CN101071592A - 光记录介质制造用片材和光记录介质、及它们的制造方法 - Google Patents

光记录介质制造用片材和光记录介质、及它们的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101071592A
CN101071592A CNA2007101029261A CN200710102926A CN101071592A CN 101071592 A CN101071592 A CN 101071592A CN A2007101029261 A CNA2007101029261 A CN A2007101029261A CN 200710102926 A CN200710102926 A CN 200710102926A CN 101071592 A CN101071592 A CN 101071592A
Authority
CN
China
Prior art keywords
energy ray
layer
curable
optical recording
mentioned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2007101029261A
Other languages
English (en)
Inventor
伊藤雅春
本乡有记
大类知生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Publication of CN101071592A publication Critical patent/CN101071592A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
    • G11B7/256—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers improving adhesion between layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

在基材12上涂布以能量线固化性成分为主成分的组合物，将所得涂膜用能量线照射，使能量线固化性成分半固化，由此形成粘接力为10mN/25mm以上的能量线固化性层11，在该能量线固化性层11上粘接基材12’，将其制成光记录介质(光盘)制造用片材1。利用该光记录介质制造用片材1，可以经济而简便地形成保护层或压模接受层，且成品率良好。

Description

光记录介质制造用片材和光记录介质、及它们的制造方法
技术领域
本发明涉及在光记录介质中形成保护层或压模(stamper)接受层、可以制造光记录介质的光记录介质制造用片材及其制造方法，以及使用该光记录介质制造用片材制造而成的光记录介质及其制造方法。
背景技术
作为光记录介质中的一种，蓝光盘(Blu-ray Disc)通常是将激光通过保护层照射在记录层上来记录/再现信息。此时，保护层的相位延迟(retardation)高就会产生波象差，使信号特性变差。作为形成低相位延迟的保护层的方法，有如下报道：
(1)通过压敏粘合剂或粘结剂将具有高膜厚精度的低相位延迟薄膜基材粘贴在记录层上的方法(日本专利第3338660号公报，日本特开2004-62959号公报)
(2)将光固化性粘结剂薄膜粘贴在记录层上的方法(日本特开2002-25110号公报)。
发明内容
发明要解决的课题
不过，在(1)的方法中，薄膜基材价格高，而且作为光记录介质制造方法的工序数较多，故难以降低成本。另外，在(2)的方法中，冲压加工工序中容易发生认为是因材料特性引起的粘结剂溢出、变形等，故难以提高成品率。
本发明正是鉴于这样的现状而完成的，目的是提供可经济而简便地形成保护层或压模接受层、且成品率良好的光记录介质制造用片材及其制造方法，以及使用该光记录介质制造用片材制造而成的光记录介质及其制造方法。
解决课题的方法
为达成上述目的，第一，本发明提供了光记录介质制造用片材，其具备基材和层合在上述基材上的能量线固化性层，其特征在于，上述能量线固化性层为半固化状态，且粘接力为10mN/25mm以上(发明1)  。
另外，本说明书中的“光记录介质”是指可以光学记录/再现信息的介质，主要是指再生专用型、追记型或重写型的碟状介质(例如CD、CD-ROM、CD-R、CD-RW、DVD、DVD-ROM、DVD-R、DVD-RW、DVD-RAM、LD、Blu-ray Disc、HD DVD、MO等；所谓的光盘(包括光磁盘))，但并不局限于此。
同时，本说明书中的“半固化”是指未固化和完全固化之间的状态，并且是指能发挥使能量线固化性层能与记录层粘接的粘接力的状态。另外，本说明书中的能量线固化性层的粘接力用根据后述试验例测定的值表示。
根据上述发明(发明1)，不使用高价的薄膜基材作为保护层，也可以经济而简便地形成保护层，而且，在冲压加工时不会发生溢出、变形等，故成品率良好。
在上述发明(发明1)中，上述能量线固化性层是将以具有聚合性双键的能量线固化性成分为主成分的材料经能量线照射而半固化的层，优选在上述能量线照射下，上述能量线固化性成分的双键消失比例为20～90％(发明2)。
上述发明(发明1，2)中，上述能量线固化性层优选为以能量线固化性单体和/或低聚物为主成分的材料半固化的层(发明3)。根据所述发明(发明3)，在涂布材料时不必使用溶剂，因此可以防止因溶剂挥发引起的气泡产生。
上述发明(发明1～3)中，优选为上述基材的与上述能量线固化性层相接触的面的表面粗糙度(Ra)为0.1μm以下(发明4)，或上述能量线固化性层的两面均层合有基材，且上述两基材的与上述能量线固化性层相接触的面的表面粗糙度(Ra)为0.1μm以下(发明5)。
上述发明(发明1～5)中，上述能量线固化性层既可以是形成光记录介质保护层的层(发明6)，也可以是形成压模接受层的层(发明7)。
