JP4193916B2 - 光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物および光ディスク - Google Patents

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Description

本発明は、ＤＶＤやＨＤ−ＤＶＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃなどの光ディスクの凹凸パターンが形成される中間層として使用される紫外線硬化型組成物に関する。
近年、ＤＶＤ、ＨＤ−ＤＶＤやＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃなどの光ディスクの大容量化の要求にともない、複数の情報記録層を有する多層構造の光ディスクが広く用いられている。多層の光ディスクは、複数の情報記録層が中間層を介して積層された構造を有するのが一般的である。具体的には、基板上に第１の情報記録層を有し、この上に中間層が形成され、当該中間層の第１の情報記録層とは反対の表面に凹凸パターンを有し、さらにこの上に第２の情報記録層が積層され、第２の情報記録層には中間層の凹凸パターンが転写されている。中間層の凹凸パターンの形成には、通常、樹脂層である中間層をスタンパによって押圧する２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法により形成される（特許文献１参照）。
この２Ｐ法においてはスタンパから中間層を剥離する工程が含まれる。この時スタンパと中間層との剥離性が悪いと、中間層の一部がスタンパ上に残り欠陥となり次のディスクに欠陥が転写される。このため、スタンパに樹脂を用いる場合は、ポリオレフィンなどの中間層として使用される各種の紫外線硬化樹脂との剥離性が良好な樹脂などが広く使用されている（特許文献２、３参照）。このようなポリオレフィン系のスタンパは、各種の紫外線硬化樹脂に対して良好な剥離性を有するが材料費が高いため、安価なポリカーボネートなどの樹脂スタンパへの転換が望まれている。また樹脂スタンパを再利用するためには、表面に付着した紫外線硬化樹脂を洗浄する必要があり、十分に剥離性を有する紫外線硬化樹脂が望まれていた。
従来の光ディスクに使用されている紫外線硬化樹脂としては、例えば特許文献４に記載の通りＴｇが９０℃以上の樹脂を中間層とした光ディスクが開示されている。一般に、Ｔｇが高い硬化膜は弾性率も高い値を示すため、２Ｐ法を適用するためにはこの様に弾性率が高い硬化膜を用いる必要がある。
しかしながら、これら従来の樹脂組成物は弾性率が高い硬化膜を得るために多官能アクリレートを多用しているため、ＵＶ硬化時に発生する硬化収縮によって光ディスク基板に反りが生じるといった問題があった。
特開平０９−１６１３２９号公報 特開２００３−０８５８３９号公報 特開２００５−１６６２４１号公報 特開２００５−１２９１９９号公報
本発明の課題は、スタンパとしてポリカーボネートなどの安価な汎用樹脂を使用した場合であっても剥離性が良好で、凹凸パターン形状の変形や欠落、あるいはディスクの割れが生じにくく、それと同時に、硬化時の反りが小さい光ディスク用紫外線硬化型組成物、特に多層構造の光ディスクの中間層として有用な紫外線硬化型組成物を提供することである。更には、当該紫外線硬化型組成物からなる硬化被膜を中間層として有する光ディスクを提供することである。
本発明の紫外線硬化型組成物は、硬化膜に柔軟性を付与するウレタン（メタ）アクリレート、硬化膜中の架橋密度を高める四官能以上の（メタ）アクリレート、架橋構造を調整する単官能（メタ）アクリレートとを特定量含有し、２５℃におけるＢ型粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下の組成物である。このような構成の組成物により得られる硬化被膜は、四官能以上の（メタ）アクリレートにより多くの架橋点を有し、架橋点間の一部にウレタン（メタ）アクリレートの柔軟な骨格を有する。よって強固かつ柔軟な硬化膜を形成できるために、汎用樹脂との接着性を低く抑えることが可能となり、さらに光ディスクの中間層として好適な特性を有する。これに加えて、単官能の脂環式構造を有する（メタ）アクリレートは、脂環式構造により硬化膜表面が汎用樹脂と容易に剥離でき、（メタ）アクリレート部位が１つのため架橋密度の増加を抑えることで硬化時の硬化収縮を抑えることができる。このため、得られる硬化膜は汎用樹脂製のスタンパと好適に剥離可能であり、ＵＶ硬化時に発生する硬化収縮も小さいため光ディスク中間層に好適に適用できる。そのためスタンパの剥離時にも、ディスクの割れ、凹凸パターンの変形や欠落が生じにくくなる。
すなわち本発明は、ラジカル重合性不飽和結合を三以上有するウレタン（メタ）アクリレート（ａ）と、ウレタン（メタ）アクリレート（ａ）以外のラジカル重合性不飽和結合を四以上有する（メタ）アクリレート（ｂ）と、単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）とを含有し、２５℃におけるＢ型粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下である光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を提供する。
本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物は、ポリカーボネートに対して良好な剥離性を有する硬化物を与えることができるため、スタンパとして高価なオレフィン系樹脂を使用しなくとも、良好に凹凸パターンを形成することができるため、光ディスクのプリピットやグルーブを形成する中間層に好適に使用できる。
