KR20070004658A - Surface-treated copper foil having grayed surface, process for producing the same and electromagnetic wave shielding conductive mesh for front panel of plasma display wherein use is made of the surface-treated copper foil - Google Patents
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Abstract
Description
회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박 및 그 표면 처리 동박을 이용한 플라즈마 디스플레이의 전면 패널용 전자파 차폐 금속 메시에 관한 것이다. 특히, 플라즈마 디스플레이의 전면 패널용 전자파 차폐 도전성 메시의 제조에 매우 적합한 표면 처리 동박을 제공한다.A surface-treated copper foil having a grayed surface, and an electromagnetic wave shielding metal mesh for a front panel of a plasma display using the surface-treated copper foil. In particular, it provides the surface-treated copper foil which is suitable for manufacture of the electromagnetic shielding conductive mesh for the front panel of a plasma display.
플라즈마 디스플레이 패널의 쉴드(shield)용 도전성 메시는, 금속화 섬유 직물에서 도전성 메시로 변천해 왔다. 이 도전성 메시의 제조에는, 몇 개의 방법이 확립되어 있다. 그 하나는, 표면 처리 동박을 PET 필름에 래미네이트하여 접합시켜 포토리소그래프 에칭법을 이용하여 제조하는 것이다. 그리고, 다른 하나는, 표면 처리 동박을 지지 기재와 함께 포토리소그래프 에칭법으로 에칭하고, 그 다음, 지지 기재를 박리한 표면 처리 동박 단체(單體)의 도전성 메시이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Conductive meshes for shields in plasma display panels have evolved from metallized fiber fabrics to conductive meshes. Several methods are established for manufacture of this conductive mesh. One of them laminates a surface-treated copper foil to a PET film and bonds it, and manufactures it using the photolithographic etching method. And the other is the conductive mesh of the surface-treated copper foil single body which etched the surface-treated copper foil with the support base material by the photolithographic etching method, and then peeled off the support base material.
또한, 최근의 전력 절약화의 요구에 따라, 플라즈마 발생 신호 전압을 200V 내지 50V 레벨을 목표로 하여 개발이 행해지고 있어, 당해 전압의 저하에 수반하는 휘도의 감소를, 도전성 메시의 회로폭을 세선화하여 도전성 메시에 의한 전면 유리 패널의 피복률을 감소시키는 시도가 이루어져 왔다. 그 때문에, 도전성 메시의 두께를 얇게 하여 에칭 가공을 용이하게 하는 것이 행해져 왔다. 그 하나가, PET 필름상에 스퍼터링 증착법에 의해 전기 도금의 베이스가 되는 시드층을 형성하고, 그 다음 전해동 도금 등으로 얇은 구리층을 형성하여, 포토리소그래프 에칭법으로 메시선폭을 미세화한 도전성 메시의 제조가 행해져 왔다.Further, in accordance with recent demands for power saving, development has been conducted aiming at a plasma generation signal voltage of 200V to 50V level, and the reduction in luminance accompanying the decrease in the voltage is made thinner in the circuit width of the conductive mesh. Attempts have been made to reduce the coverage of the front glass panel by the conductive mesh. For this reason, it has been performed to make the thickness of the conductive mesh thin and to facilitate the etching process. One of them forms a seed layer serving as a base for electroplating by sputtering deposition on a PET film, and then forms a thin copper layer by electrolytic copper plating and the like, and then finens the mesh line width by photolithography etching. Has been produced.
이들 중 어떤 방법으로 도전성 메시가 제조되든, 도전성 메시 자체는 전면 패널 내에 내장되고 전면 유리를 통해 표면으로부터 시인(視認)할 수 있는 것으로서, 당업자 사이에서는 흑색화 처리 표면 혹은 다갈색화 처리 표면을 구비하는 표면 처리 동박이 이용되어 왔다.In any of these methods, the conductive mesh itself may be embedded within the front panel and visible from the surface through the windshield, and among those skilled in the art, having a blackened surface or a multi-browned surface. Surface-treated copper foil has been used.
(현행의 흑색화 처리 표면을 구비하는 표면 처리 동박)(Surface treatment copper foil provided with the current blackening process surface)
이 도전성 메시로 가공되는 표면 처리 동박의 한쪽 면은, 흑색으로 처리되어 투과광의 휘도를 두드러지게 하도록 되어 있다. 종래부터, 이 처리에는 다층 프린트 배선판의, 내층 회로의 수지층과의 접착성 향상을 위해 행하는 산화동층을 형성하는 흑화 처리 등이 전용(轉用)되어 왔다.One surface of the surface-treated copper foil processed with this electroconductive mesh is processed by black, and is made to make the brightness of transmitted light stand out. Conventionally, the blackening process etc. which form the copper oxide layer performed in order to improve the adhesiveness with the resin layer of an inner layer circuit of a multilayer printed wiring board have been dedicated for this process.
그런데, 전술한 흑화 처리에는, 중대한 문제가 있었다. 즉, 동박 표면에 구리의 흑색 산화물을 많이 붙이면, 확실히 양호한 흑색화면을 얻을 수 있다. 그런데, 동박의 표면에 형성한 구리의 흑색 산화물은, 부착량이 많아질수록 흑색화면으 로부터 탈락하기 쉬워져, 이른바 가루 떨어짐 현상이 일어나 흑화 처리면이 손상되기 쉽고, 다루기가 곤란해진다. 또한, 흑색의 색조 안정성도 부족하다.By the way, the blackening process mentioned above had a serious problem. In other words, if a large amount of copper black oxide is added to the surface of the copper foil, a satisfactory black screen can be obtained. By the way, the black oxide of copper formed on the surface of copper foil is easy to fall off from a black screen, so that the adhesion amount increases, so-called powder fall phenomenon occurs, and the blackening process surface becomes easy to deal with, and becomes difficult to handle. Moreover, black color tone stability is also lacking.
가루 떨어짐 현상이 발생하면, 탈락된 흑색 산화물이 필요없는 개소에 혼입되거나, 전면 패널의 유리와 일체화시키기 위한 투명화 처리시에, 투명 접착제층에 분산되어 투명도를 열화시키는 요인으로도 될 수 있는 것이다.When the powder fall phenomenon occurs, it may be incorporated in a place where no dropped black oxide is needed, or may be dispersed in the transparent adhesive layer during the transparent treatment for integrating with the glass of the front panel to deteriorate the transparency.
한편, 양호한 흑색화면을 형성할 수 있는 흑색화 처리로서, 일반적인 흑색 니켈 도금, 황화 니켈 도금, 코발트 도금 등이 검토되어 왔지만, 통상적인 구리의 에칭 프로세스로 흑색화 처리면측으로부터의 에칭 가공을 할 수 없다고 하는 문제가 있었다. 특히, 코발트나 니켈을 다량 석출시킨 흑색화 처리면을 갖는 표면 처리 동박은, 가루 떨어짐의 문제도 해결할 수 없으며 고가의 니켈 등을 다량으로 사용하기 때문에 고가의 제품이 되고 있었다.On the other hand, as blackening treatment which can form a favorable black screen, although general black nickel plating, nickel sulfide plating, cobalt plating, etc. have been examined, the etching process from the blackening process surface side can be performed by the normal copper etching process. There was a problem that there was not. In particular, a surface-treated copper foil having a blackened surface in which cobalt and nickel are precipitated in large amounts cannot be solved by the problem of powder falling, and has been an expensive product because expensive nickel or the like is used in a large amount.
(현행의 다갈색화 처리 표면을 구비하는 표면 처리 동박)(Surface-treated copper foil provided with current multi-browning treatment surface)
한편, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 기술이 성숙하여, 종래는 단순히 양호한 흑색화면을 갖는 표면 처리 동박이 요구되어 왔지만, 제조 기술 및 관리의 고도화에 수반하여, 전자파 차폐 메시의 흑 농도에 높은 레벨은 필요하지 않고, 오히려 저가격이면서 에칭 가공이 용이하고 빛의 투과도가 안정된 개구율이 높은 메시 패턴을 갖는 전자파 차폐 메시가 요구되게 되었다.On the other hand, the manufacturing technology of plasma display panels has matured, and conventionally, surface-treated copper foils having a favorable black screen have been required. However, with the advancement of manufacturing technology and management, a high level of black density of the electromagnetic shielding mesh is not required. Rather, there is a need for an electromagnetic wave shielding mesh having a mesh pattern having a high aperture ratio in which low cost, easy etching, and light transmittance are stable.
따라서, 현재 시장에 유통하고 있는 코발트의 흑색계 도금 피막을 구비한 동박에는, 구리의 에천트를 이용한 코발트층의 에칭 가공이 곤란하다는 문제가 생겨, 이종 금속을 감량하여 다갈색 색조인 것으로 하는 것이 시도되어 왔다.Therefore, the copper foil provided with the cobalt black plating film currently distributed to the market has a problem that the etching process of the cobalt layer using copper etchant is difficult, and it is attempted to reduce dissimilar metals and to have a brownish-brown tint. Has been.
확실히, 저가격이라고 하는 조건을 만족하면서 또한 에칭이 용이하다는 것을 고려하여, 표면 처리 동박의 표면을 흑색화에 도달하기 전의 다갈색 상태로 하여 코발트 등의 부착량을 줄여 시장에 공급하는 것이 검토되어 왔다.In order to reliably satisfy the condition of low cost and to be easy to etch, it has been studied to reduce the adhesion amount of cobalt or the like to the market by bringing the surface of the surface-treated copper foil into a dark brown state before reaching blackening.
그러나, 종래의 다갈색의 표면을 갖는 표면 처리 동박의 결점은, 그 다갈색면의 색이 균일하지 않아 전체 면에 얼룩이 생기는 것이었다. 즉, 동일면 내에서의 다갈색 처리의 균일화가 이루어지지 않아, 에칭하여 얻어지는 메시 단면 형상의 불균일을 일으키는 원인이 되었다. 게다가, 다갈색면은 그 표면을 가볍게 마찰하는 것만으로도 손상되기 쉬웠다.However, the drawback of the surface-treated copper foil which has the conventional dark brown surface was that the color of the dark brown surface was not uniform, and the whole surface was uneven. That is, the uniformity of the dark brown treatment in the same plane was not achieved, causing a nonuniformity in the mesh cross-sectional shape obtained by etching. In addition, the dark brown surface was susceptible to damage simply by lightly rubbing the surface.
그 때문에, 시장에서는, 균일한 다갈색을 갖는 다갈색화 처리층을 구비하고, 또한, 에칭 가공이 더욱 용이한 표면 처리 동박이 요구되어 왔다.Therefore, in the market, the surface-treated copper foil which has provided the browning process layer which has a uniform dark brown, and is easy to carry out an etching process has been calculated | required.
그리고, 전술한 흑색화 처리면 및 다갈색화 처리면을 구비하는 동박은 모두 색조의 안정성에 문제가 있어, 로트 간 불균일을 작게 하기 위해서는, 제조 조건 관리를 엄밀하게 행할 필요가 있어, 막대한 공정 관리 노력과 비용을 필요로 하여 제품 가격을 낮추어 시장에 공급하기에는 일정한 한계가 있었다. 일반적으로 관련된다고 생각되는 선행 기술로서는, 이하의 문헌이 있다.And the copper foil provided with the above-mentioned blackening process surface and the multi-browning process surface all have a problem of stability of a hue, and in order to reduce the non-uniformity between lots, it is necessary to perform manufacturing condition management strictly, and enormous process control effort There was a certain limitation in supplying the market by lowering the price of the product due to the cost and cost. As a prior art considered generally relevant, the following documents are mentioned.
