TW200809838A - Sheet for production of optical recording mediums, optical recording mediums, and method of manufacturing the same - Google Patents

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200809838 . 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於可形成在於光記錄媒體之保護層或母般 受容層❿製造光記錄媒體之光記錄媒體製造用板片及其^ 造方法，以及使用該光記錄媒體用板片製造之光記錄媒體 【先前技術】 光記錄媒體的一種之藍光光碟（Blue—ray Disc)，一般 藉由透過保護層對記錄層照射雷射而將資訊記錄·播放。 此時，當保護層的延遲高，則會產生波面相差，使訊號特 性惡化。作為形成延遲低保護層之方法有下列等報告： (1) 將具有高膜厚精度之低延遲膜基材藉由黏著劑或 接著劑黏貼於記錄層上之方法（日本專利第333866〇號公 報’日本特開2004-62959號公報） (2) 於記錄層上黏貼光硬化性接著劑膜之方法（日本特 開2 0 0 2 - 2 51 1 0號公報） 【發明内容】 [發明所欲解決的課題] 但是’以（1)的方法，由於膜基材高價，且作為光記錄 媒體之製造方法步驟數多，難以降低成本。又，以（2)的方 法’在模切加工步驟會有認為是起因於材料特性之接著劑 的溢出，容易發生變形等，難以提升良率。 2192-8793-PF/Ahddub 5 200809838 本發明係有鑑於上述實情完成者，以提供可廉價而簡 便地形成保濩層或母盤受容層，良率亦良好的光記錄媒體 製造用板片及其製造方法，以及使用該光記錄媒體用板片 製造之光記錄媒體及其製造方法。 [用以解決課題的手段] 為達成上述目的，第1，本發明提供一種光記錄媒體 製^用板片包括·基材；及積層於上述基材之能量線硬 化性層者，其特徵在於：上述能量線硬化層，係在於半硬 化狀心且接著力為10毫牛頓/ 2 5毫米以上（發明1)。 再者，於本說明書所謂「光記錄媒體」，係指能以光 學記錄·播放資訊之媒體，主要是播放專用型、可錄型或 可重寫型之碟片狀之媒體（例如，CD、CD-ROM、CD-R、CD-RW、 DVD 、 DVD-ROM 、 DVD-R 、 DVD-RW 、 DVD-RAM 、 LD 、 Blue-ray

Disc、HD DVD、MO等；所謂光碟（包含磁光碟片）），惟並 非限定於該等。 —又，於本說明書所謂「半硬化」，係指在於未硬化與 兀王硬化之間的狀態，且發揮可使量線硬化性層接著於 。己錄層之接著力之狀態。又，於本說明書之能量線硬化性 曰之接著力，係表示遵照後述之試驗例測定之值者。 ^根據上述發明（發明i )，無需使用高價的膜基材作為 保遵層’可廉價而簡便地形成保護層，又，由於在模切加 工時，不會發生溢出、變形，良率良好。 ;上述t明（發明丨），上述能量線硬化性層，係藉由 具有聚合性雙鍵鍵結之能量線硬化性成分作為主成分之材 2192~8793-PF;Ahddub 6 200809838 料藉由能量線的照射半硬化者，藉由上述能量線之照射之 上述能量線硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例以2〇〜9〇%為 佳（發明2)。 於上述發明（發明1、2)，上述能量線硬化性層，係以 能量線硬化性單體及/或寡聚物作為主成分之材料半硬化 者為佳（發明3)。根據該發明（發明3)，於材料的塗佈時無 需使用溶劑，因此，可防止產生起因於溶劑揮發之氣泡。 於上述發明（發明^)，上述基材與上述能量線硬化 性層接觸之側之面之表面粗糙度(Ra)為〇1微米以下(發 明4) ’或者於上述能量線硬化性層之兩面積層冑基材，上 述兩基材與上述能量線硬化性層接觸之侧之面之表面粗縫 度（Ra)以〇· 1微米以下（發明5)為佳。 於上述么明(發明卜5)，上述能量線硬化性層，可為 形成保護光記錄媒體之保護層者（發明6)，亦可為形成母 盤受容層者（發明7)。 弟2本么明提供一種光記錄媒體製造用板片之製造 方法’其特徵在於··將能量線硬化性成分作為主成分之組 :物塗佈於基材’ ϋ由對所得塗佈膜照射能量線使上述能 量線硬化性成分半硬化，擗士 — 、 化 $成接者力為10毫牛頓/25毫米 以上之旎量線硬化性層（發明8 )。 於上述發明（發明 s_ 8 )’可將上述塗佈膜黏貼於別的基 材再照射能量線（發明q彳 9)、亦可於上述形成之能量線硬化 性層黏貼別的基材（發明i 〇 )。 於上述發明（發明8〜〉 1 〇)’上述能量線硬化性成分具有 2192-8793-PF;Ahddub 7 200809838 • 來σ丨生雙鍵鍵結，藉由照射上述能量線，使上述雙鍵鍵結 消失2 0〜9 0 %為佳（發明11)。 