TWI399747B - An optical recording medium manufacturing sheet and an optical recording medium, and a method of manufacturing the same - Google Patents

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Description

光記錄媒體製造用板片與光記錄媒體以及其製造方法
本發明係關於形成光記錄媒體之保護層而可製造光記錄媒體之光記錄媒體製造用板片及其製造方法，以及使用所關光記錄媒體製造用板片製造之光記錄媒體及其製造方法。
如於藍光光碟(Blu－ray Disc)之下世代大容量光記錄媒體，採用於記錄層上，設置保護該記錄層之保護層之構造。該保護層之形成方法，有將膜厚精度或光學特性優良的光學膜經由黏著劑或接著劑黏貼於記錄層之方法(專利文獻1)，或將光硬化性接著劑膜轉印於記錄層之方法(專利文獻2)等。
[專利文獻1]日本專利第3338660號公報[專利文獻2]日本特開2002－25110號公報
但是，於專利文獻1所述的方法，需要滿足特殊的光學性能之膜，而所觀光學膜很高價。又，到達於記錄層黏貼光學膜之形態之步驟數多，難以減低成本。
另一方面，於專利文獻2所述之方法，將光硬化性接著劑膜轉印於記錄層後，於光硬化性接著劑膜之表面形成硬塗層等時，首先對光硬化性接著劑膜照射光，使光硬化性接著劑膜硬化形成保護層，再於該當保護層塗佈硬塗層等，而需要使該塗佈膜乾燥．硬化，而有步驟數多的問題。
本發明，係有鑑於如此之實情完成者，其目的在於提供可以廉價且簡便地形成光記錄媒體之保護層，且可以少的步驟數於保護層形成其他的層之光記錄媒體製造用板片及其製造方法，以及使用所關光記錄媒體製造用板片製造之光記錄媒體及其製造方法。
為達成上述目的，第1，本發明提供一種光記錄媒體製造用板片，其係包括能量硬化性層者，其特徵在於：上述能量線硬化性層之第1面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力未滿10mN/25mm，上述能量線硬化性層之第2面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力成100mN/25mm以上(發明1)
第2，本發明提供一種光記錄媒體造用板片，其係包括能量硬化性層者，其特徵在於：上述能量線硬化性層之第1面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力未滿10mN/25mm，將上述能量線硬化性層之第2面黏貼於SUS304鋼板或聚碳酸酯板之任一使上述能量硬化性層完全硬化後，上述第2面對上述SUS304鋼板或聚碳酸鋼板之黏著力為100N/25mm以上(發明2)。
再者，本說明書之「光記錄媒體」，係指以光學記錄．播放資訊之媒體，主要播放專用型、可寫錄式或可重寫型的碟片狀媒體(例如，CD、CD－ROM、CD－R、CD－RW、DVD、DVD－ROM、DVD－R、DVD－RW、DVD－RAM、LD、Blu－ray Disc、HD DVD、MO等；所謂光碟(包含磁光碟片))，惟並非限定於該等者。
又，於本發明之「黏著力」，係指能量硬化性層之現狀(本硬化前)之黏著力，於本發明之「接著力」，係指將能量硬化性層黏貼於被著體後，使該當能量硬化性層硬化時之能量硬化性層對被著體之接著力。該等「黏著力」及「接著力」，係表示遵照後述之試驗例測定之值。
根據上述發明(發明1、2)，由於作為保護層並沒有使用高價的膜基材，故可廉價地形成光記錄媒體之保護層。又，能量線硬化層之第2面由於具有既定的黏著力或接著力，無須另外設置接著層，故可簡便地形成保護層，並且沒有保護層與接著層之間之層間剝離，或層間反射光之散亂之問題。另一方面，能量硬化性層之第1面之黏著力相對較低，亦可於其面上以均勻的膜厚塗佈．形成其他的層。因此，在使能量硬化性層本硬化之前，於能量硬化性層之第1面上形成其他的能像硬化性層之塗膜，藉由對該層積體施加能量，可將兩層以一次使之硬化(本硬化)，可以少的步驟數於保護層行程其他的能量硬化層。
於上述發明(發明1、2)，上述能量硬化性層以單一之層構成為佳(發明3)。根據所關(發明3)，可將能量硬化性層以少的步驟數簡易地形成。
於上述發明(發明1~3)，上述能量硬化性層，係以藉由能量線的照射硬化，或硬化或者半硬化之層為佳(發明4)。以能量線的照射，溶液控制能量線硬化層之硬化程度。
於上述發明(發明1~4)，上述能量硬化性層，係具有聚合性之雙鍵鍵結之能量硬化性成分為主成分之材料藉由能量線的施加而硬化或半硬化者，在於上述能量硬化性層之上述第1面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例為60%以上，且在於上述第2面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例多於15%以上為佳(發明5)。
於上述發明(發明1~5)，上述能量硬化性層，係以能量硬化性單體或/及寡聚物為主成分之材料硬化或半硬化者為佳(發明6)。
於上述發明(發明6)，在於上述材料中之能量硬化性單體之含量為50質量%以下，能量硬化性寡聚物之含量為50質量%以上為佳(發明7)。根據所關發明(發明7)，可容易變化能量硬化性層之厚度方向之硬化程度，可使第1面之黏著力與第2面之黏著力容易變化如上述發明(發明1、2)。
於上述發明(發明1~7)，上述能量硬化性層，以形成光記錄媒體之保護層者為佳。
