JP2003272244A - 光情報記録媒体の製造方法及び光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 凹凸面を有するディスク基板上に、もう一層
の凹凸面を有する層を形成するための方法として、極め
て簡便で生産性に優れた光情報記録媒体の製造方法を提
供すること。 【解決手段】 表面に記録ピット及び／又はグルーブと
しての凹凸を有する基板の該凹凸表面に、光重合性官能
基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可
能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートを圧し
て該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密
着させる工程、該積層体の光硬化性転写シートの表面
に、凹凸を有するスタンパの該凹凸表面を載置し、これ
らを押圧して積層体を形成する工程、及び該積層体の光
硬化性転写シートを紫外線照射により硬化させ、次いで
スタンパを除去することにより、硬化シートの表面に凹
凸を設ける工程を含む光情報記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＤＶＤ（Digital
Versatile Disc）、ＣＤ（Compact Disc)等の大容量の
文字、音声、動画像等の情報をデジタル信号として記録
された及び／又は記録可能な光情報記録媒体の製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】ディジタル信号として表面にピット形成
された記録済み光情報記録媒体として、オーディオ用Ｃ
Ｄ、ＣＤ−ＲＯＭが広く使用されているが、最近、動画
像と記録も可能な両面にピット記録がなされたＤＶＤ
が、ＣＤの次世代記録媒体として注目され、徐々に使用
されるようになってきている。またピット及びグルーブ
が形成されたユーザが記録可能なＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−
Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等も注目されている。

【０００３】両面に記録層を持つＤＶＤには、例えば、
図４に示すようにそれぞれ片面に信号ビットを形成した
２枚の透明樹脂基板１，２の該信号ビット形成面にそれ
ぞれ反射層１ａ，２ａを形成し、これら反射層１ａ，２
ａを互いに対面させた状態で基板１，２を接着剤層３を
介して貼り合わせ、接合した両面読み出し方式のもの、
及び、図５に示すように、それぞれ片面に信号ビットを
形成した基板１，２において、一方の基板１の信号ビッ
ト面に半透明層１ｂを形成すると共に、他方の基板２の
信号ビット面に反射層２ａを形成し、これら半透明層１
ｂと反射層２ａとを対向させた状態で基板１，２を接着
剤層３を介して貼り合わせ、接合した片面読み出し方式
のものとが知られている。

【０００４】両面読み出しＤＶＤの製造は、従来、一般
に前記信号ピットの凹凸が雄雌反対の凹凸を有するスタ
ンパを用いて、ポリカーボネート樹脂を溶融し、射出成
形することにより表面に凹凸を有する透明樹脂基板を作
製し、この凹凸表面にアルミニウム等の金属をスパッタ
リング等により蒸着することによって反射層を形成し、
この反射層が形成された透明樹脂基板２枚を反射層を対
向させて接着剤で貼り合わせることにより行われてい
た。

【０００５】２００２年２月１０日に次世代光ディスク
の統一規格「ブル−レイ・ディスク（Blu-ray Disc）」
が提案された。主な仕様は、記録容量：２３．３／２５
／２７ＧＢ、レーザ波長：４０５ｎｍ（青紫色レー
ザ）、レンズ開口数(N/A)：０．８５、ディスク直径：
１２０ｍｍ、ディスク厚：１．２ｍｍ、トラックピッ
チ：０．３２μｍ等である。

【０００６】上記のようにブル−レイ・ディスクでは、
溝の幅が狭く、且つピットも小さくなっている。このた
め読み取りレーザのスポットを小さく絞る必要がある
が、スポットを小さくするとディスクの傾きによる影響
を大きく受けるようになり、再生しようとするＤＶＤが
わずかで曲がっていても再生できなくなる。このような
不利を補うため、基板の厚さを薄くし、またレーザ照射
側のピット上のカバー層の厚さを０．１ｍｍ程度にする
ことが考えられている。

【０００７】日経エレクトロニクス(NIKKEI ELECTRONIC
S)、２００１．１１．５号の６８頁に上記要求に合うＤ
ＶＤの製造方法が記載されている。図７を参照しながら
説明する。凹凸表面に反射層（又は記録層）６ａを有す
るディスク基板(1.1mm)４ａのその反射層上に紫外線硬
化樹脂５Ａを塗布により設け、凹凸表面に反射層（又は
記録層）を有するポリカーボネート製スタンパ４ｂの上
に紫外線硬化樹脂５Ｂを塗布により設ける。次いで、基
板を表裏反転させて、基板とスタンパを貼り付け、スタ
ンパ側から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂樹脂５Ａ及
び５Ｂを硬化させる。紫外線硬化樹脂５Ｂの層からスタ
ンパ４ｂを除去し、その凹凸面に反射層（又は記録層）
６ｂを形成し、その上にカバー層（厚さ０．１ｍｍ程
度）７を形成する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記の方法において、
ディスク基板及びスタンパの表面には、塗布により紫外
線硬化樹脂が設けられ、さらにその後基板を表裏反転さ
せて、スタンパと貼り付けている。このように塗布及び
反転の複雑な工程を行う必要があり、また反転して基板
とスタンパを貼り付けする際、粘チョウな紫外線硬化樹
脂同士の接触の際に気泡の発生等の不利があり、良好な
貼り付けを行うことができないとの問題がある。さら
に、上記紫外線硬化樹脂は硬化時に収縮が大きく、得ら
れる媒体の反り等の変形が目立つとの問題もある。

