KR20070118528A - 클리닝 장치 및 화상 형성 장치 - Google Patents

클리닝 장치 및 화상 형성 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20070118528A
KR20070118528A KR1020070029080A KR20070029080A KR20070118528A KR 20070118528 A KR20070118528 A KR 20070118528A KR 1020070029080 A KR1020070029080 A KR 1020070029080A KR 20070029080 A KR20070029080 A KR 20070029080A KR 20070118528 A KR20070118528 A KR 20070118528A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
roll
cleaning
core material
charging roll
charging
Prior art date
Application number
KR1020070029080A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100868513B1 (ko
Inventor
도시유키 마츠이
도모야 이치카와
마사유키 고노
Original Assignee
후지제롯쿠스 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤 filed Critical 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤
Publication of KR20070118528A publication Critical patent/KR20070118528A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100868513B1 publication Critical patent/KR100868513B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/0005—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
    • G03G21/0058—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium using a roller or a polygonal rotating cleaning member; Details thereof, e.g. surface structure
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/02—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices
    • G03G15/0208—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices by contact, friction or induction, e.g. liquid charging apparatus
    • G03G15/0216—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices by contact, friction or induction, e.g. liquid charging apparatus by bringing a charging member into contact with the member to be charged, e.g. roller, brush chargers
    • G03G15/0225—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices by contact, friction or induction, e.g. liquid charging apparatus by bringing a charging member into contact with the member to be charged, e.g. roller, brush chargers provided with means for cleaning the charging member
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/0005—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
    • G03G21/0064—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium using the developing unit, e.g. cleanerless or multi-cycle apparatus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/16—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements
    • G03G21/18—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements using a processing cartridge, whereby the process cartridge comprises at least two image processing means in a single unit
    • G03G21/1803—Arrangements or disposition of the complete process cartridge or parts thereof
    • G03G21/1814—Details of parts of process cartridge, e.g. for charging, transfer, cleaning, developing
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C23/00—Bearings for exclusively rotary movement adjustable for aligning or positioning
    • F16C23/02—Sliding-contact bearings
    • F16C23/04—Sliding-contact bearings self-adjusting
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G2221/00—Processes not provided for by group G03G2215/00, e.g. cleaning or residual charge elimination
    • G03G2221/16—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements and complete machine concepts
    • G03G2221/1693—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements and complete machine concepts for charging

Abstract

본 발명은 클리닝 장치를 제공한다. 클리닝 장치는 클리닝 롤과, 지지부와, 안내부를 구비한다. 클리닝 롤은 화상을 담지하는 상담지체를 대전시키는 대전 롤에, 코어 재료의 주위에 설치된 청소 부재를 접촉시키면서 회전하여 대전 롤을 클리닝한다. 지지부는 클리닝 롤이 청소 부재를 대전 롤에 접촉시킨 상태에서 코어 재료를 회전 가능하게 지지한다. 안내부는 지지부에 지지된 코어 재료를 대전 롤의 회전 중심과 클리닝 롤의 회전 중심을 통과하는 직선 방향과 다른 방향으로 이동 가능하게 안내한다.
코어 재료, 청소 부재, 클리닝 롤, 대전 롤, 지지부, 안내부, 클리닝 장치

