JP2002246306A - 処理液供給装置 - Google Patents

処理液供給装置

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JP2002246306A
JP2002246306A JP2001045736A JP2001045736A JP2002246306A JP 2002246306 A JP2002246306 A JP 2002246306A JP 2001045736 A JP2001045736 A JP 2001045736A JP 2001045736 A JP2001045736 A JP 2001045736A JP 2002246306 A JP2002246306 A JP 2002246306A
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Japan
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processing liquid
liquid supply
bottle
storage container
supply path
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Application number
JP2001045736A
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English (en)
Inventor
Yukihiko Inagaki
幸彦 稲垣
Toru Azuma
徹 東
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】処理液のボトル交換時にボトル交換の誤りがあ
ってもその誤りを検出でき、それに基づいて所望のもの
と異なる薬液を基板に供給するようなことを防ぐ。 【解決手段】そこで本発明では、ボトルBTの開口24
に対するキャップCPの塞がり状態が不完全であるとこ
とが検出されると、制御部50は、そのまま、三方弁2
3をボトルBT側に接続されたポートとトラップタンク
10側に接続されたポートとの間を閉止させ、ボトルB
T側に接続されたポートと排気ラインL4側に接続され
たポートとの間が連通するように切り替えた状態を維持
せしめる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光
ディスク用基板等(以下、単に「基板」と称する)を処
理するためのフォトレジスト(以下、単に「レジスト」
とする)等の処理液を供給する処理液供給装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】周知のように、上記基板に対しては、レ
ジスト塗布処理、露光処理、現像処理およびそれらに付
随する熱処理を順次行わせることにより一連の基板処理
を達成している。これらの処理のうちレジスト塗布処
理、現像処理は、吐出ノズルからレジストまたは現像液
を基板に吐出することによって行われる。そして、吐出
ノズルには処理液供給装置からレジストまたは現像液が
供給されるようにされている。
【0003】図4は、従来の処理液供給装置の概略構成
を示す図である。この処理液供給装置は、レジストを供
給する装置であり、レジストが貯留されたボトルBTか
らレジストを導き、吐出ノズルに供給する。ボトルBT
のレジストは、供給ラインL1、L2によって吐出ノズ
ルまで導かれる。供給ラインL1の一端部は、ボトルB
TのキャップCPに内挿されて保持されており、キャッ
プCPは、ボトルBTの上端部に螺合されてボトルBT
の上端部に形成された開口を塞いでボトルBTを密閉し
ている。
【0004】供給ラインL1と供給ラインL2との間に
は、レジストを一時的に貯留するトラップタンク110
が設けられている。トラップタンク110に貯留された
レジストは、ポンプ120によって供給ラインL2内を
送られ、フィルタ121、供給バルブ122を介して図
外の吐出ノズルに供給される。
【0005】また、トラップタンク110には、その上
部に排気ラインL3が接続されており、排気ラインL3
にはトラップタンク110を吸引する吸引ポンプ130
が設けられている。通常、図4の処理液供給装置によっ
て吐出ノズルにレジストが供給されているときは、吸引
ポンプ130は休止されるとともに、供給バルブ122
は開放されている。
【0006】レジストの供給を続けていると、やがて、
ボトルBTのレジストが空になる。すると、供給ライン
L1からエアを導入することとなり、トラップタンク1
10内のレジストの液面レベル(液位)が低下する。液
面レベルが所定のライン以下にまで低下すると、その旨
を液面検知センサ140が検知し、アラームを発する。
この時点において、ボトルBTの交換を行うとともにト
ラップタンク110に流入したエアを抜く作業を行う。
【0007】従来におけるエア抜きの作業の手順は以下
の通りである。すなわち、まず、空になったボトルBT
からキャップCPを取り外し、新しいボトルBTの上端
部にキャップCPを新たに螺合することによりボトル交
換を行なう。次に、吸引ポンプ130を駆動する。
【0008】吸引ポンプ130が駆動されると、トラッ
プタンク110内に滞留していたエアがポンプ130に
よって吸引され、排気ラインL3を介して装置外に排出
される。このときに、供給ラインL1を介して新たなボ
トルBTからレジストが吸引される。そして、トラップ
タンク110内に滞留していたエアが吸引・排出される
に従って、トラップ内のレジストの液面レベルは徐々に
上昇し、やがて基準レベルに到達する。
【0009】レジストの液面レベルが基準レベルに到達
した時点にて、液面検知センサ140がその旨を検知す
ると、そのまま継続してレジストを供給することが可能
となる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述のようなエア抜き
作業時のボトルBTの交換時には、作業者が所望するも
のと異なる間違ったボトルBTを準備してしまうような
ことが発生する。その場合に従来は間違ったボトルBT
であるかどうかどうかが検出されず、またボトルBTと
キャップCPとを螺合して接続する構成にすぎなかった
ため、多少ネジ山などにボトルBT間で違いがあったと
してもそのままネジこまれて間違いに気づかずに使用さ
れる場合があった。その場合には、間違ったボトルBT
から所望のものとは異なる処理液がそのまま供給される
こととなり、基板を無駄にしてしまうという不都合が発
生していた。
【0011】また、例えば、ボトル交換時の誤りを防ぐ
ために、ボトルBTとキャップCPとがきちんと一致す
るように処理液の種類毎に位置を変えてボトルBTに凹
み部を設ける一方それに対するキャップCPに対応する
ボトルの凹み部に嵌合する凸部を設けるようにする構成
も考えられている。
【0012】しかし、この場合であっても間違ったボト
ルBTであるかどうかの検出は行われず、またボトルB