【０００９】かかる点に鑑みなされた本発明は、凹凸面
を有するディスク基板上に、もう一層の凹凸面を有する
層を形成するための方法として、極めて簡便で生産性に
優れた光情報記録媒体の製造方法を提供することをその
目的とする。

【００１０】また、凹凸面を有するディスク基板の凹凸
面を簡易に且つ精確に転写することができる光情報記録
媒体の製造方法を提供することをその目的とする。

【００１１】さらに、凹凸面を有するディスク基板の凹
凸面とスタンパの凹凸面とを、連続的、簡易に、且つ精
確に転写することができる光情報記録媒体の製造方法を
提供することをその目的とする。

【００１２】さらにまた、上記方法により得られる反り
等の変形の少ない寸法安定性に優れた光情報記録媒体を
提供することをその目的とする。

【００１３】また、精確に転写された凹凸面を有し、表
面平滑性に優れた光情報記録媒体、特に厚さの薄い基板
を有する光情報記録媒体を提供することをその目的とす
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、表面に記録ピ
ット及び／又はグルーブとしての凹凸を有する基板の該
凹凸表面に、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを
含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる
光硬化性転写シートを、その一方の表面が該凹凸表面に
接触するように載置し、これらを押圧して該光硬化性転
写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着された積層体
を形成し、次いで該積層体の光硬化性転写シートを紫外
線照射により硬化させることを特徴とする光情報記録媒
体の製造方法にある。

【００１５】上記製造方法において、押圧を減圧しなが
ら行うことが、気泡の発生を抑えることができ好まし
い。基板の凹凸表面には一般に反射層が形成されてい
る。反射層の代わりに記録層を設けても良い（その際、
通常ピットの代わりにグルーブが形成される）。

【００１６】また本発明は、表面に記録ピット及び／又
はグルーブとしての凹凸を有する基板の該凹凸表面に、
光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧
により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写
シートを、その一方の表面が該凹凸表面に接触するよう
に載置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表
面が該凹凸表面に沿って密着させる工程、該積層体の光
硬化性転写シートの基板と接触していない側の表面に、
表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有
するスタンパの該凹凸表面を載置し、これらを押圧して
該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着
した積層体を形成する工程、及び該積層体の光硬化性転
写シートを紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパ
を除去することにより、硬化シートの表面に記録ピット
を設ける工程を含む光情報記録媒体の製造方法にもあ
る。

【００１７】上記製造方法において、凹凸を有する硬化
シートの表面に、さらに有機ポリマーフィルムを接着剤
層を介して貼付することが好ましい。或いは、凹凸を有
する硬化シートの表面に、さらに光硬化性転写シートを
押圧し、紫外線照射により硬化させても良い。基板の凹
凸表面に反射層が形成されており、そして記録ピットを
有する硬化シートの表面にさらに半透明反射層を形成す
ることが好ましい。押圧を減圧しながら行うことが好ま
しい。

【００１８】上述の製造方法において；光硬化性転写シ
ートの光硬化性組成物のガラス転移温度が２０℃以下で
あることが好ましい。これにより常温での押圧により凹
凸の形成が容易となる。光硬化性転写シートは３８０〜
４２０ｎｍの波長領域（好ましくは３８０〜６００ｎ
ｍ、特に３８０〜８００ｎｍの波長領域）の光透過率が
７０％以上であることが好ましい。これにより得られる
媒体にレーザによる信号の読み取りを行った場合に、エ
ラーの無い操作が保証される。上記光硬化性転写シート
の硬化収縮率が８％以下であることが好ましい。

【００１９】反応性ポリマーのガラス転移温度が２０℃
以下であることが好ましい。また反応性ポリマーが、光
重合性官能基を１〜５０モル％含むことが適当な硬化
性、硬化被膜強度を得る上で好ましい。光重合性官能基
が、（メタ）アクリロイル基であることが、硬化性の点
で好ましい。光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１
〜１０質量％含むことが適当な硬化性を得る上で好まし
い。光硬化性転写シートの厚さが１〜１２００μｍ（特
に５〜３００μｍ）であることが、転写性、作業性の点
から好ましい。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。

【００２１】図１は本発明で使用される光硬化性転写シ
ート１１の実施形態の一例を示す断面図である。光硬化
性転写シート１１は、両面に剥離シート１２ａ，１２ｂ
を有する。剥離シートは一方のみでも、無くても良い。
使い方により適宜設定される。特に、連続的に製造する
場合は、剥離シートは無い方が好ましい。

