KR20050061346A - 광산란막용 조성물, 및 그것을 이용한 광산란막 - Google Patents

광산란막용 조성물, 및 그것을 이용한 광산란막 Download PDF

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Abstract

광산란막용 조성물은, 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체와, 다른 에틸렌성 불포화단량체의 공중합체를 각각 포함하는 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 불소함유 수지미립자와, 굴절율이 1.50이상 1.70이하의 투명수지를 포함한다. 다른 에틸렌성 불포화단량체가, 불소와 친수성기를 함유하지 않은 제2의 에틸렌성 불포화단량체로 이루어질 경우, 공중합체는, 제1의 에틸렌성 불포화단량체를 10∼60중량%, 및 제2의 에틸렌성 불포화단량체를 90∼40중량%의 양으로 포함한다. 다른 에틸렌성 불포화단량체가, 불소와 친수성기를 함유하지 않은 제2의 에틸렌성 불포화단량체와 친수성기를 함유하는 제3의 에틸렌성 불포화단량체를 포함할 경우, 공중합체는, 제1의 에틸렌성 불포화단량체를 10∼90중량%, 제2의 에틸렌성 불포화단량체를 89∼5중량% 및 제3의 에틸렌성 불포화단량체를 1∼10중량%의 양으로 포함한다. 광산란막은, 광산란막용 조성물을 이용해서 형성된다.

Description

광산란막용 조성물, 및 그것을 이용한 광산란막{COMPOSITION FOR LIGHT-REFLECTING FILM AND LIGHT-REFLECTING FILM USING THE SAME}
본 발명은, 반사형 액정표시장치를 구성하는 광산란막(light-scattering film)의 형성에 이용되는 광산란막용 조성물, 및 광산란막에 관한 것이다.
최근, 액정표시장치의 보급, 대형화나 야외 사용화에 따라, 그 사용 조건하에서의 내후성, 시인성, 방오성, 내열성 등이 요구되고 있다. 그 중에서도, 표시장치의 시인성의 향상은 표시장치의 주기능에 관한 중요한 과제이며, 시인성 향상을 위한 여러가지 기술이 검토되고 있다.
예를 들면, 반사형 액정표시장치에 있어서는, 시인성의 향상을 위해, 기재수지 중에 기재수지와는 다른 굴절율의 미립자를 분산시켜서 이루어지는, 반사방지막, 광확산막, 광산란막 등을 설치하고, 빛의 반사, 확산, 산란을 제어하는 것이 행해지고 있다.
구체적으로는, 반사형 액정표시장치에는, 장치에 입사한 실내광이나 외광 등의 빛을 반사하는 반사판이 필요하고, 이 반사판에는 빛의 반사 기능 및 광산란 기능의 2개의 기능이 요구된다. 광산란 기능을 갖게 하는 부재로서는, 투명수지 중에 이것과는 굴절율이 다른 미립자를 섞어서 광산란성을 갖게 한 광산란막이 이용되고 있다. 예를 들면, 일본국 특개2001-194514호 공보, 일본국 특개2002-258014호 공보 및 일본국 특개2002-258274호 공보에는, 투명수지(예를 들면, 아크릴수지, 플루오르 아크릴수지, 에폭시 아크릴레이트수지) 중에 투명입자(예를 들면, 실리카, 알루미나 등의 무기입자, 실리콘수지, 멜라민수지, 플루오르수지 등의 수지입자)를 분산시킨 광산란막이 개시되어 있다.
광산란막에는 우수한 빛의 산란성과 광투과성이 요구된다. 광산란막은, 기재수지와 미립자의 굴절율 차이가 클수록 우수한 광산란 특성을 나타내고, 이 광산란성은, 미립자의 입자 지름 및 입도분포에도 큰 영향을 받는다.
그러나, 종래의 광산란막은, 빛의 산란 특성 및 표면평활성의 점에서, 충분히 만족하는 것이 아니었다.