Description

클리닝 장치 및 화상 형성 장치{CLEANING DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE}
도 1은 본 발명의 하나의 예시적 실시 형태에 따른 화상 형성 장치의 개략적인 구성을 나타내는 구성도.
도 2는 도 1의 화상 형성 장치에 탑재된 감광체 드럼, 대전 롤 및 클리닝 롤의 구성을 나타내는 확대도.
도 3은 본 발명의 제 1의 예시적 실시 형태를 나타내는 개략 구성도.
도 4는 본 발명의 제 1의 예시적 실시 형태를 보충하는 개략 구성도.
도 5는 본 발명의 제 2의 예시적 실시 형태를 나타내는 개략 구성도.
도 6은 본 발명의 제 3의 예시적 실시 형태를 나타내는 개략 구성도.
도 7은 본 발명의 제 4의 예시적 실시 형태를 나타내는 개략 구성도.
도 8은 본 발명의 제 1 및 제 2의 예시적 실시 형태에 있어서의 클리닝 성능을 나타낸 도면.
도 9는 종래의 대전 롤과 클리닝 롤의 지지부를 나타내는 개략 구성도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 화상 형성 장치 11 : 화상 형성 유닛
12 : 감광체 드럼 14 : 대전 롤(접촉 대전기)
15 : 현상 장치 16 : 현상 롤
18 : 1차 전사 롤 20 : 브러시 롤
30 : 중간 전사 벨트 32 : 구동 롤
33 : 장가(張架) 롤 34 : 2차 전사 백업 롤
36 : 2차 전사 롤 38 : 중간 전사 벨트 클리너
40 : 용지 반송로 44 : 피드 롤
본 발명은 상담지체(像擔持體)를 대전시키는 대전 롤을 클리닝하는 클리닝 롤을 갖는 클리닝 장치 및 그 클리닝 장치를 구비하는 동시에 전자사진방식을 채용한 복사기나 프린터 등의 화상 형성 장치에 관한 것이다.
전자사진방식을 채용한 복사기나 프린터 등의 화상 형성 장치의 대전 장치로서, 스코로트론(scorotron) 대전기와 같은 코로나 방전 현상(corona discharge development)을 이용한 것이 많이 사용되어 왔지만, 이에 대하여 도전성의 대전 롤을 상담지체에 직접 접촉시켜서 상담지체의 대전을 행하는 접촉 대전 방식은 전원효율도 양호하기 때문에, 최근에는 주류로 되어 있다.
이러한 접촉 대전 방식의 대전 장치로는 대전 롤이 상담지체에 상시 접촉하고 있기 때문에, 대전 롤 표면에 이물의 부착에 의한 오염이 발생하기 쉽다는 문제가 있다. 화상 형성 동작을 반복적으로 행하는 상담지체의 표면은 전사 공정의 하류 측에서, 전사 후의 잔류 토너 등의 이물 제거를 행하는 클리닝 공정을 거친 후, 대전 공정의 에어리어에 진입해 오지만, 클리닝 공정을 거쳐도 토너의 일부나 토너의 외부 첨가제 등, 토너보다도 미소한 입자가 클리닝 되지 않고 상담지체 상에 잔류하여 대전 롤의 표면에 부착된다. 대전 롤의 표면에 부착된 이물은 대전 롤의 표면 저항값에 불균일을 발생시켜서, 이상 방전이나 불안정한 방전이 되어 대전 균일성을 악화시킨다.
이러한 문제를 개선시키기 위한 기술로서, 대전 롤의 표면에 스펀지를 접촉시키고, 대전 롤의 표면 오염물을 긁어 떨어뜨리는 클리닝 방식이 제안되어 있다(예를 들면, 일본국 공개 특허 공보 평2 - 272594호 참조). 또한, 이러한 대전 롤을 청소하는 클리닝 부재 중에서도, 대전 롤의 회전에 따라 회전하는 클리닝 부재는 구동 장치를 구비할 필요가 없고 구성이 간단하다는 이점이 있다(예를 들면, 일본국 공개 특허 공보 2003 - 228264호 참조).
그러나, 일본국 공개 특허 공보 2003 - 228264호에 기재된 구성에서는 가이드 슬롯이라 불리는 긴 구멍 형상의 축받이 부재에, 클리닝 롤의 샤프트(shaft)가 삽입되어 있는 구성이기 때문에, 대전 롤의 외주(外周) 접촉에 따라 클리닝 롤은 압착력이 약해지는 방향으로 빠져버려서 클리닝 성능이 저하된다. 또한, 대전 롤의 회전 시작 시에는 클리닝 롤이 튀어오름을 일으켜버려서, 마찬가지로 클리닝 성능의 저하로 연결된다. 이들 클리닝 성능이 저하되면, 토너의 일부나 토너의 외부 첨가제 등의 빠져나감이 발생하고, 상기한 바와 같이 대전 성능의 저하로 연결되어버린다.
본 발명은 상기 상황을 감안하여 이루어진 것으로, 클리닝 장치 및 화상 형성 장치를 제공한다.
본 발명의 일 면에 따르면, 클리닝 장치가 제공된다. 상기 클리닝 장치는 화상을 담지하는 상담지체를 대전시키는 대전 롤에, 코어 재료의 주위에 설치된 청소 부재를 접촉시키면서 회전하여 상기 대전 롤을 클리닝 하는 클리닝 롤과, 상기 클리닝 롤이 상기 청소 부재를 상기 대전 롤에 접촉시킨 상태에서 상기 코어 재료를 회전 가능하게 지지하는 지지부와, 상기 지지부에 지지된 상기 코어 재료를 상기 대전 롤의 회전 중심과 상기 클리닝 롤의 회전 중심을 통과하는 직선 방향과는 다른 방향으로 이동가능하게 안내하는 안내부를 포함한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 예시적 실시 형태에 따른 화상 형성 장치에 관하여 설명한다.
(화상 형성 장치의 구성)
도 1에 나타내는 본 발명의 예시적 실시 형태의 화상 형성 장치(10)는 4연속 탠덤 방식의 컬러 복사기이며, 도면에 나타내는 바와 같이, 옐로우(Y), 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K)의 각색의 토너 상을 형성하는 화상 형성 유닛(11)(11Y, 11M, 11C, 11K)이 중간 전사 벨트(30)의 이동 방향을 따라 나란하게 설치되어 있다.
화상 형성 유닛(11)에는 상담지체로서의 감광체 드럼(12)(12Y, 12M, 12C, 12K)이 설치되어 있고, 이 감광체 드럼(12)은 예를 들면, 표면에 유기 광 도전체 등으로 이루어지는 감광체층이 피복된 도전성 원통체가 이용되고, 모터에 의해 도 면 중의 화살표 방향(우회전 방향)으로 소정의 프로세스 스피드로 회전 구동된다.
감광체 드럼(12)의 거의 바로 위에는 감광체 드럼(12)의 표면을 대전하는 대전 롤(접촉 대전기)(14)(14Y, 14M, 14C, 14K)을 구비한 대전 장치가 배치되고, 또한 감광체 드럼(12)의 상방에는 대전 장치에 의해 대전된 감광체 드럼(12)의 표면에 레이저 빛(L)을 조사하여 정전 잠상을 형성하는 노광 장치(13)(13Y, 13M, 13C, 13K)가 배열 설치되어 있다.
감광체 드럼(12)의 우측방에는 현상 장치(15)(15Y, 15M, 15C, 15K)가 인접 배치되어 있으며, 현상 장치(15)에는 감광체 드럼(12) 상에 형성된 정전 잠상을 Y, M, C, K의 각색의 토너 상으로 현상하는 현상 롤(16)(16Y, 16M, 16C, 16K)이 설치되어 있다.