【００２２】光硬化性転写シート１１は、スタンパの凹
凸表面を押圧することにより精確に転写できるように、
加圧により変形し易い層である。特にガラス転移温度が
２０℃以下である光重合性官能基を有する反応性ポリマ
ーを含む光硬化性組成物から主として構成されているこ
とが好ましい。また情報の高密度化のため、再生レーザ
により読み取りが容易なように３８０〜４２０ｎｍの波
長領域の光透過率が７０％以上である層であることが好
ましい。特に、３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過
率が８０％以上である層が好ましい。従って、この転写
シート用いて作製される本発明の光情報記録媒体は３８
０〜４２０ｎｍの波長のレーザを用いてピット信号を再
生する方法に有利に使用することができる。

【００２３】上記光硬化性転写シートを用いて、本発明
の光情報記録媒体を、例えば下記の図２に示すように製
造することができる。

【００２４】剥離シート１２ａを除去した光硬化性転写
シート１１を用意する（１）。表面に記録ピットとして
の凹凸を有する基板２１の該凹凸表面の反射層２３（一
般にＡｌ、Ａｇ等の高反射率の反射層）上に、剥離シー
トの無い側を対向させて光硬化性転写シート１１を押圧
する（２）。これにより光硬化性転写シートの表面が該
凹凸表面に沿って密着された積層体（１１，２３，２１
からなる）を形成する。この構成で光情報記録媒体とし
て使用する場合は、光硬化性転写シート１１を紫外線照
射により硬化させ、剥離シート１２ｂを除去する。

【００２５】次いで、表面に記録ピットとしての凹凸を
有するスタンパ２４を、積層体から剥離シート１２ｂを
除去して未硬化状態の光硬化性転写シート１１の表面
（基板と接触していない側の表面）に押圧する（３）。
光硬化性転写シート１１の表面がスタンパ２４の凹凸表
面に沿って密着した積層体（２１，２３，１１，２４か
らなる）を形成し、そして積層体の光硬化性転写シート
を紫外線照射により硬化させた（４）のちスタンパ２４
を除去することにより、硬化シートの表面に記録ピット
等の凹凸を設ける。これにより、基板１１、反射層２３
及び硬化した光硬化性転写シート１１から成る積層体
（光情報記録媒体）を得る。通常、この凹凸上（硬化シ
ートの表面）に、銀合金反射層（半透明反射層）２５を
設け、さらにその上に有機ポリマーフィルム（カバー
層）２６を接着剤層を介して貼付する（５）。記録ピッ
トを有する硬化シートの表面に、さらに光硬化性転写シ
ートを押圧し、紫外線照射により硬化させても良い。或
いは、硬化シートの表面に紫外線硬化性樹脂を塗布、硬
化させても良い。

【００２６】上記方法においては、再生専用の光情報記
録媒体について説明をしたが、記録可能な光情報記録媒
体についても同様に行うことができる。記録可能媒体の
場合、グルーブ或いはグルーブ及びピットを有してお
り、この場合反射層及び半透明反射層の代わりに金属記
録層（色素記録層の場合は記録層及び反射層）が設けら
れる。それ以外は上記と同様に光情報記録媒体を製造す
ることができる。

【００２７】本発明では、記録ピット及び／又はグルー
ブである凹凸形状を、光硬化性転写層１１と基板２１と
を１００℃以下の低温（好ましくは常温）で押圧する
（好ましくは減圧下）ことにより精確に転写されるよう
に光硬化性転写シートが設計されている。基板２１と、
光硬化性転写層１１との重ね合わせは、一般に圧着ロー
ルや簡易プレスで行われる（好ましくは減圧下）。ま
た、光硬化性転写層１１の硬化後の層は、基板２１の表
面の反射層に用いられる金属との接着力が良好で剥離す
ることはない。必要により反射層上に接着促進層を設け
ても良い。

【００２８】本発明では、記録ピット及び／又はグルー
ブである凹凸形状を、光硬化性転写シート１１とスタン
パ２４とを１００℃以下の低温（好ましくは常温）で押
圧する（好ましくは減圧下）ことにより精確に転写され
るように光硬化性転写シートが設計されている。スタン
パ２１と、光硬化性転写シート１１との重ね合わせは、
一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる（好ましくは
減圧下）。また、光硬化性転写層１１の硬化後の層は、
スタンパに用いられるニッケルなどの金属との接着力が
極めて弱く、光硬化性転写シートをスタンパから容易に
剥離することができる。

【００２９】基板２１は、一般に厚板（通常０．３〜
１．５ｍｍ、特に１．１ｍｍ程度）であるので、従来の
射出成形法で作製することが一般的である。しかし光硬
化性転写シートとスタンパを用いて製造しても良い。本
発明の光硬化性転写シートは３００μｍ以下（好ましく
は１５０μｍ以下）に薄くすることができるので、もう
一方の基板を従来法で作製し、基板の厚さを大きくする
ことができるのでピット形状の転写精度を上げることが
できる。

【００３０】上記工程において、光硬化性転写シートを
基板に押圧する際、或いはスタンパを光硬化性転写シー
トに押圧する際に、減圧下に押圧或を行うことが好まし
い。これにより、気泡の除去等が円滑に行われる。