また、本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物は、含有するウレタン（メタ）アクリレートにより硬化膜に適度な柔軟性を付与できることから、硬化時の硬化膜の反りや、外部環境変化に伴う硬化膜の変形を低減できる。このため当該組成物を光ディスクの中間層として使用することで、初期特性が良好であり、かつ特性劣化の少ない光ディスクを実現できる。
本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物は、ラジカル重合性不飽和結合を三以上有するウレタン（メタ）アクリレート（ａ）（以下、三官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）と略記する。）と、前記のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）以外のラジカル重合性不飽和結合を四以上有する（メタ）アクリレート（ｂ）（以下、四官能以上の（メタ）アクリレート（ｂ）と略記する。）と、単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）を含有し、２５℃におけるＢ型粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下の組成物である。なお、本明細書中で（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートをいう。また、中間層とは、光ディスクの表層以外の部分に設けられる光透過層などの表裏に他の層を有する層をいう。
［三官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）］
本発明に使用する三官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）は、ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物および水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる三官能以上のウレタン（メタ）アクリレートを使用できる。当該三官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）によれば、硬化膜の架橋点数や架橋点間距離、架橋構造を好適に制御でき、硬化膜に適度な柔軟性を付与することにより、ポリカーボネートに対して優れた剥離性を有し、かつ反り等の形状変化の少ない硬化膜を形成できる。
三官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）に使用するポリオール化合物としては、例えば、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール、アルコール変性したグリセリン化合物などが使用でき、なかでも、プロピレングリコールで変性したグリセリン化合物を好適に使用できる。
三官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）のウレタン結合は、前述のポリオール化合物とポリイソシアネート化合物との反応によって得られるが、ポリイソシアネート化合物としては、イソシアヌレート化させた形のポリイソシアネートを用いても良い。
また、イソシアヌレート化させた形のポリイソシアネートとイソシアネート化合物とを併用してもよく、このようなイソシアネート化合物を例示すると、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートもしくはイソホロンジイソシアネートなど各種の脂環式ジイソシアネート化合物；またはトリレンジイソシアネートなど各種の芳香族ジイソシアネート化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートもしくはリジンジイソシアネートなど各種の脂肪族ジイソシアネート化合物；水添キシリレンジイソシアネートもしくは水添ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネートなど各種の化合物が挙げられる。なかでも、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートを好適に使用できる。
水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。また、ポリオール化合物の水酸基の一部をアクリル化した（メタ）アクリレートも使用でき、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートまたはグリシジルメタクリレート−（メタ）アクリル酸付加物なども使用でき、さらに各種の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物と、ε−カプロラクトンとの開環反応物なども好適に使用できる。特に２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。
本発明で使用するウレタン（メタ）アクリレートのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した数平均分子量（Ｍｎ）としては、１５０００以下であることが好ましく、５００〜１００００であることがより好ましい。分子量が高いと高粘度となり取り扱いが困難となる。一方、分子量が低いと架橋点間距離が短くなるため硬化収縮が大きくなる。なお、ＧＰＣは東ソー（株）社製 ＨＬＣ−８０２０を用い、カラムはＧＭＨｘｌ−ＧＭＨｘｌ−Ｇ２００Ｈｘｌ−Ｇ１０００Ｈｘｌｗを使用し、溶媒はＴＨＦを用い、１．０ｍｌ／ｍｉｎの流量でカラム温度が４０℃、検出器温度が３０℃、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行うものとする。
［四官能以上の（メタ）アクリレート（ｂ）］
本発明の紫外線硬化型組成物においては、四官能以上の（メタ）アクリレート（ｂ）を含有することにより、硬化物の弾性率を向上させることができる。
