KR20070109857A - 광기록매체 제조용 시트 및 광기록매체, 및 그것들의제조방법 - Google Patents
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Abstract
저렴한 가격으로 간편하게 보호층 또는 스탬퍼 수용층을 형성할 수 있고, 수율도 양호한 광기록매체 제조용 시트를 제공한다.
에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 조성물을 기재(12)에 도포하고, 얻어진 도포막에 에너지선을 조사하여 에너지선 경화성 성분을 반경화시킴으로써, 접착력이 10mN/25mm 이상인 에너지선 경화성층(11)을 형성하고, 이 에너지선 경화성층(11)에 기재(12')를 붙여서, 이것을 광기록매체(광디스크) 제조용 시트(1)로 한다.
광기록매체, 시트
Description
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 광기록매체 제조용 시트의 단면도.
도 2는 동 실시 형태에 따른 광기록매체 제조용 시트를 사용한 광디스크 제조방법의 일례를 도시한 단면도.
도 3은 동 실시 형태에 따른 광기록매체 제조용 시트를 사용한 광디스크 제조방법의 다른예를 도시한 단면도.
부호의 설명
1…광기록매체 제조용 시트
11…에너지선 경화성층
12,12'…기재
2…광디스크 기판
3…기록층
4…접착제
5…보호시트
본 발명은 광기록매체에서의 보호층 또는 스탬퍼 수용층을 형성하여 광기록매체를 제조할 수 있는 광기록매체 제조용 시트 및 그 제조방법, 및 이러한 광기록매체 제조용 시트를 사용하여 제조한 광기록매체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
광기록매체의 일종인 블루레이 디스크(Blu-ray Disc)에서는, 일반적으로 보호층을 통하여 기록층에 레이저를 조사함으로써 정보를 기록·재생하고 있다. 이 때, 보호층의 레터데이션이 높으면 파면 수차가 발생하여, 신호특성을 악화시킨다. 레터데이션이 낮은 보호층을 형성하는 방법으로는,
(1) 높은 막두께 정밀도를 갖는 저 레터데이션 필름 기재를 점착제 또는 접착제에 의해 기록층 상에 맞추어 붙이는 방법(특허문헌 1,2)
(2) 광경화성 접착제 필름을 기록층 상에 맞추어 붙이는 방법(특허문헌 3)
특허문헌 1 : 일본특허 제3338660호 공보
특허문헌 2 : 일본특개 2004-62959호 공보
특허문헌 3 : 일본특개 2002-25110호 공보
그렇지만, (1)의 방법에서는, 필름 기재가 고가이고, 또한 광기록매체의 제조방법으로서 공정수가 많기 때문에, 코스트의 저감이 곤란하였다. 또한, (2)의 방법에서도, 블랭킹가공 공정에 있어서 재료의 특성에 기인하는 것으로 생각되는 접착제가 불거져 나옴으로써 쉽게 변형 등이 발생되기 때문에, 수율 향상이 곤란하였다.
본 발명은 이와 같은 실상에 비추어서 이루어진 것으로, 저렴한 가격으로 간편하게 보호층 또는 스탬퍼 수용층을 형성할 수 있고, 수율도 양호한 광기록매체 제조용 시트 및 그 제조방법, 및 이러한 광기록매체 제조용 시트를 사용하여 제조된 광기록매체 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 첫번째로 본 발명은, 기재와, 상기 기재에 적층된 에너지선 경화성층을 구비한 광기록매체 제조용 시트로서, 상기 에너지선 경화성층은, 반경화 상태에 있고, 또한 접착력이 10mN/25mm 이상인 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트를 제공한다(청구항 1).
한편, 본 명세서에서의「광기록매체」는, 광학적인 정보를 기록·재생할 수 있는 매체를 의미하고, 주로 재생 전용형, 추가 기록형 또는 재기록형 디스크 형태의 매체(예컨대, CD, CD-ROM, CD-R, CD-RW, DVD, DVD-ROM, DVD-R, DVD-RW, DVD-RAM, LD, Blu-ray Disc, HD DVD, M0 등; 이른바 광디스크(광자기 디스크를 포함))가 해당되지만, 반드시 이들에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 명세서에서의 「반경화」는, 미경화와 완전경화 사이의 상태로서, 또한 에너지선 경화성층이 기록층에 접착될 수 있는 접착력을 발휘하는 상태를 의미한다. 또한, 본 명세서에서의 에너지선 경화성층의 접착력은, 후술하는 시험예에 따라 측정한 값으로 표시하는 것으로 한다.
상기 발명(청구항 1)에 따르면, 보호층으로서 고가의 필름 기재를 사용하는 것이 아니고, 저렴한 가격으로 간편하게 보호층을 형성할 수 있고, 또한 블랭킹가공 시에는 불거져 나옴으로 변형 등이 발생되지 않기 때문에, 수율도 양호하다.
상기 발명(청구항 1)에서, 상기 에너지선 경화성층은, 중합성의 이중결합을 갖는 에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 재료가 에너지선의 조사에 의해 반경화된 것이고, 상기 에너지선의 조사에 의한 상기 에너지선 경화성 성분의 이중결합의 소실 비율이 20~90%인 것이 바람직하다(청구항 2).
상기 발명(청구항 1,2)에서, 상기 에너지선 경화성층은, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머를 주성분으로 하는 재료가 반경화된 것이 바람직하다(청구항 3). 이러한 발명(청구항 3)에 따르면, 재료의 도포 시에 용제를 사용할 필요가 없어서, 용제의 휘발에 기인하는 기포의 발생을 방지할 수 있다.
상기 발명(청구항 1~3)에서는, 상기 기재의 상기 에너지선 경화성층과 접촉하는 측의 면의 표면 거칠기(Ra)가 0.1㎛ 이하인 것(청구항 4), 또는 상기 에너지선 경화성층의 양면에 기재가 적층되어 있고, 상기 양 기재의 상기 에너지선 경화성층과 접촉하는 측의 면의 표면 거칠기(Ra)가 0.1㎛ 이하인 것(청구항 5)이 바람직하다.