第3，本發明提供一種光記錄媒體製造用板片之製造方法，其特徵在於：將包含以能量硬化性成分作為主成分之材料之塗佈劑，塗佈於基材，將與所得塗佈膜與上述基材接觸之第1面相反側之第2面置於氧存在下，對上述塗佈膜施加能量，使上述塗佈膜之第1面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力未滿10mN/25mm，上述第2面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力成100mN/25mm以上地，使上述塗佈膜硬化或半硬化，以此形成能量硬化性層(發明8)。
再者，在於本說明之「半硬化」，係指未硬化與完全硬化之間之狀態，所謂「硬化」，係指較未硬化之狀態硬化之狀態之全部，亦包含完全硬化及半硬化者。又，所謂「完全硬化」，係指即使施加該等以上的能量大體上已不會在進行硬化之狀態。
根據關於上述發明(發明8)之方法，藉由使塗佈膜之第1面與基材接觸，將第2面置於氧存在下，可使能量硬化性成分之硬化程度在第1面大，於第2面小，而可得如上所述依照面而黏著力不同的能量硬化性層。
在於上述發明(發明8)，可將上述形成之能量硬化性層之上述第2面黏貼於別的基材(發明9)。藉此，可保護能量硬化性層之黏著力相對較大的第2面。
在於上述發明(發明8、9)，上述能量硬化性成分具有聚合性之雙鍵鍵結，藉由上述能量的施加，可使在於上述塗佈膜之上述第1面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之60%以上，且在於上述第2面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例多於15%以上為佳(發明10)。
在於上述發明(發明8~10)，上述材料，以能量硬化性單體或/及寡聚物為主成分為佳(發明11)。
於上述發明(發明11)，在於上述材料中之能量硬化性單體之含量為50質量%以下，能量硬化性寡聚物之含量為50質量%以上為佳(發明12)。
在於上述發明(發明8~12)，作為形成上述能量硬化性層而施加之能量，使用能量線為佳(發明13)。使用能量線，可容易地控制能量硬化性層之硬化程度。
第4，本發明提供一種光記錄媒體之製造方法，其特徵在於：以露出上述光記錄媒體製造用板片(發明1~7)之上述能量硬化性層之上述第2面之狀態，將上述能量硬化性層之上述第2面黏貼於光記錄媒體之記錄層，藉由對於上述能量硬化性層施加能量使上述能量硬化性層硬化，形成保護層(發明14)。
在於上述發明(發明14)，對上述能量硬化性層施加能量之前，對上述能量硬化性層之上述第1面，形成能量硬化性之其他層之塗佈膜為佳(發明15)。根據所關發明(發明15)，可將能量硬化性層與能量硬化性之其他層以一次硬化(本硬化)，可以少的步驟數於保護膜形成其他的能量硬化性層。並且，形成能量硬化性之其他層之塗佈膜之能量硬化性層之第1面，黏著力相對較低，由於有某種程度的硬化，故可以均勻的膜厚塗佈．形成其他的能量硬化性層。
在於上述發明(發明15)，上述能量硬化性之其他層以硬塗層為佳(發明16)。
於上述發明(發明14~16)，作為形成上述保護膜而施加之能量，使用能量線為佳(發明17)。
第5，本發明提供一種光記錄媒體，其特徵在於：使用上述光記錄媒體製造用板片(發明1~7)製造。
根據本發明，可以廉價而簡便地形成光記錄媒體之保護膜，且於光記錄媒體之製造步驟，亦可於保護層以少的步驟數形成其他的層，例如硬塗層。
以下，說明關於本發明之實施形態。
[光記錄媒體製造用板片]
圖1係關於本發明之一實施形態之光記錄媒體製造用板片之剖面圖。
關於本實施形態之光記錄媒體製造用板片1，包含：能量硬化性層11；及基材12、12’，其係層積於能量硬化性層11之兩面。惟，基材12、12’係於使用光記錄媒體製造用板片1時被剝離者。
能量硬化性層11，係可構成保護光記錄媒體之記錄層之保護層之層。該能量硬化性層11之一邊的面(第1面；例如基材12側之面)對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力未滿10mN/25mm。
又，能量硬化性層11之另一面(第2面，例如基材12’側之面)之黏著力，對SUS304鋼板為100mN/25mm以上，以300~1,000,000mN/25mm為佳，對聚碳酸酯板為100mN/25mm以上，以500~1,000,000mN/25mm為佳。另一方面，並不是現狀之黏著力，而以完全硬化後之接著力規定，則在將能量硬化性層11之第2面黏貼於SUS304鋼板使能量硬化性層11完全硬化後，第2面對SUS304鋼板之接著力為100mN/25mm以上，以500~1,000,000mN/25mm為佳，在將能量硬化性層11之第2面黏貼於聚碳酸酯板使能量硬化性層11完全硬化後，第2面對聚碳酸酯板之接著力為100mN/25mm以上，以1,000~1,000,000mN/25mm為佳。該能量硬化性層11之第2面之完全硬化後之接著力，對SUS304鋼板及聚碳酸酯板均於上述範圍內特別佳。
再者，上述黏著力及接著力，係遵照後述之實驗例所測定之值所表示者。如示於該當試驗例，於本說明書，作為使能量硬化性層11完全硬化而施加之能量，進行1000mJ/cm2 之紫外線照射。於該紫外線照射後，即使進一步照射紫外線大體上並不會進行硬化反應。又，能量硬化性層11之第1面上之上述範圍之黏著力，係指第1面之硬化進行到大體上不具有黏著力之程度之意思。