[비특허 문헌 1] PDP 재료의 기술 동향(히타치카세이 테크니컬 리포트 제33호(1999-7))[Non-Patent Document 1] Technical Trends of PDP Materials (Hitachi Kasei Technical Report No. 33 (1999-7))
[특허 문헌 1] 일본 특허공개 평11-186785호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-186785
〈발명이 해결하고자 하는 과제〉〈Problems to Solve Invention〉
그러나, 전술한 흑색화 처리면 및 다갈색화 처리면을 구비하는 동박이란, 동박 상태에서 확인할 수 있는 색조를 문제삼고 있는 것으로, 전자파 차폐 도전성 메시로 가공되어 플라즈마 디스플레이의 전면 패널에 장착되었을 때의 색조를 고려한 것이 아니었다.However, the copper foil provided with the above-mentioned blackening process surface and the multi-browning process surface has the problem of the color tone which can be confirmed in the copper foil state, and is the color tone when it is processed by the electromagnetic wave shielding conductive mesh and attached to the front panel of a plasma display. It was not considered.
여기에서 가장 일반적인 전면 필터의 제조 방법을, 개략적으로 설명하기로 한다. 200㎛ 피치, 선폭 20㎛ 이하의 도전성 메시(15)를 제조하는 경우에는, 도 14(a)에 도시한 바와 같이 PET 필름(F)을 준비하고, 그 표면에 접착제층(20)을 마련함으로써 도 14(b)에 도시하는 상태가 된다. 그리고, 도 14(c)에 도시하는 바와 같이, 접착제층(20) 위에 스퍼터링법, 무전해 도금법 등을 이용하여 1㎛ 이하의 금속 시드층(S)을 형성하고, 그 다음, 도 14(d)에 도시하는 바와 같이, 전해동 도금에 의해 3㎛ 이하 레벨의 구리층(C)을 형성한다.Herein, a method of manufacturing the most common front filter will be briefly described. When manufacturing the
그리고, 그 구리층(C) 위에, 도 14(e)에 도시하는 바와 같이 에칭 레지스트층(R)을 형성하고, 당해 에칭 레지스트층(R)에, 도 15(f)에 도시하는 바와 같이 도전성 메시 패턴(P)을 노광하고, 도 15(g)에 도시하는 바와 같이 현상하여 에칭함으로써, 도 15(h)에 도시하는 상태가 되고, 에칭 레지스트층(R)을 박리함으로써 도 15(i)에 도시하는 상태가 된다.Then, on the copper layer C, an etching resist layer R is formed as shown in Fig. 14E, and the etching resist layer R is electrically conductive as shown in Fig. 15F. The mesh pattern P is exposed, developed and etched as shown in Fig. 15 (g), and brought into the state shown in Fig. 15 (h), and the etching resist layer R is peeled off, and Fig. 15 (i) The state shown in FIG.
계속해서, 도전성 메시(15)의 표면을 흑색화 처리함으로써, 도 15(j)에 도시하는 바와 같이 도전성 메시의 표면에 흑색화 처리층(17)을 형성한 상태가 된다. 그리고, 이 흑색화 처리가 종료되면, 전면 필터를 구성하는 제1 투명 기판(19a)을, 도 16(k)에 도시하는 바와 같이, 흑색화 처리된 도전성 메시(5')에 당접시켜 프레스함으로써, 도 16(l)에 도시하는 바와 같이 흑색화 처리된 도전성 메시(15')를 접착제층(20) 내로 밀어넣어 투명화 처리를 행한다. 그리고, 도 16(m)에 도시하는 바와 같이 PET 필름을 박리한다. 마지막으로 도 16(n)에 도시하는 바와 같이, 접착제층(20)과 제2 투명 기판(19b)을 접합시켜, 전면 필터(11)가 완성되게 된다.Subsequently, by blackening the surface of the
이상의 공정으로부터 알 수 있듯이, 투명화 처리 전에 흑색화 혹은 다갈색화하여 보이지 않는 것이라도, 투명화 처리 후에 투명 수지 혹은 투명 기판과 접착한 상태에서 도전성 메시 표면이 흑색화하여 시인(視認)할 수 있는 것이면 된다.As can be seen from the above process, the surface of the conductive mesh may be blackened and visually recognized in the state in which it is blackened or multi-browned before the transparent treatment and is invisible after the transparent treatment. .
장래적으로 보아, 지상파의 디지털화가 예정되어 있고 화상 신호의 전달 속도도 고속화해 가는 것을 피할 수 없으며, 인체에 주는 영향, 다른 전자 기기에 주는 영향 등을 고려하여, 전자기 쉴드(shield)에 대한 법규제도 강화되어 갈 것으로 예상되어, 도전성 메시를 이용하여 전자기 쉴드(shield)성이 뛰어난 전면 필터에 대한 요구는 더욱 높아질 것으로 생각되며, 염가이면서 고품질의 도전성 메시가 요구된다.In the future, the digitization of terrestrial waves is inevitable, and the speed of transmission of image signals is inevitable, and the law on electromagnetic shield is considered in consideration of the effect on human body and the effect on other electronic devices. It is expected that the draft will be strengthened, and the demand for an electromagnetic shield having excellent electromagnetic shielding property using conductive mesh is expected to be higher, and a cheap and high quality conductive mesh is required.
〈과제를 해결하기 위한 수단〉〈Means for solving the problem〉
따라서, 본건 발명자들은 예의 연구한 결과, 이하에 기술하는 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박을 이용하여, 전자파 차폐용 도전성 메시를 제조하기에 이르렀다. 이 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박을 이용함으로써, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 필터 제조 프로세스에서의 투명화 처리 전에는, 전자파 차폐용 도전성 메시 표면의 색조가 회색이고, 투명화 처리 후에는 전자파 차폐용 도전성 메시 표면이 흑색화하여 시인(視認)할 수 있게 된다.Therefore, the present inventors earnestly researched and produced the electroconductive shielding electromagnetic mesh using the surface-treated copper foil provided with the graying process surface described below. By using the surface-treated copper foil provided with this graying process surface, the color tone of the surface of the electromagnetic wave shielding conductive mesh is gray before the transparent process in the front-end filter manufacturing process of a plasma display panel, and the electromagnetic wave shielding conductive mesh after the process of transparentization The surface becomes black and can be recognized.
(회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박)(Surface Treatment Copper Foil Having Gray Surface)
본건 발명에 따른 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박은, 녹방지 처리층을 구비하지 않는 경우와 녹방지 처리층을 구비하는 경우를 포함하는 것이다. 따라서, 녹방지 처리층은 필수는 아니지만, 표면 처리 동박으로서 장기 보존성을 확보하기 위해서는 필요한 것이다. 이하, 본건 발명에 따른 표면 처리 동박에 관하여 설명한다.The surface-treated copper foil provided with the graying process surface which concerns on this invention includes the case where a rustproof process layer is not provided and the case where a rustproof process layer is provided. Therefore, although an antirust process layer is not essential, it is necessary in order to ensure long-term storage property as surface-treated copper foil. Hereinafter, the surface-treated copper foil which concerns on this invention is demonstrated.
제1 표면 처리 동박: 본건 발명에 따른 표면 처리 동박은, "전해 동박의 조면(粗面) 상에 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박으로서, 당해 회색화 처리면은 동박층의 한쪽 면에 마련한 중량 두께 200㎎/㎡ 내지 350㎎/㎡의 황산 코발트 도금층이며, 또한, 그 회색화 처리면의 단면 높이가 200㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 표면 처리 동박(이하, "제1 표면 처리 동박"이라고 칭함)이다. 이 표면 처리 동박(1a)의 단면층 구성을 모식적으로 도시한 것이 도 1이다.1st surface-treated copper foil: The surface-treated copper foil which concerns on this invention "is a surface-treated copper foil provided with the graying process surface on the rough surface of an electrolytic copper foil, and the said grayening process surface is made to one side of a copper foil layer. A cobalt sulfate plating layer having a weight thickness of 200 mg /
도 1에는, 전해 동박(7)의 조면에 황산 코발트 도금층(4)을 형성하고, 반대면(전해 동박의 경우에는 광택면에 해당)에는 미세 구리입자(3)로 조화(粗化) 처리를 실시한 상태의 표면 처리 동박(1a)을 일례로 도시하고 있다. 그러나, 이때에 이용하는 동박의 반대면은, 조화 처리를 행하여도, 조화 처리를 행하지 않은 것이라도 상관없다. 따라서 도 2에는, 반대면의 조화 처리를 생략했을 경우의 표면 처리 동박(1b)을 모식적으로 도시하고 있다. 미세 구리입자(3)로 구성하는 조화 처리층(2)은, 기재 등과의 접착성 개선 등을 목적으로 하여 형성되는 것으로서, 필요에 따라 마련하면 된다. 이 조화 처리층(2)를 형성하는 경우의 방법은, 상술한 바와 같이 미세 구리입자를 부착 형성하는 방법, 미세한 산화동을 부착시키는 등의 방법을 채용하는 것이 가능하고, 특별히 조화 처리 방법에 한정은 없다.In FIG. 1, the cobalt
그리고, 이 동박층(7)의 일정한 요철이 있는 조화면에 황산 코발트 도금층(4)을 마련한다. 여기에서 조면이 갖는 거칠기로서는, 공칭(公稱) 두께 35㎛ 이하의 두께의 전해 동박의 조면에 해당하는 거칠기가 가장 적당하고, 촉침 선단부의 곡률 반경 2㎛의 촉침식 조도계(粗度計)로 측정했을 때의 JIS B 0601에 규정하는 평균 거칠기(Ra)가 1.0㎛ 이하, 10점 평균 거칠기(Rz)가 4.0㎛ 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. 이 거칠기보다 거친 경우에는, 회색화한 표면 처리 동박의 색조의 안정성이 결여되어, 에칭하여 메시 형상으로 가공할 때의 에칭 정밀도가 열화되고, 고품질의 전자파 차폐용 도전성 메시의 제조 수율이 낮아지는 경향이 있다. 그리고, 보다 바람직하게는 평균 거칠기(Ra)가 0.5㎛ 이하, 10점 평균 거칠기(Rz)가 2.8㎛ 이하이다. 표면 처리 동박의 회색 색조의 안정성이 비약적으로 향상되어, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정에서 투명화 처리한 후의 흑색의 색조도 편차가 적게 된다.Then, the cobalt
여기에서 말하는 황산 코발트 도금층(4)이란, 황산 코발트 용액을 이용하여 도금법으로 형성한 층을 의미한다. 그리고, 이 황산 코발트 도금층(4)은, 표면 처리 동박의 상태에서는 회색으로 시인될 수 있다. 그런데, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정에서 투명화 처리하여, 회색화 처리 표면의 위를 수지 필름 혹은 접착제 수지 등으로 피복한 다음에는, 흑색으로 시인될 수 있다. 이와 같이 색조가 변화하는 것은, 진한 색조의 양복이 물에 젖으면, 본래 거칠거칠한 상태여야 할 양복감 표면에 수막이 형성되어 매끄러운 표면을 형성함으로써 받은 빛의 난반사가 억제되어, 더욱 진한 색조로 시인될 수 있는 것과 마찬가지이다.The cobalt
이 황산 코발트 도금층(4)은, 후술하는 제조 방법을 채용하여 중량 두께 200㎎/㎡ 내지 350㎎/㎡의 것으로 함으로써, 구리 에칭액에 대한 용해성이 뛰어나고, 또한 회색화한 표면의 형성이 가능해진다. 종래의 코발트층을 이용한 흑색계 도금 피막을 구비한 동박의 코발트층은, 그 중량 두께가 1OOO㎎/㎡ 전후로서, 매우 두껍고 도금층의 용해성과 같은 품질에 있어서 상이한 것이었다. 그 결과, 두께가 있기 때문에 구리 에칭액에 의한 용해 속도가 늦어짐과 함께, 코발트라고 하는 원소 자체가 구리 에칭액에 고농도로 축적되어 에칭액의 역가를 저하시키는 요인이 되었다. 한편, 본건 발명에서의 환산 중량은, 코발트 중량으로 환산한 값이다. 환산 중량은, 표면 처리 동박을 산용액에 용해시키고, 플라즈마 발광 분광 분석법 등에 의해 단위 면적당 코발트량을 구하여, 표면 처리 동박 1㎡당의 중량으로 환산한 것이다.This cobalt
또한, 코발트 도금층이 구리 에칭액에 용해되기 쉬운지의 여부는, 코발트 도금을 행할 때의 도금 조건에 의해서도 크게 영향을 받는다는 것을 알게 되었다. 즉, 후술하는 본건 발명에 따른 표면 처리 동박의 제조 방법을 채용했을 때에 얻어지는 코발트 도금 피막이 가장 에칭 특성이 뛰어난 것이 된다.Moreover, it turned out that the cobalt plating layer is easy to melt | dissolve in a copper etching liquid, also largely affected by the plating conditions at the time of cobalt plating. That is, the cobalt plating film obtained when employ | adopting the manufacturing method of the surface-treated copper foil which concerns on this invention mentioned later becomes the thing excellent in the etching characteristic most.