감광체 드럼(12)의 하방에는 현상 장치(15)에 의해 가시화된 토너 상이 전사되는 무단상의 중간 전사 벨트(30)가 배열 설치되어 있으며, 또한 중간 전사 벨트(30)를 협지하여 1차 전사 롤(18)(18Y, 18M, 18C, 18K)이 대향 배치되어 있다. 이 감광체 드럼(12)과 중간 전사 벨트(30)의 각 접촉부는 1차 전사부(T1)이고, 1차 전사 롤(18)에는 정(正)극성의 1차 전사 바이어스가 인가된다.
감광체 드럼(12)의 좌측방에는 1차 전사 후에 감광체 드럼(12) 위에 잔류하는 전사 잔류 토너를 제거하는 감광체 클리너가 인접 배치되어 있으며, 감광체 클리너에는 감광체 드럼(12)의 외주면으로 압접해서 감광체 드럼(12)의 회전 방향과 반대 방향으로 회전 구동하여 감광체 드럼(12)으로부터 전사 잔류 토너를 긁어내는 브러시 롤(20)(20Y, 20M, 20C, 20K)이 설치되어 있다.
중간 전사 벨트(30)는 구동 롤(32), 장가(張架) 롤(33) 및 2차 전사 백업 롤(34)에 감겨 걸려있고, 감광체 드럼(12)의 회전에 동기하여 화살표 방향으로 회전 이동한다. 또한, 상기의 화상 형성 유닛(11Y, 11M, 11C, 11K)은 중간 전사 벨트(30)의 이동 방향에 대하여, 그 순서로 직렬로 배열되어 있다. 이에 따라, 중간 전사 벨트(30)는 각 1차 전사부(T1)로 1차 전사 롤(18)에 의해 감광체 드럼(12) 위의 토너 상이 옐로우, 마젠타, 시안, 블랙의 순으로 중복되도록 1차 전사되고, 이 1차 전사된 토너 상을 하기의 2차 전사부(T2)(2차 전사 롤(36))로 향하여 반송한다.
중간 전사 벨트(30)의 우측방에는 용지 반송로(40)를 협지하여 2차 전사 롤(36)이 대향 배치되어 있다. 이 2차 전사 롤(36)과 중간 전사 벨트(30)의 접촉부가 2차 전사부(T2)이고, 2차 전사 롤(36)에는 부(負)극성의 2차 전사 바이어스가 인가된다. 이에 따라, 2차 전사 롤(36)은 2차 전사 백업 롤(34)에 의해 보조되고, 중간 전사 벨트(30)에 1차 전사된 토너 상을 2차 전사부(T2)에서 용지(P)로 2차 전사한다. 또한, 중간 전사 벨트(30)를 회전 지지하는 2차 전사 백업 롤(34)의 우상방에는 2차 전사 후에 중간 전사 벨트(30) 상에 잔류하는 전사 잔류 토너를 제거하는 중간 전사 벨트 클리너(38)가 설치되어 있다.
중간 전사 벨트(30)의 하방에는 용지(P)가 수납되는 급지 트레이(42)가 배치되고, 급지 트레이(42)의 우측 근방에는 급지 트레이(42)로부터 용지(P)를 용지 반송로(40)에 송출하는 피드 롤(44) 및 송출되는 용지(P)를 1장씩 분류하는 리타드 롤(retard roll)(46)이 설치되어 있다.
또한, 용지 반송로(40)에서의 2차 전사부(T2)보다 하류 측에는 대향하는 가열 롤(52) 및 가압 롤(54)을 구비한 정착 장치(50)가 배치되고, 정착 장치(50)의 하류 측에는 한 쌍의 배출 롤(56)이 설치되어 있다. 그리고, 용지 반송로(40)는 피드 롤(44) 및 리타드 롤(46)로부터 2차 전사부(T2) 및 정착 장치(50)를 경유해서 배출 롤(56)까지 연장 설치되어 있다.
(화상 형성 장치의 화상 형성 동작)
다음, 본 발명의 예시적 실시 형태의 화상 형성 장치(10)에 의한 컬러 화상 형성 동작에 대해서 설명한다.
화상 형성 장치(10)에 화상 형성 신호가 입력되고, 감광체 드럼(12)이 회전 구동하면, 감광체 드럼(12)의 회전에 따라 대전 롤(14)이 회전하고, 감광체 드럼(12)의 표면(외주면)이 대전 롤(14)에 의해 균일하게 대전된다. 계속해서, 감광체 드럼(12)의 표면에는 화상 형성 신호에 기초하여 노광 장치(13)로부터 레이저 광(L)이 조사된다. 이 레이저 광(L)에 의해, 감광체 드럼(12)의 표면이 노광되고, 정전 잠상이 형성된다.
감광체 드럼(12) 상에 형성된 정전 잠상은 현상 장치(15)의 현상 롤(16)에 의해 옐로우, 마젠타, 시안, 블랙의 각색의 토너 상으로 현상되고, 1차 전사부(T1)에서 중간 전사 벨트(30)에 1차 전사되어 서로 중첩된다. 또한, 1차 전사 후에 감광체 드럼(12) 상에 잔류하는 전사 잔류 토너는 클리닝 장치의 브러시 롤(20)에 의해 긁혀져서 제거된다.
한편, 급지 트레이(42)에 수납된 용지(P)는 피드 롤(44)에 의해 송출되고, 리타드 롤(46)에 의해 분류되어 최상부의 용지(P)만이 용지 반송로(40)에 도달되고, 소정의 타이밍에서 2차 전사 롤(36)과 2차 전사 백업 롤(34)과의 사이, 즉 2차 전사부(T2)에 반송된다. 이 2차 전사부(T2)에서, 중간 전사 벨트(30)에 1차 전사되어 있는 토너 상이 용지(P)에 2차 전사된다. 토너 상이 전사된 용지(P)는 용지 반송로(40)를 따라 하류 측으로 반송되어 정착 장치(50)에 도달되고, 가열 롤(52)과 가압 롤(54)에 의한 열 압력에 의해 토너 상이 정착된다. 그리고, 이 토너 상의 정착에 의해 화상 형성된 용지(P)는 배출 롤(56)에 의해 배지 트레이에 배출된다.
또한, 2차 전사 후에 중간 전사 벨트(30)의 화상 영역에 잔류한 전사 잔류 토너는 중간 전사 벨트 클리너(38)에 의해 긁혀져서 제거된다. 또한, 상기 대전 롤(14)의 회전에 따라 클리닝 롤(100)이 회전해서(도 2), 대전 롤(14)의 표면에 부착된 토너나 외부 첨가제 등의 오염(이물)이 클리닝 롤(100)에 의해 클리닝 된다. 그리고, 이 이물이 클리닝 롤(100)의 발포체의 셀 내에 취입되고, 셀 내에 회수된 이물이 응집해서 적절한 크기가 되면 클리닝 롤(100)로부터 대전 롤(14)을 통하여 감광체 드럼(12)에 되돌려져서, 감광체 드럼(12)을 클리닝 하는 브러시 롤(20)에 의해 감광체 클리너에 회수되고, 클리닝 성능이 유지 계속되고 있다. 이상의 동작에 의해, 화상 형성 장치(10)에 의해 용지(P)에 컬러 화상이 형성된다.
(대전 롤과 클리닝 롤의 구성)
다음, 상기 구성의 화상 형성 장치(10)에 탑재된 대전 롤(14)과, 대전 롤(14)을 클리닝 하는 클리닝 롤(100)에 대해서 상세하게 설명한다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 감광체 드럼(12)의 상방부에는 감광체 드럼(12)과 접촉하도록 대전 롤(14)이 배치되어 있다. 이 대전 롤(14)은 도전성의 샤프트(14A)의 주위에 대전층(14B)이 형성된 것이며, 샤프트(14A)가 회전 가능하게 지지되어 있다. 대전 롤(14)의 우상부에는 대전 롤(14)의 표면에 접촉하는 롤 형상의 클리닝 요소인 클리닝 롤(100)이 설치되어 있다. 이 클리닝 롤(1O0)은 샤프트(10OA)의 주위에 스펀지층(100B)이 형성된 것이며, 샤프트(100A)가 회전 가능하게 지지되어 있다.
클리닝 롤(100)은 대전 롤(14)에 자체 중량으로 가압되고, 스펀지층(100B)이 대전 롤(14)의 주면(周面)에 따라 탄성 변형해서 닙부(nip portion)(101)를 형성하고 있다. 감광체 드럼(12)은 모터에 의해 도 2의 화살표 A방향(시계 회전 방향)으로 회전 구동되고, 감광체 드럼(12)의 회전에 따라 대전 롤(14)이 화살표 B방향(반시계 회전 방향)으로 회전한다. 또한, 대전 롤(14)의 회전에 따라 클리닝 롤(100)이 화살표 C방향(시계 회전 방향)으로 회전한다.
