KR20070112058A

KR20070112058A - 처리액공급 장치 및 처리액공급 방법 및 처리액공급용 제어프로그램의 기록매체

Info

Publication number: KR20070112058A
Application number: KR1020070048724A
Authority: KR
Inventors: 준야 미나미다; 타카히로 오쿠보
Original assignee: 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 2006-05-19
Filing date: 2007-05-18
Publication date: 2007-11-22
Also published as: US20070269207A1; JP4697882B2; JP2007311603A; US7918242B2; KR101176242B1

Abstract

처리액저장 용기 (1)과 리저버 탱크 (5)와 접속하는 제1의 처리액공급 관로에 액압센서 (10)과 제1의 개폐밸브 (V1)을 개설해 처리액저장 용기와 가압 수단인 N2가스 공급원 (3)을 접속하는 주가압 관로 (2)에 전공레귤레이터 (20)을 설치하고, 리저버 탱크와 N2가스 공급원을 접속하는 보조 가압 관로 (9)에, 가압용 개폐밸브 (V3)을 개설한다. 액압센서에 의해 검지된 액압의 신호를 받아 상기 검지 신호에 근거해 전공레귤레이터의 가압측 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어 함과 동시에, 조정하는 압력값과 액압센서로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액없음을 판정하고 가압용 개폐밸브와 제1의 개폐밸브 (V1)을 변경 제어하는 제어부 (30)을 설치하는 처리액을 액압 일정하게 공급해 처리 정밀도의 향상을 도모하고 단일의 처리액저장 용기의 교환을 실시할 수가 있어 처리액저장 용기가 비워져 있어도 처리를 멈추는 경우 없이 지속하여 처리액에 의한 연속 처리를 실시할 수 있도록 하는 기술을 제공한다.

Description

처리액공급 장치 및 처리액공급 방법 및 처리액공급용 제어 프로그램의 기록매체{PROCESSING LIQUID SUPPLY DEVICE AND PROCESSING LIQUID SUPPLY METHOD AND STORAGE MEDIUM OF CONTROL PROGRAM FOR SUPPLYING PROCESSING LIQUID}

도 1은 본 발명과 관련되는 처리액공급 장치의 제1 실시 형태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 2는 상기 처리액공급 장치에 있어서의 신규 처리액의 기포 뽑는 동작 상태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 3은 상기 처리액공급 장치에 있어서의 통상 처리 동작 상태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 4는 상기 처리액공급 장치에 있어서의 처리액의 액압을 일정하게 제어하는 동작 상태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 5는 상기 처리액공급 장치에 있어서의 리저버 탱크내의 처리액을 가압해 공급하는 동작 상태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 6은 상기 처리액공급 장치에 있어서의 처리액저장 용기내의 처리액이 빈 상태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 7은 상기 처리액공급 장치에 있어서의 처리액저장 용기의 교환 동작 상태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 8은 상기 처리액공급 장치에 있어서의 처리액저장 용기의 교환 후의 기포 뽑는 동작 상태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 9는 본 발명과 관련되는 처리액공급 장치의 제2 실시 형태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 10은 본 발명과 관련되는 처리액공급 장치의 제3 실시 형태를 나타내는 개략 단면도이다.

도 11은 본 발명과 관련되는 처리액공급 장치를 적용한 레지스트액 도포·현상 처리 시스템의 일례를 나타내는 개략 평면도이다.

도 12는 상기 레지스트액 도포·현상 처리 시스템의 개략 정면도이다.

도 13은 상기 레지스트액 도포·현상 처리 시스템의 개략 배면도이다.

도 14는 상기 레지스트액 도포·현상 처리 시스템에 있어서의 도포 유니트를 나타내는 개략 단면도이다.

**주요부위를 나타내는 도면부호의 설명**

1 처리액저장 용기

1a 내용기

1b 외 용기

1c 가압 공간

2 주가압 관로

3 N2가스 공급원(가압 수단)

4 제1의 처리액공급 관로

5 리저버 탱크(일시 저장 용기)

6 제2의 처리액공급 관로

7 배기관로

9 보조 가압 관로

10, 10A 액압센서(액압 검지 수단)

20, 20A 전공 레귤레이터(압력 조정 수단)

30 제어부(제어 수단)

50 광 센서(처리액검지 수단)

61 잔량 액면센서(잔량 액면검출 수단)

62 하한 액면센서(하한 액면검출 수단)

70 알람 표시부(알람 수단)

81 도포액공급 노즐(처리액공급 노즐)

90 제어 컴퓨터

91 입출력부

92 표시부

93 기록 매체

L 처리액

V1 제1의 개폐밸브

V2 제2의 개폐밸브

본 발명은 예를 들면 반도체 웨이퍼나 LCD 유리 기판등의 피처리 기판에 레지스트액이나 현상액등의 처리액을 공급하는 처리액공급 장치 및 처리액공급 방법 및 처리액공급용 제어 프로그램에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 디바이스의 제조에 있어서는 반도체 웨이퍼나 LCD 유리 기판등 (이하에 웨이퍼등이라고 한다) 위에 IT0 (Indium ℃in 0xide)의 박막이나 전극 패턴을 형성하기 위해서 포트리소그래피 기술이 이용되고 있다. 이 포트리소그래피 기술에 있어서는 웨이퍼등에 포토레지스트를 도포해, 이것에 의해 형성된 레지스트막을 소정의 회로 패턴에 따라 노광하고 상기 노광 패턴을 현상 처리함으로써 레지스트막에 회로 패턴이 형성되고 있다.

이러한 포트리소그래피공정에 있어서 레지스트액이나 현상액등의 처리액을 웨이퍼등에 공급하는 장치로서 처리액을 저장하는 용기로부터 처리액을 가압해 공급하는 방법이나 공급 관로에 개설된 펌프에서 흡인해 공급하는 처리액공급 장치가 사용되고 있다.

이런 종류의 처리액공급 장치에는 처리액이 저장된 복수의 처리액저장 용기와 처리액공급 노즐을 접속하는 공급 관로에 전환 밸브를 설치하고, 처리액저장 용기로부터 인도된 처리액을 일시 저장하는 일시 저장 용기를 설치하고 상기 일시 저장 용기에 액면검지 센서와 공기빼기 기구를 가지는 배기관로를 구비하는 구조의 것이 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).

상기 처리액공급 장치에 의 하면 액면검지 센서로부터의 검지 신호를 받은 제어 수단에 의해 전환 밸브를 새로 바꾸는 것으로 빈 처리액저장 용기를 새로운 처리액저장 용기로 교환할 수가 있으므로 웨이퍼등을 연속 처리할 수가 있다.

또, 일시 저장 용기에 액면검지 센서를 설치하는 대신에 처리액저장 용기에 접속하는 처리액공급 관로에 처리액저장 용기내의 처리액의 빈 상태를 검지하는 센서를 설치한 처리액공급 장치도 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 2 참조).

[특허 문헌 1] 일본국 특개 2002-246306호 공보(특허 청구의 범위, 도 2)

[특허 문헌 2] 일본국 특개 2004-128441호 공보(단락 번호 007, 도 3)

그런데, 이런 종류의 처리액공급 장치에 있어서는 처리액의 공급이 일정한 상태 즉 일정한 액압으로 공급하는 것이 중요하다.

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그렇지만, 가압 수단으로부터의 가압에 의해 처리액저장 용기내의 처리액을 처리액공급 노즐에 공급하는 가압 공급 방식에 있어서는, 처리액저장 용기내의 처리액잔량의 감소에 의해 액압이 내려가 액압 일정하게 공급을 할 수 없다고 하는 문제가 있었다.

또, 가압 공급 방식에 있어서는 처리액공급 용기를 교환할 때에 처리액의 공급을 할 수 없게 된다는 문제도 있다. 이 문제를 해결하는 수단으로서 일본국 특개 2002-246306호 공보 및 일본국 특개2004-128441호 공보에 기재와 같이 복수의 처리액저장 용기에 절환 수단을 개재하여 일시 저장 용기를 접속하는 구조가 생각되지만 이 구조에 있어서는 각 처리액공급 용기에 가압 수단을 접속하는 가압 경로 를 설치함과 동시에 가압 경로에 절환 수단을 설치할 필요가 있어 구조가 복잡하게 되는데다 장치가 대형화한다고 하는 문제가 있다.