第二，本发明提供了光记录介质制造用片材的制造方法，其特征在于，在基材上涂布以能量线固化性成分为主成分的组合物，用能量线照射所得涂膜，使上述能量线固化性成分半固化，形成粘接力为10mN/25mm以上的能量线固化性层(发明8)。
上述发明(发明8)中，既可以在上述涂膜上粘附另一基材之后照射能量线(发明9)，也可以在上述形成的能量线固化性层上粘附另一基材(发明10)。
上述发明(发明8～10)中，优选为上述能量线固化性成分具有聚合性双键，通过照射上述能量线，使上述双键消失20～90％(发明11)。
上述发明(发明8～11)中，上述能量线固化性成分优选以能量线固化性单体和/或低聚物为主成分(发明12)。
上述发明(发明8～12)中，优选以上述能量线固化性成分为主成分的组合物不含溶剂(发明13)。
第三，本发明提供了光记录介质的制造方法，其特征在于，使上述光记录介质制造用片材(发明1～7)中的能量线固化性层的一面呈露出状态，将上述能量线固化性层的露出面粘附在光记录介质的记录层上，用能量线照射上述能量线固化性层，使上述能量线固化性层固化，由此形成保护层(发明14)。
第四，本发明提供了光记录介质的制造方法，其特征在于，使上述光记录介质制造用片材(发明1～7)中的能量线固化性层的一面呈露出状态，将上述能量线固化性层的露出面粘附在光记录介质的记录层上，并使上述能量线固化性层的另一面露出，在该露出面上压合压模，用能量线照射上述能量线固化性层，使上述能量线固化性层固化后，将上述压模剥离，由此形成转印、固定有上述压模的凹凸图案的压模接受层(发明15)。
第五，本发明提供了光记录介质，其特征在于，使用上述光记录介质制造用片材(发明1～7)制造而成(发明16)。
发明效果
根据本发明，可以经济而简便地形成光记录介质的保护层或压模接受层，而且在光记录介质制造用片材或光记录介质的制造中，成品率也良好。
附图说明
图1是本发明一实施方式的光记录介质制造用片材的剖面图。
图2是使用同一实施方式的光记录介质制造用片材的一例光盘制造方法的剖面图。
图3是使用同一实施方式的光记录介质制造用片材的另一例光盘制造方法的剖面图。
具体实施方式
以下对本发明实施方式进行说明。
图1是本发明一实施方式的光盘制造用片材的剖面图。本实施方式的光盘制造用片材1由能量线固化性层11和层合在能量线固化性层11的两面的基材12、12’组成。不过，基材12、12’在使用光盘制造用片材1时被剥离。
能量线固化性层11，是可构成保护光盘记录层的保护层的层，或者是可构成在光盘中在压模上形成的凹凸图案被转印、而构成坑或槽/台的压模接受层的层。
该能量线固化性层11呈半固化状态。因此，将该光盘制造用片材1冲压加工为光盘形状时，不必担心能量线固化性层11出现溢出、变形，能够维持高成品率。
该能量线固化性层11可以通过在基材12、12’的任意一方(例如基材12)的表面上涂布以具有聚合性双键的能量线固化性成分为主成分的组合物(以下称为“能量线固化性组合物”)，用能量线照射所得涂膜，使能量线固化性组合物半固化而形成。
另外，另一基材(例如基材12’)既可以在能量线照射前粘附在上述涂膜上，也可以在能量线照射后粘附在所形成的能量线固化性层11上。通过粘附该基材12’，可以防止能量线固化性层11的表面划伤。
能量线固化性成分优选以能量线固化性单体和/或低聚物为主成分。在涂布能量线固化性组合物时若使用溶剂，干燥时有时会因溶剂挥发而使能量线固化性层11产生气泡，而由于能量线固化性单体和/或低聚物的粘度低，故以其为主成分的能量线固化性组合物在涂布时不必使用溶剂，因此可以形成没有气泡的能量线固化性层11。
作为能量线固化性单体和/或低聚物，优选使用多元醇与具有聚合性双键的(甲基)丙烯酸形成的酯。作为所述的能量线固化性单体和/或低聚物，例如可举出(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸对枯基苯氧基乙酯等单官能性丙烯酸酯类，氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯等多官能性丙烯酸酯类，聚酯低聚(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯低聚(甲基)丙烯酸酯等。这些能量线固化性单体和/或低聚物可单独使用1种，也可以2种以上并用。
能量线固化性单体和/或低聚物的质均分子量优选为70～10,000，特别优选为200～5,000。
能量线固化性成分也可以含有能量线固化性聚合物。能量线固化性聚合物，优选使用侧链引入能量线固化性基团的(甲基)丙烯酸酯(共)聚合物。该(甲基)丙烯酸酯(共)聚合物是由具有含官能团单体单元的(甲基)丙烯酸系共聚物(a1)和具有与该官能团结合的取代基的含不饱和基团的化合物(a2)反应得到。
(甲基)丙烯酸系共聚物(a1)是由含官能团的单体与(甲基)丙烯酸酯单体或其衍生物共聚而得。作为含官能团的单体，例如可举出(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸等，作为(甲基)丙烯酸酯单体，例如可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯等。
作为含不饱和基团的化合物(a2)，例如可举出2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、间异丙烯基-α，α-二甲基苄基异氰酸酯、甲基丙烯酰基异氰酸酯、异氰酸烯丙酯、1，1-(双丙烯酰氧基甲基)乙基异氰酸酯；由二异氰酸酯化合物或多异氰酸酯化合物与(甲基)丙烯酸羟乙酯反应得到的丙烯酰基单异氰酸酯化合物；由二异氰酸酯化合物或多异氰酸酯化合物与多元醇化合物、(甲基)丙烯酸羟乙酯反应得到的丙烯酰单异氰酸酯化合物；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-(1-吖丙啶基)乙酯、2-乙烯基-2-恶唑啉、2-异丙烯基-2-恶唑啉等。
