KR20060055620A - 평판표시장치 및 그의 제조방법 - Google Patents
평판표시장치 및 그의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060055620A KR20060055620A KR1020040094512A KR20040094512A KR20060055620A KR 20060055620 A KR20060055620 A KR 20060055620A KR 1020040094512 A KR1020040094512 A KR 1020040094512A KR 20040094512 A KR20040094512 A KR 20040094512A KR 20060055620 A KR20060055620 A KR 20060055620A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- insulating layer
- electrode
- source
- layer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 96
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 137
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 35
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 24
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/26—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the composition or arrangement of the conductive material used as an electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
Description
Claims (18)
- 도전성 기판과;상기 기판의 일면상에 형성되어 상기 기판의 일부분을 노출시키는 콘택홀을 구비하는 제1절연막과;상기 제1절연막상에 형성된 반도체층, 게이트 및 소오스/드레인 전극을 구비한 박막 트랜지스터와;상기 박막 트랜지스터의 소오스/드레인 전극중 하나의 전극에 연결된 화소전극을 구비하는 표시소자를 포함하며,상기 박막 트랜지스터의 소오스/드레인 전극중 다른 하나의 전극이 상기 콘택홀을 통해 상기 기판과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기판은 금속박으로 된 플렉서블 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1절연막은 버퍼층을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제1항에 있어서, 상기 표시소자는상기 화소전극인 하부전극과;상기 하부전극의 일부분을 노출시키는 개구부를 구비하는 제2절연막과;상기 개구부내의 하부전극상에 형성된 유기막층과;기판상에 형성된 상부전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제4항에 있어서, 상기 제4절연막은 0.5㎛ 이상의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제4항에 있어서, 상기 기판의 다른 면상에 형성되어, 상기 기판의 다른 면을 절연시켜 주기 위한 제3절연막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 다수의 화소영역을 구비하는 도전성 기판과;상기 기판상에 형성되고, 상기 다수의 화소영역의 일부분을 각각 노출시키는 다수의 콘택홀을 구비하는 제1절연막과;각 화소영역마다 상기 제1절연막상에 형성되고, 섬형태의 소오스/드레인 전극을 구비하는 다수의 박막 트랜지스터와;각 화소영역마다 상기 제1절연막상에 형성되고, 상기 박막 트랜지스터의 소 오스/드레인 전극중 하나의 전극에 연결되는 화소전극을 구비하는 표시소자를 포함하며,상기 기판은 상기 콘택홀을 통해 각 박막 트랜지스터의 소오스/드레인 전극중 다른 하나의 전극에 연결되어, 상기 다수의 박막 트랜지스터로 전원전압을 공급하는 전원전압층으로 작용하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제7항에 있어서, 상기 기판은 금속박으로 된 플렉서블 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제6항에 있어서, 상기 제1절연막은 버퍼층인 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제6항에 있어서, 상기 각 표시소자는상기 화소전극인 하부전극과;상기 하부전극의 일부분을 노출시키는 개구부를 구비하는 제2절연막과;상기 개구부내의 하부전극상에 형성된 유기막층과;기판상에 형성된 상부전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제10항에 있어서, 상기 제2절연막은 0.5㎛이상의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 제11항에 있어서, 상기 기판의 다른 면상에 형성되어, 상기 기판의 다른 면을 절연시켜 주기 위한 제3절연막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.
- 도전성 기판상에 제1절연막을 형성하는 단계와;상기 제1절연막상에 소오스/드레인 영역을 구비하는 반도체층과 게이트를 형성하는 단계와;기판상에 제2절연막을 형성하는 단계와;상기 제1절연막과 제2절연막을 식각하여 상기 반도체층의 소오스/드레인 영역의 일부분을 노출시키는 제1콘택홀과 상기 기판의 일부분을 노출시키는 제2콘택홀을 형성하는 단계와;상기 제1콘택홀을 통해 상기 반도체층의 소오스/드레인 영역과 각각 콘택되는 소오스전극/드레인 전극을 형성하는 단계와;상기 소오스/드레인 전극중 하나의 전극에 연결되는 화소전극을 구비하는 표시소자를 형성하는 단계를 포함하며,상기 소오스/드레인 전극중 다른 하나의 전극은 상기 제2콘택홀을 통해 상기 기판과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제13항에 있어서, 상기 기판은 금속박으로 된 플렉서블 기판을 포함하는 것 을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제13항에 있어서, 상기 제1절연막은 버퍼층을 포함하고, 상기 제2절연막은 층간 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제13항에 있어서, 상기 표시소자를 제조하는 방법은상기 화소전극인 하부전극을 형성하는 단계와;상기 하부전극의 일부분을 노출시키는 개구부를 구비하는 제3절연막을 형성하는 단계와;상기 개구부내의 하부전극상에 유기막층을 형성하는 단계와;기판상에 상부전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 제3절연막은 0.5㎛ 이상의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 기판의 다른 면상에 형성되어, 상기 기판의 다른 면을 절연시켜 주기 위한 제4절연막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 제조방법.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040094512A KR100696479B1 (ko) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | 평판표시장치 및 그의 제조방법 |
JP2005325025A JP2006146205A (ja) | 2004-11-18 | 2005-11-09 | 平板表示装置及びその製造方法 |
US11/274,190 US20060102900A1 (en) | 2004-11-18 | 2005-11-16 | Flat panel display and its method of fabrication |
EP05110854A EP1659633A3 (en) | 2004-11-18 | 2005-11-17 | Flat panel display and its method of fabrication |