四官能以上の（メタ）アクリレート（ｂ）としては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートが、硬化後に高い弾性率を与えることができるので好ましい。なかでも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート又はジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの少なくとも一種を使用することがより好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを特に好ましく使用できる。
［単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）］
本発明に使用する単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）は、剛直な環構造を有することにより、四官能以上の（メタ）アクリレートと共に高温での高い弾性率と高いガラス転移温度を与える。また、非極性な構造を選択して使用することによりポリカーボネート等の樹脂に対する接着性を低下させることができる。
単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）としては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等がある。
中でも、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが好ましい。特にイソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレートが特に好ましく、その中でもイソボルニルアクリレートは硬化膜を更に剛直にすると共に、硬化物のポリカーボネート剥離性に極めて優れるため、最も好ましい。
［その他のラジカル重合性化合物］
本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物には、粘度や弾性率等を好適に調整するため、上記のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）や四官能以上の（メタ）アクリレート（ｂ）、あるいは、単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）以外のラジカル重合性化合物を含有していてもよい。
本発明においては、ラジカル重合性不飽和結合を三個有する三官能の（メタ）アクリレート（ｄ）を併用することも好ましい。三官能の（メタ）アクリレート（ｄ）としては、例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリ（メタ）アクリレートが、硬化後に高い弾性率を与えることができるので好ましい。なかでも、トリメチロールプロパントリアクリレートを好ましく使用できる。
また、本発明においては、紫外線硬化型化合物成分として、上記以外の単官能、二官能（メタ）アクリレートを含有してもよく、単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
脂環式の二官能（メタ）アクリレートとしては、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
更に、オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等も三官能以上のウレタン（メタ）アクリレートと併用しても良い。
［紫外線硬化型組成物］
本発明の紫外線硬化型組成物は、四官能以上の（メタ）アクリレート（ｂ）を含有することにより、架橋密度が高くなり剛直な硬化物を形成して、高い弾性率と、高いガラス転移温度を実現でき、情報を記録する際に変形を生じにくくなる。また、三官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）と、脂環式構造の（メタ）アクリレート（ｃ）とを含有することにより、適度な柔軟性を有する硬化膜を実現でき、汎用樹脂、特にポリカーボネートとの優れた剥離性を発現できると共に硬化時の反りを低減できる。これにより、ポリカーボネート基板に対する接着力が、３ｋｇ／ｃｍ２以下、好ましくは２ｋｇ／ｃｍ２以下、より好ましくは１．５ｋｇ／ｃｍ２以下という接着力の低い硬化物を実現できる。接着力が上記範囲であると、剥離の際にポリカーボネート基板や硬化膜にひび割れや欠損が生じにくく、好適に剥離できる。
本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物のポリカーボネートに対する接着力は、例えば、以下の試験により測定される。１．２ｍｍ厚のポリカーボネート板に紫外線硬化型組成物をコート、ＵＶ硬化させた後、ステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントに両面テープを貼り、その後硬化膜と接着させる。このアタッチメント周囲をカッターナイフで硬化膜をカットする。その後、イマダ（株）製電動式縦型電動スタンドＭＸ５００Ｎを用い、９０°方向にステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントを１２５ｍｍ／ｍｉｎの速度で引っ張り、接着力を測定する。
紫外線硬化性化合物中に含まれる紫外線硬化性化合物中のウレタン（メタ）アクリレート（ａ）の含有量は、１０〜４０質量％であることが好ましく、１５〜３５質量％であることがより好ましい。また、紫外線硬化性化合物中に含まれる紫外線硬化性化合物中の四官能以上の（メタ）アクリレート（ｂ）の含有量は５〜４０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることがさらに好ましい。紫外線硬化性化合物中に含まれる紫外線硬化性化合物中の単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）の含有量は、１０〜４０質量％であることが好ましく、１５〜３５質量％であることがより好ましい。また、紫外線硬化性化合物中に含まれる紫外線硬化性化合物中の三官能以上の（メタ）アクリレートの含有量は、４０〜８０質量％であることが好ましく、５０〜７０質量％であることがより好ましい。