能量线固化性聚合物的质均分子量优选为20,000～2,500,000，特别优选为50,000～1,000,000。
能量线固化性聚合物的含量优选为占能量线固化性组合物的0.5～60质量％。通过使能量线固化性组合物含有该范围的能量线固化性聚合物，即使在形成膜比较厚的能量线固化性层时，也可以容易地将能量线固化性组合物涂布至期望的厚度。
作为用于使能量线固化性层11固化的能量线使用紫外线时，能量线固化性组合物优选含有光聚合引发剂，通过使用该光聚合引发剂，可以减少聚合固化时间和光线照射量。
作为光聚合引发剂，具体可举出二苯甲酮、苯乙酮、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚、苯偶姻苯甲酸酯、苯偶姻苯甲酸甲酯、苯偶姻二甲基酮缩醇、2，4-二乙基噻吨酮、1-羟基环己基苯基酮、苄基二苯硫醚、一硫化四甲基秋兰姆、偶氮二异丁腈、苯偶酰、联苄、丁二酮、β-氯蒽醌、(2，4，6-三甲基苄基二苯基)氧化膦、2-苯并噻唑-N，N-二甲基二硫代氨基甲酸酯、低聚{2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙酮)、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮等。它们可以单独使用，也可以2种以上并用。其中，优选使用具有与照射在能量线固化性层11上的紫外线波长相同的吸收区域的光聚合引发剂。
光聚合引发剂，优选为相当于能量线固化性单体和/或低聚物(在配合有能量线固化性聚合物时，能量线固化性单体和/或低聚物与能量线固化性聚合物的合计量为100质量份)100质量份的0.1～10质量份，特别优选为使用0.5～6质量份范围的量。
能量线固化性组合物也可以含有能量线非固化性聚合物。作为能量线非固化性聚合物，例如优选使用低价而透明性良好的丙烯酸树脂、聚碳酸酯、聚酯、聚氨酯等热塑性树脂。
作为丙烯酸树脂，例如可使用含有官能团的单体与(甲基)丙烯酸酯单体或其衍生物经共聚而得的树脂。作为含有官能团的单体，例如可举出(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸等，作为(甲基)丙烯酸酯单体，例如可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯等。
能量线非固化性聚合物的质均分子量优选为20,000～2,500,000，特别优选为50,000～1,000,000。
能量线非固化性聚合物的含量优选为占能量线固化性组合物的0.5～60质量％。通过使能量线固化性组合物含有该范围的能量线非固化性聚合物，即使在形成膜比较厚的能量线固化性层时，也可以容易地将能量线固化性组合物涂布至所期望的厚度。
另外，能量线固化性组合物，在该能量线固化性组成中含有具有官能团的聚合物时，也可以含有交联剂。作为交联剂，例如可使用异氰酸酯化合物、环氧化合物、胺化合物、三聚氰胺化合物、吖丙啶化合物、肼化合物、醛化合物、恶唑啉化合物、烷氧基金属化合物、金属螯形化合物、金属盐、铵盐、反应性酚醛树脂等。
交联剂的含量优选为相当于能量线固化性聚合物与能量线非固化性聚合物的合计量100质量份的0.01～30质量份，特别优选为0.1～10质量份。
另外，能量线固化性组合物还可以含有无机填料。作为无机填料，可举出二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锌、氧化钙、氧化锑、氧化锡、氧化锗、氧化铈等。
无机填料的平均粒径通常为0.001～200μm。而且，在使用无机填料时，其含量为能量线固化性组合物的0.1～40质量％。
进而，为提高能量线固化性层11对光记录介质的记录层的粘接力，能量线固化性组合物中可含有粘结性提高剂。作为粘结性提高剂，例如优选使用丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、2-丙烯酰氧基乙基琥珀酸等。
粘结性提高剂的含量优选为能量线固化性组合物的0.001～10质量％，特别优选为0.005～1质量％。
进一步地，能量线固化性组合物中还可以含有各种添加剂。作为添加剂，例如除用于提高能量线固化性层11的表面平滑性的流平剂之外、还可以使用抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、增塑剂、增粘剂、硅烷偶联剂、抗静电剂、粘结赋予剂等。这些添加剂的配合量无特殊限制，可在能量线固化性组合物的0～30质量％左右的范围内适当决定。
如前所述，在涂布能量线固化性组合物时，优选不使用溶剂。作为能量线固化性组合物的涂布方法，优选使用可形成均匀膜厚的涂膜的刮刀式涂布机、刀辊式涂布机、轻触辊涂布机、逆辊涂布机、模头式涂布机等涂布机。通过这些涂布方法，可以形成膜厚精度高的能量线固化性层11。予以说明，若使用旋转涂布机，则难以得到均匀膜厚的涂膜。
使能量线固化性组合物半固化得到能量线固化性层11，用能量线照射上述涂膜。作为能量线，通常可使用紫外线、电子线等。能量线的照射量只要是能使能量线固化性组合物半固化就没有特殊限制。例如使用紫外线时，光量优选为10～200mJ/cm2，特别优选为30～100mJ/cm2。
这里，在使能量线固化性组合物半固化时，优选使能量线固化性成分中的双键消失20～90％，特别优选为消失30～80％。双键的消失比例超过90％时，能量线固化性层11表面的粘结性会变低，可能会降低对光盘记录层的粘接力。另一方面，双键的消失比例不足20％时，能量线固化性层11的固化变得不充分，将光盘制造用片材1冲压加工为光盘形状时，可能会出现能量线固化性层11溢出、变形。并且，其结果有时会降低能量线固化性层11的厚度精度。
能量线固化性层11的粘接力为10mN/25mm以上，优选为30～10000mN/25mm，更优选为50～1000mN/25mm。通过使能量线固化性层11的粘接力为10mN/25mm以上，可以使能量线固化性层11与光盘记录层紧实地粘结。