본 발명의 목적은, 광산란 기능과 표면평활성이 우수한 광산란막, 및 그 형성에 이용되는 광산란막용 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 제1의 측면에 의하면, 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 10∼60중량%, 및 불소와 친수성기를 함유하지 않는 제2의 에틸렌성 불포화단량체 90∼40중량%의 공중합체를 각각 포함하는 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 불소함유 수지미립자와, 굴절율이 1.50이상 1.70이하의 투명수지를 포함하는 광산란막용 조성물이 제공된다.
본 발명의 제2의 측면에 의하면, 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 10∼90중량%, 불소와 친수성기를 함유하지 않는 제2의 에틸렌성 불포화단량체89∼5중량% 및 친수성기를 함유하는 제3의 에틸렌성 불포화단량체 1∼10중량%의 공중합체를 포함하는 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 불소함유 수지미립자와, 굴절율이 1.50이상 1.70이하의 투명수지를 포함하는 광산란막용 조성물이 제공된다.
또한, 본 발명에 의하면, 본 발명의 광산란막용 조성물을 이용해서 형성된 광산란막이 제공된다.
우선, 본 발명의 광산란막용 조성물에 대하여 설명하겠다.
본 발명의 광산란막용 조성물은, 불소를 함유하는 에틸렌성 불포화단량체(제1의 단량체)와, 다른 에틸렌성 불포화단량체 성분의 특정 비율의 공중합체를 각각 포함하는 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 불소함유 수지미립자와, 굴절율이 1.50이상 1.70이하의 투명수지를 포함하는 것이다.
본 발명의 제1의 측면에 있어서, 상기 다른 에틸렌성 불포화단량체 성분은, 불소와 친수성기를 함유하지 않는 제2의 에틸렌성 불포화단량체(제2의 단량체)로 이루어지고, 불소함유 수지미립자는, 각각, 제1의 단량체 10∼60중량%와 제2의 단량체 90∼40중량%의 공중합체를 포함한다.
본 발명의 제2의 측면에 있어서, 상기 다른 에틸렌성 불포화단량체 성분은, 상기 제2의 단량체와, 친수성기를 함유하는 에틸렌성 불포화단량체(제3의 단량체)로 이루어지고, 불소함유 수지입자는, 각각, 제1의 단량체 10∼90중량%, 제2의 단량체 89∼5중량% 및 제3의 단량체 1∼10중량%의 공중합체를 포함한다.
본 발명의 광산란막용 조성물은, 우수한 광산란성과 표면평활성을 가지는 광산란막을 생성하는 것이다. 특히, 본 발명의 제2의 측면에 의한 광산란막용 조성물은, 이들 효과에 더해, 불소함유 수지입자가 한층 더 균일하게 분산된 광산란막을 생성한다는 효과가 있다.
본 발명에 있어서, 불소함유 수지미립자의 굴절율은, 하기식으로부터 산출되는 이론굴절율이다.
이론굴절율(nD)=W1×n1＋W2×n2＋W3×n3
n1: 단량체A의 호모폴리머의 굴절율
n2: 단량체B의 호모폴리머의 굴절율
n3: 단량체C의 호모폴리머의 굴절율
W1: 단량체A의 공중합비(단량체의 전량을 기준으로 하는 중량비)
W2: 단량체B의 공중합비(단량체의 전량을 기준으로 하는 중량비)
W3: 단량체C의 공중합비(단량체의 전량을 기준으로 하는 중량비)
본 발명의 공중합체의 구성 성분인 제1의 단량체는, 불소를 함유하는 에틸렌성 불포화단량체이며, 친수성기를 함유하지 않는다. 그러한 제1의 단량체의 예를 들면, 트리플루오르에틸(메타)아크릴레이트, 테트라플루오르프로필(메타)아크릴레이트, 헥사플루오르프로필(메타)아크릴레이트, 옥타플루오르펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오르데실(메타)아크릴레이트 등의 불소기함유(메타)아크릴레이트이지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 공중합체의 구성 성분인 제2의 단량체는, 불소와 친수성기를 함유하지 않는 에틸렌성 불포화단량체이다. 제2의 단량체에는, 가교성 단량체와 비가교성 단량체가 포함되고, 이들을 병용하는 것이 바람직하다.