여기서, 본 발명의 예시적 실시 형태의 대전 롤(BCR)(14)과 클리닝 롤(100)에 관하여 설명한다.
대전 롤(14)은 상술한 바와 같이 감광체 드럼(12)의 표면에 접촉해서 배설되고, 직류 전압 또는 직류 전압에 교류 전압을 인가시켜서 감광체 드럼(12) 표면을 대전시키는 것이다. 또한, 그 형상으로서는 샤프트(14A)를 구성하는 코어 재료의 주위에, 대전층(14B)을 구성하는 저항 탄성층을 설치한 롤 형상이며, 저항 탄성층을 외측으로부터 저항층과 그것들을 지지하는 탄성층의 순으로 분할한 구성도 가능 하다. 또한, 대전 롤(14)의 내구성이나 내오염성의 부여를 위하여, 필요에 따라 저항층의 외측에 보호층을 설치할 수 있다.
이하, 코어 재료에 탄성층, 저항층, 보호층을 설치한 경우에 대해서 더욱 상세하게 설명을 행한다.
코어 재료의 재질로서는 도전성을 갖는 것으로, 일반적으로는 철, 동(銅), 황동(brass), 스테인리스(stainless), 알루미늄, 니켈 등을 이용할 수 있다. 또한, 금속 이외의 재료로서도, 도전성과 적당한 정도의 강성을 갖는 재료라면 이용할 수 있고, 예를 들면 도전성 입자 등을 분산한 수지 성형품이나 세라믹스 등을 이용할 수 있다. 또한, 롤 형상 외에, 중공의 파이프 형상도 가능하다.
탄성층의 재질로서는 도전성 또는 반(半)도전성을 갖는 것으로서, 일반적으로는 수지 재료 또는 고무 재료에 도전성 입자 또는 반도전성 입자를 분산시킨 것이다. 수지 재료로서는 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 실리콘 수지, 요소 수지, 폴리아미드 수지 등의 합성 수지를 이용할 수 있고, 고무 재료로서는 에틸렌-프로필렌 고무, 폴리부타디엔, 천연 고무, 폴리이소부틸렌, 클로로프렌 고무, 실리콘 고무, 우레탄 고무, 에피클로로히드린 고무(epichlorohydrin rubber), 플루오르 실리콘 고무, 에틸렌 시드 고무 등, 또는 그들을 발포시킨 발포재를 이용할 수 있다.
도전성 입자 또는 반도전성 입자로서는 카본 블랙, 아연, 알루미늄, 동, 철, 니켈, 크롬, 티타늄 등의 금속, ZnO-Al2O3, SnO2-Sb2O3, In2O3-SnO2, ZnO-TiO2, MgO- Al2O3, FeO-TiO2, TiO2, SnO2, Sb2O3, In2O3, ZnO, MgO 등의 금속 산화물이나 제 4급 암모늄염 등의 이온성 화합물 등을 이용할 수 있고, 이들의 재료를 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상 혼합해서 사용해도 좋다. 또한, 필요에 따라 활석(talc), 알루미나, 실리카 등의 무기 충전재, 불소 수지나 실리콘 고무의 미분 등의 유기 충전재의 1종 또는 2종 이상을 혼합해도 좋다.
저항층 및 보호층의 재질로서는 결착(結着) 수지에 도전성 입자 또는 반도전성 입자를 분산하고, 그 저항을 제어한 것으로, 저항률로서는 1O3 ∼ 1O14 Ω㎝, 바람직하게는 1O5 ∼ 1O12 Ωcm, 더 바람직하게는 1O7 ∼ 1O12 Ωcm가 좋다. 또한, 막 두께로서는 O.O1 ∼ 1OOO ㎛, 바람직하게는 0.1 ∼ 500 ㎛, 더 바람직하게는 0.5 ∼ 100 ㎛가 좋다. 결착 수지로서는 아크릴 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리아미드 수지, 메톡시메틸화 나일론, 에톡시메틸화 나일론, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리비닐 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리티오펜 수지, PFA, FEP, PET 등의 폴리올레핀 수지, 스티렌 부타디엔 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 실리콘 수지, 요소 수지 등을 이용할 수 있다.
도전성 입자 또는 반도전성 입자로서는 탄성층과 동일한 카본 블랙, 금속, 금속 산화물이나, 이온 도전성을 발현하는 제 4급 암모늄염 등의 이온성 화합물 등의 1종 또는 2종 이상이 혼합된다. 또한, 필요에 따라 힌더드 페놀(hindered phenol), 힌더드 아민 등의 산화방지제, 점토(clay), 카올린, 활석, 실리카, 알루 미나 등의 무기 충전제나, 불소 수지나 실리콘 수지의 미분 등의 유기 충전재나, 실리콘 오일 등의 윤활제 등을 1종 또는 2종 이상을 첨가할 수 있다. 또한, 추가로 계면 활성제나 대전 제어제 등이 필요에 따라 첨가된다.
또한, 이들 층을 형성하는 방법으로서는 블레이드 코팅법, 마이어 바 코팅(meyer bar coating)법, 스프레이 코팅법, 침지(浸漬) 코팅법, 비드(bead) 코팅법, 에어 나이프(air knife) 코팅법, 커튼 코팅법 등을 이용할 수 있다.
클리닝 롤(1OO)은 샤프트(1OOA)를 구성하는 코어 재료(유지 부재)와, 이 코어 재료의 주면(周面)에 형성되는 스펀지층(100B)을 구성하는 다공질 탄성층을 구비하고, 상술한 바와 같이, 대전 롤(14)의 표면에 접촉해서 배열 설치되어 있다.
코어 재료의 재질로서는 다공질 탄성층을 지지하고, 대전 롤(14)에 적당한 정도의 압접력으로써 접촉 상태를 유지할 수 있는 정도의 강성을 갖는 것을 이용할 수 있고, 일반적으로는 철, 동, 황동, 스테인리스, 알루미늄, 니켈 등의 금속 외에, 수지 성형품, 세라믹스 등이나, 이들에 도전성 입자 등을 분산시킨 것이나, 무기 필터를 분산시킨 것을 이용할 수 있다. 또한, 롤 형상 외에, 중공의 파이프 형상도 가능하다.
다공질 탄성층은 소정의 셀 밀도로 형성된 롤 형상의 스펀지이며, 예를 들면, 에테르계 우레탄 폼(ether-based urethane foam), 에스테르계 우레탄 폼, 폴리에틸렌 폼, 폴리올레핀 폼, 멜라민 폼, 마이크로폴리머 등을 이용할 수 있다.
폴리우레탄 폼을 예로 들면, 제조 방법에 대해서 간단하게 설명하면, 폴리올, 이소시아네이트, 물, 촉매(아민 촉매, 금속 촉매 등) 및 정포(整泡)제(계면 활 성제)를 이용해서 제조되고, 또한 용도에 따라서는 안료(顔料) 등의 외부 첨가제를 이용할 수 있다. 그리고, 이들 원료를 혼합·교반하면 화학 반응이 일어나고, 우레탄 수지의 발포체를 얻을 수가 있다.
이러한 클리닝 롤(100)에 있어서, 본 발명의 예시적 실시 형태에서는 샤프트(100A)(코어 재료)가 스테인리스로 형성되고, 스펀지층(100B)(다공질 탄성층)이 발포 우레탄 수지로 형성되어 있다. 또한, 상기 샤프트(1O0A)는 절연 수지(아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리아미드 수지 등)로 이루어지는 것이지만, 이 경우, 국소적인 방전 전하에 의한 오염 등을 예방하기 위해서, 절연 수지 재료의 체적 저항치는 1014Ω·㎝ 이상인 것이 바람직하다.
