 등을 구성하는 것이어도 된다. 또한, 기판(12)의 형상은 시트 형상의 것이어도, 길이가 긴 형상의 것(플렉시블 기판 등)이어도 된다.
또한, 본 실시형태에 있어서의 묘화 방법 및 장치는 잉크젯 방식 등의 프린터에 있어서의 묘화에도 적용할 수 있다. 예컨대, 잉크의 토출에 의한 묘화점을 본 발명과 마찬가지로 형성할 수 있다. 즉, 본 발명에 있어서의 묘화점 형성 영역을 잉크젯 방식의 프린터의 각 노즐로부터 토출된 잉크가 부착되는 영역으로서 생각할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 있어서의 묘화 궤적 정보는 실제 기판 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적을 이용하여 묘화 궤적 정보로 해도 되고, 실제 기판상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적을 근사한 것을 묘화 궤적 정보로 해도 되고, 실제 기판 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적을 예측한 것을 묘화 궤적 정보로 해도 된다.
또한, 본 실시형태에 있어서는 묘화 궤적의 거리가 길수록 묘화점 데이터의 수를 많게 하고, 거리가 짧을수록 묘화점 데이터의 수를 적게 함으로써 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로 부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키도록 해도 된다.
또한, 본 실시형태에 있어서의 화상 공간은 기판 상에 묘화해야 할 또는 묘화된 화상을 기준으로 한 좌표 공간이어도 된다.
또한, 상기와 같이, 본 실시형태에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적 정보는 기판 좌표 공간에 있어서의 묘화 궤적과, 화상 좌표 공간에 있어서의 묘화 궤적 양쪽에서 취할 수 있다. 또한, 기판 좌표와 화상 좌표가 다른 경우가 있다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는 2개 이상의 마이크로 미러(빔)마다 1개의 노광점 데이터 궤적을 취득하도록 해도 된다. 예컨대, 마이크로 렌즈 어레이를 구성하는 1개의 마이크로 렌즈에 의해 집광되는 복수의 빔마다 노광점 데이터 궤적을 구할 수 있다.
또한, 각 노광점 데이터 궤적 정보에 데이터 판독 피치 정보를 부수시키도록 해도 된다. 이 경우, 피치 정보에 샘플링 레이트(묘화점 데이터를 바꾸는 최소의 빔 이동 거리(보정이 없는 경우에 전체 빔 공통)와 화상의 해상도(화소 피치)의 비)가 포함되어 있어도 된다. 또한, 노광 궤적의 길이 보정에 따른 노광점 데이터의 가감의 정보를 피치의 정보에 포함시키도록 할 수 있다. 또한, 노광점 데이터의 가감의 정보와 함께, 가감의 위치를 피치 정보에 포함시키도록 하고, 노광 궤적에 부수시키도록 해도 된다. 또한, 각 노광점 데이터 궤적 정보로서 각 프레임에 대응하는 데이터 판독 어드레스(x,y)(시계열순의 판독 어드레스)를 모두 갖게 해도 된다.
또한, 화상 데이터 상에 있어서의 데이터 판독 궤적에 따른 방향과, 메모리 상에 있어서의 어드레스의 연속 방향을 일치시키도록 해도 된다. 예컨대, 도 17의 예와 같이, 가로 방향이 어드레스의 연속 방향으로 되도록 메모리에 화상 데이터가 저장되는 경우, 빔마다 화상 데이터를 판독하는 처리를 고속으로 행할 수 있다. 또한, 메모리로서는 DRAM을 이용할 수 있지만, 저장된 데이터가 어드레스가 연속하는 방향으로 순차적으로 고속으로 판독될 수 있는 것이면 어떠한 것을 사용해도 된다. 예컨대, SRAM(Static Random Access Memory) 등의 랜덤 액세스에서도 고속인 것을 이용할 수도 있지만, 이 경우, 메모리 상의 어드레스의 연속 방향을 노광 궤적에 따른 방향으로 정의하고, 또한, 그 연속 방향을 따라 데이터의 판독이 행해지도록 해도 된다. 또한, 메모리는 어드레스의 연속 방향을 따라 데이터의 판독이 행해지도록 미리 배선 또는 프로그램된 것이어도 된다. 또한, 어드레스의 연속 방향을, 연속되는 복수 비트분이 통합해서 판독되는 경로에 따른 방향으로 해도 된다.