가교성 단량체는, 가교성을 주기 위한 관능기를 가지고 있는 2관능 또는 3관능 이상의 다관능단량체이며, 가교제로서 기능한다. 가교성 단량체가 가지는 관능기 중 적어도 1개는, 비가교성 단량체와 공중합시키기 위해서 필요하며, 다른 관능기는 가교성을 주기 위한 관능기로서 기능한다.
가교성 단량체가 가지는 가교성을 주기 위한 관능기로서는, 비닐함유기, 알콕시시릴기 등을 들 수 있는데, 특별히 이들로 한정되는 것은 아니다.
또, 이들 관능기에 의한 가교로서는, 비닐함유기끼리의 라디칼중합에 의한 가교, 알콕시시릴기의 가수분해와 축합반응에 의한 가교 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 불소함유 수지미립자의 합성시에 일어나기 때문에, 비닐기끼리의 라디칼중합에 의한 가교가 바람직하다.
가교성 단량체로서는, 중합시의 수지미립자의 응집 및 다분산화가 일어나기 어렵고, 얻어지는 수지미립자의 내열성도 좋다는 점으로부터, 반응성이 다른 관능기를 가지는 단량체를 이용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, (메타)아크릴산잔기, 크로톤산잔기, 말레인산잔기, 이타콘산잔기 등의 중합성 불포화 카르복실산잔기와, 상기 중합성 불포화 카르복실산잔기 이외의 반응성 관능기를 가지는 단량체가 바람직하고, 특히 (메타)아크릴산잔기 및 비닐기를 가지는 에틸렌성 불포화단량체가 바람직하다.
상기 중합성 불포화 카르복실산잔기 이외의 반응성 관능기로서는, 비닐함유 기, 알콕시시릴기 등을 들 수 있다.
비닐함유기로서는, 예를 들면 에테닐기, 1-프로페닐기, 알릴기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 2-펜테닐기 등의 탄소수 1∼11의 불포화기함유 알킬기;스티릴기, 신나밀기 등의 불포화기함유 방향족기 등을 들 수 있다.
알콕시시릴기로서는, 트리메톡시시릴기, 트리에톡시시릴기 등의 알콕시시릴기 등을 들 수 있다.
가교성 단량체 중, (메타)아크릴산잔기 및 비닐기를 가지는 에틸렌성 불포화단량체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산아릴, (메타)아크릴산1-메틸아릴, (메타)아크릴산2-메틸아릴, (메타)아크릴산1-부테닐, (메타)아크릴산2-부테닐, (메타)아크릴산3-부테닐, (메타)아크릴산1,3-메틸-3-부테닐, (메타)아크릴산2-클로르아릴, (메타)아크릴산3-클로르아릴, (메타)아크릴산o-아릴페닐, (메타)아크릴산2-(아릴 옥시)에틸, (메타)아크릴산아릴락틸, (메타)아크릴산시트로네릴, (메타)아크릴산게라닐, (메타)아크릴산로디닐, (메타)아크릴산신나밀, (메타)아크릴산비닐 등을 들 수 있지만, 특별히 이들로 한정되는 것은 아니다.
다른 가교성 단량체로서는, (메타)아크릴산2-메톡시에틸, (메타)아크릴산2-에톡시에틸 등의 알콕실기함유 (메타)아크릴산에스테르류;디(메타)아크릴산에틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산트리에틸렌글리콜, 디(메타)아크릴산테트라에틸렌글리콜, 트리(메타)아크릴산트리메티롤프로판, 트리(메타)아크릴산펜타에리스리톨, 디아크릴산1,1,1-트리스히드록시메틸에탄, 트리아크릴산1,1,1-트리스히드록시메틸에탄, 1,1,1-트리스히드록시메틸프로판트리아크릴산등의 다관능(메타)아크릴산 에스테르류;3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리이소프로폭시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란 등의 알콕시시릴기함유 단량체류;디비닐벤젠, 아디핀산디비닐 등의 디비닐류;이소프탈산디아릴, 프탈산디아릴, 말레인산디아릴, 이타콘산디아릴 등의 디아릴류 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 가교성 단량체로서는, (메타)아크릴산아릴 또는 (메타)아크릴산비닐이 바람직하다.
