JP4776140B2 - 光硬化性転写シート、光情報記録基板、その製造方法及び光情報記録媒体 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＣＤ（Compact Disc)等の大容量の文字、音声、動画像等の情報をデジタル信号として記録された及び／又は記録可能な光情報記録媒体、光情報記録媒体用基板及びその製造方法、この基板の作製に有用な光硬化性転写シート及び積層体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ディジタル信号として表面にピットが形成された記録済み光情報記録媒体として、オーディオ用ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭが広く使用されているが、最近、動画像の記録も可能な両面にピット記録がなされたＤＶＤが、ＣＤの次世代記録媒体として注目され、徐々に使用されるようになってきている。またグルーブ或いはグルーブ及びピットが形成されたユーザが記録可能なＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等も注目されている。
【０００３】
両面に記録層を持つＤＶＤには、図８に示すようにそれぞれ片面に信号ビットを形成した２枚の透明樹脂基板１，２の該信号ビット形成面にそれぞれ反射層１ａ，２ａを形成し、これら反射層１ａ，２ａを互いに対面させた状態で基板１，２を接着剤層３を介して貼り合わせ、接合した両面読み出し方式のもの、及び、図９に示すように、それぞれ片面に信号ビットを形成した基板１，２において、一方の基板１の信号ビット面に半透明層１ｂを形成すると共に、他方の基板２の信号ビット面に反射層２ａを形成し、これら半透明層１ｂと反射層２ａとを対向させた状態で基板１，２を接着剤層３を介して貼り合わせ、接合した片面読み出し方式のものとが知られている。
【０００４】
両面読み出しＤＶＤの製造は、従来、例えば前記信号ピットの凹凸が雄雌反対の凹凸を有するスタンパを用いて、ポリカーボネート樹脂を溶融し、射出成形することにより表面に凹凸を有する透明樹脂基板を作製し、この凹凸表面にアルミニウム等の金属をスパッタリング等により蒸着することによって反射層を形成し、この反射層が形成された透明樹脂基板２枚を反射層を対向させて接着剤で貼り合わせることにより行われていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、ＤＶＤの透明樹脂基板（光情報記録基板）は、スタンパを用いたポリカーボネートの射出成形により得られるが、このような射出成形によるピット形成は、特に厚さが３００μｍ以下の薄い基板の場合には、スタンパからポリカーボネート樹脂へのピット形状の転写の精度が低下するとの問題がある（特開平１１−２７３１４７号公報参照）。そして、本発明者は、さらにピット、グルーブのランド部が粗面となるとの問題も見出した。
【０００６】
また、記録すべき情報量の増大に伴い、現在使用されているＤＶＤよりも記憶容量の大きい新たな光情報記録媒体の出現も期待されている。その実現のためには信号ピット、グルーブを小さくするだけでなく、信号読み取りのための再生用レーザ（或いは書き込み用レーザ）の波長も短くする必要があり、波長が短くなることによってピット面までの距離が短くなることから、光情報記録基板の厚さを小さくする必要もある。
【０００７】
尚、特開平１１−２７３１４７号公報には、表面に凹凸を有する射出成形基板と透明フィルムを接着するために、紫外線硬化樹脂に加えて、感圧性粘着シート、或いはドライフォトポリマーを使用しているが、ドライフォトポリマーは透明性が低く好ましくない旨記載されいる。このため、表面の凹凸形成のためにドライフォトポリマーを使用することについての示唆は一切無い。
【０００８】
かかる点に鑑みなされた本発明は、光情報記録媒体の基板作成用スタンパの凹凸面に押圧により簡易に且つ精確に転写することができる、特に３００μｍ以下の薄い基板を有利に得ることができる光硬化性転写シートを提供することをその目的とする。
【０００９】
また、スタンパの凹凸面が精確に転写された光情報記録基板を提供することをその目的とする。
【００１０】
さらに、上記光情報記録基板の製造方法を提供することをその目的とする。
【００１１】
さらにまた、精確なピット信号及び／又はグルーブが形成された光情報記録媒体、特に厚さの薄い光情報記録媒体を提供することをその目的とする。
【００１２】
さらに、精確なピット信号及び／又はグルーブが形成された光硬化性転写シートとスタンパとの積層体を提供することをその目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、反応性ポリマーのガラス転移温度が２０℃以下であり、且つ光重合性官能基が、（メタ）アクリロイル基であることを特徴とする光硬化性転写シートにより達成することができる。
【００１４】
上記光硬化性転写シートにおいて、光硬化性組成物のガラス転移温度が２０℃以下であることが好ましい。これにより常温での押圧により凹凸の形成が容易となる。光硬化性転写シートは３８０〜４２０ｎｍの波長領域（好ましくは３８０〜６００ｎｍ、特に３８０〜８００ｎｍの波長領域）の光透過率が７０％以上であることが好ましい。これにより得られる媒体にレーザによる信号の読み取りを行った場合に、エラーの無い操作が保証される。上記光硬化性転写層の硬化収縮率が８％以下であることが好ましい。
【００１５】
反応性ポリマーのガラス転移温度が２０℃以下であることが好ましい。また反応性ポリマーが、光重合性官能基を１〜５０モル％含むことが適当な硬化性、硬化被膜強度を得る上で好ましい。光重合性官能基が、（メタ）アクリロイル基であることが、硬化性の点で好ましい。光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含むことが適当な硬化性を得る上で好ましい。光硬化性転写層の厚さが１〜１２００μｍであることが、転写性、作業性の点から好ましい。