於上述發明（發明8〜10)，上述能量線硬化性成分，以 能量線硬化性單體及/或寡聚物作為主成分為佳（發明12)。 於上述發明（發明8〜10)，以上述能量線硬化性成分作 為主成分之組合物，不含溶劑為佳（發明1 3 )。 第3,本發明提供一種光記錄媒體之製造方法，其特 徵在於：使在於上述光記錄媒體製造用板片（發明卜了）之 能量線硬化性層一邊的面之呈露出狀態，將上述能量線硬 化性層之露出面黏貼於光記錄媒體之記錄層，藉由對上述 能量線硬化性層照射能量線，使上述能量線硬化性層硬 化，形成保護膜（發明14)。 第4，本發明提供一種光記錄媒體之製造方法，其特 徵在於：使在於上述光記錄媒體製造用板片（發明丨〜了）之 能量線硬化性層一邊的面之呈露出狀態，將上述能量線硬 化性層之露出面黏貼於光記錄媒體之記錄層，使上述能量 線硬化性層之另一邊的面露出，於該露出面壓接母盤，對 於上述能量線硬化性層照射照射能量線，使上述能量線硬 化性層硬化，再藉由將上述母盤剝離，形成轉印·固定上 述母盤之凹凸圖案之母盤受容層（發明15)。 第5，本發明提供一種光記錄媒體（發明16)，其特微 在於：使用上述光記錄媒體製造用板片（發明製造。 [發明效果] 根據本發明’可以廉價而簡便地形成保護層或母盤受 2192-8793-PF;Ahddub 8 200809838 •容[在於光記錄媒體用板片《光記錄媒體之製造之良率 亦良好。 【實施方式】 以下，說明本發明之實施形態。 圖1係關於本發明之一實施形態之光記錄媒體製造用 板片之剖面圖。關於本實施形態之光碟製造用板片卜包 含：能量線硬化性層11;及基材12、12，，其係積層於能 罝線硬化性層11之兩面。惟，基材12、12，，係將於光 碟製造用板片1之使用時剝離者。 能量線硬化性層n，係保護光碟之記錄層t保護層， 或在於光碟，轉印形成於母盤之凹凸圖案，可構成凹洞或 溝槽/平面之母盤受容層之層。 該能量線硬化性層1卜係半硬化狀態。因此，將該光 碟製造用板片"莫切加工成光碟形狀時，並無能量線硬化 性層11溢出或變形之虞，可維持高良率。 該能量線硬化性層U，可藉由於基材12、12，之任何 -方G列如基材12)之表面上，塗佈具有聚合性之雙鍵鍵結 之能量線硬化性成分為主成分之組合物（以下稱為「能量線 硬化性組合物」。）’對所得塗佈膜照射能量線使能量線硬 化性組合物半硬化而形成。 义再者，其他的基材（例如基材12，），可於能量線照射 前黏貼上述塗佈膜’亦可於能量線照射後’黏貼於形成之 能量線硬化性層11。藉由黏貼該基材12，，可防止能量線 2192-8793-PF；Ahddub 9 200809838 硬化性層11之表面受傷。 、能量線硬化性成分，以能量線硬化性單體及/或寡聚物 作為主成分為佳。於塗佈能量線硬化性成分時使用溶劑， 則2乾燥時會在能量線硬化性層u發生起因於溶劑揮發 之氣泡，但是由於能量線硬化性單體及/或寡聚物黏度低， 以此為主成分之能量線硬化性成分在塗佈時無須溶劑，因 此可形成沒有氣泡之能量線硬化性層Η。 作為能量線硬化性單體及/或寡聚物，使用多價醇與具 有來合性雙鍵鍵結之（甲基）丙烯酸之酯為佳。作為該能量 ’泉更化丨生單體及/或养聚物，可舉例如，（甲基）丙烯酸環己 酯、（甲基）丙烯酸異冰片酯、（甲基）丙烯酸對異丙苯酯等 單官能性丙烯酸酯類；（甲基）丙烯酸胺酯、雙酚Α二（甲基） 丙烯酸酯、環氧乙烷變性雙酚A二（甲基）丙烯酸醋、環氧 丙烷變性雙酚A二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基） 丙烯酉夂自曰、異戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、異戊四醇四（甲基） 丙稀S文S曰一異戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、ι，4 — 丁二醇二 (甲基）丙烯酸酯、；[，6一己二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚乙二 醇（甲基）丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二（甲基）丙烯酸酯 等多官能性丙烯酸酯類，聚酯寡聚（甲基）丙烯酸酯、聚胺 酯寡聚（甲基）丙烯酸酯等。該等能量線硬化性單體及/或寡 聚物，可單獨使用1種，或併用2種以上。 能量線硬化性單體及/或寡聚物之質量平均分子量，以 70〜10, 000為佳，以2〇〇〜5, 〇〇〇特別佳。 能量線硬化性成分，可含有能量線硬化性成分高分 2192-8793-PF;Ahddub 10 200809838 . 子。作為能量線硬化性高分子，使用於側鏈導入能量線硬 化性基之（甲基）丙細酸@旨（共）聚合物為佳。該（甲基）丙稀 酸酯（共）聚合物，可藉由具有官能基含有單體單位之（甲基） 丙烯酸系共聚合物（al )，與具有與該官能基鍵結之取代基 之含有不飽和基之化合物（a2 )反應而得。 