【００３１】上記減圧下の押圧は、例えば、減圧下に２
個のロール間に、光硬化性転写シートとスタンパを通過
させる方法、あるいは真空成形機を用い、スタンパを型
内に載置し、減圧しながら光硬化性転写シートをスタン
パに圧着させる方法を挙げることができる。

【００３２】また、二重真空室方式の装置を用いて減圧
下の押圧を行うことができる。図４を参照しながら説明
する。図４には二重真空室方式のラミネータの一例が示
されている。ラミネータは下室４１、上室４２、シリコ
ーンゴムシート４３、ヒータ４５を備えている。ラミネ
ータ内の下室４１に、凹凸を有する基板と光硬化性転写
シートとの積層体４９、又は基板と光硬化性転写シート
とスタンパとの積層体４９を置く。上室４２及び下室４
１共に排気する（減圧する）。積層体４９をヒータ４５
で加熱し、その後、下室４１を排気したまま上室４２を
大気圧に戻し、積層体を圧着する。冷却して積層体を取
り出し、次工程に移す。これにより排気時に脱泡が十分
に行われ、気泡の無い状態で、スタンパ又は基板と光硬
化性転写シートとを圧着することができる。

【００３３】本発明で使用される光硬化性転写シートは
ガラス転移温度が２０℃以下である光重合性官能基を有
する反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなること
が好ましい。

【００３４】光硬化性組成物は、一般に、上記光重合性
官能基を有する反応性ポリマー、光重合性官能基（好ま
しくは（メタ）アクリロイル基）を有する化合物（モノ
マー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望によ
り他の添加剤から構成される。

【００３５】光重合性官能基を有する反応性ポリマーと
しては、例えばアルキルアクリレート（例、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート）及び／又はアルキル
メタクリレート（例、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキ
シルメタクリレート）から得られる単独重合体又は共重
合体（即ちアクリル樹脂）で、且つ、主鎖又は側鎖に光
重合性官能基を有するものを挙げることができる。この
ような重合体は、例えば１種以上の（メタ）アクリレー
トと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アク
リレート（例、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナト
アルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基
と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させるこ
とにより得ることができる。したがって、光重合性官能
基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂が好まし
い。

【００３６】本発明の上記反応性ポリマーは、光重合性
官能基を一般に１〜５０モル％、特に５〜３０モル％含
むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アク
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、
特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。

【００３７】またこの反応性ポリマーのガラス転移温度
は、一般に２０℃以下であり、ガラス転移温度を２０℃
以下とすることにより、得られる光硬化性転写層がスタ
ンパの凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその凹
凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。
特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃の範囲にする
ことにより追随性が優れている。ガラス転移温度が高す
ぎると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必要となり作
業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分
な高度が得られなくなる。

【００３８】さらに、本発明の反応性ポリマーは、一般
に数平均分子量が５０００〜１００００００、好ましく
は１００００〜３０００００であり、また重量平均分子
量が一般に５０００〜１００００００、好ましくは１０
０００〜３０００００であることが好ましい。

【００３９】光重合性官能基を有する化合物の具体例と
しては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−
エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベ
ンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）ア
クリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレー
ト、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシ
クロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テ
トラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロ
イルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒド
ロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アク
リレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イ
ソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メ
タ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー
類、ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、
プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，
６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタン
ジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−
ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプ
ロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロール
シクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオー
ル、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、
前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン
酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物
類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポ
リオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリ
カプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前
記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラク
トンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマ
ーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、
トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−
４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，
４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、２，２'−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例え
ば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロ
キシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３
−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シク
ロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物で
あるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂
等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル
酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）ア
クリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を
挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有す
る化合物は１種又は２種以上、混合して使用することが
できる。

【００４０】光重合開始剤としては、公知のどのような
光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯
蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始
剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メ
チルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１な
どのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなど
のベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾ
フェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチ
ルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊
なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなど
が使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−
（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロ
パン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重
合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香
酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知
慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合
で混合して使用することができる。また、光重合開始剤
のみの１種または２種以上の混合で使用することができ
る。光硬化性組成物中に、光重合開始剤を一般に０．１
〜２０質量％、特に１〜１０質量％含むことが好まし
い。

【００４１】光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重
合開始剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロア
セトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノ
ン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエ
トキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒ
ドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−
プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フ
ェニル）−２−モルホリノプロパン−１など、ベンゾフ
ェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾ
イル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニ
ルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベ
ンッゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、
３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなど
が使用できる。

【００４２】アセトフェノン系重合開始剤としては、特
に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニ
ル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。ベンゾ
フェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベン
ゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好まし
い。また、第３級アミン系の光重合促進剤としては、ト
リエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリ
イソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノ
ン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチル
アミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘ
キシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進
剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−
ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミ
ノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。以上
のように、光重合開始剤の成分としては、上記の３成分
を組み合わせることにより使用する。

【００４３】本発明の光硬化性転写層はガラス転移温度
が２０℃以下で、透過率７０％以上を満たすように光硬
化性組成物を設計することが好ましい。このため、上記
光重合可能な官能基を有する化合物及び光重合開始剤に
加えて、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤
を添加することが好ましい。