상기 발명(청구항 1~5)에서, 상기 에너지선 경화성층은, 광기록매체의 보호층을 형성하는 것이어도 좋고(청구항 6), 스탬퍼 수용층을 형성하는 것이어도 좋다(청구항 7).
두번째로 본 발명은, 에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 조성물을 기재에 도포해서, 얻어진 도포막에 에너지선을 조사하여 상기 에너지선 경화성 성분 을 반경화시켜서, 접착력이 10mN/25mm 이상인 에너지선 경화성층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트의 제조방법을 제공한다(청구항 8).
상기 발명(청구항 8)에서는, 상기 도포막에 별도의 기재를 붙이고나서 에너지선을 조사하여도 좋고(청구항 9), 상기 형성된 에너지선 경화성층에 별도의 기재를 붙여도 좋다(청구항 10).
상기 발명(청구항 8~10)에서는, 상기 에너지선 경화성 성분이 중합성의 이중결합을 갖고, 상기 에너지선의 조사에 의해, 상기 이중결합을 20~90% 소실시키는 것이 바람직하다(청구항 11).
상기 발명(청구항 8~11)에서, 상기 에너지선 경화성 성분은, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머를 주성분으로 하는 것이 바람직하다(청구항 12).
상기 발명(청구항 8~12)에서, 상기 에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 조성물은, 용제를 함유하지 않은 것이 바람직하다(청구항 13).
세번째로 본 발명은, 상기 광기록매체 제조용 시트(청구항 1~7)에서의 에너지선 경화성층의 한쪽면을 노출시킨 상태로 하고, 상기 에너지선 경화성층의 노출면을 광기록매체의 기록층에 붙이고, 상기 에너지선 경화성층에 대해 에너지선을 조사하여 상기 에너지선 경화성층을 경화시킴으로써, 보호층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광기록매체의 제조방법을 제공한다(청구항 14).
네번째로 본 발명은, 상기 광기록매체 제조용 시트(청구항 1~7)에서의 에너지선 경화성층의 한쪽면을 노출시킨 상태로 하고, 상기 에너지선 경화성층의 노출면을 광기록매체의 기록층에 붙이고, 상기 에너지선 경화성층의 다른쪽면을 노출시 켜서 상기 노출면에 스탬퍼를 압착하고, 상기 에너지선 경화성층에 대해 에너지선을 조사하여 상기 에너지선 경화성층을 경화시키고나서 상기 스탬퍼를 박리함으로써, 상기 스탬퍼의 요철 패턴이 전사·고정된 스탬퍼 수용층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광기록매체의 제조방법을 제공한다(청구항 15).
다섯번째로 본 발명은, 상기 광기록매체 제조용 시트(청구항 1~7)를 사용하여 제조된 것을 특징으로 하는 광기록매체를 제공한다(청구항 16).
본 발명에 따르면, 저렴한 가격으로 간편하게 광기록매체의 보호층 또는 스탬퍼 수용층을 형성할 수 있고, 광기록매체 제조용 시트 또는 광기록매체의 제조에서의 수율도 양호하다.
본
발명을 실시하기
위한
최량의
형태
이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 광디스크 제조용 시트의 단면도이다. 본 실시 형태에 따른 광디스크 제조용 시트(1)는, 에너지선 경화성층(11)과, 에너지선 경화성층(11)의 양면에 적층된 기재(12),(12')로 이루어진다. 단, 기재(12),(12')는, 광디스크 제조용 시트(1)의 사용 시에 박리되는 것이다.
에너지선 경화성층(11)은, 광디스크의 기록층을 보호하는 보호층, 또는 광디스크에서, 스탬퍼에 형성되어 있는 요철 패턴이 전사되어, 피트 또는 글루브/랜드가 구성되는 스탬퍼 수용층을 구성할 수 있는 층이다.
이 에너지선 경화성층(11)은, 반경화 상태에 있다. 따라서, 이 광디스크 제 조용 시트(1)를 광디스크의 형상으로 블랭킹 가공할 때에, 에너지선 경화성층(11)이 불거져 나오거나, 변형되거나 할 우려가 없어, 수율을 높게 유지할 수가 있다.
이 에너지선 경화성층(11)은, 기재(12),(12')의 어느 한쪽(예컨대 기재(12))의 표면 상에, 중합성의 이중결합을 갖는 에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 조성물(이하 「에너지선 경화성 조성물」이라 함)을 도포하고, 얻어진 도포막에 에너지선을 조사하여 에너지선 경화성 조성물을 반경화시킴으로써 형성할 수 있다.
한편, 다른쪽의 기재(예컨대 기재(12'))는, 에너지선 조사 전에 상기 도포막에 붙여도 좋고, 에너지선 조사 후, 형성된 에너지선 경화성층(11)에 붙여도 좋다. 이 기재(12')를 붙임으로써, 에너지선 경화성층(11)의 표면에 손상이 가는 것을 방지할 수가 있다.
에너지선 경화성 성분은, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 에너지선 경화성 조성물을 도포할 때에 용제를 사용하면, 건조 시에 용제의 휘발에 기인하여 에너지선 경화성층(11)에 기포가 발생되는 경우가 있지만, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머는 점도가 낮기 때문에, 이것을 주성분으로 하는 에너지선 경화성 조성물은 도포 시에 용제를 필요로 하지 않아서 기포가 없는 에너지선 경화성층(11)을 형성할 수가 있다.
에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머로서, 다가알코올과 중합성의 이중결합을 갖는(메트)아크릴산의 에스테르를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머로서는, 예컨대 시크로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, p-큐밀페녹시에틸(메트)아크릴레이트 등의 단 관능성 아크릴산 에스테르류, 우레탄(메트)아크릴레이트, 비스페놀A디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드변성비스페놀A디(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드변성비스페놀A디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨헥사(메트)아크릴레이트, 1, 4－부탄디올디(메트)아크릴레이트, １,６－헥산디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디메틸올트리시클로데칸디(메트)아크릴레이트 등의 다관능성 아크릴산 에스테르류, 폴리에스테르올리고(메트)아크릴레이트, 폴리우레탄올리고(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들의 에너지선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머는 한 종류를 단독으로 사용하여도 좋고, 두 종류 이상을 병용하여도 좋다.