TとキャップCPとはきちんと嵌合されなくとも供給ラ
インL1の一端はボトルBTの中に浸漬されるので、ボ
トル交換の誤りに気づかなかった場合には、同様に間違
ったボトルBTから所望のものとは異なる処理液がその
まま供給されることとなり、基板を無駄にしてしまうと
いう不都合が発生していた。
【0013】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、処理液のボトル交換時にボトル交換の誤りがあ
ってもその誤りを検出でき、それに基づいて所望のもの
と異なる薬液を基板に供給するようなことを防ぐことの
できる処理液供給装置を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1の発明は、基板を処理するための処理液を
ノズルに供給する処理液供給装置であって、開口部を有
し、処理液が貯留される貯留容器と、貯留容器に貯留さ
れた処理液をノズルに導く処理液供給経路と、処理液供
給経路の一端部が内挿され、貯留容器の開口を塞ぐ蓋体
と、処理液供給経路に設けられ、貯留容器から導かれた
処理液を一時貯留する一時貯留容器と、処理液供給経路
における一時貯留容器よりも下流側に設けられ、一時貯
留容器に貯留された処理液をノズルに導く処理液供給ポ
ンプと、処理液供給経路における一時貯留容器よりも上
流側に設けられた開閉弁と、貯留容器の開口に対する蓋
体の塞がり状態を検出する塞がり状態検出手段と、検出
手段によって、貯留容器の開口に対する蓋体の塞がり状
態の不完全が検出された場合に、開閉弁を貯留容器から
一時貯留容器への処理液の供給が遮断されるように閉止
させる制御手段とを備えたことを備えている。
【0015】また、請求項2の発明は、請求項1の発明
にかかる処理液供給装置において、開閉弁は、その一方
が排気ラインに接続された三方弁よりなり、制御手段
は、検出手段によって、貯留容器の開口に対する蓋体の
塞がり状態の不完全が検出された場合に、開閉弁の開閉
状態を前記貯留容器と前記排気ラインを連通させるよう
に切り替えて貯留容器から一時貯留容器への処理液の供
給が遮断されるように貯留容器と一時貯留容器間を閉止
させるように制御するものであることを特徴としてい
る。
【0016】また、請求項3の発明は、基板を処理する
ための処理液をノズルに供給する処理液供給装置であっ
て、それぞれ開口部を有し、処理液が貯留される第1お
よび第2の貯留容器と、第1および第2の貯留容器に貯
流された処理液をそれぞれ導く第1および第2の処理液
供給経路と、第1および第2の処理液供給経路と接続さ
れて処理液をノズルまで導く第3の処理液供給経路と、
第1および第2の処理液供給経路と第3の処理液供給経
路との接続箇所に設けられ、第1の処理液供給経路と第
3の処理液供給経路とが連通する状態と第2の処理液供
給経路と第3の処理液供給経路とが連通する状態とに切
り替える切り替え弁と、第1および第2の処理液供給経
路の一端部がそれぞれ内挿され、それぞれ第1および第
2の貯留容器の開口を塞ぐ第1および第2の蓋体と、第
1および第2の処理液供給経路にそれぞれ設けられ、第
1および第2の貯留容器から導かれた処理液を一時貯留
する第1および第2の一時貯留容器と、第1および第2
の一時貯留容器の上部にそれぞれ接続され、第1および
第2の一時貯留容器内に滞留した空気を排出する第1お
よび第2の空気排出経路と、第1および第2の空気排出
経路にそれぞれ設けられ、第1および第2の貯留容器内
を吸引する第1および第2の吸引手段と、第1および第
2の貯留容器内の処理液の残量の低下をそれぞれ検知し
て検出信号を出力する第1および第2の残量検知センサ
と、第2の処理液供給経路に設けられ、第1または第2
の処理液供給経路からの処理液を前記ノズルに供給する
処理液供給ポンプと、第1の貯留容器および第2の貯留
容器の開口に対する第1および第2の蓋体の塞がり状態
をそれぞれ検出する第1および第2の塞がり状態検出手
段と、第1および第2の残量検出センサのいずれかから
残量の低下を検出する検出信号を入力したときに、他方
の残量検出センサが残量低下を検出していないことを条
件に、第1の処理液供給経路および第2の処理液供給経
路のそれぞれと第3の処理液供給経路との連通状態を切
り替えるように切り替え弁を制御する切替え弁制御手段
と、第1および第2の塞がり状態検出手段のいずれかか
ら、塞がり状態の不完全が検出された場合に、前記第1
および第2の吸引手段のうちの対応する吸引手段を吸引
禁止状態に制御する吸引禁止状態制御手段とを備えたこ
とを特徴とする。
【0017】また、請求項4の発明は、請求項1ないし
3の発明にかかる処理液供給装置において、塞がり状態
検出手段は、貯留容器の開口を塞ぐ蓋体に付設された近
接センサよりなることを特徴としている。
【0018】また、請求項5の発明は、請求項1ないし
4の発明にかかる処理液供給装置において、前記塞がり
状態検出手段が、塞がり状態の不完全を検出した場合に
そのことを表示する表示手段を設けたことを特徴として
いる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について詳細に説明する。
【0020】図1は、本発明にかかる処理液供給装置の
概略構成を示す図である。この処理液供給装置は、レジ
ストを供給する装置であり、交換可能に設置されたレジ
ストの貯留容器たるボトルBTからレジストを導き、図
外の吐出ノズルに供給する。ボトルBTのレジストは、
供給ラインL1、L2によって吐出ノズルまで導かれ
る。
【0021】ボトルBTからレジストを導く処理液供給
経路途中、すなわち供給ラインL1と供給ラインL2と
の間には、レジストを一時的に貯留する一時貯留容器た
るトラップタンク10が設けられている。トラップタン
ク10は、3つの出入口を有する密閉容器である。3つ
の出入口としては、処理液入口11と、処理液出口13
と、通気口12とが設けられている。なお、トラップタ
ンク10の形状は図示の形状に限定されるものではな
く、処理液を貯留できるものであれば如何なる形状のも
のであってもよい。
【0022】トラップタンク10の側方には、トラップ
タンク10に貯留されたレジストの液面レベルを検知す
るための液面検知センサ40が設けられている。本実施
形態では、液面検知センサ40として、非接触式の静電
容量センサを用いている。液面検知センサ40は、トラ
ップタンク10に貯留されたレジストの液面レベルが基
準レベルTHに達しているか否かを検知することができ
る。なお、液面検知センサ40としては、静電容量セン
サに限らず、例えば発光素子と光電変換素子とを組み合
わせた光電式センサを用いてもよい。
【0023】また、トラップタンク10よりも下流側で
あって処理液出口13に接続される供給ラインL2に
は、ポンプ20と、フィルタ21と、供給バルブ22と
が設けられている。ポンプ20は、トラップタンク10
に貯留されたレジストを図外の吐出ノズルまで送給する
駆動源としての役割を有する。また、フィルタ21は、
供給ラインL2を流れるレジストを浄化する。トラップ