【００４４】上記反応性ポリマー：光重合可能な官能基
を有する化合物：光重合開始剤の質量比は、一般に、４
０〜１００：０〜６０：０．１〜１０、特に６０〜１０
０：０〜４０：１〜１０から好ましい。

【００４５】他の添加剤として、シランカップリング剤
（接着促進剤）を添加することができる。このシランカ
ップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピル
トリメトキシシランなどがあり、これらの１種を単独で
又は２種以上を混合して用いることができる。これらシ
ランカップリング剤の添加量は、上記反応性ポリマー１
００重量部に対し通常０．０１〜５重量部で十分であ
る。

【００４６】また同様に接着性を向上させる目的でエポ
キシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基
含有化合物としては、トリグリシジルトリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート；ネオペンチルグリコ
ールジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオール
ジグリシジルエーテル；アクリルグリシジルエーテル；
２−エチルヘキシルグリシジルエーテル；フェニルグリ
シジルエーテル；フェノールグリシジルエーテル；ｐ−
ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル；アジピン酸ジ
グリシジルエステル；ｏ−フタル酸ジグリシジルエステ
ル；グリシジルメタクリレート；ブチルグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子
量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千
から数十万のポリマーを添加することによっても同様の
効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量
は上記反応性ポリマー１００重量部に対し０．１〜２０
重量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくと
も１種を単独で又は混合して添加することができる。

【００４７】さらに他の添加剤として、加工性や貼り合
わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加するこ
とができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然
樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂
系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に
用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、
ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体とし
てはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステ
ル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペ
ン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系
樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることがで
きる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバ
ル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂
系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂
が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹
脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石
油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマ
ロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系
樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂
を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹
脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。

【００４８】アクリル樹脂も添加することができる。例
えば、アルキルアクリレート（例、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート）及び／
又はアルキルメタクリレート（例、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート）か
ら得られる単独重合体又は共重合体を挙げることができ
る。またこれらのモノマーと、他の共重合可能なモノマ
ーとの共重合体も挙げることができる。特に、光硬化時
の反応性や硬化後の耐久性、透明性の点からポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）が好ましい。

【００４９】上記炭化水素樹脂等のポリマーの添加量は
適宜選択されるが、上記反応性ポリマー１００重量部に
対して１〜２０重量部が好ましく、より好ましくは５〜
１５重量部である。

【００５０】以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成
物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少
量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲ
ル、炭酸カルシウム、シリコン共重合体の微粒子等の添
加剤を少量含んでもよい。

【００５１】本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性
転写シートは、上記反応性ポリマー、光重合可能な官能
基を有する化合物（モノマー及びオリゴマー）及び、所
望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール
等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、イ
ンフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜して
用いることができる。支持体を用いる場合は、支持体上
に製膜する必要がある。より好ましい本発明の光硬化性
接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合
溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコ
ートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート
法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコー
ト法等により支持体上に塗工し、溶媒を乾燥することに
より製膜する方法である。

【００５２】また、光硬化性転写シートの厚さは１〜１
２００μｍ、特に５〜５００μｍとすることが好まし
い。特に５〜３００μｍ（好ましくは１５０μｍ以下）
が好ましい。１μｍより薄いと封止性が劣り、透明樹脂
基板の凸凹を埋め切れない場合が生じる。一方、１００
０μｍより厚いと記録媒体の厚みが増し、記録媒体の収
納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがあり、更
に光線透過に影響を与えるおそれもある。

【００５３】上記光硬化性転写シートの両側には剥離シ
ートが貼り付けられていることが好ましい。

【００５４】剥離シートの材料としては、ガラス転移温
度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このよう
な支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
シクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナ
イロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等の
ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチ
オエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォ
ン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他
に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポ
リスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成
分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中
で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、
ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテ
レフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０
〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ま
しい。

【００５５】表面に凹凸を有する基板の材料としてはと
しては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂
が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹
脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ
６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェ
ニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケ
トン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン
等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、
ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ト
リアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロ
ライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用い
ることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリ
メチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリ
スチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈
折の点で優れており、好適に用いることができる。厚さ
は２００〜２０００μｍが好ましく、特に５００〜１５
００μｍが好ましい。

【００５６】有機ポリマーフィルムの材料としては、ガ
ラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好まし
く、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン
４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタ
ルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフ
ィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、
ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォ
ン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレー
ト、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカー
ボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセ
ルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有
機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができ
る。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタア
クリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポ
リエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れ
ており、好適に用いることができる。厚さは１０〜２０
０μｍが好ましく、特に５０〜１００μｍが好ましい。

【００５７】こうして得られる本発明に光硬化性転写シ
ートは、ガラス転移温度が２０℃以下である反応性ポリ
マーを含む光硬化性組成物からなるものであるが、さら
に光硬化性転写層の３８０〜８００ｎｍの波長領域の光
透過率が７０％以上であることが好ましい。即ち、ガラ
ス転移温度が２０℃以下とすることにより、光硬化性転
写層がスタンパの凹凸面に圧着されたとき、その凹凸面
に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特
に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃の範囲にするこ
とにより追随性が優れている。ガラス転移温度が高すぎ
ると、貼り付け時に高圧力及び高温が必要となり作業性
の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高
度が得られなくなる。