에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머의 질량 평균 분자량은, 70~10,000인 것이 바람직하고, 특히 200~5,000인 것이 바람직하다.
에너지선 경화성 성분은, 에너지선 경화성 폴리머를 함유하여도 좋다. 에너지선 경화성 폴리머로서는, 측쇄에 에너지선 경화성기가 도입된 (메트)아크릴산에스테르(공)중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이 (메트)아크릴산에스테르(공)중합체는, 관능기 함유 모노머 단위를 갖는 (메트)아크릴계 공중합체(a1)와, 이 관능기에 결합하는 치환기를 갖는 불포화기 함유 화합물(a2)을 반응시킴으로써 얻어진다.
아크릴계 공중합체(a1)는, 관능기 함유 모노머와, (메트)아크릴산 에스테르 모노머 또는 이 유도체를 공중합함으로써 얻어진다. 관능기 함유 모노머로서는, 예 컨대 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3- 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산 등을 들 수 있고, (메트)아크릴산에스테르 모노머로서는, 예컨대 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
불포화기 함유 화합물(a2)로서는, 예컨대 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 메타-이소프로페닐-α, α-디메틸벤젤이소시아네이트, 메타크릴로일이소시아네이트, 아릴이소시아네이트, 1, 1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과, 히도록시에틸(메트)아크릴레이트의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과, 폴리올 화합물과, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물; 글리시딜(메트)아크릴레이트; (메트)아크릴산, 2-(1-아지리디닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-비닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 등을 들 수 있다.
에너지선 경화성 폴리머의 질량 평균 분자량은, 20,000~2,5000,000인 것이 바람직하고, 특히 50,000~1,000,000인 것이 바람직하다.
에너지선 경화성 폴리머의 함유량은, 에너지선 경화성 조성물 중, 0.5~60질 량%인 것이 바람직하다. 에너지선 경화성 조성물이에너지선 경화성 폴리머를 이 범위에서 함유함으로써, 비교적 두께운 막의 에너지선 경화성층을 형성할 경우에도, 에너지선 경화성 조성물을 도포하여 소망하는 두께로 하는 것이 용이하게 된다.
에너지선 경화성층(11)을 경화시키기 위한 에너지선으로서 자외선을 사용할 경우에는, 에너지선 경화성 조성물은, 광중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하고, 이 광중합 개시제의 사용에 의해, 중합 경화시간 및 광선 조사량을 적게 할 수가 있다.
광중합 개시제로서는, 구체적으로는, 벤조페논, 아세트페논, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인 안식향산, 벤조인 안식향산 메틸, 벤조인디메틸케탈, 2,4-디에틸티오크산톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤질디페닐설파이드, 테트라메틸티우람모노설파이드, 아조비스이소부티로니트릴, 벤질, 디벤질, 디아세틸, β-클로로안트라퀴논, (2, 4, 6-트리메틸벤질디페닐)포스핀옥사이드, 2-벤조티아졸-Ｎ, Ｎ-디에틸디티오카바메이트, 올리고{2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-프로페닐)페닐]프로파논}, 2,2-디메톡시-1, 2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 이들 중에서도, 에너지선 경화성층(11)에 조사하는 자외선의 파장과 동일한 흡수 영역을 갖는 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다.
광중합 개시제는, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머(에너지선 경화성 폴리머를 배합하는 경우에는, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머 및 에 너지선 경화성 모노머의 합계량 100질량부) 100질량부에 대해서 0.1~10질량부, 특히는 0.5~6질량부의 범위의 량으로 사용되는 것이 바람직하다.
에너지선 경화성 조성물은, 에너지선 비경화성 폴리머를 함유하여도 좋다. 에너지선 비경화성 폴리머로서는, 예컨대 저렴한 가격으로 투명성이 우수한 아크릴 수지, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
아크릴 수지로서는, 예컨대 관능기 함유 모노머와, (메트)아크릴산 에스테르 모노머 또는 그 유도체를 공중합함으로써 얻어지는 것을 사용할 수가 있다. 관능기 함유 모노머로서는, 예컨대 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산 등을 들 수 있고, (메트)아크릴산 에스테르 모노머로서는, 예컨대 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
에너지선 비경화성 폴리머의 질량 평균 분자량은, 20,000~2,500,000인 것이 바람직하고, 특히 50,000~1,000,000인 것이 바람직하다.
에너지선 비경화성 폴리머의 함유량은, 에너지선 경화성 조성물 중, 0.5~60질량%인 것이 바람직하다. 에너지선 경화성 조성물이 에너지선 비경화성 폴리머를 이 범위에서 함유함으로써, 비교적 두께운 막의 에너지선 경화성층을 형성하는 경 우에서도, 에너지선 경화성 조성물을 도포하여 소망하는 두께로 하는 것이 용이하게 된다.
또한, 에너지선 경화성 조성물은, 상기 에너지선 경화성 조성물 중에 관능기를 갖는 폴리머를 함유하는 경우, 가교제를 함유하여도 좋다. 가교제로서는, 예컨대 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아민 화합물, 멜라민 화합물, 아지리딘 화합물, 히드라진 화합물, 알데히드 화합물, 옥사졸린 화합물, 금속 알콕시드 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속염, 암모늄염, 반응성 페놀 수지 등을 사용할 수가 있다.
가교제의 함유량은, 에너지선 경화성 폴리머 및 에너지선 비경화성 폴리머의 합계량 100질량부에 대해서 0.01~30질량부인 것이 바람직하고, 특히 0.1~10질량부인 것이 바람직하다.