본 발명은 상기 사정에 비추어 이루어진 것으로 가압 수단으로부터의 가압에 의해 처리액 저장 용기내의 처리액을 처리액 공급 노즐에 공급하는 가압 공급 방식에 있어서 처리액의 잔량에 영향을 받는 경우 없이 처리액을 액압 일정하게 공급해 처리 정밀도의 향상을 도모하고, 또 단일의 처리액저장 용기의 교환을 실시할 수가 있어 처리액저장 용기가 비워있어도 처리를 멈추는 경우 없이 지속하여 처리액에 의한 연속 처리를 실시할 수 있도록 한 처리액공급 장치 및 처리액공급 방법 및 처리액공급용 제어 프로그램의 기록매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해서 본 발명의 처리액공급 장치는 처리액이 저장된 처리액저장 용기와, 상기 처리액저장 용기를 가압해 처리액을 압송하는 가압 수단과 제1의 처리액공급 관로를 개재하여 상기 처리액저장 용기에 접속되고 처리액저장 용기로부터 압송된 처리액을 일시 저장하는 일시 저장 용기와, 상기 일시 저장 용기로부터 처리액공급 노즐로 향하는 유로인 제2의 처리액공급 관로를 구비하는 처리액공급 장치로서 상기 제 1의 처리액공급 관로에 개설되어 상기 처리액저장 용기의 액압을 검지하는 액압 검지 수단과 상기 제 1의 처리액공급 관로에 설치되는 제1의 개폐밸브와 상기 처리액저장 용기와 가압 수단을 접속하는 주가압 관로에 설치되는 가변 조정 가능한 압력 조정 수단과 상기 일시 저장 용기와 가압 수단을 접속해 가압하는 보조 가압 관로에 설치되는 가압용 개폐밸브와 상기 액압 검지 수 단에 의해 검지된 액압의 신호를 받아 그 검지 신호에 근거해 상기 압력 조정 수단의 가압측 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어함과 동시에 상기 조정하는 압력값과 상기 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값의 압력값차이로부터 처리액없음을 판정하고 상기 가압용 개폐밸브와 상기 제 1의 처리액공급 관로에 설치되는 제1의 개폐밸브를 변경 제어하는 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로하는 것으로 한다(청구항 1). 이 경우 상기 처리액저장 용기에 처리액을 저장하는 수축 자유로운 내용기와 가압 공간을 개재하여 상기 내용기를 내장하고 압력을 유지하는 외용기의 이중구조의 것을 사용할 수가 있다(청구항 2).

상기와 같이 구성함으로써 액압 검지 수단에 의해 처리액저장 용기의 액압을 검지하고 상기 검지신호를 제어 수단에 의해 압력 조정 수단에 피드백하고, 압력 조정 수단의 가압측 압력을 일정하게 제어할 수가 있어 처리액의 공급을 상시 일정 상태로 할 수 있다. 또, 처리액저장 용기내의 처리액이 빈 상태가 되어 교환하는 경우에 있어서도 처리액저장 용기를 복수 설치하는 경우 없이 처리액저장 용기의 교환을 할 수 있고 또 일시 저장 용기내의 처리액을 직접 가압해 처리액공급 노즐에 공급할 수가 있으므로 처리액의 연속 공급을 가능하게 할 수가 있다.

또, 처리액저장 용기를 처리액을 저장하는 수축 자유로운 내용기와 가압 공간을 개재하여 내용기를 내장하고, 압력을 유지하는 외용기와의 이중구조로 함으로써 가압 유체의 처리액으로 녹아 들어가는 것을 방지할 수가 있다(청구항 2).

본 발명에 있어서 상기 보조 가압 관로는 가압 수단과 제1의 처리액공급 관로에 있어서의 제1의 개폐밸브의 하류측에 접속되고 있어도 좋고 (청구항 3), 혹은 보조 가압 관로는 가압 수단과 일시 저장 용기의 상부에 접속되는 폐액 관로에 접속되고 있어도 괜찮다(청구항 4). 보조 가압 관로를 가압 수단과 제1의 처리액공급 관로에 있어서의 제1의 개폐밸브의 하류 측에 접속하는 경우는 일시 저장 용기의 액압을 검지하는 액압 검지 수단을 가압용 개폐밸브의 하류 측에 설치하고 가압용 개폐밸브의 상류 측에 가변 조정 가능한 압력 조정 수단을 설치하고, 액압 검지 수단에 의해 검지된 액압신호를 받아 그 검지 신호에 근거해 압력 조정 수단의 가압측 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어하는 제어 수단을 구비하는 편이 바람직하다(청구항 7).

이와 같이 구성함으로써 가압 수단으로부터의 가압을 제1의 처리액공급 관로 혹은 폐액 관로를 개재하여 일시 저장 용기내의 처리액에 가압해 처리액공급 노즐에 공급할 수가 있어 처리액의 연속 공급을 가능하게 할 수가 있다. 이 경우 가압 수단과 폐액 관로를 접속함으로써 폐액 관로를 가압할 수가 있으므로, 폐액 관로에 흐른 처리액을 일시 저장 용기내에 되돌릴 수가 있어 처리액의 재이용을 도모할 수가 있다. 또, 액압 검지 수단에 의해 일시 저장 용기의 액압을 검지하고 이 검지신호를 제어 수단에 의해 압력 조정 수단에 피드백 해 압력 조정 수단의 가압측 압력을 일정하게 제어할 수가 있어 처리액의 공급을 상시 일정 상태로 할 수 있다(청구항 7).

또, 청구항 5 기재의 발명은 상기 일시 저장 용기의 상부에 접속되는 폐액 관로에 상기 폐액 관로안의 처리액을 검지하는 처리액검지 수단을 설치하고 상기 처리액검지 수단에 의해 검지된 신호를 받아 상기 검지 신호에 근거해 상기 폐액 관로에 설치되는 폐액용 개폐밸브를 개폐 제어하는 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

상기와 같이 구성함으로써, 처리액저장 용기의 교환 후의 제1의 처리액공급 관로내에 잔존하는 기포를 폐액 관로로부터 대기 측에 배출한 후에 폐액 관로에 개설된 폐액용 개폐밸브를 닫아 처리액의 공급을 실시할 수가 있다. 따라서, 처리액저장 용기의 교환 후의 처리액안에 포함되는 공기의 기포뽑기 동작 및 처리액의 공급을 자동적으로 실시할 수가 있다.

또, 본 발명의 처리액공급 장치에 있어서 상기 액압검출 수단은 상기 처리액저장 용기와 상기 제 1의 개폐밸브의 사이에 설치되는 편이 좋다(청구항 6).

또, 청구항 8 기재의 발명은 청구항 1 내지 6중 어느 한 항 기재의 처리액공급 장치에 있어서 상기 제어 수단으로부터의 신호를 받아 알람을 출력하는 알람 수단을 더 구비하고 상기 제어 수단은 상기 처리액 없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방하고 가압 수단으로부터의 가압에 의해 일시 저장 용기를 가압해 처리액공급 노즐로부터 토출되는 처리액에 의한 피처리 기판의 액처리를 지속하고, 또한 비어져 있는 처리액 저장 용기의 교환 요구의 알람 신호를 상기 알람 수단에 전달하고 알람 수단으로부터 알람을 출력하는 것을 특징으로 한다.

이와 같이 구성함으로써 처리액저장 용기가 비어져 있는 상태를 알람 수단에 의해 알릴 수가 있어 처리액저장 용기의 교환을 확실히 할 수가 있다.

또, 청구항 9 기재의 발명은 청구항 1 내지 8중 어느 한항에 기재의 처리액 공급 장치에 있어서, 상기 일시 저장 용기에 저장되는 처리액의 액면의 위치를 검출하는 액면검출 수단을 더 구비하고, 상기 액면검출 수단은 처리액이 상기 일시 저장 용기의 하한 위치인 것을 검출하는 하한 액면검출 수단과 처리액공급 노즐로부터 피처리 기판에 토출되어 액처리되는 소정의 처리 회수분이 저장되는 처리액의 잔량 위치를 검출하는 잔량 액면검출 수단을 구비하고 상기 제어 수단은 상기 하한 액면검출 수단 및 잔량 액면검출 수단으로부터의 검출 신호를 받아 상기 잔량 액면검출 수단이 처리액의 잔량 위치를 검출했을 때에 처리액이 잔량에 이른 것을 경고 하는 알람 신호를 알람 수단에 전달하고, 알람 수단으로부터 알람을 출력하는 것을 특징으로 한다.

이 경우 상기 제어 수단에 상기 소정의 처리 회수를 설정 해 두어, 상기 잔량 액면검출 수단에 의해 잔량 액면검출 위치가 검출된 후 상기 처리 회수분의 실행이 종료했을 때에 그 취지를 알리는 알람 신호를 알람 수단에 전달하고 알람 수단으로부터 알람을 출력하는 편이 바람직하다(청구항 10). 또, 상기 제어 수단에 의해 상기 하한 액면검출 수단이 처리액의 하한 위치를 검출했을 때에 처리액공급 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시키는 편이 바람직하다(청구항 11). 또, 상기 제어 수단에 의해 신규의 처리액저장 용기가 교환되어 교환 요구의 알람이 해제되었을 때에 가압용 개폐밸브를 닫음과 동시에 제1의 개폐밸브를 개방해 압력 조정 수단에 가압 신호를 출력해 일시 저장 용기내에 처리액을 공급하는 편이 바람직하다(청구항 12).

이와 같이 구성함으로써 하한 액면검출 수단과 잔량 액면검출 수단에 의해, 일시 저장 용기내의 처리액의 저장량을 감시할 수 있어 처리액저장 용기가 비어진 후의 액처리 지속을 실시하면서 신규 처리액저장 용기의 교환을 실시할 수가 있다(청구항 9). 이 경우, 잔량 액면검출 위치가 검출된 시점에서 일시 저장 용기내의 처리액이 처리액공급 노즐로부터 피처리 기판에 토출되어 액처리되는 소정의 처리 회수분이 저장되고 있는 것을 검지할 수가 있다. 그리고, 잔량 액면검출 위치가 검출한 후 처리 회수분의 실행이 종료했을 때에 그 취지를 알리는 알람을 출력함으로써 교환된 신규 처리액저장 용기로부터 일시 저장 용기내로의 처리액의 공급을 재촉할 수가 있다(청구항 10). 또, 하한 액면검출 수단이 처리액의 하한 위치를 검출했을 때에 처리액공급 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시키는 것으로 액처리안의 처리액의 정지를 미연에 방지할 수가 있어 피처리 기판의 데미지를 방지할 수가 있다(청구항 11). 또, 신규의 처리액저장 용기가 교환되어 교환 요구의 알람이 해제되었을 때에 가압용 개폐밸브를 닫음과 동시에 제1의 개폐밸브를 개방하고 압력 조정 수단에 가압 신호를 출력하고 일시 저장 용기내에 처리액을 공급함으로써 신규의 처리액저장 용기로부터 일시 저장 용기에 처리액을 자동적으로 공급할 수가 있다(청구항 12).