タンク10に貯留されたレジストは、ポンプ20によっ
て供給ラインL2内を送られ、フィルタ21、供給バル
ブ22を介して吐出ノズルに供給される。
【0024】トラップタンク10よりも上流側であって
処理液入口11には、供給ラインL1が接続されてい
る。供給ラインL1には、開閉弁としての三方弁23が
介在されており、供給ラインL1の一端部は、ボトルB
Tの開口24を塞ぐ蓋体としてのキャップCPに内挿さ
れて一体に保持されている。そして供給ラインL1の一
端は、ボトルBTの開口24をキャップCPで塞ぐこと
によりレジストに浸漬される。また、三方弁の一つのポ
ートは、排気ラインL4に接続されている。
【0025】ボトルBTの上端面には、凹み部25が形
成されている。一方、ボトルBTの開口24を塞ぐキャ
ップCPの下端面には、ボトルBTの上端部に形成され
た凹み部25の位置に対応した箇所に凹み部25に嵌合
する凸部26が形成されている。そして、処理液の種類
毎に、ボトルBTの上端面に形成さられた凹み部とそれ
に対応するキャップCPの下端面に形成された凸部の位
置とが異なるようになっており、ボトルBTとキャップ
CPとが一致しない場合には接続するボトルBTが誤り
であることが物理的にわかるようになっている。
【0026】また、キャップCPの下端部には、近接セ
ンサ27が付設されており、ボトルBTとキャップCP
とが同じ処理液用のものであって、一致する場合にはボ
トルBTの開口24がキャップCPによって塞がれた際
に、近接センサ27が、ボトルBTの検知位置に対して
近接するので、ボトルBTの開口24に対するキャップ
CPの塞がり状態が良好であることが検出され、接続さ
れたボトルBTに誤りがないことが検出される。一方、
接続されたボトルBTに誤りがある場合には、ボトルB
Tの上端面に形成された凹み部の位置とキャップCPの
下端面に形成された凸部の位置とが一致せず、近接セン
サ27がボトルBTの検知位置に対して近接しないの
で、ボトルBTの開口24に対するキャップCPの塞が
り状態が不完全であることが検出され、接続されたボト
ルBTに誤りがあることが検出される。
【0027】トラップタンク10の上端部に設けられた
通気口12には、トラップタンク10内に滞留した空気
を排出する排気ラインL3が接続されている。排気ライ
ンL3にはトラップタンク10内を吸引するポンプ30
が設けられている。ポンプ30は、定められた量を吸引
することができる定量ポンプであり、例えばストローク
が一定のシリンダー式ポンプや一定量の回転によって一
定量を吸引することができるスクリュー型ポンプを採用
することができる。
【0028】また、本発明にかかる処理液供給装置は、
コンピュータを用いて構成される制御部50を備えてい
る。制御部50は、少なくとも、ポンプ30、液面検知
センサ40、ポンプ20、供給バルブ22、近接センサ
27、三方弁23、と電気的に接続されている。また制
御部50は、ボトルBTが空になってボトルBTの交換
のタイミングであることを知らせる警報部51、ボトル
BTとキャップCPとの塞がり状態が不完全である場合
にその旨を表示する表示部52、図外の複数の基板を処
理に順次送り出す基板処理装置の基板送り出し機構であ
るインデクサにも電気的に接続されている。制御部50
は、液面検知センサ10や近接センサ27の検出信号を
受けて、予め入力されたプログラムに従ってこれらの動
作を制御する。
【0029】次に、上述の構成を有する処理液供給装置
の動作について説明する。通常処理時に、吐出ノズルに
レジストが供給されているときは、ポンプ30が停止さ
れるとともに、供給ラインL2の供給バルブ22は開放
されている。また、三方弁23は、ボトルBT側に接続
されたポートとトラップタンク10側に接続されたポー
トとが開かれており、排気ラインL4側に接続されたポ
ートは閉じられている。トラップタンク10に貯留され
ているレジストは、ポンプ20によって供給ラインL2
内を送られ、フィルタ21によって浄化された後、吐出
ノズルに供給される。トラップタンク10は密閉容器で
あるため、吐出ノズルに供給されるのと等量のレジスト
が供給ラインL1を介してボトルBTから吸引される。
したがって、ボトルBTに貯留されているレジストの液
面レベルは、通常処理時においては常に一定の高さに維
持されている。
【0030】処理が進行し、やがて、ボトルBTが空に
なると、供給ラインL1からエアを吸引するようにな
る。吸引されたエアは、トラップタンク10内にて上方
に溜まるため、供給ラインL2から吐出ノズルに入り込
むおそれはない。しかし、供給ラインL1から吸引され
たエアの量が増加するに従って、トラップタンク10に
貯留されたレジストの液面レベルは徐々に低下し、やが
て基準レベルよりも低くなる。レジストの液面レベルが
基準レベルよりも低くなると、液面検知センサ40がそ
の旨を検知し、制御部50に伝達するとともに警報部5
1によってボトル交換の時期を知らせるアラームが発せ
られる。
【0031】アラームが発せられると、ボトル交換に伴
ってエア抜き作業が行われる。なお、このときには、制
御部50は、インデクサに対して新たな基板の払い出し
禁止の信号を送信し、新たな基板の払い出しは中断され
るとともに、処理途中にある基板についてはそのまま処
理が続行される。従って、トラップタンク10における
基準レベルは、少なくとも処理途中にある基板の処理を
続行できるだけのレジストを確保できる位置に設定され
ている。
【0032】処理途中にある基板についてもレジスト塗
布処理が終了し、吐出ノズルに新たなレジストを供給す
る必要がなくなると、ポンプ20が停止し、供給ライン
L2の供給バルブ22を閉鎖する。
【0033】この空のボトルBTを新たなボトルBTに
交換するときに、ボトルBTからキャップCPが抜き取
られると近接センサは27は、キャップCPの塞がり状
態が不完全であることを検出し、その信号を受けて制御
部50は、表示部52に塞がり状態不完全の旨の表示を
させるとともに三方弁23を制御してボトルBT側に接
続されたポートとトラップタンク10側に接続されたポ
ートとの間を閉止させ、ボトルBT側に接続されたポー
トと排気ラインL4側に接続されたポートとの間が連通
するように切り替える。そして、ボトルBTの交換が完
了し、ボトルBTにキャップCPが被せられて近接セン
サ27がボトルBTの開口24に対するキャップCPの
塞がり状態が良好であることを検出すると、制御部50
で接続されたボトルBTに誤りがないことが判断され、
三方弁23のボトルBT側のポートとトラップタンク1
0側のポートとが連通させるように切り替わる。そし
て、排気ラインL3に設けられたポンプ30を動作させ
ることによってエア抜き作業を実行する。ポンプ30を
動作させると、トラップタンク10内に滞留していたエ
アがポンプ30によって吸引され、排気ラインL3を介
して装置外に排出されるとともに、供給ラインL1を介
して新たなボトルBTからレジストが吸引される。な
お、ポンプ30を動作させるのと同時に、装置がエア抜
き作業状態にあることを制御部50に認識させるように
