KR20080027215A - 광정보-기록매체 - Google Patents

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KR20080027215A
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KR
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group
layer
recording
formula
optical information
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KR1020077001022A
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코우스케 와타나베
테츠야 와타나베
케이타 타카하시
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후지필름 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

본 발명의 광정보-기록매체는 식(1)으로 나타낸 옥소놀 염료를 함유하는 기록층이고, 그 카운터 양이온은 시아닌 양이온이다: 여기서, A, B, C 및 D 각각은 전자끄는기를 나타내고, A와 B의 하멧 σp값의 총합, 및 C와 D의 하멧 σp 값의 총합은 각각 0.6 이상이고, A와 B, 또는 C와 D를 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; R은 메틴의 탄소에 대한 치환기를 나타내고; m은 0 또는 1의 정수를 나타내고; n은 0~2m+1의 정수를 나타내고, n이 2 이상의 정수를 나타내는 경우, 복수개의 R은 동일하거나 달라도 좋고, 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; Yt+는 t가의 시아닌 양이온을 나타내고; t는 1~10의 정수를 나타낸다.

Description

광정보-기록매체{OPTICAL INFORMATION-RECORDING MEDIUM}
본 발명은 레이저빔을 이용하여 정보의 기록 및 재생가능한 정보기록매체, 정보기록방법 및 상기 매체에 적당한 신규한 화합물에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 400~410nm의 파장의 단파장 레이저빔을 이용하여 정보를 기록하는데 적당한 히트 모드형 광정보-기록매체에 관한 것이다.
종래부터 레이저빔에 의해 정보를 한번 만 기록할 수 있는 광정보-기록매체(광디스크)가 알려져 있다. 상기 광디스크는 추기형CD(소위 CD-R)으로 칭하고, 그 대표적인 구조는 기판위에 메틴염료를 함유하는 기록층, 금속, 예를 들면 금을 함유하는 광반사층 및 수지를 함유하는 보호층의 순서로 적층상태로 형성되어 있는 투명한 원반형 기판을 포함한다. CD-R상에 정보의 기록은 근적외선 영역의 레이저빔(통상 780nm 근방에서의 파장의 레이저빔)을 CD-R에 조사함으로써 행해지고, 기록층의 조사부분은 그 광을 흡수해서 국소적으로 온도가 상승하고, 따라서 물리적 또는 화학적 변화(예를 들면, 피트의 형성)를 일으켜서 광학적 특성이 변화되어 정보가 기록된다. 한편 정보의 리딩(재생)은 기록용 레이저빔과 동일한 파장을 갖는 레이저빔을 조사하여 행해지고, 기록층의 광학적 특성이 변화된 부분(기록부분)과 광학적 특성이 변화되지 않는 부분(미기록부분) 사이의 반사율의 차이를 검출함으 로써 정보가 재생된다.
최근에 인터넷 등의 네트워크 및 하이비전 TV가 급속히 보급되고 있다. 또한 HDTV(고화질 TV)의 방영이 가까워지고 있어서, 화상정보를 저가이고 용이하게 기록하는 대용량 기록매체의 요구가 증가하고 있다. 기록용 레이저로서 가시 레이저빔(630~680nm)을 사용하여 고밀도기록을 가능하게 하는 CD-R 및 DVD-R은 대용량 기록매체로서 어느 정도까지의 지위를 확보하고 있지만, 장래의 요구에 대응할 수 있는 충분히 큰 기록용량을 갖고 있다고는 말할 수 없다. 따라서, DVD-R 보다 짧은 파장의 레이저빔을 사용함으로써 기록밀도를 향상시켜 더 큰 기록용량을 갖는 광학디스크의 개발이 진척되고 있고, 예를 들면 405nm의 청색 레이저를 사용한 Blue-ray 방식으로 칭하는 광기록 디스크가 현재 시판되고 있다.
CD-R형 광디스크에 있어서, 기록층에 함유된 염료 화합물로서, 종래부터 근적외선 영역을 흡수하는 염료, 예를 들면 벤조인돌레닌 골격을 갖는 디카르보시아닌 염료(5개의 메틴 사슬을 보유) 및 트리카르보시아닌 염료(7개의 메탄사슬을 보유)가 바람직하게 사용된다(예를 들면 일본 특허공개 소64-40382호 공보 및 일본 특허공개 소64-40387호 공보).
일반적으로, 시아닌 염료와 옥소놀 염료만은 광견뢰성이 낮아서, 기록특성이 열화되고, 상기 결점을 개선하기 위한 수단으로는, 일본 특허공개 소58-175693호 공보에 개시된 화합물을 사용하는 방법, 일본 특허공개 평10-151861호 공보에 개시된 각 염료의 카운터 염으로서 유기 산화제를 사용하는 방법 및 일본 특허공개 평10-324065호 공보 및 일본 특허공개 평10-109475호 공보의 기술이 공지되어 있다. 그러나 DVD-R의 광견뢰성을 향상시키는 기술이 공지되어 있지만, 현재까지 청색 레이저에 상응하는 광기록 디스크의 고광견뢰성을 유지하는 수단으로서 옥소놀 염료를 사용한 구체적인 예는 없다. 옥소놀 염료를 사용한, 청색 레이저에 상응하는 광기록디스크의 광견뢰성을 이해하고, 광견뢰성의 향상을 조사하는 것이 필요하다.
옥소놀 염료의 카운터 양이온으로서 비피리디늄염을 갖는 화합물은 일본 특허공개 평10-297103호 공보에 개시되고, 옥소놀 염료에 광견뢰성을 부여하는 비피리디늄염의 효과가 개시되어 있지만, 더욱 광견뢰성의 개선이 요구된다.
본 발명자들은 405nm의 청색 레이저를 사용한 광기록 디스크의 제조시에 본 발명에서와 같이 옥소놀염료의 카운터 양이온으로서 시아닌을 사용하는 화합물과 비피리디늄이온을 사용한 화합물의 성능의 비교검토를 실시하였다. 따라서, 놀랍게도 본 발명의 카운터 양이온으로서 시아닌을 갖는 화합물로부터 양호한 광견뢰성 및 양호한 용해성을 얻을 수 있다는 것을 발견하였다.
또한 본 발명자들은 본 발명의 화합물을 사용함으로써 기록특성 및 보존안전성에 영향을 미치지 않고, 경시에 의한 용해안정성 및 염료의 용해성이 개선될 수 있다는 것을 발견하고, 본 발명을 달성하였다.
본 발명의 목적은 기록/재생 특성을 열화시키지 않고 광견뢰성, 내구성 및 용해성이 개선된, 청색 레이저빔에 상응하는 광정보-기록매체를 제공하는 것이고, 다른 목적은 이를 사용한 정보의 기록방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 상기 목적은 하기 구성에 의해 바람직하게 달성되었다.
(1)기판; 및 400~410nm 파장의 레이저빔을 조사하여 정보의 기록을 가능하게 하는 기록층을 함유하는 광정보-기록매체로서, 상기 기록층은 식(1)으로 나타낸 옥소놀 염료를 함유하고, 옥소놀 염료의 카운터 양이온(즉, 식(1)에서 Yt+)은 시아닌 양이온인 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
Figure 112007004038523-PCT00001
식에서, A, B, C 및 D 각각은 전자끄는기를 나타내고, A와 B의 하멧 σp값의 총합, 및 C와 D의 하멧 σp 값의 총합은 각각 0.6 이상이고, A와 B, 또는 C와 D를 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; R은 메틴의 탄소에 대한 치환기를 나타내고; m은 0 또는 1의 정수를 나타내고; n은 0~2m+1의 정수를 나타내고, n이 2 이상의 정수를 나타내는 경우, 복수개의 R은 동일하거나 달라도 좋고, 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; Yt+는 t가의 시아닌 양이온을 나타내고; t는 1~10의 정수를 나타낸다.
(2)상기 (1)에 있어서, 상기 옥소놀 염료는 식(2)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
Figure 112007004038523-PCT00002
여기서, A1, B1, C1, 및 D1 각각은 전자끄는기를 나타내고, A1와 B1의 하멧 σp값의 총합, 및 C1와 D1의 하멧 σp 값의 총합은 각각 0.6 이상이고, A1와 B1, 또는 C1와 D1를 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; R1은 수소원자 또는 메틴의 탄소원자에 대한 치환기를 나타내고; Y1t1+는 t1가의 시아닌 양이온을 나타내고; t1은 1~10의 정수를 나타낸다.
(3) (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 시아닌 양이온은 식(3) 또는 (4)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
Figure 112007004038523-PCT00003
식(3) 및 식(4)에서, R3~R9 각각은 수소원자 또는 치환기를 나타내고, R3~R9는 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고, ka1은 0~3의 정수를 나타내고, ka1이 2인 경우, 복수개의 R8과 R9는 동일하거나 달라도 좋다.