另一方面，能量硬化性層11之第2面，係以黏貼於光記錄媒體之記錄層上為目的者。光記錄媒體之記錄層之表面，具有實際上成為記錄部分之金屬部分，及位於金屬部分之周緣部之具碳酸酯部分。因此，藉由第2面之黏著力或完全硬化後之接著力，對SUS304鋼板或聚碳酸酯板在於上述範圍內，可達成光記錄媒體製造用片1之目的。
在於上述能量硬化性層11，第1面之硬化程度較第2面進行，第1面，係硬化到可直接在其上形成其他的層(例如後述之硬塗層)之程度，第2面，硬化成具有可黏貼於光記錄媒體之記錄層之黏著力之程度(包含半硬化之概念。)。藉此，以能量硬化性層11全體，具有衝鍛加工或黏貼加工之程度之強度。
藉由能量硬化性層11之第1面之黏著力在於上述範圍，在使能量硬化性層11本硬化之前，可於第1面之上以均勻的膜後形成其他層之塗佈膜。又，藉由能量硬化性層11之第2面之黏著力或完全硬化後之接著力在於上述範圍，可將能量硬化性層11黏貼於光記錄媒體之記錄層，並且使能量硬化性層11與記錄層牢固地接著，而可得不易產生層間剝離之光記錄媒體。
再者，藉由能量硬化性層11在於如此之硬化狀態，使能量硬化性層11具有充分的硬度，在將光記錄媒體製造用板片1衝鍛加工為光記錄媒體之形狀時，不會有能量硬化性層11溢出，或變形之虞，可維持高的良率。
能量硬化性層11，係藉由能量的施加而硬化，或硬化或者半硬化之層。作為施加之能量，可舉能量現或熱，最少是使用於容易以照射亮等控制硬化程度之能量線。因此，能量硬化性層11，係以藉由能量線的照射硬化，或硬化或者半硬化之層為佳。
能量硬化性層11，以單一層(單一之材料所構成之層)所構成者為佳。藉此，較層積複數之層而形成，可以較少的步驟數簡易地形成(參照後述之能量硬化性層11之形成方法)。
能量硬化性層11，將具有聚合性雙鍵鍵結之能量硬化性成分為主成分之材料(以下稱為「能量硬化性材料」。)硬化或半硬化者為佳。此時，在於能量硬化性層11之第1面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例為60%以上，特別是以65~90%，且在於上述第2面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例多於15%以上，特別是以多於20%以上為佳。再者，能量硬化性層11之第2面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例為10~75%，特別是以10~50%為佳。
藉由能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例在於所關範圍，可使在於能量硬化性層11之第1面及第2面之黏著力及黏貼於基材藉由能量施加完全硬化後之接著力容易進入上述範圍。又，能量硬化性層11顯示某種程度的硬度，可防止在將光記錄媒體製造用片1衝鍛加工成光記錄媒體形狀時，能量硬化性層11溢出，或變形。
能量硬化性材料，以能量硬化性單體及/或寡聚物為主成分為佳。藉由使能量硬化性材料，以能量硬化性單體及/或寡聚物為主成分，可顯著地減低溶劑之使用，或可完全沒有。隨此，無須溶劑之乾燥步驟提升生產性，又對環境對策亦有效。再者，藉由省略乾燥步驟，亦沒有容易在乾燥時所產生之發泡等之虞。在此，所謂寡聚物，係質量平均分子量為500~10,000者，較佳的質量平均分子量為1,000~10,000。
能量硬化性單體及/或寡聚物，最好使用具有多元醇與聚合性雙鍵鍵結之(甲基)丙烯酸之酯。所關能量硬化性單體及/或寡聚物，可舉例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異龍腦酯、(甲基)丙烯酸對異丙苯基苯氧基乙酯等之單官能性丙烯酸酯類；(甲基)丙烯酸聚胺酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙烯氧化物變性雙酚A(甲基)丙烯酸酯、丙烯氧化物變性雙酚A(甲基)丙烯酸酯、三甲基醇丙烷(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,4－丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6－己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甲基醇三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯等之多官能性丙烯酸酯類；聚酯寡聚(甲基)丙烯酸酯、聚胺酯寡聚(甲基)丙烯酸酯等。該等能量硬化性單體及/或寡聚物，可單獨使用1種，以可併用2種以上。
在於能量硬化性材料中之能量硬化性單體之含量以50質量%以下為佳，又，能量硬化性寡聚物之含量以50質量%以上為佳。特別是，能量硬化性單體之含量以10~50質量%為佳，又，能量硬化性寡聚物之含量以50~90質量%為佳。
藉由在於能量硬化性材料中之能量硬化性單體及能量硬化性寡聚物之含量在於上述範圍，可容易使能量硬化性層11之厚度方向之硬化程度變化，可容易使在於第1面之黏著力與在於第2面之黏著力變成如上所述。
能量硬化性成分，亦可含有能量硬化性聚合物。能量硬化性聚合物，使用於側鏈導入能量硬化性基之(甲基)丙烯酸酯(共)聚合物為佳。
能量硬化性聚合物之質量平均分子量，以超過10,000為佳。上限並無特別限定，以2,500,000以下為佳。
能量硬化性成分含有能量硬化性聚合物時，其含量，於能量硬化性材料中，以0.5~60質量%為佳。藉由能量硬化性材料以此範圍含有能量硬化性聚合物，可將能量硬化性材料，作為對溫度等之各種外因之變動以具有相對的一定黏度之溶液操作。