しておく。
【0034】トラップタンク10内に滞留していたエア
が吸引・排出されるに従って、トラップタンク10内の
レジストの液面レベルは徐々に上昇し、やがて基準レベ
ルに到達する。レジストの液面レベルが基準レベルに到
達した時点にて、液面検知センサ40がその旨を検知
し、制御部50に伝達する。装置がエア抜き作業状態に
あることを認識中の制御部50は、液面検知センサ40
からレジストの液面レベルが基準レベルに到達した旨の
信号を受けたときに、ポンプ30の吸引動作を停止させ
る。
【0035】その後、トラップタンク10に貯留されて
いるレジストは、継続してポンプ20によって供給ライ
ンL2内を送られ、吐出ノズルに供給されて通常の処理
が行われる。
【0036】一方、ボトルBTが交換されても交換に誤
りがあった場合には、交換されたボトルBTにキャップ
CPが完全に嵌まり込まず、近接センサ27がボトルB
Tの開口24に対するキャップCPの塞がり状態が不完
全であることを検出したままとなる。すると、制御部5
0ではボトルBTの開口24に対するキャップCPの塞
がり状態が不完全であるとの判断を続け、制御部50
は、そのまま表示部52にキャップCPの塞がり状態が
不完全であることを表示させるとともに、三方弁23を
ボトルBT側に接続されたポートとトラップタンク10
側に接続されたポートとの間を閉止させ、ボトルBT側
に接続されたポートと排気ラインL4側に接続されたポ
ートとの間が連通するように切り替えた状態を維持せし
める。このとき、三方弁23のボトルBT側に接続され
たポートとトラップタンク10側に接続されたポートと
の間は閉止されているので、例え、ポンプ30が駆動さ
れたとしても供給ラインL1を介して新たなボトルBT
からトラップタンク10へ向けてレジストが吸引される
ことはなく、誤った処理液が吐出ノズルに供給されるこ
とはない。
【0037】このようにすれば、例え作業者がボトルB
TとキャップCPとがきちんと嵌合していないことにす
ら気づかず、ボトルBTの交換を誤ったことに気づかな
かった場合でもエア抜き作業の際に、誤ったボトルBT
から所望しない処理液がトラップタンクに供給されるこ
とを防止でき、基板に対して不適切な処理液を供給する
ようなことがなくなり、基板を無駄にするようなことを
防ぐことができる。
【0038】本実施形態においては、ボトルBTが貯留
容器に相当し、供給ラインL1、L2が処理液供給経路
に相当し、ポンプ20が処理液供給ポンプに相当し、キ
ャップCPが蓋体に相当し、トラップタンクが一時貯留
容器に相当し、三方弁23が開閉弁に相当し、近接セン
サ27が塞がり状態検出手段に相当し、制御部50が制
御手段に相当する。
【0039】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、この発明は上記の例に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態の処理液供給装置は、レジストを
供給する装置であったが、これに代えて現像液を供給す
る装置としてもよい。
【0040】また、上記実施形態においては、1本のボ
トルBTを順次交換する方式の装置としていたが、これ
を2本以上のボトルを接続しておき、それを適宜切り替
えて使用する方式の装置としても良い。図2は、2本以
上のボトルが接続される処理液供給装置を示す概略構成
図である。
【0041】図2に示すように、この処理液供給装置
は、2つのトラップタンク10a、10bを備えてい
る。トラップタンク10aには、供給ラインL1aが接
続され、供給ラインL1aの一端部は、ボトルBT1の
開口24aを塞ぐ蓋体としてのキャップCP1に内挿さ
れて一体に保持されている。そして供給ラインL1aの
一端は、ボトルBT1の開口24aをキャップCP1で
塞ぐことによりレジストに浸漬される。また、供給ライ
ンL1aには、三方弁23aが介在されており、その三
方弁23aの一つのポートは、排気ラインL4aに接続
されている。また、トラップタンク10aには、排気ラ
インL3aが接続され、排気ラインL3aにはポンプ3
1が設けられている。さらに、トラップタンク10aの
側方には、液面検知センサ41が設けられている。
【0042】ボトルBT1の上端面には、凹み部25a
が形成されている。一方、ボトルBT1の開口24aを
塞ぐキャップCP1の下端面には、ボトルBTの上端部
に形成された凹み部25aの位置に対応した箇所に凹み
部25aに嵌合する凸部26aが形成されている。そし
て、処理液の種類毎に、ボトルBTの上端面に形成さら
れた凹み部とそれに対応するキャップCPの下端面に形
成された凸部の位置とが異なるようになっており、ボト
ルBTとキャップCPとが一致しない場合には接続する
ボトルBTが誤りであることがわかるようになってい
る。
【0043】また、キャップCP1の下端部には、近接
センサ27aが付設されており、ボトルBT1とキャッ
プCP1とが同じ処理液用のものであって、一致する場
合にはボトルBT1の開口24aがキャップCP1によ
って塞がれた際に、近接センサ27aが、ボトルBT1
の検知位置に対して近接するので、ボトルBTの開口2
4aに対するキャップCP1の塞がり状態が良好である
ことが検出され、接続されたボトルBT1に誤りがない
ことが検出される。一方、接続されたボトルBT1に誤
りがある場合には、ボトルBT1の上端面に形成された
凹み部の位置とキャップCPの下端面に形成された凸部
の位置とが一致せず、近接センサ27aがボトルBTの
検知位置に対して近接しないので、ボトルBTの開口2
4aに対するキャップCP1の塞がり状態が不完全であ
ることが検出され、接続されたボトルBT1に誤りがあ
ることが検出される。
【0044】一方、トラップタンク10bには、供給ラ
インL1bが接続され、供給ラインL1bの一端部は、
ボトルBT2の開口24bを塞ぐ蓋体としてのキャップ
CP2に内挿されて一体に保持されている。そして供給
ラインL1bの一端は、ボトルBT2の開口24bをキ
ャップCP2で塞ぐことによりレジストに浸漬される。
また、供給ラインL1bには、三方弁23bが介在され
ており、その三方弁23bの一つのポートは、排気ライ
ンL4bに接続されている。また、トラップタンク10
bには、排気ラインL3bが接続され、排気ラインL3
bにはポンプ32が設けられている。さらに、トラップ
タンク10bの側方には、液面検知センサ42が設けら
れている。
【0045】ボトルBT2の上端面には、凹み部25b
が形成されている。一方、ボトルBT2の開口24bを
塞ぐキャップCP2の下端面には、ボトルBT2の上端
面に形成された凹み部25bの位置に対応した箇所に凹
み部25bに嵌合する凸部26bが形成されている。そ
して、ボトルBT2とキャップCP2とが一致しない場
合には接続するボトルBTが誤りであることがわかるよ
うになっている。
【0046】また、キャップCP2の下端部には、近接
センサ27bが付設されており、ボトルBT2とキャッ
プCP2とが同じ処理液用のものであって、一致する場
