JP4764173B2 - 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体 - Google Patents
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Description
加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層、及びその両側にそれぞれ設けられた剥離シートを有する光硬化性転写シートであって、
剥離シートが、プラスチックフィルムとその表面に設けられた剥離層とを含み、
そして、一方の側の剥離シートの剥離層が、不飽和2重結合基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの付加反応生成物からなり、他方の側の剥離シートの剥離層が、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなることを特徴とする光硬化性転写シート、によって達成することができる。
上記光硬化性転写シートにおいて、2枚の剥離シートの光硬化性転写層に接する表面の組成が相互に異なっており、且つ光硬化性転写層の300mJ/cm2の紫外線照射後の残留接着率が、表裏において3%以上の差があることが好ましい。
(1) 光硬化性転写シートを製造後、23℃で48時間以上経過後、光硬化性転写シート(テープ幅50mm)の一方の剥離シートを除去し、剥離した転写シートの転写層の表面を、JIS・G4305に規定する清浄な冷間圧延ステンレス板(SUS304)に貼り、質量が2kgで幅50mmのゴム製のテープローラで1往復して圧着後、300mJ/cm2の紫外線照射して転写層を硬化させる。転写層を30分かけて冷却後、23℃においてシートを面に平行に300mm/分にて引っ張って剥離強度を測定する。
残留接着率(%)=[(1)の剥離強度/(2)の剥離強度]×100
なお、上記剥離強度の測定は、JIS−C−2107(1999年)に準拠して行われる。
また上記残留接着率の測定と同様の測定法は、特開2004―82370号公報にも記載されている。
(2)上記の光硬化性転写シートから、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面に接する剥離シートを除去する工程;
(3)表面に記録ピット及び/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらに該凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の凹凸表面に沿って密着された積層体を形成する工程;及び
(4)該積層体からもう一方の光硬化性転写層の相対的に小さい残留接着率がもたらされる側の表面が剥離シートを除去する工程、
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法にもある。
(1)光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程;を行う。
(5)該積層体の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び/又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパを、該凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を形成する工程;
(6)該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に凹凸を設ける工程;
を含む。
(7)光硬化性転写層の凹凸表面に反射層を設ける工程;
を含む。
即ち、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層(半透明反射層も含む)を有する光情報記録基板の該反射層上に、その凹凸に沿って上記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層が設けられており、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面が反射層に接していることを特徴とする光情報記録媒体;
表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、上記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であり、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面が光情報記録基板の反射層に接していることを特徴とする光情報記録媒体;及び
表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられ、さらに凹凸表面及び反射層を有する1層以上の別の中間樹脂層が、中間樹脂層の凹凸を持たない表面をすでに設けられた中間樹脂層の反射層に対向させて、すでに設けられた中間樹脂層の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、上記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であり、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面が光情報記録基板の反射層に接していることを特徴とする光情報記録媒体にもある。
上記光硬化性転写シート10を用いて、本発明の光情報記録媒体を、例えば図2に示すように製造することができる。
使用可能な熱硬化性樹脂としては、ポリウレタン樹脂(例、ポリエーテル又はポリエステルとポリイソシアネートの組合せ)、ポリアミド樹脂(例、ポリアミドとエポキシ樹脂の組合せ)、メラミン樹脂(例、ポリエステルとメラミンの組合せ)、アクリル樹脂(例、反応性アクリル樹脂とポリイソシアネート等の硬化剤との組合せ)、エポキシ樹脂(例、エポキシ樹脂と酸無水物又はポリアミンとの組合せ)、シリコーン樹脂(例、不飽和2重結合基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの組合せ、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの組合せ)等を挙げることができ;
光硬化性樹脂としては、例えば以下に示す光硬化性転写層に用いられる光硬化性組成物を挙げることができる。
末端がメチル基のジメチルポリシロキサンの側基のメチル基の一部が有機基に置き換わった変性ポリシロキサン(反応性ポリシロキサンの場合の有機基としては、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、カルビノール基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ビニル基;非反応性ポリシロキサンの場合の有機基としては、ポリエーテル基、メチルスチリル基、アルキル基、フッ化アルキル基、高級脂肪酸エステル基);
末端がメチル基のジメチルポリシロキサンの両方の末端のメチル基が有機基に置き換わった変性ポリシロキサン(有機基としては上記と同様);
末端がメチル基のジメチルポリシロキサンの片方の末端のメチル基が有機基に置き換わった変性ポリシロキサン(有機基としてはエポキシ基、カルビノール変性、メタクリル基、アルコール性ジオール基);
末端がメチル基のジメチルポリシロキサンの末端及び側基のメチル基が有機基に置き換わった変性ポリシロキサン(有機基としてはアミノ基、アルコキシ基);
を挙げることができる。
本発明の上記光硬化性組成物は、一般に、ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上のポリマー)、光重合性官能基(一般に炭素炭素2重結合基、好ましくは(メタ)アクリロイル基)を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、
グリセリンジアクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレートメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;
ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と、有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2',4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。
本発明の光硬化性組成物は、上述のように、一般に、ガラス転移温度が80℃以上のポリマー、光重合性官能基(好ましくは(メタ)アクリロイル基)を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。ポリマーと反応性希釈剤との質量比は、20:80〜80:20、特に30:70〜70:30の範囲が好ましい。
本発明の光情報記録媒体の製造は、通常、上記のように円盤状で処理されるが、シート状で連続的に作成し、最後に円盤状にしてもよい。
<光硬化性転写シートの作製>
(ヒドロキシル基を有するポリマー1の作製)
ポリマー配合1
メチルメタクリレート 74質量部
n−ブチルメタクリレート 13質量部
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 13質量部
AIBN 1.2質量部
トルエン 70質量部
酢酸エチル 30質量部
ヒドロキシル基を有するポリマー溶液1(固形分) 100質量部
ヘキサンジオールジアクリレート 90質量部
(KS−HDDA;サートマー社製)
トリメチロールプロパントリアクリレート 20質量部
(TMP−A;共栄社化学(株)製)
ジイソシアネート(BXX5627、東洋インキ製造(株)製) 1質量部
イルガキュア651(チバガイギー(株)製) 1質量部
ヒドロキノンモノメチルエーテル(MEHQ) 0.05質量部
剥離層1配合(付加型シリコーン)
TPR6700(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
CM670(白金触媒、 (株)製) 1質量部
トルエン 499質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、剥離層1配合の混合物を、ロール塗布し、その後140℃で30秒間加熱して、付加反応させ、厚さ500nmの剥離層1を形成した。下記の試験により残留接着率は90%であった。
剥離層2配合(付加型シリコーン)
TPR6604(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
CM674(白金触媒、 (株)製) 1質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、剥離層2配合の混合物を、ロール塗布し、その後150℃で10秒間加熱して、付加反応させ、厚さ500nmの剥離層2を形成した。下記の試験により残留接着率は80%であった。
実施例1において、下記の剥離シート1及び2を用いた以外同様にして光硬化性転写シートを得た。
剥離層1配合(付加型シリコーン)
TPR6700(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
CM670(白金触媒、東芝シリコーン(株)製) 1質量部
トルエン 499質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、剥離層1配合の混合物を、ロール塗布し、その後140℃で30秒間加熱して、付加反応させ、厚さ700nmの剥離層1を形成した。下記の試験により残留接着率は90%であった。
剥離層2配合(縮合型シリコーン)
XS56−A3075(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
YC6831(スズ触媒、東芝シリコーン(株)製) 4質量部
YC6919(スズ触媒、東芝シリコーン(株)製) 2質量部
トルエン 2000質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、剥離層2配合の混合物を、ロール塗布し、その後140℃で30秒間加熱して、縮合反応させ、厚さ200nmの剥離層2を形成した。下記の試験により残留接着率は80%であった。
実施例1において、下記の剥離シート1及び2を用いた以外同様にして光硬化性転写シートを得た。
剥離層1配合(非シリコーン型)
シランカップリング剤 90質量部
(4−アミノプロピルトリメトキシシラン)
PVA樹脂 10質量部
(鹸化度88%、重合度500)
水 1000質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、剥離層1配合の混合物を、ロール塗布し、その後140℃で30秒間加熱して、付加反応させ、厚さ200nmの剥離層1を形成した。下記の試験により残留接着率は95%であった。
剥離層2配合(付加型シリコーン)
TPR6700(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
CM670(白金触媒、東芝シリコーン(株)製) 1質量部
トルエン 499質量部
実施例1において、組成物配合1の代わりに下記の組成物配合2を用いた以外同様にして光硬化性転写シートを得た。
ヒドロキシル基を有するポリマー溶液1(固形分) 100質量部
ヘキサンジオールジアクリレート 90質量部
(KS−HDDA;サートマー社製)
トリメチロールプロパントリアクリレート 20質量部
(TMP−A;共栄社化学(株)製)
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 20質量部
(HO;共栄社化学(株)製)
ジイソシアネート(BXX5627、東洋インキ製造(株)製) 1質量部
イルガキュア651(チバガイギー(株)製) 1質量部
ヒドロキノンモノメチルエーテル(MEHQ) 0.05質量部
実施例2において、組成物配合1の代わりに下記の組成物配合2を用いた以外同様にして光硬化性転写シートを得た。
ヒドロキシル基を有するポリマー溶液1(固形分) 100質量部
ヘキサンジオールジアクリレート 90質量部
(KS−HDDA;サートマー社製)
トリメチロールプロパントリアクリレート 20質量部
(TMP−A;共栄社化学(株)製)
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 20質量部
(HO;共栄社化学(株)製)
ジイソシアネート(BXX5627、東洋インキ製造(株)製) 1質量部
イルガキュア651(チバガイギー(株)製) 1質量部
ヒドロキノンモノメチルエーテル(MEHQ) 0.05質量部
実施例1において、下記の剥離シート1及び2を用いた以外同様にして光硬化性転写シートを得た。
剥離層1配合(付加型シリコーン)
TPR6721(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
CM670(白金触媒、東芝シリコーン(株)製) 1質量部
トルエン 499質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、剥離層1配合の混合物を、ロール塗布し、その後140℃で30秒間加熱して、付加反応させ、厚さ500nmの剥離層1を形成した。下記の試験により残留接着率は90%であった。
上記と同じ剥離シート1を用いた。
実施例4において、下記の剥離シート1及び2を用いた以外同様にして光硬化性転写シートを得た。
剥離層1配合(付加型シリコーン)
TPR6701(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