(지지구조의 구성)
다음, 본 발명의 제 1의 예시적 실시 형태에 따른 대전 롤(14) 및 클리닝 롤(100)의 지지구조에 관하여 설명한다.
도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 예시적 실시 형태에서는 대전 롤(14)과 클리닝 롤(100)이 각각 축 방향의 양단부에서 한 쌍의 지지 부재(150)에 조립되어 있고, 이 지지 부재(150)를 포함한 형상으로 유닛화되며, 감광체 드럼(12)에 대하여 소정의 위치에 배치되어 있다. 감광체 드럼(12)과 대전 롤(14)은 축 방향에 따라 접촉하고 있으며, 또한 대전 롤(14)과 클리닝 롤(100)이 축 방향을 따라 접촉하고 있다. 여기서, 본 발명의 예시적 실시 형태의 구성에 있어서는, 클리닝 롤(100)은 대전 롤(14)을 협지하여 감광체 드럼(12)의 반대 측에 배치되어 있 지만, 정반대(180도)의 위치에는 배치되지 않고, 적어도 대전 롤(14)과 클리닝 롤(100)의 접촉하는 위치는 대전 롤(14)의 원주 상에 있어서, 감광체 드럼(12)에 근접하는 위치에 배치된다.
지지 부재(150)에는 소정의 간격으로 배치된 2개의 축받이 구멍(150A, 150B)이 형성되어 있다. 한쪽 방향의 축받이 구멍(150A)에는 대전 롤(14)의 샤프트(14A)의 단부가 회전가능하도록 삽입되고, 다른 방향의 축받이 구멍(150B)에는 클리닝 롤(100)의 샤프트(10OA)의 단부가 회전가능하도록 삽입되어 있다. 여기서, 축받이 구멍(150B)은 예를 들면, 긴 구멍 형상을 가지며, 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)는 소정의 자유도를 갖고 지지되어 있다. 또한, 지지 부재(150)가 스프링 부재(151)에 의해 눌려서, 대전 롤(14)은 소정의 압력을 가지고 감광체 드럼(12)의 표면에 접촉하고 있다.
또한, 본 발명의 예시적 실시 형태의 지지 부재(150)는 고강성, 고슬라이딩성에 내마모성이 우수한 폴리아세탈이나 폴리카보네이트 등의 합성 수지 재료로 형성되어 있다. 또한, 내마모성을 더욱 높이기 위해서, 상기의 합성 수지 재료에 유리 섬유나 카본 섬유 등을 함유시켜도 좋다.
이 한 쌍의 지지 부재(150)에, 샤프트(14A)의 단부가 축지지된 대전 롤(14)과, 샤프트(10OA)의 단부가 축지지된 클리닝 롤(100)은 상술한 바와 같이, 클리닝 롤(1OO)이 대전 롤(14)에 자체 중량으로 가압되고, 스펀지층(100B)이 대전 롤(14)의 주면(周面)에 따라 탄성 변형하여 닙부(101)를 형성한 상태로 되어 있다(도 2 참조).
여기서, 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)는 안내부로서 기능하는 축받이 구멍(150B)의 안내 방향(152)으로 이동이 가능하며, 또한, 상기 안내 방향(152)이 대전 롤(14)의 회전 중심(도 4의 159)과 클리닝 롤(100)의 회전 중심(도 4의 160)을 연결하는 직선의 방향(153)과 다른 방향이 되도록 배열 설치되도록, 축받이 구멍(150B)의 측면(도 4의 154)이 클리닝 롤의 샤프트(100A)를 소정의 각도로 꽉 누르는 구성으로 이루어져 있다. 여기서, 예를 들면, 대전 롤(14)의 외주 진동과 같이 50 ㎛ 정도의 미소한 위치 변동이 닙부(101)에 발생한 경우에는 상기 축받이 구멍(150B)의 측면(154)은 샤프트(100A)를 꽉 누르기 때문에, 클리닝 롤(100)을 안내 이동되지 않는다. 따라서, 닙부(101)에서 스펀지(100B)가 압축하는 것에 의해, 상기 위치 변동을 흡수할 수 있다.
이에 대하여, 화상 형성 장치(10) 내에 혼입한 50 ㎛를 넘는 이물 등을 닙부(101)에 삽입한 경우에는 닙부(101)에서의 스펀지층(100B)의 압축에 더하여, 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)를, 축받이 구멍(150B)의 측면(154)이 상방으로 안내 이동시키기 때문에, 닙부(101)에서, 대전 롤(14) 및 클리닝 롤(100)에 큰 상처가 나는 것을 방지할 수 있다.
다음, 본 발명의 제 2의 예시적 실시 형태에 관하여 설명한다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 제 2의 예시적 실시 형태는 축받이 구멍(150B)의 측면에서의 제 1 접촉부(155)와 제 2 접촉부(156)에는 그의 표면을 연마 처리나 블라스트 처리 등을 하는 것과, 또한 성형 상에서 양자의 10점 평균 거칠기(JIS)가 다르도록 되어 있는 점이, 제 1의 예시적 실시 형태와 다르다.
여기서, 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)의 외경과 축받이 구멍(150B)의 단경(즉, 제 1 접촉부(155)와 제 2 접촉부(156)와의 거리)과의 차이가 50 ㎛ 정도의 공차로 설정되어 있고, 대전 롤(14) 및 클리닝 롤(100)이 회전중의 경우, 클리닝 롤(100)의 회전 토크에 의해, 샤프트(100A)는 제 2 접촉부(156)에 소정의 압력으로 가압되고 있으며, 제 1 접촉부(155)에는 제 2 접촉부(156)보다도 약한 압력으로 접촉하고 있다. 또한, 샤프트(100A)의 외경과 축받이 구멍(150B)의 단경과의 차이가 1O0 ㎛ 보다도 크게 설정되어 있는 경우는 제 2 접촉부(56)와 샤프트(10OA)가 비접촉 상태가 된다.
여기서, 제 2 접촉부(156)에 비해서 제 1 접촉부(155)의 10점 표면 평균 거칠기(JIS B0651:1996)를 크게 설정하면, 대전 롤(14)의 회전 시작 시에, 클리닝 롤(100)이 축받이 구멍(150B)의 안내 방향(152)으로 튀어오르려고 할 때, 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)가 제 1 접촉부(155)의 표면과 슬라이딩 접촉하여, 튀어 오름을 억제할 수 있다.
제 2 접촉부(156)의 표면 거칠기를 높게 설정하면, 정상적으로 클리닝 롤(100)의 회전 부하가 높아져서, 회전 불량을 발생하게 된다. 따라서, 제 2 접촉부(156)는 비교적 거칠기를 억제함으로써, 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)는 정지시의 접점 압력이 낮은 제 1 접촉부(155) 측으로 튀어 오름이 시작되기 때문에, 제 1 접촉부(155)의 표면 거칠기가 기능할 수 있다. 이것에 의해, 대전 롤 회전 시의 초기적인 클리닝 불량을 방지할 수 있다.