【００１６】
光硬化性転写層が支持体上に設けられてなる光硬化性転写シートであることが好ましい。支持体を設けることにより転写処理を容易に行うことができる。支持体の厚さが３０〜３００μｍの薄いフィルムでも良好な転写性が得られ特に好ましい。光硬化性転写層自体が光硬化性転写シートであることも好ましい。これにより光情報記録媒体の薄膜化が計れる。
【００１７】
前記目的は、表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有する光情報記録基板であって、
少なくとも基板の凹凸表面を含む層が、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層の硬化被膜により形成されていることを特徴とする光情報記録基板によっても達成される。
【００１８】
前記光硬化性転写シートで述べた好ましい態様を、上記光情報記録基板にも適用することができる。
【００１９】
上記光情報記録基板は、表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパの該凹凸表面に、前記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層が該凹凸表面に接触するように載置し、これらを押圧して該光硬化性転写層が該凹凸表面に沿って密着されてなる積層体を形成し、次いで該光硬化性転写層に光照射して硬化させ、その後スタンパを除去することにより表面に記録ピット及び／又はグルーブを有する光情報記録基板を製造する方法により有利に得ることができる。押圧時に減圧にすることが好ましい。
【００２０】
上記方法において、表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパの該凹凸表面に、上記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層が該凹凸表面に沿って密着されてなる積層体を有利に使用することができる。
【００２１】
前記目的は、表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された半透明反射層を有する光情報記録基板とを、反射層同士を対向させて、接着剤層を介して貼り合わせてなる光情報記録媒体であって、
少なくとも一方の基板の、凹凸表面を含む層が、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層の硬化被膜により形成されていることを特徴とする光情報記録媒体によっても達成することができる。
【００２２】
上記は片面読み取りの場合であるが、両面読み取りでは上記半透明反射層を反射層に変更するのが一般的である。
【００２３】
また、凹凸表面を含む層が、上記反応性ポリマーを含む光硬化性組成物の硬化被膜により形成された光情報記録基板２枚を、反射層を有する基板の凹凸面のない面に別の基板の半透明反射層を重ねて接着剤で貼り付け、２層記録面を有する積層体を形成し、同様にもう１枚の積層体を形成して合計２枚の積層体を形成し、この積層体２枚を反射層同士を対向させて接着剤で貼り付けた媒体、或いはこの積層体１枚と透明樹脂基板若しくは従来凹凸と反射層を有する光情報記録基板とを貼り付けた媒体も好ましい。
【００２４】
前記光硬化性転写シートで述べた好ましい態様を、上記光情報記録媒体にも適用することができる。
【００２５】
前記目的は、記録ピット及び／又はグルーブとして表面に凹凸を有するスタンパの該凹凸表面に、上記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層が該凹凸表面に沿って密着されてなる積層体によっても達成することができる。
【００２６】
上記積層体は、記録ピット及び／又はグルーブとして表面に凹凸を有するスタンパの該凹凸表面に、前記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層を押圧する（好ましくは減圧下に）ことにより積層体を形成することにより有利に得られる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２８】
図１は本発明の光硬化性転写シートの実施形態の一例を示す断面図である。
【００２９】
図１において、支持体１２上に光硬化性転写層１１が形成された光硬化性転写シート１０が示されている。本発明の光硬化性転写層１１が自己支持性を有するものであれば、支持体は無くても良い。光硬化性転写層は、スタンパの凹凸表面を押圧することにより精確に転写できるように、加圧により変形し易い層である。特にガラス転移温度が２０℃以下である光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含む光硬化性組成物から主として構成されていることが好ましい。また再生レーザにより読み取りが容易なように３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である層であることが好ましい。特に、３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％以上である層が好ましい。従って、この転写シート用いて作製される本発明の光情報記録媒体は３８０〜４２０ｎｍの波長のレーザを用いてピット信号を再生する方法に有利に使用することができる。
【００３０】
上記光硬化性転写シートを用いて、光情報記録基板及び積層体を、順次、例えば下記の図２に示すように製造することができる。