본건 발명에 따른 표면 처리 동박이 갖는 제2 특색은, 그 회색화 처리면의 표면 형상이 극히 거친 것이 아니라, 당해 회색화 처리면이 갖는 단면 높이가 200㎚ 이하인 것이 큰 특징이다. 즉, 극히 매끄러운 회색화 처리면이라고 할 수 있다. 단, 오해를 초래하지 않기 위해 명기해 두지만, 통상의 제조 공정의 범위 내에서의 편차가 존재하는 것은 당연하며, 반드시 모든 위치에서의 단면 높이가 200㎚ 이하일 필요는 없고, 제조 공정의 편차를 반영한 정도에서 200㎚를 넘는 단면 높이가 존재하는 경우가 있는 것은 당연하다. 본건 발명에 따른 표면 처리 동박(1)의 황산 코발트 도금층(4)의 단면 높이를 측정하기 위해, FIB 분석 장치를 이용하여 단면 관찰한 FIB 관찰상을 도 3에 나타낸다. 도 3에는, 전해 동박의 광택면에 회색화 처리면을 형성한 것을 나타내고 있다. 한편, 이 FIB 관찰상은, 피관찰면에 대해 60°의 각도를 갖는 방향에서 관찰한 것이다.As for the 2nd characteristic with the surface-treated copper foil which concerns on this invention, the surface shape of the graying process surface is not very coarse, but the cross-sectional height which the said graying process surface has is a large feature 200 nm or less. That is, it can be said to be an extremely smooth graying process surface. However, in order to avoid misunderstanding, it is obvious that there exists a deviation within the range of a normal manufacturing process, and the cross-sectional height in all positions does not necessarily need to be 200 nm or less, and the variation of a manufacturing process is not necessarily made. Naturally, the cross-sectional height exceeding 200 nm may exist in the degree to which it reflects. In order to measure the cross-sectional height of the cobalt
도 3으로부터 알 수 있듯이, 회색화 처리면의 단면은 일정한 요철이 존재하는 것이 분명하고, 이러한 요철을 모니터하는 경우, 촉침식의 표면 조도계를 이용하는 것이 일반적이다. 그런데, 도 3의 스케일로부터 알 수 있듯이, 표면 조도계에서는 정확한 거칠기 측정이 불가능한 레벨의 요철이라고 생각된다. 따라서, 본건 발명에서는, 표면 조도계로 측정했을 때의 Rmax에 대응하는 값으로서, FIB 관찰상의 시야 내의 산형부(山部)와 골짜기부(谷部)의 최대 차이를 "단면 높이"라고 한다. 도 3 중에 "d"로 나타내는 개소가 도 3의 단면 높이가 되며, 약 80㎚라고 판단할 수 있다. 게다가, 도 3에 있어서, 황산 코발트 도금층(4)은, 극히 균일한 두께로 동박 표면의 형상을 따라 형성되고 있으며, 베이스의 동박 표면과 완전하게 밀착된 상태를 유지하고 있어, 황산 코발트 도금층(4)이 부상하는 등의 문제 개소는 눈에 띄지 않아 가루 떨어짐이 예상되는 개소는 볼 수 없다.As can be seen from FIG. 3, it is apparent that the cross section of the grayed surface has a certain unevenness, and when monitoring such unevenness, it is common to use a tactile surface roughness meter. By the way, as can be seen from the scale of FIG. 3, it is considered that the surface roughness meter is uneven at a level at which accurate roughness measurement is impossible. Therefore, in this invention, as a value corresponding to Rmax when measured with a surface roughness meter, the maximum difference of the mountain part and valley part in the visual field on a FIB observation is called "cross section height." The location shown by "d" in FIG. 3 becomes the cross-sectional height of FIG. 3, and it can be judged that it is about 80 nm. In addition, in FIG. 3, the cobalt
이에 비해, 종래의 동박 표면에 형성한 흑색화 처리면을, 전술한 바와 마찬가지로 단면으로부터 FIB 관찰하면, 도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같은 결과가 된다. 즉, 흑색화 처리면을 구성하는 형상이 나뭇가지(樹枝) 형상으로 성장하여, 베이스의 동박으로부터 상당이 돌출된 상태로 되어 있는 것을 알 수 있다. 따라서, 이때의 단면 높이(d)를 측정하면 도 4의 경우가 약 480㎚, 도 5의 경우가 약 270㎚가 되어, 상당히 거친 표면이 되어 있는 것을 알 수 있다. 게다가, 이와 같은 나뭇가지 형상을 갖는 흑색화 처리면은, 그 나뭇가지 형상부가 꺾이기 쉬워 손상을 받기 쉬운 표면이라 할 수 있고, 게다가, 꺾인 단편이 탈락하면 가루 떨어짐이 발생하는 것도 당연하여, 흑색화 처리 표면으로부터 목시로 보았을 때 색 얼룩을 일으키는 원인이 된다고 생각된다.On the other hand, when FIB is observed from the cross section similarly to the above, the blackening process surface formed on the surface of the conventional copper foil will have the result as shown to FIG. 4 and FIG. That is, it turns out that the shape which comprises the blackening process surface grows in the shape of a twig, and the state which protrudes substantially from the copper foil of a base. Therefore, when the cross-sectional height d at this time is measured, it turns out that the case of FIG. 4 is about 480 nm, and the case of FIG. 5 is about 270 nm, and it is a very rough surface. In addition, the blackened surface having such a branched shape is a surface where the branched portion is easily broken and easily damaged, and in addition, it is natural that powder fall occurs when the broken fragments fall off. It is thought that it causes color unevenness when seen visually from the surface of the heat treatment.
이상 기술해 온 본건 발명에 따른 표면 처리 동박은, 도 3의 FIB 단면 관찰상으로부터 극히 매끄러운 표면을 갖고 있는 것을 알 수 있다. 그리고, 이 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 43 이하가 된다. 여기에서, 43 이하라고 기재하고 있는 바와 같이, 상한은 특별히 한정하고 있지 않지만 경험적으로 38 정도가 하한이 된다.It can be seen that the surface-treated copper foil according to the present invention described above has an extremely smooth surface from the FIB cross-sectional observation image of FIG. 3. And the L value in the Lab color system of this graying process surface becomes 43 or less. Here, as described below, the upper limit is not particularly limited, but about 38 is the lower limit empirically.
또한, 본건 발명에 따른 표면 처리 동박의 회색화 처리면은 일정한 광택을 갖고, 그 광택의 정도를 나타내려면 광택도를 이용하여 나타내는 것이 바람직하다. 본건 발명에 따른 회색화 처리면의 광택도는, 전해 동박의 조면에 당해 회색화 처리면을 형성한 결과, 광택도[Gs(60°)]가 10 이하인 것이 바람직하다. 광택도가 10 이상이 되면, 소위 금속 광택이 눈에 띄게 된다. 한편, 여기에서도, 광택도의 하한치를 정하지 않지만, 경험적으로 O.5 정도가 하한이 된다. 보다 바람직하게는, 광택도가 O.5 내지 3.0의 범위이다. 이 범위의 광택도를 갖는 경우의 회색 색조의 안정성이 가장 양호해진다.In addition, it is preferable that the graying process surface of the surface-treated copper foil which concerns on this invention has a constant gloss, and is represented using glossiness in order to show the grade of the gloss. As for the glossiness of the graying process surface which concerns on this invention, when the said grayening process surface was formed in the rough surface of an electrolytic copper foil, it is preferable that glossiness [Gs (60 degrees)] is 10 or less. When the glossiness is 10 or more, the so-called metallic luster becomes noticeable. On the other hand, also here, although the lower limit of glossiness is not determined, empirically, about 0.5 becomes a lower limit. More preferably, glossiness is in the range of 0.5 to 3.0. Stability of the gray color tone in the case of having glossiness in this range becomes the best.
이상 기술해 온 표면 처리 동박의 회색화 처리면은, 그 표면에 투명 수지 피막을 밀착 배치했을 때에, 흑색으로서 시인할 수 있게 된다. 이때의 회색화 처리면을 직접 관찰했을 때의 흑 농도는 O.7 내지 1.2(측정 조건: StatusT, Sampling aparture 1.5×2㎜, 편광 필터 없음)이며, 이 회색화 처리면의 표면에 투명 수지 피막을 밀착 배치하면, 흑 농도는 1.4 이상(경험적으로 상한은 1.8 정도임)이 된다. 종래부터, 플라즈마 디스플레이 패널의 전자파 차폐 메시에 이용되어 온 표면 처리 동박의 흑색화 처리면의 흑 농도는, 흑색화 처리면을 직접 관찰했을 때의 흑 농도는 약 1.0 이상(본건 발명자들이 시장에서 입수 가능한 제품으로 측정하면 1.30 내지 1.67)이며, 이 흑색화 처리면의 표면에 투명 수지 피막을 밀착 배치하면 흑 농도는 1.5 이상(본건 발명자들이 시장에서 입수 가능한 제품으로 측정하면 1.40 내지 1.87)이다. 이것으로부터, 본건 발명에 따른 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박을 이용하고 이 표면에 투명 수지 피막을 밀착 배치하면, 흑 농도가 약 1.4 이상인 것을 생각하면 충분한 흑 농도가 된다고 말할 수 있다. 한편, 본건 발명에서의 흑 농도는, JIS B 9620, JIS B 9622에 기초하여 측정한 것이며, 전술한 측정 조건을 채용하고 있다.When the graying-treated surface of the surface-treated copper foil described above is arrange | positioned closely to the surface, it becomes visually recognized as black. The black density at the time of directly observing the grayed-out surface at this time is O.7-1.2 (measurement condition: StatusT, Sampling aparture 1.5 * 2mm, no polarizing filter), and a transparent resin film on the surface of this grayed-side surface When it is placed in close contact, the black concentration is 1.4 or more (experimentally, the upper limit is about 1.8). Conventionally, the black density of the blackening process surface of the surface-treated copper foil used for the electromagnetic wave shielding mesh of a plasma display panel is about 1.0 or more when the blackening process surface was observed directly (this inventor obtained in the market) It is 1.30-1.67 when measured by a possible product, and when a transparent resin film is arrange | positioned closely to the surface of this blackening process surface, black density is 1.5 or more (1.40-1.87 when measured by the product which is available on the market by this inventor). From this, when using the surface-treated copper foil provided with the graying process surface which concerns on this invention, and arrange | positioning a transparent resin film closely to this surface, it can be said that it becomes sufficient black density, considering that black density is about 1.4 or more. In addition, the black density | concentration in this invention was measured based on JIS B 9620 and JIS B 9622, and employ | adopted the measurement conditions mentioned above.