(4) (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 시아닌 양이온은 식(5)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
Figure 112007004038523-PCT00004
식에서 Za21와 Za22 각각은 독립적으로 복소환을 형성하는 원자기를 나타내고; Ma21, Ma22 및 Ma23 각각은 독립적으로 치환 또는 미치환 메틴기를 나타내고; ka2는 0~3의 정수를 나타내고, ka가 2 이상인 경우, 복수개의 Ma21 및 Ma22는 동일하거나 달라도 좋고; 및 R10과 R11 각각은 독립적으로 치환기를 나타낸다.
(5) (1), (2) 또는 (4)에 있어서, 식(5)으로 나타낸 상기 시아닌 양이온은 식(6)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
Figure 112007004038523-PCT00005
여기서, Za31와 Za32 각각은 독립적으로 탄소환 또는 복소환을 형성하는 원자기를 나타내고; R10과 R11은 식(5)에서 R10과 R11과 동일한 의미를 갖고; R21, R22, R23, R24, R25, R26, 및 R27 각각은 수소원자 또는 치환기를 나타내고; ka3은 0~3의 정수를 나타내고, ka3이 2 이상인 경우, 복수개의 R21과 R22는 동일하거나 달라도 좋다.
(6) (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 금속을 함유하는 광반사층을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
(7) (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 보호층을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
(8) (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 있어서, 상기 기판은 투명한 원반형 기판의 표면상에 트랙피치가 0.2~0.5㎛인 프리그루브를 갖는 투명한 원반형 기판이고, 상기 기록층은 상기 프리그루브가 형성된 측의 표면상에 형성하는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
(9) (2)에 기재된 식(2)으로 나타낸 옥소놀 염료로서, 상기 시아닌 양이온은 (3)에 기재된 식(3)으로 나타낸 옥소놀 염료인 것을 특징으로 하는 옥소놀 염료.
(10) (2)에 기재된 식(2)으로 나타낸 옥소놀 염료로서, 상기 시아닌 양이온은 (4)에 기재된 식(5)으로 나타낸 옥소놀 염료인 것을 특징으로 하는 옥소놀 염료.
본 발명은 기판상에 400~410nm의 레이저빔을 조사하여 정보를 기록할 수 있는 기록층을 갖는 기판을 포함하는 광정보-기록매체에 관한 것이다.
옥소놀 염료가 후술된다. 본 발명에서 옥소놀 염료는 음이온성 발색단을 갖는 폴리메틴 염료로서 정의된다. 하기 식(1)으로 나타낸 옥소놀 염료는 그 우수한 기록특성을 위해 특히 바람직하게 사용된다.
Figure 112007004038523-PCT00006
식(1)에서, A, B, C 및 D 각각은 전자끄는기를 나타내고, A와 B의 하멧 σp값의 총합, 및 C와 D의 하멧 σp 값의 총합은 각각 0.6 이상이고, A와 B, 또는 C와 D를 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; R은 메틴의 탄소에 대한 치환기를 나타내고; m은 0 또는 3의 정수를 나타내고; n은 0~2m+1의 정수를 나타내고, n이 2 이상의 정수를 나타내는 경우, 복수개의 R은 동일하거나 달라도 좋고, 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; Yt+는 t가 양이온을 나타내고; t는 1~10의 정수를 나타낸다.
식(1)은 음이온의 국소위치의 표현차이에 의해 복수개의 호변체를 포함한다. 특히 A,B,C 및 D 중 어느 하나가 -CO-E(E는 치환기이다)인 경우, 산소원자에 음전하를 위치시키는 것이 일반적인 표현이다. 예를 들면 D가 -CO-E를 나타내는 경우, 하기 식(7)은 일반적인 표현이고, 상기 표현은 식(1)에 포함된다.
Figure 112007004038523-PCT00007
식(7)에서 A, B, C, R, m, n, Yt+ 및 t는 식(1)에서의 것과 동일하다. E는 상기 기재된 치환기를 나타낸다. E로는 알킬기, 알콕시기 또는 아릴기를 바람직하게 들 수 있다.
식(1)으로 나타낸 옥소놀 염료가 하기에 기재된다. 식(1)에서, A, B, C 및 D 각각은 전자끄는기를 나타내고, A와 B의 하멧 치환상수 σp값의 총합, 및 C와 D의 하멧 치환상수 σp 값의 총합은 각각 0.6 이상이고, A, B, C 및 D는 동일하거나 서로 달라도 좋다. A와 B, 또는 C와 D를 서로 결합하여 환을 형성해도 좋다. A, B, C, 또는 D로 나타낸 전자끄는기의 하멧 치환상수 σp값은 0.30~0.85인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.35~0.80이다.
하멧 치환상수 σp값(이하 σp값으로 칭함)은, 예를 들면 Chem. ReV., 91, 165(1991), 및 여기에 인용된 참조문헌에 기재되어 있고, 기재되지 않는 것은 문헌에 기재된 방법에 의해 발견될 수 있다. A와 B(C와 D)를 결합하고 환을 형성하는 경우, A(C)의 σp값은 -A-B-H(-C-D-H)기의 σp의 값을 의미하고, B(D)의 σp값은 -B-A-H(-D-C-H)기의 σp값을 의미한다. 이 경우에, 둘다는 결합방향이 달라서 σp값이 다르다.
A, B, C 및 D로 나타낸 전자끄는기의 바람직한 예는 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~10의 아실기(예를 들면, 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 피바로일기, 벤조일기), 탄소수 2~12의 알콕시-카르보닐기(예를 들면, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 이소프로폭시카르보닐기, 부톡시-카르보닐기, 데실옥시카르보닐기), 탄소수 7~11의 아릴옥시카르보닐기(예를 들면, 페녹시카르보닐기), 탄소수 1~10의 카르바모일기(예를 들면, 메틸카르바모일기, 에틸카르바모일기, 페닐카르바모일기), 탄소수 1~10의 알킬술포닐기(예를 들면 메탄술포닐기), 탄소수 6~10의 아릴술포닐기(예를 들면, 벤젠술포닐기), 탄소수 1~10의 알콕시술포닐기(예를 들면, 메톡시술포닐기), 탄소수 1~10의 술파모일기(예를 들면, 에틸술파모일기, 페닐술파모일기), 탄소수 1~10의 알킬술피닐기(예를 들면, 메탄술피닐기, 에탄술피닐기), 탄소수 6~10의 아릴술피닐기(예를 들면 벤젠술피닐기), 탄소수 1~10의 알킬술페닐기(예를 들면 메탄술페닐기, 에탄술페닐기), 할로겐원자, 탄소수 2~10의 알키닐기(예를 들면, 에티닐기), 탄소수 2~10의 디아실아미노기(예를 들면, 디아세틸아미노기), 포스포릴기, 카르복실기 및 5원환 또는 6원환 복소환기(예를 들면, 2-벤조티아졸일기, 2-벤즈옥사졸일기, 3-피리딜기, 5-(1H)테트라졸일기, 4-피리미딜기)를 들 수 있다. 이들 중에서, 5원환 또는 6원환 복소환기가 바람직하다.
식(1)에서 R로 나타낸 메틴탄소에 대한 치환기로는, 예를 들면 하기 기: 탄소수 1~20의 쇄상 또는 환상 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기), 탄소수 6~18의 치환 또는 미치환 아릴기(예를 들면, 페닐기, 클로로페닐기, 아니실기, 톨루일기, 2,4-디-t-아밀기, 1-나프틸기), 알케닐기(예를 들면, 비닐기, 2-메틸비닐기), 알키닐기(예를 들면, 에티닐기, 2-메틸에티닐기, 2-페닐에티닐기), 할로겐원자(예를 들면, F, Cl, Br, I), 시아노기, 하이드록실기, 카르복실기, 아실기(예를 들면 아세틸기, 벤조일기, 살리실로일기, 피바로일기), 알콕시기(예를 들면, 메톡시기, 부톡시기, 시클로헥실옥시기), 아릴옥시기(예를 들면, 페녹시기, 1-나프톡시기), 알킬티오기(예를 들면, 메틸티오기, 부틸티오기, 벤질티오기, 3-메톡시프로필티오기), 아릴티오기(예를 들면, 페닐티오기, 4-클로로페닐티오기), 알킬술포닐기(예를 들면, 메탄술포닐기, 부탄술포닐기), 아릴술포닐기(예를 들면, 벤젠술포닐기, 파라톨루엔술포닐기), 탄소수 1~10의 카르바모일기, 탄소수 1~10의 아미도기, 탄소수 2~12의 이미도기, 탄소수 2~10의 아실옥시기, 탄소수 2~10의 알콕시카르보닐기, 복소환기(예를 들면, 방향족 복소환, 예를 들면 피리딜기, 티에닐기, 푸릴기, 티아졸일기, 이미다졸일기, 피라졸일기 등 및 지방족 복소환, 예를 들면 피롤리돈, 피페리딘, 몰폴린, 피란, 티오피란, 디옥산, 디티오란 등)을 들 수 있다.
