JP4575719B2 - Surface-treated copper foil having a browned surface, a method for producing the surface-treated copper foil, and an electromagnetic shielding conductive mesh for a front panel of a plasma display using the surface-treated copper foil - Google Patents

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Description

茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔、その表面処理銅箔の製造方法及びその表面処理銅箔を用いたプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュに関する。   The present invention relates to a surface-treated copper foil having a browned surface, a method for producing the surface-treated copper foil, and an electromagnetic wave shielding conductive mesh for a front panel of a plasma display using the surface-treated copper foil.

プラズマディスプレイパネルのシールド用導電性メッシュは、進歩の過程において、金属化繊維織物から導電性メッシュへと変遷してきた。この導電性メッシュの製造には、いくつかの方法が確立されている。その一つは、表面処理銅箔をPETフィルムにラミネートして張り合わせ、フォトリソグラフエッチング法を用いて製造するものである。そして、もう一つは、表面処理銅箔を支持基材と共にフォトリソグラフエッチング法でエッチングして、その後、支持基材を剥がした表面処理銅箔単体の導電性メッシュである。   In the course of progress, the conductive mesh for shielding the plasma display panel has changed from a metalized fiber fabric to a conductive mesh. Several methods have been established for producing this conductive mesh. One of them is to manufacture by using a photolithographic etching method by laminating and bonding a surface-treated copper foil to a PET film. The other is a conductive mesh of a single surface-treated copper foil obtained by etching a surface-treated copper foil together with a supporting base material by a photolithographic etching method, and then peeling the supporting base material.

更に、近年の省電力化の要求から、プラズマ発生信号電圧を200Vから50Vレベルを目標として開発が行われており、当該電圧の低下に伴う輝度の減少を補うため、導電性メッシュの回路幅を細線化し、導電性メッシュによる前面ガラスパネルの被覆率を減少させる試みがなされてきた。そのため、導電性メッシュの厚さを薄くして、エッチング加工を容易にすることが行われてきた。その一つが、PETフィルム上にスパッタリング蒸着法により、電気メッキの種となるシード層を形成し、その後電解銅メッキ等で薄い銅層を形成し、フォトリソグラフエッチング法で、メッシュ線幅を微細化した導電性メッシュの製造が行われてきた。   Furthermore, in order to compensate for the decrease in luminance due to the decrease in the voltage, the circuit width of the conductive mesh has been increased in order to compensate for the decrease in the luminance due to the decrease in the voltage. Attempts have been made to reduce the coverage of the front glass panel by thinning the conductive mesh. Therefore, the thickness of the conductive mesh has been reduced to facilitate the etching process. One of them is to form a seed layer, which is the seed of electroplating, on the PET film by sputtering vapor deposition, and then to form a thin copper layer by electrolytic copper plating, etc., and to refine the mesh line width by photolithographic etching Conductive meshes have been manufactured.

これらのいずれの方法で導電性メッシュが製造されるにせよ、導電性メッシュ自体は前面パネルの中に組み込まれ、前面ガラスを通して表面から視認できるものであるため、その導電性メッシュに加工される表面処理銅箔の片面は、茶褐色から黒色の暗色状態に処理され透過光の輝度を引き立たせるようにする。従来から、この処理には多層プリント配線板の技術である、内層回路と樹脂層との接着性向上のために行う黒化処理等が転用されてきた。   Regardless of which method is used to produce the conductive mesh, the conductive mesh itself is built into the front panel and visible from the surface through the front glass, so the surface processed into the conductive mesh. One side of the treated copper foil is treated from a brown color to a black dark state so that the brightness of transmitted light is enhanced. Conventionally, the blackening process etc. which are the techniques of a multilayer printed wiring board for improving the adhesiveness of an inner circuit and a resin layer, etc. have been diverted to this process.

PDP材料の技術動向 日立化成テクニカルレポート 第33号(1999−7)Technical Trends of PDP Materials Hitachi Chemical Technical Report No. 33 (1999-7) 特開平11−186785号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-186785 特開2000−31588公報JP 2000-31588 A

しかしながら、上述の黒化処理には、重大な問題があった。即ち、銅箔表面に銅の黒色酸化物を多く付けると、確かに良好な黒色化面が得られる。ところが、銅箔の表面に形成した銅の黒色酸化物は、付着量が多くなるほど、黒色化面から脱落しやすくなり、いわゆる粉落ち現象が起きやすいのである。   However, the above blackening process has a serious problem. That is, when a large amount of black oxide of copper is applied to the surface of the copper foil, a good blackened surface can be obtained. However, the copper black oxide formed on the surface of the copper foil is more likely to fall off from the blackened surface as the amount of adhesion increases, and the so-called powder-off phenomenon tends to occur.

粉落ち現象が発生すると、脱落した黒色酸化物が無用な箇所に混入したり、前面パネルのガラスと一体化させるための透明化処理の時に、透明接着剤層に分散して透明度を劣化させる要因ともなり得るのである。   Factors that cause the falling black oxide to mix into the useless parts or to disperse in the transparent adhesive layer during the clearing process to integrate with the front panel glass. It can be a friend.

一方で、黒化処理のような粉落ちがなく、良好な黒色化面を形成することの出来る黒色化処理として、一般的な黒色ニッケルメッキ、硫化ニッケルメッキ、コバルトメッキ等が検討されてきたが、通常の銅のエッチングプロセスで黒色化処理面側からのエッチング加工ができないという問題が生じていた。特に、ニッケルを1000mg/m程度のリッチに析出させた黒色化処理面を持つ表面処理銅箔は、粉落ちの問題も解決できず、高価なニッケルを多量に使用するため高価な製品となっていた。このような表面処理銅箔の黒色化処理面の走査型電子顕微鏡像を図10及び図11に示している。 On the other hand, general black nickel plating, nickel sulfide plating, cobalt plating, and the like have been studied as blackening treatments that can form a good blackened surface without powder fall off like blackening treatments. There has been a problem that etching cannot be performed from the blackened surface side by a normal copper etching process. In particular, the surface-treated copper foil having a blackened surface on which nickel is deposited in a rich amount of about 1000 mg / m 2 cannot solve the problem of powder falling, and is expensive because it uses a large amount of expensive nickel. It was. Scanning electron microscope images of the blackened surface of the surface-treated copper foil are shown in FIGS.

そして、特に、現在市場に流通しているコバルトの黒色系メッキ被膜を備えた銅箔には、銅のエッチャントを用いてのコバルト層のエッチング加工が困難であるという問題が生じているのである。   In particular, a copper foil provided with a black plating film of cobalt currently on the market has a problem that it is difficult to etch the cobalt layer using a copper etchant.

また、一方で従来は単に良好な黒色化面を持つ表面処理銅箔が要求されてきたが、プラズマディスプレイパネルの製造技術が成熟し、製造技術及び管理の高度化により、電磁波遮蔽導電性メッシュの黒色度に高いレベルは必要ではなく、むしろ低価格で、しかもエッチング加工がより容易で光の透過度の安定した電磁波遮蔽導電性メッシュが望まれるようになってきた。   On the other hand, surface-treated copper foil with a simply blackened surface has been required in the past. However, the manufacturing technology of plasma display panels has matured, and with the advancement of manufacturing technology and management, the electromagnetic shielding conductive mesh has been improved. A high level of blackness is not necessary, but rather an electromagnetic shielding conductive mesh that is inexpensive, easier to etch, and stable in light transmission has come to be desired.

そして、低価格という条件を満たし、且つ、エッチングが容易と言うことを考えれば、表面処理銅箔の表面を黒色化しないで、コバルト付着量を減らして茶褐色の状態で市場供給する事が考えられてきた。ところが、この茶褐色の表面を持つ表面処理銅箔の欠点は、その茶褐色面の色が均一ではなく、全面にムラが生じたものであった。即ち、同一面内における茶褐色処理の均一化が出来ていないのであり、厳密に言えば、その茶褐色面からエッチング加工をしようとしたときには、エッチングして得られるメッシュの断面形状のバラツキを生じる原因となっていたのである。しかも、その茶褐色面は、艶消し状態であり、その表面を軽く摩擦するだけで、損傷を受けやすいものであった。このような従来の茶褐色面を備える表面処理銅箔の走査型電子顕微鏡像を図12に示している。   And considering the low price requirement and the fact that etching is easy, it is considered that the surface of the surface-treated copper foil is not blackened, but the amount of cobalt adhesion is reduced and the product is supplied in a brownish state. I came. However, the disadvantage of the surface-treated copper foil having a brownish brown surface is that the brownish brown surface is not uniform in color and uneven. That is, the brown color treatment in the same plane has not been made uniform. Strictly speaking, when etching processing is attempted from the brown color surface, it causes the variation in the cross-sectional shape of the mesh obtained by etching. It was. Moreover, the brown surface was in a matte state, and it was easily damaged by merely rubbing the surface. FIG. 12 shows a scanning electron microscope image of the surface-treated copper foil having such a conventional brown surface.

そのため、市場では、均一な茶褐色を持つ茶褐色化処理層を備え且つ通常の銅エッチングプロセスで容易にエッチング加工可能で、しかも摩擦損傷の少ない滑らかなコバルトメッキ被膜を備える表面処理銅箔、及び、そのような表面処理銅箔で製造された導電性メッシュが望まれてきたのである。   Therefore, in the market, a surface-treated copper foil having a browning treatment layer having a uniform brown color and easily etched by a normal copper etching process and having a smooth cobalt plating film with little frictional damage, and its A conductive mesh made of such a surface-treated copper foil has been desired.

そこで、本件発明者等は、鋭意研究の結果、以下に示すような表面処理銅箔を用いることで、茶褐色系のコバルトメッキ層を備える表面処理銅箔であっても、その茶褐色面が極めて均一でムラの無い耐傷性に優れたものであり、しかも銅エッチャントで容易にエッチング加工可能で、高品質のプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュを得ることが可能であることに想到したのである。   Therefore, as a result of earnest research, the present inventors have used a surface-treated copper foil as shown below, and even the surface-treated copper foil having a brown-cobalt cobalt plating layer has an extremely uniform brown surface. It is thought that it is possible to obtain a high-quality electromagnetic shielding conductive mesh for the front panel of a plasma display, which is excellent in scratch resistance with no unevenness and can be easily etched with a copper etchant. It is.

<茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔>
本件発明に係る茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔は、防錆処理層を備えない場合(以下、「第1表面処理銅箔」と称する。)と、防錆処理層を備える場合(以下、「第2表面処理銅箔」と称する。)とを含むものである。従って、防錆処理層は必須のものではないが、表面処理銅箔として長期保存性を確保するためには必要となるものである。以下、本件発明に係る表面処理銅箔に関して説明する。
<Surface treated copper foil with browned surface>
The surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface according to the present invention has no rust-proofing layer (hereinafter referred to as “first surface-treated copper foil”) and has a rust-proofing layer (hereinafter referred to as “first rust-treated copper foil”). And "second surface-treated copper foil"). Therefore, the antirust treatment layer is not essential, but is necessary for ensuring long-term storage as a surface-treated copper foil. Hereinafter, the surface-treated copper foil according to the present invention will be described.

第1表面処理銅箔: 本件発明に係る第1表面処理銅箔は、「茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔であって、当該茶褐色化処理面は、重量厚さ90mg/m〜160mg/mの硫酸コバルトメッキ層であり、その茶褐色化処理面の断面高さが150nm以下、Lab表色系におけるa値が4.0以下であることを特徴とする茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔。」である。この表面処理銅箔1aの断面層構成を模式的に示したのが図1である。 1st surface-treated copper foil: The 1st surface-treated copper foil which concerns on this invention is "surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface, Comprising: The said browning treatment surface is weight thickness 90mg / m < 2 > -160mg. / M 2 cobalt sulfate plating layer, the surface having a browning treatment surface characterized in that the browning treatment surface has a cross-sectional height of 150 nm or less and the a value in the Lab color system is 4.0 or less Treated copper foil. " FIG. 1 schematically shows the cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil 1a.