【００３１】
支持体１２上に光硬化性転写層１１が設けられた光硬化性転写シート１０を、記録ピットとして表面に凹凸を有するスタンパ２１と、光硬化性転写層１１と凹凸とが対向するようにして配置し、重ね合わせ、光硬化性転写層１１と凹凸面が完全に密着するように押圧して光硬化性転写シート１０とスタンパ２１とからなる本発明の積層体を形成する。その後、支持体１２上からＵＶ（紫外線）を照射して、光硬化性転写層１１を硬化させる。次いでスタンパ２１を除去して本発明の光情報記録基板２０を得る。
【００３２】
本発明では、記録ピットである凹凸形状を、光硬化性転写層１１とスタンパ２１とを１００℃以下の低温で押圧することにより精確に転写されるように光硬化性転写層が設計されている。スタンパ２１と、光硬化性転写層１１との重ね合わせは、一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる。また、光硬化性転写層１１の硬化後の層は、スタンパに用いられるニッケルなどの金属との接着力が極めて弱く、光硬化性転写シートをスタンパから容易に剥離することができる。
【００３３】
このようにして得られた光情報記録基板２０を用いて、光情報記録媒体を下記の図３に示すように製造することができる。
【００３４】
上記で得られた光情報記録基板２０の凹凸面に銀合金をスパッタリングにより蒸着して銀合金反射層（半透明反射層）１３を形成したものと、表面に凹凸を有する光情報記録基板３０の凹凸面にアルミニウムをスパッタリングにより蒸着してＡｌ反射層３３を形成したものとを、反射層同士を対向させて配置し、接着剤を介して重ね合わせ、接着剤を硬化させて接着剤層３５を形成して光情報記録媒体４０を得る。
【００３５】
上記方法においては、再生専用の光情報記録媒体について説明をしたが、記録可能な光情報記録媒体についても同様に行うことができる。記録可能な光情報記録媒体の場合、グルーブ或いはグルーブ及びピットを有しており、この場合反射層及び半透明反射層の代わりに金属記録層（色素記録層の場合は記録層及び反射層）が設けられる。それ以外は上記と同様に光情報記録媒体を製造することができる。
【００３６】
光情報記録基板３０は、一般に厚板であるので、従来の射出成形法で作製しても良いし、本発明の前記光情報記録基板の製造方法により作成しても良い。本発明の光情報記録基板は３００μｍ以下の薄い基板とすることができるので、もう一方の基板を従来法で作製する際、基板の厚さを大きくすることができるのでピット及び／又はグルーブ形状の転写精度を上げることができる。接着剤層を形成するための接着剤は、従来のホットメルト系接着剤及び紫外線硬化性樹脂接着剤のいずれも使用することができる。
【００３７】
また、２枚の光情報記録基板２０（一方の基板の反射層がＡｌ等の高反射率の反射層、他方が半透明反射層）を、一方の基板の凹凸面のない面にもう一方の基板の半透明反射層を重ねて接着剤で貼り付け、２層記録面を有する積層体を形成し、同様にもう１枚の積層体を形成して合計２枚の積層体を形成し、この積層体２枚を反射層同士を対向させて接着剤で貼り付けた媒体、或いはこの積層体と透明樹脂基板とを貼り付けた媒体も好ましい（図４に示す）。或いはこの積層体と従来凹凸と反射層を有する光情報記録基板とを貼り付けた媒体も好ましい。これらの場合再生光側が半透明反射層である。
【００３８】
このような形態は、従来の両面再生の４層型、３層型、片面再生の２層型に相当する。
【００３９】
また、凹凸表面を基板の一部のみに形成し、反射層上に記録層を設け、これに書き込み可能とすることもできる。
【００４０】
上記光硬化性転写シートが、支持体の無い光硬化性転写層自体である場合における、このシートを用いて光情報記録基板及び積層体を製造する手順を、図５を参照しながら説明する。基本的には図２の手順と同様に行うことができる。
【００４１】
光硬化性転写層５１からなる光硬化性転写シート５０を、記録ピットとして表面に凹凸を有するスタンパ２１と、光硬化性転写層５１と凹凸とが対向するようにして配置し、重ね合わせ、光硬化性転写層５１と凹凸面が完全に密着するように押圧して光硬化性転写シート５０とスタンパ２１とからなる本発明の積層体を形成する。その後、光硬化性転写シート５０の凹凸の無い側からＵＶ（紫外線）を照射して、光硬化性転写層５１を硬化させる。次いでスタンパ２１を除去して本発明の光情報記録基板６０を得る。光硬化性転写シート５０は通常変形しやすいので、両面剥離シートで覆われており、使用時に除去される。
【００４２】
さらに、このようにして得られた光情報記録基板６０を用いて、図３の手順と同様に、光情報記録媒体を下記の図６に示すように製造することができる。
【００４３】
上記で得られた光情報記録基板６０の凹凸面に銀合金をスパッタリングにより蒸着して銀合金反射層（半透明反射層）１３を形成したものと、表面に凹凸を有する光情報記録基板３０の凹凸面にアルミニウムをスパッタリングにより蒸着してＡｌ反射層３３を形成したものとを、反射層同士を対向させて配置し、接着剤を介して重ね合わせ、接着剤を硬化させて接着剤層３４を形成して光情報記録媒体７０を得る。
【００４４】
光硬化性転写シートが、上記のように支持体の無い光硬化性転写層自体である場合、このようなシートは、通常、取り扱いが容易なように両面に剥離シート（フィルム）が設けられており、使用時に一方の剥離シートが除去され（上記の場合スタンパに圧着する前に）、製造後他方のシートが除去される。
【００４５】
上記工程において、光硬化性転写シートをスタンパに押圧する際、或いは光情報記録基板二枚を、反射層同士を対向させて配置し、接着剤を介して重ね合わせる際に、減圧下に押圧或いは重ね合わせを行うことが好ましい。これにより、気泡の除去等が円滑に行われる。
【００４６】