이하에, 제 1, 제 2의 예시적 실시 형태에서의 실시예를 나타낸다. 본 실시 예에서는 전술의 폴리카보네이트를 이용하고, 지지 부재(150)를 구성하였다. 대전 롤(14)은 Φ8의 금속 샤프트 위에 두께 4㎜의 이소프렌으로 이루어진 고무층을 적층하여 형성하였다. 고무층의 저항은 1068 Ω으로 설정되어 있다. 클리닝 롤(100)은 Φ5의 금속 샤프트 위에 두께 2.5㎜의 발포 우레탄층을 형성한 것을 사용하였다. 상기, 지지 부재(150)에 대하여, 제 1 접촉부(155) 및 제 2 접촉부(156)에 상당하는 각 접촉부의 10점 표면 평균 거칠기(JIS B0651:1996)를 각각 Rz 3㎛로 하고, 대전 롤(14)의 회전 중심(159) 및 클리닝 롤(100)의 회전 중심(160)을 연결하는 직선의 방향(153)과, 안내부(171)의 안내 방향(172)을 일치시킨 지지 부재(170)에 의한 비교예(도 9 참조)에 대하여, 동일한 표면 거칠기(Rz)로 안내부의 안내 방향을 대전 롤(14)과 클리닝 롤(100)의 회전 중심을 연결하는 직선의 방향과 교차시킨 실시예(1)(도 3 및 4 참조), 실시예(1)에서 제 2 접촉부(156)의 표면 거칠기(Rz)를 더욱 변화시킨 실시예(2) 및 실시예(3)에서 평가를 행하였다. 또한, 실시예(2)는 제 1 접촉부(155)가 Rz 3㎛, 제 2 접촉부(156)는 Rz 8㎛, 또한 실시예(3)는 제 1 접촉부(155)가 Rz 3㎛, 제 2 접촉부(156)는 Rz 12㎛가 되도록 표면을 연마하여 형성하였다. 또한, 샤프트(10OA)의 10점 표면 평균 거칠기(JIS B0651:1996)는 Rz 1.5㎛이다.
상기, 10점 표면 평균 거칠기(JIS B0651:1996)는 이하의 방법으로 측정하였다. "Tokyo Seimitsu Co., Ltd." 제조의 Surfcom-590A를 이용하고, 픽업 침 E-DT-S01A으로서, JIS'82 설정 하에, 측정 길이 3㎜, 측정 속도 0.3㎜/s, 컷오프 파장 0.6㎜, 컷오프 종별 2CR(위상 보상)의 조건이다.
상기, 비교예, 실시예(1), 실시예(2) 및 실시예(3)의 4 종류의 지지 부재(150, 170)를 이용하고, 대전 롤을 210㎜/sec의 표면 속도로 회전시키고, 대전 롤 표면에 부착된 토너 입자의 클리닝 성능의 결과를 도 8에 나타낸다. 비교예에서는 대전 롤(14)의 구동 개시 때에 클리닝 롤(100)이 튀어 오름을 발생하는 동시에, 안정 회전 후에도 대전 롤(14)의 외주진동의 영향을 받아, 클리닝 성능은 불안정한 채로 진행하고 있다. 이에 대하여, 실시예 (1), (2) 및 (3)에서는 상기 클리닝 롤(100)의 튀어 오름이 방지되는 동시에, 외주진동의 영향을 받지 않고, 안정적으로 클리닝을 계속할 수 있다. 특히, 실시예 (2) 및 (3)에서는 평가 중의 클리닝 불량을 미발생으로 할 수 있다.
다음, 본 발명의 제 3의 예시적 실시 형태에 관하여 설명한다.
도 6에 나타내는 바와 같이, 제 2 접촉부(156)로부터 돌출하도록 코어 재료 규제부(157)가 설치되어 있는 점이 제 2의 예시적 실시 형태와 다르다. 앞서 나타낸 바와 같이, 대전 롤(14)의 회전 개시 시에는 대전 롤(14)의 회전 토크를 받고, 초기적으로 클리닝 롤(100)이 튀어 오름 현상을 발생하기 쉽다. 여기서, 닙부(101)로부터 보아서, 클리닝 롤(100)의 회전 방향 하류 측에 있는 제 2 접촉부(156)의 상부에, 코어 재료 규제부(157)가 돌출함으로써 튀어 오르기 쉬운 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)가 규제되고, 클리닝 불량 등의 문제를 억제하는 것이 가능하게 된다. 이전의 제 2의 예시적 실시 형태와 동일한 평가를 행한 결과, 동일의 안정한 클리닝 성능을 유지하는 것을 확인하였다.
또한, 제 2 접촉부(156)와 코어 재료 규제부(157)의 거리는 대전 롤(14)의 최대 외주진동(예를 들면 50㎛) 정도로 설정함으로써 대전 롤(14)의 외주진동에 의한 위치 변동은 안내 방향(152)의 이동이 허용되면서, 닙부(101)에의 이물 진입시 또는 상기 대전 롤(14)의 상승 시의 튀어 오름을 방지하는 것이 가능하게 된다.
다음, 본 발명의 제 4의 예시적 실시 형태에 관하여 설명한다.
도 7에 나타내는 바와 같이, 제 1 접촉부(155)와 제 2 접촉부(156)의 사이에는 클리닝 롤(100)의 샤프트(100A)가 삽입되는 코어 재료 삽입부(158)가 설치되어 있는 점이 제 3의 예시적 실시 형태와 다르다. 이 경우, 클리닝 롤(100)은 상방으로부터 지지 부재(150)에 장착할 수 있으므로, 조립성이 향상한다. 또한, 전술의 코어 재료 규제부(157)가 돌출하는 부분은 샤프트(100A)의 직경보다도 좁게 설정함으로써, 코어 재료 규제부(157)의 탄성 변형에 의해 클리닝 롤(100)을 장착하고, 그 후는 빗겨남 방지 기능을 겸하는 것이 가능하게 된다.
또한, 도면에 나타내는 바와 같이, 대전 롤(14)의 축받이 구멍(150A)에서도, 하방을 개방해서 축받이를 구성하고 있으므로, 대전 롤(14), 지지 부재(150), 클리닝 롤(100)의 순서로 용이하게 조립하는 것이 가능하게 된다.
이상과 같이, 본 발명의 예시적 실시 형태에 따른 클리닝 장치에서는 대전 롤의 외주진동에 따라, 클리닝 롤이 가압력이 약해지는 방향으로 이동하여버려, 클리닝 성능이 저하하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 대전 롤의 회전 개시 시에는 클리닝 롤이 튀어 오름을 일으켜버려, 마찬가지로 클리닝 성능의 저하로 연결되는 것을 방지하는 것이 가능하다.
본 발명의 제 1 태양은 클리닝 장치이다. 클리닝 장치는 화상을 담지하는 상담지체를 대전시키는 대전 롤로서, 코어 재료의 주위에 설치된 청소 부재를 접촉시키면서 회전하는 대전 롤을 클리닝하는 클리닝 롤과, 클리닝 롤이 청소 부재를 대전 롤에 접촉시킨 상태로 코어 재료를 회전 가능하게 지지하는 지지부와, 지지부에 지지된 코어 재료를 대전 롤의 회전 중심과 클리닝 롤의 회전 중심을 통과하는 직선 방향과는 다른 방향으로 이동 가능하게 안내하는 안내부를 포함한다.
제 1 태양의 클리닝 장치에 있어서, 안내부는 코어 재료의 주면(周面)에 접촉하는 제 1 접촉부와 제 2 접촉부를 갖고, 제 1 접촉부는 제 2 접촉부에 비해서 코어 재료의 주면에서 대전 롤로부터 먼 측에 접촉하고, 제 1 접촉부는 제 2 접촉부보다도 10점 평균 거칠기가 커도 좋다.
제 1 태양의 클리닝 장치는 대전 롤로부터 이간하는 안내 방향에서의 코어 재료의 이동을 규제하는 이동 규제부를 가져도 좋다.
제 1 태양의 클리닝 장치에 있어서, 지지부에 안내부에 의한 안내 방향에 따라서 코어 재료를 안내부에 삽입하기 위한 삽입부가 설치되어 있어도 좋다.
본 발명의 제 2 태양은 제 1 태양의 클리닝 장치를 구비하는 화상 형성 장치이다.
상술한 바와 같은 본 발명에 의하면 대전 롤을 클리닝하는 클리닝 롤의 클리닝 성능의 저하를 억제할 수 있다.