この図1には、粗化処理層2として、銅箔層7の片面に微細銅粒3を付着させた状態の表面処理銅箔1aを一例として模式的に記載している。しかしながら、このときに用いる銅箔は、粗化処理を行ったものでも、粗化処理を行っていないものでも構わない。図2には、粗化処理を省略した場合の表面処理銅箔1bを模式的に示している。また、電解銅箔の粗面側でも光沢面側でも、いずれの面を用いても構わないのである。微細銅粒3で構成する粗化処理層2を片面に設ける場合を考えると、通常、この粗化処理層2は、基材との接着性改善を目的として形成されるものであるが、ここでは微細な凹凸形状であり、その表面に当たる光が吸収され暗褐色表面とするための補助的役割を果たすのである。従って、この粗化処理層2を形成する場合の方法は、上述のように微細銅粒を付着形成する方法、微細な酸化銅を付着させる等の方法を採用することが可能であり、細かな凹凸であればある程、好ましいのである。なお、銅箔層7には、電解法で得られた電解銅箔、圧延法で得られた圧延銅箔が主に用いられるのである。   In FIG. 1, as the roughening treatment layer 2, a surface treatment copper foil 1 a in a state where fine copper particles 3 are attached to one side of a copper foil layer 7 is schematically described as an example. However, the copper foil used at this time may be roughened or may not be roughened. FIG. 2 schematically shows the surface-treated copper foil 1b when the roughening treatment is omitted. In addition, any surface may be used on the rough surface side or the gloss surface side of the electrolytic copper foil. Considering the case where the roughening treatment layer 2 composed of the fine copper grains 3 is provided on one side, the roughening treatment layer 2 is usually formed for the purpose of improving the adhesion to the substrate. Then, it has a fine uneven shape, and it absorbs the light hitting the surface and plays an auxiliary role to make it a dark brown surface. Therefore, the method for forming the roughened layer 2 can employ a method of forming fine copper particles as described above, a method of attaching fine copper oxide, or the like. The more uneven, the better. For the copper foil layer 7, an electrolytic copper foil obtained by an electrolytic method and a rolled copper foil obtained by a rolling method are mainly used.

そして、この銅箔層7の表面(図1では、粗化処理層2の表面に該当)に硫酸コバルトメッキ層4を設けるのである。ここで言う硫酸コバルトメッキ層4とは、硫酸コバルト溶液を用いてメッキ法で形成した層を意味するものとして用いているのである。この硫酸コバルトメッキ層4は、後述する製造方法を採用し重量厚さ90mg/m〜160mg/mのものとすることで、銅エッチング液に対する溶解性に優れ、且つ、十分な茶褐色化が可能となるのである。従来のコバルト層を用いた黒色メッキ被膜を備えた銅箔のコバルト層は、その重量厚さが1000mg/m前後であり、非常に厚く、メッキ層の溶解性という品質において異なるものであった。その結果、厚さがあるが故に銅エッチング液による溶解速度が遅くなると共に、コバルトという元素自体が銅エッチング液に高濃度に蓄積してエッチング液の力価を低下させる要因となっていたのである。なお、本件発明における換算重量は、コバルト重量に換算してのものである。換算重量は、表面処理銅箔を酸溶液に溶解させ、プラズマ発光分光分析法等により単位面積あたりのコバルト量を求め、表面処理銅箔1mあたりの重量に換算したものである。 The cobalt sulfate plating layer 4 is provided on the surface of the copper foil layer 7 (corresponding to the surface of the roughening treatment layer 2 in FIG. 1). The cobalt sulfate plating layer 4 here is used to mean a layer formed by a plating method using a cobalt sulfate solution. The cobalt sulfate plating layer 4 is, by those of the manufacturing method was employed wt thickness 90mg / m 2 ~160mg / m 2 to be described later, excellent in solubility in copper etching solution, and, enough brown of It becomes possible. The cobalt layer of the copper foil provided with the black plating film using the conventional cobalt layer has a weight thickness of around 1000 mg / m 2 and is very thick and has a different quality in terms of solubility of the plating layer. . As a result, because of the thickness, the dissolution rate by the copper etching solution slows down, and the element itself called cobalt accumulates in the copper etching solution at a high concentration, which causes the titer of the etching solution to decrease. . In addition, the converted weight in this invention is converted into cobalt weight. The converted weight is obtained by dissolving the surface-treated copper foil in an acid solution, obtaining the amount of cobalt per unit area by plasma emission spectroscopy or the like, and converting it to the weight per 1 m 2 of the surface-treated copper foil.

また、本件発明に係る表面処理銅箔の持つ特色は、その褐色化処理面の表面形状が極めて粗いものではなく、当該褐色化処理面の持つ断面高さが150nm以下である。即ち、極めて滑らかで光沢を持つ褐色化処理面ということができる。但し、誤解を招かないために明記しておくが、通常の製造工程の範囲内におけるバラツキが存在するのは当然であり、必ずしも全ての位置での断面高さが150nm以下である必要はなく、製造工程のバラツキを反映した程度で150nmを超える断面高さが存在する場合があるのは当然である。本件発明に係る表面処理銅箔1の褐色化処理面2の断面高さを測定するために、集束イオンビーム加工観察装置を用いて断面観察した観察像を図3に示す。この図3には、電解銅箔の光沢面に褐色化処理面を形成したものを示している。なお、この観察像は、被観察面に対して60°の角度を持った方向から観察したものである。   In addition, the feature of the surface-treated copper foil according to the present invention is that the surface shape of the browning surface is not very rough, and the cross-sectional height of the browning surface is 150 nm or less. That is, it can be said that the surface is a browning treatment surface that is extremely smooth and glossy. However, in order to avoid misunderstanding, it is natural that there is variation within the range of the normal manufacturing process, and the cross-sectional height at all positions is not necessarily 150 nm or less, Of course, there may be a cross-sectional height of more than 150 nm to reflect the variation in the manufacturing process. In order to measure the cross-sectional height of the browning surface 2 of the surface-treated copper foil 1 according to the present invention, an observation image obtained by cross-sectional observation using a focused ion beam processing observation apparatus is shown in FIG. FIG. 3 shows the electrolytic copper foil with a browned surface formed on the glossy surface. This observation image is observed from a direction having an angle of 60 ° with respect to the surface to be observed.

この図3から分かるように、褐色化処理面の断面は一定の凹凸が存在することが明らかであり、このような凹凸をモニターする場合、触針式の表面粗さ計を用いるのが一般的である。ところが、図3のスケールから分かるように、表面粗さ計では正確な粗さ測定が不可能なレベルの凹凸であると考えられる。そこで、本件発明では、表面粗さ計で測ったときのRz(従来のRmax)に対応する値として、観察像の視野の中の山部と谷部との最大差を「断面高さ」としているのである。この図3の中に「d」で示す箇所が断面高さとなり、約65nmと判断できるのである。しかも、図3において、褐色化処理面2は、極めて均一な厚さで銅箔表面の形状に沿って形成されており、下地の銅箔表面と完全に密着した状態を維持しており、褐色化処理面2が浮き上がる等の不具合箇所は見あたらず、粉落ちを予感させる箇所は見られないのである。   As can be seen from FIG. 3, it is clear that the cross section of the browning surface has certain irregularities, and in order to monitor such irregularities, a stylus type surface roughness meter is generally used. It is. However, as can be seen from the scale of FIG. 3, it is considered that the surface roughness meter has irregularities at a level where accurate roughness measurement is impossible. Therefore, in the present invention, as a value corresponding to Rz (conventional Rmax) measured with a surface roughness meter, the maximum difference between the peak and valley in the field of view of the observation image is defined as “cross-sectional height”. It is. In FIG. 3, the portion indicated by “d” is the height of the cross section, and can be determined to be about 65 nm. Moreover, in FIG. 3, the browning surface 2 is formed along the shape of the copper foil surface with a very uniform thickness and maintains a state of being completely in close contact with the surface of the underlying copper foil. There are no trouble spots such as the floatation surface 2 being lifted up, and there are no places where powder fall is predicted.

これに対し、従来の褐色化処理面を備える銅箔の褐色化処理面を、上述したと同様に断面からFIB分析すると、図4に示すような結果となる。即ち、褐色化処理面を構成する形状が樹枝状に成長し、下地の銅箔からかなり突出した状態となっていることが分かるのである。従って、このときの断面高さ(d)を測定すると約180nmとなり、かなり荒れた表面になっていることが理解できるのである。しかも、このような、樹枝形状を持つ褐色化処理面は、その樹枝状部が折れ易く損傷を受けやすい表面であると言え、しかも、折れた断片が脱落すれば粉落ちが発生するのも当然であり、褐色化処理表面から目視で見たとき色ムラを引き起こす原因となっていると考えられるのである。   On the other hand, when the browning treatment surface of the copper foil provided with the conventional browning treatment surface is subjected to FIB analysis from the cross section in the same manner as described above, the result shown in FIG. 4 is obtained. That is, it can be seen that the shape constituting the browning surface has grown in a dendritic shape and is considerably protruded from the underlying copper foil. Therefore, when the cross-sectional height (d) at this time is measured, it is about 180 nm, and it can be understood that the surface is considerably rough. Moreover, it can be said that the browning surface having a dendritic shape is a surface where the dendritic portion is easily broken and easily damaged, and it is natural that if the broken pieces fall off, powdering will occur. This is considered to be a cause of color unevenness when viewed from the browned surface.

以上に述べてきた本件発明に係る表面処理銅箔は、図3のFIB断面観察像から見ても極めて滑らかな表面を持っていることが理解できる。ところが、光沢のある褐色化処理ではあるが、褐色化処理表面が受けた光を乱反射する程の光沢を有するわけではなく、電解銅箔の光沢面及び圧延銅箔の表面に褐色化処理を施した場合でも、Lab表色系におけるa値が4.0以下となるのである。ここで、4.0以下と記載しているように、光沢として負の値を示す艶消し状態をも含むものである。このような艶消し状態の褐色化処理面は、電解銅箔の粗面に褐色化処理を施した場合に形成されやすいものである。   It can be understood that the surface-treated copper foil according to the present invention described above has a very smooth surface even when viewed from the FIB cross-sectional observation image of FIG. However, although it is a glossy browning treatment, it does not have a gloss that diffusely reflects the light received by the browning treatment surface, and the glossy surface of the electrolytic copper foil and the surface of the rolled copper foil are subjected to a browning treatment. Even in this case, the a value in the Lab color system is 4.0 or less. Here, as described as 4.0 or less, it also includes a matte state showing a negative value as gloss. Such a matted browned surface is easily formed when the roughened surface of the electrolytic copper foil is subjected to a browning treatment.

褐色化処理面の表面が艶消し状態であるか否かは、Lab表色系よりも光沢度を用いて表すことの方が好ましい。しかしながら、本件発明に係る褐色化処理面の光沢度は、褐色化処理面を形成する下地の種類に応じて分類すべきである。一つは、前記褐色化処理面は、銅箔の光沢面に当該褐色化処理面を形成したものである場合には、光沢度[Gs(60°)]が30以下であることが好ましいのである。光沢度が30以上となると、所謂黒光りする状態となり金属光沢が目立つようになるのである。なお、銅箔の光沢面とは、電解銅箔の光沢面及び圧延銅箔の表面を含む概念として記載している。   Whether the surface of the browning surface is matte or not is preferably expressed using glossiness rather than the Lab color system. However, the glossiness of the browning surface according to the present invention should be classified according to the type of the base on which the browning surface is formed. One is that when the browning surface is a glossy surface of copper foil and the browning surface is formed, the glossiness [Gs (60 °)] is preferably 30 or less. is there. When the glossiness is 30 or more, a so-called black shining state occurs and the metallic luster becomes conspicuous. The glossy surface of the copper foil is described as a concept including the glossy surface of the electrolytic copper foil and the surface of the rolled copper foil.

そして、電解銅箔の粗面のように凹凸のある下地を選択した場合の当該褐色化処理面は、光沢度[Gs(60°)]が10以下である事が望ましいのである。光沢度が10以上となるようにすると、褐色化処理面を構成するヤケメッキとの関係で、粉落ちしやすい表面となっている可能性が高くなるのである。   And when the foundation | substrate with an unevenness | corrugation like the rough surface of an electrolytic copper foil is selected, it is desirable for the said browning process surface that glossiness [Gs (60 degrees)] is 10 or less. When the glossiness is 10 or more, there is a high possibility that the surface tends to fall off due to the discoloration plating constituting the browning surface.