바람직하게 R은 할로겐원자, 탄소수 1~8의 쇄상 또는 환상 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 1~8의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 또는 탄소수 3~10의 복소환기를 나타내고, 특히 바람직하게는 염소원자, 탄소수 1~4의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기), 페닐기, 탄소수 1~4의 알콕시기(예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 페녹시기), 탄소수 4~8의 질소함유 복소환기(예를 들면, 4-피리딜기, 벤즈옥사졸-2-일기, 벤조티아졸-2-일기)를 나타낸다.
n은 0~2m+1의 정수를 나타내고, n이 2 이상의 정수를 나타내는 경우, 복수개의 R은 동일하거나 달라도 좋고, 서로 결합하여 환을 형성한다. 동시에 환의 수는 4~8인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 5 또는 6이다. 환의 구성원자는 탄소원자, 산소원자 또는 질소원자인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 탄소원자이다.
A, B, C, D 및 R은 치환기를 더 가져도 좋고, 예를 들면 식(1)에서 R로 나타낸 1가의 치환기로서 상기 기재된 것과 동일한 기를 치환기로서 들 수 있다.
광디스크에 사용하는 염료로서, 열분해성의 점에서 A와 B 또는 C와 D가 서로 결합하여 환을 형성하는 것이 바람직하다.
식(7)에서 E로 나타낸 치환기로는 A, B, C 및 D로 나타낸 것과 동일한 기를 들 수 있고, 바람직한 범위도 동일하다.
본 발명에서 사용하는 식(1)으로 나타낸 옥소놀 염료의 음이온 위치의 구체예로서, 일본 특허공개 평10-297103호 공보에 개시된 옥소놀 염료의 음이온 위치를 들 수 있고, 구체예로서 하기 화합물을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 화합물로 제한되지 않는다.
Figure 112007004038523-PCT00008
Figure 112007004038523-PCT00009
식(1)은 식(2)으로 나타내는 것이 바람직하다.
식(2)이 설명된다. A1, B1, C1, 및 D1은 상기 기재된 A, B, C, 및 D와 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위도 동일하다.
R1은 상기 R과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위도 동일하다.
t1은 상기 t과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위도 동일하다.
Y1은 상기 Y과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 범위도 동일하다.
시아닌 양이온의 시아닌(화합물)이 설명된다. 시아닌으로서, The Chemistry of Heterocyclic Compound, "Cyanine Dyes and Related Compounds", John Wiley & Sons, New York, London(1964)에 기재된 화합물을 들 수 있다.
본 발명의 시아닌 양이온은 식(3)으로 나타낸 양이온으로서 시아닌의 N원자에 H+을 제공하는 것을 들 수 있다.
시아닌 양이온은 식(3), (4) 또는 (5)으로 나타내는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 식(3) 또는 (4)으로 나타내고, 더욱 바람직하게는 식(4)으로 나타낸다.
식(3) 및 (4)가 설명된다. ka1은 0~3의 정수를 나타내고, 바람직하게는 0이다
R3~R9 각각은 수소원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기로서, 치환 또는 미치환 알킬기, 치환 또는 미치환 아릴기, 치환 또는 미치환 알케닐기, 및 치환 또는 미치환 알키닐기를 들 수 있다. 이들 기는 더 치환되어도 좋고, 치환기로서 상기 R로 나타낸 기와 동일한 기를 들 수 있다. R3~R6 각각은 치환 또는 미치환 알킬기를 나타내는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~8의 치환 또는 미치환 알킬기이고, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~8의 미치환알킬기이다. R7~R9는 서로 다르지만, 이들은 동일한 것이 바람직하다. R7~R9는 수소원자를 나타내는 것이 바람직하다. R3~R9는 서로 결합하여 환을 형성해도 좋다. 예를 들면 ka1인 1인 경우, R5 또는 R6은 R7과 결합하여 4-피리딘환을 형성할 수 있다. 또한 ka1이 3인 경우, R3 및 R9 또는 R5 및 R9는 서로 결합하여 4-피리딘환 또는 4-퀴닐린환을 형성할 수 있다.
본 발명에서 사용된 식(3) 또는 식(4)으로 나타낸 구조를 갖는 시아닌의 구체예가 하기에 표시되지만, 본 발명은 이들 구체예로 제한되지 않는다.
Figure 112007004038523-PCT00010
식(5)으로 나타낸 염료가 후술된다.
Ma21, Ma22 및 Ma23 각각은 치환 또는 미치환 메틴기를 나타낸다. Ma21, Ma22 및 Ma23에 대해 치환된 치환기로는 상기 R로 나타낸 기와 동일한 기를 들 수 있다. Ma21, Ma22 및 M23 각각은 탄소수 1~5의 미치환 알킬기, 탄소수 1~5의 미치환 알콕시기, 탄소수 2~6의 치환 또는 미치환 아릴기 또는 할로겐원자로 치환된 메틴기, 또는 미치환 메틴기를 나타내는 것이 바람직하다.
R10 및 R11 각각은 치환 또는 미치환 알킬기, 치환 또는 미치환 아릴기, 치환 또는 미치환 알케닐기, 또는 치환 또는 미치환 알키닐기를 나타낸다. 이들 기는 더 치환되어도 좋다. 치환기로는 상기 R로 나타낸 기와 동일한 기를 들 수 있다. R10 및 R11 각각은 치환 또는 미치환 알킬기를 나타내는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~8의 치환 또는 미치환 알킬기이고, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~8의 미치환 알킬기이다. R10 및 R11은 서로 달라도 좋지만, 동일한 것이 바람직하다.
Ka2는 0~3의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 또는 2이고, 보다 바람직하게는 2를 나타낸다. ka2가 2 이상인 경우, 복수개의 Ma21과 Ma22는 서로 동일하거나 달라도 좋다.
Za21 및 Za22 각각은 탄소수 2~20의 치환 또는 미치환 복소환기를 형성하는 원자기를 나타낸다. Za21 및 Za22로 나타낸 복소환은 특별히 제한되지 않지만, 피롤환, 이미다졸환, 옥사졸환, 티아졸환, 피리딘환(메틴기의 결합위치는 2-위치 뿐만 아니라 4위치이어도 좋다), 이들 환을 함유하는 축합환(예를 들면 벤즈피롤), 및 이들 환의 호변체가 바람직하고, 피롤환, 이미다졸환, 옥사졸환, 티아졸환 및 이들 환을 함유하는 축합환이 보다 바람직하고, 피롤환, 옥사졸환, 티아졸환 및 이들 환을 함유하는 축합환이 더욱 바람직하고, 피롤환 및 그 축합환이 특히 바람직하다.
식(5)는 식(6)으로 나타내는 것이 바람직하다.
식(6)이 후술된다. Za31 및 Za32 각각은 탄소환 또는 복소환을 나타낸다. 탄소환 및 복소환은 특별히 제한되지 않지만, 탄소수 6~20의 치환 또는 미치환 벤젠환 및 그 축합환이 바람직하다.
식(6)에서 R10 및 R11은 식(5)에서 R10 및 R11과 동일한 의미를 갖고, 바람직한 환도 동일하다.
R21, R22 및 R23 각각은 수소원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기로는 R로 나타낸 것과 동일한 기를 들 수 있다. 치환기로는 수소원자, 탄소수 1~5의 미치환 알킬기, 탄소수 1~5의 미치환 알콕시기, 탄소수 2~10의 치환 또는 미치환 아릴기, 및 할로겐원자가 바람직하고, 보다 바람직하게는 수소원자, 탄소수 1~5의 미치환 알킬기 및 탄소수 2~10의 치환 또는 미치환 아릴기이고, 더욱 바람직하게는 수소원자이다.
R24~R27 각각은 수소원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기로는 상기 R로 나타낸 기와 동일한 기를 들 수 있고, 바람직하게는 치환 또는 미치환 알킬기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~8의 치환 또는 미치환 알킬기이고, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~8의 미치환 알킬기이다.
ka3은 ka2와 동일한 의미이고, 바람직한 환도 동일하다.
하기에 식(6)으로 나타낸 구조를 갖는 시아닌의 구체예를 표시하지만, 본 발명은 이들 구체예로 제한되지 않는다.
Figure 112007004038523-PCT00011
Figure 112007004038523-PCT00012
Figure 112007004038523-PCT00013
Figure 112007004038523-PCT00014
Figure 112007004038523-PCT00015
시아닌으로서 하기의 화합물을 들 수 있다.
Figure 112007004038523-PCT00016
시아닌(양이온 위치)와 옥소놀(음이온 위치)의 조합은 [식(2)/식(3)], [식(2)/식(4)], [식(2)/식(5)] 및 [식(2)/식(6)]의 (옥소놀/시아닌)인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 [식(2)/식(3)], [식(2)/식(4)] 및 [식(2)/식(5)]의 (옥소놀/시아닌)이고, 더욱 바람직하게는 [식(2)/식(3)], 및 [식(2)/식(4)]의 (옥소놀/시아닌)이고, 특히 바람직하게는 [식(2)/식(4)]의 (옥소놀/시아닌)이다.
하기 표1-1~표1-5에 식(1)의 구체예가 표시되지만, 본 발명은 이들로 제한되지 않는다.