上記減圧下の押圧は、例えば、減圧下に２個のロール間に、光硬化性転写シートとスタンパを通過させる方法、あるいは真空成形機を用い、スタンパを型内に載置し、減圧しながら光硬化性転写シートをスタンパに圧着させる方法を挙げることができる。
【００４７】
また、二重真空室方式の装置を用いて減圧下の押圧を行うことができる。図７を参照しながら説明する。図７には二重真空室方式のラミネータの一例が示されている。ラミネータは下室７１、上室７２、シリコーンゴムシート７３、ヒータ７５を備えている。ラミネータ内の下室７１に、凹凸を有するスタンパ又は基板上に載置された光硬化性転写シートからなる積層体７９を置く。上室７２及び下室７１共に排気する（減圧する）。積層体７９をヒータ７５で加熱し、その後、下室７１を排気したまま上室７２を大気圧に戻し、積層体を圧着する。冷却して積層体を取り出し、次工程に移す。これにより排気時に脱泡が十分に行われ、気泡の無い状態で、スタンパ又は基板と光硬化性転写シートとを圧着することができる。
【００４８】
本発明の光硬化性転写シートの光硬化性転写層はガラス転移温度が２０℃以下である光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなることが好ましい。
光硬化性組成物は、一般に、上記光重合性官能基を有する反応性ポリマー、光重合性官能基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する化合物（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。
【００４９】
光重合性官能基を有する反応性ポリマーとしては、例えばアルキルアクリレート（例、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート）及び／又はアルキルメタクリレート（例、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート）から得られる単独重合体又は共重合体（即ちアクリル樹脂）で、且つ、主鎖又は側鎖に光重合性官能基を有するものを挙げることができる。このような重合体は、例えば１種以上の（メタ）アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アクリレート（例、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。したがって、光重合性官能基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂が好ましい。
【００５０】
本発明の上記反応性ポリマーは、光重合性官能基を一般に１〜５０モル％、特に５〜３０モル％含むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
【００５１】
またこの反応性ポリマーのガラス転移温度は、一般に２０℃以下であり、ガラス転移温度を２０℃以下とすることにより、得られる光硬化性転写層がスタンパの凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃の範囲にすることにより追随性が優れている。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高温が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。
【００５２】
さらに、本発明の反応性ポリマーは、一般に数平均分子量が５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜３０００００であり、また重量平均分子量が一般に５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜３０００００であることが好ましい。
【００５３】
光重合性官能基を有する化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類、ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。
【００５４】
光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。光硬化性組成物中に、光重合開始剤を一般に０．１〜２０質量％、特に１〜１０質量％含むことが好ましい。
【００５５】
光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１など、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンッゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなどが使用できる。
【００５６】
アセトフェノン系重合開始剤としては、特に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。また、第３級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。以上のように、光重合開始剤の成分としては、上記の３成分を組み合わせることにより使用する。
【００５７】
本発明の光硬化性転写層はガラス転移温度が２０℃以下で、透過率７０％以上を満たすように光硬化性組成物を設計することが好ましい。このため、上記光重合可能な官能基を有する化合物及び光重合開始剤に加えて、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤を添加することが好ましい。
【００５８】