제2 표면 처리 동박: 이 표면 처리 동박은, 전술한 제1 표면 처리 동박의 표면에 장기 보존성을 확보하기 위한 녹방지 처리층을 형성한 것이다. 도 6의 양면에 녹방지 처리층(5)을 구비한 표면 처리 동박(1c)의 단면층 구성을 모식적으로 예시하였다. 그리고, 도 7에는, 한쪽 면에 조화 처리를 생략했을 경우의 표면 처리 동박(1d)을 도시하고 있다. 동박으로서의 녹방지(防銹)만을 목적으로 하는 한은, 이미다졸, 벤조 트리아졸 등의 유기 녹방지, 일반적으로 이용되고 있는 아연 또는 놋쇠 등의 아연 합금에 의한 무기 녹방지 등을 널리 이용할 수 있다. 또한, 황산 코발트 도금층을 한쪽 면에 형성했을 경우의 녹방지 처리층은, 적어도 본건 발명에 따른 표면 처리 동박의 황산 코발트 도금층을 형성한 반대면에 형성해야 하는 것이지만, 양면에 형성하여도 지장은 없다.2nd surface treatment copper foil: This surface treatment copper foil forms the antirust process layer for ensuring long-term storage property on the surface of the above-mentioned 1st surface treatment copper foil. The cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil 1c provided with the
그러나, 그 양면에 녹방지 처리층(5)을 형성하면, 이들 녹방지 처리층은, 조화 처리층(2)의 미세 구리입자(3)의 탈락 방지 및 황산 코발트층(4)의 보호층으로서의 역할을 함과 동시에, 표면 처리 동박으로서의 외관을 장기간에 걸쳐 유지하는 역할을 한다. 이 녹방지 처리층(5)에는, 아연-니켈 합금층 혹은 아연-코발트층을 마련하는 것이 특히 바람직하다. 이들 녹방지 처리층(5)은, 황산 코발트 도금층(4)과 조합하여 이용함으로써, 황산 코발트 도금층(4)을 에칭 용해시킬 때의 용해 프로모터로서 기능할 수 있는 것으로 생각된다. 즉, 황산 코발트 도금층(4)이 단독으로 존재하는 경우보다, 아연-니켈 합금층 혹은 아연-코발트층을 구비하는 편이, 황산 코발트 도금층(4)의 용해가 신속하게 일어난다.However, if the
또한, 도 8 및 도 9에 녹방지 처리층(5)과 크로메이트 처리층(6)을 양면에 구비한 표면 처리 동박(1c)의 단면층 구성을 모식적으로 도시하였다. 도 6과 도 8, 도 7과 도 9의 각각을 대비하는 것으로부터 알 수 있듯이, 녹방지 처리층(5)을 구비하는 표면 처리 동박과의 차이는 크로메이트 처리층(6)을 구비하는 점만 다를 뿐, 그 외의 구성은 동일하다.In addition, the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil 1c which provided the
크로메이트 처리층(6)은, 아연-니켈 합금 또는 아연 코발트 합금 등으로 구성된 녹방지 처리층(5)을 형성한 후에, 한쪽 면 혹은 양면에 형성하는 것이다. 그리고, 이 크로메이트 처리층(6)이 존재함으로써, 표면 처리 동박의 내산화 성능을 현저하게 향상시켜 산화 변색 등의 외관 부식(cosmetic corrosion)을 효과적으로 방지한다.The
(회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 제조 방법)(Method for producing surface-treated copper foil having a grayed surface)
제1 표면 처리 동박의 제조 방법Manufacturing method of 1st surface treatment copper foil
전술한 제1 표면 처리 동박의 제조 방법은, 이하와 같은 공정을 포함하는 제조 방법을 채용하는 것이 바람직하다. 이 제조 방법은, 교반욕(攪拌浴)을 채용하는 것을 전제로 하고 있다.It is preferable to employ | adopt the manufacturing method containing the following processes as the manufacturing method of the above-mentioned 1st surface treatment copper foil. This production method is based on the premise that a stirring bath is employed.
본건 발명에 따른 표면 처리 동박의 제조 방법에서 이용하는 동박은, 전술한 바와 같이 황산 코발트 도금층을 형성하는 반대면에 조화 처리를 행하고 있는지의 여부는 묻지 않는다. 여기에서 만약을 위해 기재해 두지만, 조화 처리를 실시하는 경우의 조건에 특별한 한정은 없고, 예를 들면, 극미세 구리입자를 형성하는 경우에는, 일반적으로 비소를 포함한 구리 전해액을 이용할 수 있다. 예를 들면, 황산구리계 용액으로, 구리 농도 5 내지 10g/l, 황산 농도 100 내지 120g/l, 염소 농도 20 내지 30ppm, 9-페닐 아크리딘 50 내지 300㎎/l, 액온 30 내지 40℃, 전류 밀도 5 내지 20A/d㎡ 등의 조건이다.The copper foil used by the manufacturing method of the surface-treated copper foil which concerns on this invention does not ask whether the roughening process is performed to the opposite surface which forms a cobalt sulfate plating layer as mentioned above. Although described for the case here, there is no restriction | limiting in particular in the conditions at the time of performing a roughening process, For example, when forming an ultrafine copper particle, generally the copper electrolyte solution containing arsenic can be used. For example, as a copper sulfate solution, copper concentration of 5 to 10 g / l, sulfuric acid concentration of 100 to 120 g / l, chlorine concentration of 20 to 30 ppm, 9-phenyl acridine 50 to 300 mg / l, liquid temperature 30 to 40 ℃, Conditions such as current density of 5 to 20 A /
a)의 공정에서는, 전술한 동박의 조면에, 황산 코발트(7 수화물)를 10g/l 내지 40g/l 포함하고, pH를 4.0 이상, 액온 30℃ 이하로 한 황산 코발트 도금액을 교반욕으로서 이용하여, 4A/d㎡ 이하의 전류 밀도로 전해하여 회색의 황산 코발트 도금층을 형성한다. 즉, 여기에서 제1 표면 처리 동박의 제조 방법 A와 근본적으로 상이한 것은, 황산 코발트 도금을 행할 때의 상기 황산 코발트 도금액을 교반하면서 전해하는 점이다. 이 황산 코발트 농도는, 황산 코발트 농도가 낮을수록 양호한 회색화 상태를 만들어 낼 수 있는 경향이 있다. 그러나, 황산 코발트 도금액 내의 황산 코발트(7 수화물)가 10g/l 미만이 되면, 교반욕을 채용하여 형성하는 황산 코발트 도금층의 전착(電着) 속도가 늦어지고, 게다가, 황산 니켈층의 두께가 불균일하게 되는 경향이 강해져, 공업적 생산성이 결여되는 결과가 된다. 이에 비해, 황산 코발트(7 수화물)가 40g/l를 넘으면, 형성되는 황산 코발트 도금층이 치밀한 요철을 형성하기 어려워져, 결과적으로 양호한 회색 상태가 아니게 된다.In the process of a), 10 g / l-40 g / l of cobalt sulfate (7-hydrate) is included in the rough surface of the copper foil mentioned above, The cobalt sulfate plating liquid which made pH more than 4.0 and 30 degrees C or less of liquid temperature is used as a stirring bath. And electrolytic at a current density of 4 A /
또한, 이때의 황산 코발트 도금액의 용액 pH는 4.0 이상의 범위를 목표로 조정하는 것이 바람직하다. 그리고, 보다 바람직하게는 4.5 내지 5.5의 범위이다. 이 범위에서, 제품 수율이 높으며, 양호한 회색의 코발트 도금층를 얻을 수 있다. 이 pH 조정을 행하기 위해, 수산화 나트륨 또는 수산화 칼륨 등의 다른 전해질을 첨가하는 것은 바람직하지 않다. 코발트 도금층의 회색에 금속색이 더해지기 쉬워진다.Moreover, it is preferable to adjust the solution pH of the cobalt sulfate plating liquid at this time to the range of 4.0 or more. And more preferably, it is the range of 4.5-5.5. In this range, a product yield is high and a favorable gray cobalt plating layer can be obtained. In order to perform this pH adjustment, it is not preferable to add another electrolyte, such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. A metal color becomes easy to add to the gray of a cobalt plating layer.
따라서, 용액 pH는 용액 중의 금속 이온 농도를 일정하게 유지함으로써, 결과적으로 4.0 이상의 범위에서 안정화시키는 것이다. 이와 같이 용액 중의 코발트 이온 농도를 안정화시키기 위해서는, 용해성의 코발트 전극을 이용하여 전착한 코발트 이온분을 용해 공급시키거나, 금속 이온 농도를 연속적으로 모니터하고 수산화 코발트를 이용하여 적절하게 첨가함으로서, 코발트 이온 농도를 안정화하는 방법 등을 채용하는 것이 바람직하다.Therefore, the solution pH is to stabilize the concentration of metal ions in the solution, resulting in a range of 4.0 or more. In order to stabilize the cobalt ion concentration in the solution as described above, cobalt ions are dissolved and supplied by dissolving the electrodeposited cobalt ions using a soluble cobalt electrode, or the cobalt ions are continuously added by appropriately using cobalt hydroxide. It is preferable to employ | adopt the method etc. which stabilize a density | concentration.
그리고, 이때의 황산 코발트 도금액은, 그 액온을 30℃ 이하로 하여 이용하는 것이 바람직하다. 이때의 액온은, 낮을수록 양호한 회색화 처리면을 얻을 수 있는 경향이 있다. 액온을 30℃ 이하로 설정하면, 상기 제1 표면 처리 동박의 제조 방법 A로, 조화 처리가 없는 동박 표면에 흑색화 처리를 실시한 이상으로 양호한 회색화 처리면을 얻는 것이 가능해진다.And it is preferable to use the cobalt sulfate plating liquid at this time, making the liquid temperature 30 degrees C or less. The liquid temperature at this time tends to be able to obtain a favorable graying process surface, so that it is low. When liquid temperature is set to 30 degrees C or less, in the manufacturing method A of the said 1st surface treatment copper foil, it becomes possible to obtain a favorable graying process surface beyond having performed blackening process on the copper foil surface without a roughening process.
이때의 교반은, 교반한 결과의 용액 유속을 20㎝/s 내지 40㎝/s의 범위로 하는 것이 바람직하다. 용액의 유속이 20㎝/s 미만인 경우에는, 상기 용액 조성에 있어서, 전착시키는 코발트의 피착면으로의 이온 공급이 늦어져 전착에 필요로 하는 시간이 길어지고, 게다가 얻어지는 회색화 처리 표면의 색조에 불균일이 생기기 쉽다. 한편, 용액의 유속이 40㎝/s를 넘는 경우에는, 교반에 의한 이온 공급 속도가 너무 커져, 회색화 처리 표면이 흑색화에 가까워지고, 게다가 금속 광택이 강해져, 본건 발명이 목적으로 하는 회색화 처리 표면이 아니게 된다.It is preferable that the stirring at this time makes the solution flow velocity of the result of stirring into the range of 20 cm / s-40 cm / s. When the flow rate of the solution is less than 20 cm / s, in the above solution composition, the ion supply to the adhered surface of the cobalt to be electrodeposited is delayed, the time required for electrodeposition becomes long, and the color tone of the grayed surface obtained is further obtained. Nonuniformity is easy to occur. On the other hand, when the flow rate of a solution exceeds 40 cm / s, the ion supply rate by stirring becomes too large, the graying-treated surface approaches blackening, and also the metal gloss becomes strong, and the graying aimed at by this invention No treatment surface.
전해를 행할 때의 전류 밀도에는, 4A/d㎡ 이하의 전류를 이용한다. 이 범위에서, 동박 표면을 조화 처리하지 않아도, 유기재 등과의 밀착성이 뛰어난 양호한 미세 요철을 갖는 황산 코발트 도금층을 형성할 수 있다. 통상적으로, 요철이 있는 흑색계의 도금 표면을 얻으려고 하면, 과잉 소부(燒付) 도금 영역으로 들어가는 전해 전류를 흘리는 방법이 채용된다. 그러나, 여기에서는 전해에 이용하는 전류 밀도가 작은 것일수록, 안정적으로 양호한 회색화 처리가 가능해지는 경향이 있다. 따라서, 가능한 한 작은 전류 밀도를 채용하면 되는 것이지만, 공업적인 생산성을 고려하면 전류 밀도 O.5A/d㎡를 하한치라고 판단할 수 있다. 한편, 전류 밀도가 4A/d㎡를 넘으면, 흑색화 처리에 가까운 색조가 얻어지는 경향이 있어, 이 제조 방법을 채용하는 의미를 무시하게 된다. 게다가, 전술한 전류 밀도의 범위에서 형성한 회색화 처리 표면은, 그곳으로부터 가루 떨어짐 현상도 일어나지 않는다.A current of 4 A /
b)의 공정에서는, 이상의 공정을 거친 동박을 수세하고 건조함으로써 황산 코발트 도금층을 회색화 처리면으로 하는 표면 처리 동박을 얻는 것이다. 여기에서의 수세 방법, 건조 방법에 특별한 한정은 없고, 통상적으로 생각되는 방식을 채용할 수 있다.In the process of b), the copper foil which passed the above process is washed with water and dried, and the surface-treated copper foil which makes a cobalt sulfate plating layer the graying process surface is obtained. There is no restriction | limiting in particular in the water washing method and the drying method here, The method normally considered can be employ | adopted.