또, 청구항 13 기재의 발명은 청구항 1 내지 6중 어느 한항에 기재의 처리액공급 장치를 이용한 처리액공급 방법으로서 상기 액압 검지 수단이 액압의 저하를 검지했을 때에 압력 조정 수단의 가압 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어하고 조정하는 압력값과 상기 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액 없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브 를 개방해 가압 수단으로부터의 가압에 의해 일시 저장 용기내의 처리액을 처리액공급 노즐에 압송하는 것을 특징으로 한다.

또, 청구항 14 기재의 발명은 청구항 8 기재의 처리액공급 장치를 이용한 처리액공급 방법으로서 처리액 없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방하고, 일시 저장 용기를 가압해 처리액공급 노즐로부터 토출되는 처리액에 의한 피처리 기판의 액처리를 지속하고 또한, 비어진 처리액저장 용기의 교환 요구의 알람을 출력하는 것을 특징으로 한다.

또, 청구항 15 기재의 발명은 청구항 9 내지 12중 어느 한항에 기재의 처리액공급 장치를 이용한 처리액공급 방법으로서 잔량 액면검출 수단이 처리액의 잔량 위치를 검출했을 때에 처리액이 잔량에 이른 것을 경고 하는 알람을 출력하고 상기 잔량 액면검출 수단에 의해 잔량 액면검출 위치가 검출된 후 제어 수단으로 설정된 처리 회수분의 실행이 종료했을 때에 그 취지를 알리는 알람을 출력하고 하한 액면검출 수단이 처리액의 하한 위치를 검출했을 때에 처리액공급 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시켜 신규의 처리액저장 용기가 교환되어 교환 요구의 알람이 해제되었을 때에 가압용 개폐밸브를 닫음과 동시에 제1의 개폐밸브를 개방해 압력 조정 수단에 가압 신호를 출력하고 일시 저장 용기내에 처리액을 공급하는 것을 특징으로 한다.

또, 청구항 16 기재의 발명은 청구항 13 기재의 처리액공급 방법을 실행하는 제어 프로그램의 기록매체로서 컴퓨터에 액압 검지 수단이 액압의 저하를 검지했을 때에, 압력 조정 수단의 가압 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어하는 순 서와, 조정하는 압력값과 상기 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액 없음을 판정하는 순서와, 상기 처리액 없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방해 가압 수단으로부터의 가압에 의해 일시 저장 용기내의 처리액을 처리액공급 노즐에 압송하는 순서를 실행시키는 것을 특징으로 한다.

또, 청구항 17 기재의 발명은 청구항 14 기재의 처리액공급 방법을 실행하는 제어 프로그램의 기록매체로서 컴퓨터에 조정하는 압력값과 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액 없음을 판정하는 순서와 상기 처리액없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방하는 순서와 일시 저장 용기를 가압해 처리액공급 노즐로부터 토출되는 처리액에 의한 피처리 기판의 액처리를 지속하는 순서와 비어진 처리액저장 용기의 교환 요구의 알람을 출력하는 순서를 실행시키는 것을 특징으로 한다.

또, 청구항 18 기재의 발명은 청구항 15 기재의 처리액공급 방법을 실행하는 제어 프로그램의 기록매체로서 컴퓨터에 잔량 액면검출 수단이 처리액의 잔량 위치를 검출했을 때에 처리액이 잔량에 이른 것을 경고 하는 알람을 출력하는 순서와 상기 잔량 액면검출 수단에 의해 잔량 액면검출 위치가 검출된 후 제어 수단으로 설정된 처리 회수분의 실행이 종료했을 때에 그 취지를 알리는 알람을 출력하는 순서와 하한 액면검출 수단이 처리액의 하한 위치를 검출했을 때에 처리액공급 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시키는 순서와 신규의 처리액저장 용기가 교환되어 교환 요구의 알람이 해제되었을 때에 가압용 개폐밸브를 닫음과 동시에, 제1의 개 폐밸브를 개방해 압력 조정 수단에 가압 신호를 출력하고 일시 저장 용기내에 처리액을 공급하는 순서를 실행시키는 것을 특징으로 한다.

이하에 본 발명의 최선의 실시 형태를 첨부 도면에 근거해 상세하게 설명한다. 여기에서는 본 발명과 관련되는 처리액공급 장치를 반도체 웨이퍼의 레지스트액 도포·현상 처리 시스템에 적용한 경우에 대해서 설명한다.

상기 레지스트액 도포·현상 처리 시스템은, 도 11 내지 도 13에 나타나는 바와 같이 피처리 기판인 반도체 웨이퍼(W)(이하에 웨이퍼(W)라고 한다)를 웨이퍼 카셋트 (101)로 복수매 예를들면 25매 단위로 외부로부터 시스템에 반입 또는 시스템으로부터 반출하거나 웨이퍼 카셋트 (101)에 대해서 웨이퍼(W)를 반출·반입하거나하기 위한 반입부 및 반출부로서 기능하는 카셋트 스테이션 (110)과 도포 현상 공정 중에서 1매씩 웨이퍼(W)에 소정의 처리를 가하는 매엽식의 각종 처리 유니트를 소정 위치에 다단 배치하여 이루어지는 처리 장치 본체를 구비하는 처리 스테이션 (120)과 상기 처리 스테이션 (120)과 인접해 설치되는 노광 장치(도시하지 않음)의 사이에 웨이퍼(W)를 수수하기 위한 인터페이스부 (130)으로 주요부가 구성되고 있다.

상기 카셋트 스테이션 (110)은 도 11에 나타나는 바와 같이 카셋트 재치대 (102)상의 돌기 (103)의 위치에 복수개 예를 들면 4개까지의 웨이퍼 카셋트 (101)이 각각의 웨이퍼 출입구를 처리 스테이션 (120) 측에 향하여 수평의 X방향을 따라 일렬로 재치되어 카셋트 배열 방향(X방향) 및 웨이퍼 카세트 (101)내에 수직 방향 을 따라 수용된 웨이퍼(W)의 웨이퍼 배열 방향(Z방향)으로 이동 가능한 웨이퍼 반송용 핀셋 (104)가 각 웨이퍼 카셋트 (101)에 선택적으로 반송하도록 구성되고 있다. 또, 웨이퍼 반송용 핀셋 (104)는 θ방향으로 회전 가능하게 구성되고 있고 후술하는 처리 스테이션 (120)측의 제3의 조 (G3)의 다단 유니트부에 속하는 얼라인먼트유니트(ALIM) 및 익스텐션 유니트(EXT)에도 반송할 수 있게 되어 있다.

상기 처리 스테이션 (120)은 도 11에 나타나는 바와 같이 중심부에 반송 수단인 수직 반송형의 주웨이퍼 반송 기구 (121)이 설치되고 상기 주웨이퍼 반송 기구 (121)을 수용하는 실 (122)의 주위에 모든 처리 유니트가 1조 또는 복수의 조에 걸쳐서 다단으로 배치되고 있다. 이 예에서는 5조 (G1, G2, G3, G4) 및 (G5)의 다단 배치 구성이고 제 1 및 제2의 조 G1, G2의 다단 유니트는 시스템 정면 측에 병렬되고 제3의 조 (G3)의 다단 유니트는 카셋트 스테이션 (110)에 인접해 배치되고 제4의 조 (G4)의 다단 유니트는 인터페이스부 (130)에 인접해 배치되고 제5의 조 (G5)의 다단 유니트는 배후부측에 배치되고 있다.

이 경우, 도 12에 나타나는 바와 같이 제1의 조 (G1)에서는 용기로서의 처리 컵 (123)내에서 웨이퍼(W)를 스핀척(도시하지 않음)에 재치해 소정의 처리를 실시하는 레지스트 도포 유니트(COT)와 웨이퍼(W)와 현상액공급수단(미도시)를 대치시켜 레지스트패턴을 현상하는 현상유니트(DEV)가 수직 방향아래로부터 차례로 2단으로 겹쳐져 있다. 제2의 조 (G2)도 동일하게 레지스트 도포 유니트(COT) 및 현상 유니트(DEV)가 수직 방향아래로부터 차례로 2단으로 겹쳐져 있다. 이와 같이 레지스트 도포 유니트(COT)를 하단측에 배치한 이유는 레지스트액의 배액이 기구적으로도 메인터넌스에서도 번거롭기 때문이다. 그러나 필요에 따라서 레지스트 도포 유니트(COT)를 상단에 배치하는 것도 가능하다.