上記反応性ポリマー：光重合可能な官能基を有する化合物：光重合開始剤の質量比は、一般に、４０〜１００：０〜６０：０．１〜１０、特に６０〜１００：０〜４０：１〜１０から好ましい。
【００５９】
他の添加剤として、シランカップリング剤（接着促進剤）を添加することができる。このシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。これらシランカップリング剤の添加量は、上記反応性ポリマー１００重量部に対し通常０．０１〜５重量部で十分である。
【００６０】
また同様に接着性を向上させる目的でエポキシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基含有化合物としては、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート；ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル；アクリルグリシジルエーテル；２−エチルヘキシルグリシジルエーテル；フェニルグリシジルエーテル；フェノールグリシジルエーテル；ｐ−ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル；アジピン酸ジグリシジルエステル；ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル；グリシジルメタクリレート；ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを添加することによっても同様の効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量は上記反応性ポリマー１００重量部に対し０．１〜２０重量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくとも１種を単独で又は混合して添加することができる。
【００６１】
さらに他の添加剤として、加工性や貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。
【００６２】
アクリル樹脂も添加することができる。例えば、アルキルアクリレート（例、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート）及び／又はアルキルメタクリレート（例、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート）から得られる単独重合体又は共重合体を挙げることができる。またこれらのモノマーと、他の共重合可能なモノマーとの共重合体も挙げることができる。特に、光硬化時の反応性や硬化後の耐久性、透明性の点からポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が好ましい。
【００６３】
上記炭化水素樹脂等のポリマーの添加量は適宜選択されるが、上記反応性ポリマー１００重量部に対して１〜２０重量部が好ましく、より好ましくは５〜１５重量部である。
【００６４】
以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲル、炭酸カルシウム、シリコン共重合体の微粒子等の添加剤を少量含んでもよい。
【００６５】
本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートは、上記反応性ポリマー、光重合可能な官能基を有する化合物（モノマー及びオリゴマー）及び、所望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることができる。支持体を用いる場合は、支持体上に製膜する必要がある。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により支持体上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する方法である。
【００６６】
なお、製膜に際してはブロッキング防止、支持体或いはスタンパとの圧着時の脱気を容易にするため、エンボス加工を施してもよい。エンボス加工の方法としては公知の手法が採用でき、例えばエンボスロールでの型付け等がある。また、溶液塗工法の場合、離型性を有するエンボスフィルム（紙）上に塗工することにより、そのエンボスを転写することができる。このエンボスの平均粗さ（Ｒａ）は５０μｍ以下、より好ましくは０．０１〜５０μｍ、更に好ましくは０．１〜２０μｍの凸凹を形成することが好ましく、これによりデバイスとの接着面において空気が抜け易く、デバイス表面の複雑な凸凹を埋めることが可能である。０．０１μｍより小さいと脱気不良を起こし易く、また５０μｍより大きいと仮圧着時に凸凹が残ってしまうこともある。
【００６７】
また、光硬化性転写層の厚さは一般に１〜１２００μｍ、さらに５〜５００μｍ、特に５〜３００μｍとすることが好ましい。１μｍより薄いと封止性が劣り、透明樹脂基板の凸凹を埋め切れない場合が生じる。一方、１０００μｍより厚いと記録媒体の厚みが増し、記録媒体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがあり、更に光線透過に影響を与えるおそれもある。
【００６８】
上記光硬化性転写層は支持体上に設けられていることが好ましい。
【００６９】
上記支持体としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用いることができる。支持体の表面粗さＲａは、一般に３０ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７０】