(표 1-1)
화합물 옥소놀염료의 음이온 위치 시아닌 t
화합물(1) (A-1) (B-1) 2
화합물(2) (A-1) (B-2) 2
화합물(3) (A-6) (B-5) 1
화합물(4) (A-6) (B-2) 2
화합물(5) (A-6) (B-7) 1
화합물(6) (A-6) (C-26) 1
화합물(14) (A-1) (B-10) 1
(표 1-2)
화합물 옥소놀염료의 음이온 위치 시아닌 t
화합물 2-1 (A-2) (B-1) 2
화합물 2-2 (A-2) (B-2) 2
화합물 2-3 (A-2) (B-3) 2
화합물 2-4 (A-2) (B-5) 1
화합물 2-5 (A-2) (B-8) 1
화합물 2-6 (A-2) (B-9) 2
화합물 2-7 (A-2) (C-1) 1
화합물 2-8 (A-2) (C-9) 1
화합물 2-9 (A-2) (C-17) 1
화합물 2-10 (A-2) (C-26) 1
화합물 2-11 (A-2) (C-33) 1
(표 1-3)
화합물 옥소놀염료의 음이온 위치 시아닌 t
화합물 3-1 (A-3) (B-1) 2
화합물 3-2 (A-3) (B-2) 2
화합물 3-3 (A-3) (B-3) 2
화합물 3-4 (A-3) (B-5) 1
화합물 3-5 (A-3) (B-8) 1
화합물 3-6 (A-3) (B-9) 2
화합물 3-7 (A-3) (C-1) 1
화합물 3-8 (A-3) (C-9) 1
화합물 3-9 (A-3) (C-17) 1
화합물 3-10 (A-3) (C-26) 1
화합물 3-11 (A-3) (C-33) 1
(표 1-4)
화합물 옥소놀염료의 음이온 위치 시아닌 t
화합물 4-1 (A-4) (B-1) 2
화합물 4-2 (A-4) (B-2) 2
화합물 4-3 (A-4) (B-3) 2
화합물 4-4 (A-4) (B-5) 1
화합물 4-5 (A-4) (B-8) 1
화합물 4-6 (A-4) (B-9) 2
화합물 4-7 (A-4) (C-1) 1
화합물 4-8 (A-4) (C-9) 1
화합물 4-9 (A-4) (C-17) 1
화합물 4-10 (A-4) (C-26) 1
화합물 4-11 (A-4) (C-33) 1
(표 1-5)
화합물 옥소놀염료의 음이온 위치 시아닌 t
화합물 5-1 (A-5) (B-1) 2
화합물 5-2 (A-5) (B-2) 2
화합물 5-3 (A-5) (B-3) 2
화합물 5-4 (A-5) (B-5) 1
화합물 5-5 (A-5) (B-8) 1
화합물 5-6 (A-5) (B-9) 2
화합물 5-7 (A-5) (C-1) 1
화합물 5-8 (A-5) (C-9) 1
화합물 5-9 (A-5) (C-17) 1
화합물 5-10 (A-5) (C-26) 1
화합물 5-11 (A-5) (C-33) 1
광정보-기록매체:
본 발명의 광정보-기록매체는:
실시형태(1):기판상에 염료를 함유하는 추기형기록층, 및 두께 0.01~0.5mm의 커버층의 순서로 갖고, 두께 0.7~2mm의 기판을 포함하는 광정보-기록매체
실시형태(2): 기판상에 염료를 함유하는 추기형기록층, 및 두께 0.1~1.0mm의 보호층의 순서로 갖고, 두께 0.1~1.0mm의 기판을 포함하는 광정보-기록매체인 것이 바람직하다.
실시형태(1)에서, 상기 기판상에 형성된 프리그루브는 트랙피치 50~500nm, 그루브폭 25~250nm 및 그루브 깊이 5~150nm인 것이 바람직하다. 실시형태(2)에서, 상기 기판상에 형성된 프리그루브는 트랙피치 200~600nm, 그루브폭 50~300nm, 그루브 깊이 30~200nm 및 워블 진폭 10~50nm인 것이 바람직하다.
실시형태(1)에서 광정보-기록매체는 적어도 기판, 추기형기록층 및 커버층을 포함한다. 우선 이들 필수적인 부재를 순서대로 설명한다.
실시형태(1)의 기판:
바람직한 실시형태(1)에서 기판은 트랙피치, 그루브폭(반치폭), 그루브깊이 및 워블진폭 모두가 하기 범위를 만족시키는 형상을 갖는 프리그루브(가이드 그루브)가 형성되어 있는 것이 필수적이다. CD-R 및 DVD-R에 비해 보다 높은 기록밀도를 달성하기 위해서 프리 그루브가 형성된다. 상기 프리그루브는, 예를 들면 본 발명의 광정보-기록매체를 청자색 레이저에 상응하는 매체로서 사용하는 경우에 적당하다.
프리그루브의 트랙피치는 200~500nm인 것이 필수적이고, 바람직하게는 트랙피치의 상한치는 420nm 이하이고, 보다 바람직하게는 370nm 이하, 더욱 바람직하게는 330nm 이하이다. 또한 하한치는 260nm 이상인 것이 바람직하다.
트랙피치가 200nm 미만이면, 프리그루브를 정확히 형성하는 것이 곤란하고, 또한 크로스 토크(cross talk)의 문제가 발생하기 쉽고, 트랙피치가 500nm를 초과하면, 기록밀도가 저하하는 경우가 있다.
프리그루브의 그루브폭(반치폭)은 25~250nm인 것이 필수적이고, 상한치가 200nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 170nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 150 nm 이하이다. 또한 하한치는 50nm 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 100 nm 이상이다.
프리그루브의 그루브폭이 25nm 미만인 경우, 그루브는 성형시에 충분히 전사될 수 없고, 또는 기록에러율이 증가한다. 그루브폭이 250nm를 초과하면, 기록시에 형성되는 피트가 넓어져서, 크로스 토크 또는 불충분한 변조도가 발생하는 경우가 있다.
프리그루브의 그루브깊이는 5~150nm인 것이 필수적이고, 상한치는 100nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70nm 이하, 더욱 바람직하게는 50nm 이하이다. 또한 하한치는 10nm 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 28nm 이상이다.
프리그루브의 그루브깊이가 5nm 미만이면, 충분한 기록변조도를 얻을 수 없는 경우가 있고, 150nm를 초과하면, 반사율이 크게 저하하는 경우가 있다.
프리그루브의 그루브의 경사각의 상한치는 80° 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70° 이하이고, 더욱 바람직하게는 60° 이하이고, 특히 바람직하게는 50° 이하이다. 또한 하한치는 20°이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30°이상, 더욱 바람직하게는 40°이상이다.
프리그루브의 그루브의 경사각이 20° 미만이면, 충분한 트랙킹 에러 신호의 진폭을 얻을 수 없는 경우가 있고, 경사각이 80°를 초과하면 성형이 곤란하다.
본 발명에서 사용하는 기판으로서, 광정보-기록매체의 기판재료로는 종래부터 사용되는 각종 재료가 임의로 선택되어 사용될 수 있다.
구체적으로, 유리;아크릴 수지, 예를 들면 폴리카르보네이트, 폴리메틸 메타크릴레이트 등; 비닐 클로라이드 수지, 예를 들면 폴리비닐 클로라이드, 비닐 클로라이드 코폴리머 등; 에폭시 수지; 비정질 폴리올레핀; 폴리에스테르; 및 금속, 예를 들면 알루미늄 등을 들 수 있고, 필요에 따라서 이들 재료를 조합하여 사용해도 좋다.
내습성, 치수안정성 및 저가의 점에서, 비정질 폴리올레핀, 폴리카르보네이트 등의 열가소성 수지가 바람직하고, 폴리카르보네이트가 특히 바람직하다.
이들 수지를 사용하는 경우, 사출성형에 의해 기판을 제조할 수 있다.
기판의 두께는 0.7~2mm인 것을 필요로 하고, 바람직하게는 0.9~1.6mm이고, 보다 바람직하게는 1.0~1.3mm의 범위이다.
평면성 및 접착력을 향상시킬 목적으로, 하부도포층을 후술하는 광반사층이 형성된 기판의 표면상에 형성하는 것이 바람직하다.
하부도포층의 재료로는, 폴리머물질, 예를 들면 폴리메틸 메타크릴레이트, 아크릴산-메타크릴산 코폴리머, 스티렌-말레산 무수물 코폴리머, 폴리비닐 알콜, N-메틸올아크릴아미드, 스티렌-비닐톨루엔 코폴리머, 클로로술폰화 폴리에틸렌, 니트로셀룰로오스, 폴리비닐클로라이드, 염소화 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리이미드, 비닐 아세테이트-비닐 클로라이드 코폴리머, 에틸렌-비닐 아세테이트 코폴리머, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카르보네이트 등, 및 표면개질제, 예를 들면 실란커플링제를 들 수 있다.