도 13에 나타나는 바와 같이 제3의 조 (G3)에서는 웨이퍼(W)를 웨이퍼 재치대 (124 ,도 11 참조)에 재치해 소정의 처리를 실시하는 오븐형의 처리 유니트 예를 들면 웨이퍼(W)를 냉각하는 쿨링 유니트(COL), 웨이퍼(W)에 소수화 처리를 실시하는 애드히젼유니트(AD), 웨이퍼(W)의 위치 맞춤을 실시하는 얼라인먼트유니트(ALIM), 웨이퍼(W)의 반입출을 실시하는 익스텐션 유니트(EXT), 웨이퍼(W)를 베이크하는 4개의 핫 플레이트 유니트(HP)가 수직 방향아래로부터 차례로 예를 들면 8단으로 겹쳐져 있다. 제4의 조 (G4)도 동일하게 오븐형 처리 유니트 예를 들면 쿨링유니트(COL), 익스텐션·쿨링유니트(EXTCOL), 익스텐션 유니트(EXT), 쿨링유니트(COL), 급냉 기능을 가지는 2개의 냉동 핫 플레이트 유니트 (CHP) 및 2개의 핫 플레이트 유니트(HP)가 수직 방향아래로부터 차례로 예를 들면 8단에 겹쳐져 있다.

상기와 같이 처리 온도가 낮은 쿨링 유니트(COL), 익스텐션·쿨링 유니트(EXTCOL)를 하단에 배치하고 처리 온도가 높은 핫 플레이트 유니트(HP), 냉동 핫 플레이트 유니트(CHP) 및 애드히젼유니트(AD)를 상단에 배치하는 것으로 유니트간의 열적인 상호 간섭을 줄일 수가 있다. 물론 랜덤인 다단 배치로 하는 것도 가능하다.

또한 도 11에 나타나는 바와 같이 처리 스테이션 (120)에 있어서 제 1및 제2의 조 (G1, G2)의 다단 유니트(스피너형 처리 유니트)에 인접하는 제 3 및 제4의 조 (G3, G4)의 다단 유니트(오븐형 처리 유니트)의 측벽안에는, 각각 덕트 (125, 126)이 수직 방향으로 종단해 설치되고 있다. 이들의 덕트 (125, 126)에는 다운 플로우의 청정 공기 또는 특별히 온도 조정된 공기가 흐르도록 되어 있다. 상기 덕트 구조에 의해 제 3 및 제4의 조 (G3, G4)의 오븐형 처리 유니트로 발생한 열은 차단되고 제 1 및 제2의 조 (G1, G2)의 스피너형 처리 유니트에는 미치지 않게 되어 있다.

또, 상기 처리 시스템에서는 주웨이퍼 반송 기구 (121)의 배후부측에도 도 11에 점선으로 나타나는 바와 같이 제5의 조 (G5)가 다단 유니트를 배치할 수 있게 되어 있다. 이 제5의 조 (G5)의 다단 유니트는 안내 레일 (127)을 따라 주웨이퍼 반송 기구 (121)으로부터 볼때 측쪽으로 이동할 수 있게 되어 있다. 따라서, 제5의 조 (G5)의 다단 유니트를 설치한 경우에서도 유니트를 슬라이드 함으로써 공간부가 확보되므로 주웨이퍼 반송 기구 (121)에 대해서 배후로부터 메인터넌스 작업을 용이하게 실시할 수가 있다.

상기 인터페이스부 (130)은 깊이 방향으로는 처리 스테이션 (120)과 같은 치수를 가지지만 폭방향으로는 작은 사이즈로 만들어지고 있다. 본 인터페이스부 (130)의 정면부에는 가반성의 픽업 카셋트 (131)과 정치형의 버퍼 카셋트 (132)가 2단으로 배치되고 배후면부에는 웨이퍼(W)의 주변부의 노광 및 식별 마크 영역의 노광을 실시하는 노광 수단인 주변 노광 장치 (133)이 설치되고 중앙부에는, 반송 수단인 웨이퍼의 반송 아암 (134)가 배치하여 설치되고 있다. 본 반송 아암 (134)는 X, Z방향으로 이동해 양 카셋트 (131, 132) 및 주변 노광 장치 (133)에 반송하도록 구성되고 있다. 또, 반송 아암 (134)는 θ방향으로 회전 가능하게 구성되어 처리 스테이션 (120)측의 제4의 조 (G4)의 다단 유니트에 속하는 익스텐션 유니트(EXT) 및 인접하는 노광 장치측의 웨이퍼 수수대(도시하지 않음)에도 반송할 수 있도록 구성되고 있다.

상기와 같이 구성되는 처리 시스템은 클린 룸 (140)내에 설치되지만 또한 시스템내에서도 효율적인 수직층 흐름 방식에 의해 각부의 청정도를 높이고 있다.

다음에 상기 레지스트액 도포·현상 처리 시스템의 동작에 대해서 설명한다.

우선, 카셋트 스테이션 (110)에 있어서 웨이퍼 반송용 핀셋 (104)가 카셋트 재치대 (102)상의 미처리의 웨이퍼(W)를 수용하고 있는 카셋트 (101)에 액세스하고, 상기 카셋트 (101)에서 1매의 웨이퍼(W)를 꺼낸다. 웨이퍼 반송용 핀셋 (104)는 카셋트 (101)에서 웨이퍼(W)를 꺼내면 처리 스테이션 (120)측의 제3의 조 (G3)의 다단 유니트내에 배치되고 있는 얼라인먼트유니트(ALIM)까지 이동하고 유니트 (ALIM) 내의 웨이퍼 재치대 (124)상에 웨이퍼(W)를 싣는다. 웨이퍼(W)는, 웨이퍼 재치대 (124)상에서 오리엔테이션 플랫 얼라이너(orientation flat aligner) 및 센터링을 받는다. 그 후, 주웨이퍼 반송 기구 (121)이 얼라인먼트유니트(ALIM)에 반대측으로부터 액세스하고 웨이퍼 재치대 (124)로부터 웨이퍼(W)를 수취한다.

처리 스테이션 (120)에 있어서 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 최초에 제3의 조 (G3)의 다단 유니트에 속하는 애드히젼유니트(AD)에 반입한다. 본 애드히젼닛트(AD) 내에서 웨이퍼(W)는 소수화 처리를 받는다. 소수화 처리가 종료하면 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 애드히젼유니트(AD)로부터 반출하고 다음에 제3의 조 (G3) 또는 제4의 조 (G4)의 다단 유니트에 속하는 쿨링유니 트(COL)에 반입한다. 본 쿨링 유니트(COL) 내에서 웨이퍼(W)는 레지스트 도포 처리전의 설정 온도 예를 들면 23 ℃까지 냉각된다. 냉각 처리가 종료하면 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 쿨링 유니트(COL)로부터 반출하고 다음에 제1의 조 (G1) 또는 제2의 조 (G2)의 다단 유니트에 속하는 레지스트 도포 유니트(COT)에 반입한다. 본 레지스트 도포 유니트(COT) 내에서 웨이퍼(W)는 스핀 코트법에 의해 웨이퍼 표면에 동일한 막두께로 레지스트를 도포한다.

레지스트 도포 처리가 종료하면 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 레지스트 도포 유니트(COT)로부터 반출하고 다음에 핫 플레이트 유니트(HP)내로 반입한다. 핫 플레이트 유니트(HP) 내에서 웨이퍼(W)는 재치대상에 재치되고 소정 온도 예를 들면 100℃로 소정 시간 프리베이크 처리된다. 이것에 의해, 웨이퍼(W)상의 도포막으로부터 잔존 용제를 증발 제거할 수가 있다. 프리베이크가 종료하면 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 핫 플레이트 유니트(HP)로부터 반출하고 다음에 제4의 조 (G4)의 다단 유니트에 속하는 익스텐션·쿨링 유니트(EXTCOL)에 반송한다. 본 유니트(EXTCOL) 내에서 웨이퍼(W)는 다음 공정 즉 주변 노광 장치 (133)에서의 주변 노광 처리에 적절한 온도 예를 들면 24 ℃까지 냉각된다. 본 냉각 후, 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 바로 위의 익스텐션 유니트(EXT)에 반송하고, 본 유니트(EXT)내의 재치대(도시하지 않음) 위에 웨이퍼(W)를 재치한다. 본익스텐션 유니트(EXT)의 재치대상에 웨이퍼(W)가 재치되면 인터페이스부 (130)의 반송 아암 (134)가 반대측으로부터 액세스해 웨이퍼(W)를 수취한다. 그리고, 반송 아암 (134)는 웨이퍼(W)를 인터페이스부 (130)내의 주변 노광 장치 (133)에 반입한 다.

노광 장치로 전면 노광이 끝나 웨이퍼(W)가 노광 장치측의 웨이퍼 수취대에 되돌려지면, 인터페이스부 (130)의 반송 아암 (134)는 상기 웨이퍼 수취대로 엑세스 해 웨이퍼(W)를 수취하고, 수취한 웨이퍼(W)를 처리 스테이션 (120)측의 제4의 조 (G4)의 다단 유니트에 속하는 익스텐션 유니트(EXT)으로 반입하고, 웨이퍼 수취대상에 재치한다. 본 경우에도, 웨이퍼(W)는 처리 스테이션 (120)측으로 인도받기 전에 인터페이스부 (130)내의 버퍼 카셋트 (132)에 일시적으로 수납되는 경우도 있다.

웨이퍼 수취대상에 재치된 웨이퍼(W)는 주웨이퍼 반송 기구 (121)에 의해, 냉동 핫 플레이트 유니트(CHP)에 반송되고 후린지의 발생을 방지하기 위해 혹은 화학 증폭형 레지스트(CAR)에서의 산촉매 반응을 야기 하기 위한 포스트익스포져 베이크 처리가 실시된다.