こうして得られる本発明に光硬化性転写シートは、ガラス転移温度が２０℃以下である反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなるものであるが、さらに光硬化性転写層の３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上であることが好ましい。即ち、ガラス転移温度が２０℃以下とすることにより、光硬化性転写層がスタンパの凹凸面に圧着されたとき、その凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃の範囲にすることにより追随性が優れている。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。
【００７１】
光硬化性転写層は３８０〜４２０ｎｍ（好ましくは３８０〜８００ｎｍ）の波長領域の光透過率が７０％以上であり、これはレーザによる読み取り信号の強度低下を防止するためである。さらに３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％以上であることが好ましい。
【００７２】
光硬化性組成物中の反応性ポリマーには重合性官能基を１〜５０モル％有することが好ましい。これにより、得られる光硬化性転写層が、硬化後に形状保持可能な強度得ることができる。光重合開始剤は前記のように０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、これより少ないと硬化速度が遅すぎて、作業性が悪く、多すぎると転写精度が低下する。
【００７３】
本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に制御したフィルム状で提供することができるため、スタンパとの貼り合わせを容易にかつ精度良く、貼り合わせが可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で２０〜１００℃で仮圧着した後、光により常温、１〜数十秒で硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングができるという特徴を有している。
【００７４】
本発明の光硬化性転写層を硬化する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。
【００７５】
また、硬化促進のために、予め積層体を３０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。
【００７６】
得られた本発明の光情報記録基板の凹凸表面に金属の反射層を蒸着（例えばスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等）により形成する。金属としては、アルミニウム、金、銀、これらの合金等を挙げることができる。２枚の光情報記録基板を使用する場合は、相互に異なる反射層にする必要があり、成分、膜厚等が変更される。
【００７７】
２枚の光情報記録基板を使用する場合、通常、本発明の光情報記録基板と従来の射出成形基板が用いられる。
【００７８】
反射層が設けられた２枚の光情報記録基板の反射層を対向させ、一方に接着剤を塗布し、その上に他方を重ね、硬化させる。接着剤がＵＶ硬化性樹脂の場合はＵＶ照射により、ホットメルト接着剤の場合は、加熱下に塗布し、冷却することにより得られる。
本発明の光情報記録媒体の製造は、通常シート状で連続的に作成され、最後に円盤状に打ち抜かれるが、減圧下での処理が必要な場合等で、円盤状で処理してもよい。
【００７９】
【実施例】
以下に実施例を示し、本発明ついてさらに詳述する。
［実施例１］
＜光硬化性転写シートの作製＞
（反応性ポリマーの作製）
配合Ｉ
２−エチルヘキシルメタクリレート ７０質量部
メチルメタクリレート ２０質量部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０質量部
ベンゾフェノン ５質量部
トルエン ３０質量部
酢酸エチル ３０質量部
上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、６０℃に加熱して重合を開始させ、この温度で１０時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得た。その後、カレンズ ＭＯＩ（２−イソシアナトエチルメタクリレート；昭和電工（株）製）５質量部を添加し、穏やかに撹拌しながら５０℃で反応させ、光重合性官能基を有する反応性ポリマーの溶液１を得た。
【００８０】
得られた反応性ポリマーは、Ｔｇが０℃であり、側鎖にメタクリロイル基を５モル％有していた。
【００８１】
配合II
反応性ポリマー溶液１ １００質量部
トリシクロデカンジアクリレート ３０質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １質量部
上記配合の混合物を均一に溶解させ、ピュアエースＣ１１０−７０（厚さ７０μｍ；帝人（株）製）上に、塗布し、乾燥厚さ３０±２μｍの光硬化性転写層を形成した。これにより、厚さ１００±２μｍの光硬化性転写シートを得た。
【００８２】
＜一方の反射層付き光情報記録基板の作製＞
光硬化性転写シートを、ピットとしての凹凸面を有するニッケル製のスタンパのその凹凸面に、シリコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重で光硬化性転写シートを押圧し、積層体を形成し、スタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した。
【００８３】