제2 표면 처리 동박의 제조 방법Manufacturing method of 2nd surface treatment copper foil
제2 표면 처리 동박의 경우에는, 전술한 제1 표면 처리 동박의 제조 방법과 마찬가지로, 황산 코발트 도금층을 회색화 처리면으로 하는 표면 처리 동박을 제조하고, 그 다음, 녹방지 처리층의 형성을 행하는 것이다. 따라서, 제조 플로우는 "a) 동박의 광택면에 회색의 황산 코발트 도금층을 형성한다, b) 회색의 황산 코발트 도금층을 형성한 동박의 양면 혹은 한쪽 면에 녹방지 처리층을 형성한다, c) 그 후, 수세하고 건조한다"로 된다. 즉, 제1 표면 처리 동박의 제조 방법에 녹방지 처리층의 형성 공정이 부가된 것에 지나지 않는다.In the case of the 2nd surface-treated copper foil, similarly to the manufacturing method of the 1st surface-treated copper foil mentioned above, the surface-treated copper foil which makes a cobalt sulfate plating layer into a graying process surface is manufactured, and then, an antirust process layer is formed will be. Therefore, the production flow is "a) to form a gray cobalt sulfate plating layer on the gloss surface of copper foil, b) to form a rust prevention layer on both surfaces or one side of the copper foil on which the gray cobalt sulfate plating layer was formed, c) the Then washed with water and dried. That is, the formation process of an antirust process layer is only added to the manufacturing method of a 1st surface treatment copper foil.
따라서, 여기에서는 녹방지 처리층의 형성 공정에 관해서만 설명한다. 회색의 황산 코발트 도금층의 형성이 종료된 동박의 양면 혹은 한쪽 면에 녹방지 처리층을 형성한다. 종래 알려진 이미다졸, 벤조 트리아졸 등의 유기 녹방지, 일반적으로 이용되고 있는 아연 또는 놋쇠 등의 아연 합금에 의한 무기 녹방지 등을 이용하는 경우에 관해서는, 특히 설명을 필요로 하지 않고 통상적인 방법에 따르면 된다고 생각하여 여기에서의 상세한 설명은 생략한다.Therefore, only the formation process of a rust prevention process layer is demonstrated here. An antirust treatment layer is formed on both surfaces or one side of the copper foil in which the formation of the gray cobalt sulfate plating layer is completed. In the case of using conventionally known organic rust prevention such as imidazole and benzotriazole, and inorganic rust prevention by zinc alloys such as zinc or brass which are generally used, no explanation is necessary and the conventional method is not required. The detailed description thereof will be omitted since it is considered to be followed.
이하, 녹방지 처리층을 아연-니켈 합금 도금액 또는 아연-코발트 합금 도금액을 이용하여 도금 처리해 형성하는 경우에 관하여 기술하기로 한다. 먼저, 아연-니켈 합금 도금에 관해 설명한다. 여기에서 이용하는 아연-니켈 합금 도금액에 특별히 한정은 없지만, 일례를 들면, 황산 니켈을 이용한 니켈 농도가 1 내지 2.5g/l, 필로린산 아연을 이용한 아연 농도가 O.1 내지 1g/l, 필로린산 칼륨 50 내지 500g/l, 액온 20 내지 50℃, pH 8 내지 11, 전류 밀도 O.3 내지 10A/d㎡의 조건 등을 채용한다.Hereinafter, the case where the antirust process layer is formed by plating by using a zinc-nickel alloy plating solution or a zinc-cobalt alloy plating solution will be described. First, zinc-nickel alloy plating will be described. Although there is no restriction | limiting in particular in the zinc-nickel alloy plating liquid used here, For example, the nickel concentration using nickel sulfate is 1-2.5 g / l, and the zinc concentration using zinc piloline is 0.1-1 g / l, and phyllolic acid Potassium 50 to 500 g / l,
다음으로, 아연-코발트 합금 도금에 관하여 설명한다. 여기에서 이용하는 아연-코발트 합금 도금액에 특별히 한정은 없지만, 일례를 들면, 황산 코발트를 이용한 코발트 농도가 1 내지 2.5g/l, 필로린산 아연을 이용한 아연 농도가 O.1 내지 1g/l, 필로린산 칼륨 50 내지 500g/l, 액온 20 내지 50℃, pH 8 내지 11, 전류 밀도 O.3 내지 10A/d㎡의 조건 등을 채용한다. 이 아연-코발트 합금 도금과 후술하는 크로메이트 처리를 조합한 녹방지 처리층은, 특히 뛰어난 내식 성능을 나타낸다.Next, zinc-cobalt alloy plating is demonstrated. Although there is no restriction | limiting in particular in the zinc-cobalt-alloy plating liquid used here, For example, the cobalt density | concentration using cobalt sulfate is 1-2.5 g / l, and the zinc concentration | concentration using zinc phyllodate is 0.1-1 g / l, phylophosphoric acid Potassium 50 to 500 g / l,
제2 표면 처리 동박의 경우에는, 동박의 표면에 아연-니켈 합금층 또는 아연-코발트 합금층 등을 형성한 후에 크로메이트층을 형성하면, 보다 뛰어난 내식성을 얻을 수 있다. 즉, 전술한 녹방지 처리층의 형성 후에, 크로메이트 처리 공정을 마련하면 된다. 이 크로메이트 처리 공정에서는, 크로메이트 용액과 당해 동박 표면을 접촉시켜 치환 처리하거나 또는, 크로메이트 용액 내에서 전해하여 크로메이트 피막을 형성하는 전해 크로메이트 처리 중 어떤 방법을 채용하여도 상관없다. 또한, 여기에서 이용하는 크로메이트 용액에 관해서도, 통상적인 방법에서 이용되는 범위의 것을 사용할 수 있다. 그리고, 그 다음, 수세하고 건조함으로써 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박을 얻는다.In the case of the second surface-treated copper foil, more excellent corrosion resistance can be obtained by forming a chromate layer after forming a zinc-nickel alloy layer, a zinc-cobalt alloy layer, or the like on the surface of the copper foil. That is, what is necessary is just to provide the chromate processing process after formation of the antirust process layer mentioned above. In this chromate treatment process, you may employ | adopt any method of the electrolytic chromate treatment which contacts with a chromate solution and the said copper foil surface, or performs electrolytic treatment in a chromate solution, and forms a chromate film. Moreover, also about the chromate solution used here, the thing of the range used by a conventional method can be used. And the surface-treated copper foil provided with the graying process surface is then obtained by washing with water and drying.
(전자파 차폐 도전성 메시)(Electromagnetic shielding conductive mesh)
이상 기술한 본건 발명에 따른 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박은, 회색화 처리면으로부터의 가루 떨어짐이 없고, 게다가, 양호한 회색을 가지면서도, 그 회색화 처리층은 통상적인 구리 에칭 프로세스로 에칭 제거가 가능하다. 따라서, 프린트 배선판을 제조하는 프로세스를 사용하여, 용이하게 임의의 형상으로 가공할 수 있다. 이점을 생각하면, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널에 장착되는 전자파 차폐 도전성 메시의 용도에 최적이라고 할 수 있다.The surface-treated copper foil provided with the graying process surface which concerns on this invention described above does not have the powder fall off from the graying process surface, and also has gray gray, and the graying process layer is a normal copper etching process. Etch removal is possible. Therefore, it can process into arbitrary shapes easily using the process of manufacturing a printed wiring board. Considering this, it can be said that it is optimal for the use of the electromagnetic shielding conductive mesh mounted on the front panel of the plasma display panel.
〈발명의 효과〉<Effects of the Invention>
본건 발명에 따른 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박은, 황산 코발트 도금층이 매우 얇은 것임에도 불구하고, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널의 전자파 차폐 도전성 메시 용도로 사용할 수 있을 만큼의 양호한 회색을 나타내고 있다. 그리고, 코발트 함유량이 적기 때문에 에칭 특성이 양호하고, 게다가, 통상적인 염화철, 황산-과산화 수소계의 구리 에칭액의 역가를 낮추는 일 없이, 용액 수명을 장기화시킬 수 있게 된다.Although the surface-treated copper foil provided with the graying process surface which concerns on this invention is a very thin cobalt sulfate plating layer, it shows the favorable gray enough to be used for the electromagnetic shielding conductive mesh of the front panel of a plasma display panel. . Since the cobalt content is small, the etching characteristics are good, and the solution life can be prolonged without lowering the titer of the conventional iron chloride and sulfuric acid-hydrogen peroxide-based copper etching solutions.
또한, 본건 발명에 따른 표면 처리 동박의 제조 방법은, 상기 표면 처리 동박을 높은 제품 수율로 제조하는 것이 가능하며, 전술한 제조 조건을 채용하여 형성한 황산 코발트 도금층은 가장 효율적으로 구리 에칭액에 용해된다.Moreover, in the manufacturing method of the surface-treated copper foil which concerns on this invention, it is possible to manufacture the said surface-treated copper foil with high product yield, and the cobalt sulfate plating layer formed employ | adopting the manufacturing conditions mentioned above is melt | dissolved in copper etching liquid most efficiently. .
도 1은, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성을 모식적으로 도시한 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The figure which showed typically the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface.
도 2는, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성을 모식적으로 도시한 도면.FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross-sectional layer structure of a surface-treated copper foil having a grayed surface.
도 3은, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성의 FIB 관찰상.FIG. 3: FIB observation image of the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface.
도 4는, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성의 FIB 관찰상.FIG. 4: FIB observation image of the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface.
도 5는, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성의 FIB 관찰상.FIG. 5: FIB observation image of the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface.
도 6은, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성을 모식적으로 도시한 도면.6 is a diagram schematically illustrating a cross-sectional layer structure of a surface-treated copper foil having a grayed surface.
도 7은, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성을 모식적으로 도시한 도면.The figure which shows typically the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface.
도 8은, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성을 모식적으로 도시한 도면.FIG. 8: is the figure which shows typically the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface.
도 9는, 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면층 구성을 모식적 으로 도시한 도면.9 is a diagram schematically showing a cross-sectional layer structure of a surface-treated copper foil having a grayed surface.
도 10은, 조화 처리한 동박 표면의 주사형 전자 현미경상.The scanning electron microscope image of the roughening process copper foil surface.
도 11은, 회색의 황산 코발트 도금층을 저배율 관찰한 주사형 전자 현미경상.Fig. 11 is a scanning electron microscope image of low magnification of a gray cobalt sulfate plating layer.
도 12는, 회색의 황산 코발트 도금층을 고배율 관찰한 주사형 전자 현미경상.12 is a scanning electron microscope image of high magnification of a gray cobalt sulfate plating layer.
도 13은, 에칭 테스트 패턴의 주사형 전자 현미경상.13 is a scanning electron microscope image of an etching test pattern.
도 14는, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널의 제조 플로우를 나타내는 모식도.14 is a schematic diagram showing a manufacturing flow of a front panel of a conventional plasma display panel.
도 15는, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널의 제조 플로우를 나타내는 모식도.15 is a schematic diagram illustrating a manufacturing flow of a front panel of a conventional plasma display panel.
도 16은, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널의 제조 플로우를 나타내는 모식도.16 is a schematic diagram showing a manufacturing flow of a front panel of a conventional plasma display panel.