【００５８】光硬化性転写シートは３８０〜４２０ｎｍ
（好ましくは３８０〜８００ｎｍ）の波長領域の光透過
率が７０％以上であり、これはレーザによる読み取り信
号の強度低下を防止するためである。さらに３８０〜４
２０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％以上であること
が好ましい。

【００５９】光硬化性組成物中の反応性ポリマーには重
合性官能基を１〜５０モル％有することが好ましい。こ
れにより、得られる光硬化性転写シートが、硬化後に形
状保持可能な強度得ることができる。光重合開始剤は前
記のように０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、これ
より少ないと硬化速度が遅すぎて、作業性が悪く、多す
ぎると転写精度が低下する。

【００６０】本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度
を精密に制御したフィルム状で提供することができるた
め、基板及びスタンパとの貼り合わせを容易にかつ精度
良くおこなうことが可能である。また、この貼り合わせ
は、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で２０〜
１００℃で仮圧着した後、光により常温、１〜数十秒で
硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体
にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンド
リングができるという特徴を有している。

【００６１】本発明の光硬化性転写シートを硬化する場
合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのもの
が採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカ
ルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュ
リーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レー
ザー光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光
源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分
程度である。

【００６２】また、硬化促進のために、予め積層体を３
０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。

【００６３】得られた本発明の基板の凹凸表面の反射層
は、基板に金属の反射層を蒸着（例えばスパッタリン
グ、真空蒸着、イオンプレーティング等）することによ
り形成する。金属としては、アルミニウム、金、銀、こ
れらの合金等を挙げることができる。硬化シート上の半
透明反射層は、金属として銀等を用いて形成される。即
ち、上記反射層より低い反射率の反射層にする必要があ
り、成分、膜厚等が変更される。

【００６４】硬化シートの反射層上に有機ポリマーフィ
ルムを貼り付ける場合、一方に接着剤を塗布し、その上
に他方を重ね、硬化させる。接着剤がＵＶ硬化性樹脂の
場合はＵＶ照射により、ホットメルト接着剤の場合は、
加熱下に塗布し、冷却することにより得られる。

【００６５】本発明の光情報記録媒体の製造は、通常シ
ート状で連続的に作成され、最後に円盤状に打ち抜かれ
るが、減圧下での処理が必要な場合等で、円盤状で処理
してもよい。

【００６６】

【実施例】以下に実施例を示し、本発明ついてさらに詳
述する。 ［実施例１］ ＜光硬化性転写シートの作製＞ （反応性ポリマーの作製） 配合Ｉ ２−エチルヘキシルメタクリレート ７０質量部 メチルメタクリレート ２０質量部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０質量部 ベンゾフェノン ５質量部 トルエン ３０質量部 酢酸エチル ３０質量部

【００６７】上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しな
がら、６０℃に加熱して重合を開始させ、この温度で１
０時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル
樹脂を得た。その後、カレンズ ＭＯＩ（２−イソシア
ナトエチルメタクリレート；昭和電工（株）製）５質量
部を添加し、窒素雰囲気下で穏やかに撹拌しながら５０
℃で反応させ、光重合性官能基を有する反応性ポリマー
の溶液１を得た。

【００６８】得られた反応性ポリマーは、Ｔｇが０℃で
あり、側鎖にメタクリロイル基を５モル％有していた。

【００６９】 配合II 反応性ポリマー溶液１ １００質量部 トリシクロデカンジアクリレート ３０質量部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １質量部 上記配合の混合物を均一に溶解させ、剥離シート（厚さ
７５μｍ；商品名Ｎｏ．２３、藤森工業（株）製）上
に、塗布し、乾燥厚さ２０±２μｍの光硬化性転写シー
トを形成した。シートの反対側に上記剥離シートを貼付
した。

【００７０】＜光情報記録媒体の作製＞一方の剥離シー
トを除去した上記光硬化性転写シートを、射出成形によ
り成形したピットとしての凹凸面を有するポリカーボネ
ート基板（厚さ１．１ｍｍ）の凹凸面に設けられたアル
ミニウム反射層（７０ｎｍ）上に、転写シート面と反射
層が接触するように配置し、シリコーンゴム製のローラ
を用いて２ｋｇの荷重で光硬化性転写シートを押圧し、
積層体を形成した（図２の（２）に対応）。

【００７１】積層体の光硬化性転写シートの剥離シート
を除去し、その除去した転写シート表面に、ピットとし
ての凹凸面を有するニッケル製のスタンパを、シート表
面とスタンパの凹凸面とが接触するように配置して、シ
リコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重でスタン
パを押圧し、積層体を形成し、スタンパの凹凸形状を転
写シート表面に転写した。

【００７２】次に、光硬化性転写シート側から、メタル
ハライドランプを用いて、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ
^２の条件でＵＶ照射し、転写シートを硬化させた。