合にはボトルBT2の開口24bがキャップCP2によ
って塞がれた際に、近接センサ27bが、ボトルBT2
の検知位置に対して近接するので、ボトルBT2の開口
24bに対するキャップCP2の塞がり状態が良好であ
ることが検出され、接続されたボトルBT2に誤りがな
いことが検出される。一方、接続されたボトルBT2に
誤りがある場合には、ボトルBT2の上端面に形成され
た凹み部の位置とキャップCP2の下端面に形成された
凸部の位置とが一致せず、近接センサ27bがボトルB
T2の検知位置に対して近接しないので、ボトルBT2
の開口24に対するキャップCP2の塞がり状態が不完
全であることが検出され、接続されたボトルBT2に誤
りがあることが検出される。
【0047】トラップタンク10aおよびトラップタン
ク10bは、三方弁60を介して供給ラインL2に接続
されている。供給ラインL2には、上記実施形態と同様
のポンプ20、フィルタ21、供給バルブ22が設けら
れている。
【0048】なお、トラップタンク10a,10bは上
記実施形態のトラップタンク10と同じである。同様
に、ポンプ31,32はポンプ30と、液面検知センサ
41,42は液面検知センサ40と同じである。
【0049】すなわち、図2の処理液供給装置において
は、上記実施形態のトラップタンク10、ポンプ30、
三方弁23、近接センサ27、液面検知センサ40から
なる構成が三方弁60を介して2つ接続されていること
になる。そして制御部50は、少なくとも、ポンプ3
1、32、液面検知センサ41、42、ポンプ20、供
給バルブ22、近接センサ27a、27b、三方弁23
a、23bと電気的に接続されている。また制御部50
は、ボトルBTが空になってボトルBT1またはBT2
の交換のタイミングであることを知らせる警報部51、
ボトルBT1とキャップCP1またはBT2とキャップ
CP2の塞がり状態が不完全である場合にその旨を表示
する表示部52、図外の複数の基板を処理に順次送り出
す基板処理装置の基板送り出し機構であるインデクサに
も電気的に接続されている。制御部50は、液面検知セ
ンサ41、42や近接センサ27a、27bの検出信号
を受けて、予め入力されたプログラムに従ってこれらの
動作を制御する。
【0050】このような構成のもと、例えばボトルBT
1が空になったときには以下のように動作する。すなわ
ち、ボトルBT1が空になると、供給ラインL1aから
エアを吸引するようになる。吸引されたエアは、トラッ
プタンク10a内にて上方に溜まるため、供給ラインL
2から吐出ノズルに入り込むおそれはない。しかし、供
給ラインL1aから吸引されたエアの量が増加するに従
って、トラップタンク10aに貯留されたレジストの液
面レベルは徐々に低下し、やがて基準レベルよりも低く
なる。レジストの液面レベルが基準レベルよりも低くな
ると、液面検知センサ40がその旨を検知し、制御部5
0に伝達するとともに警報部51によってアラームが発
せられる。
【0051】このとき制御部50は、三方弁60を切り
替えるように制御して、トラップタンク10b、すなわ
ちボトルBT2からレジストを吐出ノズルに供給するこ
とができる。従って、上記実施形態のように、新たな基
板の払い出しを中断する必要はなく、通常の基板処理を
連続して行うことができる。
【0052】そして、三方弁60を切り替えた後、空の
ボトルBT1を新たなボトルBT1に交換し、トラップ
タンク10aのエア抜き作業を行う。このときのエア抜
き作業は上記実施形態と同じである。すなわち、制御部
50による制御の下、ポンプ31の吸引動作によって行
う。但し、図2の処理液供給装置では、ボトルBT2か
らの通常のレジスト供給が続行されているため、エア抜
き作業に時間的余裕を持たせることができる。
【0053】この空のボトルBT1を新たなボトルBT
1に交換するときに、ボトルBT1からキャップCP1
が抜き取られると近接センサは27aは、キャップCP
1の塞がり状態が不完全であることを検出し、その信号
を受けて制御部50は、表示部52に塞がり状態が不完
全の旨の表示をさせるとともに三方弁23aを制御して
ボトルBT1側に接続されたポートとトラップタンク1
0a側に接続されたポートとの間を閉止させ、ボトルB
T1側に接続されたポートと排気ラインL4a側に接続
されたポートとの間が連通するように切り替える。そし
て、ボトルBT1の交換が完了し、ボトルBT1にキャ
ップCP1が被せられて近接センサ27aがボトルBT
1の開口24aに対するキャップCP1の塞がり状態が
良好であることを検出すると、制御部50で交換された
ボトルBT1に誤りがないことが判断され、三方弁23
aのボトルBT1側のポートとトラップタンク10a側
のポートとを連通する状態に切り替えられる。排気ライ
ンL3aに設けられたポンプ31を動作させることによ
ってエア抜き作業を実行する。ポンプ31を動作させる
と、トラップタンク10a内に滞留していたエアがポン
プ31によって吸引され、排気ラインL3aを介して装
置外に排出されるとともに、供給ラインL1aを介して
新たなボトルBT1からレジストが吸引される。なお、
ポンプ30を動作させるのと同時に、装置がエア抜き作
業状態にあることを制御部50に認識させるようにして
おく。
【0054】トラップタンク10a内に滞留していたエ
アが吸引・排出されるに従って、トラップタンク10a
内のレジストの液面レベルは徐々に上昇し、やがて基準
レベルに到達する。レジストの液面レベルが基準レベル
に到達した時点にて、液面検知センサ41がその旨を検
知し、制御部50に伝達する。装置がエア抜き作業状態
にあることを認識中の制御部50は、液面検知センサ4
1からレジストの液面レベルが基準レベルに到達した旨
の信号を受けたときに、ポンプ31の吸引動作を停止さ
せる。
【0055】一方、ボトルBT1が交換されても交換に
誤りがあった場合には、交換されたボトルBT1にキャ
ップCP1が完全に嵌まり込まず、近接センサ27aが
ボトルBT1の開口24aに対するキャップCP1の塞
がり状態が不完全であることを検出したままとなる。す
ると、制御部50ではボトルBT1の開口24aに対す
るキャップCP1の塞がり状態が不完全であるとの判断
を続け、制御部50は、そのまま表示部52にキャップ
CP1の塞がり状態が不完全であることを表示させると
ともに、三方弁23aをボトルBT1側に接続されたポ
ートとトラップタンク10a側に接続されたポートとの
間を閉止させ、ボトルBT1側に接続されたポートと排
気ラインL4a側に接続されたポートとの間が連通する
ように切り替えた状態を維持せしめる。このとき、三方
弁23aのボトルBT1側に接続されたポートとトラッ
プタンク10a側に接続されたポートとの間は閉止され
ているので、例え、ポンプ31が駆動されても供給ライ
ンL1aを介して新たなボトルBT1からトラップタン
ク10aへ向けて誤った処理液が吸引されることはな
く、誤った処理液が吐出ノズルに供給されることはな
い。
【0056】このようにすれば、例え作業者がボトルB
T1とキャップCP1とがきちんと嵌合していないこと