부호의 설명Explanation of the sign
1a, 1b, 1c, 1d, 1e, 1f: 표면 처리 동박1a, 1b, 1c, 1d, 1e, 1f: surface treated copper foil
2: 조화 처리층2: harmonic treatment layer
3: 미세 구리입자3: fine copper particles
4: 황산 코발트 도금층4: cobalt sulfate plating layer
5: 녹방지 처리층(아연-니켈 합금층 또는 아연-코발트 합금층)5: antirust treatment layer (zinc-nickel alloy layer or zinc-cobalt alloy layer)
6: 크로메이트 처리층6: chromate treated layer
7: 동박층7: copper foil
이하에, 전술한 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박을 제조하고, 구리 에칭액을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 제조한 결과를 기술한다.Below, the result of having manufactured the surface-treated copper foil provided with the above-mentioned grayening process surface, and manufactured the electromagnetic wave shielding conductive mesh using a copper etching liquid.
제1 실시예First embodiment
본 실시 형태에서는, 도 1에 도시한 제1 표면 처리 동박(1a)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다.In this embodiment, the 1st surface treatment copper foil 1a shown in FIG. 1 was manufactured, the electromagnetic wave shielding conductive mesh shape was experimentally manufactured by the etching method, and the etching performance was confirmed.
본 실시 형태에서는, 황산구리 용액을 전해함으로써 얻어진 공칭 두께 15㎛의 동박을 이용하였다. 그리고, 동박을 황산 농도 150g/l, 액온 30℃의 희황산 용액을 이용하여, 이 용액에 30초 침지하여 표면의 청정화를 행하였다.In this embodiment, the copper foil of 15 micrometers of nominal thickness obtained by electrolyticating a copper sulfate solution was used. And copper foil was immersed in this solution for 30 second using the sulfuric acid concentration 150g / l and the dilute sulfuric acid solution of 30 degreeC of liquid temperature, and the surface was cleaned.
그리고, 공칭 두께 15㎛ 전해 동박의 광택면에 조화(粗化) 처리를 실시했다. 이때의 조화 처리는, 이 미세 구리입자(3)를 동박(7)의 한쪽 면에 부착 형성하는 것으로서, 황산구리계 용액으로 농도가 구리 10g/l, 황산 100g/l, 염소 25ppm, 9-페닐 아크리딘 140㎎/l의 용액, 액온 38℃, 전류 밀도 15A/d㎡, 전해 시간 2초의 전해 조건을 채용하였다. 그 조화 처리한 동박 표면을 나타낸 것이 도 10이다.And the roughening process was performed to the gloss surface of 15 micrometers of nominal thickness electrolytic copper foil. The roughening process at this time attaches and forms this
a) 공정으로서, 당해 전해 동박의 조면(粗面) 상에, a) 공정으로서 황산 코발트 도금층을 형성하였다. 황산 코발트 도금층의 형성은, 황산 코발트(7 수화물)를 20g/l, pH를 5.5로 조정하고, 액온 27℃로 한 황산 코발트 도금액을 교반욕으로서 이용하여, 1A/d㎡의 전류 밀도로 12초간 전해함으로써, 회색의 황산 코발트 도 금층(환산 두께가 27O㎎/㎡)을 형성하였다. 이때 용액 내의 코발트 이온 농도의 조정은 특별히 행하지 않았다. 단시간 전해이기 때문에 금속 이온 농도의 조정은 불필요하다고 생각했기 때문이다. 도 11 및 도 12에 형성한 황산 코발트 도금층을 나타내고 있다. 도 11은 저배율 관찰한 주사형 전자 현미경상이고, 도 12는 고배율 관찰한 주사형 전자 현미경상이다. 도 12로부터 명료하게 알 수 있듯이, 베이스의 전해 동박의 조면 형상이 명확하게 파악될 수 있어, 회색화 처리층 자체는 극히 얇은 것임을 이해할 수 있다.As a process, the cobalt sulfate plating layer was formed as a process on the rough surface of the said electrolytic copper foil. Formation of the cobalt sulfate plating layer was carried out at a current density of 1 A /
b)의 공정으로서, 충분하게 순수(純水)를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1a)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정 용액의 반입을 방지한다.As the process of b), pure water is sufficiently showered and washed, the heater is kept for 4 seconds in a drying furnace having an atmospheric temperature of 150 ° C. with an electric heater to blow off moisture, and has a grayed surface of very good color tone. One surface-treated copper foil 1a was obtained. In addition, between each process mentioned above, the water washing process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of a pretreatment process solution is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타내는 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이(d)가 80㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 41, 광택도[Gs(60°)]가 2.5였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section shown in FIG. 3 is obtained, and the cross-sectional height d of the said graying process surface is 80 nm, L value in the Lab colorimetric system of the said grayening process surface was 41, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.5. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 이 회색화 처리면에 투명 수지 피막으로서 에폭시계 수지를 도포하고 건조하여 경화시켜, 경화한 에폭시 수지층을 통해 회색화 처리면의 변화한 색조를 관찰하는 대체법을 채용하였다. 그 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.5인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the grayed surface before forming the transparent resin film was 0.9. The grayed surface was coated with an epoxy resin as a transparent resin film, dried and cured, and grayed out through the cured epoxy resin layer. An alternative method of observing the changed color tone of the treated surface was adopted. As a result, the grayed surface was observed as black with a black density of 1.5.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
이상과 같이 하여 얻어진 표면 처리 동박의 양면에 에칭 레지스트가 되는 드라이 필름을 접합시켰다. 그리고, 회색화 처리면측의 드라이 필름에만, 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하기 위한 시험용의 마스크 필름을 겹쳐, 메시 피치 200㎛, 메시선폭 10㎛, 메시 바이어스 각도 45°이고, 주위에 메시 전극부를 구비하는 도전성 메시 패턴을 자외선 노광하였다. 이때, 동시에 반대면의 에칭 레지스트층의 전체면에도 자외선 노광함으로써, 이후 현상에 의해 제거할 수 없도록 하였다. 그 다음, 알칼리 용액을 이용해 현상하여 에칭 패턴을 형성하였다.The dry film used as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as mentioned above. Then, only the dry film on the grayed-out surface side was superimposed with a mask film for a test for producing an electromagnetic wave shielding conductive mesh, a mesh pitch of 200 μm, a mesh line width of 10 μm, and a mesh bias angle of 45 °. The conductive mesh pattern to be exposed was subjected to ultraviolet exposure. At this time, ultraviolet light was also exposed to the entire surface of the etching resist layer on the opposite side, so that it could not be removed by subsequent development. It was then developed using an alkaline solution to form an etching pattern.
그리고, 구리 에칭액인 염화철 에칭액을 이용하여, 회색화 처리면측으로부터 구리 에칭하고, 그 다음, 에칭 레지스트층을 박리함으로써, 전자파 차폐 도전성 메시를 제조하였다. 그 결과, 에칭 잔사도 없고 매우 양호한 에칭이 행해졌다. 도 13에는, 에칭성을 평가하기 위한 테스트 패턴(13㎛ 폭 회로)의 에칭 상태를 나타내고 있다. 도 13으로부터 알 수 있듯이, 에칭 잔사도 없고 에칭 팩터가 극히 뛰어난 미려한 회로를 얻을 수 있다.And the electromagnetic wave shielding conductive mesh was manufactured by copper-etching from the graying process surface side using the iron chloride etching liquid which is copper etching liquid, and then peeling off an etching resist layer. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed. In FIG. 13, the etching state of the test pattern (13 micrometer width circuit) for evaluating etching property is shown. As can be seen from FIG. 13, a beautiful circuit having no etching residue and extremely excellent etching factor can be obtained.
제2 실시예Second embodiment
본 실시예는, 도 6에 도시하는 바와 같이, 녹방지 처리층으로서 아연-니켈 합금층을 구비한 제2 표면 처리 동박(1c)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다. 따라서, 황산 코발트 도금층에 의한 회색화 처리층을 형성할 때까지는, 제1 실시예와 공통되기 때문에, 녹방지 처리 조건에 관해서만 설명한다. 한편, 회색의 황산 코발트 도금층의 환산 두께는 제1 실시예와 마찬가지로 270㎎/㎡이다.In this embodiment, as shown in Fig. 6, a second surface-treated copper foil 1c having a zinc-nickel alloy layer as a rust-preventing layer was produced, and the electromagnetic shielding conductive mesh shape was experimentally tested by an etching method. It was prepared to confirm the etching performance. Therefore, since it is common to 1st Example until the graying process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. On the other hand, the converted thickness of the gray cobalt sulfate plating layer is 270 mg /
여기에서는 제1 실시예의 한쪽 면에 회색의 황산 코발트 도금층의 형성이 종료된 동박의 양면에, 아연-니켈 합금 도금액을 이용하여 도금 처리하여, 양면에 아연-니켈 합금층을 형성하였다. 아연-니켈 합금층은, 황산 니켈을 이용하여 니켈 농도가 2.0g/l, 필로린산 아연을 이용하여 아연 농도가 0.5g/l, 필로린산 칼륨 250g/l, 액온 35℃, pH 10, 전류 속도 5A/d㎡의 조건에서 5초간 전해하여, 양면에 균일하고 평활하게 전해석출시켰다.Here, plating was performed on both surfaces of the copper foil in which the formation of the gray cobalt sulfate plating layer was finished on one surface of the first embodiment by using a zinc-nickel alloy plating solution to form a zinc-nickel alloy layer on both surfaces. The zinc-nickel alloy layer has a nickel concentration of 2.0 g / l using nickel sulfate, a zinc concentration of 0.5 g / l using zinc pilodate, 250 g / l of potassium phylate, liquid temperature 35 ° C., pH 10, and current rate. Electrolysis was carried out for 5 seconds under the condition of 5 A /
그리고, 제1 실시예와 마찬가지로 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1c)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여, 전 처리 공정의 용액이 반입되지 않도록 한다.As in the first embodiment, the pure water was sufficiently showered and washed, the heater was kept for 4 seconds in a drying furnace having an ambient temperature of 150 ° C. with a heater to blow off moisture, and the surface treatment was provided with a grayed surface of very good color tone. Copper foil (1c) was obtained. In addition, between each process mentioned above, the water washing process by pure water for 15 second is provided in principle, and the solution of a pretreatment process is not carried in.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단 면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 75㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 39, 광택도[Gs(60°)]가 2.5였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained and the cross-sectional height of the said graying process surface is 75 nm, L value in the Lab colorimetric system of the said grayening process surface was 39, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.5. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.6인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the gray-treated surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the gray-treated surface was observed as black with a black density of 1.6.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 녹방지 처리층이 존재하고 있어도 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, even if the antirust process layer existed, there was no problem in the etching operation, there was no etching residue, and very good etching was performed.