能量线固化性层11的厚度根据能量线固化性层11使用目的而适当决定，通常优选为0.5～600μm，特别优选为3～150μm，进一步优选为15～120μm。
能量线固化性层11的1m2的膜厚精度优选为目标膜厚的±10％以下，特别优选为±5％以下。一旦超过±10％，可能会导致激光焦点偏离，无法正常读取信号。另外，在进一步向能量线固化性层11照射能量线使之固化后，也能充分维持上述膜厚精度。
能量线固化性层11固化后(进一步用能量线照射半固化状态的能量线固化性层11后)的相位延迟优选为20nm以下，特别优选为15nm以下。能量线固化性层11的相位延迟超过20nm时，可能会降低所得光盘的信号特性。
能量线固化性层11固化后(进一步用能量线照射半固化状态的能量线固化性层11后)的透射性，优选为405nm的分光透射率为80％以上，特别优选为85％以上。405nm的分光透射率不足80％时，可能会降低所得光盘的信号特性。
能量线固化性层11固化后(进一步用能量线照射半固化状态的能量线固化性层11后)的粘接力，优选为50～10000mN/25mm，特别优选为100～5000mN/25mm。通过使能量线固化性层11固化后的粘接力保持在该范围内，可得到不易发生层间剥离的光盘。
作为基材12、12’，可使用此前公知的物质，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯等树脂薄膜，或将这些树脂薄膜用有机硅系剥离剂、长链烷基系剥离剂、醇酸树脂系剥离剂等进行剥离处理的剥离薄膜。此外，当通过基材12或基材12’照射作为能量线的紫外线时，该基材12或基材12’需由透明材料构成。
为向能量线固化性层11赋予平滑性，基材12、12’的与能量线固化性层11接触侧的表面粗糙度(Ra)优选为0.1μm以下，特别优选为0.05μm以下。基材12、12’的表面粗糙度(Ra)超过0.1μm时，能量线固化性层11的表面粗糙度变大，可能会降低所得光盘的信号特性。基材12、12’的厚度通常为10～200μm左右，优选为20～100μm左右。
此外，在基材12、12’中，优选为，从能量线固化性层11上先剥离的一方为轻剥离型，后剥离的一方为重剥离型。而且，在基材12、12’中，也可以一方是未经处理的树脂薄膜，另一方是剥离薄膜。
下面，说明使用上述光盘制造用片材1作为保护层的光盘D1(单面单层式)的一例制造方法。图2(a)～(d)为表示使用上述光盘制造用片材1的光盘D1的一例制造方法的剖面图。
予以说明，光盘制造用片材1预先进行冲压加工，形成光盘D1的形状。冲压加工可按常法进行，例如可以使用冲压装置等进行。由于光盘制造用片材1的能量线固化性层11为半固化，故在该冲压加工中，不必担心能量线固化性层11会出现溢出、变形等，从而可以维持高成品率。
首先，如图2(a)所示，制造具有由槽和台构成的凹凸图案的光盘基板2。该光盘基板2通常由聚碳酸酯制成，可使用注射成型法等成型法进行成型。
在上述光盘基板2的凹凸图案上，如图2(b)所示，形成记录层3。该记录层3通常由无机类材料制的膜或该膜的层合体构成，例如由按从下向上的顺序包括反射膜、电介质膜、相变膜和电介质膜的层合体构成。这些膜可以通过溅射等方法来形成。
接着，如图2(c)所示，剥离除去光盘制造用片材1的一个基材(例如基材12)，露出能量线固化性层11，将能量线固化性层11压合于光盘基板2上的记录层3表面。
在该状态下，使用能量线照射装置，从基材12’一侧或光盘基板2一侧用能量线照射能量线固化性层11，使能量线固化性层11固化，形成保护层。
作为能量线，通常可使用紫外线、电子线等。能量线的照射量随能量线的种类而不同，例如使用紫外线时，光量优选为150～3000mJ/cm2左右，更优选为200～1000mJ/cm2。另外，使用电子线时，优选为10～1000krad左右。
照射能量线后，如图2(d)所示，通过剥离基材12’，得到光盘D1。通过使用以上方法制造光盘D1，不必使用高价的薄膜基材作为保护层，可以经济而简便地形成保护层，而且成品率也良好。
予以说明，在上述光记录介质制造方法中，使用上述光盘制造用片材1制造了单面单层式光盘，但本发明并不局限于此，例如也可以使用上述光盘制造用片材1制造单面双层式光盘。
接着，说明使用上述光盘制造用片材1作为压模接受层的光盘D2(单面双层式)的一例制造方法。图3(a)～(g)为表示使用上述光盘制造用片材1的光盘D2的一例制造方法的剖面图。
另外，该情况也是对光盘制造用片材1预先进行冲压加工，形成光盘D2的形状。冲压加工可按常法进行，例如可以使用冲压装置等进行。由于光盘制造用片材1的能量线固化性层11为半固化，在该冲压加工中，不必担心能量线固化性层11会出现溢出、变形等，从而可以维持高成品率。
首先，如图3(a)～(b)所示，制造具有由槽和台构成的凹凸图案的光盘基板2，在该光盘基板2的凹凸图案上形成第一记录层3A。至此，均可使用与上述光盘D1同样的制造方法。
接着，如图3(c)所示，剥离除去光盘制造用片材1的基材12，将露出的能量线固化性层11与光盘基板2的记录层3A相向放置，如图3(d)所示，将能量线固化性层11压合于光盘基板2上的记录层3A表面。
然后，将层合于能量线固化性层11上的基材12’剥离除去后，如图3(e)所示，在露出的能量线固化性层11表面压合压模S，将压模S的凹凸图案转印在能量线固化性层11上。在该状态下，使用能量线照射装置，从压模S侧或光盘基板2侧使用能量线照射能量线固化性层11，使能量线固化性层11固化。
压模S由镍合金等金属材料或降冰片烯树脂等透明树脂材料构成。另外，图3(e)所示压模S的形状为板状，但不局限于此，也可以是辊状。
能量线固化性层11固化后，压模S的凹凸图案被转印、固定，形成槽和台后，将压模S从能量线固化性层11上分离。接着，如图3(f)所示，能量线固化性层11的凹凸图案上，形成第二记录层3B。该第二记录层3B通常由无机类材料制的膜或该膜的层合体构成，特别是大多由从下向上的顺序包括反射膜(半透明膜)、电介质膜、相变膜和电介质膜的层合体构成。另外，有时，在反射膜(半透明膜)的下侧还可以形成电介质膜。上述膜可以通过溅射等方法形成。