丙烯酸系共聚合物（al )，可藉由含有官能基之單體， 與（甲基）丙烯酸酯單體或其衍生物共聚合而得。作為含有 官能基之單體，可舉例如，（曱基）丙烯酸—2-羥基乙酿、（甲 基）丙烯酸-2-羥基丙酯 '(甲基）丙烯酸-3-羥基乙酯、（甲 基）丙烯酸-4-羥基丁酯、（曱基）丙烯酸等，作為（甲基）丙 烯酸酯單體，可舉例如，（曱基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙稀 酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸正丁酯、（曱基） 丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸-2-乙基己酯、（甲基）丙稀酸 戊酯、（曱基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸辛酯等。 作為含有不飽和基之化合物（a2)，可舉例如，異氰酸 -2-甲基丙烯醯氧基乙基酯、異氰酸間異丙烯基—αα —二 甲基苄基S旨、異氰酸丙烯醯S旨、異氰酸烯丙酷、異氰酸 -1，1-(雙丙烯醯氧曱基）乙基酯；二異氰酸酯化合物或聚異 氰酸酯化合物，與（甲基）丙烯酸羥基乙基酯反應而得之單 異氰酸丙烯醯酯化合物；二異氰酸酯化合物或聚異氰酸酯 化合物，與多醇化合物，及（甲基）丙烯酸羥基乙基酯反應 而得之單異氰酸丙烯醯酯化合物；（甲基）丙烯酸縮水甘油 酯；（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸-2-(卜次乙亞胺基）乙基 酯、2-乙烯基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-2-噁唑等。 2192-8793-PF;Ahddub 11 200809838 ^ 能量線硬化性高分子之質量平均分子量，以 20, 000〜2, 500, 000 為佳，以 50, 000〜1，000, 〇〇〇 特別佳。 能量線硬化性高分子之含量，以能量線硬化性組合物 中的0. 5〜6 0質量％為佳。能量線硬化性組合物藉由含有兮 範圍之能量線硬化性高分子，即使是形成相對較厚的能量 線硬化性層時，容易將能量線硬化性組合物塗佈成所期望 的厚度。 作為硬化能量線硬化性層11之能量線使用紫外線 時’能量線硬化性組合物，含有光聚合起始劑為佳，藉由 含有該光聚合起始劑，可減少聚合硬化時間及光線照射量。 作為光聚合起始劑，具體而言，可舉二苯曱酮、乙酿 苯、安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、 女息香異丁醚、安息香安息香酸、安息香安息香酸甲酯、 女息香二甲基縮酮、2，4 -二乙基嗟嘲酮、1 -經基環己基苯 基S同、苄基二苯基硫化物、四甲基秋蘭姆單硫化物、偶氮 一異丁腈、苯偶醯、二苯偶酸、二乙醯、冷—氯蒽g昆、（2，4，6 -二甲基苄基二苯基）氧化碟、2-苯併嗟唾~n，N -二甲基二硫 代胺基甲酸酯、寡聚{2-羥基-2-甲基-1 - [4 -（1-丙烯基）苯 基]丙烷}、2,2-甲氧基-1，2-二苯基乙-卜酮等。該等可單 獨使用，亦可併用2種以上。該等之中，使用具有與照射 能量線硬化性層11之紫外線之波長相同吸收區域之光聚 合起始劑為佳。 光聚合起始劑，對於能量線硬化性單體及/或寡聚物 (調合能量線硬化性高分子時，能量線硬化性單體及/或寡 2192-8793-PF;Ahddub 12 200809838 聚物以及能量線硬化性高分子之合計量丨〇〇質量部）丨⑽質 量部，以〇.卜1〇質量部、特別是以0.5~6質量部之範圍之 量使用為佳。 能量線硬化性組合物，亦可含有能量線非硬化性高分 子。作為能量線非硬化性高分子，使用例 >，廉價而透明 性優良的丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚酯、聚胺酯等熱可塑 性樹脂為佳。 作為丙烯酸樹脂’可使用例如，藉由共聚合含有官能 性基之單體、（甲基）丙烯酸酯單體或其衍生物而得者。作 為含有官能性基之單體，可舉例如，（甲基）丙烯酸—2—羥基 乙酯、（甲基）丙烯酸酯-3-羥基丙酯、（甲基）丙烯酸_2一羥 基丙酯、（甲基）丙烯酸-3-羥基乙酯、（曱基）丙烯酸-4一羥 基丁酉旨、（甲基）丙烯酸等，作為（甲基）丙烯酸酯單體，可 舉例如，（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基） 丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸正丁酯、（甲基）丙烯酸異丁酯、 (甲基）丙烯酸-2-乙基己酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基） 丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸辛酯等。 