にすら気づかず、ボトルBT1の交換を誤ったことに気
づかなかった場合でもエア抜き作業の際に、誤ったボト
ルBT1から所望しない処理液がトラップタンク10a
に供給されることを防止でき、基板に対して不適切な処
理液を供給するようなことがなくなり、基板を無駄にす
るようなことを防ぐことができる。
【0057】このボトルBT1の交換が誤りであった場
合にも、ボトルBT2のレジストが逐次使用されてゆ
き、ボトルBT2が空になり、トラップタンク10bに
貯留されたレジストの液面レベルは徐々に低下し、やが
て基準レベルよりも低くなる。レジストの液面レベルが
基準レベルよりも低くなると、液面検知センサ42がそ
の旨を検知し、制御部50に伝達するとともに警報部5
1によってアラームが発せられる。しかし、このときボ
トルBT1は、誤って交換されたボトルであったため三
方弁23aは、そのボトルBT1側に接続されたポート
とトラップタンク10a側に接続されたポートとの間が
閉止されたままであり、トラップタンク10aにはレジ
ストが貯め込まれていない。そこで制御部50は、その
旨の液面検知センサ41からの検出信号を受けて三方弁
60を切替えることなく、図外のインデクサに新たな基
板の払い出しを禁ずる旨の信号を送信する。
【0058】そして、このときトラップタンク10bに
残量しているレジストでその時点で既に払い出されてい
る基板に対してレジストを供給して処理を行っていく。
従って、トラップタンク10bにおける基準レベルは、
少なくとも処理途中にある基板の処理を続行できるだけ
のレジストを確保できる位置に設定されている。
【0059】そして、ボトルBT1ではなく、ボトルB
T2を交換しようとしてこの交換も誤った場合でも、ボ
トルBT2からキャップCP2をはずした時点から引き
続き、近接センサ27bがボトルBT2の開口24bに
対するキャップCP2の塞がり状態が不完全であること
を検出したままとなる。すると、制御部50ではボトル
BT2の開口24bに対するキャップCP2の塞がり状
態が不完全であるとの判断を続け、制御部50は、その
まま表示部52にキャップCP2の塞がり状態が不完全
であることを表示させるとともに、三方弁23bをボト
ルBT2側に接続されたポートとトラップタンク10b
側に接続されたポートとの間を閉止させ、ボトルBT2
側に接続されたポートと排気ラインL4b側に接続され
たポートとの間が連通するように切り替えた状態を維持
せしめる。このとき、三方弁23bのボトルBT1側に
接続されたポートとトラップタンク10b側に接続され
たポートとの間は閉止されているので、例え、ポンプ2
0が駆動されても供給ラインL1bを介して交換を誤っ
た新たなボトルBT2からトラップタンク10bへ向け
て誤った処理液が吸引されることはなく、誤った処理液
が吐出ノズルに供給されることはない。
【0060】このようにすれば、例え作業者がボトルB
T2とキャップCP2とがきちんと嵌合していないこと
にすら気づかず、ボトルBT2の交換をも誤ったことに
気づかなかった場合でもエア抜き作業の際に、誤ったボ
トルBT2から所望しない処理液がトラップタンク10
bに供給されることを防止でき、基板に対して不適切な
処理液を供給するようなことがなくなり、基板を無駄に
するようなことを防ぐことができる。
【0061】本実施形態においては、ボトルBT1およ
びBT2が貯留容器に相当し、供給ラインL1a、L1
b、L2が処理液供給経路に相当し、キャップCP1、
CP2が蓋体に相当し、トラップタンク10a、10b
が一時貯留容器に相当し、三方弁23a、23bが開閉
弁に相当し、近接センサ27a、27bが塞がり状態検
出手段に相当し、制御部50が制御手段に相当する。
【0062】次に第3の実施の形態につき図3に基づき
説明する。図3も2本以上のボトルが接続される処理液
供給装置を示す概略構成図である。図3の処理液供給装
置は、供給ラインL1aおよびL1bにそれぞれ三方弁
23a、23bを備えない点、排気ラインL4a、L4
bを備えない点、およびボトルBT1に対するキャップ
CP1の不完全な塞がり状態またはボトルBT2に対す
るキャップCP2の不完全な塞がり状態が検出された際
にそれに対応するポンプ31または32を吸引禁止状態
に制御する点で、図2の処理液供給装置と異なる。その
他の構成については、図2の処理液供給装置と同じであ
り、同一の符号を付している。
【0063】このような構成のもと、例えばボトルBT
1が空になったときには以下のように動作する。すなわ
ち、ボトルBT1が空になると、トラップタンク10a
に貯留されたレジストの液面レベルは徐々に低下し、や
がて基準レベルよりも低くなる。レジストの液面レベル
が基準レベルよりも低くなると、液面検知センサ41が
その旨を検知し、制御部50に伝達するとともに警報部
51によってボトル交換の時期を知らせるアラームが発
せられる。
【0064】このとき制御部50は、三方弁60を切り
替えるように制御して、トラップタンク10b、すなわ
ちボトルBT2からレジストを吐出ノズルに供給するこ
とができる。従って、新たな基板の払い出しを中断する
必要はなく、通常の基板処理を連続して行うことができ
る。
【0065】そして、三方弁60を切り替えた後、空の
ボトルBT1を新たなボトルBT1に交換し、トラップ
タンク10aのエア抜き作業を行う。このときのエア抜
き作業は上記実施形態と同じである。すなわち、制御部
50による制御の下、ポンプ31の吸引動作によって行
う。但し、図3の処理液供給装置では、ボトルBT2か
らの通常のレジスト供給が続行されているため、エア抜
き作業に時間的余裕を持たせることができる。
【0066】この空のボトルBT1を新たなボトルBT
1に交換するときに、ボトルBT1からキャップCP1
が抜き取られると近接センサは27aは、キャップCP
1の塞がり状態が不完全であることを検出し、その信号
を受けて制御部50は、表示部52に塞がり状態が不完
全の旨の表示をさせるとともに排気ラインL3aに設け
られたポンプ31の動作を禁止させるように制御する。
そして、ボトルBT1の交換が完了し、ボトルBT1に
キャップCP1が被せられて近接センサ27aがボトル
BT1の開口24aに対するキャップCP1の塞がり状
態が良好であることを検出すると、制御部50で交換さ
れたボトルBT1に誤りがないことが判断され、ポンプ
31を能動状態に制御して動作させることによってエア
抜き作業を実行する。ポンプ31を動作させると、トラ
ップタンク10a内に滞留していたエアがポンプ31に
よって吸引され、排気ラインL3aを介して装置外に排
出される。このときに、供給ラインL1aを介して新た
なボトルBT1からレジストが吸引される。なお、ポン
プ31を動作させるのと同時に、装置がエア抜き作業状
態にあることを制御部50に認識させるようにしてお
く。
【0067】トラップタンク10a内に滞留していたエ
アが吸引・排出されるに従って、トラップタンク10a
内のレジストの液面レベルは徐々に上昇し、やがて基準
レベルに到達する。レジストの液面レベルが基準レベル