그 후, 웨이퍼(W)는 제1의 조 (G1) 또는 제2의 조 (G2)의 다단 유니트에 속하는 현상 유니트(DEV)에 반입된다. 본 현상 유니트(DEV)내에서는 웨이퍼(W)표면의 레지스트에 현상액이 일률적으로 공급되어 현상 처리가 실시된다. 본 현상 처리에 의해 웨이퍼(W)표면에 형성된 레지스트막이 소정의 회로 패턴으로 현상됨과 동시에 웨이퍼(W)의 주변부의 잉여 레지스트막이 제거되고 또한, 웨이퍼(W)표면에 형성된(실시된) 실시 얼라인먼트마크의 영역에 부착한 레지스트막이 제거된다. 이와 같이 해 현상이 종료하면 웨이퍼(W)표면에 린스액이 걸리고 현상액이 씻겨 떨어진다.

현상 공정이 종료하면 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 현상 유니 트(DEV)로부터 반출하여 다음에 제3의 조 (G3) 또는 제4의 조 (G4)의 다단 유니트에 속하는 핫 플레이트 유니트(HP)에 반입한다. 본 유니트(HP) 내에서 웨이퍼(W)는 예를 들면 100 ℃로 소정 시간 포스트베이크 처리된다. 이것에 의해, 현상으로 팽윤 한 레지스트가 경화하고 내약품성이 향상한다.

포스트베이크가 종료하면 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 웨이퍼(W)를 핫 플레이트 유니트(HP)로부터 반출하고 다음에 몇개의 쿨링 유니트(COL)에 반입한다. 여기서 웨이퍼(W)가 상온으로 돌아간 후 주웨이퍼 반송 기구 (121)은 다음에 웨이퍼(W)를 제3의 조 (G3)에 속하는 익스텐션 유니트(EXT)에 이송한다. 본 익스텐션 유니트(EXT)의 재치대(도시하지 않음)상에 웨이퍼(W)가 재치되면 카셋트 스테이션 (110)측의 웨이퍼 반송용 핀셋 (104)가 반대측으로부터 액세스해 웨이퍼(W)를 수취한다. 그리고, 웨이퍼 반송용 핀셋 (104)는 수취한 웨이퍼(W)를 카셋트 재치대 (102)상의 처리완료 웨이퍼 수용용의 카셋트 (101)의 소정의 웨이퍼 수용홈에 넣어 처리가 완료한다.

다음에, 도 11로 나타낸 레지스트 도포 유니트의 구성에 대해서 설명한다. 이 경우, 처리 장치의 레지스트 도포·현상 처리 시스템에 있어서는 동종의 2개의 레지스트 도포 유니트를 갖추고 있다. 즉, 제1의 조 (G1)에 속하는 스피너형의 제1의 처리 유니트 (141, 제1의 도포 유니트 141)과 제2의 조 (G2)에 속하는 스피너형의 제2의 처리 유니트 (142 , 제2의 도포 유니트 142)이다. 제 1 및 제2의 도포 유니트 (141, 142)는, 각각 처리실 (143)의 주웨이퍼 반송 기구 (121) 측에 셔터 (144)에 의해 개폐되는 반출 입구 (145)를 가지고 있다.

다음에 제 1 및 제2의 도포 유니트 (141, 142)의 구체적 구성에 대해서, 도 14를 참조해 설명한다. 이 제 1 및 제2의 도포 유니트 (141, 142)의 케이싱 (148)내에는, 웨이퍼(W)를 회전 자유롭게 유지하는 유지 수단으로서의 스핀척 (149)와 본 스핀척 (149) 및 웨이퍼(W)의 외주와 그들 하부를 포위하는 처리 컵 (123)과 웨이퍼(W)의 표면에 처리액으로서 도포액 예를 들면 레지스트액이나 용제를 공급하는 집합 노즐 (80)이 갖춰져 있다.

스핀척 (149)는 케이싱 (148)의 아래쪽의 스핀 모터 (151)에 의해 회전하는 회전축 (152)의 상부에 장착되는 척플레이트 (149a)와 본 척플레이트 (149a)의 주변부에 매달려 설치된 유지 부재(도시하지 않음)으로 구성되고 유지 부재는, 웨이퍼(W)를 척플레이트 (149a)로부터 띄운 상태로 웨이퍼(W)의 주변부를 유지하도록 구성되고 있다.

또, 처리 컵 (123)내의 환경은 처리 컵 (123)의 바닥부로부터 외부에 설치되어 있는 진공 펌프등의 배기 수단에 의해 배기된다.또한 웨이퍼(W)가 회전할 때에 비산한 처리액은 스핀척 (149)의 외력으로부터 처리 컵 (123)의 바닥부에 설치된 드레인 (128)을 통해서 배출된다. 처리 컵 (123)은 상하 이동 가능함과 동시에 필요에 따라서 메인터넌스를 위해 착탈할 수 있도록 구성되고 있다.

집합 노즐 (80)은 회동축 (153)을 중심으로 해 선회하는 이동 부재로서의 회동 아암 (154)의 선단에 설치되고 있다. 집합노즐 (80)에는 후술하는 제 2 처리액공급관로인 도포액공급관로 (6)에 접속되어 도포액을 토출하는 처리액공급노즐인 도포액공급노즐 (81)과, 용제공급관로 (83)에 접속되어 용제를 토출하는 용제공급 노즐 (82)가 설치되어 있고 이들 노즐 (81, 82)는 웨이퍼(W)의 반경방향 내측에 서로 전후하여 배치되고 집합노즐 (82)는 웨이퍼(W)의 반경방향 내측에 도포액공급노즐(81)이 위치하고, 또 웨이퍼(W)의 반경방향 외측에 용제공급노즐 (82)가 위치하도록 서로 소정간격만큼 떨어져 배치되고 있다. 그리고 도포액공급노즐 (81)로부터 도포액공급관로 (6)에서 공급된 도포액이 또 용제공급노즐 (82)로부터는 용제공급관로 (83)에 의해 공급된 용제가 각각 독립으로 토출되도록 구성되어 있다.

또, 도 14에 나타나는 바와 같이 회동 아암 (154)는, 처리 컵 (123)의 외측에 수직으로 설치된 회동축(153)의 상부에 수평 자세로 고정되어 있고 회동축 (153)의 회전 기구 (159, 노즐 이동 기구 159)에 의해 수평면내에서 회동하도록 구성되고 있다. 회동 아암 (154)는 웨이퍼(W)의 윗쪽에서, 웨이퍼(W)의 중심부 부근으로 이동한 상태와 처리 컵 (123)보다 외측의 대기 위치(홈 포지션) 로 이동한 상태의 사이를 이동한다. 회동 아암 (154)를 이들의 사이에 이동시키는 것으로 웨이퍼(W)상에 도포막을 형성하는 처리를 실시한다.

다음에, 본 발명과 관련되는 처리액공급 장치에 대해서 도 1 내지 도 10을 참조해 설명한다

상기 처리액공급 장치는 처리액 (L, 레지스트액)가 저장된 처리액저장 용기 (1)과 본 처리액저장 용기 (1)에 주가압 관로 (2)를 개재하여 접속되어 처리액저장 용기 (1)내의 처리액 가압하는 가압 수단인 불활성 가스 예를 들면 질소(N2) 가스 의 공급원 (3) (이하에, N2가스 공급원 (3)이라고 한다)과 제1의 처리액공급 관로 (4)를 개재하여 처리액저장 용기 (1)에 접속되고 처리액저장 용기 (1)로부터 인도된 처리액을 일시 저장하는 일시 저장 용기인 리저버 탱크 (5)와 본 리저버 탱크 (5)와 처리액공급 노즐(도포액공급 노즐 (81))을 접속하는 제2의 처리액공급 관로 (6, 도포액공급 관로)와 리저버 탱크 (5)의 상부에 접속되는 폐액관로 (7)과 N2가스의 공급원 (3)과 리저버 탱크 (5) 측에 접속되는 보조 가압 관로 (9)를 구비하고 있다.

상기 제 1의 처리액공급 관로 (4)에는 처리액저장 용기 (1)측으로부터 차례로 처리액저장 용기 (1)의 액압을 검지하는 액압 검지 수단인 액압센서 (10)이 예를 들면 45 KPa로 감시하도록 설치됨과 동시에 제1의 개폐밸브 (V1)가 설치되고 있다.

또, 처리액저장 용기 (1)과 N2가스 공급원 (3)을 접속하는 주가압 관로 (2)에는 가변 조정 가능한 압력 조정 수단인 전공레귤레이터 (20)이 설치되고 있다. 본 전공 레귤레이터 (20)은 후술하는 제어 수단으로서의 제어 컴퓨터 (90)을 구성하는 중앙연산 처리장치(CPU)를 주체로서 구성되는 제어부 (30)으로부터의 제어 신호 출력에 의해 작동하는 조작부 예를 들면 비례 솔레노이드와 상기 솔레노이드의 작동에 의해 개폐하는 밸브기구를 구비하고 있고, 밸브기구의 개폐에 의해 압력을 조정하도록 구성되고 있다.