Claims (5)

  1. 코어 재료 및 코어 재료의 주위에 설치된 청소 부재를 구비한 클리닝 롤 -여기서, 상기 청소 부재는 상기 클리닝 롤의 회전에 의해 대전 롤에 접촉해서 상기 대전 롤을 클리닝하고, 상기 대전 롤은 화상을 담지하는 상담지체를 대전함- 과,
    상기 청소 부재가 상기 대전 롤에 접촉한 상태에서 상기 코어 재료를 회전 가능하게 지지하는 지지부와,
    상기 지지부에 의해 지지된 상기 코어 재료를 상기 대전 롤의 회전 중심과 상기 클리닝 롤의 회전 중심을 통과하는 직선 방향과는 다른 방향으로 이동 가능하게 안내하는 안내부를 포함하는 클리닝 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 안내부는 상기 코어 재료의 각각의 단부(端部)의 주면(周面)에 접촉하는 제 1 접촉부와 제 2 접촉부를 갖고,
    상기 제 1 접촉부는 상기 제 2 접촉부에 비해서 상기 코어 재료의 하나의 단부의 주면에서 상기 대전 롤로부터 먼 측에 접촉하고,
    상기 제 1 접촉부는 상기 제 2 접촉부보다도 10점 평균 거칠기가 큰 클리닝 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 대전 롤로부터 이간하는 안내 방향으로의 상기 코어 재료의 이동을 규제하는 이동 규제부(規制部)를 더 포함하는 클리닝 장치.
  4. 제 1 항에 잇어서,
    상기 지지부는 상기 안내부에 의한 안내 방향을 따라 상기 코어 재료를 상기 안내부에 삽입하기 위한 삽입부가 설치되어 있는 클리닝 장치.
  5. 클리닝 장치를 포함하는 화상 형성 장치로서,
    상기 클리닝 장치는
    코어 재료 및 상기 코어 재료의 주위에 설치된 청소 부재를 구비한 클리닝 롤 -여기서, 상기 청소 부재는 상기 클리닝 롤의 회전에 의해 대전 롤에 접촉해서 상기 대전 롤을 대전하고, 상기 대전 롤은 화상을 담지하는 상담지체를 대전함- 과,
    상기 청소 부재가 상기 대전 롤에 접촉한 상태에서 상기 코어 재료를 회전 가능하게 지지하는 지지부와,
    상기 지지부에 의해 지지된 상기 코어 재료를 상기 대전 롤의 회전 중심과 상기 클리닝 롤의 회전 중심을 통과하는 직선 방향과는 다른 방향으로 이동 가능하게 안내하는 안내부를 포함하는 화상 형성 장치.
KR1020070029080A 2006-06-12 2007-03-26 클리닝 장치 및 화상 형성 장치 KR100868513B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006162604A JP4957086B2 (ja) 2006-06-12 2006-06-12 クリーニング装置及び画像形成装置
JPJP-P-2006-00162604 2006-06-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070118528A true KR20070118528A (ko) 2007-12-17
KR100868513B1 KR100868513B1 (ko) 2008-11-12