【００７３】積層体からスタンパを剥離、除去し、硬化
した光硬化性転写シートの凹凸面上に銀合金をスパッタ
リングすることにより、銀合金の半透過反射層を形成し
た。この上に接着剤を介してポリカーボネートフィルム
（厚さ７０μｍ；商品名ピュアエースＣ１１０−７０、
帝人（株）製）を貼り付けた。

【００７４】これにより２層の凹凸面を有する光情報記
録媒体を得た。

【００７５】 ［実施例２］ ＜光硬化性転写シートの作製＞ （反応性ポリマーの作製） 配合Ｉ’ ｎ−ヘキシルメタクリレート ５０質量部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート ５０質量部 ベンゾフェノン ５質量部 トルエン ３０質量部 酢酸エチル ３０質量部 上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、６０℃
に加熱して重合を開始させ、この温度で１０時間撹拌
し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得
た。その後、カレンズ ＭＯＩ（２−イソシアナトエチ
ルメタクリレート；昭和電工（株）製）５０質量部を添
加し、窒素雰囲気下で穏やかに撹拌しながら５０℃で反
応させ、光重合性基を有する反応性ポリマーの溶液２を
得た。

【００７６】得られた反応し高分子は、Ｔｇが５℃であ
り、側鎖にメタクリロイル基を５０モル％有していた。

【００７７】 配合II’ 反応性ポリマー溶液２ １００質量部 １，６−ヘキサンジオールジメタクリレート １０質量部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １質量部 上記配合の混合物を均一に溶解させ、ピュアエースＣ１
１０−７０（厚さ７０μｍ；帝人（株）製）上に、塗布
し、乾燥厚さ３０±２μｍの光硬化性転写層を形成し
た。これにより、厚さ１００±２μｍの光硬化性転写シ
ートを得た。

【００７８】上記シートを用いて、実施例１と同様にし
て行い、これにより光情報記録媒体を得た。

【００７９】［比較例１］ ＜光情報記録媒体の作製＞ピットとしての凹凸面を有す
る射出成形で得たポリカーボネート基板（厚さ１．１ｍ
ｍ）の凹凸面に設けられたアルミニウム反射層（７０ｎ
ｍ）上に、紫外線硬化樹脂（商品名ＳＤ−６６１、大日
本インキ化学工業（株）製）を塗布し、厚さ１０μｍの
紫外線硬化樹脂Ａ層を形成した。

【００８０】ピットとしての凹凸面を有するニッケル製
のスタンパ表面に紫外線硬化樹脂（商品名ＳＤ−６６
１、大日本インキ化学工業（株）製）を塗布し、厚さ１
０μｍの紫外線硬化樹脂Ｂ層を形成した。

【００８１】上記基板とスタンパを、紫外線硬化樹脂Ａ
層とＢ層とを対向させて、圧着させた。

【００８２】次に、光硬化性転写シート側から、メタル
ハライドランプを用いて、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ
^２の条件でＵＶ照射し、転写層を硬化させた。

【００８３】積層体からスタンパを剥離、除去し、硬化
した紫外線硬化樹脂Ｂ層の凹凸面上に銀合金をスパッタ
リングすることにより、銀合金の半透過反射層を形成し
た。この上に接着剤を介してポリカーボネートフィルム
（厚さ７０μｍ；商品名ピュアエースＣ１１０−７０、
帝人（株）製）を貼り付けた。

【００８４】これにより２層の凹凸面を有する光情報記
録媒体を得た。

【００８５】＜光情報記録基板及び光情報記録媒体の評
価＞ （１）光線透過率（３８０〜４２０ｎｍの波長領域） 一方の光硬化性転写シートを、ＪＩＳ−Ｋ６７１７に従
い３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光線透過率を測定し
た。７０％以上を○、７０％未満を×とした。

【００８６】（２）ランド部粗さ ピットが形成された表面のランド部表面の平滑性を、Ａ
ＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて評価した。十分に平滑
なものを○、著しく平滑性に欠けるものを×とした。

【００８７】（３）信号読み取り 得られた光情報記録媒体の再生波形を、波長４０５ｎｍ
のレーザを用いて測定し、得られた再生波形と製造に用
いたスタンパの波形と比較した。スタンパの波形と一致
しているものを○、ほとんど一致していないものを×と
した。

【００８８】得られた試験結果を表１に示す。

【００８９】 表１ 実施例１ 実施例２ 比較例１ 光線透過率(380-420nm) ○ ○ × ランド部粗さ ○ ○ ×信号読み取り ○ ○ × 実施例１及び２で得られた光情報記録媒体に比較して、
比較例１で得られた光情報記録媒体は、貼り合わせ時の
気泡の除去が困難で、特に透明性に問題があり、さらに
は反りもやや大きく、このため上記各特性において不充
分なものとなったと考えられる。