に到達した時点にて、液面検知センサ41がその旨を検
知し、制御部50に伝達する。装置がエア抜き作業状態
にあることを認識中の制御部50は、液面検知センサ4
1からレジストの液面レベルが基準レベルに到達した旨
の信号を受けたときに、ポンプ31の吸引動作を停止さ
せる。
【0068】一方、ボトルBT1が交換されても交換に
誤りがあった場合には、交換されたボトルBT1にキャ
ップCP1が完全に嵌まり込まず、近接センサ27aが
ボトルBT1の開口24aに対するキャップCP1の塞
がり状態が不完全であることを検出したままとなる。す
ると、制御部50ではボトルBT1の開口24aに対す
るキャップCP1の塞がり状態が不完全であるとの判断
を続け、制御部50は、そのまま表示部52にキャップ
CP1の塞がり状態が不完全であることを表示させると
ともに、ポンプ31に対しての動作を禁止した状態を維
持せしめる。したがって、ポンプ31が駆動されないの
で供給ラインL1aを介して新たなボトルBT1からト
ラップタンク10aへ向けて処理液が吸引されることは
なく、誤った処理液がノズルに供給されることはない。
【0069】このようにすれば、例え作業者がボトルB
T1とキャップCP1とがきちんと嵌合していないこと
にすら気づかず、ボトルBT1の交換を誤ったことに気
づかなかった場合でもエア抜き作業の際に、誤ったボト
ルBT1から所望しない処理液がトラップタンク10a
に供給されることを防止でき、基板に対して不適切な処
理液を供給するようなことがなくなり、基板を無駄にす
るようなことを防ぐことができる。
【0070】このボトルBT1の交換が誤りであった場
合にも、ボトルBT2のレジストが逐次使用されてゆ
き、ボトルBT2が空になり、トラップタンク10bに
貯留されたレジストの液面レベルは徐々に低下し、やが
て基準レベルよりも低くなる。レジストの液面レベルが
基準レベルよりも低くなると、液面検知センサ42がそ
の旨を検知し、制御部50に伝達するとともに警報部5
1によってアラームが発せられる。しかし、このときボ
トルBT1は、誤って交換されたボトルであったためポ
ンプ31の駆動は禁止された状態となっており、トラッ
プタンク10aにはレジストが貯め込まれていない。そ
こで制御部50は、その旨の液面検知センサ41からの
検出信号を受けて三方弁60を切替えることなく、図外
のインデクサに新たな基板の払い出しを禁ずる旨の信号
を送信する。このように三方弁60は、切り替わらない
ので供給ラインL1aから誤った処理液が供給ラインL
2に供給されることはない。
【0071】そして、このときトラップタンク10bに
残量しているレジストでその時点で既に払い出されてい
る基板に対してレジストを供給して処理を行っていく。
従って、トラップタンク10bにおける基準レベルは、
少なくとも処理途中にある基板の処理を続行できるだけ
のレジストを確保できる位置に設定されている。
【0072】本実施形態においては、ボトルBT1およ
びBT2がそれぞれ第1および第2の貯留容器に相当
し、供給ラインL1aおよびL1bがそれぞれ第1およ
び第2の処理液供給経路に相当し、供給ラインL2が第
3の処理液供給経路に相当し、三方弁60が切り替え弁
に相当し、キャップCP1およびCP2がそれぞれ第1
および第2の蓋体に相当し、トラップタンク10aおよ
び10bがそれぞれ第1および第2の一時貯留容器に相
当し、排気ラインL3aおよびL3bがそれぞれ第1お
よび第2の空気排出経路に相当し、ポンプ31および3
2がそれぞれ第1および第2の吸引手段に相当し、液面
検知センサ41および42がそれぞれ第1および第2の
残量検知センサに相当し、ポンプ20が処理液供給ポン
プに相当し、近接センサ27aおよび27bがそれぞれ
第1および第2の塞がり状態検出手段に相当し、制御部
50が切り替え弁制御手段と吸引禁止状態制御手段に相
当する。
【0073】上記各実施の形態においては、ボトルに対
するキャップの塞がり状態を近接センサを用いて簡単な
構成で容易に検出することができる。但し、塞がり状態
を検出する構成はこれに限られるものではない。
【0074】また、上記各実施の形態においては、ボト
ルに対するキャップの塞がり状態が不完全であった場合
に表示部で表示できる構成としているので、オペレータ
が塞がり状態を容易に確認することができる。
【0075】また、上記実施の形態のおいては、処理液
としてレジストを用いた場合について説明したが、それ
に限られるものではなく、現像液、層間絶縁膜形成用塗
布液、溶剤、洗浄液など各種の処理液に本発明は適用可
能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる処理液供給装置の概略構成を示
す図である。
【図2】本発明にかかる処理液供給装置の他の例の概略
構成を示す図である。
【図3】本発明にかかる処理液供給装置の他の例の概略
構成を示す図である。。
【図4】従来の処理液供給装置の概略構成を示す図であ
る。
【符号の説明】
10、10a、10b トラップタンク 20 処理液供給ポンプ 23、23a、23b 三方弁 27、27a、27b 近接センサ 40、41、42 液面検知センサ 50 制御部 52 表示部 60 三方弁 L1、L1a、L1b、L2 供給ライン BT、BT1、BT2 ボトル CP、CP1、CP2 キャップ L3、L3a、L3b 排気ライン L4、L4a、L4b 排気ライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AB16 AB20 EA04 4F042 AA07 BA08 CB02 CB08 CB13 CB20 5F046 JA01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を処理するための処理液をノズルに
    供給する処理液供給装置であって、 開口部を有し、処理液が貯留される貯留容器と、 前記貯留容器に貯留された処理液を前記ノズルに導く処
    理液供給経路と、 前記処理液供給経路の一端部が内挿され、前記貯留容器
    の開口を塞ぐ蓋体と、 前記処理液供給経路に設けられ、前記貯留容器から導か
    れた処理液を一時貯留する一時貯留容器と、 前記処理液供給経路における前記一時貯留容器よりも下
    流側に設けられ、前記一時貯留容器に貯留された処理液
    を前記ノズルに導く処理液供給ポンプと、 前記処理液供給経路における前記一時貯留容器よりも上
    流側に設けられた開閉弁と、 前記貯留容器の開口に対する前記蓋体の塞がり状態を検
    出する塞がり状態検出手段と、 前記検出手段によって、前記貯留容器の開口に対する蓋
    体の塞がり状態の不完全が検出された場合に、前記開閉
    弁を前記貯留容器から一時貯留容器への処理液の供給が
    遮断されるように閉止させる制御手段とを備えたことを
    特徴とする処理液供給装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の処理液供給装置におい
    て、 前記開閉弁は、その一方が排気ラインに接続された三方