제3 실시예Third embodiment
본 실시예는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 녹방지 처리층으로서 아연-니켈 합금층 및 크로메이트 처리층을 구비한 제2 표면 처리 동박(1e)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다. 따라서, 황산 코발트 도금층에 의한 회색화 처리층을 형성할 때까지는, 제1 실시예와 공통되기 때문에, 녹방지 처리 조건에 관해서만 설명한다. 한편, 회색의 황산 코발트 도금층의 환산 두께는 제1 실시예와 동일하게 270㎎/㎡이다.In the present embodiment, as shown in Fig. 8, a second surface-treated copper foil 1e having a zinc-nickel alloy layer and a chromate treatment layer as an antirust treatment layer is produced, and the electromagnetic shielding conductive mesh shape is etched. Experimentally prepared to confirm the etching performance. Therefore, since it is common to 1st Example until the graying process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. On the other hand, the converted thickness of the gray cobalt sulfate plating layer is 270 mg /
녹방지 처리층의 형성은, 제2 실시예와 마찬가지로, 아연-니켈 합금 도금액을 이용하여, 양면에 아연-니켈 합금층을 형성한 후에, 양면에 크로메이트 처리를 행하였다. 여기에서는, 전해 크로메이트 처리를 채용하고, 전해 조건은, 크롬산 5.0g/l, pH 11.5, 액온 35℃, 전류 밀도 8A/d㎡, 전해 시간 5초로 하였다.In the formation of the antirust treatment layer, a zinc-nickel alloy layer was formed on both surfaces using a zinc-nickel alloy plating solution, and then chromate-treated on both surfaces. Here, electrolytic chromate treatment was adopted, and electrolytic conditions were made into chromic acid 5.0g / l, pH 11.5, liquid temperature 35 degreeC, current density 8A / dm <2>, and
그리고, 크로메이트층의 형성이 종료되면, 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1e)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정 용액의 반입을 방지한다.When the formation of the chromate layer is completed, the pure water is sufficiently showered and washed, the heater is kept for 4 seconds in a drying furnace having an atmospheric temperature of 150 ° C. with an electric heater to blow off moisture, and the grayed surface having a very good color tone is provided. Surface-treated copper foil (1e) was obtained. In addition, between each process mentioned above, the water washing process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of a pretreatment process solution is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 75㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 40, 광택도[Gs(60°)]가 2.3이었다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 75 nm, The L value in the Lab color system of the graying process surface was 40, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.3. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도 는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.5인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the grayed-out surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluation by the alternative method similar to Example 1, the grayed-out surface was observed as black with a black density of 1.5.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 녹방지 처리층이 존재하고 있어도 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, even if the antirust process layer existed, there was no problem in the etching operation, there was no etching residue, and very good etching was performed.
제4 실시예Fourth embodiment
본 실시예는, 도 6에 도시하는 바와 같이, 녹방지 처리층으로서 아연-코발트 합금층을 구비한 제2 표면 처리 동박(1c)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다. 따라서, 황산 코발트 도금층에 의한 회색화 처리층을 형성할 때까지는, 제1 실시예와 공통되기 때문에, 녹방지 처리 조건에 관해서만 설명한다. 한편, 회색의 황산 코발트 도금층의 환산 두께는 제1 실시예와 동일하게 270㎎/㎡이다.In this embodiment, as shown in Fig. 6, a second surface-treated copper foil 1c having a zinc-cobalt alloy layer as a rust-preventing layer is produced, and the electromagnetic shielding conductive mesh shape is experimentally tested by an etching method. It was prepared to confirm the etching performance. Therefore, since it is common to 1st Example until the graying process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. On the other hand, the converted thickness of the gray cobalt sulfate plating layer is 270 mg /
여기에서는 제1 실시예의 광택면에 회색의 황산 코발트 도금계의 형성이 종료된 동박의 양면에, 아연-코발트 합금 도금액을 이용하여 도금 처리하고, 양면에 아연-코발트 합금층을 형성하였다. 아연-코발트 합금층은, 황산 코발트를 이용하여 코발트 농도가 2.0g/l, 필로린산 아연을 이용하여 아연 농도가 0.5g/l, 필로린산 칼륨 250g/l, 액온 35℃, pH10, 전류 밀도 5A/d㎡의 조건으로 5초간 전해하여, 양면에 균일하고 평활하게 전해석출시켰다.Here, plating was performed on both surfaces of the copper foil after the formation of the gray cobalt sulfate plating system on the glossy surface of the first example using a zinc-cobalt alloy plating solution, and a zinc-cobalt alloy layer was formed on both surfaces. The zinc-cobalt alloy layer has a cobalt concentration of 2.0 g / l using cobalt sulfate, a zinc concentration of 0.5 g / l using zinc chlorate, 250 g / l of potassium phylate, liquid temperature 35 ° C., pH 10, and current density of 5 A. Electrolysis was carried out for 5 seconds under the condition of / dm < 2 >, and electrolytic precipitation was uniformly and smoothly on both surfaces.
그리고, 제1 실시예와 마찬가지로 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열 기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1c)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정 용액의 반입을 방지한다.Then, as in the first embodiment, the pure water was sufficiently showered and washed, and the surface treatment was provided with a gray-treated surface of very good color tone by blowing water by remaining in the drying furnace having an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds with an electric heater. Copper foil (1c) was obtained. In addition, between each process mentioned above, the water washing process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of a pretreatment process solution is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 80㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 40, 광택도[Gs(60°)]가 2.5였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 80 nm, The L value in the Lab color system of the graying process surface was 40, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.5. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.93이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.6인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the grayened surface before forming a transparent resin film was 0.93, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the grayed surface was observed as black with a black density of 1.6.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 녹방지 처리층이 존재하고 있어도 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, even if the antirust process layer existed, there was no problem in the etching operation, there was no etching residue, and very good etching was performed.
제5 실시예Fifth Embodiment
본 실시예는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 녹방지 처리층으로서 아연-코발트 합금층을 구비한 제2 표면 처리 동박(1e)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다. 따라서, 황산 코발트 도금층에 의한 회색화 처리층을 형성할 때까지는, 제1 실시예와 공통되기 때문에, 녹방지 처리 조건에 관해서만 설명한다. 한편, 회색의 황산 코발트 도금층의 환산 두께는 제1 실시예와 동일하게 270㎎/㎡이다.As shown in FIG. 8, this Example manufactures the 2nd surface treatment copper foil 1e provided with the zinc-cobalt alloy layer as an antirust process layer, and forms the electromagnetic wave shielding conductive mesh shape by the etching method experimentally. It was prepared to confirm the etching performance. Therefore, since it is common to 1st Example until the graying process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. On the other hand, the converted thickness of the gray cobalt sulfate plating layer is 270 mg /
녹방지 처리층의 형성은, 제4 실시예와 마찬가지로, 아연-코발트 합금 도금액을 이용하여, 양면에 아연-코발트 합금층을 형성한 후에, 양면에 크로메이트 처리를 행하였다. 여기에서는, 전해 크로메이트 처리를 채용하고, 전해 조건은, 크롬산 5.0g/l, pH 11.5, 액온 35℃, 전류 밀도 8A/d㎡, 전해 시간 5초로 하였다.In the formation of the antirust treatment layer, the zinc-cobalt alloy layer was formed on both surfaces using a zinc-cobalt alloy plating solution, and then chromate-treated on both surfaces. Here, electrolytic chromate treatment was adopted, and electrolytic conditions were made into chromic acid 5.0g / l, pH 11.5, liquid temperature 35 degreeC, current density 8A / dm <2>, and
그리고, 크로메이트층의 형성이 종료되면, 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1e)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정 용액의 반입을 방지한다.When the formation of the chromate layer is completed, the pure water is sufficiently showered and washed, the heater is kept for 4 seconds in a drying furnace having an atmospheric temperature of 150 ° C. with an electric heater to blow off moisture, and the grayed surface having a very good color tone is provided. Surface-treated copper foil (1e) was obtained. In addition, between each process mentioned above, the water washing process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of a pretreatment process solution is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 82㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 41, 광택도[Gs(60°)]가 2.4였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 82 nm, The L value in the Lab color system of the graying process surface was 41, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.4. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.6인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the gray-treated surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the gray-treated surface was observed as black with a black density of 1.6.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 녹방지 처리층이 존재하고 있어도 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, even if the antirust process layer existed, there was no problem in the etching operation, there was no etching residue, and very good etching was performed.
제6 실시예Sixth embodiment
본 실시예는, 제1 실시예와 상이하게 전해 동박의 조면에 조화 처리를 실시하지 않고, 이하 제1 실시예와 마찬가지로 하여, 전해 동박의 조면측에 황산 코발트 도금층에 의한 회색화 처리층을 형성하고, 도 2에 도시하는 제2 표면 처리 동박(1b)을 제조하여, 제1 실시예와 마찬가지의 평가를 행하였다. 따라서, 공정의 설명은 제1 실시예와 중복되기 때문에, 여기에서의 기재는 생략한다. 한편, 회색의 황산 코발트 도금층은, 환산 두께가 268㎎/㎡이었다. 형성한 황산 코발트 도금층의 형태는 도 11 및 도 12에 나타내는 바와 같이 관찰된다.This embodiment does not perform roughening treatment on the rough surface of an electrolytic copper foil differently from 1st Example, and forms the graying process layer by the cobalt sulfate plating layer in the rough surface side of an electrolytic copper foil similarly to 1st Example below. And the 2nd surface treatment copper foil 1b shown in FIG. 2 was manufactured and evaluation similar to 1st Example was performed. Therefore, since description of a process overlaps with 1st Example, description here is abbreviate | omitted. On the other hand, the gray cobalt sulfate plating layer had a converted thickness of 268 mg /
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 78㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 42, 광택도[Gs(60°)]가 2.5였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 78 nm, The L value in the Lab color system of the graying process surface was 42, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.5. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.6인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the gray-treated surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the gray-treated surface was observed as black with a black density of 1.6.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, there was no problem in the etching operation, no etching residue, and very good etching was performed.
제7 실시예Seventh embodiment
본 실시 형태에서는, 제6 실시예와 마찬가지로 전해 동박의 광택면에 조화 처리를 실시하지 않고, 조면에 회색화 처리를 행하여, 도 2에 나타낸 제1 표면 처리 동박(1b)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다.In this embodiment, similarly to the sixth example, the surface of the electrolytic copper foil is not subjected to the roughening treatment, the surface is grayed out to produce the first surface-treated copper foil 1b shown in FIG. The conductive mesh shape was experimentally prepared by the etching method to confirm the etching performance.
본 실시 형태에서는, 황산구리 용액을 전해함으로써 얻어진 공칭 두께 15㎛의 동박을 이용하였다. 그리고, 동박을, 황산 농도 150g/l, 액온 30℃의 희류산 용액을 이용하여, 이 용액에 30초 침지하여 표면의 청정화를 행하였다.In this embodiment, the copper foil of 15 micrometers of nominal thickness obtained by electrolyticating a copper sulfate solution was used. And copper foil was immersed in this solution for 30 second using 150 g / l of sulfuric acid concentrations, and the dilute acid solution of 30 degreeC of liquid temperature, and the surface was cleaned.
그리고, 당해 동박의 조면에, a) 공정으로서 황산 코발트 도금층을 형성하였다. 황산 코발트 도금층의 형성은, 황산 코발트(7 수화물)를 20g/l, pH를 5.5로 조정하고, 액온 27℃로 한 황산 코발트 도금액을 교반욕으로서 이용하여, 2A/d㎡의 전류 밀도로 6초간 전해함으로써, 회색의 황산 코발트 도금층(환산 두께가 275㎎/㎡)을 형성하였다. 이때 용액 내의 코발트 이온 농도의 조정은 특별히 행하지 않았다. 단시간 전해이기 때문에 금속 이온 농도의 조정은 불필요하다고 생각했기 때문이다. 형성한 황산 코발트 도금층의 형태는 도 11 및 도 12에 나타내는 바와 같이 관찰된다.And the cobalt sulfate plating layer was formed in the rough surface of the said copper foil as a) process. Formation of the cobalt sulfate plating layer was carried out for 6 seconds at a current density of 2 A /
b)의 공정으로서, 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1b)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정 용액의 반입을 방지한다.As a step (b), the pure water is sufficiently showered and washed, and the surface-treated copper foil having a gray-treated surface of very good color tone is blown out by keeping moisture for 4 seconds in a drying furnace having an atmospheric temperature of 150 ° C with a heater. 1b). In addition, between each process mentioned above, the water washing process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of a pretreatment process solution is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색 화 처리면의 단면 높이가 80㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 39, 광택도[Gs(60°)]가 2.2였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 80 nm, The L value in the Lab colorimeter of the grayened surface was 39 and the glossiness [Gs (60 °)] was 2.2. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.6인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the gray-treated surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the gray-treated surface was observed as black with a black density of 1.6.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, there was no problem in the etching operation, no etching residue, and very good etching was performed.
제8 실시예Eighth embodiment
본 실시 형태에서는, 제6 실시예와 마찬가지로 전해 동박의 광택면에 조화 처리를 실시하지 않고, 조면에 회색화 처리를 행하여, 도 2에 나타낸 제1 표면 처리 동박(1b)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다.In this embodiment, similarly to the sixth example, the surface of the electrolytic copper foil is not subjected to the roughening treatment, the surface is grayed out to produce the first surface-treated copper foil 1b shown in FIG. The conductive mesh shape was experimentally prepared by the etching method to confirm the etching performance.