各（メタ）アクリレートの含有量が上記範囲であると、非常に剛直な硬化膜が得られやすく、これにより汎用樹脂との剥離性の向上に寄与すると共に、高温でも極めて硬く、高いガラス転移温度が得られやすいため、記録の際の熱を受けたとしても、それによる変形を殆ど生じない。
本発明においては、紫外線硬化性化合物としてメタクリロイル基を有するメタクリレート化合物を使用しない組成物も好ましく使用できるが、紫外線硬化性化合物としてメタクリレートを使用した組成物も好ましく使用できる。メタクリレートを使用する場合には、紫外線硬化性化合物中に含まれる紫外線硬化性化合物中のメタクリレートの含有量が、５０質量％以下であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。
三官能の（メタ）アクリレートを含有する場合には、本発明の紫外線硬化型組成物における紫外線硬化性化合物中の５〜４０質量％含有することが好ましい。また、単官能や二官能の（メタ）アクリレートを含有する場合には、本発明の紫外線硬化型組成物における紫外線硬化性化合物中の５〜１５質量％含有することが好ましい。
（光重合開始剤）
本発明では光重合開始剤を必要に応じ使用することができる。光重合開始剤としては、特に制限されないが、分子開裂型または水素引き抜き型の光重合開始剤が好適である。本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。
（シリコン系添加剤）
また、本発明においては、シリコン系の添加剤を使用することにより、ポリカーボネート等の樹脂との剥離性を向上させることができる。当該シリコン系の添加剤としては、たとえば、エチレンオキサイド変性シリコンアクリレートなどのシリコン系アクリレートや、プロピレンオキサイド変性シリコンアクリレート、エチレンオキサイド変性シリコンオイルや、プロピレンオキサイド変性シリコンオイルなどの変性シリコンオイルが使用できる。
なかでも、エチレンオキサイド変性シリコンアクリレートや、プロピレンオキサイド変性シリコンアクリレート、エチレンオキサイド変性シリコンオイルや、プロピレンオキサイド変性シリコンオイル等が好ましく使用できる。
シリコン系アクリレートや、変性シリコンオイル等のシリコン系添加剤の含有量としては、紫外線硬化型組成物中の紫外線硬化性化合物１００質量部に対し０．０１〜２０質量部が好ましく、０．０１〜１０質量部がより好ましく、０．１〜１質量部が特に好ましい。
シリコン系アクリレートとしては、例えば、Ｔｅｇｏｒａｄ ２２００Ｎ、２５００Ｎ、２１００Ｎ（デグサジャパン株式会社製）等が好適であり、変性シリコンオイルとしては、例えば、側鎖変性型でも末端変性型でも良く、東レダウコーニング（株）社製Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｙ−７００６等を使用することができる。これらシリコン系添加剤はポリカーボネートに対する接着力を低下させる場合に特に効果的である。
（その他の添加剤）
また、本発明の組成物を構成する際の任意成分としては、次のようなものが有り、本発明の効果を損なわない範囲内で使用可能である。すなわち、光重合開始剤に対する増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等であり、さらには前述光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。また、本発明の紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。
（組成物の特性）
本発明の紫外線硬化型組成物は、２５℃でのＢ型粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５０〜１０００、より好ましくは５０〜５００Ｐａ・ｓとすることで、光ディスクの中間層、特に５〜７０μｍの厚さの中間層を好適に形成できる。
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化後の硬化被膜の２５℃における弾性率が、１０００〜４０００ＭＰａであることが好ましく、１０００〜３５００ＭＰａであることがより好ましく、２０００〜３５００ＭＰａであることが特に好ましい。弾性率を当該範囲とすることで、転写されたピット形状を熱や湿度の変化に対しても好適に保持できる。
［光ディスク］
次に本発明の光ディスクについて説明する。本発明の光ディスクは、基板上に少なくとも１層の光反射層を有する光ディスクであって、基板と光反射層との間、又は、隣り合う２層の反射層の間に、上記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる中間層を有し、この中間層表面に凹凸パターンを有する。ここで、凹凸パターンとは、ピット、グルーブ及びランドの少なくとも一つをいう。
本発明の光ディスクは、当該凹凸パターンを汎用樹脂であるポリカーボネート等をスタンパとして用いて生産することが可能である。記録メディアとして大量生産される光ディスクにおいて、このような安価なスタンパを使用できる本発明の光ディスクは、従来の光ディスクに比して、大きく製造コストの低減が可能である。