次に、光硬化性転写シート側から、メタルハライドランプを用いて、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ^２の条件でＵＶ照射し、転写層を硬化させた。
【００８４】
積層体からスタンパを剥離、除去し、硬化した光硬化性転写シート（光情報記録基板）の凹凸面上に銀合金をスパッタリングすることにより、銀合金の半透過反射層を形成した。反射層付き光情報記録基板を得た。
【００８５】
＜他方の反射層付き光情報記録基板の作製）
ピットとしての凹凸面を有する金型に、ポリカーボネートを溶融、固化させることにより、厚さ１１００μｍの光情報記録基板を成形した。成形された凹凸面上にアルミニウムをスパッタリングすることによりＡｌ反射層を形成した。他方の反射層付き光情報記録基板を得た。
【００８６】
＜光情報記録媒体の作製＞
上記で得られた２枚の反射層付き光情報記録基板の一方の反射層に、市販の光硬化性液状接着剤（ＳＤ−６６１、大日本インキ化学工業（株）製 ）をスピンコート法で塗布し、２枚の反射層付き光情報記録基板を反射層同士で貼り合わせ、接着剤を光硬化した。これにより光情報記録媒体を得た。
【００８７】
［実施例２］
＜光硬化性転写シートの作製＞
（反応性ポリマーの作製）
配合Ｉ’
ｎ−ヘキシルメタクリレート ５０質量部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート ５０質量部
ベンゾフェノン ５質量部
トルエン ３０質量部
酢酸エチル ３０質量部
上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、６０℃に加熱して重合を開始させ、この温度で１０時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得た。その後、カレンズ ＭＯＩ（２−イソシアナトエチルメタクリレート；昭和電工（株）製）５０質量部を添加し、穏やかに撹拌しながら５０℃で反応させ、光重合性基を有する反応性ポリマーの溶液２を得た。
【００８８】
得られた反応し高分子は、Ｔｇが５℃であり、側鎖にメタクリロイル基を５０モル％有していた。
【００８９】
配合II’
反応性ポリマー溶液２ １００質量部
１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート １０質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １質量部
上記配合の混合物を均一に溶解させ、ピュアエースＣ１１０−７０（厚さ７０μｍ；帝人（株）製）上に、塗布し、乾燥厚さ３０±２μｍの光硬化性転写層を形成した。これにより、厚さ１００±２μｍの光硬化性転写シートを得た。
【００９０】
以下の一方の反射層付き光情報記録基板及び他方の反射層付き光情報記録基板の作製、そして光情報記録媒体の作製は実施例１と同様にして行い、これによりＤＶＤを得た。
【００９１】
［比較例１］
実施例１において、一方の反射層付き光情報記録基板の作製を下記のように行った以外同様にして光情報記録媒体を得た。
【００９２】
（一方の反射層付き光情報記録基板の作製）
ピットとしての凹凸面を有するスタンパに、ポリカーボネートを溶融、固化することにより、厚さ１００±２μｍの光情報記録基板を成形した。
光情報記録基板の凹凸面上に銀合金をスパッタリングすることにより、銀合金の半透過反射層を形成した。反射層付き光情報記録基板を得た。
＜光情報記録基板及び光情報記録媒体の評価＞
（１）光線透過率（３８０〜８００ｎｍの波長領域）
一方の光硬化性転写シート（光情報記録基板）を、ＪＩＳ−Ｋ６７１７に従い３８０〜８００ｎｍの波長領域の光線透過率を測定した。７０％以上を○、７０％未満を×とした。
【００９３】
（２）光線透過率（３８０〜４２０ｎｍの波長領域）
一方の光硬化性転写シートを、ＪＩＳ−Ｋ６７１７に従い３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光線透過率を測定した。８０％以上を○、８０％未満を×とした。
【００９４】
（３）ランド部粗さ
ピットが形成された表面のランド部表面の平滑性を、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて評価した。十分に平滑なものを○、著しく平滑性に欠けるものを×とした。
【００９５】
（４）信号読み取り
得られた光情報記録媒体の再生波形を、波長４０５ｎｍのレーザを用いて測定し、得られた再生波形と製造に用いたスタンパの波形と比較した。スタンパの波形と一致しているものを○、ほとんど一致していないものを×とした。
【００９６】
得られた試験結果を表１に示す。
【００９７】

【００９８】
【発明の効果】
以上から明らかなように、本発明の光硬化性転写シートは、光情報記録媒体の基板作成用スタンパの凹凸面を押圧により簡易に且つ精確に転写することができる。このため、得られる光情報記録基板はスタンパの凹凸面が精確に転写された信号面を有する。したがって、このような基板から形成される光情報記録媒体は、再生の際のエラーの発生がほとんどないとの効果が得られる。
【００９９】
また、本発明の光情報記録基板は、光硬化性転写シートを使用して軟化による変形で形成し、硬化させるため、基板の厚さが３００μｍ以下の薄いものでも良好な転写で得ることができる。さらに本発明の光硬化性転写シートは通常の光硬化性樹脂に比べて硬化収縮が小さく寸法安定性に優れており、反り等の変形がほとんどない光情報記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光硬化性転写シートの実施形態の一例を示す断面図
【図２】本発明の光情報記録基板及び積層体を製造する方法の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の光情報記録媒体を製造する方法の一例を示す断面図である。