상기 액압센서 (10)은 제어부 (30)에 전기적으로 접속되고 있고 제어부 (30)은 액압센서 (10)에 의해 검지된 액압의 신호를 받아 본 검지 신호에 근거해 전공 레귤레이터 (20)의 가압측 압력을 일정하게 제어하도록 구성되고 있다. 즉, 제어부 (30)은, 액압센서 (10)에 의해 검지된 신호를 받는 것에 의해 처리액저장 용기 (1)내의 액압을 인식할 수가 있고 처리액 (L)의 액압이 저하하는 것으로 공급압이 떨어지는 것을 막기 위해서 전공레귤레이터 (20)에 신호를 보내 처리액저장 용기 (1)에의 가압 압력을 올려 일정한 액압으로 하는 피드백 제어를 실시한다. 또, 제어부 (30)은 처리액저장 용기 (1)내의 액잔량이 임계점인 일정한 잔량이 되었을 경우, 즉, 전공레귤레이터 (20)에 준 가압 지시압과 액압센서 (10)로 실제로 검출한 액압과의 차이에 의해 처리액저장 용기 (1)내의 처리액없음을 판정하여 처리액저장 용기 (1)의 교환이 필요한 상태를 인식하고 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 제1의 개폐밸브 (V1)과 후술하는 가압용 개폐밸브 (V3)을 개폐 동작하도록 구성되고 있다.

이 경우 상기 처리액저장 용기 (1)은 처리액 (L)을 저장하는 가요성을 가지는 예를 들면 PE 혹은 PTFE제의 수축 자유로운 내용기 (1a)와 가압 공간 (1c)를 개재하여 내용기 (1a)를 내장하고 압력을 유지하는 예를 들면 PE 또는 스텐레스제의 외용기 (1b)의 이중구조로 형성되고 있다. 또한 내용기 (1a)와 외용기 (1b)의 입구부에는 갭 부재 (1d)가 기수 조밀하게 피착되어 있고 갭 부재 (1d)에 설치된 가압 가스 도입 통로 (1e)와 처리액 도출 통로 (1f)에 각각 주가압 관로 (2)와 제1의 처리액공급 관로 (4)가 접속되고 있다.

또, 상기 제 2의 처리액공급 관로 (6)에는 도시하지 않는 필터(도시하지 않음)나 제2의 개폐밸브 (V2)나 비흡인식의 펌프(도시하지 않음)가 설치되고 있다.

또, 상기 리저버 탱크 (5)의 상부에는 도 1에 나타나는 바와 같이 폐액 관로 (7)이 접속되고 있고 본 폐액 관로 (7)에는 리저버 탱크 (5)측으로부터 차례로 폐액 관로 (7)안의 처리액을 검지하는 처리액 검지 수단 예를 들면 광 센서 (50)과 폐액용 개폐밸브 (V5)가 설치되고 있다. 또, 리저버 탱크 (5)의 측쪽에는 리저버 탱크 (5)내의 처리액 (L)의 액면을 검지하는 예를 들면 정전 용량 센서에서 형성되는 잔량 액면센서 (61)과 하한 액면센서 (62)가 배치하여 설치되고 있다. 이들 잔량 액면센서 (61)과 하한 액면센서 (62)와 제어부 (30)은 전기적으로 접속되고 있고 잔량 액면센서 (61), 하한 액면센서 (62)에 의해 검지된 검지 신호가 제어부 (30)에 전달되어 제어부 (30)에서 리저버 탱크 (5)내의 처리액 (L)의 상태가 인식되도록 형성되고 있다.

또, 보조 가압 관로 (9)는 N2가스 공급원 (3)과 리저버 탱크 (5)측 예를 들면 폐액 관로 (7) 에서의 광 센서 (50)과 폐액용 개폐밸브 (V5)의 사이에 접속되고 있다. 본 보조 가압 관로 (9)에는 N2가스 공급원 (3)측으로부터 차례로 레귤레이터 (40)과 가압용 개폐밸브 (V3)이 설치되고 있다. 가압용 개폐밸브 (V3)는 제어부 (30)에 전기적으로 접속되고 있고 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 개폐 동작하도록 제어되고 있다. 즉, 액압센서 (10)이 처리액저장 용기 (1)내의 처리액 (L)의 액압을 검지하고, 제어부 (30)에서 압력 상태로부터 빈 상태가 판단된 경우, 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 제1의 개폐밸브 (V1)가 닫히고 가압용 개폐밸브 (V3)이 개방하도록 제어된다. 이것에 의해, 소정의 설정압력 예를 들면 45 KPa로 설정된 N2가스 공급원 (3)으로부터 가압 가스인 N2가스가 폐액 관로 (7) 에 공급되어 폐액 관로 (7)안의 처리액을 리저버 탱크 (5)에 되돌려, 리저버 탱크 (5)내를 가압하는 것으로 처리액 (L)을 처리액 공급 노즐측의 제2의 처리액공급 관로 (6)에 공급(압송)한다. 한편, 이 상태로 빈 처리액저장 용기 (1)로부터 갭 부재 (1d)가 떨어지고 신규의 처리액저장 용기 (1)에 갭 부재 (1d)가 피착되어 처리액저장 용기 (1)의 교환이 행해진다.

또, 상기 제어부 (30)과 광 센서 (50)은 전기적으로 접속되어 있고 제어부 (30)은 광 센서 (50)이 검지한 신호를 받고 본 검지 신호에 근거하여 폐액용 개폐밸브 (V5) 및 제1의 개폐밸브 (V1)을 변경 제어하도록 구성되고 있다. 즉, 광 센서 (50)에 의해 폐액 관로 (7)안의 처리액을 검지하면 상기 검지신호가 제어부 (30)에 전달되어 제어부 (30)에서 리저버 탱크 (5)내가 기포를 포함하지 않는 처리액으로 채워진 것을 인식한 후 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 의해 폐액용 개폐밸브 (V5)가 닫히도록 구성되고 있다.

또, 제어부 (30)에는 알람 표시부 (70)이 전기적으로 접속되고 있고 잔량 액면센서 (61)의 검지에 의해 처리액저장 용기 (1)내의 처리액이 빈 상태를 제어부 (30)이 인식한 경우의 빈 상태를 알람 수단인 알람 표시부 (70)으로 표시하도록 구성되고 있다. 또, 알람 표시부 (70)은 잔량 액면검출 센서 (61)의 검출에 의해 잔량 액면센서 (61)과 하한 액면센서 (62)의 사이에 처리 가능한 양의 잔량에 리저버 탱크 (5)내의 액량이 줄어든 것을 알람 출력한다. 또한 이 때의 알람은, 엠티(empty) 레벨 (1)으로 출력된다. 또, 알람 표시부 (70)은 하한 액면센서 (62)의 검출에 의해 리저버 탱크 (5)내의 액량이 줄어든 것을 알람 출력한다. 이 때의 알 람은 엠티 레벨 3으로 출력된다. 이것에 의해 작업자는 처리 지속을 정지한다. 즉, 다음에 처리되는 웨이퍼(W)의 반입을 정지한다.

제어 컴퓨터 (90)은 도 1에 개략적으로 나타나는 바와 같이 중앙연산 처리장치(CPU)를 주체로서 구성되는 제어부 (30)과 제어부 (30)에 접속된 입출력부 (91)과 처리 순서를 작성하기 위한 처리 순서 입력 화면을 표시하는 표시부 (92)와 입출력부 (91)에 삽입 장착되어 제어 소프트웨어를 격납 한 기록 매체 (93)을 구비한다. 또한 제어 컴퓨터 (90)은 구체적으로는 도 12에 나타나는 바와 같이 카셋트 스테이션 (110)의 카셋트 재치대 (102)에 설치된다. 이 경우, 제어 컴퓨터 (90)은, 인출식으로 격납되는 키보드로부터 이루어지는 입출력부 (91)과 디스플레이로부터 되는 표시부 (92) 및 기록 매체 (93)으로 구성되고 있다.

상기 기록 매체 (93)은 제어 컴퓨터 (90)에 고정적으로 설치되는 것 혹은, 제어 컴퓨터 (90)에 설치된 독취장치에 착탈 자유롭게 삽입 장착되고 상기 독취장치에 의해 독취 가능한 것으로서도 좋다. 가장 전형적인 실시 형태에 있어서는 기록 매체 (93)은 기판 처리 장치의 메이커의 서비스 맨에 의해 제어 소프트웨어가 인스톨된 하드 디스크 드라이브이다. 다른 실시의 형태에 있어서는 기록 매체 (93)은 제어 소프트웨어가 기입된 CD-ROM 또는 DVD-ROM와 같은 독출 전용의 리무버블 디스크이고, 이러한 리무버블 디스크는 제어 컴퓨터 (90)에 설치된 광학적 독취장치에 의해 독출된다. 기록 매체 (93)은, RAM(random access memory) 또는 ROM(read only memory)의 어느 형식의 것으로서도 좋고, 또, 기록 매체 (93)은, 카셋트식의 ROM과 같은 것으로서도 좋다. 요컨데 컴퓨터의 기술 분야에 있어서 알 려져 있는 임의의 것을 기록 매체 (93)으로 하여 이용하는 것이 가능하다.

상기와 같이 구성된 제어 컴퓨터 (90)에 의해 제어 소프트웨어를 실행함으로써, 상기 액압센서 (10), 전공 레귤레이터 (20)이나 개폐밸브 (V1, V2, V3, V5 )및 잔량 액면센서 (61), 하한 액면센서 (62)등을 소정의 처리 순서에 의해 정의된 프로세스 조건을 실현하도록 제어한다. 또, 상기 처리 시스템의 각 기능 요소인 상기 주웨이퍼 반송 기구 (121), 스핀척 (149), 노즐 (81, 82)로부터의 도포액·용제의 공급·정지등을 소정의 처리 순서에 의해 정의된 여러가지 프로세스 조건을 실현하는 일반적인 제어도 실시한다.