하부도포층은 적당한 용제에 이들 재료를 용해하거나 분산하여 도포액을 조제한 후, 적당한 도포방법, 예를 들면 스핀코팅, 딥코팅 또는 압출코팅 등에 의해 기판의 표면상에 도포액을 도포함으로써 형성할 수 있다. 하부도포층의 두께는 일반적으로 0.005~20㎛이고, 바람직하게는 0.01~10㎛이다.
실시형태(1)의 추기형기록층:
바람직한 실시형태(1)에서의 추기형기록층은 염료를, 결합제 등과 함께 적당한 용제 용해하여 도포액을 조제한 후 기판상 또는 하기 기재된 광반사층상에 도포액을 도포하여 막을 형성한 후 건조함으로써 형성된다. 추기형기록층은 단층 또는 다층이어도 좋고, 다층구조의 경우에 도포액의 도포공정을 복수회 실시한다.
도포액중에서의 염료 농도는 일반적으로 0.01~15질량%이고, 바람직하게는 0.1~10질량%이고, 보다 바람직하게는 0.5~5질량%이고, 가장 바람직하게는 0.5~3질량% 이다.
도포액의 용제로는, 에스테르, 예를 들면 부틸 아세테이트, 에틸 락테이트 및 셀로솔브 아세테이트; 케톤, 예를 들면 메틸 에틸 케톤, 시클로헥사논 및 메틸 이소부틸 케톤; 염소화 탄화수소, 예를 들면 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄 및 클로로포름; 아미드, 예를 들면 디메틸포름아미드; 탄화수소, 예를 들면 메틸시클로헥산; 에테르, 예를 들면 테트라하이드로푸란, 에틸 에테르 및 디옥산; 알콜, 예를 들면 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올 및 n-부탄올 디아세톤 알콜; 불소계 용제, 예를 들면 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올; 및 클리콜 에테르, 예를 들면 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르를 들 수 있다.
이들 용제는 사용될 염료의 용해성을 고려하여 단독으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다. 또한 항산화제, UV흡수제, 가소제, 윤활제 등의 각종 첨가제를 도포액에 첨가할 수 있다.
도포방법으로, 스프레이 코팅방법, 스핀코팅방법, 딥코팅방법, 롤코팅방법, 블레이드 코팅방법, 닥터롤 코팅방법 및 스크린 인쇄방법을 들 수 있다.
도포액중에 도포액의 온도는 20~50℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 23~40℃이고, 특히 바람직하게는 23~37℃이다.
그루브(상기 기판의 볼록부)상에 이와같이 형성된 추기형기록층의 두께는 300nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 250nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 200nm 이하이고, 특히 바람직하게는 180nm 이하이다. 상한치는 30nm 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 70nm 이상이고, 특히 바람직하게는 90nm 이상이다.
랜드(상기 기판의 오목부)상에 이와같이 형성된 추기형기록층의 두께는, 400nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 300nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 250nm이하이다. 상한치는 70nm 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 90nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 110nm 이상이다.
또한 그루브상에 추기형기록층의 두께/랜드상에 추기형기록층의 두께의 비는 0.4 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.6 이상이고, 특히 바람직하게는 0.7 이상이다. 상기 비의 하한치는 1 미만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.9 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.85 이하이고, 특히 바람직하게는 0.8 이하이다.
도포액이 결합제를 함유하는 경우, 결합제로는, 예를 들면 겔라틴, 셀룰로오스 유도체, 덱스트란, 로진, 고무 등의 천연 유기 폴리머 물질; 탄화수소 수지, 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리이소부틸렌 등, 비닐 수지, 예를 들면 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 클로라이드/폴리비닐 아세테이트 코폴리머 등, 아크릴수지, 예를 들면 폴리메틸 아크릴레이트, 폴리메틸 메타크릴레이트 등, 폴리비닐알콜, 염소화 폴리에틸렌, 에폭시 수지, 부티랄 수지, 고무 유도체, 페놀/포름알데히드 수지 등의 열경화성 수지의 선축합물 등의 합성 유기 폴리머를 들 수 있다. 추기형기록층의 재료로서 결합제를 조합하여 사용하는 경우, 결합제의 사용량은 일반적으로 염료의 양의 0.01~50배(질량비)이고, 바람직하게는 염료의 양의 0.1~5배(질량비)이다.
추기형기록층의 광견뢰성을 더 개선할 목적으로, 추기형기록층은 각종 변색방지제를 함유할 수 있다. 변색방지제로서, 단일항 산소 쿠엔처(quencher)가 일반적으로 사용된다. 혼합물로서 단일항 산소 쿠엔처를 사용하여, 본 발명에서 광견뢰성의 향상을 더 기대할 수 있다. 본 발명에서 하기의 특허 문헌에 개시된 단일항 산소 쿠엔처를 사용할 수 있다.
일본 특허공개 소58-175693호,
일본 특허공개 소59-81194호,
일본 특허공개 소60-18387호,
일본 특허공개 소60-19586호,
일본 특허공개 소60-19587호,
일본 특허공개 소60-35054호,
일본 특허공개 소60-36190호,
일본 특허공개 소60-36191호,
일본 특허공개 44554호,
일본 특허공개 44555호,
일본 특허공개 44389호,
일본 특허공개 소60-44390호,
일본 특허공개 소60-54892호,
일본 특허공개 소60-47069호,
일본 특허공개 소63-209995호,
일본 특허공개 평 4-25492호,
일본 특허공고 평 1-38680호,
일본 특허공고 평6-26028호,
독일 특허 350,399호
Bulletin of Chemical Society of Japan, 10월호, p1141(1992)
변색방지제, 예를 들면 상기 단일항 산소 쿠엔처의 사용량은 염료의 양에 대해 일반적으로 0.1~50질량%이고, 바람직하게는 0.5~45질량%, 보다 바람직하게는 3~40질량%, 특히 바람직하게는 5~25질량%이다.
실시형태(1)의 커버층:
바람직한 실시형태(1)의 커버층은 상기 추기형기록층 또는 후술하는 배리어층상에 접착제 또는 감압 접착제를 통해 붙인다.
본 발명에 사용하는 커버층은 투명한 재료의 막이면 특별히 제한되지 않지만, 아크릴 수지, 예를 들면 폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등; 비닐 클로라이드 수지, 예를 들면 폴리비닐 클로라이드, 비닐 클로라이드 코폴리머 등; 에폭시 수지; 비정질 폴리올레핀; 폴리에스테르; 또는 셀룰로오스 트리아세테이트를 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 폴리카르보네이트 또는 셀룰로오스 트리아세테이트를 사용하는 것이다.
"투명한"은 기록 또는 재생에 사용되는 광에 대한 투과율이 80% 이상인 것을 의미한다.
또한 커버층은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 것이면 각종 첨가제를 함유해도 좋다. 예를 들면 400nm 이하의 파장의 광을 경화시키기 위한 UV흡수제 및/또는 500nm 이상의 광을 경화하기 위한 염료를 함유해도 좋다.
또한 커버층의 표면 물성으로서 2차원 변수와 3차원 변수의 표면조도는 5nm 이하인 것이 바람직하다.
또한 기록 및 재생에 사용되는 광의 집광의 점에서 커버층의 복굴절은 10nm 이하인 것이 바람직하다.
커버층의 두께는 기록 및 재생하기 위해 조사된 레이저빔의 파장 및 NA에 따라서 임의로 규정되지만, 본 발명에서 두께는 0.01~0.5mm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.05~0.12mm이다.
커버층과 접착제 또는 감압 접착제를 함유하는 층의 총두께는 0.09~0.11mm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.095~0.105mm이다.
또한 광정보-기록매체의 제조시에 광입사면이 긁히는 것을 방지하기 위해 커버층의 광입사면상에 보호층(하드코트층)이 형성되어도 좋다.
커버층을 붙이는데 사용하는 접착제로는, 예를 들면 UV 경화수지, EB-경화수지 및 열경화 수지를 사용하는 것이 바람직하고 UV 경화 수지를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
접착제로서 UV 경화 수지가 사용되는 경우, 도포액은 UV 경화수지를 그대로 또는 적당한 용제, 예를 들면 메틸 에틸 케톤, 에틸 아세테이트 등에 용해하여 조제해도 좋고, 얻어진 도포액을 디스펜서와 함께 배리어층의 표면으로 공급해도 좋다. 접착제층을 구성하는 UV 경화 수지는 제조될 광정보-기록매체의 휘어짐을 방지하기 위해 경화수축률이 작은 것이 바람직하다. 이러한 UV-경화수지로서, 예를 들면 UV경화수지 SD-640(Dainippon Ink and Chemicals Inc.의 제품)을 들 수 있다.
예를 들면 접착될 배리어층의 표면상에 소정량의 접착제를 도포하고 그 위에 커버층을 적재한 후 스핀코팅에 의해 접착될 표면과 도포층 사이에 접착제를 균일하게 분산시키고, 접착제를 경화시키는 것이 바람직하다.
상기 접착제를 함유하는 접착제층의 두께의 범위는 0.1~100㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~50㎛이고, 더욱 바람직하게는 10~30㎛이다.