또한, 에너지선 경화성 조성물은, 무기 필라를 함유하여도 좋다. 무기 필라로서는, 실리카, 알루미나, 산화티탄, 산화아연, 산화칼슘, 산화안티몬, 산화주석, 산화게르마늄, 산화셀륨 등을 들 수 있다.
무기 필라의 평균 입경은 통상 0.001~200㎛이다. 또한, 무기 필라를 사용하는 경우, 이 함유량은 에너지선 경화성 조성물 중, 0.1~40질량%이다.
또한, 에너지선 경화성 조성물은, 광기록매체의 기록층에 대한 에너지선 경화성층(11)의 접착력을 향상시키기 위해, 접착성 향상제를 함유하여도 좋다. 접착성 향상제로서는, 예컨대 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 2-아크릴로일옥시에틸호박산 등을 사용하는 것이 바람직하다.
접착성 향상제의 함유량은, 에너지선 경화성 조성물 중, 0.001~10질량%인 것이 바람직하고, 특히 0,005~1질량%인 것이 바람직하다.
또한, 에너지선 경화성 조성물은, 각종 첨가제를 함유하여도 좋다. 첨가제로서는, 예컨대 에너지선 경화성층(11)의 표면 평활성을 향상시키기 위한 레벨링제 이외에, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 염료, 가소제, 증점제. 실란커플링제, 대전방지제, 점착 부여제 등을 사용할 수가 있다. 이들 첨가제의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니고, 에너지선 경화성 조성물 중, 0~30질량% 정도의 범위에서 적당하게 결정된다.
상술한 바와 같이, 에너지선 경화성 조성물을 도포할 때에는, 용제를 사용하지 않는 것이 바람직하다. 에너지선 경화성 조성물의 도포 방법으로서는, 균일한 막두께의 도막을 형성할 수 있는 나이프 코터, 롤 나이프 코터, 키스 롤 코더, 리버스 롤 코터, 다이 코터 등의 도공기를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 도포 방법에 따르면, 막두께 정밀도가 높은 에너지선 경화성층(11)을 형성할 수가 있다. 한편, 스핀 코터를 사용하면 균일한 막두께의 도막을 얻기 어렵다.
에너지선 경화성 조성물을 반경화시켜서 에너지선 경화성층(11)을 얻는데는, 상기 도막에 대해서, 에너지선을 조사한다. 에너지선으로서는, 통상 자외선, 전자선 등이 사용된다. 에너지선의 조사량은, 에너지선 경화성 조성물을 반경화시킬 수 있다면 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 자외선의 경우에는 광량으로 10~200mJ/㎠가 바람직하고, 특히 30~100mJ/㎠가 바람직하다.
여기서, 에너지선 경화성 조성물을 반경화시킬 때에는, 에너지선 경화성 성 분의 이중결합을 20~90% 소실시키는 것이 바람직하고, 특히 30~80% 소실시키는 것이 바람직하다. 이중결합의 소실비율이 90%를 초과하면, 에너지선 경화성층(11)의 표면의 접착성이 낮아지고, 광디스크의 기록층에 대한 접착력이 저하될 우려가 있다. 한편, 이중결합의 소실비율이 20%미만에서는, 에너지선 경화성층(11)의 경화가 불충분하게 되어, 광디스크 제조용 시트(1)를 광디스크의 형상으로 블랭킹 가공할 때에, 에너지선 경화성층(11)이 불거져 나오거나, 변형될 할 우려가 있다. 또한, 이 결과, 에너지선 경화성층(11)의 두께 정밀도가 저하되는 경우가 있다.
에너지선 경화성층(11)의 접착력은 10mN/25mm 이상이고, 바람직하게는 30~10000mN/25mm이고, 더 바람직하게는 50~1000mN/25mm이다. 에너지선 경화성층(11)의 접착력이 10mN/25mm 이상임으로써, 에너지선 경화성층(11)을 광디스크의 기록층에 확실하게 접착할 수가 있다.
에너지선 경화성층(11)의 두께는, 에너지선 경화성층(11)의 사용 목적을 고려하여 적당히 결정되고, 일반적으로는 0.5~600㎛인 것이 바람직하고, 특히 3~150㎛인 것이 바람직하고, 바람직하게는 15~120㎛이다.
에너지선 경화성층(11)의 1㎡ 내의 막두께 정밀도는, 목표 막두께의 ±10% 이하인 것이 바람직하고, 특히 ±5% 이하인 것이 바람직하다. ±10%를 초과하면, 레이저의 초점이 어긋나서, 정상적으로 신호를 판독하지 못할 우려가 있다. 한편, 에너지선 경화성층(11)에 대해, 에너지선을 더 조사하여 경화를 진행시킨 후에도, 상기 막두께 정밀도는 충분히 유지된다.
에너지선 경화성층(11)의 경화 후(반경화 상태의 에너지선 경화성층(11)에 에너지선을 더 조사한 후)의 레터데이션은, 20nm 이하인 것이 바람직하고, 특히 15nm 이하인 것이 바람직하다. 에너지선 경화성층(11)의 레터데이션이 20nm을 초과하면, 얻어지는 광디스크의 신호특성이 저하될 우려가 있다.
에너지선 경화성층(11)의 경화 후(반경화 상태의 에너지선 경화성층(11)에 에너지선을 더 조사한 후)의 투과성은, 405nm 분광 투과율이 80% 이상인 것이 바람직하고, 특히 85% 이상인 것이 바람직하다. 405nm 분광 투과율이 80% 미만에서는, 얻어지는 광디스크의 신호특성이 저하될 우려가 있다.
에너지선 경화성층(11)의 경화 후(반경화 상태의 에너지선 경화성층(11)에 에너지선을 더 조사한 후)의 접착력은, 50~10000mN/25mm인 것이 바람직하고, 특히 100~5000mN/25mm인 것이 바람직하다. 에너지선 경화성층(11)의 경화 후의 접착력이 이 범위에 있음으로써, 층간 박리가 발생되지 않는 광디스크가 얻어진다.