作為硬化能量硬化性層11之能量使用紫外線時，能量硬化性材料，含有光聚合起始劑為佳，藉由使用該光聚合起始劑，可使聚合硬化時間及光線照射量少。
作為光聚合起始劑，具體而言，可舉二苯甲酮、乙醯苯、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丁醚、安息香苯甲酸、安息香安息香酸、安息香安息香酸甲酯、安息香二甲縮酮、2,4－二乙基噻噸酮、1－羥基環己基苯基酮、苄基二苯基硫醚、一硫化四甲基秋蘭姆、偶氮二異丁腈、苄基、二苄基、二乙醯基、β－氯化蒽酉昆、(2,4,6－三甲基苄基苯基)氧化膦、2－苯併噻唑－N,N－二乙基二硫代氨基甲酸酯、寡聚{2－羥基－2－甲基－1－[4－(1－丙烯基)苯基]丙酮}、2,2－二甲氧基－1,2－二苯乙烷－1－酮等。該等可單獨使用，以可併用2種以上。該等之中，使用與照射能量硬化性層11之紫外線波長具有相同吸收區域之光聚合起始劑為佳。
光聚合起始劑，對能量硬化性單體及/或寡聚物(調合能量硬化性聚合物時，能量硬化性單體及/或能量硬化性寡聚物級能量硬化性聚合物之合計量100質量部)100質量部以0.1~10質量部、特別是以0.5~6質量部之範圍之量使用為佳。
另一方面，作為使能量硬化性層11硬化之能量使用熱時，能量硬化性材料，含有熱聚合起始劑為佳。作為熱聚合起始劑，具體而言，可舉過氧化苯等之過氧化物、2,2－偶氮二異丁腈等之偶氮化合物等。
熱聚合起始劑，對能量硬化性單體及及/或寡聚物(調合能量硬化性聚合物時，能量硬化性單體及/或能量硬化性寡聚物級能量硬化性聚合物之合計量100質量部)100質量部以0.1~10質量部、特別是以0.5~6質量部之範圍之量使用為佳。
能量硬化性材料，可含有能量非硬化性聚合物。作為能量非硬化性聚合物，使用例如，廉價而透明性優良的丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚酯、聚胺酯等熱可塑性樹脂為佳。
能量非硬化性聚合物之含量，於能量硬化性材料中以0.5~60質量%為佳。能量硬化性材料藉由以該範圍含有能量非硬化性聚合物，對溫度等各種外因的變動可維持相對較一定的黏度，可使能量硬化性材料之操作容易。
又，能量硬化性材料，於其組合中包含具有官能基之化合物時，亦可含有架橋劑。作為架橋劑，可使用例如異氰酸酯化合物、環氧化合物、胺化合物、密胺化合物、乙烯亞胺化合物、聯胺化合物、醛化合物、噁唑啉化合物、金屬烷氧化合物、金屬螯合化合物、金屬鹽、銨鹽、反應性酚樹脂等。
架橋劑之含量，對具有聚合性官能基之化合物之合計量100質量部，以0.01~30質量部為佳，特別是以0.1~10質量部為佳。
又，能量硬化性材料，亦可含有無機充填劑。作為無機充填劑，可舉二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧化鈣、氧化銻、氧化錫、氧化鍺、氧化鈰等。
無機充填劑之平均粒徑，通常為0.001~200 μm。又，使用無機充填劑時，其含量，於能量硬化性材料中，以0.1~40質量%為佳。
再者，能量硬化性材料，為提升對光記錄媒體層之能量硬化性層11之接著力，亦可含有接著性提升劑。作為接著劑提升劑，使用例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、依康酸、2－丙烯醯氧乙基琥珀酸等具有羧基之單體為佳。
接著性提升劑之含量，於能量硬化性材料之中，以0.001~10質量%為佳，特別是以0.005~1質量%為佳。
再者，能量硬化性材料，可含有各種添加劑。作為添加劑，例如，為提升能量硬化性層11之表面平滑性之平滑劑之外，可使用氧化防止劑、紫外線吸收劑、染料、可塑劑、增黏劑、矽偶合劑、帶電防止劑、黏著賦予劑等。該等添加劑之調合量並無特別限定，可於能量硬化性材料之中，以0~30質量%程度的範圍適宜決定。
能量硬化性層11之厚度，可考慮能量硬化性層11之使用目的適宜決定，一般而言，以0.5~600 μm為佳，特別是以3~150 μm為佳，進一步以15~120 μm為佳。
能量硬化性層11之1m2 中的膜厚精度，以目標膜厚之±10%以下為佳，特別是以±5%為佳。超過±10%，則雷射的焦點會偏離，而有無法正常地讀取信號之虞。再者，在使能量硬化性層11全體完全硬化之後，亦充分維持上述膜厚精度。
能量硬化性層11之完全硬化厚之位相差，以20nm以下為佳，特別是以15nm以下為佳。能量硬化性層11之位相差超過20nm，則有降低所得光記錄媒體之信號特性之虞。
能量硬化性層11之完全硬化後之穿透性，405nm分光穿透率以80%以上為佳，以85%以上特別佳。405nm分光穿透率未滿80%，則有降低所得光記錄媒體之信號特性之虞。
作為基材12、12’，可使用先前習知者，可使用例如，聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯等之樹脂，或將該等樹脂膜以矽膠系剝離劑、長鏈烷系剝離劑、醇酸樹脂系剝離劑等剝離處理之剝離膜。與能量硬化性層11之第1面接觸之側之基材12，由於第1面之黏著力低，無須特別的剝離處理，而與能量硬化性層11之第2面接觸之側之基材12’，由於第2面之接著力相對較強，以剝離處理者為佳。
作為基材12、12’，兩者均使用剝離處理之剝離膜時，先由能量硬化性層11剝離之側之基材12’以輕剝離型之剝離膜，於後剝離之方之基材12以重剝離型之剝離膜為佳。
再者，有透過基材12或基材12’作為能量照射紫外線時，該基材12或基材12’需要由透明的材料構成。