커버층을 붙이는데 사용되는 접착제로서, 아크릴, 고무 및 실리콘 접착제를 사용할 수 있지만, 투명성과 내구성의 점에서 아크릴 접착제가 바람직하게 사용된다. 이러한 아크릴 접착제로서, 응집력을 향상시키기 위해 주성분으로서 2-에틸헥실 아크릴레이트 또는 n-부틸 아크릴레이트, 단쇄 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트, 예를 들면 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 또는 메틸 메타크릴레이트와, 가교제와 가교점이 될 수 있는 성분으로서 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴아미드 유도체, 말레산, 하이드록시에틸 아크릴레이트 또는 글리시딜 아크릴레이트를 함유하는 코폴리머를 사용하는 것이 바람직하다. 주성분, 단쇄성분 및 가교점에 첨가될 성분과의 혼합비 및 종류를 적당히 조절하여 유리전이온도(Tg) 및 가교밀도를 바꿀 수 있다.
상기 접착제와 조합하여 사용되는 가교제로서, 예를 들면 이소시아네이트 가교제를 들 수 있다. 이소시아네이트 가교제로서 이소시아네이트, 예를 들면 톨일렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐-메탄 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 나프틸렌-1,5-디이소시아네이트, o-톨루이딘 이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 및 트리페닐메탄 트리이소시아네이트, 이들 이소시아네이트와 폴리알콜의 생성물, 및 이소시아네이트 축합에 의해 형성된 폴리이소시아네이트를 사용할 수 있다. 이들 이소시아네이트의 시판되는 제품으로서, Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, Millionate HTL(Nippon Polyurethan Industry Co.,Ltd.의 제품), Takenate D-102, Takenate D-110N, Takenate D-200, Takenate D-202(Takeda Chemical Industries, Ltd.의 제품), Desmodur L, Desmodur IL, Desmodur N, Desmodur HL(Sumitomo Bayer Co.,Ltd.의 제품)을 들 수 있다.
접착제는 접착될 배리어층의 표면상에 소정량 도포하고, 그 위에 커버층을 적재한 후에 경화시켜도 좋고, 또는 커버층의 일측상에 소정량의 접착제를 균일하게 도포하여 접착제도막을 미리 조제해도 좋고, 도막을 접착될 배리어층의 표면상에 붙이고 경화시켜도 좋다.
또한 커버층에 대해, 접착제층이 미리 형성된 시판 접착제막을 사용해도 좋다.
이러한 접착제를 함유하는 접착제층의 두께는 0.1~100㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~50㎛이고, 더욱 바람직하게는 10~30㎛이다.
실시형태(1)에 그 외의 층:
바람직한 실시형태(1)의 광정보-기록매체는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 것이면 상기 필수적인 층 이외에 다른 임의의 층을 가져도 좋다. 이러한 다른 임의의 층으로서, 예를 들면 기판의 이면(표면으로서 추기형기록층을 갖는 측에)상에 형성된 소망의 화상을 갖는 라벨층, 기판과 추기형기록층 사이에 형성된 광반사층(후술된 층), 추기형기록층과 커버층 사이에 형성된 배리어층(후술된 층), 및 광반사층과 추기형기록층 사이에 형성된 계면층을 들 수 있다. 상기 라벨층은 UV 경화수지, 열경화 수지 또는 열건조 수지를 이용하여 형성된다.
또한 이들 필수적인 또는 임의의 층은 단층 또는 다층구조를 가져도 좋다.
실시형태(1)에 광반사층:
바람직한 실시형태(1)에서 광정보-기록매체에 있어서, 레이저빔에 대한 반사율을 높이고 기록 및 재생 특성을 개선하기 위한 목적으로, 기판과 추기형기록층 사이에 광반사층을 형성하는 것이 바람직하다.
광반사층은 레이저빔에 대한 반사율이 높은 광반사성 물질을 진공증착법, 스퍼터링법, 또는 이온도금에 의해 기판상에 형성할 수 있다.
광반사층의 두께는 일반적으로 10~300nm이고, 바람직하게는 50~200nm이다.
또한 반사율은 70% 이상인 것이 바람직하다.
반사율이 높은 광반사성 물질로는 금속, 예를 들면 Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn Bi 등, 반금속 및 스텐레스 스틸을 들 수 있다. 광반사성 물질은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 조합해도 좋고, 합금으로 사용해도 좋다. 이들 중 바람직한 물질은 Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al 및 스텐레스 스틸을 들 수 있다. Au, Ag, Al 및 이들 금속의 합금이 특히 바람직하고, Au, Ag 및 이들 금속의 합금이 가장 바람직하다.
실시형태(1)에서 배리어층(중간층)의 형성공정:
바람직한 실시형태(1)에서 광정보-기록매체에서, 추기형기록층과 커버층 사이에 배리어층을 형성하는 것이 바람직하다.
추기형기록층의 보존안정성을 증가시키고, 추기형기록층과 커버층의 접착을 향상시키고, 반사율을 조절하고, 열전도율을 조절할 목적으로 상기 배리어층이 형성된다.
배리어층에 사용하는 재료로는 기록 및 재생하는데 광을 투과시키고, 상기 기능을 발현할 수 있는 재료이면 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 가스 및 수분의 투과성이 낮은 재료이며 유전체인 것이 바람직하다.
구체적으로 Zn, Si, Ti, Te, Sn, Mo, Ge 등의 질화물, 산화물, 탄화물 또는 황화물을 함유하는 재료가 바람직하다. ZnS, MoO2, GeO2, TeO, SiO2, TiO2, ZuO, ZnS-SiO2, SnO2, ZnO-Ga2O3가 바람직하고, ZnS-SiO2, SnO2, ZnO-Ga2O3가 보다 바람직하다.
배리어층은 진공증착, DC 스퍼터링, RF 스퍼터링, 및 이온도금 등의 진공 막형성 방법에 의해 형성될 수 있다. 스퍼터링을 사용하는 것이 보다 바람직하고, RF 스퍼터링을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
배리어층의 두께는 1~200nm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2~100nm이고, 더욱 바람직하게는 3~50nm이다.
다음에 바람직한 실시형태(2)의 광정보-기록매체를 설명한다.
실시형태(2)의 광정보-기록매체는 접착형 층구조를 갖는 광정보-기록매체이고, 대표적인 층구조는 하기와 같다.
(1)제1층 구조는 기판위에 추기형기록층, 광반사층 및 접착제층의 순서로 형성되고, 상기 접착층 위에 보호기판을 형성하는 기판을 포함하는 구조이다.
(2) 제2층 구조는 기판위에 추기형기록층, 광반사층, 보호층 및 접착제층의 순서로 형성되고, 상기 접착제층 위에 보호기판을 형성하는 기판을 포함하는 구조이다.
(3)제3층 구조는 기판위에 추기형기록층, 광반사층, 보호층, 접착제층, 보호층의 순서로 형성되고, 상기 보호층 위에 보호기판을 형성하는 기판을 포함하는 구조이다.
(4)제4층 구조는 기판위에 추기형기록층, 광반사층, 보호층, 접착층, 보호층 및 광반사층의 순서로 형성되고, 상기 광반사층 위에 보호기판을 형성하는 기판을 포함하는 구조이다.
(5)제5층 구조는 기판 위에 추기형기록층, 광반사층, 접착제층, 광반사층의 순서로 형성되고, 상기 광반사층 위에 보호기판을 형성하는 기판을 포함하는 구조이다.
상기 층구조(1)~(5)는 단순한 예시이고, 상기 층구조는 상기 순서 뿐만 아니라, 일부를 대체하거나 일부를 생략해도 좋다. 또한 추기형기록층은 보호기판측상에 형성되어도 좋고, 이 경우에 얻어진 광정보-기록매체는 양측에서 기록 및 재생될 수 있다. 또한 각각의 층은 1층을 포함해도 좋고, 또는 복수개의 층을 포함해도 좋다.
본 발명에서 광정보-기록매체는 추기형기록층, 광반사층, 접착제층 및 보호기판의 순서로 갖는 기판을 포함하는 구조를 갖는 매체를 취하는 것을 하기 예로서 설명한다.
실시형태(2)의 기판:
바람직한 실시형태(2)에서 기판은 트랙피치, 그루브폭(반치폭), 그루브 깊이 및 워블 진폭은 하기 범위를 만족시키는 형상을 갖는 프리그루브(가이드 그루브)가 형성되어 있는 것이 필수적이다. CD-R 및 DVD-R에 비해 고기록밀도를 달성하기 위해서 상기 프리그루브가 형성된다. 상기 프리그루브는, 예를 들면 본 발명의 광정보-기록매체를 청자색 레이저에 상응하는 매체로서 사용하는 경우에 적당하다.
프리그루브의 트랙피치는 200~500nm인 것이 필수적이고, 트랙피치의 상한치는 450nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 430nm 이하이다. 또한 하한치는 300nm 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 330nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 370nm 이상이다.
트랙피치가 200nm 미만이면, 프리그루브를 정확히 형성하는 것이 곤란하고, 또한 크로스 토크의 문제가 발생하기 쉽고, 트랙피치가 500nm를 초과하면, 기록밀도가 저하하는 경우가 있다.