具体的な構成としては、（ｉ）凹凸パターンを有する第一基板上に、少なくとも第一の光反射層、光透過性の中間層、第二の光反射層とが順に積層され、中間層が本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、第二の光反射層側の中間層の第二の光反射層側表面に凹凸パターンを有し、最外層として第二の基板が設けられた構成、（ｉｉ）凹凸パターンを有する基板上に、少なくとも第一の光反射層、光透過性の中間層、第二の光反射層、光透過性のカバー層とが順に積層され、中間層が本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、中間層の第二の光反射層と積層される表面に凹凸パターンを有する構成などが例示できる。
これら光ディスクは、記録可能な構成とする場合には情報記録層が設けられていてもよく、情報記録層を有する際の具体的な構成としては、（ｉ’）第一基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過性の中間層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層され、中間層が本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、第二の情報記録層側の中間層の第二の光反射層側表面に凹凸パターンを有し、最外層として第二の基板が設けられた構成、（ｉｉ’）凹凸パターンを有する基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、光透過性の中間層、第二の光反射層、第二の情報記録層、光透過性のカバー層とが順に積層され、中間層が本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、中間層の第二の光反射層と積層される表面に凹凸パターンを有する構成などが例示できる。
これら光ディスクは、更に情報記録層や光反射層を積層して、３以上の情報記録部位を有する構成としてもよい。
上記構成（ｉ）の構成の例としては、２層ＤＶＤ、２層ＨＤ−ＤＶＤが挙げられ、この場合には厚みが３０〜６０μｍ程度の中間層を好適に使用できる。
また、上記構成（ｉｉ）の構成の例としては、Ｂｌｕ−Ｒａｙ Ｄｉｓｃが挙げられ、光透過性の層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましい。上記構成においては、光透過性の層として、光透過性の中間層とカバー層とが設けられているが、中間層の厚みは１０〜４０μｍ、カバー層の厚みは９０〜６０μｍが好ましい。光透過性の層の厚みは、その総和が５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過性の層の厚みは、通常、約１００μｍに設定される。厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。
本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物を中間層として使用する際には、当該硬化物の１００℃における弾性率が４００〜２５００ＭＰａであることが好ましく、１０００〜２０００ＭＰａであるとより好ましい。当該範囲の弾性率を有すると、情報を書き込む際に生じる熱に対する変形抑止効果に優れ、またポリカーボネートに対する剥離性にも優れる。
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。ブルーレーザーを使用する場合には、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層は、これら材料を用いてスパッタリング・蒸着等の方法で薄膜を形成することにより得ることができる。また、当該光反射層は、必要に応じ半透明の光反射層とすることができる。
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。
また、書込可能な光ディスクの場合には、情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。
有機色素型記録層に用いる有機色素としては、アゾ系色素以外に、記録に用いるレーザー光によってピットを形成することができるものであれば特に制限なく使用でき、例えば、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ホルマザン系、金属錯体色素系等が挙げられる。また、色素に一重項酸素クエンチャーを混合して用いるのもよい。クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等のアミン系のクエンチャーも好適である。各々の情報記録層に用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
本発明の光ディスクとしては、中間層として凹凸パターンを有する紫外線硬化型組成物の硬化物層を有する構成であればよく、追記型のＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ＋Ｒ、２層型のＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ＋Ｒ、書き換え可能型のＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等のＤＶＤ、あるいは、光ディスク基板の上に、紫外線硬化型組成物の硬化被膜を積層することにより光透過層を形成した光ディスク、例えば、情報読み書き用のレーザー光として青紫色レーザー光を用いた次世代タイプの光ディスク（商品名「Ｂｌｕ−ｒａｙ」、商品名「ＨＤ−ＤＶＤ」）等の製造においても使用することができる。
［光ディスクの製造方法］
本発明の光ディスクは、表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、光反射層を有する基板との間に、上記した本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過性の中間層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された中間層を形成する工程を有する製造方法により好適に製造される。