基材12、12’，為對能量硬化性層11賦予平滑性，與能量硬化性層11接觸之側之表面粗糙度(Ra)為0.1 μm以下，特別是以0.05 μm以下為佳。基材12、12’之表面粗糙度(Ra)超過0.1 μm，則能量硬化性層11之表面粗糙度變大，有降低所得光記錄媒體之信號特性之虞。基材12、12’之厚度，通常為10~200 μm左右，以20~100 μm左右為佳。
[光記錄媒體製造用板片之製造方法]
其次，說明關於上述實施形態之光記錄媒體製造用板片1之製造方法。圖2係表示上述光記錄媒體製造用板片1之製造方法之圖。
製造光記錄媒體製造用板片1時，首先，如圖2(a)~(b)所示，於基材12之表面上，塗佈包含能量硬化性材料之塗佈劑，得到塗佈膜11b。包含能量硬化性材料之塗佈劑，可僅包含能量硬化性材料，亦可根據所期望進一步包含溶劑。
作為溶劑，只要是用於塗佈劑或其添加劑之黏度調整用之醋酸乙酯或丙酮等，可溶解寡聚物或單體者，並無特別限定。再者，於塗佈劑添加溶劑時，形成塗佈膜11p再進行適宜干要，由塗佈膜11p去除溶劑即可。
作為上述塗佈劑之塗佈方法，使用可形成均勻的塗膜之刮刀塗佈機、刀輥式塗佈機、吻合式塗佈機、逆轉輥式塗佈機、模具式塗佈機等塗佈機為佳。根據該等塗佈方法，可形成膜厚精度高的能量硬化性層11。
其次，如圖2(c)所示，對所得塗佈膜11p施加能量，使塗佈膜11p與基材12接觸之面(第1面)之黏著力及塗佈膜11p之露出面(第2面)之黏著力成上述之值地，使能量硬化性材料硬化或半硬化，形成能量硬化性層11。
此時，塗佈膜11p之露出面(第2面)係置於氧存在下者。於氧存在下，由於會阻礙能量硬化性成分藉由能量施加之硬化反應，故難以進行能量硬化性成分硬化。因此，於與基材12接觸，而不與氧接觸之塗佈膜11p之第1面，硬化進行而黏著力變低，此外露出之塗佈膜11p之第2面，則難以進行硬化，可保持相對較高的黏著力，可得如上所述依照面黏著力不同的能量硬化性層11。
作為能量之施加方法，雖有能量線之照射或加熱，最好是照射容易控制硬化程度之能量線。作為能量線，通常使用紫外線、電子線等。能量線之照射量，只要是可使能量硬化性層11之第1面及第2面顯示如上所樹脂黏著力地使能量硬化性材料硬化或半硬化，並無特別限定，例如以紫外線之情形，以光量以1~150mJ/cm2 為佳，特別是以5~100mJ/cm2 為佳。
如此地，藉由在於能量硬化性層11之各面設氧濃度差，並且控制施加之能量量，可使單一組成之層之兩面成目的之硬化狀態。
最後，根據所期望，如圖2(d)所示，於能量硬化性層11之露出面(第2面)層積基材12’。可藉由層積該基材12’，保護能量硬化性層11之黏著力相對較大的第2面。
[光記錄媒體之製造方法]
其次，說明關於使用上述光記錄媒體製造用板片1之光記錄媒體D(單面1層式)之製造方法之一例。圖3(a)~(f)，係表示使用上述光記錄媒體製造用板片1之光記錄媒體D之製造方法之一例之圖。
再者，光記錄媒體製造用板片1，事先進行衝鍛加工，形成光記錄媒體D之形狀。衝鍛加工只要根據常法進行即可，例如可使用衝鍛裝置等進行。由於光記錄媒體製造用板片1之能量硬化性層11有硬化或半硬化，故在於該衝鍛加工，不會有能量硬化性層11之溢出或變形之虞，可維持高的良率。
首先，如圖3(a)所示，製造具有由岸及溝所構成之凹凸圖案之光記錄媒體基板2。該光記錄媒體基板2，通常係由聚碳酸酯所構成，可藉由射出成形等成形法成形。
於上述光記錄媒體基板2之凹凸圖案上，形成圖3(b)所示，記錄層3。該記錄層3，通常係由無機系材料所構成之膜或藉由該當膜之層積體所構成，例如，由下依序為反射膜、介電體膜、相變化膜及介電體膜所構成之層積體所構成。該等膜，可藉由濺鍍等手段形成。
其次，如圖3(c)所示，由光記錄媒體製造用板片1之能量硬化性層11之第2面剝離去除基材12’使能量硬化性層11之第2面露出，將能量硬化性層11壓接於光記錄媒體基板2上之記錄層3表面。作為可用於如此之壓接之裝置，可舉例如，日本特開2003－151181所揭示之光碟黏貼裝置。
此時，能量硬化性層11之第2面，由於具有既定的黏著力，可將能量硬化性層11黏貼於記錄層3。
如圖3(d)所示，由能量硬化性層11剝離去除基材12使能量硬化性層11之第1面露出，即如圖3(e)所示，於該能量硬化性層11之第1面上，塗佈能量硬化性之硬塗層，得到塗佈膜4p。
此時，能量硬化性層11之第1面，由於硬化為相對較高的程度，而具有不會阻礙硬塗層劑之塗佈操作之黏著性，故即使直接塗佈硬塗層劑，仍可以均勻的膜厚形成塗佈膜4p。
最後，如圖3(f)所示，對能量硬化性層11及塗佈膜4p施加能量，使能量硬化性層11全體本硬化成保護層，並且使塗佈膜4p硬化成硬塗層層4。藉此，得到光記錄媒體D。再者，在此所謂「本硬化」，係指將光記錄媒體製造用板片1黏貼於光記錄媒體基板2之後，使能量硬化性層11的接著狀態安定化而進行者，只要可得作為光記錄媒體D之安定的性能，本硬化可並不是完全硬化之狀態。
作為本硬化之能量施加方法，有能量線之照射或加熱，最好是步驟時間短，不受熱等影響之能量線照射。作為能量線照射，通常使用紫外線、電子線等。能量線之照射量，只要可使能量硬化性層11全體本硬化，且可使塗佈膜4p硬化，並無特別限定，例如以紫外線之情形，以光量以100~10,000mJ/cm2 為佳，特別是以500~2,000mJ/cm2 為佳。
如上所述，只要使用本光記錄媒體製造用板片1，可使能量硬化性層11及硬塗層4以1次能量施加同時使之硬化，故可以少的步驟數有效地製造具有硬塗層層之光記錄媒體D。
如以上地，藉由使用光記錄媒體製造用板片1製造光記錄媒體D，無需使用高價的膜基材作為保護層，可廉價地形成保護層。又，由於無需另外設接著層，故可簡便地形成保護層，並且不會有保護層與接著層之間之層間剝離或層間反射光之散射等問題。