更に、前記褐色化処理面は、銅箔の粗化面に当該褐色化処理面を形成したものであり、且つ、光沢度[Gs(60°)]が5以下である事が望ましいのである。この粗化面とは、電解銅箔及び圧延銅箔の表面に微細銅粒を付与する等の手法により、意図的に粗化した表面のことであり、当初から艶消し表面となっている。このとき、光沢度が5以上となるような表面処理層を形成すると、褐色化処理面を構成するヤケメッキとの関係で、粉落ちしやすい表面となってくるのである。   Furthermore, it is desirable that the browning surface is obtained by forming the browning surface on the roughened surface of the copper foil, and the glossiness [Gs (60 °)] is 5 or less. The roughened surface is a surface that is intentionally roughened by a technique such as applying fine copper grains to the surfaces of the electrolytic copper foil and the rolled copper foil, and is a matte surface from the beginning. At this time, if a surface treatment layer having a glossiness of 5 or more is formed, the surface tends to fall off due to the discoloration plating that constitutes the browning surface.

また、コバルトメッキ層が銅エッチング液に溶解しやすいものとなるか否かは、コバルトメッキを行う際のメッキ条件によっても大きく影響を受けることも分かってきた。即ち、後述する本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法を採用したときに得られるコバルトメッキ皮膜が最もエッチング特性に優れるものとなるのである。   It has also been found that whether or not the cobalt plating layer is easily dissolved in the copper etching solution is greatly influenced by the plating conditions when performing cobalt plating. That is, the cobalt plating film obtained when adopting the method for producing a surface-treated copper foil according to the present invention to be described later has the best etching characteristics.

第2表面処理銅箔: この表面処理銅箔は、上述の第1表面処理銅箔の表面に長期保存性を確保するための防錆処理層を形成したものである。図5の両面に防錆処理層5を備えた表面処理銅箔1cの断面層構成を模式的に例示した。そして、図6には、粗化処理を省略した場合の表面処理銅箔1dを示している。銅箔としての防錆のみを目的とする限りにおいては、イミダゾール、ベンゾトリアゾール等の有機防錆、一般的に用いられている亜鉛又は真鍮等の亜鉛合金による無機防錆等を広く用いることが可能である。また、硫酸コバルトメッキ層を片面に形成した場合の防錆処理層は、少なくとも本件発明に係る表面処理銅箔の硫酸コバルトメッキ層を設けた反対面に設けるべきものであるが、両面に設けても差し支えないものである。 Second surface-treated copper foil: This surface-treated copper foil is obtained by forming a rust-proofing layer for ensuring long-term storage on the surface of the first surface-treated copper foil. The cross-sectional layer structure of the surface-treated copper foil 1c provided with the antirust treatment layer 5 on both surfaces of FIG. FIG. 6 shows the surface-treated copper foil 1d when the roughening treatment is omitted. As long as the purpose is to prevent rust as copper foil only, organic rust prevention such as imidazole and benzotriazole, inorganic rust prevention using zinc alloy such as zinc or brass, etc. that are generally used can be widely used. It is. In addition, when the cobalt sulfate plating layer is formed on one side, the rust prevention treatment layer should be provided on at least the opposite surface of the surface-treated copper foil according to the present invention provided with the cobalt sulfate plating layer. There is no problem.

しかしながら、その両面に防錆処理層5を設けると、これらの防錆処理層は、粗化処理層2の微細銅粒3の脱落防止及び硫酸コバルト層4の保護層としての役割を果たすと同時に、表面処理銅箔としての外観を長期間に渡って維持する役割を果たすのである。この防錆処理層5には、亜鉛−ニッケル合金層若しくは亜鉛−コバルト層を設けることが特に好ましい。これらの防錆処理層5は、硫酸コバルトメッキ層4と組みあわせて用いることで、硫酸コバルトメッキ層4をエッチング溶解させる際の溶解プロモータとして機能しているように考えられる。即ち、硫酸コバルトメッキ層4が単独で存在する場合よりも、亜鉛−ニッケル合金層若しくは亜鉛−コバルト層を備える方が、硫酸コバルトメッキ層4の溶解が迅速に起こるのである。   However, when the antirust treatment layers 5 are provided on both sides, these antirust treatment layers serve as a protective layer for the cobalt sulfate layer 4 and for preventing the fine copper grains 3 from falling off the roughening treatment layer 2. It plays the role of maintaining the appearance of the surface-treated copper foil over a long period of time. It is particularly preferable to provide the rust prevention treatment layer 5 with a zinc-nickel alloy layer or a zinc-cobalt layer. These antirust treatment layers 5 are considered to function as a dissolution promoter when the cobalt sulfate plating layer 4 is dissolved by etching by using it in combination with the cobalt sulfate plating layer 4. That is, the dissolution of the cobalt sulfate plating layer 4 occurs more quickly when the zinc sulfate plating layer 4 is provided alone than when the zinc sulfate alloy layer or the zinc-cobalt layer is provided.

更に、図7及び図8に防錆処理層5とクロメート処理層6とを両面に備えた表面処理銅箔1cの断面層構成を模式的に示した。図5と図7、図6と図8のそれぞれを対比することから分かるように、防錆処理層5を備える表面処理銅箔との違いは、クロメート処理層6を備える点のみであり、その他の構成は同様である。   Furthermore, the cross-sectional layer structure of the surface treatment copper foil 1c provided with the antirust treatment layer 5 and the chromate treatment layer 6 on both surfaces is schematically shown in FIGS. As can be seen from the comparison between FIGS. 5 and 7 and FIGS. 6 and 8, the difference from the surface-treated copper foil provided with the antirust treatment layer 5 is only that the chromate treatment layer 6 is provided. The configuration of is the same.

このクロメート処理層6は、亜鉛−ニッケル合金又は亜鉛−コバルト合金等で構成した防錆処理層5を形成した後に、片面若しくは両面に形成するものである。そして、このクロメート処理層6が存在することで、表面処理銅箔の耐酸化性能を著しく向上させ、酸化変色などのコスメティックコロージョンを効果的に防止するのである。   The chromate treatment layer 6 is formed on one side or both sides after the rust prevention treatment layer 5 made of zinc-nickel alloy or zinc-cobalt alloy is formed. The presence of the chromate treatment layer 6 significantly improves the oxidation resistance of the surface-treated copper foil, and effectively prevents cosmetic corrosion such as oxidative discoloration.

以上に述べてきた茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔は、その表面が極めて均一なものであり、同一平面内での色調のバラツキが小さく、しかも光沢を備えた滑らかな茶褐色面となり、擦れ等による耐傷性優れハンドリングが容易なものとなるのである。この本件発明に係る表面処理銅箔の茶褐色化処理面の走査型電子顕微鏡で捉えたのが図9であり、この図9と上記説明に用いた図10、図11、図12とを対比すると、極めて均一に微細金属粒が付着している事が明らかとなるのである。   The surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface described above has a very uniform surface, has a small variation in color within the same plane, and has a smooth brownish surface with gloss, resulting in rubbing. This makes it easy to handle due to excellent scratch resistance. FIG. 9 is a scanning electron microscope of the browned surface of the surface-treated copper foil according to the present invention. FIG. 9 is compared with FIGS. 10, 11, and 12 used in the above description. It becomes clear that fine metal particles adhere extremely uniformly.

<茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法>
(第1表面処理銅箔の製造方法) 上述した第1表面処理銅箔の製造方法は、以下のような工程を含む製造方法を採用することが望ましい。この製造方法は、粗化処理の有無により、更に細分化する事が可能であり、「第1表面処理銅箔の製造方法A」、「第1表面処理銅箔の製造方法B」とに分けて説明する。
<Method for producing a surface-treated copper foil having a browned surface>
(Manufacturing method of a 1st surface treatment copper foil) As for the manufacturing method of the 1st surface treatment copper foil mentioned above, it is desirable to employ | adopt the manufacturing method including the following processes. This production method can be further subdivided according to the presence or absence of roughening treatment, and is divided into “first surface-treated copper foil production method A” and “first surface-treated copper foil production method B”. I will explain.

第1表面処理銅箔の製造方法A: ここでは、銅箔表面の粗化処理の有無に拘わらず適用可能な茶褐色化処理方法を採用した製造方法に関して説明する。 Manufacturing method A of 1st surface treatment copper foil: Here, the manufacturing method which employ | adopted the browning treatment method applicable regardless of the presence or absence of the roughening process of copper foil surface is demonstrated.

本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法で用いる銅箔は、上述したように粗化処理を行っているか否かは問われないものである。そして、銅箔表面の粗化処理を行う場合の条件に関して特段の限定はないが、この段階である程度の暗褐色処理ができることが好ましいため、可能な限り微細な銅粒を付着させるか、茶褐色に見える銅酸化物を付着させられるような方法を採用する事が好ましいのである。例えば、この極微細銅粒の形成には、一般に砒素を含んだ銅電解液が用いることが可能である。例えば、硫酸銅系溶液であって、濃度が銅10g/l、硫酸100g/l、砒素1.5g/l、液温38℃、電流密度10A/dmの条件とする等である。 It does not matter whether the copper foil used in the method for producing a surface-treated copper foil according to the present invention is subjected to a roughening treatment as described above. And, there is no particular limitation on the conditions for roughening the copper foil surface, but it is preferable that some dark brown treatment can be performed at this stage. It is preferable to employ a method that allows the visible copper oxide to be deposited. For example, a copper electrolyte containing arsenic can be generally used for forming the ultrafine copper particles. For example, a copper sulfate-based solution having a concentration of 10 g / l copper, 100 g / l sulfuric acid, 1.5 g / l arsenic, a liquid temperature of 38 ° C., and a current density of 10 A / dm 2 is used.

しかしながら、近年の環境問題の盛り上がりより、人体に影響を与える可能性の高い有害元素を極力排除しようとする動きが高まっている。そこで、本件発明における微細銅粒の形成に関しては、砒素に代え、9−フェニルアクリジンを添加した銅電解液を用いることが好ましい。9−フェニルアクリジンは、銅電解の場において、砒素の果たす役割と同様の役割を果たし、析出する微細銅粒の整粒効果と、均一電着を可能とするものである。9−フェニルアクリジンを添加した極微細銅粒を形成するための銅電解液としては、銅濃度5〜10g/l、硫酸濃度100〜120g/l、塩素濃度20〜30ppm、9−フェニルアクリジン50〜300mg/l、液温30〜40℃、電流密度5〜20A/dm が極めて安定した電解操業を可能とすることの出来る範囲となる。 However, with the recent rise in environmental problems, there has been an increase in efforts to eliminate harmful elements that are likely to affect the human body as much as possible. Therefore, regarding the formation of fine copper particles in the present invention, it is preferable to use a copper electrolyte solution added with 9-phenylacridine instead of arsenic. 9-Phenylacridine plays a role similar to the role played by arsenic in the field of copper electrolysis, and enables the sizing effect of precipitated fine copper grains and uniform electrodeposition. The copper electrolyte for forming ultrafine copper particles to which 9-phenylacridine is added includes a copper concentration of 5-10 g / l, a sulfuric acid concentration of 100-120 g / l, a chlorine concentration of 20-30 ppm, and a 9-phenylacridine of 50- 300 mg / l, liquid temperature of 30 to 40 ° C., and current density of 5 to 20 A / dm 2 are within a range in which an extremely stable electrolytic operation can be performed.

a)の工程では、上述した銅箔の片面上に、硫酸コバルトメッキ層を形成するのである。この硫酸コバルトメッキ層は、硫酸コバルト(7水和物)を8g/l〜10g/l含み、pHを4.0以上の範囲とした硫酸コバルトメッキ液を無攪拌浴として用い、2A/dm以上の電流密度で電解して、茶褐色系の硫酸コバルトメッキ層を形成するのである。即ち、溶液攪拌を行わない場合の硫酸コバルトメッキ条件である。ここで硫酸コバルトメッキ液中の硫酸コバルト(7水和物)が8g/l未満となると、形成される硫酸コバルトメッキ層の電着速度が遅くなり、しかも、硫酸コバルトメッキ層の厚さが不均一となる傾向が強くなるのである。これに対し、硫酸コバルト(7水和物)が10g/lを超えると、形成される硫酸コバルトメッキ層の色調が良好な茶褐色化状態では無くなるのである。 In the step a), a cobalt sulfate plating layer is formed on one side of the copper foil described above. The cobalt sulfate plating layer includes 8 g / to 10 g / l cobalt sulfate (heptahydrate), with a cobalt sulfate plating solution to pH 4.0 or more ranges as without stirring bath, 2A / dm 2 Electrolysis is performed at the above current density to form a brownish cobalt sulfate plating layer. That is, this is the cobalt sulfate plating condition when the solution is not stirred. Here, when the amount of cobalt sulfate (7 hydrate) in the cobalt sulfate plating solution is less than 8 g / l, the electrodeposition rate of the formed cobalt sulfate plating layer becomes slow, and the thickness of the cobalt sulfate plating layer is inadequate. The tendency to become uniform becomes stronger. On the other hand, when cobalt sulfate (7 hydrate) exceeds 10 g / l, the color tone of the formed cobalt sulfate plating layer is not in a browned state.