CNA2005101373429A CN1828924A (zh) | 2004-11-18 | 2005-11-18 | 平板显示器及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040094512A KR100696479B1 (ko) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | 평판표시장치 및 그의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060055620A true KR20060055620A (ko) | 2006-05-24 |
KR100696479B1 KR100696479B1 (ko) | 2007-03-19 |
Family
ID=35825395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040094512A KR100696479B1 (ko) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | 평판표시장치 및 그의 제조방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060102900A1 (ko) |
EP (1) | EP1659633A3 (ko) |
JP (1) | JP2006146205A (ko) |
KR (1) | KR100696479B1 (ko) |
CN (1) | CN1828924A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100669778B1 (ko) * | 2004-11-20 | 2007-01-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판 및 박막 트랜지스터를 구비한 기판 |
KR100767680B1 (ko) * | 2006-10-24 | 2007-10-17 | 엘지전자 주식회사 | 전계 발광 소자와 그 기판 및 그 제조방법 |
KR101244348B1 (ko) * | 2006-03-14 | 2013-03-18 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 유기 일렉트로루미네선스 장치 및 그 제조 방법, 전자 기기 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4930704B2 (ja) * | 2006-03-14 | 2012-05-16 | セイコーエプソン株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 |
US7667386B2 (en) | 2006-06-21 | 2010-02-23 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Fabricating method of display panel |
KR101340996B1 (ko) | 2007-03-13 | 2013-12-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 그 제조방법 |
JP2010032838A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 表示装置および表示装置の製造方法 |
JP5691167B2 (ja) * | 2009-12-24 | 2015-04-01 | カシオ計算機株式会社 | 発光装置の製造方法 |
US8618731B2 (en) * | 2010-05-18 | 2013-12-31 | General Electric Company | Large-area flexible OLED light source |
TWI423310B (zh) * | 2011-06-10 | 2014-01-11 | Au Optronics Corp | 畫素結構 |
KR20140029992A (ko) * | 2012-08-31 | 2014-03-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 어레이 기판, 이를 포함하는 표시 장치 |
KR101936619B1 (ko) * | 2012-10-31 | 2019-01-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 플렉서블 유기전계발광소자 및 그 제조방법 |
KR20150001154A (ko) * | 2013-06-26 | 2015-01-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
CN103531593B (zh) * | 2013-10-29 | 2015-03-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素结构、阵列基板、显示装置及像素结构的制造方法 |
CN104795429B (zh) * | 2015-04-13 | 2017-09-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Oled显示器件 |
KR102642198B1 (ko) * | 2016-04-04 | 2024-03-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광 디스플레이 장치 |
WO2017206141A1 (zh) * | 2016-06-02 | 2017-12-07 | 长春富乐玻显示技术有限公司 | Oled驱动电路及其制备方法和显示装置 |
KR102580063B1 (ko) * | 2016-07-21 | 2023-09-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
TWI691104B (zh) * | 2018-07-18 | 2020-04-11 | 友達光電股份有限公司 | 發光裝置及其製造方法 |
KR102562902B1 (ko) | 2018-09-14 | 2023-08-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
KR102030323B1 (ko) * | 2018-11-23 | 2019-10-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
CN109742121B (zh) * | 2019-01-10 | 2023-11-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性基板及其制备方法、显示装置 |
CN114255647A (zh) * | 2020-09-24 | 2022-03-29 | 群创光电股份有限公司 | 电子装置的制造方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0717445B1 (en) * | 1994-12-14 | 2009-06-24 | Eastman Kodak Company | An electroluminescent device having an organic electroluminescent layer |
US5641974A (en) * | 1995-06-06 | 1997-06-24 | Ois Optical Imaging Systems, Inc. | LCD with bus lines overlapped by pixel electrodes and photo-imageable insulating layer therebetween |
JP3690406B2 (ja) * | 1997-08-21 | 2005-08-31 | セイコーエプソン株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置 |
JP3536301B2 (ja) * | 1997-08-21 | 2004-06-07 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置 |
CN1267782C (zh) * | 2000-04-21 | 2006-08-02 | 精工爱普生株式会社 | 电光装置 |
GB0014961D0 (en) * | 2000-06-20 | 2000-08-09 | Koninkl Philips Electronics Nv | Light-emitting matrix array display devices with light sensing elements |
JP4583568B2 (ja) * | 2000-09-19 | 2010-11-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置の作製方法 |
SG111923A1 (en) * | 2000-12-21 | 2005-06-29 | Semiconductor Energy Lab | Light emitting device and method of manufacturing the same |