Family

ID=38822130

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070029080A KR100868513B1 (ko) 2006-06-12 2007-03-26 클리닝 장치 및 화상 형성 장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7616913B2 (ko)
JP (1) JP4957086B2 (ko)
KR (1) KR100868513B1 (ko)
CN (1) CN100501587C (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060177244A1 (en) * 2005-02-08 2006-08-10 Nitto Kogyo Co., Ltd. Image forming roller
JP4844154B2 (ja) * 2006-02-14 2011-12-28 富士ゼロックス株式会社 画像形成装置
JP5338055B2 (ja) * 2007-09-14 2013-11-13 株式会社リコー 帯電装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置
KR101499568B1 (ko) * 2008-08-27 2015-03-09 삼성전자주식회사 롤러, 그를 구비한 현상유닛 및 화상형성장치, 및 롤러의 제조방법
KR20100047675A (ko) * 2008-10-29 2010-05-10 삼성전자주식회사 피대전체용 대전부재 조립체 및 이를 구비한 화상형성장치용 대전장치
CN102053548B (zh) * 2009-10-29 2014-07-09 株式会社理光 带装置以及图像形成装置
JP2012098450A (ja) 2010-11-01 2012-05-24 Ricoh Co Ltd 帯電装置と、該帯電装置を備えるプロセスカートリッジ及び画像形成装置
US8503902B2 (en) 2011-04-29 2013-08-06 Eastman Kodak Company Electrophotographic printer with charging-roller cleaner
JP6056166B2 (ja) * 2012-03-26 2017-01-11 富士ゼロックス株式会社 帯電器、像形成構造体、および画像形成装置
JP6014796B2 (ja) * 2012-05-25 2016-10-26 コニカミノルタ株式会社 画像形成装置
JP5870911B2 (ja) * 2012-12-20 2016-03-01 株式会社沖データ 画像形成ユニット及び画像形成装置
US8913917B2 (en) 2013-01-22 2014-12-16 Xerox Corporation Systems and methods for cleaning bias charge roll surface in printing systems
JP6488670B2 (ja) * 2014-11-26 2019-03-27 富士ゼロックス株式会社 回転体の軸受部材、これを備えた感光体ユニット及び画像形成装置画像形成装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2847524B2 (ja) 1989-04-14 1999-01-20 キヤノン株式会社 帯電装置
JPH06282195A (ja) * 1993-03-25 1994-10-07 Toshiba Corp 画像形成装置の定着装置
JP3370406B2 (ja) * 1993-11-29 2003-01-27 日星電気株式会社 定着ローラのクリーニング装置
JPH08262891A (ja) * 1995-03-17 1996-10-11 Canon Inc 搬送装置、加熱装置、及び画像形成装置
JPH11109815A (ja) * 1997-09-29 1999-04-23 Sanyo Electric Co Ltd 画像形成装置
JP3017201B1 (ja) * 1998-12-22 2000-03-06 新潟日本電気株式会社 画像形成装置
JP3837003B2 (ja) 2000-02-23 2006-10-25 株式会社リコー 画像形成装置
JP3888675B2 (ja) * 2002-02-01 2007-03-07 株式会社リコー クリーニング装置及び該クリーニング装置を有する画像形成装置
US7245848B2 (en) * 2004-03-26 2007-07-17 Eastman Kodak Company Method and apparatus for discharging a conductive brush cleaning assembly for a transfer roller
JP4512421B2 (ja) * 2004-05-28 2010-07-28 京セラミタ株式会社 電子写真プロセスユニットと電子写真装置
JP4354348B2 (ja) * 2004-06-30 2009-10-28 株式会社リコー 帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP4418336B2 (ja) * 2004-09-28 2010-02-17 株式会社リコー プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP4682588B2 (ja) * 2004-11-10 2011-05-11 セイコーエプソン株式会社 帯電装置、画像形成装置
JP4264410B2 (ja) * 2004-11-30 2009-05-20 株式会社リコー 定着装置および画像形成装置
JP4715263B2 (ja) * 2005-03-25 2011-07-06 富士ゼロックス株式会社 クリーニング装置及びこれを用いたプロセスカートリッジ並びに画像形成装置
JP4039449B1 (ja) * 2006-08-29 2008-01-30 富士ゼロックス株式会社 クリーニング装置及びプロセスカートリッジ並びに画像形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4957086B2 (ja) 2012-06-20
JP2007333804A (ja) 2007-12-27
US20070286635A1 (en) 2007-12-13
CN100501587C (zh) 2009-06-17
US7616913B2 (en) 2009-11-10
CN101089744A (zh) 2007-12-19
KR100868513B1 (ko) 2008-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100868513B1 (ko) 클리닝 장치 및 화상 형성 장치
KR100840595B1 (ko) 화상 형성 장치
KR100887224B1 (ko) 화상 형성 장치
KR100862932B1 (ko) 클리닝 장치, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 장치
KR100840596B1 (ko) 화상 형성 장치
KR100846376B1 (ko) 화상 형성 장치
KR100866550B1 (ko) 클리닝 장치 및 화상 형성 장치
US7778573B2 (en) Image forming apparatus and process cartridge
KR101499147B1 (ko) 대전 장치, 대전 장치의 제조 방법, 프로세스 카트리지 및, 화상 형성 장치
JP4967480B2 (ja) クリーニング装置及び画像形成装置
JP2008090060A (ja) 帯電装置及び画像形成装置
JP5560876B2 (ja) ベルト装置及び画像形成装置
JP2007127807A (ja) 画像形成装置
JP2007171381A (ja) クリーニング装置
JP2007199326A (ja) 画像形成装置
JP5114851B2 (ja) 画像形成装置
JP2007163745A (ja) 画像形成装置及び帯電装置
JP2007199325A (ja) クリーニングロール及び画像形成装置
JP2009145768A (ja) 帯電装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置
JP2009294595A (ja) 帯電装置及びそれを有するプロセスカートリッジ、並びに、その帯電装置又はそのプロセスカートリッジを有する画像形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121023

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131022

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141021

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151016

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161020

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171018

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181023

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191017

Year of fee payment: 12