また、このときの硫酸コバルトメッキ液の溶液pHは4.5〜5.5の範囲を目標に調整するのが好ましいのである。この範囲において、歩留まり良く、良好な茶褐色のコバルトメッキ層を得ることが出来るのである。このpH調整を行おうとして、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の他の電解質を添加することは好ましくない。コバルトメッキ層の茶褐色が金属色へと変質しやすくなるのである。   Moreover, it is preferable to adjust the solution pH of the cobalt sulfate plating solution at this time to a range of 4.5 to 5.5. Within this range, it is possible to obtain a good brown-cobalt plating layer with a good yield. It is not preferable to add another electrolyte such as sodium hydroxide or potassium hydroxide in order to adjust the pH. The brown color of the cobalt plating layer is easily transformed into a metallic color.

従って、溶液pHは、溶液中の金属イオン濃度を一定に維持することによって、結果として4.0以上の範囲で安定化させるのである。このように溶液中のコバルトイオン濃度を安定化させるためには、溶解性のコバルト電極を用い電着したコバルトイオン分を溶解供給させるか、金属イオン濃度を連続的にモニターして水酸化コバルトを用いて適宜添加することで、コバルトイオン濃度を安定化する手法等を採用することが望ましい。   Therefore, the solution pH is stabilized in the range of 4.0 or more as a result by keeping the metal ion concentration in the solution constant. In order to stabilize the cobalt ion concentration in the solution in this way, the cobalt ion content electrodeposited by using a soluble cobalt electrode is dissolved or supplied, or the metal ion concentration is continuously monitored for cobalt hydroxide. It is desirable to adopt a technique for stabilizing the cobalt ion concentration by appropriately using and adding.

そして、電解を行うときの電流密度には、2A/dm以上の電流を用いるのである。上述の硫酸コバルトメッキ液は、過剰な電解電流を流して、ある程度微細な凹凸のあるメッキ面が形成されても、そこから粉落ち現象が起こることは少ない。従って、特に電流密度の上限を設ける必要はなく、技術常識に照らして工程における生産性を考慮して任意に定めれば良いのである。 A current of 2 A / dm 2 or more is used as the current density when electrolysis is performed. Even if the above-mentioned cobalt sulfate plating solution flows an excessive electrolysis current and forms a plating surface with fine unevenness to some extent, the powder falling phenomenon hardly occurs from there. Therefore, it is not necessary to set an upper limit of the current density in particular, and it may be arbitrarily determined in consideration of productivity in the process in view of technical common sense.

電解を行う時間は、電流密度が2A/dmの場合2〜5秒、電流密度が2A/dm未満の場合には5秒を超える時間を採用し、重量厚さ90mg/m 〜160mg/m の硫酸コバルトメッキ層を得るのである。ここに述べた電解時間は、上述のコバルトメッキ液及び電流密度等の条件を前提として定めたものであり、電解時間が短すぎる場合には、コバルトメッキ量が90mg/m未満となり茶褐色の表面とはならずむしろ黒色に近い色調となるのである。そして、電解時間が長くなりすぎると、コバルトメッキ量が160mg/m未満となり、茶褐色の表面とはならず黒色に赤紫色の混ざった色調となるのである。 The electrolysis time is 2 to 5 seconds when the current density is 2 A / dm 2, and more than 5 seconds when the current density is less than 2 A / dm 2 , and the weight thickness is 90 mg / m 2 to 160 mg. / M 2 of cobalt sulfate plating layer is obtained . The electrolysis time described here is determined based on the conditions such as the above cobalt plating solution and current density. If the electrolysis time is too short, the cobalt plating amount becomes less than 90 mg / m 2 and the surface is brown. Rather, the color tone is close to black. And if electrolysis time becomes too long, the amount of cobalt plating will be less than 160 mg / m 2, and it will not be a brownish surface, but will have a color tone in which black and reddish purple are mixed.

b)の工程では、以上の工程を経た銅箔を、水洗し、乾燥することで硫酸コバルトメッキ層を茶褐色化処理面とする表面処理銅箔を得るのである。ここでの水洗方法、乾燥方法に特段の限定はなく、通常考えられる方式を採用することが可能である。   In the step b), the copper foil subjected to the above steps is washed with water and dried to obtain a surface-treated copper foil having a cobalt sulfate plating layer as a browned surface. There is no particular limitation on the washing method and the drying method here, and it is possible to adopt a generally considered method.

第1表面処理銅箔の製造方法B: ここでは、銅箔表面の粗化処理の無い場合に特に適した茶褐色化処理方法を採用した製造方法に関して説明する。 Production method B of first surface-treated copper foil: Here, a production method employing a browning treatment method particularly suitable when there is no roughening treatment on the copper foil surface will be described.

本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法で用いる銅箔は、粗化処理を行っていないものであるが、以下の硫酸コバルトメッキにより形成した硫酸コバルトメッキ層自体が、緻密な粗化処理面となり、予め銅箔の片面を粗化処理したのと同様の効果を発揮するのである。   The copper foil used in the method for producing a surface-treated copper foil according to the present invention is not subjected to a roughening treatment, but the cobalt sulfate plating layer itself formed by the following cobalt sulfate plating is a dense roughened surface. Thus, the same effect as that obtained by roughening one surface of the copper foil in advance is exhibited.

このときのa)の工程では、上述した銅箔の粗化処理の無い片面に、硫酸コバルト(7水和物)を10g/l〜40g/l含み、pHを4.0以上、液温30℃以下とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、4A/dm以下の電流密度で電解して、茶褐色系の硫酸コバルトメッキ層を形成するのである。即ち、粗化処理のない銅箔には攪拌浴を前提としたメッキ条件を採用することが、より好ましいのである。従って、ここで第1表面処理銅箔の製造方法Aと根本的に異なるのは、硫酸コバルトメッキを行う際の前記硫酸コバルトメッキ液を攪拌しつつ電解する点である。この硫酸コバルト濃度は、硫酸コバルト濃度が低いほど、良好な茶褐色化状態を作り出すことが可能という傾向にある。しかしながら、硫酸コバルトメッキ液中の硫酸コバルト(7水和物)が10g/l未満となると、攪拌浴を採用して形成する硫酸コバルトメッキ層の電着速度が遅くなり、しかも、硫酸コバルトメッキ層の厚さが不均一となる傾向が強くなり工業的生産性に欠ける結果となるのである。これに対し、硫酸コバルト(7水和物)が40g/lを超えると、形成される硫酸コバルトメッキ層が緻密な凹凸を形成しにくくなり、結果として良好な茶褐色化状態では無くなるのである。 In the step a) at this time, cobalt sulfate (7 hydrate) is contained at 10 g / l to 40 g / l on one side without the roughening treatment of the copper foil described above, the pH is 4.0 or more, and the liquid temperature is 30. A brown sulfate cobalt sulfate plating layer is formed by electrolysis at a current density of 4 A / dm 2 or less using a cobalt sulfate plating solution at a temperature not higher than ° C. as a stirring bath. That is, it is more preferable to employ plating conditions based on a stirring bath for a copper foil without a roughening treatment. Therefore, the fundamental difference from the manufacturing method A of the first surface-treated copper foil is that the cobalt sulfate plating solution used for cobalt sulfate plating is electrolyzed while stirring. The cobalt sulfate concentration tends to create a better browned state as the cobalt sulfate concentration is lower. However, when the cobalt sulfate (7 hydrate) in the cobalt sulfate plating solution is less than 10 g / l, the electrodeposition rate of the cobalt sulfate plating layer formed by employing the stirring bath is slow, and the cobalt sulfate plating layer This tends to result in a lack of industrial productivity due to a strong tendency to have a non-uniform thickness. On the other hand, when cobalt sulfate (7 hydrate) exceeds 40 g / l, the formed cobalt sulfate plating layer is difficult to form dense irregularities, and as a result, it is not in a good browning state.

また、このときの硫酸コバルトメッキ液の溶液pHは、4.0以上であり、特に4.5〜5.5の範囲を目標に調整するのが好ましいのである。この範囲において、歩留まり良く、良好な茶褐色のコバルトメッキ層を安定的に得ることが出来るのである。このpH調整には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の他の電解質を添加することは好ましくない。コバルトメッキ層の茶褐色が金属色へと変質しやすくなるのは上述のとおりである。そして、溶液pHは、溶液中の金属イオン濃度を一定に維持することによって、結果として4.0以上の範囲で安定化させるのも、上述したと同様である。   In addition, the solution pH of the cobalt sulfate plating solution at this time is 4.0 or more, and it is particularly preferable to adjust the pH in the range of 4.5 to 5.5. In this range, it is possible to stably obtain a good brown-cobalt plating layer with good yield. For this pH adjustment, it is not preferable to add another electrolyte such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. As described above, the brown color of the cobalt plating layer easily changes into a metallic color. The solution pH is also stabilized in the range of 4.0 or higher by maintaining the metal ion concentration in the solution constant, as described above.

そして、このときの硫酸コバルトメッキ液は、その液温を30℃以下として用いることが好ましいのである。このときの液温は、低いほど良好な茶褐色化処理面を得ることが出来る傾向にある。液温を30℃以下に設定すれば、上記第1表面処理銅箔の製造方法Aで、粗化処理のない銅箔表面に茶褐色化処理を施した以上に良好な茶褐色化処理面を得ることが可能となるのである。   The cobalt sulfate plating solution at this time is preferably used at a liquid temperature of 30 ° C. or lower. At this time, the lower the liquid temperature, the better the browned surface. If the liquid temperature is set to 30 ° C. or less, the first surface-treated copper foil production method A can obtain a browned surface that is better than the browned surface of the copper foil surface without the roughening treatment. Is possible.

そして、電解を行うときの電流密度には、4A/dm以下の電流を用いるのである。この範囲において、銅箔表面を粗化処理しなくても、有機剤等との密着性に優れた良好な微細凹凸をもつ硫酸コバルトメッキ層が形成できるのである。通常、凹凸のある茶褐色系のメッキ表面を得ようとすると、過剰なヤケメッキ領域に入る電解電流を流す方法が採用される。しかしながら、ここでは電解に用いる電流密度が小さなものである程、安定的に良好な茶褐色化処理が可能となる傾向がある。従って、可能な限り小さな電流密度を採用すればよいのであるが、工業的な生産性を考慮すれば電流密度0.5A/dmを下限値と判断できるのである。一方、電流密度が4A/dmを超えると、上記第1表面処理銅箔の製造方法Aで、粗化処理のない銅箔表面に茶褐色化処理を施したのと同様のレベルの茶褐色化処理面となり、製造方法Bを採用する意味が没却することとなるのである。しかも、上述した電流密度の範囲で形成した茶褐色化処理面は、そこから粉落ち現象が起こることもないのである。 A current of 4 A / dm 2 or less is used as the current density when electrolysis is performed. Within this range, it is possible to form a cobalt sulfate plating layer having good fine irregularities with excellent adhesion to an organic agent or the like without roughening the copper foil surface. Usually, in order to obtain an uneven brownish brown plating surface, a method of flowing an electrolytic current that enters an excessive burn plating area is employed. However, here, the smaller the current density used for electrolysis, the more stable browning tends to be possible. Therefore, a current density as small as possible should be adopted, but a current density of 0.5 A / dm 2 can be determined as the lower limit value in consideration of industrial productivity. On the other hand, when the current density exceeds 4 A / dm 2 , the browning treatment at the same level as the browning treatment is performed on the surface of the copper foil without the roughening treatment in the manufacturing method A of the first surface-treated copper foil. This means that the meaning of adopting the manufacturing method B will be lost. Moreover, the browning treatment surface formed in the above-described current density range does not cause the powder falling phenomenon.