기재(12),(12')로서는, 종래 공지의 것을 사용할 수가 있고, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리프로필렌 등의 수지 필름이나, 이들 수지 필름을 실리콘계 박리제, 장쇄 알킬계 박리제, 알키드 수지계 박리제 등으로 박리 처리한 박리 필름을 사용할 수가 있다. 한편, 기재(12) 또는 기재(12')를 통해서 에너지선으로서의 자외선을 조사할 경우에는, 이 기재(12) 또는 기재(12')는 투명한 재료로 이루어질 필요가 있다.
기재(12),(12')는 에너지선 경화성층(11)에 평활성을 부여하기 위해, 에너지선 경화성층(11)과 접촉하는 측의 표면 거칠기(Ra)가 0.1㎛ 이하, 특히 0.05㎛ 이하인 것이 바람직하다. 기재(12),(12')의 표면 거칠기(Ra)가 0.1mm를 초과하면, 에 너지선 경화성층(11)의 표면 거칠기가 크게 되어, 얻어지는 광디스크의 신호특성이 저하될 우려가 있다. 기재(12),(12')의 두께는 통상 10~200㎛ 정도이고, 바람직하게는 20~100㎛ 정도이다.
한편, 기재(12),(12') 가운데, 에너지선 경화성층(11)으로부터 먼저 박리하는 쪽은 경박리 타입의 것으로 하고, 후에 박리하는 쪽은 중박리 타입의 것으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 기재(12),(12') 가운데, 한쪽을 미처리의 수지 필름, 다른쪽을 박리 필름으로 하여도 좋다.
다음에, 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 보호층으로서 사용한 광디스크(D1)(편면 1층식)의 제조방법의 일례에 대해서 설명한다. 도 2(a)~(d)는 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 사용한 광디스크(D1)의 제조방법의 일례를 도시한 단면도이다.
한편, 광디스크 제조용 시트(1)는, 미리 블랭킹가공을 수행하여, 광디스크(D1)의 형상으로 형성하여 둔다. 블랭킹 가공은 보통의 방법에 의해 수행하면 좋고, 예컨대 블랭킹장치를 사용하여 수행할 수가 있다. 광디스크 제조용 시트(1)의 에너지선 경화성층(11)은 반경화되어 있기 때문에, 이 블랭킹가공에 있어서, 에너지선 경화성층(11)이 불거져 나오거나, 변형되거나 할 우려가 없고, 수율을 높게 유지할 수가 있다.
먼저, 도 2(a)에 도시한 바와 같이, 글루브 및 랜드로 이루어진 요철 패턴을 갖는 광디스크 기판(2)을 제조한다. 이 광디스크 기판(2)은, 통상 폴리카보네이트로 이루어지고, 사출 성형 등의 성형법에 의해 성형할 수가 있다.
상기 광디스크 기판(2)의 요철 패턴 상에는, 도 2(b)에 도시한 바와 같이, 기록층(3)을 형성한다. 이 기록층(3)은, 통상 무기계 재료로 이루어진 막 또는 상기 막의 적층체에 의해 구성되고, 예컨대 아래로부터 차례로 반사막, 유전체막, 상변화막 및 유전체막으로 이루어진 적층체에 의해 구성된다. 이들 막은, 스퍼터링 등의 수단에 의해 형성할 수가 있다.
다음에, 도 2(c)에 도시한 바와 같이, 광디스크 제조용 시트(1)의 한쪽 기재(예컨대 기재(12))를 박리 제거하여 에너지선 경화성층(11)을 노출시켜, 에너지선 경화성층(11)을 광디스크 기판(2) 상의 기록층(3) 표면에 압착한다.
이 상태에서, 에너지선 조사장치를 사용해서, 기재(12')측 또는 광디스크 기판(2)측으로부터 에너지선 경화성층(11)에 대해서 에너지선을 조사하여, 에너지선 경화성층(11)을 경화시켜서, 보호층으로 한다.
에너지선으로서는, 통상 자외선, 전자선 등이 사용된다. 에너지선의 조사량은 에너지선의 종류에 따라 다르지만, 예컨대 자외선인 경우에는, 광량이 150~3000mJ/㎠ 정도가 바람직하고, 200~1000mJ/㎠가 보다 바람직하다. 또한, 전자선인 경우에는 10~1000krad 정도가 바람직하다.
에너지선을 조사한 후, 도 2(d)에 도시한 바와 같이, 기재(12')를 박리함으로써, 광디스크(D1)가 얻어진다. 이상의 방법에 의해 광디스크(D1)를 제조함으로써, 보호층으로서 고가인 필름 기재를 사용하지 않고, 저렴한 가격으로 간편하게 보호층을 형성할 수가 있고, 또한 수율도 양호하다.
한편, 상기의 광기록매체 제조방법에서는, 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 사용하여 편면 1층식의 광디스크를 제조하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 예컨대 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 사용하여 편면 2층식의 광디스크를 제조할 수도 있다.
다음에, 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 스탬퍼 수용층으로서 사용한 광디스크(D2)(편면 2층식)의 제조방법의 일례에 대해서 설명한다. 도 3(a)~(g)는 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 사용한 광디스크(D2)의 제조방법의 일례를 도시한 단면도이다.
한편, 이 경우도, 광디스크 제조용 시트(1)는, 미리 블랭킹가공을 수행하여, 광디스크(D2)의 형상으로 형성하여 둔다. 블랭킹가공은 보통의 방법에 의해 수행하면 좋고, 예컨대 블랭킹장치 등을 사용하여 수행할 수가 있다. 광디스크 제조용 시트(1)의 에너지선 경화성층(11)은 반경화되어 있기 때문에, 이 블랭킹가공에 있어서, 에너지선 경화성층(11)이 불거져 나오거나, 변형되거나 할 우려가 없고, 수율을 높게 유지할 수가 있다.