본 발명에 있어서는 제어 컴퓨터 (90)의 기록 매체 (93)에 전공레귤레이터 (20)의 조정압이나 처리액공급 노즐 (81)로부터 웨이퍼(W)에 토출되어 액처리되는 소정의 처리 회수분의 처리액 (L)의 양의 설정등을 기억해 두어, 본 처리 프로그램에 근거해, 주반송기구 (121)에 의한 웨이퍼(W)의 반송을 실시하도록 기능시키고 있다.

다음에, 상기 처리액공급 장치의 동작 모양에 대해서, 도 2 내지 도 8을 참조해 설명한다. 또한 도 2 내지 도 8에 있어서는 제어부 (30)은 생략 되어 있다. 우선, 신규 처리액저장 용기 (1)을 세트 한 후 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 도 2에 나타나는 바와 같이 제1의 개폐밸브 (V1)가 개방하고 처리액저장 용기 (1)내의 처리액 (L)을 리저버 탱크 (5)내에 공급한다. 처리액저장 용기 (1)로부터 공급된 처리액 (L)이 리저버 탱크 (5)에 채워지면 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 도 3에 나타나는 바와 같이 폐액용 개폐밸브 (V5)를 닫고 노즐로부 터 처리액이 피처리 기판에 공급되어 처리를 할 수 있는 상태가 된다.

통상의 처리가 실시되는 과정에 있어서 처리액저장 용기 (1)내의 처리액 (L)의 액압이 저하하지만 액압센서 (10)에 의해 처리액저장 용기 (1)내의 처리액 (L)의 액압이 검지되어 본 검지 신호가 제어부 (30)에 전달되고 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 전공 레귤레이터 (20)의 가압측 압력이 일정하게 피드백 제어된다. 이것에 의해, 처리액 (L)의 액압은 일정 상태인 채 처리액공급 노즐에 공급된다(도 4 참조).

또한 처리액저장 용기 (1)내의 처리액 (L)의 액잔량이 적게 되어, 전공레귤레이터 (20)에 의한 가압과 액압의 차이가 임계점에 이르러 액압센서 (10)이 처리액저장 용기 (1)의 교환이 필요한 상태를 검지하면 본 검지 신호가 제어부 (30)에 전달되어 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 알람 표시부 (70)으로부터 처리액저장 용기 (1)의 교환 요구 알람이 출력된다. 이것과 동시에, 제1의 개폐밸브 (V1)이 닫히는 한편, 가압용 개폐밸브 (V3)이 개방하고 N2가스 공급원 (3)으로부터 N2가스가 폐액 관로 (7)에 공급되어 폐액 관로 (7)중의 처리액을 리저버 탱크 (5)에 되돌려져 리저버 탱크 (5)내의 처리액 (L)을 처리액공급 노즐에 공급한다(도 5 참조). 이것에 의해, 폐액 관로 (7)내에 잔류하는 처리액을 재이용할 수가 있다.

또한 처리액저장 용기 (1)내가 비워져 제1의 개폐밸브 (V1)가 닫혔을 때의 리저버 탱크 (5)의 액 위치는 꽉찬 상태가 되고 있다. 이 상태로, 처리액저장 용기 (1)의 교환이 실시되지 않으면 리저버 탱크 (5)내의 처리액 (L)은 잔량 액면센서 (61)의 검출 위치까지 내려가고 잔량 액면센서 (61)의 검출에 의해 알람 표시부 (70)으로부터 엠티 레벨 1의 알람이 출력된다(도 6 참조). 이 시점에서 리저버 탱크 (5)내의 처리액 (L)은 소정의 처리 매수 분의 잔량이 된다.

또한, 제어부 (30)측에서 잔량 액면센서 (61)의 검출에 의한 엠티 레벨 1의 알람이 출력된 이후의 처리 매수의 카운트를 실시해, 미리 제어 컴퓨터 (90)의 기록 매체 (93)에 경고값으로서 설정된 처리 매수값에 이르렀을 때, 엠티 레벨 2의 소프트적 경보를 출력 한다. 그리고,하한 액면센서 (62)에 액면이 달했을 때,하한 액면센서 (62)에 의해 검출되어 본 검출 신호가 제어부 (30)에 전달되어 알람 표시부 (70)으로부터 엠티 레벨 3의 알람이 출력되어 처리가 중단된다. 또한 상기 엠티 레벨 2의 알람을 출력 하지 않고 하한 액면센서 (62)의 검출만으로서도 좋다.

알람 표시부 (70)으로 빈 상태가 표시되면 작업자는 빈 처리액저장 용기 (1)을 갭 부재 (1d)로부터 분리하여(도 7 참조), 신규의 처리액저장 용기 (1)과 교환한다.

신규의 처리액저장 용기 (1)에 갭 부재 (1d)를 피착한 상태로 교환 요구 알람의 출력을 해제한다. 이 동작과 동시에, 제1의 개폐밸브 (V1)이 개방함과 동시에 폐액용 개폐밸브 (V5)가 개방해 신규의 처리액저장 용기 (1)의 상부의 공기 및 제1의 처리액공급 관로 (4)내의 공기를 바깥 공기에 배출해 기포뽑기를 실시한다 (도 8 참조). 그리고, 공급되는 처리액안의 기포(공기)가 완전하게 제거되면 광 센서 (50)이 폐액 관로 (7)안의 처리액을 검지하고, 본 검지 신호를 제어부 (30)에 전달한다. 그러면, 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 의해 폐액용 개폐밸브 (V5)가 닫힘과 동시에 제2의 개폐밸브 (V2)가 개방하고 리저버 탱크 (5)내의 처리액이 처 리액공급 노즐에 공급된다(도 3 참조).

또한 상기 제 1 실시 형태에서는 보조 가압 관로 (9)가 N2가스 공급원 (3)과 폐액 관로 (7)에서의 광 센서 (50)과 폐액용 개폐밸브 (V5)의 사이에 접속되는 경우에 대해서 설명했지만, 반드시 이러한 구조로 할 필요는 없다. 예를 들면, 도 9에 나타나는 바와 같이 보조 가압 관로 (9)를 N2가스 공급원 (3)과 제1의 처리액공급 관로 (4)에서의 제1의 개폐밸브 (V1)의 하류 측에 접속해도 괜찮다.

이와 같이 구성함으로써, N2가스 공급원 (3)으로부터 공급되는 가압용 N2가스를 제1의 처리액공급 관로 (4)를 개재하여 리저버 탱크 (5) 측에 공급(가압)할 수가 있어 리저버 탱크 (5)로부터 폐액 관로 (7)에 흐른 처리액을 사용하지 않고 , 신규의 처리액만을 처리액공급 노즐에 공급해 처리에 제공할 수가 있다.

또한 도 9에 있어서 그 외의 부분은 제1 실시 형태와 같으므로 동일 부분에는 동일 부호를 교부해 설명은 생략 한다.

또, 도 10에 나타나는 바와 같이 보조 가압 관로 (9)에서의 가압용 개폐밸브 (V3)의 하류 측에 리저버 탱크 (5)의 액압을 검지하는 액압 검지 수단인 액압센서 (10A)를 설치하고 보조 가압 관로 (9)에서의 가압용 개폐밸브 (V3)의 상류 측에 상기 전공 레귤레이터 (20)과 동일하게 압력 조정 가능한 전공 레귤레이터 (20A)를 설치하고, 액압센서 (10A)에 의해 검지된 액압신호를 제어부 (30)에 전달하고 제어부 (30)으로부터의 제어 신호에 근거해 전공 레귤레이터 (20A)의 가압측 압력을 일정하게 제어하도록 해도 괜찮다.

이와 같이 구성함으로써, N2가스 공급원 (3)으로부터 리저버 탱크 (5)에 공 급되는 가압용 N2가스의 가압을 일정하게 할 수가 있어 리저버 탱크 (5)내의 처리액 (L)을 일정압으로 처리액공급 노즐측의 제2의 처리액공급 관로 (6)에 공급할 수가 있다.

또한 도 10에 있어서 그 외의 부분은, 제1 실시 형태와 같으므로 동일 부분에는 동일 부호를 교부해 설명은 생략한다.

또한 상기 실시 형태에서는 본 발명과 관련되는 처리액공급 장치(방법)를 레지스트 도포 처리 장치에 적용한 경우에 대해서 설명했지만, 레지스트 이외의 처리액 예를 들면 현상액 등의 공급 장치(방법)이나 세정 처리의 공급 장치(방법)에도 적용할 수 있는 것은 물론이다.

본 발명에 의하면 액압 검지 수단에 의해 처리액저장 용기의 액압을 검지하고, 상기 검지신호를 제어 수단에 의해 압력 조정 수단에 피드백 해, 압력 조정 수단의 가압측 압력을 일정하게 제어할 수가 있어 처리액의 공급을 상시 일정 상태 로 할 수 있으므로 처리 정밀도의 향상을 도모할 수 있다. 또, 처리액저장 용기를 복수 설치하는 경우 없이 처리액저장 용기의 교환을 할 수 있고 또한 일시 저장 용기내의 처리액을 직접 가압해 처리액공급 노즐에 공급할 수가 있어 처리액저장 용기가 비워져도 처리를 멈추는 경우 없이 지속하여 처리액에 의한 연속 처리를 가능하게 할 수가 있으므로 처리 효율의 향상을 도모할 수 있음과 동시에 장치의 소형화를 도모할 수 있다.