光反射層を有する基板は、光反射層が最表層であっても、光反射層に積層された情報記録層等の他の層が最表層であってもよい。当該工程により光反射層を有する基板上にグルーブやピットなどの凹凸パターンが形成された中間層を形成でき、これに更に光透過性の層や情報記録層を形成して多層の光ディスクを製造できる。最表層には凹凸パターンを有さない光透過層や、他の基板を積層する。
光ディスクが再生専用の場合には、表面に凹凸パターンを有する基板上に光反射層を積層し、次いで、当該光反射層と、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパとの間に、上記した本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる中間層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された中間層を形成する。これに、更に光反射層を形成した後、同様の中間層や最表層となる光透過層、あるいは基板等を積層してディスクを形成する。
記録・再生が可能な光ディスクとしては、例えば、下記（I）、（II）の製造方法により製造される。
（I）基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、中間層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１）基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを順に積層する工程と、
（２）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、上記本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる中間層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された中間層を形成する工程と、
（３）前記中間層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを順に積層する工程、
を有する方法。
（II）基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、中間層、第二の光反射層、第二の情報記録層、光透過層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１’）基板上に、第一の光反射層と第一の情報記録層とを順に積層する工程と、
（２’）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の情報記録層との間に、上記本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる中間層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された中間層を形成する工程と、
（３’）前記中間層上に、第二の光反射層、第二の情報記録層及び光透過層とを順に積層する工程、
を有する方法。
上記（I）、（II）の方法によれば、二層の情報記録層を有する光ディスクを形成できるが、更に、（２）、（３）あるいは（２’）、（３’）の工程と同様の工程を繰り返すことにより三層、四層の情報記録層を有する光ディスクを製造できる。また、（３）、（３’）の工程においては、光反射層、情報記録層及び光透過層を順に積層しても、これらが既に積層された積層体を一度に積層してもよい。
本発明の製造方法においては、スタンパとしてポリカーボネートを使用できるため、安価なコストで光ディスクの製造が可能である。また、他の汎用の樹脂性スタンパも使用でき、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂からなるスタンパを用いることもできる。
紫外線照射にあたっては、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。硬化物のゲル分率は７０％〜１００％が好ましく、更に好ましくは８５％〜１００％である。
（実施例１〜１４および比較例１〜７）
＜組成物および光ディスクサンプルの調製＞
下記表１〜４に示した配合組成（表中の組成の数値は質量部を表す）により、各組成材料を６０℃で３時間加熱・溶解して、各実施例および各比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。
次に、厚さ１．２ｍｍ、直径１２０ｍｍの光ディスク用ポリカーボネート基板上に実施例及び比較例の各組成物を膜厚が３０μｍになるように塗布し、紫外線照射を行い硬化膜とし、評価用の各光ディスク用サンプルを調製した。用いた紫外線ランプとしては、ウシオ電機（株）社製フラッシュランプＳＢＣ−１７（１４５０Ｖの電圧、１５ショット）と、アイグラフィックス社製メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ、積算光量０．５Ｊ／ｃｍ２）である。
＜剥離面観察、接着試験＞
ステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントに両面テープを貼り、その後、上記光ディスク用サンプルの硬化膜と接着させる。このアタッチメント周囲をカッターナイフで硬化膜をカットする。その後、イマダ（株）製電動式縦型電動スタンドＭＸ５００Ｎを用い、９０°方向にステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントを１２５ｍｍ／ｍｉｎの速度で引っ張り、剥離時の接着力を測定した。また、剥離後のポリカーボネート基板の状態を観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：ＰＣ基板との接着力が１．５ｋｇ／ｃｍ２以下