먼저, 도 3(a)~(b)에 도시한 바와 같이, 글루브 및 랜드로 이루어지는 요철 패턴을 갖는 광디스크 기판(2)을 제조하고, 이 광디스크 기판(2)의 요철 패턴 상에 제 1기록층(3A)을 형성한다. 여기까지는, 상기 광디스크(D1)의 제조방법과 마찬가지로 하여 수행할 수가 있다.
다음에, 도 3(c)에 도시한 바와 같이, 광디스크 제조용 시트(1)의 기재(12)를 박리 제거하여 노출시킨 에너지선 경화성층(11)을 광디스크 기판(2)의 기록층(3A)에 대면시켜, 도 3(d)에 도시한 바와 같이 에너지선 경화성층(11)을 광디스 크 기판(2) 상의 기록층(3A) 표면에 압착한다.
그 다음, 에너지선 경화성층(11) 상에 적층되어 있는 기재(12')를 박리 제거한 후, 도 3(e)에 도시한 바와 같이, 노출된 에너지선 경화성층(11)의 표면에 스탬퍼(S)를 압착하고, 에너지선 경화성층(11)에 스탬퍼(S)의 요철 패턴을 전사한다. 이 상태에서, 에너지선 조사장치를 사용해서, 스탬퍼(S)측 또는 광디스크 기판(2)측으로부터 에너지선 경화성층(11)에 대해서 에너지선을 조사하여, 에너지선 경화성층(11)을 경화시킨다.
스탬퍼(S)는, 니켈 합금 등의 금속 재료나 노르보넨 수지 등의 투명 수지 재료로 구성된다. 한편, 도 3(e)에 도시한 스탬퍼(S)의 형상은 판상이지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 롤 상이어도 좋다.
에너지선 경화성층(11)이 경화되어 스탬퍼(S)의 요철 패턴이 전사·고정되어, 글루브 및 랜드가 형성되면, 스탬퍼(S)를 에너지선 경화성층(11)으로부터 분리한다. 그 다음, 도 3(f)에 도시한 바와 같이, 에너지선 경화성층(11)의 요철 패턴 상에, 제 2기록층(3B)을 형성한다. 이 제 2기록층(3B)는, 통상 무기계 재료로 이루어지는 막 또는 상기 막의 적층체에 의해 구성되고, 특히 아래로부터 차례대로 반사막(반투명막), 유전체막, 상변화막 및 유전체막으로 이루어진 적층체로 구성되는 경우가 많다. 또한, 반사막(반투명막)의 아래측에 유전체막이 더 형성되는 경우도 있다. 이들 막은, 스퍼터링 등의 수단에 의해 형성될 수가 있다.
마지막으로, 도 3(g)에 도시한 바와 같이, 상기 제 2기록층(3B) 상에 접착제(4)를 개재하여 보호 시트(5)를 적층하여, 광디스크(D2)로 한다. 이 보호 시 트(5)는, 광디스크의 수광면이나 라벨면 등, 광디스크(D2)의 일부를 구성하는 것으로, 예컨대 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스틸렌 등의 수지로 이루어진 시트(필름)가 사용된다. 접착제(4)로서는, 예컨대 아크릴계 자외선 경화형 접착제 등을 사용할 수가 있다.
이상과 같이 광디스크 제조용 시트(1)를 사용하면, 수율이 좋은 광디스크(D2)를 제조할 수가 있다.
한편, 상기의 광기록매체 제조방법에서는, 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 사용해서 편면 2층식의 광디스크를 제조하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 예컨대 상기 광디스크 제조용 시트(1)를 사용해서 편면 1층식의 광디스크를 제조할 수도 있다.
이상 설명한 실시 형태는 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위해 기재된 것으로서, 본 발명을 한정하기 위해 기재된 것은 아니다. 따라서, 상기 실시 형태에 개시된 각 요소는 본 발명의 기술적 범위에 속하는 모든 설계 변경이나 균등물을 포함하는 취지이다.
예컨대, 광디스크 제조용 시트(1)에서의 기재(12) 또는 기재(12')의 한쪽은 없어도 좋다.
실시예
이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들의 실시예 등에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
에너지선 경화성 성분으로서의 p-큐밀페녹시에틸아크릴레이트(신나까무라가가구코교우사제, NK에스테르ACMP-1E, 고형분 농도 100질량%, 단관능) 50질량부 및 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 A 디아크릴레이트(신나까무라가가구코교우사제, NK에스테르 ABE-300, 고형분 농도 100질량%, 이관능) 50질량부와, 광중합 개시제로서의 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(치바·스페셜티·케미컬즈사제, 이르가큐어184, 고형분 농도 100질량%) 3질량부와, 접착성 향상제로서의 2-아크릴로일옥시에틸호박산(신나까무라가가구코교우사제, NK에스테르A-SA, 고형분 농도 100질량%) 0.1질량부를 혼합하2-아크릴로일옥시에틸코학산 였다.
얻어진 에너지선 경화성 조성물을, 폴리에틸렌테레프탈레이트제의 투명한 기재(토레(주)제, 루미란T60, 두께:50㎛, 표면 거칠기(Ra):0.001㎛;이하 「PET기재」라 함.) 상에, 에너지선 경화성층(반경화 상태)의 막두께(목표 막두께)가 100㎛가 되도록 나이프 코터를 사용하여 도포하고, 또한 에너지선 경화성층의 표면에, 또 한쪽의 기재로서의 박리 필름(린텍(주)제, SP-PET3811, 두께:38㎛, 표면 거칠기(Ra):0.029㎛)을 맞춰 붙였다. 한편, 기재의 표면 거칠기(Ra)는, 표면 거칠기(Ra) 측정기(미쯔토요사제, SV-3100)를 사용하여 측정하였다.
그리고, 상기 도막에 대해서 자외선 조사 장치(아이그라픽스사제, ECS-401GX, 고압수은램프 H04-L41을 사용함)에 의해 조도 250mW/㎠, 광량 70mJ/㎠의 자외선을 PET 기재측으로부터 조사하고, 반경화된 에너지선 경화성층을 형성하였다. 이와 같이 하여 얻어진 적층체를 광디스크 제조용 시트로 하였다. 한편, 광량은 광량계(아이그라픽스사제, UV METER UVPF-36)를 사용하여 측정하였다.