가교성 단량체는, 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다. 또, 가교성 단량체의 공중합체 중의 양은, 단량체의 전량을 기준으로 하여 5∼20중량%인 것이 바람직하다.
비가교성 단량체는, 가교성을 주기 위한 관능기를 가지지 않는 단량체이며, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산t-부틸, (메타)아크릴산n-아밀, (메타)아크릴산이소아밀, (메타)아크릴산n-헥실, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산도데실,(메타)아크릴산옥타데실, (메타)아크릴산시클로헥실, (메타)아크릴산벤질, (메타)아크릴산이소보닐, (메타)아크릴산페닐 등의 아크릴산 에스테르류;스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, β-메틸스티렌, o-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 1-부틸스티렌, 클로르스티렌 등의 스티렌계 단량체 등을 들 수 있지만, 특별히 이들로 한정되는 것은 아니다. 또, 이들은 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다. 비가교성 단량체로서는, (메타)아크릴산메틸이 바람직하다. 비가교성 단량체는, 단량체의 전량을 기준으로 하여 20∼85중량%인 것이 바람직하다.
상기와 같이, 본 발명의 제1의 측면에 의하면, 불소수지미립자를 구성하는 공중합체는, 에틸렌성 불포화단량체의 전량을 기준으로 하여 10∼60중량%의 범위의 제1의 단량체(불소함유 에틸렌성 불포화단량체)와 90∼40중량%의 제2의 에틸렌성 불포화단량체를 포함한다. 공중합체 중의 제1의 단량체의 양이 10중량%미만이면, 얻어지는 불소함유 수지미립자의 굴절율이 높아지기 때문에 충분한 광산란성을 나타내지 않고, 60중량%를 넘으면 표면평활성이 우수한 광산란막을 얻을 수 없다.
그러나, 이 공중합체가, 또한, 제3의 성분으로서, 친수성기를 함유하는 제3의 에틸렌성 불포화단량체를 1∼10중량%의 양으로 포함할 경우, 공중합체 중의 제1의 단량체의 양을 10∼90중량%까지 넓힐 수 있고, 얻어지는 불소수지미립자의 광산란막 중에서의 편재를 한층 더 효과적으로 방지, 불소수지미립자가 한층 더 균일하게 분산된 광산란막을 얻을 수 있는 것이 발견되었다. 이 경우, 제2의 단량체의 양은, 89∼5중량%이다.
친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체(제3의 단량체)는, 물과의 상호작용이 강한 극성기를 가지는 화합물이며, 중합용제에 용해하고 ,상기 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 제2의 에틸렌성 불포화단량체와 공중합하는 화합물이다. 친수성기로서는, 예를 들면, 히드록실기, 카르복실기, 아미드기, 아미노기, 4급암모늄염기, 술폰산기, 옥시에틸렌기 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
히드록실기함유 에틸렌성 불포화단량체로서는, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산히드록시프로필, (메타)아크릴산4-히드록시부틸, (메타)아크릴산글리세롤, (메타)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메타)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메타)아크릴산폴리에틸렌글리콜폴리프로필렌글리콜, 4-히드록시비닐벤젠, 1-에티닐-1-시클로헥사놀, 아릴알코올 등을 들 수 있다.
카르복실기함유 에틸렌성 불포화단량체로서는, 말레인산, 무수말레인산, 푸마르산, 이타콘산, 무수이타콘산, 시트라콘산, 또는 이들의 알킬 또는 알케닐모노에스테르, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸마레인산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테레프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴옥시에틸숙신산, (메타)아크릴산, 크로톤산, 신남산, 올레인산비닐, 리노렌산비닐, 크로톤산비닐 등을 들 수 있다.