도 1은 본 발명의 묘화 방법을 실시하는 본 발명의 묘화 장치를 적용하는 노광 장치의 일실시형태의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 나타내는 노광 장치의 노광 스캐너의 일실시형태의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3(A)는 도 2에 나타내는 노광 스캐너의 노광 헤드에 의해 기판의 노광면 상에 형성되는 노광 완료 영역의 일례를 나타내는 평면도이고, 도 3(B)는 각 노광 헤드에 의한 노광 영역의 배열의 일례를 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 1에 나타내는 노광 장치의 노광 헤드에 있어서의 DMD의 배치의 일례를 나타내는 평면 모식도이다.
도 5는 본 발명을 적용하는 노광 장치의 전기제어계의 일실시형태의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 6은 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법을 실시하는 묘화점 데이터 취득 장치에 적용되는 화상 변형 처리 장치의 일실시형태의 개략적인 구성을 나타내는 블록도이다.
도 7(A) 및 (B)는 각각 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치의 작용을 설명하기 위한 설명도이다.
도 8은 도 7(A)의 부분 확대도이다.
도 9(A) 및 (B)는 각각 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치의 다른 작용을 설명하기 위한 설명도이다.
도 10(A) 및 (B)는 각각 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치의 그 외의 작용을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 도 5에 나타내는 묘화점 데이터 취득 장치의 데이터 입력 처리부에 있어서의 오프라인 데이터 입력 처리의 플로우의 일례를 나타내는 플로우차트이다.
도 12는 도 6에 나타내는 화상 변형 처리 장치에 있어서의 회전ㆍ변배 처리의 플로우의 일례를 나타내는 플로우차트이다.
도 13은 도 1 및 도 5에 나타내는 노광 장치에 있어서의 온라인 노광 처리의 플로우의 일례를 나타내는 플로우차트이다.
도 14는 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법을 실시하는 묘화점 데이터 취득 장치에 적용되는 노광점 데이터 취득 장치의 일실시형태의 개략적인 구성을 나타내는 블록도이다.
도 15는 이상적인 형상의 기판 상에 있어서의 기준 마크와 소정의 마이크로 미러의 통과 위치 정보의 관계를 나타내는 모식도이다.
도 16은 소정의 마이크로 미러의 노광 궤적 정보의 취득 방법을 설명하기 위한 설명도이다.
도 17은 소정의 마이크로 미러의 노광 궤적 정보에 기초하여 노광점 데이터를 취득하는 방법을 설명하기 위한 설명도이다.
도 18은 도 17의 오른쪽 위의 범위를 추출한 확대도이다.
도 19는 각 마이크로 미러마다의 노광점 데이터(미러 데이터) 열을 나타내는 도면이다.
도 20은 각 프레임 데이터를 나타내는 도면이다.
도 21은 종래의 화상 변형 처리 방법을 설명하기 위한 설명도이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
10: 노광 장치 11: 묘화점 데이터 취득 장치
12: 기판 12a: 기준 마크
14: 이동 스테이지 18: 설치대
20: 가이드 22: 게이트
24: 스캐너 26: 카메라
30: 노광 헤드(묘화부) 32: 노광 영역
36: DMD 38: 마이크로 미러
40: 데이터 작성 장치 42: 데이터 입력 처리부(데이터 입력부)
44: 기판 변형 측정부 46: 노광 데이터 작성부
48: 노광부 50: 이동 스테이지 이동 기구(이동 기구)
52: 컨트롤러 54: 벡터ㆍ래스터 변환부
56: 회전ㆍ변배부 58: 메모리부
60: 화상 선택부 62: 회전ㆍ변배부
64: 프레임 데이터 작성부 66: 기판 변형 산출부
68: 노광 헤드 제어부 70: 화상 변형 처리 장치
72: 변형후 벡터 정보 설정부 74: 화소 위치 정보 취득부
76: 역변환 연산부 78: 입력 벡터 정보 설정부
80: 입력 화소 데이터 취득부 82: 입력 화상 데이터 기억부
84: 변형 완료 화상 데이터 취득부 90: 노광점 데이터 취득 장치
92: 노광점 데이터 취득부 94: 노광 궤적 정보 취득부
96: 검출 위치 정보 취득부 d: 입력 화소 데이터
V1: 변형후 벡터 정보(변형후 벡터)
V2: 입력 벡터 정보(입력 벡터)

Claims (22)

  1. 원 화상 데이터를 변형 처리하여 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위해 이용되는 묘화점 데이터로서 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서:
    미리 복수의 다른 변형 처리 조건에 대하여 각각 제 1 처리법에 의해 상기 원 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하여 취득된 변형 완료 화상 데이터를 복수 세트 유지해 두고;
    이 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터 중에서 입력되는 변형 처리 조건에 가까운 변형 처리 조건에 있어서 얻어진 가상의 변형 완료 화상 데이터를 1세트 선출하고;
    상기 입력 변형 처리 조건과 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터의 상기 변형 처리 조건의 차분에 따라 제 2 처리법에 의해 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하고, 상기 묘화점 데이터로서 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 처리법은,
    상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건을 상기 차분으로 할 때,
    상기 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 배치 위치를 나타내 는 화소 위치 정보를 연결하는 변형후 벡터 정보를 설정하고,
    상기 설정된 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보 중 일부의 상기 화소 위치 정보를 취득하고,