最后，如图3(g)所示，在上述第二记录层3B上隔着粘结剂4层合保护片材5，形成光盘D2。该保护片材5是光盘的受光面或标记面等，构成光盘D2的一部分，例如可使用含有聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯等树脂的片材(薄膜)。作为粘结剂4，例如可使用丙烯酸系紫外线固化型粘结剂等。
使用这种光盘制造用片材1，可以成品率良好地制造光盘D2。
予以说明，在上述光记录介质制造方法中，使用上述光盘制造用片材1制造了单面双层式光盘，但本发明并不局限于此。例如也可以使用上述光盘制造用片材1制造单面单层式光盘。
以上说明的实施方式，是为便于理解本发明而进行的说明，而不是用于限定本发明。因此，上述实施方式中公开的各要素也包括属于本发明技术范围的所有设计变更或等价物。
例如，在光盘制造用片材1中，也可以不使用基材12或基材12’的任一方。
实施例
下面通过实施例等更具体地说明本发明，但本发明的范围并不局限于这些实施例等。
[实施例1]
将作为能量线固化性成分的丙烯酸对枯基苯氧基乙酯(新中村化学工业社制，NK酯ACMP-1E，固体成分浓度100质量％，单官能)50质量份和环氧乙烷改性双酚A二丙烯酸酯(新中村化学工业社制，NK酯ABE-300，固体成分浓度100质量％，双官能)50质量份，与作为光聚合引发剂的1-羟基-环己基苯基酮(Ciba Speciality Chemicals公司制，IRGACURE 184，固体成分浓度100质量％)3质量份、作为粘结性提高剂的2-丙烯酰氧基乙基琥珀酸(新中村化学工业社制，NK酯A-SA，固体成分浓度100质量％)0.1质量份混合。
将所得能量线固化性组合物用刮刀式涂布机涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯制的透明基材(TORAY(株)制，Lumiror T60，厚度：50μm，表面粗糙度(Ra)：0.001μm；以下称为“PET基材”)上，使能量线固化性层(半固化状态)的膜厚(目标膜厚)达100μm，再在能量线固化性层表面粘附作为另一个基材的剥离薄膜(Lintec(株)制，SP-PET3811，厚度：38μm，表面粗糙度(Ra)：0.029μm)。予以说明，基材的表面粗糙度(Ra)使用表面粗糙度测定仪(ミットョ公司制，SV-3100)进行测定。
然后，通过紫外线照射装置(Eyegraphics公司制，ECS-401GX，使用高压汞灯H04-L41)从PET基材侧向上述涂膜照射照度为250mW/cm2、光量为70mJ/cm2的紫外线，形成半固化的能量线固化性层。将由此所得的层合体作为光盘制造用片材。予以说明，光量使用光量计(Eyegraphics公司制，UV METER UVPF-36)进行测定。
[实施例2]
将作为能量线固化性成分的氨基甲酸酯丙烯酸酯(大日本油墨化学工业社制，ュニディックRS24-156，固体成分浓度100质量％，双官能)50质量份进一步配合在能量线固化性组合物中，除此以外，与实施例1同样操作，配制能量线固化性组合物，制作光盘制造用片材。
[实施例3]
将作为能量线非固化性树脂的丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸2-羟乙酯按20∶65∶10∶5的质量比共聚而成的丙烯酸树脂(日本合成化学社制，コ一ポニ一ルN3085，固体成分浓度40质量％，质均分子量30万)10质量份和异氰酸酯系交联剂(东洋油墨公司制，BHS-8515，固体成分浓度37.5质量％)0.1质量份进一步配合在能量线固化性组合物中，除此以外，与实施例1同样操作，配制能量线固化性组合物，制作光盘制造用片材。
[比较例1]
与实施例1同样操作，对涂布在PET基材上的涂膜，照射紫外线(照度250mW/cm2、光量250mJ/cm2)至能量线固化性成分的双键消失比例达92％，形成略微固化的能量线固化性层，除此以外，与实施例1同样操作，制作光盘制造用片材。
[试验例]
(1)双键消失比例的测定
对实施例和比较例所得的光盘制造用片材，通过使用傅里叶转换红外分光分析仪(Perkin Elmer公司制，Spectrum One)的金刚石ATR法，由能量线固化性层的PET基材侧在810cm-1吸收峰处的减少比例，判断能量线固化性成分的双键消失比例。以未照射能量线的能量线固化性成分的吸收峰面积为100％，以通过紫外线照射装置(Eyegraphics公司制，ECS-401GX，使用高压汞灯H04-L41)照射照度为250mW/cm2、光量为500mJ/cm2的紫外线的能量线固化性层的吸收峰面积为0％，进行换算。这里，吸收峰面积与双键数呈正比例关系。结果如表1所示。
(2)粘接力的测定
(a)能量线固化性层的粘接力
剥离实施例和比较例所得的光盘制造用片材的剥离薄膜，将能量线固化性层压合在试验板(SUS304)上，根据JIS Z0327，测定将其剥离180°的粘合力，作为粘接力。结果如表1所示。
(b)固化后的粘接力
剥离实施例和比较例所得的光盘制造用片材的剥离薄膜，将能量线固化性层压合在试验板(SUS304)上后，照射照度为250mW/cm2、光量为500mJ/cm2的紫外线，剥离除去PET基材后，根据JiSZ0327，测定将固化后的能量线固化性层剥离180°的粘合力，作为粘接力。结果如表1所示。
(3)膜厚精度的测定
对实施例和比较例所得的光盘制造用片材，使用数字测微仪(尼康公司制，MH-15M)，测定100个点的1m2大小的能量线固化性层的膜厚，根据下式算出1m2的膜厚精度。结果如表1所示。
膜厚精度(％)＝{(与目标膜厚的膜厚差最大点处的膜厚-目标膜厚)/目标膜厚}×100
(4)相位延迟的测定