攪拌浴を用いる場合の電解時間は、電流密度が1A/dmの場合5〜8秒、電流密度が1A/dm未満場合には8秒を超える時間を採用し、重量厚さ90mg/m 〜160mg/m の硫酸コバルトメッキ層を得るのである。ここに述べた電解時間は、上述のコバルトメッキ液及び電流密度等の条件を前提として定めたものであり、電解時間が短すぎる場合には、コバルトメッキ量が90mg/m未満となり茶褐色の表面とはならずむしろ黒色に近い色調となるのである。そして、電解時間が長くなりすぎると、コバルトメッキ量が160mg/m未満となり茶褐色の表面とはならず黒色に赤紫色の混ざった色調となるのである。 The electrolysis time in the case of using the stirring bath, when the current density is 1A / dm 2 5 to 8 seconds, adopted more than 8 seconds when 2 below current density 1A / dm, weight thickness 90 mg / m A cobalt sulfate plating layer of 2 to 160 mg / m 2 is obtained . The electrolysis time described here is determined based on the conditions such as the above cobalt plating solution and current density. If the electrolysis time is too short, the cobalt plating amount becomes less than 90 mg / m 2 and the surface is brown. Rather, the color tone is close to black. And if electrolysis time becomes too long, the amount of cobalt plating will be less than 160 mg / m 2, and it will not be a brownish brown surface but a black and reddish purple color.

b)の工程では、以上の工程を経た銅箔を、水洗し、乾燥することで硫酸コバルトメッキ層を茶褐色化処理面とする表面処理銅箔を得るのである。ここでの水洗方法、乾燥方法に特段の限定はなく、通常考えられる方式を採用することが可能である。   In the step b), the copper foil subjected to the above steps is washed with water and dried to obtain a surface-treated copper foil having a cobalt sulfate plating layer as a browned surface. There is no particular limitation on the washing method and the drying method here, and it is possible to adopt a generally considered method.

(第2表面処理銅箔の製造方法)
第2表面処理銅箔の場合には、上述の第1表面処理銅箔の製造方法と同様に、硫酸コバルトメッキ層を茶褐色化処理面とする表面処理銅箔を製造し、その後、防錆処理層の形成を行うのである。従って、製造フローは「a)銅箔の片面に茶褐色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。 b)茶褐色の硫酸コバルトメッキ層を片面に形成した銅箔の両面若しくは片面に防錆処理層を形成する。 c)その後、水洗し、乾燥する。」となる。即ち、第1表面処理銅箔の製造方法(製造方法A及び製造方法B)に防錆処理層の形成工程が増えたに過ぎないものである。
(Method for producing second surface-treated copper foil)
In the case of the second surface-treated copper foil, a surface-treated copper foil having a cobalt sulfate plating layer as a browned surface is produced in the same manner as in the method for producing the first surface-treated copper foil. Layer formation is performed. Therefore, the manufacturing flow is as follows: “a) A brown cobalt sulfate plating layer is formed on one side of the copper foil. B) A rust prevention layer is formed on both sides or one side of the copper foil having the brown cobalt sulfate plating layer formed on one side. C) Then, it is washed with water and dried. " In other words, the first surface-treated copper foil manufacturing method (manufacturing method A and manufacturing method B) is merely an increase in the number of steps for forming the antirust treatment layer.

よって、ここでは防錆処理層の形成工程に関してのみ説明する。片面に茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面若しくは片面に、防錆処理層を形成するのである。従来知られたイミダゾール、ベンゾトリアゾール等の有機防錆、一般的に用いられている亜鉛又は真鍮等の亜鉛合金による無機防錆等を用いる場合に関しては、特に説明を要するものでは無く常法に従えばよいと考え、ここでの詳細な説明は省略する。   Therefore, only the formation process of the antirust treatment layer will be described here. A rust preventive layer is formed on both sides or one side of the copper foil on which the formation of the brown cobalt sulfate plating layer is completed on one side. In the case of using conventionally known organic rust preventives such as imidazole and benzotriazole, and inorganic rust preventives such as commonly used zinc alloys such as zinc or brass, no special explanation is required and conventional methods are followed. Detailed explanation here is omitted.

以下、防錆処理層を亜鉛−ニッケル合金メッキ液又は亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いてメッキ処理して形成する場合に関して述べることとする。最初に、亜鉛−ニッケル合金メッキに関して説明する。ここで用いる亜鉛−ニッケル合金メッキ液に特に限定はないが、一例を挙げれば、硫酸ニッケルを用いニッケル濃度が1〜2.5g/l、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が0.1〜1g/l、ピロリン酸カリウム50〜500g/l、液温20〜50℃、pH8〜11、電流密度0.3〜10A/dmの条件等を採用するのである。 Hereinafter, the case where the antirust treatment layer is formed by plating using a zinc-nickel alloy plating solution or a zinc-cobalt alloy plating solution will be described. First, the zinc-nickel alloy plating will be described. The zinc-nickel alloy plating solution used here is not particularly limited. For example, nickel sulfate is used to have a nickel concentration of 1 to 2.5 g / l, and zinc pyrophosphate is used to have a zinc concentration of 0.1 to 1 g. / L, potassium pyrophosphate 50-500 g / l, liquid temperature 20-50 ° C., pH 8-11, current density 0.3-10 A / dm 2 , etc. are adopted.

次に、亜鉛−コバルト合金メッキに関して説明する。ここで用いる亜鉛−コバルト合金メッキ液に特に限定はないが、一例を挙げれば、硫酸コバルトを用いコバルト濃度が1〜2.5g/l、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が0.1〜1g/l、ピロリン酸カリウム50〜500g/l、液温20〜50℃、pH8〜11、電流密度0.3〜10A/dmの条件等を採用するのである。この亜鉛−コバルト合金メッキと後述するクロメ−ト処理とを組み合わせた防錆処理層は、特に優れた耐蝕性能を示すのである。 Next, zinc-cobalt alloy plating will be described. The zinc-cobalt alloy plating solution used here is not particularly limited. For example, cobalt sulfate is used to have a cobalt concentration of 1 to 2.5 g / l, and zinc pyrophosphate is used to have a zinc concentration of 0.1 to 1 g. / L, potassium pyrophosphate 50-500 g / l, liquid temperature 20-50 ° C., pH 8-11, current density 0.3-10 A / dm 2 , etc. are adopted. The anticorrosion treatment layer combining this zinc-cobalt alloy plating and the chromate treatment described later exhibits particularly excellent corrosion resistance.

第2表面処理銅箔の場合には、銅箔の表面に亜鉛−ニッケル合金層又は亜鉛−コバルト合金層等を形成した後に、クロメート層を形成すれば、より優れた耐蝕性を得ることが可能となるのである。即ち、上述の防錆処理層の形成後に、クロメート処理工程を設ければよいのである。このクロメート処理工程では、クロメート溶液と当該銅箔表面とを接触させての置換処理でも、クロメート溶液中で電解してクロメート被膜を形成する電解クロメート処理のいずれの方法を採用しても構わないのである。また、ここで用いるクロメート溶液に関しても、常法で用いられる範囲のものを使用することが可能である。そして、その後、水洗し、乾燥することで茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔を得るのである。   In the case of the second surface-treated copper foil, if a chromate layer is formed after forming a zinc-nickel alloy layer or a zinc-cobalt alloy layer on the surface of the copper foil, it is possible to obtain better corrosion resistance. It becomes. That is, a chromate treatment process may be provided after the formation of the above-mentioned rust prevention treatment layer. In this chromate treatment step, either a substitution treatment in which the chromate solution is brought into contact with the copper foil surface or an electrolytic chromate treatment in which a chromate film is formed by electrolysis in the chromate solution may be employed. is there. Also, the chromate solution used here can be in the range used in the usual method. And after that, a surface-treated copper foil provided with a browning surface is obtained by washing with water and drying.

<電磁波遮蔽導電性メッシュ> 以上に述べてきた本件発明に係る茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔は、茶褐色化処理面からの粉落ちがなく、しかも、耐傷性に優れた良好な茶褐色を持ちつつも、その茶褐色化処理層は通常の銅エッチングプロセスでエッチング除去が可能である。よって、プリント配線板を製造するプロセスを使用して、容易に任意の形状に加工することが可能である。これらのことを考えると、プラズマディスプレイパネルの前面パネルに組み込まれる電磁波遮蔽導電性メッシュの用途に最適なものと言えるのである。 <Electromagnetic wave shielding conductive mesh> The surface-treated copper foil provided with the browned surface according to the present invention described above has no powder fall off from the browned surface, and is excellent in brown color with excellent scratch resistance. However, the browning layer can be removed by a normal copper etching process. Therefore, it can be easily processed into an arbitrary shape by using a process for manufacturing a printed wiring board. Considering these things, it can be said that the electromagnetic wave shielding conductive mesh incorporated in the front panel of the plasma display panel is most suitable for use.

本件発明に係る茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔は、茶褐色化処理面の色調が極めて均一なもので色調のバラツキが小さく、しかも光沢を備えた滑らかな茶褐色面となり、擦れ等による耐傷性優れハンドリングが容易なものとなるのである。また、硫酸コバルトメッキ層が非常に薄いものであるにも拘わらず、プラズマディスプレイパネルの前面パネルの電磁波遮蔽導電性メッシュ用途に耐えるだけの良好な茶褐色を呈する。そして、コバルト含有量が少ないため、エッチング特性が良好であり、しかも、通常の塩化鉄、硫酸−過酸化水素系の銅エッチング液の力価を下げることなく、溶液寿命を長期化させることが可能となるのである。   The surface-treated copper foil provided with the browned surface according to the present invention has a very uniform color tone on the browned surface, has a small variation in color tone, and becomes a smooth brownish surface with gloss, scratches due to rubbing, etc. This makes it easy to handle. Moreover, although the cobalt sulfate plating layer is very thin, it exhibits a good brown color enough to withstand the electromagnetic wave shielding conductive mesh application of the front panel of the plasma display panel. And since the cobalt content is low, the etching characteristics are good, and the life of the solution can be extended without lowering the titer of ordinary iron chloride and sulfuric acid-hydrogen peroxide copper etchants. It becomes.

また、本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法は、本件発明に係る表面処理銅箔を歩留まり良く製造することが可能であり、上述した製造条件を採用して形成した硫酸コバルトメッキ層が最も効率よく、銅のエッチング液に溶解するのである。   In addition, the method for producing the surface-treated copper foil according to the present invention is capable of producing the surface-treated copper foil according to the present invention with a high yield, and the cobalt sulfate plating layer formed by adopting the production conditions described above is the most. It dissolves efficiently in a copper etchant.

以下に、上述してきた茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔を製造し、銅エッチング液を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを製造した結果を示すこととする。   Below, the surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface which has been described above is produced, and the result of producing an electromagnetic wave shielding conductive mesh using a copper etching solution is shown.

本実施形態では、図1に示した第1表面処理銅箔1aを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。   In this embodiment, the 1st surface treatment copper foil 1a shown in FIG. 1 was manufactured, the electromagnetic wave shielding electroconductive mesh shape was manufactured experimentally by the etching method, and the etching performance was confirmed.

本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ15μmの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度150g/l、液温30℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に30秒浸漬して、表面の清浄化を行った。   In this embodiment, a copper foil having a nominal thickness of 15 μm obtained by electrolyzing a copper sulfate solution was used. The copper foil was immersed in this solution for 30 seconds using a dilute sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 150 g / l and a liquid temperature of 30 ° C. to clean the surface.