아미드기함유 에틸렌성 불포화단량체에는, 모노알킬롤(메타)아크릴아미드와, 디알킬롤(메타)아크릴아미드가 포함된다. 모노알킬롤(메타)아크릴아미드로서는, (메타)아크릴아미드, N-메티롤(메타)아크릴아미드, N-메톡시메틸-(메타)아크릴아미드, N-에톡시메틸-(메타)아크릴아미드, N-프로폭시메틸-(메타)아크릴아미드, N-부톡시메틸-(메타)아크릴아미드, N-펜톡시메틸-(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또, 디알킬롤(메타)아크릴아미드로서는, N,N-디(메티롤)아크릴아미드, N-메티롤-N-메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디(메톡시메틸)아크릴아미드, N-에톡시메틸-N-메톡시메틸메타아크릴아미드, N,N-디(에톡시메틸)아크릴아미드, N-에톡시메틸-N-프로폭시메틸메타아크릴아미드, N,N-디(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-부톡시메틸-N-(프로폭시메틸)메타아크릴아미드, N,N-디(부톡시메틸)아크릴아미드, N-부톡시메틸-N-(메톡시메틸)메타아크릴아미드, N,N-디(펜톡시메틸)아크릴아미드, N-메톡시메틸-N-(펜톡시메틸)메타아크릴아미드 등을 들 수 있다.
아미노기함유 에틸렌성 불포화단량체로서는, (메타)아크릴산디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산디에틸아미노에틸, (메타)아크릴산메틸에틸아미노에틸, 디메틸아미노스티렌, 디에틸아미노스티렌 등을 들 수 있다.
4급암모늄염기함유 에틸렌성 불포화단량체로서는, (메타)아크릴산디메틸아미노에틸메틸크롤라이드염, 트리메틸-3-(1-(메타)아크릴아미드-1,1-디메틸프로필)암모늄크롤라이드, 트리메틸-3-(1-(메타)아크릴아미드프로필)암모늄크롤라이드 및 트리메틸-3-(1-(메타)아크릴아미드-1,1-디메틸에틸)암모늄크롤라이드 등의 디알킬아미노기함유 에틸렌성 불포화단량체를 4급암모늄화시켜서 이루어지고, 대이온으로서 C1-, Br-, I- 등의 할로겐 이온 또는 QSO3 -(Q는, 탄소수 1∼12알킬기)을 가지는 단량체를 들 수 있다.
술폰산기함유 에틸렌성 불포화단량체로서는, 비닐술폰산, 아릴술폰산, 메탈릴술폰산, (메타)아크릴산2-술포에틸, (메타)아크릴산2-술포부틸, 스티렌술폰산, 술포페닐아릴에테르, 술포페닐메탈릴에테르, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산 등을 들 수 있다.
옥시에틸렌기함유 에틸렌성 불포화단량체로서는, (메타)아크릴산메톡시폴리에틸렌글리콜, (메타)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜, (메타)아크릴산페녹시폴리에틸렌글리콜, (메타)아크릴산노닐페놀폴리에틸렌옥시드부가물 등을 들 수 있다.
친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체는, 2종 이상을 병용해서 이용할 수도 있다.
친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체 중에서는, 비교적 친유성도 더불어 가지는 (메타)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메타)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메타)아크릴산폴리에틸렌글리콜폴리프로필렌글리콜 등의 히드록실기함유 에틸렌성 불포화단량체, 또는 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산 등의 카르복실기함유 에틸렌성 불포화단량체가 바람직하다.
친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체는, 단량체의 전량을 기준으로 하여 1∼10중량%의 범위로 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 제2의 에틸렌성 불포화단량체와 공중합시킨다. 친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체의 공중합비가 1중량%미만이면, 불소기가 나타내는 발수, 발유성에 의한 광산란막 중에서의 불소함유 수지미립자의 편재를 개선할 수 없고, 10중량%를 넘으면 스무스한 입자생성이 일어나지 않고, 겔화하기 쉽다.