【００９０】

【発明の効果】以上から明らかなように、本発明の光情
報記録媒体の製造方法により、凹凸面を有するディスク
基板上に、もう一層の凹凸面を有する層を、極めて簡便
に、高い生産性で形成することができる。さらに、本発
明の方法により、ディスク基板の凹凸面及びスタンパの
凹凸面を、発泡の無い状態で、簡易に且つ精確に転写す
ることができ、このため、得られる光情報記録基板はこ
れらの凹凸面が精確に転写された信号面を有する。した
がって、このような基板から形成される光情報記録媒体
は、再生の際のエラーの発生がほとんどないとの効果が
得られる。

【００９１】また本発明の光情報記録媒体の製造方法に
より、凹凸面を有するディスク基板上を簡便な方法で精
密に覆うことも可能である。さらに本発明の方法で使用
される光硬化性転写シートは通常の光硬化性樹脂に比べ
て硬化収縮が小さく寸法安定性に優れており、反り等の
変形がほとんどない光情報記録媒体を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光硬化性転写シートの実施形態の一例
を示す断面図

【図２】本発明の光情報記録媒体を製造する方法の一例
を示す断面図である。

【図３】本発明の光情報記録媒体の一例を示す断面図で
ある。

【図４】二重真空室方式の装置を用いた押圧法を説明す
るための該略図である。

【図５】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。

【図６】従来の別の光情報記録媒体を示す断面図であ
る。

【図７】日経エレクトロニクスに記載の光情報記録媒体
の製造方法の手順を示す断面図である。

【符号の説明】

１１ 光硬化性転写シート １２ａ，１２ｂ 剥離シート ２１ 基板 ２３ 反射層 ２４ スタンパ ２５ 銀合金反射層（半透明反射層） ２６ 有機ポリマーフィルム（カバー層） １，２ 透明樹脂基板 １ａ，２ａ 反射層 ３ 接着剤層 １ｂ 半透明層 ４ａ ディスク基板 ５Ａ，５Ｂ 紫外線硬化樹脂 ６ａ 反射層（又は記録層）６ａ ７ カバー層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 稲宮 隆人 東京都小平市小川東町３−１−１ 株式会 社ブリヂストン内 Ｆターム(参考） 5D029 KA01 KB14 KC04 5D121 AA02 DD04 GG02

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に記録ピット及び／又はグルーブと
   しての凹凸を有する基板の該凹凸表面に、光重合性官能
   基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可
   能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートを、そ
   の一方の表面が該凹凸表面に接触するように載置し、こ
   れらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表
   面に沿って密着された積層体を形成し、次いで該積層体
   の光硬化性転写シートを紫外線照射により硬化させるこ
   とを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 該押圧を減圧しながら行う請求項１に記
   載の製造方法。
3. 【請求項３】 該基板の凹凸表面に反射層が形成されて
   いる請求項１又は２に記載の製造方法。
4. 【請求項４】 表面に記録ピット及び／又はグルーブと
   しての凹凸を有する基板の該凹凸表面に、光重合性官能
   基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可
   能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートを、そ
   の一方の表面が該凹凸表面に接触するように載置し、こ
   れらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表
   面に沿って密着させる工程、該積層体の光硬化性転写シ
   ートの基板と接触していない側の表面に、表面に記録ピ
   ット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパ
   の該凹凸表面を載置し、これらを押圧して該光硬化性転
   写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を
   形成する工程、及び該積層体の光硬化性転写シートを紫
   外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去するこ
   とにより、硬化シートの表面に凹凸を設ける工程を含む
   光情報記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 該凹凸を有する硬化シートの表面に、さ
   らに有機ポリマーフィルムを接着剤層を介して貼付する
   請求項４に記載の製造方法。
6. 【請求項６】 該凹凸を有する硬化シートの表面に、さ
   らに光硬化性転写シートを押圧し、紫外線照射により硬
   化させる請求項４に記載の製造方法。
7. 【請求項７】 該押圧を減圧しながら行う請求項４又は
   ５に記載の製造方法。
8. 【請求項８】 該基板の凹凸表面に反射層が形成されて
   おり、そして凹凸を有する硬化シートの表面にさらに半
   透明反射層を形成する請求項５〜７のいずれかに記載の
   製造方法。
9. 【請求項９】 光硬化性組成物のガラス転移温度が２０
   ℃以下である請求項１〜８のいずれかに記載の製造方
   法。
10. 【請求項１０】 ３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透
    過率が７０％以上である請求項１〜９のいずれかに記載
    の製造方法。
11. 【請求項１１】 ３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透
    過率が７０％以上である請求項１〜１０のいずれかに記
    載の製造方法。
12. 【請求項１２】 反応性ポリマーが、光重合性官能基を
    １〜５０モル％含む請求項１〜１１のいずれかに記載の
    製造方法。
13. 【請求項１３】 光重合性官能基が、（メタ）アクリロ
    イル基である請求項１〜１２のいずれかに製造方法。
14. 【請求項１４】 光硬化性組成物が、光重合開始剤を
    ０．１〜１０質量％含む請求項１〜１３のいずれかに記
    載の製造方法。
15. 【請求項１５】 光硬化性転写シートの厚さが５〜３０
    ０μｍである請求項１〜１４のいずれかに記載の製造方
    法。
16. 【請求項１６】 請求項１〜１５のいずれかに記載の製
    造方法により得られる光情報記録媒体。