본 실시 형태에서는, 황산구리 용액을 전해함으로써 얻어진 공칭 두께 15㎛의 동박을 이용하였다. 그리고, 동박을, 황산 농도 150g/l, 액온 30℃의 희류산 용 액을 이용하여, 이 용액에 30초 침지하여 표면의 청정화를 행하였다.In this embodiment, the copper foil of 15 micrometers of nominal thickness obtained by electrolyticating a copper sulfate solution was used. And copper foil was immersed in this solution for 30 second using 150 g / l of sulfuric acid concentrations, and the dilute acid solution of 30 degreeC of liquid temperature, and the surface was cleaned.
그리고, 당해 동박의 조면에, a) 공정으로서 황산 코발트 도금층을 형성하였다. 황산 코발트 도금층의 형성은, 황산 코발트(7 수화물)를 40g/l, pH를 5.5로 조정하고, 액온 27℃로 한 황산 코발트 도금액을 교반욕으로서 이용하여, 1A/d㎡의 전류 밀도로 12초간 전해함으로써, 회색의 황산 코발트 도금층(환산 두께가 268㎎/㎡)을 형성하였다. 이때 용액 내의 코발트 이온 농도의 조정은 특별히 행하지 않았다. 단시간 전해이기 때문에 금속 이온 농도의 조정은 불필요하다고 생각했기 때문이다. 형성한 황산 코발트 도금층의 형태는 도 11 및 도 12에 나타내는 바와 같이 관찰된다.And the cobalt sulfate plating layer was formed in the rough surface of the said copper foil as a) process. The formation of the cobalt sulfate plating layer was performed by adjusting the cobalt sulfate (7 hydrate) to 40 g / l and pH to 5.5, using a cobalt sulfate plating solution having a liquid temperature of 27 ° C. as a stirring bath for 12 seconds at a current density of 1 A /
b)의 공정으로서, 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1b)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정 용액의 반입을 방지한다.As a step (b), the pure water is sufficiently showered and washed, and the surface-treated copper foil having a gray-treated surface of very good color tone is blown out by keeping moisture for 4 seconds in a drying furnace having an atmospheric temperature of 150 ° C with a heater. 1b). In addition, between each process mentioned above, the water washing process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of a pretreatment process solution is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 78㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 40, 광택도[Gs(60°)]가 2.6이었다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어 짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 78 nm, The L value in the Lab color system of the graying process surface was 40, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.6. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder dropping was not confirmed in the tape test in which the adhesive tape was attached to the surface and pulled off.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.5인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the gray-treated surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the gray-treated surface was observed as black with a black density of 1.5.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, there was no problem in the etching operation, no etching residue, and very good etching was performed.
제9 실시예9th Example
본 실시예는, 도 7에 도시한 바와 같은, 녹방지 처리층으로서 아연-코발트 합금층을 구비한 제2 표면 처리 동박(1d)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다. 따라서, 황산 코발트 도금층에 의한 회색화 처리층을 형성할 때까지는, 제7 실시예와 공통되기 때문에, 녹방지 처리 조건에 관해서만 설명한다. 한편, 회색의 황산 코발트 도금층의 환산 두께는 제7 실시예와 동일하게 268㎎/㎡였다.In this embodiment, as shown in Fig. 7, a second surface-treated copper foil 1d having a zinc-cobalt alloy layer as a rust-preventing layer is produced, and the electromagnetic shielding conductive mesh shape is experimentally tested by an etching method. It was prepared to confirm the etching performance. Therefore, since it is common to 7th Example until the graying process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. In addition, the conversion thickness of the gray cobalt sulfate plating layer was 268 mg / m <2> similarly to Example 7.
여기에서는 제7 실시예의 한쪽 면에 회색의 황산 코발트 도금층의 형성이 종료된 동박의 양면에, 제4 실시예와 같은 조건으로 양면에 아연-코발트 합금층을 형성하였다. 그리고, 제1 실시예와 마찬가지로 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1d)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정의 용액의 반입을 방지한다.Here, the zinc-cobalt alloy layer was formed on both surfaces of the copper foil by which the formation of the gray cobalt sulfate plating layer was finished on one surface of the seventh example, under the same conditions as in the fourth embodiment. As in the first embodiment, the pure water was sufficiently showered and washed, the heater was kept for 4 seconds in a drying furnace having an ambient temperature of 150 ° C. with a heater to blow off moisture, and the surface treatment was provided with a grayed surface of very good color tone. Copper foil (1d) was obtained. On the other hand, between each process mentioned above, the washing | cleaning process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of the solution of a pretreatment process is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 80㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 41, 광택도[Gs(60°)]가 2.4였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 80 nm, The L value in the Lab color system of the graying process surface was 41, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.4. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.5인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the gray-treated surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the gray-treated surface was observed as black with a black density of 1.5.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, there was no problem in the etching operation, no etching residue, and very good etching was performed.
제10 실시예Tenth embodiment
본 실시예는, 도 9에 도시하는 바와 같은, 녹방지 처리층으로서 아연-코발트 합금층 및 크로메이트 처리층을 구비한 제2 표면 처리 동박(1f)을 제조하고, 전자파 차폐 도전성 메시 형상을 에칭법으로 시험적으로 제조하여 에칭 성능을 확인하였다. 따라서, 황산 코발트 도금층에 의한 회색화 처리층을 형성할 때까지는, 제7 실시예와 공통되기 때문에, 녹방지 처리 조건에 관해서만 설명한다. 한편, 회색의 황산 코발트 도금층의 환산 두께는 제7 실시예와 동일하게 270㎎/㎡이다.This embodiment manufactures the 2nd surface treatment copper foil 1f provided with the zinc-cobalt alloy layer and the chromate treatment layer as an antirust process layer as shown in FIG. 9, and the electromagnetic wave shielding conductive mesh shape is etched. Experimentally prepared to confirm the etching performance. Therefore, since it is common to 7th Example until the graying process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. In addition, the conversion thickness of the gray cobalt sulfate plating layer is 270 mg / m <2> similarly to Example 7.
녹방지 처리층의 형성은, 제4 실시예와 마찬가지로, 아연-코발트 합금 도금액을 이용하여, 양면에 아연 코발트 합금층을 형성한 후에, 양면에 제5 실시예와 마찬가지의 크로메이트 처리를 행하였다.In the formation of the antirust treatment layer, a zinc cobalt alloy layer was formed on both surfaces using a zinc-cobalt alloy plating solution, and the same chromate treatment as that in the fifth embodiment was performed on both surfaces.
그리고, 크로메이트층의 형성이 종료되면, 충분히 순수를 샤워링하여 세정하고, 전열기로 분위기 온도를 150℃로 한 건조로 내에 4초간 체류시켜 수분을 날려, 매우 양호한 색조의 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박(1f)을 얻었다. 한편, 전술한 각 공정 간에는, 원칙적으로, 15초간의 순수에 의한 수세 공정을 마련하여 전 처리 공정 용액의 반입을 방지한다.When the formation of the chromate layer is completed, the pure water is sufficiently showered and washed, the heater is kept for 4 seconds in a drying furnace having an atmospheric temperature of 150 ° C. with an electric heater to blow off moisture, and the grayed surface having a very good color tone is provided. Surface-treated copper foil (1f) was obtained. In addition, between each process mentioned above, the water washing process by the pure water for 15 second is provided in principle, and the carry-in of a pretreatment process solution is prevented.
〈표면 처리 동박의 물성〉<Physical properties of surface-treated copper foil>
이상의 공정을 거쳐 얻어진 회색화 처리면을 구비하는 표면 처리 동박의 단면을 FIB 장치로 관찰한 결과, 도 3에 나타낸 바와 같은 단면이 얻어져, 당해 회색화 처리면의 단면 높이가 78㎚이고, 당해 회색화 처리면의 Lab 표색계에서의 L치가 40, 광택도[Gs(60°)]가 2.4였다. 또한, 회색화 처리면에 색 얼룩은 볼 수 없고, 당해 표면에 점착성 테이프를 붙이고 당겨 벗기는 테이프 테스트에서의 가루 떨어짐도 확인할 수 없었다.When the cross section of the surface-treated copper foil provided with the graying process surface obtained through the above process was observed with the FIB apparatus, the cross section as shown in FIG. 3 was obtained, and the cross-sectional height of the said graying process surface is 78 nm, L value in the Lab colorimeter of the graying process surface was 40, and glossiness [Gs (60 degrees)] was 2.4. In addition, color unevenness was not seen on the grayed-out surface, and powder fall-off in the tape test which stuck and peeled off the adhesive tape on the said surface was not confirmed.
또한, 얻어진 표면 처리 동박의 회색화 처리면이, 플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시로 가공되어, 투명화 처리가 실시되었을 때에 흑색화되어 보이는지 여부를 판단하였다. 투명 수지 피막을 형성하기 전의 회색화 처리면의 흑 농도는 O.9이며, 제1 실시예와 마찬가지의 대체법으로 평가한 결과, 회색화 처리면은 흑 농도가 1.6인 흑색으로서 관찰되었다.In addition, it was judged whether the grayed process surface of the obtained surface-treated copper foil was processed into the electromagnetic wave shielding mesh for plasma displays, and when it became black when it became transparent. The black density of the gray-treated surface before forming a transparent resin film was 0.9, and as a result of evaluating by the alternative method similar to Example 1, the gray-treated surface was observed as black with a black density of 1.6.
〈플라즈마 디스플레이용의 전자파 차폐 메시의 제조〉<Production of electromagnetic wave shielding mesh for plasma display>
제1 실시예와 마찬가지로, 얻어진 표면 처리 동박을 이용하여 전자파 차폐 도전성 메시를 시험 제작하였다. 그 결과, 녹방지 처리층이 존재하고 있어도 에칭 조작에 지장이 없고 에칭 잔사도 없으며, 매우 양호한 에칭이 행해졌다.In the same manner as in the first example, an electromagnetic wave shielding conductive mesh was fabricated using the obtained surface-treated copper foil. As a result, even if the antirust process layer existed, there was no problem in the etching operation, there was no etching residue, and very good etching was performed.
본건 발명에 따른 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박은, 회색화 처리면의 얼룩이 없고, 게다가 당해 표면으로부터의 가루 떨어짐도 없으며, 또한, 통상의 구리 에칭액을 이용한 에칭 가공이 가능하여, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널의 전자파 차폐 도전성 메시에 이용함으로써, 색 얼룩이 없는 고품질의 블랙 마스크의 형성이 가능해진다. 또한, 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박으로서의 공급이 가능하면, 전면 패널의 제조 프로세스에서의 흑색화 처리 공정의 생략이 가능해진다. 또한, 회색화 처리면을 구비한 표면 처리 동박은, 전술한 제조 방법을 채용함으로써, 종래의 동박의 표면 처리 프로세스를 응용하는 것이 가능하여 새로 운 제조 설비를 필요로 하지 않는다. 따라서, 고품질의 색 얼룩이 없는 제품을 높은 제품 수율로 제조할 수 있기 때문에, 생산 코스트의 저감이 가능해진다.The surface-treated copper foil provided with the graying process surface which concerns on this invention has no stain of the graying process surface, and also there is no powder fall off from the said surface, Moreover, the etching process using a normal copper etching liquid is possible, and a plasma display By using it for the electromagnetic wave shielding conductive mesh of the front panel of a panel, formation of the high quality black mask without a color unevenness is attained. Moreover, if supply as a surface-treated copper foil provided with the graying process surface is possible, the blackening process process in the manufacturing process of a front panel will be possible. Moreover, the surface-treated copper foil provided with the graying process surface can apply the surface treatment process of the conventional copper foil by employ | adopting the manufacturing method mentioned above, and does not require a new manufacturing facility. Therefore, since a product without high quality color unevenness can be manufactured with a high product yield, production cost can be reduced.
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