    弁よりなり、前記制御手段は、前記検出手段によって、
    前記貯留容器の開口に対する蓋体の塞がり状態の不完全
    が検出された場合に、前記開閉弁の開閉状態を前記貯留
    容器と前記排気ラインとを連通させるように切り替えて
    前記貯留容器から一時貯留容器への処理液の供給が遮断
    されるように前記貯留容器と一時貯留容器間を閉止させ
    るように制御するものであることを特徴とする処理液供
    給装置。
  3. 【請求項3】 基板を処理するための処理液をノズルに
    供給する処理液供給装置であって、 それぞれ開口部を有し、処理液が貯留される第1および
    第2の貯留容器と、 前記第1および第2の貯留容器に貯留された処理液をそ
    れぞれ導く第1および第2の処理液供給経路と、 前記第1および第2の処理液供給経路と接続されて処理
    液を前記ノズルまで導く第3の処理液供給経路と、 前記第1および第2の処理液供給経路と第3の処理液供
    給経路との接続箇所に設けられ、前記第1の処理液供給
    経路と第3の処理液供給経路とが連通する状態と前記第
    2の処理液供給経路と第3の処理液供給経路とが連通す
    る状態とに切り替える切り替え弁と、 前記第1および第2の処理液供給経路の一端部がそれぞ
    れ内挿され、それぞれ前記第1および第2の貯留容器の
    開口を塞ぐ第1および第2の蓋体と、 前記第1および第2の処理液供給経路にそれぞれ設けら
    れ、前記第1および第2の貯留容器から導かれた処理液
    を一時貯留する第1および第2の一時貯留容器と、 前記第1および第2の一時貯留容器の上部にそれぞれ接
    続され、前記第1および第2の一時貯留容器内に滞留し
    た空気を排出する第1および第2の空気排出経路と、 前記第1および第2の空気排出経路にそれぞれ設けら
    れ、前記第1および第2の貯留容器内を吸引する第1お
    よび第2の吸引手段と、 前記第1および第2の貯留容器内の処理液の残量の低下
    をそれぞれ検知して検出信号を出力する第1および第2
    の残量検知センサと、 前記第2の処理液供給経路に設けられ、前記第1または
    第2の処理液供給経路からの処理液を前記ノズルに供給
    する処理液供給ポンプと、 前記第1の貯留容器および第2の貯留容器の開口に対す
    る前記第1および第2の蓋体の塞がり状態をそれぞれ検
    出する第1および第2の塞がり状態検出手段と、 前記第1および第2の残量検出センサのいずれかから残
    量の低下を検出する検出信号を入力したときに、他方の
    残量検出センサが残量低下を検出していないことを条件
    に、前記第1の処理液供給経路および第2の処理液供給
    経路のそれぞれと第3の処理液供給経路との連通状態を
    切り替えるように前記切り替え弁を制御する切替え弁制
    御手段と、 前記第1および第2の塞がり状態検出手段のいずれかか
    ら、塞がり状態の不完全が検出された場合に、前記第1
    および第2の吸引手段のうちの対応する吸引手段を吸引
    禁止状態に制御する吸引禁止状態制御手段とを備えたこ
    とを特徴とする処理液供給装置。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3に記載の処理液供給装
    置において、 前記塞がり状態検出手段は、前記貯留容器の開口を塞ぐ
    蓋体に付設された近接センサよりなることを特徴とする
    処理液供給装置。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4に記載の処理液供給装
    置において、 前記塞がり状態検出手段が、塞がり状態の不完全を検出
    した場合にそのことを表示する表示手段を設けたことを
    特徴とする処理液供給装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007523471A (ja) * 2003-12-29 2007-08-16 エーエスエムエル ホールデイング エヌ.ブイ. ポリマー溶液を基板上に塗布する方法及び装置
JP2007320165A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Canon Inc インクジェット記録装置およびインクジェット記録装置の制御方法
US7918242B2 (en) 2006-05-19 2011-04-05 Tokyo Electron Limited Processing solution supply system, processing solution supply method and recording medium for storing processing solution supply control program
JP2013247276A (ja) * 2012-05-28 2013-12-09 Sokudo Co Ltd 薬液供給方法と薬液供給装置と基板処理装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007523471A (ja) * 2003-12-29 2007-08-16 エーエスエムエル ホールデイング エヌ.ブイ. ポリマー溶液を基板上に塗布する方法及び装置
US7918242B2 (en) 2006-05-19 2011-04-05 Tokyo Electron Limited Processing solution supply system, processing solution supply method and recording medium for storing processing solution supply control program
KR101176242B1 (ko) * 2006-05-19 2012-08-28 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 처리액공급 장치 및 처리액공급 방법 및 처리액공급용 제어프로그램의 기록매체
JP2007320165A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Canon Inc インクジェット記録装置およびインクジェット記録装置の制御方法
US8201919B2 (en) 2006-05-31 2012-06-19 Canon Kabushiki Kaisha Ink-jet printing apparatus and method of controlling ink-jet printing apparatus
JP2013247276A (ja) * 2012-05-28 2013-12-09 Sokudo Co Ltd 薬液供給方法と薬液供給装置と基板処理装置

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