[실시예 2]
에너지선 경화성 성분으로서 우레탄아크릴레이트(다이니폰잉크가가구꾸코교우사제, 유니딕RS-24-156, 고형분 농도 100질량%, 이관능) 50질량부를 에너지선 경화성 조성물에 더 배합하는 이외에, 실시예 1과 마찬가지로 하여 에너지선 경화성 조성물을 조제하여, 광디스크 제조용 시트를 제작하였다.
[실시예 3]
에너지선 비경화성 수지로서의 2-에틸헥실아크릴레이트와 이소부틸아크릴레이트와 메틸메타크릴레이트와 2-히드록시에틸아크릴레이트를 20:65:10:5의 질량비로 공중합하여 이루어지는 아크릴수지(니폰고세이가가구사제, 코포닐N3085, 고형분 농도 40질량%, 질량 평균 분자량 30만) 10질량부와, 이소시아네이트계 가교제(토요잉크사제, BHS-8515, 고형분 농도 37.5질량%) 0.1질량부를 에너지선 경화성 조성물에 더 배합하는 이외에, 실시예 1과 마찬가지로 하여 에너지선 경화성 조성물을 조제하여, 광디스크 제조용 시트를 제작하였다.
[비교예 1]
실시예 1과 마찬가지로 하여 PET 기재 상에 도포한 도막에 대해서, 에너지선 경화성 성분의 이중결합 소실 비율이 92%가 될 때까지 자외선을 조사하고(조도 250mW/㎠, 광량 250mJ/㎠), 약경화된 에너지선 경화성층을 형성하는 이외에, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광디스크 제조용 시트를 제작하였다.
[시험예]
(1) 이중결합 소실 비율의 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 광디스크 제조용 시트에 대해서, 프리에 변환 적외 분광분석장치(Perkin Elmer사제, Spectrum One)를 사용한 다이아몬드 ATR법에 의해, 에너지선 경화성층의 PET 기재측에서의 810cm-1의 흡수 피크의 감소 비율에 의해, 에너지선 경화성 성분의 이중결합 소실 비율을 판단하였다. 에너지선을 조사하고 있지 않은 에너지선 경화성 성분의 흡수 피크 면적을 100%, 자외선 조사장치( 아이그라픽스사제, ECS-401GX, 고압수은램프 H04-L41을 사용)에 의해 조도 250mW/㎠, 광량 500mJ/㎠의 자외선을 조사한 에너지선 경화성층의 흡수 피크 면적을 0%로 하여 환산하였다. 여기서, 흡수 피크 면적과 이중결합의 수는 정비례의 관계에 있는 것으로 하였다. 결과를 표 1에 표시한다.
(2) 접착력의 측정
(a) 에너지선 경화성층의 접착력
실시예 및 비교예에서 얻어진 광디스크 제조용 시트의 박리 필름을 박리하여 에너지선 경화성층을 시험판(SUS304)에 압착하고, JIS Z0327에 준해서 180°각도에서 떼낼 때의 점착력을 접착력으로 하여 측정하였다. 결과를 표 1에 표시한다.
(b) 경화 후의 접착력
실시예 및 비교예에서 얻어진 광디스크 제조용 시트의 박리 필름을 박리하여 에너지선 경화성층을 시험판(SUS304)에 압착한 후, 조도 250mW/㎠, 광량 500mJ/㎠의 자외선을 조사하고, PET 기재를 박리 제거한 후, JIS Z0327에 준해서, 경화된 에너지선 경화성층을 180°각도에서 떼낼 때의 점착력을 접착력으로 하여 측정하였 다. 결과를 표 1에 표시한다.
(3) 막두께 정밀도의 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 광디스크 제조용 시트에 대해서, 디지털 마이크로메터(니콘사제, MH-15M)를 사용하여, 1㎡ 크기의 에너지선 경화성층의 막두께를 100포인트에서 측정하고, 아래식에 의해 1㎡의 막두께 정밀도를 산출하였다. 결과를 표 1에 표시한다.
막두께 정밀도(%)={(목표 막두께와 막두께 차이가 최대인 포인트에서의 막두께-목표 막두께)/목표 막두께}×100
(4) 레터데이션의 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 광디스크 제조용 시트의 에너지선 경화성층에, 자외선 조사장치(아이그라픽스사제, ECS-401GX, 고압수은램프 H04-L41을 사용)에 의해 조도 250mW/㎠, 광량 500mJ/㎠의 자외선을 조사하고, PET기재 및 박리 필름을 박리한 후, 위상차 측정장치(오우지케이소쿠끼사제, KOBRA-WR)에 의해 레터데이션을 측정하였다. 결과를 표 1에 표시한다.
(5) 405nm 분광 투과율의 측정
에너지선 경화성층에, 자외선 조사장치(아이그라픽스사제, ECS-401GX, 고압수은램프 H04-L41을 사용)에 의해 조도 250mW/㎠, 광량 500mJ/㎠의 자외선을 조사하고, PET기재 및 박리 필름을 박리한 후, 분광 광도계(시마즈세이사꾸사제, UV-3100PC)에 의해 405nm 분광 투과율을 측정하였다. 결과를 표 1에 표시한다.
(6) 스탬퍼 수용층으로서의 요철 패턴 전사 특성의 평가
실시예 및 비교예에서 얻어진 광디스크 제조용 시트를, 박리 필름을 박리하여 두께 2mm의 폴리카보네이트판에 붙였다. 다음에, PET기재를 박리하고, 라미네이트롤러(GMP사제, Excelam355Q)를 사용해서, 롤러의 이동속도 0.94m/분, 압력 0.4MPa, 온도 50℃의 조건에서, 스탬퍼(피트 길이:500nm, 피트 깊이:50nm, 니켈합금제)를 에너지선 경화성층에 압착하였다.