再者，於上述光記錄媒體製造方法，使用光記錄媒體製造用板片1製造單面1層式的光記錄媒體，惟並非限定於此，例如，亦可使用上述光記錄媒體製造用板片1製造單面雙層式的光記錄媒體。又，亦可取代硬塗層4，形成具有既定目的之能量硬化性之其他的層。
以上所說明之實施形態，係為容易理解本發明而記載者，並非限定本發明而記載者。因此，揭示於上述實施形態之各要素，其趣旨包含所有屬於本發明之技術範圍之設計變更或均等物。
例如，亦可沒有在於光記錄媒體製造用板片1之基材12’。
[實施例]
以下，以實施例等更具體地說明本發明，惟本發明之範圍並非限定於該等實施例者。
[實施例1]
混合作為能量硬化性寡聚物之丙烯酸胺酯(新中村化學工業公司製，UA6100，質量平均分子量(理論值)：約2300，固形分濃度100質量%，二官能)65質量部；作為能量硬化性單體之丙烯酸異冰片酯(共榮社化學公司製，LIGHT－CRYLATE IB－XA，固形分濃度100質量%)35質量部；及作為光聚合起始劑之1－羥基環己基苯基酮(CIBA SPECIALITYCHEMICALS公司製，IRGACURE 184，固形分濃度100質量%)3質量部。
將所得能量硬化性材料，於聚對苯二甲酸乙二醇酯製之透明的基材(TORAY(股)製，LUMIRROR T60，厚度：50 μm，表面粗糙度(Ra)：0.001 μm；以下稱為「PET基材」。)上，使用刮刀塗佈機塗佈能量硬化性層(本硬化前)成膜厚(目標膜厚)100 μm。再者，基材的表面粗糙度(Ra)，係使用表面粗糙度測定機(MITSUTOYO公司製，SV－3100)測定。
然後，對於上述塗佈膜(露出面曝露在空氣下)，使用紫外線照射裝置(FUSION UV SYSTEMS．JAPAN公司製，H燈泡光源)由上述塗佈膜側照射照度150mW/cm2 、光量40mJ/cm2 之紫外線，形成能量硬化性層。該能量硬化性層之實際膜厚為95 μm。將如此所得之層積體作為光記錄媒體製造用板片。再者，光量，係使用光量計(EYEGRAPHICS公司製，UV METER UVPF－36)測定。
[實施例2]
混合作為能量硬化性寡聚物之丙烯酸胺酯(日本合成化學公司製，UV－3210EA，質量平均分子量(理論值)：約5000，固形分濃度70質量%，醋酸乙酯稀釋品，二官能)97質量部；作為能量硬化性單體之丙烯酸苯氧基乙酯(東京化成工業公司製，固形分濃度100質量%)3質量部；及作為光聚合起始劑之1－羥基環己基苯基酮(CIBA SPECIALITYCHEMICALS公司製，IRGACURE 184，固形分濃度100質量%)3質量部。
使用所得能量硬化性材料，並且於基板上塗佈能量硬化性材料後，加上100℃、2分鐘的乾燥步驟以外，以與實施例1同樣地製作光記錄媒體製造用板片。再者，能量硬化性層之實際膜厚為92 μm。
[實施例3]
混合作為能量硬化性寡聚物之丙烯酸胺酯(根上工業公司製，UV－9000H，質量平均分子量(實測值)：約5000，固形分濃度100質量%，二官能)62質量部；作為能量硬化性單體之丙烯酸異冰片酯(共榮社化學公司製，LIGHT－CRYLATE IB－XA，固形分濃度100質量%)38質量部；及作為光聚合起始劑之1－羥基環己基苯基酮(CIBA SPECIALITYCHEMICALS公司製，IRGACURE 184，固形分濃度100質量%)3質量部。
使用所得能量硬化性材料，以與實施例1同樣地製作光記錄媒體製造用板片。再者，能量硬化性層之實際膜厚為98 μm。
[實施例4]
混合作為能量硬化性寡聚物之丙烯酸胺酯(根上工業公司製，UV－9000PEP，質量平均分子量(實測值)：約5000，固形分濃度100質量%，二官能)54質量部；作為能量硬化性單體之丙烯酸異冰片酯(共榮社化學公司製，LIGHT－CRYLATE IB－XA，固形分濃度100質量%)46質量部；及作為光聚合起始劑之1－羥基環己基苯基酮(CIBA SPECIALITYCHEMICALS公司製，IRGACURE 184，固形分濃度100質量%)3質量部。
使用所得能量硬化性材料，以與實施例1同樣地製作光記錄媒體製造用板片。再者，能量硬化性層之實際膜厚為98 μm。
[實施例5]
混合作為能量硬化性寡聚物之丙烯酸胺酯(日本合成化學公司製，UV6020EA，質量平均分子量(理論值)：約800，固形分濃度70質量%，醋酸乙酯稀釋品，二官能)73質量部；作為能量硬化性單體之丙烯酸異冰片酯(共榮社化學公司製，LIGHT－CRYLATE IB－XA，固形分濃度100質量%)49質量部；及作為光聚合起始劑之1－羥基環己基苯基酮(CIBA SPECIALITYCHEMICALS公司製，IRGACURE 184，固形分濃度100質量%)3質量部。
用所得能量硬化性材料，並且於基板上塗佈能量硬化性材料後，加上100。C、2分鐘的乾燥步驟以外，以與實施例1同樣地製作光記錄媒體製造用板片。再者，能量硬化性層之實際膜厚為95 μm。
[比較例1]
將於實施例2所得之能量硬化性材料，與實施例1同樣地塗佈於PET基材上。然後，對該塗佈膜以紫外線照射裝置(FUSION UV SYSTEMS．JAPAN公司製，H燈泡光源)由上述塗佈膜側照射照度1000mW/cm2 、光量1000mJ/cm2 之紫外線，形成能量硬化性層。該能量硬化性層之實際膜厚為92 μm。將如此所得之層積體作為光記錄媒體製造用板片。
[比較例2]