そして、公称厚さ15μm銅箔の片面に粗化処理を施した。このときの粗化処理は、この微細銅粒3を銅箔Bの片面に付着形成するものであり、硫酸銅系溶液であって、濃度が銅10g/l、硫酸100g/l、塩素25ppm、9−フェニルアクリジン140mg/lの溶液、液温38℃、電流密度15A/dm、電解時間2秒の電解条件を採用した。 And the roughening process was performed to the single side | surface of nominal thickness 15 micrometer copper foil. The roughening treatment at this time is to form the fine copper particles 3 on one side of the copper foil B, which is a copper sulfate-based solution having a concentration of 10 g / l copper, 100 g / l sulfuric acid, 25 ppm chlorine, An electrolysis condition of 9-phenylacridine 140 mg / l, a liquid temperature of 38 ° C., a current density of 15 A / dm 2 , and an electrolysis time of 2 seconds was employed.

a)工程として、当該銅箔の粗化処理面2上に、硫酸コバルトメッキ層4を形成した。硫酸コバルトメッキ層4の形成は、硫酸コバルト(7水和物)を10g/l、pHを5.0に調整し、液温30℃とした硫酸コバルトメッキ液を無攪拌浴として用い、2A/dmの電流密度で3秒間電解することにより、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層(換算厚さが94mg/m)として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。 a) As a step, a cobalt sulfate plating layer 4 was formed on the roughened surface 2 of the copper foil. The cobalt sulfate plating layer 4 is formed by adjusting the cobalt sulfate (7 hydrate) to 10 g / l, adjusting the pH to 5.0 and using a cobalt sulfate plating solution with a solution temperature of 30 ° C. as a non-stirring bath. Electrolysis was performed at a current density of dm 2 for 3 seconds to form a brown cobalt sulfate plating layer (converted thickness: 94 mg / m 2 ). At this time, the adjustment of the cobalt ion concentration in the solution is not particularly performed. This is because it was considered that it was unnecessary to adjust the metal ion concentration because of the short-time electrolysis.

b)の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1aを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   As a process of b), it is washed by showering pure water sufficiently, and is kept in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds from an electric heater, draining water, and browning treatment with a very good color tone A surface-treated copper foil 1a having a surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、図1に示す断面が得られており、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が60nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.5、光沢度[Gs(60°)]が2.8であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross section of the surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross section shown in FIG. 1 is obtained, and the cross-sectional height (d ) Was 60 nm, the a value in the Lab color system of the browned surface was 3.5, and the glossiness [Gs (60 °)] was 2.8. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせた。そして、茶褐色化処理面側のドライフィルムにのみ、電磁波遮蔽導電性メッシュを試作するための試験用のマスクフィルムを重ねて、メッシュピッチ200μm、メッシュ線幅10μm、メッシュバイアス角度45°であり、周囲にメッシュ電極部を備える導電性メッシュパターンを紫外線露光した。このとき、同時に反対面のエッチングレジスト層の全面にも、紫外線露光することにより、後の現像により除去できないものとした。その後、アルカリ溶液を用いて現像し、エッチングレジストパターンを形成した。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above. Then, only the dry film on the browned surface side is overlaid with a test mask film for producing an electromagnetic shielding conductive mesh, and the mesh pitch is 200 μm, the mesh line width is 10 μm, and the mesh bias angle is 45 °. A conductive mesh pattern having a mesh electrode portion was exposed to ultraviolet rays. At this time, the entire surface of the etching resist layer on the opposite side was also exposed to ultraviolet rays so that it could not be removed by subsequent development. Then, it developed using the alkaline solution and formed the etching resist pattern.

そして、銅エッチング液である塩化鉄エッチング液を用いて、茶褐色化処理面側から銅エッチングして、その後、エッチングレジスト層を剥離することにより、電磁波遮蔽導電性メッシュを製造した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。   And using the iron chloride etching liquid which is a copper etching liquid, copper etching was carried out from the browning process surface side, and the electromagnetic wave shielding conductive mesh was manufactured by peeling an etching resist layer after that. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施例は、図5に示すように、防錆処理層として亜鉛−ニッケル合金層を備えた第2表面処理銅箔1cを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による茶褐色化処理層を形成するまでは、実施例1と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例1と同じく94mg/mである。 In this example, as shown in FIG. 5, a second surface-treated copper foil 1c having a zinc-nickel alloy layer as a rust-proofing layer is produced, and an electromagnetic shielding conductive mesh shape is produced experimentally by an etching method. The etching performance was confirmed. Therefore, since it is common with Example 1 until the browning process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. The equivalent thickness of the brown-cobalt cobalt sulfate plating layer is 94 mg / m 2 as in Example 1.

ここでは実施例1の片面に茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面に、亜鉛−ニッケル合金メッキ液を用いてメッキ処理して、両面に亜鉛−ニッケル合金層を形成したのである。亜鉛−ニッケル合金層は、硫酸ニッケルを用いニッケル濃度が2.0g/l、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が0.5g/l、ピロリン酸カリウム250g/l、液温35℃、pH10、電流密度5A/dmの条件で5秒間電解して、両面に均一且つ平滑に電析させた。 Here, since the plating treatment using the zinc-nickel alloy plating solution was performed on both surfaces of the copper foil on which the formation of the brown-cobalt cobalt sulfate plating layer was completed on one surface of Example 1, the zinc-nickel alloy layers were formed on both surfaces. is there. The zinc-nickel alloy layer uses nickel sulfate, nickel concentration is 2.0 g / l, zinc pyrophosphate is used, zinc concentration is 0.5 g / l, potassium pyrophosphate 250 g / l, liquid temperature 35 ° C., pH 10, current Electrolysis was performed for 5 seconds under conditions of a density of 5 A / dm 2 , and electrodeposited uniformly and smoothly on both surfaces.

そして、実施例1と同様に十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1cを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   Then, the pure water was sufficiently showered and washed in the same manner as in Example 1 and retained in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. from an electric heater for 4 seconds to remove moisture and brown in a very good color tone. The surface-treated copper foil 1c provided with the chemical treatment surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が70nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.4、光沢度[Gs(60°)]が2.7であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross-section of the surface-treated copper foil provided with the browning surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning surface is 70 nm, and the browning surface In the Lab color system, the a value was 3.4 and the glossiness [Gs (60 °)] was 2.7. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、実施例1と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed in the same manner as in Example 1. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施例は、図7に示すように、防錆処理層として亜鉛−ニッケル合金層及びクロメート処理層を備えた第2表面処理銅箔1eを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による茶褐色化処理層を形成するまでは、実施例1と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例1と同じく94mg/mである。 In the present embodiment, as shown in FIG. 7, a second surface-treated copper foil 1e having a zinc-nickel alloy layer and a chromate treatment layer as a rust prevention treatment layer is produced, and the electromagnetic shielding conductive mesh shape is formed by an etching method. Manufactured experimentally to confirm the etching performance. Therefore, since it is common with Example 1 until the browning process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. The equivalent thickness of the brown-cobalt cobalt sulfate plating layer is 94 mg / m 2 as in Example 1.

防錆処理層の形成は、実施例2と同様にして、亜鉛−ニッケル合金メッキ液を用いて、両面に亜鉛−ニッケル合金層を形成した後に、両面にクロメート処理を行ったのである。ここでは、電解クロメート処理を採用し、電解条件は、クロム酸5.0g/l、pH 11.5、液温35℃、電流密度8A/dm、電解時間5秒とした。 In the same manner as in Example 2, the rust-proofing layer was formed by forming a zinc-nickel alloy layer on both surfaces using a zinc-nickel alloy plating solution and then performing chromate treatment on both surfaces. Here, electrolytic chromate treatment was adopted, and electrolysis conditions were chromic acid 5.0 g / l, pH 11.5, liquid temperature 35 ° C., current density 8 A / dm 2 , and electrolysis time 5 seconds.

そして、クロメート層の形成が終了すると、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1eを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   Then, after the formation of the chromate layer is completed, the pure water is sufficiently showered and washed, and is kept in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds from an electric heater, and moisture is removed. A surface-treated copper foil 1e having a browned surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が65nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.4、光沢度[Gs(60°)]が2.8であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross-section of the surface-treated copper foil provided with the browning surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning surface is 65 nm, and the browning surface In the Lab color system, the a value was 3.4 and the glossiness [Gs (60 °)] was 2.8. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、第1実施形態と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed by the same method as in the first embodiment. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施例は、図5に示すように、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層を備えた第2表面処理銅箔1cを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による茶褐色化処理層を形成するまでは、実施例1と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例1と同じく94mg/mである。 In the present embodiment, as shown in FIG. 5, a second surface-treated copper foil 1c having a zinc-cobalt alloy layer as a rust-proofing layer is produced, and an electromagnetic shielding conductive mesh shape is produced on an experimental basis by an etching method. The etching performance was confirmed. Therefore, since it is common with Example 1 until the browning process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. The equivalent thickness of the brown-cobalt cobalt sulfate plating layer is 94 mg / m 2 as in Example 1.

ここでは実施例1の片面に茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面に、亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いてメッキ処理して、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成したのである。亜鉛−コバルト合金層は、硫酸コバルトを用いコバルト濃度が2.0g/l、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が0.5g/l、ピロリン酸カリウム250g/l、液温35℃、pH10、電流密度5A/dmの条件で5秒間電解して、両面に均一且つ平滑に電析させた。 Here, both sides of the copper foil in which the formation of the brown cobalt sulfate plating layer on one side of Example 1 was plated using a zinc-cobalt alloy plating solution, and the zinc-cobalt alloy layer was formed on both sides. is there. The zinc-cobalt alloy layer uses cobalt sulfate, the cobalt concentration is 2.0 g / l, zinc pyrophosphate is used, the zinc concentration is 0.5 g / l, potassium pyrophosphate 250 g / l, liquid temperature 35 ° C., pH 10, current Electrolysis was performed for 5 seconds under conditions of a density of 5 A / dm 2 , and electrodeposited uniformly and smoothly on both surfaces.

そして、実施例1と同様に十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1cを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   Then, the pure water was sufficiently showered and washed in the same manner as in Example 1 and retained in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. from an electric heater for 4 seconds to remove moisture and brown in a very good color tone. The surface-treated copper foil 1c provided with the chemical treatment surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が60nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.5、光沢度[Gs(60°)]が2.8であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross-section of the surface-treated copper foil provided with the browning surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning surface is 60 nm, and the browning surface In the Lab color system, the a value was 3.5 and the glossiness [Gs (60 °)] was 2.8. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、実施例1と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed in the same manner as in Example 1. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施例は、図7に示すように、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層及びクロメート処理層を備えた第2表面処理銅箔1eを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による茶褐色化処理層を形成するまでは、実施例1と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例1と同じく94mg/mである。 In this embodiment, as shown in FIG. 7, a second surface-treated copper foil 1e having a zinc-cobalt alloy layer and a chromate treatment layer as a rust prevention treatment layer is produced, and an electromagnetic wave shielding conductive mesh shape is formed by an etching method. Manufactured experimentally to confirm the etching performance. Therefore, since it is common with Example 1 until the browning process layer by a cobalt sulfate plating layer is formed, only rust prevention process conditions are demonstrated. The equivalent thickness of the brown-cobalt cobalt sulfate plating layer is 94 mg / m 2 as in Example 1.

防錆処理層の形成は、実施例4と同様にして、亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いて、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成した後に、両面にクロメート処理を行ったのである。ここでは、電解クロメート処理を採用し、電解条件は、クロム酸5.0g/l、pH 11.5、液温35℃、電流密度8A/dm、電解時間5秒とした。 In the same manner as in Example 4, the rust-proofing layer was formed by forming a zinc-cobalt alloy layer on both surfaces using a zinc-cobalt alloy plating solution and then performing chromate treatment on both surfaces. Here, electrolytic chromate treatment was adopted, and electrolysis conditions were chromic acid 5.0 g / l, pH 11.5, liquid temperature 35 ° C., current density 8 A / dm 2 , and electrolysis time 5 seconds.

そして、クロメート層の形成が終了すると、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1eを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   Then, after the formation of the chromate layer is completed, the pure water is sufficiently showered and washed, and is kept in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds from an electric heater, and moisture is removed. A surface-treated copper foil 1e having a browned surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が65nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.4、光沢度[Gs(60°)]が2.8であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross-section of the surface-treated copper foil provided with the browning surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning surface is 65 nm, and the browning surface In the Lab color system, the a value was 3.4 and the glossiness [Gs (60 °)] was 2.8. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、第1実施形態と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed by the same method as in the first embodiment. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施例は、実施例1と異なり銅箔の表面に粗化処理を施さずに、以下実施例1と同様にして、粗化処理無しの電解銅箔の光沢面側に硫酸コバルトメッキ層による茶褐色化処理層を形成し、実施例1と同様の評価を行った。従って、工程の説明は実施例1と重複するものとなるため、ここでの記載は省略する。なお、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層は、換算厚さが108mg/mであった。 Unlike Example 1, this example does not perform the roughening treatment on the surface of the copper foil, and in the same manner as in Example 1 below, a cobalt sulfate plating layer is used on the glossy surface side of the electrolytic copper foil without the roughening treatment. A browning treatment layer was formed and evaluated in the same manner as in Example 1. Therefore, the description of the process is the same as that of the first embodiment, and a description thereof is omitted here. The brown-cobalt cobalt sulfate plating layer had a converted thickness of 108 mg / m 2 .

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が70nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.8、光沢度[Gs(60°)]が26であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross-section of the surface-treated copper foil provided with the browning surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning surface is 70 nm, and the browning surface In the Lab color system, the a value was 3.8 and the glossiness [Gs (60 °)] was 26. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、第1実施形態と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed by the same method as in the first embodiment. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施形態では、実施例6と同様に銅箔の表面に粗化処理を施さずに、上述の粗化処理を行わない銅箔を用いて茶褐色化処理を行い、図2に示した第1表面処理銅箔1bを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。   In the present embodiment, as in Example 6, the surface of the copper foil is not subjected to the roughening treatment, and the browning treatment is performed using the copper foil not subjected to the above-described roughening treatment, and the first shown in FIG. The surface-treated copper foil 1b was manufactured, and an electromagnetic shielding conductive mesh shape was experimentally manufactured by an etching method to confirm the etching performance.