对实施例和比较例所得光盘制造用片材的能量线固化性层，通过紫外线照射装置(Eyegraphics公司制，ECS-401GX，使用高压汞灯H04-L41)照射照度为250mW/cm2、光量为500mJ/cm2的紫外线，剥离PET基材和剥离薄膜后，用相位差测定装置(王子计测器社制，KOBRA-WR)测定相位延迟。结果如表1所示。
(5)405nm分光透射率的测定
对能量线固化性层，通过紫外线照射装置(Eyegraphics公司制，ECS-401GX，使用高压汞灯H04-L41)照射照度为250mW/cm2、光量为500mJ/cm2的紫外线，剥离PET基材和剥离薄膜后，用分光光度计(岛津制作所社制，UV-3100PC)测定405nm的分光透射率，结果如表1所示。
(6)作为压模接受层的凹凸图案转印特性的评价
剥离实施例和比较例所得光盘制造用片材的剥离薄膜后，粘附在厚度为2mm的聚碳酸酯板上。接着，剥离PET基材，使用层压辊(GMP公司制，Excelam 355Q)，在辊的移动速度0.94m/mln、压力0.4MPa、温度50℃的条件下，将压模(坑长：500nm，坑深：50nm，镍合金制)压合在能量线固化性层上。
在该状态下，通过紫外线照射装置(Eyegraphics公司制，ECS-401GX，使用高压汞灯H04-L41)从聚碳酸酯板侧照射照度为250mW/cm2、光量为50mJ/cm2的紫外线，使能量线固化性层固化后，分离压模。
用扫描电子显微镜(日立制作所社制，S4700)观察转印有压模的凹凸图案(坑)的表面，以被转印的坑长为425～500nm者为○。结果如表1所示。
(7)冲压加工适应性的评价
用冲压装置(Mark Andy公司制，Mark Andy 910)，将实施例和比较例所得的光盘制造用片材冲压为直径120mm的圆形，通过目视观察冲压后的片材边缘部有无能量线固化性层的溢出，进行评价。结果如表1所示。
[表1]
    双键消失比例(％)   能量线固化性层的粘接力(a)(mN/25mm)   固化后的粘接力(b)(mN/25mm) 膜厚精度(％) 相位延迟(nm)   405nm分光透射率(％) 凹凸图案转印特性   冲压加工适应性有无溢出
实施例1     60     86     190     -3     2.8     89.7     ○     无
实施例2     38     120     340     -1     1.7     90.1     ○     无
实施例3     60     270     740     1     3.0     85.0     ○     无
比较例1 92     小于10(不能粘附)     - 2 4.5 88.7 不能粘附 不能粘附
如表1所示，实施例制作的光记录介质制造用片材的能量线固化性层的双键消失比例在20～90％范围内，作为光盘的保护层和压模接受层，具有良好的粘接力、膜厚精度、相位延迟、透射性、凹凸图案转印特性和冲压加工适应性。
产业实用性
本发明对于经济而简便、且成品率良好地生产光记录介质是有用的。

Claims (16)

1.光记录介质制造用片材，具有基材和层合于该基材上的能量线固化性层，其特征在于，上述能量线固化性层为半固化状态，且粘接力在10mN/25mm以上。
2.权利要求1所述的光记录介质制造用片材，其特征在于，上述能量线固化性层是以含有聚合性双键的能量线固化性成分为主成分的材料在能量线照射下半固化的层，在上述能量线的照射下、上述能量线固化性成分的双键消失比例为20～90％。
3.权利要求1所述的光记录介质制造用片材，其特征在于，上述能量线固化性层是以能量线固化性单体和/或低聚物为主成分的材料半固化的层。
4.权利要求1所述的光记录介质制造用片材，其特征在于，上述基材的与上述能量线固化性层相接触的面的表面粗糙度(Ra)为0.1μm以下。
5.权利要求1所述的光记录介质制造用片材，其特征在于，上述能量线固化性层的两面均层合有基材，上述两基材的与上述能量线固化性层相接触的面的表面粗糙度(Ra)为0.1μm以下。
6.权利要求1所述的光记录介质制造用片材，其特征在于，上述能量线固化性层是形成光记录介质保护层的层。
7.权利要求1所述的光记录介质制造用片材，其特征在于，上述能量线固化性层是形成压模接受层的层。
8.光记录介质制造用片材的制造方法，其特征在于，在基材上涂布以能量线固化性成分为主成分的组合物，用能量线照射所得涂膜，使上述能量线固化性成分半固化，形成粘接力为10mN/25mm以上的能量线固化性层。
9.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法，其特征在于，在上述涂膜上粘附另一基材后，照射能量线。
10.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法，其特征在于，在上述形成的能量线固化性层上粘附另一基材。
11.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法，其特征在于，上述能量线固化性成分含有聚合性双键，通过上述能量线的照射，使上述双键消失20～90％。
12.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法，其特征在于，上述能量线固化性成分以能量线固化性单体和/或低聚物为主成分。
13.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法，其特征在于，以上述能量线固化性成分为主成分的组合物不含有溶剂。
14.光记录介质的制造方法，其特征在于，使权利要求1所述的光记录介质制造用片材的能量线固化性层的一面呈露出状态，将上述能量线固化性层的露出面粘附在光记录介质的记录层上，用能量线照射上述能量线固化性层，使上述能量线固化性层固化，由此形成保护层。