CM672(白金触媒、東芝シリコーン(株)製) 1質量部
トルエン 499質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、剥離層2配合の混合物を、ロール塗布し、その後140℃で30秒間加熱して、付加反応させ、厚さ500nmの剥離層1を形成した。下記の試験により残留接着率は90%であった。
上記と同じ剥離シート1を用いた。
(1−1)ガラス転移温度(Tg)の測定
得られた光硬化性転写シートから両側の剥離シートを除去し、長さ20mm、幅4mm(厚さ25μm)に裁断してサンプルとした。
(1−2)光硬化性転写シートの硬化後の転写層の残留接着率を、以下(1)〜(3)に記載の方法により測定した。
残留接着率(%)=[(1)の剥離強度/(2)の剥離強度]×100
なお、上記剥離強度の測定は、JIS−C−2107(1999年)に準拠して行われる。
(2−1)基板、反射層及び硬化転写層の積層体(光情報記録媒体)の作製
光硬化性転写シートのロールを円盤状に打ち抜いた後、剥離シート1を除去し、得られた円盤状光硬化性転写シートを、射出成形により成形したピットとしての凹凸面を有するポリカーボネート基板(厚さ1.1mm)の凹凸面に設けられた厚さ40nmの銀合金(Ag・Cu・Nd(組成比98.4:0.7:0.9(質量))の半透過反射層上に、転写シート面と反射層が接触するように配置し、シリコーンゴム製のローラを用いて2kgの荷重で光硬化性転写シートを押圧し、積層体を形成した(図2の(3)に対応)。
(2−2)積層体における、硬化した転写層の反射層(Ag・Cu・Nd)に対する接着性(及びスタンパの剥離性)
上記の積層体の作製(スタンパの剥離まで)を5回行い、得られた硬化転写層のスタンパへの移行の程度、及び硬化転写層の剥離の程度を観察した。
(1−1)と同様にして得られたサンプルに、積算光量300mJ/cm2の条件でUV照射し、(1−1)と同様にしてTgを測定した。
12a,12b 剥離シート
12a1,12b1 剥離層
12a2,12b2 透明フィルム
21 基板
23a,23b,23c,23d 反射層
11a,11b,11c 硬化した光硬化性転写層
24 スタンパ
26 有機ポリマーフィルム(カバー層)
Claims (34)
- 加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層、及びその両側にそれぞれ設けられた剥離シートを有する光硬化性転写シートであって、
剥離シートが、プラスチックフィルムとその表面に設けられた剥離層とを含み、
そして、一方の側の剥離シートの剥離層が、不飽和2重結合基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの付加反応生成物からなり、他方の側の剥離シートの剥離層が、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなることを特徴とする光硬化性転写シート。 - 光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む請求項1に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性転写層の300mJ/cm 2 の紫外線照射後の残留接着率が、表裏において3%以上の差がある請求項1又は2に記載の光硬化性転写シート。
- 紫外線照射後の光硬化性転写層の表裏の残留接着率の差が、4%以上である請求項3に記載の光硬化性転写シート。
- 紫外線照射後の光硬化性転写層の表裏の残留接着率のうち、相対的に大きい残留接着率が90%以上であり、相対的に小さい残留接着率が90%未満である請求項3又は4に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性転写層の相対的に小さい残留接着率がもたらされる側の表面に接する剥離シートの剥離層が、不飽和2重結合基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの付加反応生成物からなり、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面に接する剥離シートの剥離層が、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる請求項3〜5のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 不飽和2重結合基を有するポリシロキサン、及びヒドロキシル基を有するポリシロキサンが、共にジメチルポリシロキサンである請求項1〜6のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 剥離シートのプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである請求項1〜7のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- ポリマーのガラス転移温度が80℃以上である請求項2〜8のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性転写層の300mJ/cm2の紫外線照射後のガラス転移温度が65℃以上である請求項1〜9のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性組成物のガラス転移温度が20℃未満である請求項1〜10のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- ポリマーが、アクリル樹脂である請求項2〜11のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも50質量%含むアクリル樹脂である請求項12に記載の光硬化性転写シート。
- アクリル樹脂が、重合性官能基を有するアクリル樹脂である請求項12又は13に記載の光硬化性転写シート。
- アクリル樹脂が、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である請求項12又は13に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性組成物がさらにジイソシアネートを含む請求項1〜15のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- ポリマーの重量平均分子量が100000以上である請求項2〜16のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性組成物が、光重合開始剤を0.1〜10質量%含む請求項1〜17のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 380〜420nmの波長領域の光透過率が70%以上である請求項1〜18のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 380〜800nmの波長領域の光透過率が70%以上である請求項1〜19のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性転写層の厚さが5〜300μmである請求項1〜20のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である請求項1〜21のいずれか1項に記載の光硬化性転写シート。
- 下記の工程(2)〜(4):
(2)請求項1〜22のいずれか1項に記載の光硬化性転写シートから、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面に接する剥離シートを除去する工程;