KR100635042B1 (ko) * | 2001-12-14 | 2006-10-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법 |
KR100491143B1 (ko) * | 2001-12-26 | 2005-05-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 블랙매트릭스를 구비한 평판표시장치 및 그 제조방법 |
US6835954B2 (en) * | 2001-12-29 | 2004-12-28 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Active matrix organic electroluminescent display device |
US6943066B2 (en) * | 2002-06-05 | 2005-09-13 | Advantech Global, Ltd | Active matrix backplane for controlling controlled elements and method of manufacture thereof |
KR20030094962A (ko) * | 2002-06-11 | 2003-12-18 | 정은주 | 금속판을 기판과 전극으로 하는 발광소자 |
US6642092B1 (en) * | 2002-07-11 | 2003-11-04 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Thin-film transistors formed on a metal foil substrate |
JP4434563B2 (ja) * | 2002-09-12 | 2010-03-17 | パイオニア株式会社 | 有機el表示装置の製造方法 |
TW548853B (en) * | 2002-09-13 | 2003-08-21 | Ind Tech Res Inst | Method of manufacturing flexible TFT display |
KR100895313B1 (ko) * | 2002-12-11 | 2009-05-07 | 삼성전자주식회사 | 유기 발광 표시판 |
KR100521272B1 (ko) * | 2002-12-20 | 2005-10-12 | 삼성에스디아이 주식회사 | 휘도가 개선된 유기전계 발광표시장치 |
US6777309B1 (en) * | 2003-01-28 | 2004-08-17 | Gem Line Technology Co., Ltd. | Method for fabricating thin film transistor display device |
-
2004
- 2004-11-18 KR KR1020040094512A patent/KR100696479B1/ko active IP Right Grant
-
2005
- 2005-11-09 JP JP2005325025A patent/JP2006146205A/ja active Pending
- 2005-11-16 US US11/274,190 patent/US20060102900A1/en not_active Abandoned
- 2005-11-17 EP EP05110854A patent/EP1659633A3/en not_active Ceased
- 2005-11-18 CN CNA2005101373429A patent/CN1828924A/zh active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100669778B1 (ko) * | 2004-11-20 | 2007-01-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판 및 박막 트랜지스터를 구비한 기판 |
KR101244348B1 (ko) * | 2006-03-14 | 2013-03-18 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 유기 일렉트로루미네선스 장치 및 그 제조 방법, 전자 기기 |
KR100767680B1 (ko) * | 2006-10-24 | 2007-10-17 | 엘지전자 주식회사 | 전계 발광 소자와 그 기판 및 그 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100696479B1 (ko) | 2007-03-19 |
JP2006146205A (ja) | 2006-06-08 |
US20060102900A1 (en) | 2006-05-18 |
EP1659633A3 (en) | 2006-06-07 |
EP1659633A2 (en) | 2006-05-24 |
CN1828924A (zh) | 2006-09-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100696479B1 (ko) | 평판표시장치 및 그의 제조방법 | |
KR100635042B1 (ko) | 전면전극을 구비한 평판표시장치 및 그의 제조방법 | |
TWI425634B (zh) | 有機發光顯示裝置及其製造方法 | |
US7696518B2 (en) | Flat panel display with anode electrode layer as power supply layer and fabrication method thereof | |
US8829525B2 (en) | Organic light emitting display device | |
US7211826B2 (en) | Organic electroluminescent display | |
KR100611153B1 (ko) | 평판 표시 소자 | |
TWI392096B (zh) | 薄膜電晶體陣列面板 | |
US20070012926A1 (en) | Display device with reduced number of wires and manufacturing method thereof | |
US7402950B2 (en) | Active matrix organic light emitting display device and method of fabricating the same | |
US8258024B2 (en) | Display device and method of manufacturing the same | |
US8704305B2 (en) | Thin film transistor | |
KR20150087617A (ko) | 표시 기판용 박막 트랜지스터, 표시 기판 및 표시 기판의 제조 방법 | |
US7274037B2 (en) | Thin film transistor and display device using the same | |
KR100852252B1 (ko) | 표시장치 및 그 제조 방법 | |
US8427049B2 (en) | Display device | |
KR102449066B1 (ko) | 표시장치용 어레이기판 및 그 제조방법 | |
KR100669715B1 (ko) | 유기전계 발광표시장치 및 그의 제조방법 | |
KR20080000015A (ko) | 액티브 매트릭스 유기전계발광소자 및 그 제조방법 | |
KR102124827B1 (ko) | 프로세스 키를 포함하는 표시패널 | |
KR20100070729A (ko) | 유기전계 발광소자용 어레이 기판 | |
JP3985804B2 (ja) | 電気光学装置 | |
US20230232675A1 (en) | Mother substrate for display device and manufacturing method of display device | |
KR100946371B1 (ko) | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
JP2011100951A (ja) | 薄膜トランジスタ、発光装置、電子機器、及び、薄膜トランジスタの形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130228 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140303 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150227 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180302 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190304 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200227 Year of fee payment: 14 |