能量線非硬化性高分子之質量平均分子量，以 20, 000〜2, 500, 〇〇〇 為佳，以 50, 000〜1，〇〇〇,〇〇〇 特別佳。 能量線非硬化性高分子之含量，以能量線硬化性組合 物中的0· 5〜60質量％為佳。能量線硬化性組合物藉由含有 該範圍之能量線非硬化性高分子，即使是形成相對較厚的 能量線硬化性層時，容易將能量線硬化性組合物塗佈成所 期望的厚度。 2192 -8793-PF；Ahddub 13 200809838 又，能量線硬化性組合物，於該能量線硬化性組合物 中包含具有官能基之高分子時，亦可含有架橋劑。作為架 橋劑’可使用例如’異氰酸醋化合物、環氧化合物、胺化 合物、密胺化合物、次乙亞胺化合物、聯胺化合物、醛化 合物" 惡嗤啉化合物、金屬烷氧化合物、金屬螯合化合物、 金屬鹽、銨鹽、反應性酚樹脂等。 架橋劑之含量，對能量線硬化性高分子及能量線非硬 化性高分子之合計量100質量部1 質量部為佳， 以0 · 1〜1 0質量部特別佳。 又，能量線硬化性組合物’亦可含有無機充填劑。作 為無機充填劑，可舉二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化辞、 氧化鈣、氧化銻、氧化錫、氧化鍺、氧化鈽等。 無機充填劑之平均粒徑，通常為G.(m〜_微米。又， 使用無機充填劑時，其含量為能量線硬化性組合物中# 再者，能量線硬化性組合物，為提升能量線硬化性層 *對先§己錄媒體之記錄層之接著力，亦可含有接著性提升 刮。作為接著性提升劑，传 吏用例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、 衣康酸、琥拍酸-2—丙烯醯氧乙基酯等為佳。 接著性提升劑之含量，於能量線硬化性組合物中 〇.001，質量«佳，以U〇5〜lf4%特別佳。 再者，能量線硬化拇έΗ人t i 人n 性組合物，亦可含有各種添加劑。

作為添加劑，例如，蔣斗A 、 k升旎量線硬化性層11之表面平滑性 之平滑劑之外，可借用氧 乳化防止劑、紫外線吸收劑、染料、 2192-8793-PF/Ahddub 200809838 可塑劑、增黏劑'石夕偶合劑、帶電防止劑、黏著付與劑等。 该等添加劑之調合量並無特別限制，可於能量線硬化性組 合物中以0〜30質量部之範圍適宜決定。 如上所述，塗佈能量線硬化性組合物時，不使用溶劑 為佳。作為塗佈能量線硬化性組合物之方法，㈣可形成 均句膜厚之塗膜之刮刀塗佈機、滾輪刮刀塗佈機、吻合輥 輪塗佈機、反向塗佈機、模具式塗佈機等塗佈機為佳。依 照該等塗佈方法，可形成膜厚精度高的能量線硬化性層 Π。再者，使用旋轉塗佈機，則難以得到均勻的膜厚。 使能量線硬化性組合物半硬化得到能量線硬化性層 η’係對於上述塗膜，照射能量線。作為能量線，通常使 用紫外線、電子線等。能量線的照射量，只要可使能量線 硬化性組合物半硬化，並無特別限定，例如以紫外線之情 形，光量以丨〇〜2〇〇毫焦爾/平方公分為佳，以3〇1〇〇毫焦 爾/平方公分特別佳。 在此’使能量線硬化性組合物半硬化時，使能量線硬 化性成分的雙鍵鍵結消I 2G，％為佳，消失3G 8〇%特別 佳。雙鍵鍵結的消失比例超過90%，則能量線硬化性層U 表面的接著性變低，有降低對光碟之記錄層之接著力之 虞。另一方面，雙鍵鍵結的消失比例未滿20%，則能量線 硬化性層11之硬化不充分’在將光碟製造用板片i膜切加 工為光碟形狀時，有能量線硬化性層u溢出，或變形之 虞。又，結果，有降低能量線硬化性層u之厚度精度之情 形。 15 2192-8793-PF；Ahddub 200809838 能量線硬化性層1 1之接著力兔]丄 者力為10耄牛頓/25毫米以 上，以30〜10000毫牛頓/25毫米為佳， π丨土 以5〇〜1 000毫牛頓 /25毫米更佳。藉由能量線硬化性層 、 接者力為10毫 牛頓/25毫米以上，可確實將能吾給成^、 雏只將月匕里線硬化性層心著於光 碟的記錄層。 能量線硬化性層11 11之使用目的適宜決定 3〜1 5 0微米特別佳，進一 之厚度，可考慮能量線硬化性層 ，一般以0.5〜600微米為佳，以 步以15〜120微米為佳。 能量線硬化性層η之工平方公尺中的膜厚精度，以目 標膜厚之±10%以下為佳，以±5%以下特別佳。超過±1〇%，則 雷射焦點偏離，有無法正常地讀取訊號之虞。再者，對於 能量線硬化性層11，進一步照射能量線使之進行硬化後， 亦可充分維持上述膜厚精度。 能量線硬化性層11於硬化後（對半硬化狀態之能量線 硬化性層11進一步照射能量線之後）的延遲，以2〇奈米以 下為佳，以1 5奈米以下特別佳。能量線硬化性層丨丨之延 遲超過2 0奈米’則有降低所得光碟之訊號特性之虞。 於能量線硬化性層1 i之硬化後（對半硬化狀態之能量 線硬化性層11進一步照射能量線之後）的穿透性，以4 〇 5 奈米之分光穿透率在80%以上為佳，以85%以上特別佳。