본 발명의 불소함유 수지미립자를 구성하는 공중합체는, 제1의 단량체와 제2의 단량체, 또는 제1의 단량체와 제2의 단량체와 제3의 단량체를 공중합시킴으로써 제조할 수 있다. 이 공중합은, 보통, 용제중, 중합개시제의 존재하에서 행해진다.
불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 다른 에틸렌성 불포화단량체(제2의 단량체, 또는 제2의 단량체와 제3의 단량체)를 공중합시킬 때에 이용되는 용제는, 상기 단량체가 균질하게 용해하고, 또한 상기 단량체를 중합해서 얻어지는 불소함유 수지미립자가 불용이 되는 것에서 선택된다. 이러한 용제로서는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, t-부탄올 등의 알코올류;디에틸에테르, 이소프로필에테르, 부틸에테르, 메틸셀로솔브, 테트라히드로프란 등의 에테르류;아세톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤 등의 케톤류;상기 용제와 물과의 혼합 용제 등을 들 수 있고, 이들의 용제는 2종 이상을 혼합해서 이용할 수 있다. 그 중에서도, 메탄올, 에탄올, 또는 이들과 물의 혼합 용제가 바람직하고, 혼합 용제중의 물의 양은 0∼70중량%인 것이 바람직하다.
상기 단량체의 공중합은, 단량체의 합계량이 용제량을 기준으로 하여 10∼30중량%가 되는 단량체농도로 행하는 것이 바람직하다.
중합개시제로서는, 하기 화학식 1에서 나타나는 중합개시제 또는 하기 화학식 2에서 나타나는 중합개시제를 이용할 수 있다. 이들의 중합개시제는, 양이온성의 수용성 아조 중합개시제이며, 이들의 중합개시제를 사용함으로써, 얻어지는 불소함유 수지미립자의 분자말단을 양이온성으로 할 수 있다.
하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2에서 나타나는 중합개시제는, 상기 단량체의 전량에 대하여 0.01∼0.30중량%의 비율로 이용하는 것이 바람직하다.
상기 화학식 1 중의 R1 및 R2는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기 또는 방향족기를 나타낸다. 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등을 들 수 있고, 방향족기로서는, 페닐기, 벤질기 등을 들 수 있다. 알킬기 및 방향족기는, 수산화 또는 할로겐화되어 있어도 좋다. 수산화알킬기로서는, 히드록시메틸기, 히드록시에틸기, 히드록시프로필기 등을 들 수 있다. 또, 수산화방향족기로서는, 히드록시페닐기, 히드록시벤질기 등을 들 수 있고, 할로겐화방향족기로서는, 클로로페닐기, 클로로벤질기 등을 들 수 있다.
화학식 1에서 나타나는 중합개시제의 예로서는, 2,2'-아조비스[2-(페닐아미디노)프로판]디히드로크롤라이드(VA-545, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스{2-[N-(4-클로로페닐)아미디노]프로판}디히드로크롤라이드(VA-546, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스{2-[N-(4-드록시페닐)아미디노]프로판}디히드로크롤라이드(VA-548, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스[2-(N-벤질아미디노)프로판]디히드로크롤라이드(VA-552, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스[2-(N-아릴아미디노)프로판]디히드로크롤라이드(VA-553, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로크롤라이드(V-50, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스{2-[N-(4-히드록시에틸)아미디노]프로판}디히드로크롤라이드(VA-558, 와코쥰야쿠제) 등을 들 수 있다.
상기 화학식 2 중의 R3 및 R4는, 각각 독립적으로 알킬렌기 또는 2가의 방향족기를 나타낸다. 알킬렌기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기 등을 들 수 있고, 2 가의 방향족기로서는, 페닐렌기, 비페닐렌기 등을 들 수 있다. 알킬렌기는, 수산화되어 있어도 좋다. 수산화알킬렌기로서는, 히드록시메틸렌기, 히드록시에틸렌기등을 들 수 있다.