15.光记录介质的制造方法，其特征在于，使权利要求1所述的光记录介质制造用片材的能量线固化性层的一面呈露出状态，将上述能量线固化性层的露出面粘附在光记录介质的记录层上，并使上述能量线固化性层的另一面露出，在该露出面上压合压模，用能量线照射上述能量线固化性层，使上述能量线固化性层固化后，将上述压模剥离，由此形成转印、固定有上述压模的凹凸图案的压模接受层。
16.光记录介质，其特征在于，使用权利要求1所述的光记录介质制造用片材制造而成。
CNA2007101029261A 2006-05-11 2007-05-11 光记录介质制造用片材和光记录介质、及它们的制造方法 Pending CN101071592A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006132310A JP2007305220A (ja) 2006-05-11 2006-05-11 光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体、ならびにそれらの製造方法
JP2006132310 2006-05-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101071592A true CN101071592A (zh) 2007-11-14

Family

ID=38294098

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2007101029261A Pending CN101071592A (zh) 2006-05-11 2007-05-11 光记录介质制造用片材和光记录介质、及它们的制造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20070264464A1 (zh)
EP (1) EP1855277B1 (zh)
JP (1) JP2007305220A (zh)
KR (1) KR20070109857A (zh)
CN (1) CN101071592A (zh)
DE (1) DE602007002218D1 (zh)
TW (1) TW200809838A (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5356709B2 (ja) * 2008-03-27 2013-12-04 リンテック株式会社 多層光記録媒体用シート、光記録媒体用多層構造体及び多層光記録媒体
JP5265223B2 (ja) * 2008-03-27 2013-08-14 リンテック株式会社 多層光記録媒体用シート、光記録媒体用多層構造体及び多層光記録媒体
EP2353736A1 (en) * 2010-01-29 2011-08-10 3M Innovative Properties Company Continuous process for forming a multilayer film and multilayer film prepared by such method
US20130280544A1 (en) 2010-12-28 2013-10-24 Akzo Nobel Coatings International B.V. Radiation curable coating compositions for metal
KR20200100789A (ko) * 2017-12-21 2020-08-26 사이텍 인더스트리스 인코포레이티드 표면 제조를 위한 필 플라이 및 이를 이용한 결합 방법

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09310059A (ja) * 1996-05-24 1997-12-02 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物とその粘着シ―ト類
JPH11283279A (ja) * 1998-01-30 1999-10-15 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> 貼り合わせ型光ディスク並びにその製造方法及び装置
US7799404B2 (en) * 2001-10-02 2010-09-21 Bridgestone Corporation Photo-curable transfer sheet, laminate, optical information recording substrate, process for the preparation thereof, and optical information recording medium
US20050158500A1 (en) * 2002-03-13 2005-07-21 Hideki Kitano Photo-curable adhesive sheet, photo-curable transfer sheet, optical information recording medium, and method for preparing optical information recording medium
JP4158409B2 (ja) * 2002-05-13 2008-10-01 ソニー株式会社 光ディスクの製造方法
MXPA03005877A (es) * 2002-07-04 2006-04-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Medio de grabacion de datos opticos y metodo de fabricacion del mismo.
JP4139648B2 (ja) * 2002-08-08 2008-08-27 リンテック株式会社 光ディスク製造用シート