405 奈米之分光穿透率未滿8 〇 %，則有降低所得光碟之訊號特 性之虞。 ，以 於能量線硬化性層11之硬化後（對半硬化狀態之能量 線硬化性層11進一步照射能量線之後）的接著力 2192-8793-PF;Ahddub 16 200809838 .50〜丨〇〇〇〇毫牛頓/25毫米為佳，以100〜5000毫牛頓/25毫 米特別佳。藉由能量線硬化性層u之硬化後的接著力在於 此範圍，可得層間不容易剝離之光碟。 作為基材12、12’ ’可使用先前習知者，例如，聚對 苯二甲酸二乙醋或聚丙烯等樹脂膜，或將該等樹脂膜以矽 膠系剝離劑、長鏈烷基系剝離劑、醇酸樹脂系剝離劑等剝 離處理之剝離膜。再者，有透過基材丨2或基材丨2，照射 作為能量線之紫外線之情形時，該基材丨2或基材丨2，需 要由透明的材料構成。 基材1 2、1 2 ’為付與能量線硬化性層11平滑性， 與月b里線硬化性層11接觸之側之表面粗糙度以〇•丨微 米以下，特別是以〇·〇5微米以下為佳。基材12、12，之 表面粗糙度（Ra)超過〇.丨微米，則能量線硬化性層11之表 面粗糙度變大，有降低所得光碟之訊號特性之虞。基材12、 12之厚度，通常為10〜200微米程度，以20〜1〇〇微米程 度為佳。 再者，基材12、12，之中，使先由能量線硬化性層u 剝離者為輕剝離型者，使較後剝離為重剝離型者為佳。又， 基材1 2、1 2’之中，可使一方為未處理之樹脂膜，使另一 方為剝離膜。 其次’說明將上述光碟製造用板片1作為保護膜使用 之光碟片D1 (單面單層式）之製造方法之一例。圖2(a)〜（己） 係表不使用上述光碟製造用板片1之光碟D1之製造方法之 一例之剖面圖。 2192-8793-PF；Ahddub 17 200809838 再者光碟製造用板片1，係預先進行模切加工，來成 =光碟w，形狀。模切加工只要藉由常法進行即可：例 可使用杈切裂置等進行。由於光碟製造 量線硬化性層n古屯s ^ 钒乃1之此 有+硬化，故在該模切加工，並不合 能量線硬化性声1 曰 、， 9 11溢出，或變形之虞，可維持高良率。 百先，如圖2(a)所示，製造具有由溝槽及平 凹凸圖案之光碟基板2。 苒成之 °亥光碟基板2通常係由聚碳酸酯 構成，可精由射出成形法等成形。 於上述光碟基板2之凹凸圖案上，如圖2(b)所示，形 成有記錄層3 1記錄層3 ’通常’係由無機系材料所構成 之膜或藉由該膜之積声辦 躓層體所構成，例如，由下依序包含反 射膜、介電體膜、相變化膜及介電體膜之積層體所構成。 該等膜，可藉由濺鍍等手段形成。 其次，如圖2(c)所示，將光碟製造用板片1之-邊的 =材(例如基材12)剝離去除露出能量線硬化性層η，將能 量線硬化性層u壓接於光碟基板2上之記錄層3表面。 以此狀態’使用能量線照射裝置，由基材12，侧或光 碟基板2側對能量線硬化性㈣照射能量線使能量線硬化 性層11硬化，作成保護膜。 作為此ΐ線’通常传用势綠 书使用系外線、電子線。能量線的照 射量，雖依能量線的種_ & s , 炎幻禋頰而異，例如以紫外線之情形，光 量以150〜3000毫焦爾/平方公分程度為佳，以2〇(Μ_毫 焦爾/平方公分程度更佳。又，以電子線之情形以ι〇 ι_ 仟拉德程度為佳。 2192-8793-PF;Ahddub 18 200809838 ，於照射能量線後，如B 2⑷所示，藉由剝離基讨 12 ，得到光碟D1。藉由以以上方法製造光碟D1，作為保 屢層無須使用高價的膜基材，可廉價而簡便地形成保護 層，又，良率亦良好。 ”口 再者，於上述光記錄媒體之製造，使用上述光碟製造 用板片1製造單片單層式光碟"准並非限定於此，例如， 亦可使用上述光碟製造用板片i製造單片雙層式的光碟。 其次，說明使用上述光碟製造用板片丨作為母盤受容 層之光碟D2(單面雙層式）之製造方法之—例。圖3(a)〜⑷ 係表不使用上述光碟製造用板片之製造方法之 一例之剖面圖。 〆 再者4時’光碟製造用板4 ! ’亦係縣進行模切 加工形成為光碟D2之形狀。模切加工只要藉由常法進行 P可：：’可使用模切裝置等進行。由於光碟製造用板 片1之能量線硬化性層u有半硬化，故在該模切加工，並 不會有由能量線硬化性層u溢出，或變形之虞，可 良率。 、百先，如3(a)〜（b)所示，製造具有由溝槽及平面構 成之凹凸圖案之光碟基& 2。該光碟基板2之凹凸圖案上 形成第1記錄層3A。至此，可與上述光碟D1之製造Μ 同樣地進行。 其次，如圖3(c)所示，將光碟製造用板片i之基材12 剝離去除，使露出能量線硬化性層11，與光碟美板2之士己 錄層，如_ 3⑷所示，將能量線硬化性土層。壓接 2192-8793>pF;Ahddub 19 200809838 . 於光碟基板2上之記錄層3A表面。 然後，將積層於能量線硬化性層u之基材12，剝離 去除後，如圖3(e)所示，於露出之能量線硬化性層u之 表面壓接母盤S，將母盤S之凹凸圖案轉印於能量線硬化 性層11。以此狀態，使用能量線照射裝置，由母盤s側或 光碟基板2側對能量線硬化性層丨丨照射能量線，使能量線 硬化性層11硬化。 