混合作為能量硬化性寡聚物之丙烯酸胺酯(根上工業公司製，UV－9000H，質量平均分子量(實測值)：約5000，固形分濃度100質量%，二官能)38質量部；作為能量硬化性單體之丙烯酸異冰片酯(共榮社化學公司製，LIGHT－CRYLATE IB－XA，固形分濃度100質量%)62質量部；及作為光聚合起始劑之1－羥基環己基苯基酮(CIBA SPECIALITYCHEMICALS公司製，IRGACURE 184，固形分濃度100質量%)3質量部。
使用所得能量硬化性材料，以與實施例1同樣地製作光記錄媒體製造用板片。再者，能量硬化性層之實際膜厚為98 μm。
[試驗例]
(1)雙鍵鍵結消失比例之測定關於實施例及比較例所得之光記錄媒體製造用板片，以使用傅立葉轉換紅外線光譜分析裝置(Perkin Elmer公司製，Spectrum One)之鑽石ATR法，以能量硬化性層與PET基材接觸之面(第1面)及露出面(第2面)之表層部分之810cm－1 附近之吸收峰的減少比例，判斷在於各面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例。以未照射能量線之能量硬化性成分之該當吸收峰面積為100%，以紫外線照射裝置(使用EYEGRAPHICS公司製，ECS－401GX，高壓水銀燈H04－L41)照射照度1000mW/cm2 、光量1000mJ/cm2 之紫外線之能量硬化性層之吸收峰面積為0%換算之。在此，假設吸收峰之面積與雙鍵鍵結之數目為正比關係。結果示於表1。
(2)黏著力之測定以實施例及比較例所得之光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層之第1面/第2面壓接於SUS304鋼板，遵照JIS Z0237測定180°拉剝黏著力測定。又，將被著體以聚碳酸酯板(三菱工程塑膠公司製，IUPILON NF－2000UV，2mm×70mm×150mm)取代SUS304鋼板，同樣地測定黏著力。結果示於表1。
(3)接著力之測定將實施例及比較例所得之光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層之第1面/第2面壓接於SUS304鋼板。對該層積體之能量硬化性層，以紫外線照射裝置(FUSION UV SYSTEMS．JAPAN公司製，H燈泡光源)照射照度1000mW/cm2 、光量1000mJ/cm2 之紫外線，使能量硬化性層完全硬化。
關於所得硬化層之第1面/第2面，遵照JIS Z0237測定180°拉剝黏著力測定。又，將被著體以聚碳酸酯板(三菱工程塑膠公司製，IUPILON NF－2000UV，2mm×70mm×150mm)取代SUS304鋼板，同樣地測定接著力。結果示於表1。
(4)皺摺感之確認將實施例及比較例所得之光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層之第1面/第2面分別以手指觸摸，確認有無皺摺感。結果示於表1。
(5)確認可否黏貼使用日本特開2003－151181所揭示之光碟黏貼裝置，將實施例及比較例所得之光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層之第2面壓接於碟片形狀之聚碳酸酯板，確認是否可黏貼。結果示於表1。
(6)位相差之測定對實施例及比較例所得之光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層，以紫外線照射裝置(FUSION UV SYSTEMS．JAPAN公司製，H燈泡光源)照射照度1000mW/cm2 、光量1000mJ/cm2 之紫外線，剝離PET基材後，使用位相差測定裝置(王子計測器公司製，KOBRA－WR)測定。結果示於表1。
(7)測定405nm之分光穿透率對實施例及比較例所得之光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層，以紫外線照射裝置(FUSION UV SYSTEMS．JAPAN公司製，H燈泡光源)照射照度1000mW/cm2 、光量1000mJ/cm2 之紫外線，剝離PET基材後，以分光光度計(島津製作所公司製，UV－3100PC)測定405nm之分光穿透率。結果示於表1。
由表1，可知藉由使實施例1製作之光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層之黏著力及接著力為本發明所規定之範圍，即使第1面係不妨礙下一步驟之適度的表面狀態，第2面對光記錄媒體之基板材料之聚碳酸酯具有充分的接著力。又，光記錄媒體製造用板片之能量硬化性層，作為光記錄媒體之保護層具有良好的位相差及穿透性。即，各光記錄媒體製造用板片，顯示對光記錄媒體之製造方法亦適於作為構成材料。
再者，關於實施例所製作之光記錄媒體製造用板片，如試驗例(3)所示，黏貼於SUS304鋼板及聚碳酸酯板，照射能量線使能量硬化性層完全硬化後，測定能量硬化性層之接著力。SUS304鋼板及聚碳酸酯板係模擬光記錄媒體之構成材料，該試驗，可當作使用光記錄媒體製造用板片製造之光記錄媒體之模擬性試驗。
[產業上的可利性]
本發明，有用於以廉價，簡便效率佳，且以良好的良率生產光記錄媒體。
1．．．光季例媒體製造用板片
11．．．能量硬化性層
12、12’．．．基材
2．．．光記錄媒體基板
3．．．記錄層
4．．．硬塗層(能量硬化性之其他層)
圖1係關於本發明之一實施形態之光記錄媒體製造用板片之剖面圖。
圖2(a)~(d)係表示關於同實施形態之光記錄媒體製造用板片之製造方法之圖。
圖3(a)~(f)係表示使用關於同實施形態之光記錄媒體製造用板片之光記錄媒體製造方法之一例之圖。