화학식 2에서 나타나는 중합개시제의 예로서는, 2,2-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디히드로크롤라이드(VA-041, 와코쥰야쿠제), 2,2-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판]디히드로크롤라이드(VA-044, 와코쥰야쿠제), 2,2-아조비스[2-(4,5,6,7-테트라히드로-1H-1,3-디아제핀-2-일)프로판]디히드로크롤라이드(VA-054, 와코쥰야쿠제), 2,2-아조비스[2-(3,4,5,6-테트라히드로피리미딘-2-일)프로판]디히드로크롤라이드(VA-058, 와코쥰야쿠제), 2,2-아조비스[2-(5-히드록시-3,4,5,6-테트라히드로피리미딘-2-일)프로판]디히드로크롤라이드(VA-059, 와코쥰야쿠제), 2,2-아조비스{2-[1-(2-히드록시에틸)-2-이미다졸린-2-일]프로판}디히드로크롤라이드(VA-060, 와코쥰야쿠제), 2,2-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판](VA-061, 와코쥰야쿠제) 등을 들 수 있다.
불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 다른 에틸렌성 불포화단량체를 공중합시킬 때에는, 얻어지는 불소함유 수지미립자의 입자 지름을 제어하기 위해서, 상기 화학식 1 또는 상기 화학식 2에서 나타나는 양이온성의 수용성 아조 중합개시제와 함께, 음이온성 중합개시제를 병용하는 것이 바람직하다. 음이온성 중합개시제를 병용함으로써, 상기 양이온성의 수용성 아조 중합개시제만으로는 0.1∼1.2μm의 범위였던 불소함유 수지미립자의 입자 지름을 5.0μm까지 넓힐 수 있다.
음이온성 중합개시제는, 중합용제에 용해하고, 열에 의해 라디칼을 발생하는 것으로, 얻어지는 집합체의 분자말단이 이온성이 되지 않는 화합물이다. 음이온성 중합개시제로서는, 아조니트릴화합물, 알킬아조화합물, 아조아미드화합물 등의 음이온성 아조중합개시제나, 케톤퍼옥사이드류, 퍼옥시케탈류, 히드로퍼옥사이드류, 디알킬퍼옥사이드류, 디아실퍼옥사이드류, 퍼옥시디카보네이트류, 퍼옥시디카보네이트류, 퍼옥시에스테르류 등의 유기과산화물을 이용할 수 있다.
아조니트릴화합물로서는, 예를 들면, 2,2-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)(V-70, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)(V-65, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(V-60, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴)(V-59, 와코쥰야쿠제), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴)(V-40, 와코쥰야쿠제), 1-[(1-시아노-1-메틸에틸)아조]포름아미드(V-30, 와코쥰야쿠제), 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸-발레로니트릴(V-19, 와코쥰야쿠제) 등을 들 수 있다.
알킬아조화합물로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄)(VR-110, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(2-메틸프로판)(VR-160, 와코쥰야쿠제) 등을 들 수 있다.
아조아미드화합물로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스[2-메틸-N-[1,1-비스(히드록시메틸)-2-히드록시에틸]프로피온아미드](VA-080, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스[2-메틸-N-[1,1-비스(히드록시메틸)에틸]프로피온아미드](VA-082, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스[2-메틸-N-[2-(1-히드록시부틸)]-프로피온아미드](VA-085, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스[2-메틸-N-(2-히드록시에틸)-프로피온아미드](VA-086, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미드)디하이드레이트(VA-088, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스[N-(2-프로페닐)-2-메틸프로피온아미드](VF-096, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(N-부틸-2-메틸프로피온아미드)(Vam-110, 와코쥰야쿠제), 2,2' -아조비스(N-시클로헥실-2-메틸프로피온아미드)(Vam-111, 와코쥰야쿠제) 등을 들 수 있다.