프리그루브의 그루브폭(반치폭)은 50~300nm인 것이 필수적이고, 상한치는 250nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 200nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 180nm 이하이다. 또한 하한치는 100nm 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 120nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 140nm 이상이다.
프리그루브의 그루브의 폭이 50nm 미만이면, 그루브는 성형시에 충분히 전사되지 않거나, 기록 에러율이 증가된다. 그루브폭이 300nm를 초과하면, 기록시에 형성된 피트가 넓어져서 크로스 토크 또는 불충분한 변조도를 발생하는 경우가 있다.
프리그루브의 그루브 깊이는 30~200nm이고, 상한치는 170 nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 140 nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 120 nm이하이다. 또한 하한치는 40nm 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 60 nm 이상이다.
프리그루브의 그루브 깊이가 30nm 미만이면, 충분한 기록변조도를 얻을 수 있는 경우가 있고, 200nm를 초과하면, 반사율이 크게 저하하는 경우가 있다.
바람직한 실시형태(2)에 사용하는 기판으로서, 광정보-기록매체의 기록재료로는 종래부터 사용되는 각종재료는 임의로 선택해서 사용할 수 있고, 상기 재료의 구체예 및 바람직한 예는 실시형태(1)의 기판과 동일하다.
기판의 두께는 0.1~1.0mm인 것이 필수적이고, 바람직하게는 0.2~0.8mm이고, 보다 바람직하게는 0.3~0.7mm이다.
평면성 및 접착성을 향상시킬 목적으로 후술하는 추기형기록층이 형성된 기판의 표면상에 하부도포층을 형성하는 것이 바람직하다. 하부도포층의 재료, 도포방법 및 두께의 구체예 및 바람직한 예는 실시형태(1)의 하부도포층의 것과 동일하다.
실시형태(2)의 추기형기록층:
바람직한 실시형태(2)의 추기형기록층의 상세한 설명은 실시형태(1)의 추기형기록층의 것과 동일하다.
실시형태(2)의 광반사층:
바람직한 실시형태(2)에서, 레이저빔에 대한 반사율을 높이거나 재생 및 기록 특성을 향상시키기 위해서 추기형기록층상에 광반사층이 형성되는 경우가 있다. 실시형태(2)의 광반사층의 세부사항은 실시형태(1)의 광반사층의 것과 동일하다.
실시형태(2)의 접착제층:
바람직한 실시형태(2)의 접착제층은 광반사층과 보호기판의 접착을 향상시킬 목적으로 형성된 임의의 층이다.
상기 접착제층을 구성하는 재료는 광경화 수지가 바람직하고, 디스크의 휘어짐을 방지하기 위해, 경화수축률이 작은 재료가 바람직하다. 이러한 UV-경화수지로서, 예를 들면 UV경화 수지(UV 경화성 접착제) SD-640 및 SD-347(Dainippon Ink and Chemicals Inc.의 제품)을 들 수 있다. 탄력성을 제공하기 위해, 접착제층의 두께는 1~1,000㎛인 것이 바람직하다.
실시형태(2)의 보호기판:
바람직한 실시형태(2)의 보호기판(더미기판)으로는 상기 기판의 것과 동일한 재료 및 동일한 형상을 사용할 수 있다. 보호기판의 두께는 0.1~1.0mm인 것이 필수적이고, 바람직하게는 0.2~0.8mm이고, 보다 바람직하게는 0.3~0.7mm이다.
실시형태(2)의 보호층:
바람직한 실시형태(2)의 광정보-기록매체는 층구성에 따라서 광반사층 및 추기형기록층을 물리적 및 화학적으로 보호할 목적으로 보호층이 형성되는 경우가 있다.
보호층의 재료로는, 무기물질, 예를 들면 ZnS, ZnS-SiO2, SiO, SiO2, MgF2, SnO2, Si3N4 등, 및 유기물질, 예를 들면 열가소성 수지, 열경화성 수지, UV 경화성 수지 등을 들 수 있다.
보호층은, 예를 들면 광반사층상에 접착제를 통해 플라스틱의 압출공정에 의해 얻어진 막을 접착함으로써 형성될 수 있다. 보호층은 진공증착, 스퍼터링 또는 코팅의 방법에 의해 형성되어도 좋다.
열가소성 수지 또는 열경화성 수지를 보호층으로 사용하는 경우, 보호층은 적당한 용제에 수지를 용해하여 도포액을 조제하고, 코팅하고 건조함으로써 형성될 수 있다. UV 경화 수지의 경우에, 보호층은 UV 경화 수지 그대로, 또는 적당한 용제에 용해하여 도포액을 조제한 후, 얻어진 도포액을 도포하고, UV선을 조사하여 도포층을 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 도포액에 각종 첨가제, 예를 들면 대전방지제, 항산화제, UV흡수제 등을 목적에 따라서 더 첨가해도 좋다.
보호층의 두께는 일반적으로 0.1㎛~1mm이다.
실시형태(2)의 그 외의 층:
바람직한 실시형태(2)의 광정보-기록매체는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 것이면 상기 이외에 다른 임의의 층을 가져도 좋다. 그 외의 임의의 층의 상세한 설명은 실시형태(1)의 그 외의 층과 동일하다.
광정보-기록방법:
본 발명의 광정보 기록은, 예를 들면 바람직한 실시형태(1) 또는 (2)의 광정보-기록매체를 이용하여 다음과 같이 행해진다. 광정보-기록매체를 일정 선속도(0.5~10m/초) 또는 일정 각속도로 회전시키면서 기판측 또는 보호층측으로부터 기록용 광, 예를 들면 반도체 레이저빔을 조사한다. 상기 기록층이 조사된 광을 흡수하여, 온도가 국소적으로 상승하고, 따라서 물리적 또는 화학적 변화(예를 들면, 피트의 형성)를 일으켜서 기록층의 광학적 특성을 변화시키고, 정보를 기록한다고 생각된다. 본 발명에서, 기록광으로서 390~450nm의 발진파장을 갖는 반도체 레이저빔이 사용된다. 바람직한 광원으로는 390~415nm의 청자색 반도체 레이저빔, 및 중심 발진파장 850nm의 적외선 반도체 레이저빔을 광전도성 웨이브 셀을 사용하여 반정도 파장으로 하여 얻어진 중심발진파장 425nm를 갖는 청자색 SHG 레이저빔을 들 수 있다. 기록밀도의 점에서 390~415nm의 발진파장을 갖는 청자색 반도체 레이저빔을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 상기와 같은 기록정보의 재생은 광정보-기록매체를 상기와 동일한 일정 선속도로 회전시키고, 기판측 또는 보호층측으로부터 반도체 레이저빔을 조사하고, 반사광을 검출함으로써 행할 수 있다.
본 발명은 실시예에 대해 더 상세하게 기재되지만, 본 발명은 실시예로 제한되지 않는다.
본 발명의 옥소놀 염료의 합성방법의 예가 하기에 표시된다.
화합물(1)의 합성:
Figure 112007004038523-PCT00017
에탄올에 화합물a(5.6g)을 교반하고, 화합물 b 5.3ml를 적하했다. 반응액은 실온에서 5시간동안 반응시키고, 감압하에서 용제를 제거하였다. 얻어진 용액을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제하고, 화합물(1) 0.5g을 얻었다.
화합물(6)의 합성:
Figure 112007004038523-PCT00018
알콜중에서 화합물(7)과 화합물(8)을 가열에 의해 환류시킴으로써 화합물(6)을 얻을 수 있다.
실시예1
광정보-기록매체1의 제조:
기판의 제조:
두께 1.1mm, 외경 120mm, 내경 15mm인 폴리카르보네이트 수지 및 나선형 프리그루브(트랙피치:320nm, 그루브폭:온그루브폭 120nm, 그루브깊이:35nm, 그루브의 경사각 65°, 워블 진폭 20nm)를 포함하는 기판은 사출성형에 의해 제조되었다. 사출성형에 사용된 스탬퍼의 마스터링은 레이저 컷(351nm)에 의해 행해졌다.
광반사층의 형성:
기판위에 100nm의 두께를 갖는 진공증착막의 APC 광반사층(Ag:98.1질량%, Pd:0.9질량%, Cu:1.0질량%)은 Ar 분위기에서 Cube(Unaxis Co.의 제품)를 사용하여 DC 스퍼터링에 의해 기판상에 형성되었다. 광반사층의 두께는 스퍼터링 시간에 의해 조절되었다.
추기형기록층의 형성:
염료함유 도포액은 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올 10ml에 표1-1에 표시된 화합물(1) 또는 (6) 0.2g을 용해하여 조제하였다. 광반사층상에 조제된 염료함유 도포액을, 스핀도포에 의해 회전수 300~4,000rpm 까지 변화시켜서 23℃, 50%RH의 조건에서 도포하였다. 그 후에 상기 층을 23℃, 50% RH에서 1시간 보존함으로써 추기형기록층(그루브상에 두께:120nm, 랜드상에 두께:170nm)을 형성했다.