1．．．光季例媒體製造用板片
11．．．能量硬化性層
12、12’．．．基材

Claims (18)

  1. 一種光記錄媒體製造用板片，包括能量硬化性層者，其特徵在於：上述能量硬化性層之第1面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力未滿10mN/25mm，上述能量硬化性層之第2面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力成100mN/25mm以上。
  2. 一種光記錄媒體造用板片，包括能量硬化性層者，其特徵在於：上述能量硬化性層之第1面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力未滿10mN/25mm，將上述能量硬化性層之第2面黏貼於SUS304鋼板或聚碳酸酯板之任一使上述能量硬化性層完全硬化後，上述第2面對上述SUS304鋼板或聚碳酸鋼板之黏著力為100N/25mm以上。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的光記錄媒體製造用板片，其中上述能量硬化性層以單一之層構成。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述的光記錄媒體製造用板片，其中上述能量硬化性層，係以藉由能量線的照射硬化為硬化或者半硬化之層。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述的光記錄媒體製造用板片，其中上述能量硬化性層，係具有聚合性之雙鍵鍵結之能量硬化性成分為主成分之材料藉由能量線的施加而硬化或半硬化者， 在於上述能量硬化性層之上述第1面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例為60%以上，且在於上述第2面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例多於15%以上。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述的光記錄媒體製造用板片，其中上述能量硬化性層，係以能量硬化性單體或/及寡聚物為主成分之材料硬化或半硬化者。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的光記錄媒體製造用板片，其中在於上述材料中之能量硬化性單體之含量為50質量%以下，能量硬化性寡聚物之含量為50質量%以上。
  8. 一種光記錄媒體製造用板片之製造方法，其特徵在於：將包含以能量硬化性成分作為主成分之材料之塗佈劑，塗佈於基材，將與所得塗佈膜與上述基材接觸之第1面相反側之第2面置於氧存在下，對上述塗佈膜施加能量，使上述塗佈膜之第1面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力未滿10mN/25mm，上述第2面對SUS304鋼板或聚碳酸酯板之黏著力成100mN/25mm以上地，使上述塗佈膜硬化或半硬化，以此形成能量硬化性層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用板片之製造方法，其中可將上述形成之能量硬化性層之上述第2面黏貼於別的基材。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用 板片之製造方法，其中上述能量硬化性成分具有聚合性之雙鍵鍵結，藉由上述能量的施加，可使在於上述塗佈膜之上述第1面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之60%以上，且在於上述第2面之能量硬化性成分之雙鍵鍵結之消失比例多於15%以上。
  11. 如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用板片之製造方法，其中上述材料，以能量硬化性單體或/及寡聚物為主成分。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的光記錄媒體製造用板片之製造方法，其中在於上述材料中之能量硬化性單體之含量為50質量%以下，能量硬化性寡聚物之含量為50質量%以上。
  13. 如申請專利範圍第8項所述的光記錄媒體製造用板片之製造方法，其中作為形成上述能量硬化性層而施加之能量，使用能量線。
  14. 一種光記錄媒體之製造方法，其特徵在於：以露出申請專利範圍第1或2項所述的光記錄媒體製造用板片之上述能量硬化性層之上述第2面之狀態，將上述能量硬化性層之上述第2面黏貼於光記錄媒體之記錄層，藉由對於上述能量硬化性層施加能量使上述能量硬化性層硬化，形成保護層。
  15. 如申請專利範圍第14項所述的光記錄媒體之製造方法，其中對上述能量硬化性層施加能量之前，對上述能 量硬化性層之上述第1面，形成能量硬化性之其他層之塗佈膜。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的光記錄媒體之製造方法，其中上述能量硬化性之其他層為硬塗層。
  17. 如申請專利範圍第14項所述的光記錄媒體之製造方法，其中作為形成上述保護膜而施加之能量，使用能量線。
  18. 一種光記錄媒體，其特徵在於：使用申請專利範圍第1或2項所述的光記錄媒體製造用板片。
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