【図４】本発明の光情報記録媒体の別の例を示す断面図である。
【図５】本発明の光情報記録基板及び積層体を製造する方法の別の一例を示す断面図である。
【図６】本発明の光情報記録媒体を製造する方法の別の一例を示す断面図である。
【図７】二重真空室方式の装置を用いた押圧法を説明するための該略図である。
【図８】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。
【図９】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。
【符号の説明】
１０，５０ 光硬化性転写シート
１１ 光硬化性転写層
１２ 支持体
１３ 銀合金反射層
２０，３０，６０ 光情報記録基板
４０，７０ 光情報記録媒体
２１ スタンパ
３３ Ａｌ反射層
３４ 接着剤層
１，２ 透明樹脂基板
１ａ，２ａ 反射層
３ 接着剤層
１ｂ 半透明層

Claims (19)

1. 光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、
   反応性ポリマーのガラス転移温度が２０℃〜−５０℃であり、且つ光重合性官能基が、（メタ）アクリロイル基であることを特徴とする光硬化性転写シート。
2. 光硬化性組成物のガラス転移温度が２０℃以下である請求項１に記載の光硬化性転写シート。
3. ３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１又は２に記載の光硬化性転写シート。
4. ３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１又は２に記載の光硬化性転写シート。
5. 反応性ポリマーが、光重合性官能基を１〜５０モル％含む請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
6. 光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む請求項１〜５のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
7. 光硬化性転写層の厚さが５〜３００μｍである請求項１〜６のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
8. 光硬化性転写層が、厚さ３０〜３００μｍの支持体上に設けられてなる請求項１〜７のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
9. 光硬化性転写層自体が、光硬化性転写シートである請求項１〜７のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
10. 表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有する光情報記録基板であって、少なくとも基板の凹凸表面を含む層が、請求項１〜９のいずれかに記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化被膜により形成されていることを特徴とする光情報記録基板。
11. 硬化被膜が支持体上に設けられてなる請求項１０に記載の光情報記録媒体基板。
12. 表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパの該凹凸表面に、請求項１〜９のいずれかに記載の光硬化性転写シートを、その光硬化性転写層が該凹凸表面に接触するように載置し、これらを押圧して該光硬化性転写層が該凹凸表面に沿って密着されてなる積層体を形成し、次いで該光硬化性転写層に光照射して硬化させ、その後スタンパを除去することにより表面に記録ピット及び／又はグルーブを有する光情報記録基板を製造する方法。
13. 該押圧を減圧しながら行う請求項１２に記載の光情報記録基板を製造する方法。
14. 該押圧を常温で行う請求項１２又は１３に記載の光情報記録基板を製造する方法。
15. 表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された半透明反射層を有する光情報記録基板とを、反射層同士を対向させて、接着剤層を介して貼り合わせてなる光情報記録媒体であって、少なくとも一方の基板の、少なくとも凹凸表面を含む層が、請求項１〜９のいずれかに記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化被膜により形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
16. 硬化被膜が支持体上に設けられてなる請求項１５に記載の光情報記録媒体。
17. 表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された半透明反射層を有する光情報記録基板とを、前者の反射層の無い表面に後者の半透明反射層を接着剤層を介して貼り合わせてなる光情報記録媒体であって、少なくとも一方の基板の、少なくとも凹凸表面を含む層が、請求項１〜９のいずれかに記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化被膜により形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
18. 硬化被膜が支持体上に設けられてなる請求項１７に記載の光情報記録媒体。
19. 請求項１７又は１８に記載の光情報記録媒体を、透明基板上に、反射層と透明基板とを対向させて接着剤層を介して貼り合わせてなる光情報記録媒体。

Images