(3)表面に記録ピット及び/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらに該凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の凹凸表面に沿って密着された積層体を形成する工程;及び
(4)該積層体からもう一方の、光硬化性転写層の相対的に小さい残留接着率がもたらされる側の表面に接する剥離シートを除去する工程、
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - 反射層が、銀又は銀合金の層である請求項23に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記工程(2)の前に、
(1)光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程
を行う請求項23又は24に記載の光情報記録媒体の製造方法。 - 前記工程(4)を行った後、さらに
(5)該積層体のもう一方の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び/又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパを該凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を形成する工程;
(6)該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に凹凸を設ける工程;
を含む請求項23〜25のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。 - スタンパが、ニッケル製である請求項26に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記(6)の紫外線照射を少なくとも300mJ/cm2の照射エネルギーで行う請求項26又は27に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記(6)で得られる光硬化性転写層のガラス転移温度が65℃以上である請求項26〜28のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記(5)〜(6)の工程を行った後、さらに
(7)光硬化性転写層の凹凸表面に反射層を設ける工程;
を含む請求項26〜29のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。 - 請求項23〜30のいずれかに記載の製造方法により得られる光情報記録媒体。
- 表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、その凹凸に沿って請求項1〜22のいずれか1項に記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層が設けられており、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面が反射層に接していることを特徴とする光情報記録媒体。
- 表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、請求項1〜22のいずれか1項に記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であり、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面が光情報記録基板の反射層に接していることを特徴とする光情報記録媒体。 - 表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられ、さらに凹凸表面及び反射層を有する1層以上の別の中間樹脂層が、中間樹脂層の凹凸を持たない表面をすでに設けられた中間樹脂層の反射層に対向させて、すでに設けられた中間樹脂層の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、請求項1〜22のいずれか1項に記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であり、光硬化性転写層の相対的に大きい残留接着率がもたらされる側の表面が光情報記録基板の反射層に接していることを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006006936A JP4764173B2 (ja) | 2006-01-16 | 2006-01-16 | 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006006936A JP4764173B2 (ja) | 2006-01-16 | 2006-01-16 | 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007185896A JP2007185896A (ja) | 2007-07-26 |
JP4764173B2 true JP4764173B2 (ja) | 2011-08-31 |
Family
ID=38341388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006006936A Expired - Fee Related JP4764173B2 (ja) | 2006-01-16 | 2006-01-16 | 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4764173B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5158923B2 (ja) * | 2006-05-23 | 2013-03-06 | 株式会社ブリヂストン | 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体 |
US8409684B2 (en) | 2007-03-30 | 2013-04-02 | Lintec Corporation | Release sheet for stamper-receiving layer, and optical recording medium-producing sheet |
JP5393045B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-01-22 | 太陽誘電株式会社 | 光情報記録媒体 |
US20130330518A1 (en) * | 2011-02-24 | 2013-12-12 | Toray Industries, Inc. | Transfer film |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3989755B2 (ja) * | 2002-03-18 | 2007-10-10 | リンテック株式会社 | 光ディスク製造用シート |
JP2005154598A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Bridgestone Corp | 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体 |
JP2005332522A (ja) * | 2004-05-21 | 2005-12-02 | Lintec Corp | 光記録媒体製造用シート |
-
2006
- 2006-01-16 JP JP2006006936A patent/JP4764173B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007185896A (ja) | 2007-07-26 |
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