本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ15μmの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度150g/l、液温30℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に30秒浸漬して、表面の清浄化を行った。   In this embodiment, a copper foil having a nominal thickness of 15 μm obtained by electrolyzing a copper sulfate solution was used. The copper foil was immersed in this solution for 30 seconds using a dilute sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 150 g / l and a liquid temperature of 30 ° C. to clean the surface.

そして、当該銅箔の片面に粗化処理を施すことなく、a)工程として、当該銅箔の粗面上に、硫酸コバルトメッキ層を形成した。硫酸コバルトメッキ層の形成は、硫酸コバルト(7水和物)を20g/l、pHを5.5に調整し、液温27℃とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、1A/dmの電流密度で7秒間電解することにより、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層(換算厚さが150mg/m)として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。 And the cobalt sulfate plating layer was formed on the rough surface of the said copper foil as a) process, without giving a roughening process to the single side | surface of the said copper foil. The cobalt sulfate plating layer is formed by using a cobalt sulfate plating solution adjusted to 20 g / l of cobalt sulfate (7 hydrate), pH of 5.5, and a liquid temperature of 27 ° C. as a stirring bath, 1 A / dm 2 Was formed as a brown cobalt sulfate plating layer (converted thickness: 150 mg / m 2 ) by electrolysis at a current density of 7 seconds. At this time, the adjustment of the cobalt ion concentration in the solution is not particularly performed. This is because it was considered that it was unnecessary to adjust the metal ion concentration because of the short-time electrolysis.

b)の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1を得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   As a process of b), it is washed by showering pure water sufficiently, and is kept in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds from an electric heater, draining water, and browning treatment with a very good color tone A surface-treated copper foil 1 having a surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が80nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.8、光沢度[Gs(60°)]が25であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross section of the surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning treatment surface is 80 nm, and the browning treatment surface In the Lab color system, the a value was 3.8 and the glossiness [Gs (60 °)] was 25. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、第1実施形態と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed by the same method as in the first embodiment. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施形態では、実施例6と同様に銅箔の表面に粗化処理を施さずに、上述の粗化処理を行わない銅箔を用いて茶褐色化処理を行い、図2に示した第1表面処理銅箔1bを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。   In the present embodiment, as in Example 6, the surface of the copper foil is not subjected to the roughening treatment, and the browning treatment is performed using the copper foil not subjected to the above-described roughening treatment, and the first shown in FIG. The surface-treated copper foil 1b was manufactured, and an electromagnetic shielding conductive mesh shape was experimentally manufactured by an etching method to confirm the etching performance.

本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ15μmの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度150g/l、液温30℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に30秒浸漬して、表面の清浄化を行った。   In this embodiment, a copper foil having a nominal thickness of 15 μm obtained by electrolyzing a copper sulfate solution was used. The copper foil was immersed in this solution for 30 seconds using a dilute sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 150 g / l and a liquid temperature of 30 ° C. to clean the surface.

そして、当該銅箔の片面に粗化処理を施すことなく、a)工程として、当該銅箔の粗面上に、硫酸コバルトメッキ層を形成した。硫酸コバルトメッキ層の形成は、硫酸コバルト(7水和物)を10g/l、pHを5.5に調整し、液温27℃とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、1A/dmの電流密度で6秒間電解することにより、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層(換算厚さが120mg/m)として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。形成した硫酸コバルトメッキ層の形態は図11に示すと同様に観察される。 And the cobalt sulfate plating layer was formed on the rough surface of the said copper foil as a) process, without giving a roughening process to the single side | surface of the said copper foil. Formation of cobalt sulfate plating layer, using a cobalt sulfate (heptahydrate) 10 g / l, the pH was adjusted to 5.5, the cobalt sulfate plating solution was liquid temperature 27 ° C. as a stirring bath, 1A / dm 2 Was formed as a brown cobalt sulfate plating layer (converted thickness: 120 mg / m 2 ) by electrolysis at a current density of 6 seconds. At this time, the adjustment of the cobalt ion concentration in the solution is not particularly performed. This is because it was considered that it was unnecessary to adjust the metal ion concentration because of the short-time electrolysis. The form of the formed cobalt sulfate plating layer is observed as shown in FIG.

b)の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1bを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   As a process of b), it is washed by showering pure water sufficiently, and is kept in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds from an electric heater, draining water, and browning treatment with a very good color tone A surface-treated copper foil 1b having a surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、図1に示す断面が得られており、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が80nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.8、光沢度[Gs(60°)]が28であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross section of the surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross section shown in FIG. 1 is obtained, and the cross-sectional height (d ) Was 80 nm, the a value in the Lab color system of the browned surface was 3.8, and the glossiness [Gs (60 °)] was 28. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、第1実施形態と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed by the same method as in the first embodiment. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施形態では、実施例6と同様に銅箔の表面に粗化処理を施さずに、茶褐色化処理を行い、図2に示した第1表面処理銅箔1bを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。   In the present embodiment, as in Example 6, the surface of the copper foil is not subjected to roughening treatment, but is subjected to browning treatment to produce the first surface-treated copper foil 1b shown in FIG. A mesh shape was experimentally manufactured by an etching method, and etching performance was confirmed.

本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ15μmの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度150g/l、液温30℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に30秒浸漬して、表面の清浄化を行った。   In this embodiment, a copper foil having a nominal thickness of 15 μm obtained by electrolyzing a copper sulfate solution was used. The copper foil was immersed in this solution for 30 seconds using a dilute sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 150 g / l and a liquid temperature of 30 ° C. to clean the surface.

そして、当該銅箔の片面に粗化処理を施すことなく、a)工程として、当該銅箔の粗面上に、硫酸コバルトメッキ層を形成した。硫酸コバルトメッキ層の形成は、硫酸コバルト(7水和物)を40g/l、pHを5.5に調整し、液温27℃とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、1A/dmの電流密度で5秒間電解することにより、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層(換算厚さが112mg/m)として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。形成した硫酸コバルトメッキ層の形態は図10に示すと同様に観察される。 And the cobalt sulfate plating layer was formed on the rough surface of the said copper foil as a) process, without giving a roughening process to the single side | surface of the said copper foil. The cobalt sulfate plating layer was formed by using a cobalt sulfate plating solution adjusted to 40 g / l cobalt sulfate (7 hydrate), pH 5.5, and a liquid temperature of 27 ° C. as a stirring bath, 1 A / dm 2 Was formed as a brown cobalt sulfate plating layer (converted thickness: 112 mg / m 2 ) by electrolysis at a current density of 5 seconds. At this time, the adjustment of the cobalt ion concentration in the solution is not particularly performed. This is because it was considered that it was unnecessary to adjust the metal ion concentration because of the short-time electrolysis. The form of the formed cobalt sulfate plating layer is observed as shown in FIG.

b)の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1bを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   As a process of b), it is washed by showering pure water sufficiently, and is kept in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds from an electric heater, draining water, and browning treatment with a very good color tone A surface-treated copper foil 1b having a surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、図1に示す断面が得られており、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が70nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.8、光沢度[Gs(60°)]が28であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross section of the surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross section shown in FIG. 1 is obtained, and the cross-sectional height (d ) Was 70 nm, the a value in the Lab color system of the browned surface was 3.8, and the glossiness [Gs (60 °)] was 28. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、第1実施形態と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed by the same method as in the first embodiment. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施例は、図6に示したような、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層を備えた第2表面処理銅箔1dを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による茶褐色化処理層を形成するまでは、実施例7と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例7と同じく150mg/mである。 In this example, a second surface-treated copper foil 1d having a zinc-cobalt alloy layer as a rust-proofing layer as shown in FIG. 6 was produced, and the electromagnetic shielding conductive mesh shape was experimentally tested by an etching method. Manufactured and checked for etching performance. Accordingly, until the browning treatment layer is formed by the cobalt sulfate plating layer, the process is the same as in Example 7, and only the rust prevention treatment conditions will be described. The equivalent thickness of the brown cobalt sulfate plating layer is 150 mg / m 2 as in Example 7.

ここでは実施例7の片面に茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面に、実施例4と同様の条件で、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成したのである。そして、実施例1と同様に十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1dを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   Here, a zinc-cobalt alloy layer was formed on both surfaces of the copper foil on which the formation of the brown-cobalt cobalt sulfate plating layer on one surface of Example 7 was completed under the same conditions as in Example 4. Then, the pure water was sufficiently showered and washed in the same manner as in Example 1 and retained in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. from an electric heater for 4 seconds to remove moisture and brown in a very good color tone. The surface-treated copper foil 1d provided with the chemical treatment surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が80nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.8、光沢度[Gs(60°)]が24であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross section of the surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning treatment surface is 80 nm, and the browning treatment surface In the Lab color system, the a value was 3.8 and the glossiness [Gs (60 °)] was 24. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、実施例1と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed in the same manner as in Example 1. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本実施例は、図8にしめすような、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層及びクロメート処理層を備えた第2表面処理銅箔1fを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による茶褐色化処理層を形成するまでは、実施例7と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、茶褐色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例7と同じく150mg/mである。 In this embodiment, as shown in FIG. 8, a second surface-treated copper foil 1f having a zinc-cobalt alloy layer and a chromate treatment layer as a rust prevention treatment layer is produced, and the electromagnetic shielding conductive mesh shape is formed by an etching method. Manufactured experimentally to confirm the etching performance. Accordingly, until the browning treatment layer is formed by the cobalt sulfate plating layer, the process is the same as in Example 7, and only the rust prevention treatment conditions will be described. The equivalent thickness of the brown cobalt sulfate plating layer is 150 mg / m 2 as in Example 7.

防錆処理層の形成は、実施例4と同様にして、亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いて、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成した後に、両面に実施例5と同様のクロメート処理を行ったのである。   In the same manner as in Example 4, the rust-proofing layer was formed by forming a zinc-cobalt alloy layer on both sides using a zinc-cobalt alloy plating solution and then performing the same chromate treatment on both sides as in Example 5. It was.

そして、クロメート層の形成が終了すると、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を150℃とした乾燥炉内に4秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔1fを得た。なお、上述した各工程間には、原則、15秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。   Then, after the formation of the chromate layer is completed, the pure water is sufficiently showered and washed, and is kept in a drying furnace with an atmospheric temperature of 150 ° C. for 4 seconds from an electric heater, and moisture is removed. A surface-treated copper foil 1f having a browned surface was obtained. In addition, in principle, a water washing step with pure water for 15 seconds is provided between the steps described above to prevent the solution from being brought into the pretreatment step.

<表面処理銅箔の物性>
以上の工程を経て得られた褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をFIB装置で観察した結果、当該褐色化処理面の断面高さ(d)が80nmであり、当該褐色化処理面のLab表色系におけるa値が3.8、光沢度[Gs(60°)]が24であった。また、褐色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
<Physical properties of surface-treated copper foil>
As a result of observing the cross section of the surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface obtained through the above steps with a FIB apparatus, the cross-sectional height (d) of the browning treatment surface is 80 nm, and the browning treatment surface In the Lab color system, the a value was 3.8 and the glossiness [Gs (60 °)] was 24. Moreover, the powder fall in the tape test by sticking an adhesive tape on the browning surface and peeling it off was not confirmed.

<電磁波遮蔽導電性メッシュの製造>
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせ、第1実施形態と同様の方法で導電性メッシュパターンを形成した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
<Manufacture of electromagnetic wave shielding conductive mesh>
A dry film serving as an etching resist was bonded to both surfaces of the surface-treated copper foil obtained as described above, and a conductive mesh pattern was formed by the same method as in the first embodiment. As a result, there was no etching residue and very good etching was performed.