母盤S，係以鎳合金等金屬材料或原冰片浠樹脂等的 透明树脂材料所構成。再者，圖3 (e )所示母體s之形狀為 板狀’惟並非限定於此者，亦可為輥輪狀。 使能量線硬化性層11硬化將母體s之凹凸圖案轉印· 固定，形成溝槽及平面，則將母體s由能量線硬化性層u 分離。然後，如圖3(f)所示，於能量線硬化性層1丨之凹 凸圖案上，形成第2記錄層3B。該第2記錄層3B，通常， 係由無機系材料所構成之膜或藉由該膜之積層體構成，特 別是，由下依序包含反射膜（半透明膜）、介電體膜、相變 化膜及介電體膜之積層體所構成之情形為多。又，有於反 射膜（半透明膜）之下側進一步形成有介電體膜之情形。該 等膜’可藉由濺鍍等手段形成。 最後，如圖3(g)所示，於上述第2記錄層3β上經由 接著劑4積層保護板片5,作成光碟D2。該保護板片5, 係構成光碟之受光面或標籤面等，構成光碟D2之一部分 者，例如，使用由聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸曱酯、聚苯乙 婦等樹脂所構成之板片（膜）。作為接著劑4，例如可使用 2l92-8793-PF；Ahddub 20 200809838 丙烯酸系紫外線硬化型接著劑。 可良率佳地製造 係使用上述光 惟並非限定於 製造單面單層 只要使用如上之光碟製造用板片 光碟D2。 再者，於上述光碟記錄媒體製造方法 碟製造用板片1製造單面雙層式的光磲 此，亦可例如，使用上述光碟製造用板片 式的光碟。 以上所說明之實施型態 者’並非為了限定本發明而 施形態之各要件，包含屬於 變更或均等物。 ，係為容易理解本發明而記載 己載者。因此，揭示於上述實 本^明之技術範圍之所有設計 之基材12或基 例如，亦可沒有在於光碟製造用板片 材1 2 之^—邊。 [實施例] 以下，藉由實施例等進一牛目舰_ ^ r pi b v /、體况明本發明，惟本發 明之乾圍並非限定於該等實施例等。 [實施例1] 混合作為能量線硬化性成八 成刀之丙烯酸對異丙苯基苯氧 基乙酯（新中村化學工業公引 子茶 A 司製，NK ESTER A CMP-1E，固 形分濃度100質量％，單官 b )5 〇質量部、環氧乙烷變性雙 紛A二丙烯酸酯（新中材 打化學工業公司製，NK ESTER ABE-300，固形分濃度1〇〇皙旦 貝里％，雙官能）5〇質量部、作 為光聚合起始劑之；1〜羥 γ *

匕基-ί哀己基苯基酮（CIBA SPECIALITY CHEMICALS 公司制 』製，IRGACURE： 184，固形分濃 2192-8793-PF；Ahddub 21 200809838 〇〇貝里/°)3質量部、及作為接著性提升劑之琥珀酸-2-烯I氧乙g曰（新中村化學工業公司製，EWER A-M， 固形分濃度1〇〇質量％)0· 1質量部。 —將所得能量線硬化性組合物，使用刮刀塗佈機於聚對 苯一甲酉文一乙酯製之透明基材（T0RAY(股）製，LUMILAR ，厚度：50微米，表面粗糙度（Ra) : 〇 〇〇1微米；以下 稱為「PET膜」。）上，塗佈能量線硬化性層（半硬化狀態） 為膜厚（目私膜厚）1 〇 〇微米，再者，於能量線硬化性層之 表面，黏貼作為另一邊的基材之剝離膜（LINTEC(股）製， SP PET3811，厚度·· 38微米，表面粗糙度（Ra) : Q. 〇29微 米）。再者，基材之表面粗糙度係使用表面粗糙度測定機 (MITUT0Y0 公司製，sv — 31〇〇)測定。 然後’對上述塗膜使用紫外線照射裝置（EYE GRApHICS a司製，ECS-401GX，使用高壓水銀燈ho4-L14)以照度250 笔瓦特/平方公分、光量70毫焦爾/平方公分的紫外線由 PET基材侧照射，形成半硬化之能量線硬化性層。將如此 所知積層體作為光碟製造用板片。再者，光量，係使用光 量計（EYEGRAPHICS 公司製，UV METER UVPF-36)量測。 [實施例2] 作為能量線硬化性成分於能量線硬化性組合物進一步 调合丙稀酸胺S旨（大日本油墨化學工業公司製，un IDI ◦ RS24-1 56，固形分濃度1〇〇質量％，雙官能）5〇重量部以外， 與實施例1同樣地調製能量線硬化性組合物，製作光碟製 造用板片。 2192-8793-PF/Ahddub 22 200809838 [實施例3] 作為能量線非硬化性樹脂於能量線硬化性組合物進一 步調合將丙烯酸—2—乙基己基酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙稀 酸甲酷及丙烯酸—2-羥基乙酯，以20 : 65 : 1 0 : 5之質量比