JP2004319045A (ja) * 2003-04-18 2004-11-11 Lintec Corp 光ディスク製造用シートおよび光ディスク
JP4133539B2 (ja) * 2003-04-18 2008-08-13 リンテック株式会社 光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体
US8916335B2 (en) * 2003-10-07 2014-12-23 Bridgestone Corporation Photo-curable transfer sheet, process for the preparation of optical information recording medium using the sheet, and optical information recording medium
JP2005255706A (ja) * 2004-03-09 2005-09-22 Lintec Corp 粘接着剤組成物、光ディスク製造用シートおよび光ディスク
JP4455926B2 (ja) * 2004-04-22 2010-04-21 リンテック株式会社 光ディスク製造方法および凹凸パターン転写方法
JP2005317054A (ja) * 2004-04-26 2005-11-10 Victor Co Of Japan Ltd 光ディスクの製造方法
CN101027723A (zh) * 2004-09-24 2007-08-29 松下电器产业株式会社 多层信息记录介质及其制造方法、及感光性粘接片

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070109857A (ko) 2007-11-15
TW200809838A (en) 2008-02-16
DE602007002218D1 (de) 2009-10-15
EP1855277A3 (en) 2008-01-02
EP1855277A2 (en) 2007-11-14
JP2007305220A (ja) 2007-11-22
EP1855277B1 (en) 2009-09-02
US20070264464A1 (en) 2007-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1574556B1 (en) Curable pressure sensitive adhesive composition, optical disk producing sheet, and optical disk
JP4359411B2 (ja) 光ディスク製造用シート
KR20020005711A (ko) 광학 기억 매체
CN101071592A (zh) 光记录介质制造用片材和光记录介质、及它们的制造方法
JP2007291339A (ja) 光硬化性転写シート、これを用いた凹凸パターンの形成方法及び光情報記録媒体の製造方法、並びに光情報記録媒体
WO2003076541A1 (fr) Feuille adhesive photodurcissable, feuille de transfert photocurcissable, et support d&#39;enregistrement d&#39;informations optiques et son procede de preparation
JP4247696B2 (ja) 光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物、光ディスクおよび光ディスクの製造方法
WO2006013662A1 (ja) 光記録媒体の保護層形成用シート、光記録媒体およびそれらの製造方法
JP2008044237A (ja) 離型剤、これを用いた凹凸パターンの形成方法及び光情報記録媒体の製造方法、並びに光情報記録媒体
JP2006318578A (ja) 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体
EP1752980A1 (en) Sheet for production of optical recording medium
JP4764173B2 (ja) 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体
JP4139648B2 (ja) 光ディスク製造用シート
CN101506884B (zh) 光固化性转印片、使用其的光学信息记录介质的制造方法、及光学信息记录介质
JP4570604B2 (ja) 光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体、ならびにそれらの製造方法
JP4455926B2 (ja) 光ディスク製造方法および凹凸パターン転写方法
JP2010257521A (ja) 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体
JP4341968B2 (ja) 光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体
JP2007012224A (ja) 光情報記録媒体
JP4587944B2 (ja) スタンパー受容層用エネルギー線硬化性樹脂組成物、光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体
JP2006236518A (ja) 光記録媒体の保護層形成用シート、光記録媒体およびそれらの製造方法
JP4657257B2 (ja) 光ディスク製造用シート
JP5016292B2 (ja) 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20071114