Claims

처리액이 저장된 처리액저장 용기와 본 처리액저장 용기를 가압해 처리액을 압송하는 가압 수단과, 제1의 처리액공급 관로를 개재하여 상기 처리액저장 용기에 접속되어 처리액저장 용기로부터 압송된 처리액을 일시 저장하는 일시 저장 용기와 본 일시 저장 용기로부터 처리액공급 노즐로 향하는 유로인 제2의 처리액공급 관로를 구비하는 처리액공급 장치로서,

상기 제 1의 처리액공급 관로에 설치되고 상기 처리액저장 용기의 액압을 검지하는 액압 검지 수단과,

상기 제 1의 처리액공급 관로에 설치되는 제1의 개폐밸브와,

상기 처리액저장 용기와 가압 수단을 접속하는 주가압 관로에 설치되는 가변 조정 가능한 압력 조정 수단과,

상기 일시 저장 용기와 가압 수단을 접속해 가압하는 보조 가압 관로에 설치되는 가압용 개폐밸브와,

상기 액압 검지 수단에 의해 검지된 액압의 신호를 받아 본 검지 신호에 근거하여 상기 압력 조정 수단의 가압측 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어 함과 동시에 상기 조정하는 압력값과 상기 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값과의 압력차이에서 처리액 없음을 판정하고 상기 가압용 개폐밸브와 상기 제 1의 처리액공급 관로에 설치되는 제1의 개폐밸브를 절환하는 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로하는 처리액공급 장치.
청구항 1 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 처리액저장 용기가 처리액을 저장하는 수축 자유로운 내용기와 가압 공간을 개재하여 상기 내용기를 내장하고 압력을 유지하는 외용기의 이중구조인 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 1 또는 2 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 보조 가압 관로가 가압 수단과 제1의 처리액공급 관로에 있어서의 제1의 개폐밸브의 하류 측에 접속되고 있는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 1 또는 2 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 보조 가압 관로가 가압 수단과 일시 저장 용기의 상부에 접속되는 폐액 관로에 접속되고 있는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 1 또는 2에 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 일시 저장 용기의 상부에 접속되는 폐액 관로에 본 폐액 관로안의 처리액을 검지하는 처리액 검지 수단을 설치하고 본 처리액검지 수단에 의해 검지된 신호를 받고 본 검지 신호에 근거하여 상기 폐액 관로에 설치되는 폐액용 개폐밸브를 개폐 제어하는 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 1 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 액압검출 수단은 상기 처리액저장 용기와 상기 제 1의 개폐밸브의 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 3 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 보조 가압 관로에 있어서의 가압용 개폐밸브의 하류측에 설치되고 일시 저장용기의 액압을 검지하는 액압 검지 수단과, 상기 보조 가압 관로에서의 가압용 개폐밸브의 상류 측에 설치되는 가변 조정 가능한 압력 조정 수단과, 상기 액압 검지 수단에 의해 검지된 액압신호를 받고 본 검지 신호에 근거해 상기 압력 조정 수단의 가압측 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어하는 제어 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 1 또는 2 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 제어 수단으로부터의 신호를 받아 알람을 출력하는 알람 수단을 더 구비하고,

상기 제어 수단은 상기 처리액 없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방하고 가압 수단으로부터의 가압에 의해 일시 저장 용기를 가압해 처리액공급 노즐로부터 토출되는 처리액에 의한 피처리 기판의 액처리를 지속하고 또한 비워진 처리액저장 용기의 교환 요구의 알람 신호를 상기 알람 수단에 전달하고 알람 수단으로부터 알람을 출력하는 것을 특징으로 하는 처 리액공급 장치.
청구항 1 또는 2 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 일시 저장 용기에 저장되는 처리액의 액면의 위치를 검출하는 액면검출 수단을 더 구비하고,

상기 액면검출 수단은 처리액이 상기 일시 저장 용기의 하한 위치인 것을 검출하는 하한 액면검출 수단과 처리액공급 노즐로부터 피처리 기판에 토출되어 액처리되는 소정의 처리 회수분이 저장되는 처리액의 잔량 위치를 검출하는 잔량 액면검출 수단을 구비하고,

상기 제어 수단은 상기 하한 액면검출 수단 및 잔량 액면검출 수단으로부터의 검출 신호를 받고 상기 잔량 액면검출 수단이 처리액의 잔량 위치를 검출했을 때에 처리액이 잔량에 이른 것을 경고 하는 알람 신호를 알람 수단에 전달하고 알람 수단으로부터 알람을 출력하는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 9 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 제어 수단은 상기 소정의 처리 회수가 설정되고 상기 잔량 액면검출 수단에 의해 잔량 액면검출 위치가 검출된 후 상기 처리 회수분의 실행이 종료했을 때에 그 취지를 알리는 알람 신호를 알람 수단에 전달하고 알람 수단으로부터 알람을 출력하는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 9 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 제어 수단은 상기 하한 액면검출 수단이 처리액의 하한 위치를 검출했을 때에 처리액공급 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시키는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 9 기재의 처리액공급 장치에 있어서,

상기 제어 수단은 신규의 처리액저장 용기가 교환되고 교환 요구의 알람이 해제되었을 때에 가압용 개폐밸브를 닫음과 동시에 제1의 개폐밸브를 개방하고 압력 조정 수단에 가압 신호를 출력하고 일시 저장 용기내에 처리액을 공급하는 것을 특징으로 하는 처리액공급 장치.
청구항 1 또는 2에 기재의 처리액공급 장치를 이용한 처리액공급 방법으로서

상기 액압 검지 수단이 액압의 저하를 검지했을 때에 압력 조정 수단의 가압 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어하고 조정하는 압력값과 상기 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액 없음을 판정했을 때에, 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방하여 가압 수단으로부터의 가압에 의해 일시 저장 용기내의 처리액을 처리액공급 노즐에 압송하는 것을 특징으로하는 처리액공급 방법.
청구항 8 기재의 처리액공급 장치를 이용한 처리액공급 방법으로서,

처리액없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방하여 일시 저장 용기를 가압해 처리액공급 노즐로부터 토출되는 처리액에 의한 피처리 기판의 액처리를 지속하고 또한 비워진 처리액저장 용기의 교환 요구의 알람을 출력하는 것을 특징으로 하는 처리액공급 방법.
청구항 9에 기재의 처리액공급 장치를 이용한 처리액공급 방법으로서,

잔량 액면검출 수단이 처리액의 잔량 위치를 검출했을 때에 처리액이 잔량에 이른 것을 경고 하는 알람을 출력하고,

상기 잔량 액면검출 수단에 의해 잔량 액면검출 위치가 검출된 후 제어 수단으로 설정된 처리 회수분의 실행이 종료했을 때에 그 취지를 알리는 알람을 출력하고,

하한 액면검출 수단이 처리액의 하한 위치를 검출했을 때에 처리액공급 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시켜,

신규의 처리액저장 용기가 교환되어 교환 요구의 알람이 해제되었을 때에 가압용 개폐밸브를 닫음과 동시에 제1의 개폐밸브를 개방하고 압력 조정 수단에 가압 신호를 출력하고 일시 저장 용기내에 처리액을 공급하는 것을 특징으로 하는 처리액공급 방법.
청구항 13 기재의 처리액공급 방법을 실행하는 제어 프로그램을 기록한 기록매체로서,

컴퓨터에,

액압 검지 수단이 액압의 저하를 검지했을 때에 압력 조정 수단의 가압 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어하는 순서와,

조정하는 압력값과 상기 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액 없음을 판정하는 순서와,

상기 처리액 없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방해 가압 수단으로부터의 가압에 의해 일시 저장 용기내의 처리액을 처리액공급 노즐에 압송하는 순서를 실행시키는 것을 특징으로 하는 처리액공급용 제어 프로그램을 기록한 기록매체.
청구항 14 기재의 처리액공급 방법을 실행하는 제어 프로그램을 기록한 기록매체로서,

컴퓨터에,

조정하는 압력값과 액압 검지 수단으로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액없음을 판정하는 순서와,

상기 처리액없음을 판정했을 때에 제1의 개폐밸브를 닫음과 동시에 가압용 개폐밸브를 개방하는 순서와,

일시 저장 용기를 가압해 처리액공급 노즐로부터 토출되는 처리액에 의한 피처리 기판의 액처리를 지속하는 순서와

비워진 처리액 저장 용기의 교환 요구의 알람을 출력하는 순서를 실행시키는 것을 특징으로 하는 처리액공급용 제어 프로그램을 기록한 기록매체.
청구항 15 기재의 처리액공급 방법을 실행하는 제어 프로그램을 기록한 기록매체로서,

컴퓨터에,

잔량 액면검출 수단이 처리액의 잔량 위치를 검출했을 때에 처리액이 잔량에 이른 것을 경고 하는 알람을 출력하는 순서와,

상기 잔량 액면검출 수단에 의해 잔량 액면검출 위치가 검출된 후 제어 수단으로 설정된 처리 회수분의 실행이 종료했을 때에 그 취지를 알리는 알람을 출력하는 순서와,

하한 액면검출 수단이 처리액의 하한 위치를 검출했을 때에 처리액공급 노즐로부터의 처리액의 토출을 정지시키는 순서와,

신규의 처리액저장 용기가 교환되어 교환 요구의 알람이 해제되었을 때에, 가압용 개폐밸브를 닫음과 동시에 제1의 개폐밸브를 개방하고 압력 조정 수단에 가압 신호를 출력하고 일시 저장 용기내에 처리액을 공급하는 순서를 실행시키는 것을 특징으로 하는 처리액 공급용 제어 프로그램을 기록한 기록매체.