이 상태에서, 자외선 조사장치(아이그라픽사제, ECS-401GX, 고압수은램프 H04-L41을 사용)에 의해 조도 250mW/㎠, 광량 50mJ/㎠의 자외선을 폴리카보네이트판측으로부터 조사하여 에너지선 경화성층을 경화시킨 후, 스탬퍼를 분리하였다.
스탬퍼의 요철 패턴(피트)이 전사된 면을 주사전자현미경(히다찌제작소제, S4700)에 의해 관찰하여, 전사된 피트 길이가 425~500nm에 있는 것을 ○로 하였다. 결과를 표 1에 표시한다.
(7) 블랭킹가공 적합성의 평가
실시예 및 비교예에서 얻어진 광디스크 제조용 시트를, 블랭킹장치(마크안디사제, 마크안디-910)를 사용하여 직경 120mm의 원형 형태로 블랭킹하고, 블랭킹된 시트 주연부에서의 에너지선 경화성층의 불거져 나왔는지 유무를 육안으로 평가하였다. 결과를 표 1에 표시한다.
| 이중결합소실비율(%) | 에너지선 경화성층의 접착력(a)(mN/25mm) | 경화후의 접착력(b)(mN/25mm) | 막두께정밀도(%) | 레터데이션(nm) | 405nm 분광투과율(%) | 요철패턴 전사특성 | 블랭킹가공적합성 불거져나옴 유무 | |
| 실시예1 | 60 | 86 | 190 | -3 | 2.8 | 89.7 | ○ | 무 |
| 실시예2 | 38 | 120 | 340 | -1 | 1.7 | 90.1 | ○ | 무 |
| 실시예3 | 60 | 270 | 740 | 1 | 3.0 | 85.0 | ○ | 무 |
| 비교예1 | 92 | 10미만(첩부불가) | - | 2 | 4.5 | 88.7 | 첩부불가 | 첩부불가 |
표 1에서 밝혀진 바와 같이, 실시예에서 제작된 광기록매체 제조용 시트의 에너지선 경화성층은, 이중결합 소실비율이 20~90%의 범위에 있고, 광디스크의 보호층 및 스탬퍼 수용층으로서 알맞은 접착력, 막두께 정밀도, 레터데이션, 투명성, 요철패턴 전사 특성 및 블랭킹가공 적합성을 갖고 있었다.
본 발명은 저렴한 가격으로 간편하게, 또한 양호한 수율로 광기록매체를 생산하기에 유용하다.
Claims (16)
- 기재와, 상기 기재에 적층된 에너지선 경화성층을 구비한 광기록매체 제조용 시트로서,상기 에너지선 경화성층은, 반경화 상태에 있고, 또한 접착력이 10mN/25mm 이상인 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트.
- 제 1항에 있어서,상기 에너지선 경화성층은, 중합성의 이중결합을 갖는 에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 재료가 에너지선의 조사에 의해 반경화된 것이고, 상기 에너지선의 조사에 의한 상기 에너지선 경화성 성분의 이중결합의 소실 비율이 20~90%인것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트.
- 제 1항에 있어서,상기 에너지선 경화성층은, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머를 주성분으로 하는 재료가 반경화된 것인 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트.
- 제 1항에 있어서,상기 기재의 상기 에너지선 경화성층과 접촉하는 측의 면의 표면 거칠기(Ra)가 0.1㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트.
- 제 1항에 있어서,상기 에너지선 경화성층의 양면에 기재가 적층되어 있고, 상기 양 기재의 상기 에너지선 경화성층과 접촉하는 측의 면의 표면 거칠기(Ra)가 0.1㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트.
- 제 1항에 있어서,상기 에너지선 경화성층은, 광기록매체의 보호층을 형성하는 것인 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트.
- 제 1항에 있어서,상기 에너지선 경화성층은, 스탬퍼 수용층을 형성하는 것인 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트.
- 에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 조성물을 기재에 도포하고, 얻어진 도포막에 에너지선을 조사하여 상기 에너지선 경화성 성분을 반경화시켜서, 접착력이 10mN/25mm 이상인 에너지선 경화성층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,상기 도포막에 별도의 기재를 붙이고나서 에너지선을 조사하는 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,상기 형성된 에너지선 경화성층에 별도의 기재를 붙이는 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,상기 에너지선 경화성 성분이 중합성의 이중결합을 갖고, 상기 에너지선의 조사에 의해, 상기 이중결합을 20~90% 소실시키는 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,상기 에너지선 경화성 성분은, 에너지선 경화성 모노머 및/또는 올리고머를 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트의 제조방법.
- 제 8항에 있어서,상기 에너지선 경화성 성분을 주성분으로 하는 조성물은, 용제를 함유하지 않은 것을 특징으로 하는 광기록매체 제조용 시트의 제조방법.
- 제 1항에 기재된 광기록매체 제조용 시트에서의 에너지선 경화성층의 한쪽면을 노출시킨 상태로 하고,상기 에너지선 경화성층의 노출면을 광기록매체의 기록층에 붙이고,상기 에너지선 경화성층에 대해 에너지선을 조사하여 상기 에너지선 경화성층을 경화시킴으로써, 보호층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광기록매체의 제조방법.
- 제 1항에 기재된 광기록매체 제조용 시트에서의 에너지선 경화성층의 한쪽면을 노출시킨 상태로 하고,상기 에너지선 경화성층의 노출면을 광기록매체의 기록층에 붙이고,상기 에너지선 경화성층의 다른쪽면을 노출시켜서 상기 노출면에 스탬퍼를 압착하고,상기 에너지선 경화성층에 대해 에너지선을 조사하여 상기 에너지선 경화성층을 경화시키고나서 상기 스탬퍼를 박리함으로써, 상기 스탬퍼의 요철 패턴이 전사·고정된 스탬퍼 수용층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광기록매체의 제조방법.
- 제 1항에 기재된 광기록매체 제조용 시트를 사용하여 제조된 것을 특징으로 하는 광기록매체.
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