○：ＰＣ基板との接着力が３ｋｇ／ｃｍ２以下
×：ＰＣ基板との接着力が３ｋｇ／ｃｍ２を越える
＜弾性率測定＞
紫外線硬化型組成物をガラス板上に乾燥塗膜厚が１００μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で０．５Ｊ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率を、自動動的粘弾性測定機（Ｒｅｏｍｅｔｒｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｔｉｆｉｃ社製ＳＯＬＩＤ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＲＳＡ−ＩＩＩ）で測定し、１００℃での動的弾性率Ｅ‘を求めた。このＥ’を弾性率とした。
測定条件は以下のとおりである。
（１）サンプルサイズ： 幅６ｍｍ、長さ２０ｍｍ
（２）ひずみ： ０．１％
（３）周波数：３．５Ｈｚ
（４）昇温速度： ３℃／ｍｉｎ
＜光ディスクの作成方法＞
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を準備し、銀を主成分とする合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、該金属反射膜上に、表１の各紫外線硬化型組成物をスピンコーターで膜厚が硬化後に１０±３μｍになるように塗布し、コールドミラー付き水銀ランプ１２０Ｗ／ｃｍを用いて積算光量０．４Ｊ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を照射、硬化して光ディスクを得た。
＜光ディスクの反り評価＞
得られた光ディスクサンプルについて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製 Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ を用い、反りの変化量を測定した。半径位置が４０ｍｍから４５ｍｍ位置でのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔの平均値から反り変化量を測定した。
反り変化量の判定基準は以下のとおりである。
（反り）
◎：ディスク作成後の反りの変化が±０．８°以内
○：ディスク作成後の反りの変化が±１．５°以内
×：ディスク作成後の反りの変化が±１．５°を越える
Figure 0004193916
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Figure 0004193916
Figure 0004193916
表１〜４中の各化合物は、以下のとおりである。
［ウレタン（メタ）アクリレート］
ＵＡ１：３官能ウレタンアクリレート（Ｇ−ＰＰＧ／ＩＰＤＩ／ＨＥＡ,Ｍｎ＝１００００）、コグニスジャパン（株）社製「フォトマー６００８」
ＵＡ２：６官能ウレタンアクリレート（ＴＤＩ／ＰＥＴｔｒｉ−Ａ,Ｍｎ＝１０００）、ダイセイルサイテック（株）社製「ＥＢ２２０」
ＵＡ３：３官能ウレタンアクリレート（ＴＭＰ／ＮＰＧ／ＩＰＤＩ／ＨＥＡ,Ｍｎ＝２３００）、ダイセルサイテック（株）社製「ＥＢ４８８６」
ＵＡ４：６官能ウレタンアクリレート（ＨＤＩ／ＰＥＴｔｒｉ−Ａ,Ｍｎ＝８００）、ダイセルサイテック（株）社製「ＥＢ５１２９」
ＵＡ５：６官能ウレタンアクリレート（ＩＰＤＩ／ＰＥＴｔｒｉ−Ａ,Ｍｎ＝２２００）、ＢＡＳＦ社製「ＣＮ９６８」
（なお、前記略称はそれぞれ、
Ｇ−ＰＰＧ：グリセリン変性したプロピレングリコールジアクリレート、
ＴＭＰ：トリメチロール
ＮＰＧ：ネオペンチルグリコール
ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート、
ＨＤＩ：ヘキサメチレンジイソシアネート、
ＨＥＡ：２−ヒドロキシエチルアクリレート、
ＰＥＴｔｒｉ−Ａ：ペンタエリスリトールトリアクリレートを表す。）
［他の（メタ）アクリレート］
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、コグニスジャパン（株）社製「フォトマー４６００」
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＴＭＰＴＭＡ：トリメチロールプロパントリメタクリレート
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート、大阪有機化学工業（株）社製
ＩＢ−Ｘ：イソボルニルメタクリレート、共栄社化学（株）社製
ＴＣＤＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、美源社製「Ｍ−２６０」
ＬＭＡ：ラウリルメタクリレート、共栄社製
ＴＨＦＭＡ：テトラヒドロフルフリルメタクリレート
［重合開始剤・添加剤］
Ｉｒｇ．１８４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４、チバスペシャルティケミカルズ（株）社製
Ｔｅｇｏｒａｄ２２００Ｎ：シリコン系添加剤、デグサジャパン株式会社製
上記表１〜４から明らかなように、本発明の実施例１〜１４で得られた紫外線硬化型組成物を用いると、良好に剥離ができ基板の欠落や硬化膜の欠損は確認されなかった。特に接着力が１．５以下の組成物は、剥離の際の抵抗が少なく良好に剥離が可能であった。また、硬化前後での反り変化が小さく、良好に膜形成が可能であった。
一方、比較例１〜７では、ポリカーボネート基板に対し非常に強固に接着していた。特に接着力が１０ｋｇ／ｃｍ２以上である比較例１〜３、比較例６〜７においては、剥離面に大きなひび割れが生じると共に５ｍｍ四方程度の欠損がポリカーボネート基板に生じた。また、比較例４〜５においては剥離時に大きな抵抗があり、剥離特性は不十分であった。