本件発明に係る茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔は、茶褐色化処理面からの粉落ちが無く、しかも、通常の銅エッチング液を用いてのエッチング加工が可能であり、プラズマディスプレイパネルの前面パネルの電磁波遮蔽導電性メッシュに用いることで、高品質のブラックマスクの形成が可能となる。また、茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔としての供給が出来れば、前面パネルの製造プロセスでの茶褐色化処理工程の省略が可能となる。更に、この茶褐色化処理面を備えた表面処理銅箔は、上述した製造方法を採用することで、従来の銅箔の表面処理プロセスを応用することが可能であり新たな製造設備を必要としない。従って、高品質の製品を歩留まり良く製造できるため、生産コストの低減が可能となる。   The surface-treated copper foil provided with the browned surface according to the present invention has no powder fall off from the browned surface, and can be etched using a normal copper etching solution. By using it as an electromagnetic shielding conductive mesh for the front panel, a high quality black mask can be formed. Moreover, if supply as a surface-treated copper foil provided with the browning process surface can be performed, the browning process process in the front panel manufacturing process can be omitted. Furthermore, the surface-treated copper foil provided with the browned surface can be applied to the surface treatment process of the conventional copper foil by adopting the above-described production method and does not require new production equipment. . Accordingly, a high-quality product can be manufactured with a high yield, so that the production cost can be reduced.

茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。The figure which showed typically the cross-sectional layer structure of the surface treatment copper foil provided with the browning process surface. 茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。The figure which showed typically the cross-sectional layer structure of the surface treatment copper foil provided with the browning process surface. 表面処理銅箔の断面を集束イオンビーム加工観察装置を用いて断面観察した観察像。An observation image obtained by observing a cross section of the surface-treated copper foil using a focused ion beam processing observation apparatus. 表面処理銅箔(従来品)の断面を集束イオンビーム加工観察装置を用いて断面観察した観察像。An observation image of a cross section of a surface treated copper foil (conventional product) observed using a focused ion beam processing observation apparatus. 茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。The figure which showed typically the cross-sectional layer structure of the surface treatment copper foil provided with the browning process surface. 茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。The figure which showed typically the cross-sectional layer structure of the surface treatment copper foil provided with the browning process surface. 茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。The figure which showed typically the cross-sectional layer structure of the surface treatment copper foil provided with the browning process surface. 茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。The figure which showed typically the cross-sectional layer structure of the surface treatment copper foil provided with the browning process surface. 硫酸コバルトメッキ層を観察した走査型電子顕微鏡像。Scanning electron microscope image of the cobalt sulfate plating layer observed. 黒色化処理面を備える従来の表面処理銅箔の走査型電子顕微鏡像。The scanning electron microscope image of the conventional surface treatment copper foil provided with a blackening treatment surface. 黒色化処理面を備える従来の表面処理銅箔の走査型電子顕微鏡像。The scanning electron microscope image of the conventional surface treatment copper foil provided with a blackening treatment surface. 茶褐色化処理面を備える従来の表面処理銅箔の走査型電子顕微鏡像。A scanning electron microscope image of a conventional surface-treated copper foil having a browned surface.

符号の説明Explanation of symbols

1a,1b,1c 表面処理銅箔
1d,1e,1f
2 粗化処理層
3 微細銅粒
4 硫酸コバルトメッキ層
5 防錆処理層(亜鉛−ニッケル合金層又は亜鉛−コバルト合金層)
6 クロメート処理層
7 銅箔層
1a, 1b, 1c Surface-treated copper foil 1d, 1e, 1f
2 Roughening treatment layer 3 Fine copper particles 4 Cobalt sulfate plating layer 5 Rust prevention treatment layer (zinc-nickel alloy layer or zinc-cobalt alloy layer)
6 Chromate treatment layer 7 Copper foil layer

Claims (12)

茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔であって、
当該茶褐色化処理面は、重量厚さ90mg/m〜160mg/mの硫酸コバルトメッキ層であり、その茶褐色化処理面の断面高さが150nm以下、Lab表色系におけるa値が4.0以下であることを特徴とする茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔。
A surface-treated copper foil having a browned surface,
The brown treatment surface is cobalt sulfate plating layer weight thickness 90mg / m 2 ~160mg / m 2 , is a value at the section height of the brown treatment surface 150nm or less, Lab color system 4. A surface-treated copper foil having a browned surface, which is 0 or less .
前記褐色化処理面に防錆処理層を備えるものである請求項1に記載の褐色化表面処理銅箔。 The browning surface-treated copper foil according to claim 1, wherein the browning surface is provided with a rust-proofing layer. 防錆処理層は、亜鉛若しくは亜鉛合金を用いたものである請求項1又は請求項2に記載の茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔。 The surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface according to claim 1 or 2, wherein the rust prevention treatment layer uses zinc or a zinc alloy. 防錆処理層は、亜鉛若しくは亜鉛合金を用いて形成した層と、クロメート処理層とからなる請求項2又は請求項3に記載の茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔。 A surface-treated copper foil provided with the browning treatment surface of Claim 2 or Claim 3 which consists of a layer formed using zinc or a zinc alloy, and a chromate treatment layer. 前記褐色化処理面は、銅箔の光沢面に当該褐色化処理面を形成したものであり、且つ、光沢度[Gs(60°)]が30以下である請求項1〜請求項4のいずれかに記載の褐色化表面処理銅箔。 The browning treatment surface is obtained by forming the browning treatment surface shiny side of the copper foil, and any of claims 1 to 4 Gloss [Gs (60 °)] is 30 or less The browned surface-treated copper foil according to crab. 前記褐色化処理面は、電解銅箔の粗面に当該褐色化処理面を形成したものであり、且つ、光沢度[Gs(60°)]が10以下である請求項1〜請求項5のいずれかに記載の褐色化表面処理銅箔。 The browning treatment surface is for the rough surface of electrolytic copper foil were formed the browning treatment surface, and gloss [Gs (60 °)] is of claims 1 to 5 is 10 or less The browning surface-treated copper foil in any one. 前記褐色化処理面は、銅箔の粗化面に当該褐色化処理面を形成したものであり、且つ、光沢度[Gs(60°)]が5以下である請求項1〜請求項6のいずれかに記載の褐色化表面処理銅箔。 The browning treatment surface is obtained by forming the browning process surface roughened surface of the copper foil, and gloss [Gs (60 °)] is of claims 1 to 6 is 5 or less The browning surface-treated copper foil in any one. 茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のa)及びb)の工程を備えることを特徴とした茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
a) 銅箔の表面に、硫酸コバルト(7水和物)を8g/l〜10g/l含み、pHを4.0以上の範囲とした硫酸コバルトメッキ液の無攪拌浴を用い、2A/dm以上の電流密度で電解して、重量厚さ90mg/m 〜160mg/m 茶褐色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
b) その後、水洗し、乾燥する。
A method for producing a surface-treated copper foil provided with a browned surface, which is a method for producing a surface-treated copper foil provided with a browned surface, comprising the following steps a) and b).
a) On the surface of the copper foil, an unstirred bath of cobalt sulfate plating solution containing 8 g / l to 10 g / l of cobalt sulfate (7 hydrate) and having a pH in the range of 4.0 or more was used. electrolytically in two or more current density, to form a cobalt sulfate plating layer of brown-based weight thickness 90mg / m 2 ~160mg / m 2 .
b) Thereafter, it is washed with water and dried.
茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のa)〜c)の工程を備えることを特徴とした茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
a) 銅箔の表面に、硫酸コバルト(7水和物)を8g/l〜10g/l含み、pHを4.0以上の範囲とした硫酸コバルトメッキ液の無攪拌浴を用い、2A/dm以上の電流密度で電解して、重量厚さ90mg/m 〜160mg/m 茶褐色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
b) 茶褐色の硫酸コバルトメッキ層を片面に形成した銅箔の両面若しくは片面に、防錆処理層を形成する。
c) その後、水洗し、乾燥する。
A method for producing a surface-treated copper foil comprising a browned surface, the method comprising producing a surface-treated copper foil comprising a browned surface, comprising the following steps a) to c):
a) On the surface of the copper foil, an unstirred bath of cobalt sulfate plating solution containing 8 g / l to 10 g / l of cobalt sulfate (7 hydrate) and having a pH in the range of 4.0 or more was used. electrolytically in two or more current density, to form a cobalt sulfate plating layer of brown-based weight thickness 90mg / m 2 ~160mg / m 2 .
b) A rust prevention layer is formed on both sides or one side of a copper foil having a brown cobalt sulfate plating layer formed on one side.
c) Thereafter, it is washed with water and dried.
茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のa)及びb)の工程を備えることを特徴とした茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
a) 銅箔の粗化処理を施していない表面に、硫酸コバルト(7水和物)を10g/l〜40g/l含み、pHを4.0以上、液温30℃以下とした硫酸コバルトメッキ液の攪拌浴を用い、4A/dm以下の電流密度で電解して、重量厚さ90mg/m 〜160mg/m 茶褐色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
b) その後、水洗し、乾燥する。
A method for producing a surface-treated copper foil provided with a browned surface, which is a method for producing a surface-treated copper foil provided with a browned surface, comprising the following steps a) and b).
a) Cobalt sulfate plating containing 10 g / l to 40 g / l of cobalt sulfate (7 hydrate) on the surface of copper foil not subjected to roughening treatment, pH of 4.0 or more and liquid temperature of 30 ° C. or less. using a stirring bath of liquid, 4A / dm 2 and the electrolyte in the following current densities, to form a cobalt sulfate plating layer of brown-based weight thickness 90mg / m 2 ~160mg / m 2 .
b) Thereafter, it is washed with water and dried.
茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のa)〜c)の工程を備えることを特徴とした茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
a) 銅箔の粗化処理を施していない表面に、硫酸コバルト(7水和物)を10g/l〜40g/l含み、pHを4.0以上、液温30℃以下とした硫酸コバルトメッキ液の攪拌浴を用い、4A/dm以下の電流密度で電解して、重量厚さ90mg/m 〜160mg/m 茶褐色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
b) 茶褐色の硫酸コバルトメッキ層を片面に形成した銅箔の両面若しくは片面に、防錆処理層を形成する。
c) その後、水洗し、乾燥する。
A method for producing a surface-treated copper foil comprising a browned surface, the method comprising producing a surface-treated copper foil comprising a browned surface, comprising the following steps a) to c):
a) Cobalt sulfate plating containing 10 g / l to 40 g / l of cobalt sulfate (7 hydrate) on the surface of copper foil not subjected to roughening treatment, pH of 4.0 or more and liquid temperature of 30 ° C. or less. using a stirring bath of liquid, 4A / dm 2 and the electrolyte in the following current densities, to form a cobalt sulfate plating layer of brown-based weight thickness 90mg / m 2 ~160mg / m 2 .
b) A rust prevention layer is formed on both sides or one side of a copper foil having a brown cobalt sulfate plating layer formed on one side.
c) Thereafter, it is washed with water and dried.
請求項1〜請求項7のいずれかに記載の茶褐色化処理面を備える表面処理銅箔を用いて形成したプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュ。 The electromagnetic wave shielding electroconductive mesh for the front panel of the plasma display formed using the surface treatment copper foil provided with the browning process surface in any one of Claims 1-7.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0369015U (en) * 1989-11-09 1991-07-09
JP2003201597A (en) * 2002-01-09 2003-07-18 Nippon Denkai Kk Copper foil, production method therefor and electromagnetic wave shield body obtained by using the copper foil
JP2005139546A (en) * 2003-10-14 2005-06-02 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Blacking surface-treated copper foil, process for producing the blackening surface-treated copper foil and, using the blacking surface-treated copper foil, electromagnetic wave shielding conductive mesh
JP4458519B2 (en) * 2003-07-28 2010-04-28 三井金属鉱業株式会社 Surface-treated copper foil having a blackened surface, a method for producing the surface-treated copper foil, and an electromagnetic shielding conductive mesh for a front panel of a plasma display using the surface-treated copper foil

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2875186B2 (en) * 1995-06-08 1999-03-24 日鉱グールド・フォイル株式会社 Processing method of copper foil for printed circuit

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0369015U (en) * 1989-11-09 1991-07-09
JP2003201597A (en) * 2002-01-09 2003-07-18 Nippon Denkai Kk Copper foil, production method therefor and electromagnetic wave shield body obtained by using the copper foil
JP4458519B2 (en) * 2003-07-28 2010-04-28 三井金属鉱業株式会社 Surface-treated copper foil having a blackened surface, a method for producing the surface-treated copper foil, and an electromagnetic shielding conductive mesh for a front panel of a plasma display using the surface-treated copper foil
JP2005139546A (en) * 2003-10-14 2005-06-02 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Blacking surface-treated copper foil, process for producing the blackening surface-treated copper foil and, using the blacking surface-treated copper foil, electromagnetic wave shielding conductive mesh

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