    상기 취득된 일부의 화소 위치 정보에 대해서만 상기 변형 처리와는 반대의 변형 처리를 나타내는 역변환 연산을 실시해서 상기 일부의 화소 위치 정보에 대응하는 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 역변환 화소 위치 정보를 취득하고,
    상기 취득된 역변환 화소 위치 정보에 기초하여 상기 입력 화상 데이터로부터 상기 변형후 벡터에 대응하는 입력 화소 데이터를 취득하고,
    상기 취득된 입력 화소 데이터를 상기 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 역변환 화소 위치 정보를 연결하는 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 입력 벡터 정보를 설정하고,
    상기 설정된 입력 벡터 정보가 나타내는 입력 벡터 상에 있어서의 상기 입력 화소 데이터를 상기 입력 화상 데이터로부터 취득하고,
    상기 취득된 입력 화소 데이터를 상기 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 역변환 화소 위치 정보를 곡선으로 연결해서 상기 입력 벡터 정보를 설정하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 입력 벡터 정보에 상기 입력 화소 데이터를 취득하는 피치 성분이 포함되어 있거나, 또는 상기 입력 벡터 정보에 기초하여 상기 입력 화소 데이터를 취득하는 피치 성분을 설정하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  6. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 처리법은,
    상기 원 화상 데이터를 상기 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건을 상기 복수의 다른 변형 처리 조건의 하나인 것으로 할 때,
    상기 제 2 처리법과 마찬가지로 행하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  7. 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터는 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역에 맵핑되고, 상기 복수의 묘화점 형성 영역에서 묘화하기 위한 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성되는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 처리법은,
    상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건이 상기 차분이며, 상기 묘화 대상이 상기 차분만큼 변형되어 있는 것으로 할 때,
    상기 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 상기 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 이 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 상기 입력 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위한 상기 묘화점 데이터를 취득함에 있어서,
    상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고,
    상기 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 입력 화상 데이터로부터 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 스텝은,
    상기 입력 화상 데이터가 담지하는 상기 화상의 묘화를 행할 때의 상기 묘화 대상 위에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고,
    상기 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 스텝은,
    상기 묘화 대상 위의 화상 공간에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고,
    상기 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  11. 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 처리법은,
    상기 원 화상 데이터를 상기 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형의 변형량을 상기 복수의 다른 변형량의 하나인 것으로 할 때,
    제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 상기 제 2 처리법과 마찬가지로 행하는 것임을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  12. 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 처리법은,
    상기 원 화상 데이터를 상기 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형의 변형량을 상기 복수의 다른 변형량의 하나인 것으로 할 때,
    상기 제 2 처리법과 마찬가지로 행하는 것임을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  13. 제 8 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터는 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역 각각마다 취득되고, 상기 복수의 묘화점 형성 영역에 대하여 2차원적으로 배열되고,
    이 2차원적으로 배열된 상기 묘화점 데이터는, 옮겨 놓아져 상기 2차원 공간 변조 소자의 상기 복수의 묘화 소자로 묘화하기 위해 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성되는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 원 화상 데이터 및 상기 변형 완료 화상 데이터가 압축 화상 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 원 화상 데이터 및 상기 변형 완료 화상 데이터가 2치 화상 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기재된 묘화점 데이터 취득 방법에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  17. 원 화상 데이터를 변형 처리하여 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위해 이용되는 묘화점 데이터로서 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서:
    미리 복수의 다른 변형 처리 조건에 대하여 각각 제 1 처리법에 의해 상기 원 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하여 취득된 변형 완료 화상 데이터를 복수 세트 유지하는 데이터 유지부;
    이 복수 세트의 변형 완료 화상 데이터 중에서 입력되는 변형 처리 조건에 가까운 변형 처리 조건에 있어서 얻어진 가상의 변형 완료 화상 데이터를 1세트 선출하는 화상 선택부; 및
    상기 입력 변형 처리 조건과 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터의 상기 변형 처리 조건의 차분에 따라 제 2 처리법에 의해 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터에 상기 변형 처리를 행하고, 상기 묘화점 데이터로서 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 변형 처리부를 갖는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 변형 처리부는 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건을 상기 차분으로 할 때, 상기 제 2 처리법을 실시하는 것이고;
    상기 취득되는 변형 완료 화상 데이터의 화소 데이터의 배치 위치를 나타내는 화소 위치 정보를 연결하는 변형후 벡터 정보를 설정하는 변형후 벡터 정보 설 정부;
    상기 변형후 벡터 정보 설정부에 의해 설정된 변형후 벡터 정보가 나타내는 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보 중 일부의 상기 화소 위치 정보를 취득하는 화소 위치 정보 취득부;
    상기 화소 위치 정보 취득부에 의해 취득된 일부의 화소 위치 정보에 대해서만 상기 변형 처리와는 반대의 변형 처리를 나타내는 역변환 연산을 실시해서 상기 일부의 화소 위치 정보에 대응하는 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 역변환 화소 위치 정보를 취득하는 역변환 연산부;
    상기 역변환 연산부에 의해 취득된 역변환 화소 위치 정보에 기초하여 상기 입력 화상 데이터로부터 상기 변형후 벡터에 대응하는 입력 화소 데이터를 취득하는 입력 화소 데이터 취득부; 및
    상기 입력 화소 데이터 취득부에 의해 취득된 입력 화소 데이터를 상기 변형후 벡터 상에 있어서의 상기 화소 위치 정보가 나타내는 위치의 화소 데이터로서 취득하여 상기 변형 완료 화상 데이터를 취득하는 변형 완료 화상 데이터 취득부를 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  19. 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터를 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역에 대하여 맵핑하고, 상기 복수의 상기 묘화점 형성 영역에 의해 묘화하기 위한 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데 이터로서 작성하는 프레임 데이터 작성부를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  20. 제 17 항에 있어서, 상기 변형 처리부는 상기 선출된 가상의 변형 완료 화상 데이터를 입력 화상 데이터로 하고, 상기 변형 처리의 변형 처리 조건이 상기 차분이며, 상기 묘화 대상이 상기 차분만큼 변형되어 있는 것으로 할 때, 상기 제 2 처리법을 실시하는 것이고;
    상기 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 상기 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 이 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 상기 입력 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하기 위한 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것이며;
    상기 화상의 상기 입력 화상 데이터 상에 있어서의 상기 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득부와,
    상기 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 입력 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득부를 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터를 2차원 공간 변조 소자를 이용하여 상기 화상을 묘화하기 위해 상기 2차원 공간 변조 소자의 2차원상으로 배열된 복수의 묘화점 형성 영역 각각마다 취득되고, 상기 복수의 묘화점 형성 영역에 대하여 2차원적으로 배열하고, 이 2차원적으로 배열된 상기 묘화점 데이터를 옮겨 놓아서 상기 2차원 공간 변조 소자의 상기 복수의 묘화 소자로 묘화하기 위해 묘화 데이터의 집합으로 이루어지는 프레임 데이터로서 작성하는 프레임 데이터 작성부를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
  22. 제 17 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 기재된 묘화점 데이터 취득 장치; 및
    상기 묘화점 데이터 취득 장치에 있어서 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화 대상 위에 상기 원 화상 데이터가 담지하는 화상을 묘화하는 묘화부를 갖는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
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