本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。 本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。 本発明の三層型光ディスクの一例を示す図である。 本発明の三層型光ディスクの一例を示す図である。
符号の説明
１ 基板
２ 色素記録層
３ 半透明光反射層
４ 紫外線硬化型組成物の光透過層
５ 色素記録層
６ 光反射層
７ 基板
８ 接着層
１１ 凸状の記録トラック（グルーブ）
１２ 凸状の記録トラック（グルーブ）
１３ 凸状の記録トラック（グルーブ）
２１ 色素記録層２と半透明光反射層３とが積層された第１記録層
２２ 色素記録層５と光反射層６とが積層された第２記録層
２３ 積層体
３１ 色素記録層
３２ 半透明光反射層
３３ 紫外線硬化型組成物の光透過層
４１ 光透過層
４２ 光透過層
４３ 光過層
４４ 光透過層

Claims (9)

  1. ラジカル重合性不飽和結合を三以上有するウレタン（メタ）アクリレート（ａ）と、ウレタン（メタ）アクリレート（ａ）以外のラジカル重合性不飽和結合を四以上有する（メタ）アクリレート（ｂ）と、単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）とを含有し、２５℃におけるＢ型粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
  2. 前記紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中のラジカル重合性不飽和結合を三以上有するウレタン（メタ）アクリレート（ａ）の含有量が１０〜４０質量％であり、ラジカル重合性不飽和結合を四以上有する（メタ）アクリレート（ｂ）の含有量が５〜４０質量％であり、単官能の脂環式（メタ）アクリレート（ｃ）の含有量の和が１０〜４０質量％である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
  3. 前記ラジカル重合性不飽和結合を三以上有するウレタン（メタ）アクリレート（ａ）が、ポリオール化合物、ジイソシアネート化合物および水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートであり、前記ポリオール化合物が、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール、プロピレングリコールで変性したグリセリン化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物であり、前記ジイソシアネート化合物が、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートから選ばれる少なくとも１種のイソシアネート化合物である請求項１又は２に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
  4. ラジカル重合性不飽和結合を四以上有する（メタ）アクリレート（ｂ）が、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート又はジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの少なくとも一種である請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
  5. ラジカル重合性不飽和結合を三個有する（メタ）アクリレート（ｄ）を、前記紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の５〜４０質量％含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
  6. 前記紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中のメタクリロイル基を有する化合物の含有量が、５０質量％以下である請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
  7. 基板上に少なくとも２層の光反射層を有する光ディスクであって、隣り合う２層の光反射層の間に、請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の硬化物からなる中間層を有し、前記中間層が、その表面に凹凸パターンを有することを特徴とする光ディスク。
  8. 基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過性の中間層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層され、前記中間層が請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記中間層の第二の情報記録層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記基板側から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
  9. 基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、光透過性の中間層、第二の光反射層、第二の情報記録層、光透過層とが順に積層され、前記中間層が請求項１〜６のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記中間層の第二の光反射層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記光透過層側から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
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