共聚合而成之丙烯酸樹脂（曰本合成化學公司製，C0P0NYL N3085,固形分濃度40質量％，質量平均分子量3〇萬）1〇 質罝部、及異氰酸酯系架橋劑（東洋油墨公司製， BHS-8515，固形分濃度37·5質量％)〇1質量部以外與實 施例1同樣地調製能量線硬化性組合物，製作光碟製造用 板片。 [比較例] 對於與實施例1同樣地於PET基材上塗佈之塗膜，照 射紫外線直到能量線硬化性成分的雙鍵鍵結消失比例成 92%(照度250毫瓦特/平方公分，光量25〇毫焦爾/平方公 分），形成大致硬化之能量線硬化性層以外，與實施例i同 樣地調製能量線硬化性組合物，製作光碟製造用板片。 [試驗例] (1)雙鍵鍵結消失比例之測定

關於實施例及比較例所得光碟製造用板片，使用傅立 葉轉換紅外分光分析裝置（PerkinE Α 3 製，Spectrum

One)以鑽石ATR法，由能量線硬化性樹脂層在於ρΕτ基材 侧之810波數（cnT1)之吸收峰的減少 土 „上、- ⑺判斷能量線硬化 性成为之又鍵鍵結消失比例。以未照射 月匕里線之能量線硬 化性樹脂成分之吸收峰面積為1〇〇% 灯^ I外線照射裝置 2192-8793-PF/Ahddub 200809838 ,(EYEGRAPHICS公司製，ecs-401GX，使用高壓水銀燈 H04-L41)照射照度250毫瓦特/平方公分，光量5〇〇毫焦爾 /平方公分之紫外線之能量線硬化性層之吸收峰面積作為 0/〇換异。在此，吸收峰面積與雙鍵鍵結之數假設為正比關 係。結果示於表1。 (2)接著力測定 (a )能量線硬化性層之接著力 將於實施例及比較例所得之光碟製造用板片之剝離膜 剝離將能量線硬化性層壓接於試驗板（SUS3〇4)，以遵照jis Z 0327之180°拉剝黏著力作為接著力測定。結果示於表卜 (b)硬化後的接著力 將於實施例及比較例所得之光碟製造用板片之剝離膜 剝離將能量線硬化性層壓接於試驗板（SUS3〇4)，照射照度 250毫瓦特/平方公分，光量5〇〇毫焦爾/平方公分之紫外 線，剝離去除PET基材後，遵照JIS z 〇327，將硬化之能 量線硬化性層之180。拉剝黏著力作為接著力測定。結果示 於表1。 (3 )膜厚精度之測定 將關於實施例及比較例所得光碟製造用板片，使用數 位測微儀（NIKON製，MH-15M)，將1平方公尺大小的能量 線硬化性層之膜厚測定100點，以下式算出丨平方公尺之 膜厚精度。結果示於表1。 膜厚精度（％)=u目標膜厚與膜厚差最大點之膜厚-目 標膜厚）/目標膜厚}xl〇〇 2192-8793-PF；Ahddub 24 200809838 (4) 延遲之測定 對關於實施例及比較例所得光碟製造用板片之能量線 硬化性層，以紫外線照射裝置（EYEGRAPHICS公司製， ECS-401GX，使用高壓水銀燈h〇4-L41)照射照度250毫瓦 特/平方公分，光量500毫焦爾/平方公分之紫外線，剝離 PET基材及剝離膜之後，藉由位相差測定裝置（王子計測器 公司製’ KOBRA-WR)測定延遲。結果示於表1。 (5) 405奈米分光穿透率之測定 對能量線硬化性層’以紫外線照射裝置（EYEGRApHICS 公司製，ECS-401GX，使用高壓水銀燈h〇4_L41)照射照度 250耄瓦特/平方公分，光量5〇〇毫焦爾/平方公分之紫外 線，剝離PET基材及剝離膜之後，藉由分光光度計（島津製 作所製，UV-3100PC)測定405奈米之分光穿透率。結果示 於表1。 (6) 作為母盤受容層之凹凸圖案轉印特性之評價 將實施例及比較例所得光碟製造用板片，將剝離膜剝 離黏貼厚度2毫米之聚碳酸酯板。接著，剝離pET基材， 使用層壓輥輪（GMP製，Excelam355Q)，以輥輪移動速度 〇· 94公尺/分鐘，壓力〇· 4百萬帕斯卡，溫度5(rc的條件， 將母盤（凹洞長：500奈米，凹洞深：5〇奈米，鎳合金製） 堡接於能量線硬化性層。 以此狀態，以紫外線照射裝置（EYEGRAPHICS公司製， ECS-401GX，使用高壓水銀燈H〇4 —U1)，由聚碳酸酯側照 射照度2 5 0毫瓦特/平方公分，光量5 〇毫焦爾/平方公分之 2192-8793-PF；Ahddub 25 200809838 紫外線，使能量線硬化性層硬化後，將母盤分離。 將轉印了母體之凹凸圖案（凹洞）之面以掃描式電子顯 微鏡（日立製作所公司製，S4700)觀察，轉印之凹洞長為 425〜500奈米者評為〇。結果示於表1。 (7)膜切加工適用性之評價 將實施例及比較例所得光碟製造用板片，使用膜切裝 置（MARKANDY公司製，MARKANDY910)模切成直徑120毫米 之圓形狀，以目視評價膜切之板片之周緣部有無能量線硬 化性層之溢出。結果示於表1。 [表1] 雙鍵鍵結 消失比例 (%) 能量線硬化性層之 接著力（a) (毫牛頓/25毫米） 硬化後之 接著力 ⑹ 膜厚精度 (%) 延遲 (奈米) 405奈米 分光穿透率 ⑻ 凹凸圖案 轉印特性 模切加工適用 性有無溢出 實施例1 60 86 190 -3 2.8 89.7 〇 無 實施例2 38 120 340 -1 1.7 90.1 〇 無 實施例3 60 270 740 1 3.0 85.0 〇 無 比較例1 92 未滿10 (無法黏貼） - 2 4.5 88.7 無法黏貼 無法黏貼 由表1明顯可知，以實施例製作之光記錄媒體製造用 板片之能量線硬化性層，雙鍵鍵結消失比例在於20〜90%之 範圍，具有適於作為光碟之保護層及母盤受容層之接著 力、膜厚精度、延遲、穿透性、凹凸圖案轉印特性及膜切 加工適用性。 [產業上的可利性] 本發明，有用於以廉價而簡便，且以良好的良率生產 光記錄媒體。 2192-8793-PF/Ahddub 26 200809838 【圖式簡單說明】 圖1係關於本發明之一眘Α 板片之剖面圖。 之光記錄媒體製造用 圖2。)至® 2⑷係表示使用關於 錄媒體製造用板片之光磾萝拌士 也形L之先记 末I艳方法之一例之 圖3(a)至圖3(g)係表 面圖。 衣不使用關於同實施开，能夕亦卞 錄媒體製造用板片之光碟製、生+ 只$悲之先e己 、&方法之其他的例之剖面圖。 主要元件符號說明】 1〜光碟製造用板片； 3、3 A〜記錄層； 5〜保護板片； 12、12’〜基材； S〜母盤。 Z〜光碟基板； 4〜接著劑； 11〜能量線硬化性層 Dl、D2〜光碟片； 2192-8793-PF;Ahddub 27

Claims (1)

1. 200809838 十、申請專利範圍： 1 · 一種光記錄媒體製造用板片，包括： 基材； 積層於上述基材之能量線硬化性層， 其特徵在於： 上述能量線硬化層係在於半硬化狀態，且接著力為1 〇 毫牛頓/ 25毫米以上。 2.如申請專利範圍第1項所述的光記錄媒體製造用板 片，其中上述能量線硬化性層，係藉由具有聚合性雙鍵鍵 結之能量線硬化性成分作為主成分之材料藉由能量線的照 射半硬化者，藉由上述能量線之照射之上述能量線硬化性 成分之雙鍵鍵結之消失比例為20〜90%。 3·如申請專利範圍第丨項所述的光記錄媒體製造用板 片，其中上述能量線硬化性層，係以能量線硬化性單體及/ 或养聚物作為主成分之材料半硬化者。 4. 如申請專利範圍第丨項所述的光記錄媒體製造用板 片，其中上述基材與上述能量線硬化性層接觸之側之面之 表面粗糙度（Ra)為〇· 1微米以下。 5. 如申請專利範圍第丨項所述的光記錄媒體製造用板 片，其中上述能量線硬化性層之兩面積層有基材，上述兩 基材與上述能量線硬化性層接觸之側之面之表面粗糙度 (Ra)為0· 1微米以下。 6·如申請專利範圍第 片’其中上述能量線硬化性層 1項所述的光記錄媒體製造用板 係形成保護光記錄媒體之 2192-8793-PF/Ahddub 28 200809838 ' 保護層者。 7·如申請專利範圍第1項所述的光記錄媒體製造用板 片，其中上述能量線硬化性層，係形成母盤受容層者。 8· 一種光記錄媒體製造用板片之製造方法，其特徵在 於將I i線硬化性成分作為主成分之組合物塗佈於基 材’藉由對所得塗佈膜照射能量線使上述能量線硬化性成 分半硬化，形成接著力為10毫牛頓/25毫米以上之能量線 硬化性層。 9·如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用板 片之製造方法，其中於上述塗佈膜黏貼別的基材再照射能 量線。 10·如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用 板片之製造方法，其中於上述形成之能量線硬化性層黏貼 別的基材。 11 ·如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用 板片之製造方法，其中上述能量線硬化性成分具有聚合性 雙鍵鍵結，藉由照射上述能量線，使上述雙鍵鍵結消失 20〜90% 〇 12.如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用 板片之製造方法，其中上述能量線硬化性成分，以能量線 硬化性單體及/或寡聚物作為主成分。 如申明專利範圍苐8項所述的光記錄媒體製造用 板片之製造方法，其中以上述能量線硬化性成分作為主成 分之組合物，不含溶劑。 2192-8793-PF;Ahddub 29 200809838 、 14· 一種光記錄媒體之製造方法，其特徵在於： 使在於申請專利範圍第1項所述的光記錄媒體製造用 板片之能量線硬化性層一邊的面之呈露出狀態； 將上述能量線硬化性層之露出面黏貼於光記錄媒體之 記錄層；及 藉由對上述能量線硬化性層照射能量線，使上述能量 線硬化性層硬化，形成保護膜。 15· —種光記錄媒體之製造方法，其特徵在於： 使在於申請專利範圍第1項所述的光記錄媒體製造用 板片之能量線硬化性層一邊的面之呈露出狀態； 將上述能量線硬化性層之露出面黏貼於光記錄媒體之 記錄層； 使上述能量線硬化性層之另一邊的面露出，於該露出 面壓接母盤；及 對於上述能量線硬化性層照射照射能量線，使上述能 量線硬化性層硬化，再藉由將上述母盤剝離，形成轉印· 固定上述母盤之凹凸圖案之母盤受容層。 1 6 · —種光記錄媒體，其特徵在於：使用申請專利範圍 第1項所述的光記錄媒體製造用板片製造。 2192-8793-PF/Ahddub 30