추기형기록층을 형성한 후에, 클린오븐에서 아닐처리를 실시하였다. 기판을 수직의 스택폴로 스페이서 간격으로 지지하여, 80℃, 1시간동안 아닐처리를 행하였다.
배리어층의 형성:
다음에, 추기형기록층상에 Cube(Unaxis Co.의 제품)를 사용하여 Ar분위기에서 RF 스퍼터링에 의해 두께 5nm의 ZnO-Ga2O3(ZnO/Ga2O3:7/3 질량비)를 포함하는 배리어층을 형성했다.
커버층의 접착:
커버층으로는, 내경 15mm, 외경 120mm, 및 한면상에 접착제로 도포된 폴리카르보네이트막(Teijin Pure Ace, 두께:80㎛)을 사용하였다. 폴리카르보네이트막 및 접착제층의 총두께를 100㎛로 설정하였다.
배리어층상에 커버층을 적재하여 배리어층과 접착제층을 접촉시키고, 프래싱부재를 사용하여 압력에 의해 배리어층상에 커버층을 붙였다.
따라서, 실시예1 및 실시예2 및 비교예 1 및 2에 광정보-기록매체를 제조하 였다.
비교화합물로는 일본 특허공개 평10-297103호 공보에 개시된 화합물, 즉 카운터 양이온으로 비피리디늄 양이온을 갖는 화합물을 사용했다. 화합물(A)~(G)는 비교예1~7 각각에 사용되었다. 또한 실시예3~6에서 사용된 본 발명의 화합물은 하기이다.
Figure 112007004038523-PCT00019
Figure 112007004038523-PCT00020
광정보-기록매체1의 평가:
(1)기록 및 재생의 평가
제작된 광정보-기록매체 각각을 403nm 레이저, NA 0.85 픽업을 로딩한 기록/재생 평가기(DDU1000, Pulse Tech Products Corporation)를 사용하여 클록 주파수 66MHz 및 선속도 5.28m/s에서 0.16㎛의 신호(2T)를 재생 및 기록하였다. 또한 기록후의 광정보-기록매체 각각은 Xe 램프(170,000lux)로 24시간동안 조사한 후, 재생하였다. 평가에서, 본 발명의 광기록방법을 사용하였다. 그루브상에 기록을 행하였다. 얻어진 결과는 표2에 표시된다.
(표 2)
실시예 화합물 기록파워 (mW) 기록/재생특성 (Xe램프를 조사하기전) 피트의 리드아웃 기록/재생특성 (24시간 조사후) 피트의 리드아웃
실시예1 화합물(1) 3.5 가능 가능
실시예2 화합물(6) 3.0 가능 가능
비교예1 화합물(A) 3.5 가능 불가능
비교예2 화합물(B) 3.0 가능 불가능
표2의 상기 결과로부터, 본 발명의 광정보-기록매체 둘다는 카운터 염으로 변색방지제와 혼합물을 사용하는 종래의 매체에 비해, 기록후에 Xe램프로 24시간동안 조사한 후에 재생가능하고, 광견뢰성이 현저히 향상되는 것을 알 수 있다.
또한 화합물(15)와 (16)은 비교화합물(C) 내지 (E)와 비교하고, 화합물(17) 및 (18)은 화합물(F) 및 (G)와 비교하고, 그 결과 비피리디늄 양이온이 함유된 비교예 3~7에서는 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올중에서의 용해성이 나쁘고, 디스크를 생산하지 못하지만, 카운터 양이온으로 시아닌을 갖는 실시예 3~6에서는 양호한 용해성을 나타내고, 어떤 어려움을 수반하지 않고 디스크를 생산할 수 있다.
(표 3)
실시예 화합물 용해성 디스크 생산
실시예3 화합물(15) 양호 가능
실시예4 화합물(16) 양호 가능
실시예5 화합물(17) 양호 가능
실시예6 화합물(18) 양호 가능
비교예3 화합물(C) 나쁨 불가능
비교예4 화합물(D) 나쁨 불가능
비교예5 화합물(E) 나쁨 불가능
비교예6 화합물(F) 나쁨 불가능
비교예7 화합물(G) 나쁨 불가능
표3에 용해성 평가에 대해서, 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올에 1질량% 이상 용해하는 이러한 화합물을 "양호"로 나타내고, 여기에 불용성인 것을 "나쁨"으로 나타내었다. 초음파를 30분간 조사한 후 25℃에서 용해성 평가를 유지하였다.
상기 표3의 결과로부터, 카운터 염으로 변색방지제와 혼합물을 사용하는 종래의 매체에 비해, 본 발명의 광정보-기록매체상에 용해성 및 디스크 생산이 현저히 향상된다. 또한 실시예3의 화합물3 대신에, 화합물(2-1), (2-4), (2-10), (3-1), (3-4), (3-10), (4-1), (4-4), (4-10), (5-1), (5-4) 및 (5-10)은 디스크 생산에 사용되었다. 따라서, 실시예3에서 용해성이 충분히 양호하고, 디스크는 어떤 어려움을 수반하지 않고 생산될 수 있다.
기록층에 본 발명에 따른 화합물을 사용하여, 기록후에 고압수명 및 내구성을 갖는 기록특성을 열화시키지 않고 400~410nm의 레이저빔을 조사함으로써 정보를 기록할 수 있는 광정보-기록매체를 제조할 수 있다.

Claims (8)

  1. 기판; 및
    400~410nm 파장의 레이저빔을 조사하여 정보의 기록을 가능하게 하는 기록층을 함유하는 광정보-기록매체로서,
    상기 기록층은 식(1)으로 나타낸 옥소놀 염료를 함유하고, 상기 옥소놀 염료의 카운터 양이온(즉, 식(1)에서 Yt+)은 시아닌 양이온인 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
    Figure 112007004038523-PCT00021
    (여기서, A, B, C 및 D 각각은 전자끄는기를 나타내고, A와 B의 하멧 σp값의 총합, 및 C와 D의 하멧 σp 값의 총합은 각각 0.6 이상이고, A와 B, 또는 C와 D를 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; R은 메틴의 탄소에 대한 치환기를 나타내고; m은 0 또는 1의 정수를 나타내고; n은 0~2m+1의 정수를 나타내고, n이 2 이상의 정수를 나타내는 경우, 복수개의 R은 동일하거나 달라도 좋고, 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; Yt+는 t가의 시아닌 양이온을 나타내고; t는 1~10의 정수를 나타낸다).
  2. 제1항에 있어서,
    상기 옥소놀 염료는 식(2)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
    Figure 112007004038523-PCT00022
    (여기서, A1, B1, C1, 및 D1 각각은 전자끄는기를 나타내고, A1와 B1의 하멧 σp값의 총합, 및 C1와 D1의 하멧 σp 값의 총합은 각각 0.6 이상이고, A1와 B1, 또는 C1와 D1를 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고; R1은 수소원자 또는 메틴의 탄소원자에 대한 치환기를 나타내고; Y1t1+는 t1가의 시아닌 양이온을 나타내고; t1은 1~10의 정수를 나타낸다).
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 시아닌 양이온은 식(3) 또는 (4)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
    Figure 112007004038523-PCT00023
    (식(3) 및 식(4)에서, R3~R9 각각은 수소원자 또는 치환기를 나타내고, R3~R9는 서로 결합하여 환을 형성해도 좋고, ka1은 0~3의 정수를 나타내고, ka1이 2인 경우, 복수개의 R8과 R9는 동일하거나 달라도 좋다).
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 시아닌 양이온은 식(5)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
    Figure 112007004038523-PCT00024
    (여기서, Za21와 Za22 각각은 독립적으로 복소환을 형성하는 원자기를 나타내고; Ma21, Ma22 및 Ma23 각각은 독립적으로 치환 또는 미치환 메틴기를 나타내고; ka2 는 0~3의 정수를 나타내고, ka가 2 이상인 경우, 복수개의 Ma21 및 Ma22는 동일하거나 달라도 좋고; 및 R10과 R11 각각은 독립적으로 치환기를 나타낸다).
  5. 제4항에 있어서,
    식(5)으로 나타낸 상기 시아닌 양이온은 식(6)으로 나타내는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체:
    Figure 112007004038523-PCT00025
    (여기서, Za31와 Za32 각각은 독립적으로 탄소환 또는 복소환을 형성하는 원자기를 나타내고; R10과 R11은 식(5)에서 R10과 R11과 동일한 의미를 갖고; R21, R22, R23, R24, R25, R26, 및 R27 각각은 수소원자 또는 치환기를 나타내고; ka3은 0~3의 정수를 나타내고, ka3이 2 이상인 경우, 복수개의 R21과 R22는 동일하거나 달라도 좋다).
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    금속을 함유하는 광반사층을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    보호층을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 투명한 원반형 기판의 표면상에 트랙피치가 0.2~0.5㎛인 프리그루브를 갖는 투명한 원반형 기판이고,
    상기 기록층은 상기 프리그루브가 형성된 측의 표면상에 형성하는 것을 특징으로 하는 광정보-기록매체.
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