케톤퍼옥사이드류로서는, 예를 들면, 메틸에틸케톤퍼옥사이드(퍼멕크H, 니혼유시제), 시클로헥사논퍼옥시드(퍼헥사H, 니혼유시제), 메틸시클로헥사논퍼옥사이드(퍼헥사Q, 니혼유시제), 메틸아세트아세테이트퍼옥사이드(퍼큐아SA, 니혼유시제), 아세틸아세톤퍼옥사이드(퍼큐아A, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
퍼옥시케탈류로서는, 예를 들면, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산(퍼헥사TMH, 니혼유시제), 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산(퍼헥사HC, 니혼유시제), 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산(퍼헥사3M, 니혼유시제), 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산(퍼헥사C, 니혼유시제), 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)시클로도데칸(퍼헥사CD, 니혼유시제), 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄(퍼헥사22, 니혼유시제), n-부틸4,4-비스(t-부틸퍼옥시)발레레이트(퍼헥사v, 니혼유시제), 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시시클로헥실)프로판(퍼테트라A, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
히드로퍼옥사이드류로서는, 예를 들면, t-부틸히드로퍼옥사이드(퍼부틸H-69, 니혼유시제), p-멘탄히드로퍼옥사이드(퍼멘타H, 니혼유시제), 디이소프로필벤젠히드로퍼옥사이드(퍼쿠밀P, 니혼유시제), 1,1,3,3-테트라메틸부틸히드로퍼옥사이드(퍼옥타H, 니혼유시제), 쿠멘히드로퍼옥사이드(퍼쿠밀H-80, 니혼유시제), t-헥실히드로퍼옥사이드(퍼헥실H, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
디알킬퍼옥사이드류로서는, 예를 들면, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥신-3(퍼헥신25B, 니혼유시제), 디-t-부틸퍼옥사이드(퍼부틸D, 니혼유시제), t-부틸쿠밀퍼옥시드(퍼부틸C, 니혼유시제), 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥산(퍼 헥사25B, 니혼유시제), 디쿠밀퍼옥시드(퍼쿠밀D, 니혼유시제), α,α'-비스(t-부틸 퍼옥시)디이소프로필벤젠(퍼부틸P, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
디아실퍼옥사이드류로서는, 예를 들면, 옥타노일퍼옥시드(퍼로일O, 니혼유시제), 라우로일퍼옥시드(퍼로일L, 니혼유시제), 스테아로일퍼옥시드(퍼로일S, 니혼유시제), 숙신산퍼옥시드(퍼로일SA, 니혼유시제), 벤조일퍼옥사이드(나이퍼BW, 니혼유시제), 이소부티릴퍼옥사이드(퍼로일IB, 니혼유시제), 2,4-디클로로벤조일퍼옥시드(나이퍼CS, 니혼유시제), 3,5,5-트리메틸헥사노일퍼옥시드(퍼로일355, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
퍼옥시디카보네이트류로서는, 예를 들면, 디-n-프로필퍼옥시디카보네이트(퍼로일NPP-50M, 니혼유시제), 디이소프로필퍼옥시디카보네이트(퍼로일IPP-50, 니혼유시제), 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트(퍼로일TCP, 니혼유시제), 디-2-에톡시에틸퍼옥시디카보네이트(퍼로일EEP, 니혼유시제), 디-2-에톡시헥실퍼옥시디카보네이트(퍼로일OPP, 니혼유시제), 디-2-메톡시부틸퍼옥시디카보네이트(퍼로일MBP, 니혼유시제), 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시디카보네이트(퍼로일SOP, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
퍼옥시에스테르류로서는, 예를 들면, α,α'-비스(네오데카노일퍼옥시)디이소프로필벤젠(다이퍼ND, 니혼유시제), 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트(퍼쿠밀ND, 니혼유시제), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트(퍼옥타ND, 니혼유시제), 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트(퍼시클로ND, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시네오데카노에이트(퍼헥실ND, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시네오데카노에이트(퍼부틸ND, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시피발레이트(퍼헥실PV, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시피발레이트(퍼부틸PV, 니혼유시제), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(퍼옥타O, 니혼유시제), 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산(퍼 헥사250, 니혼유시제), 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(퍼시클로O, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시2-에틸헥사노에이트(퍼헥실O, 니혼유시제), t-부틸 퍼옥시2-에틸헥사노에이트(퍼부틸O, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시이소부틸레이트(퍼부틸IB, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시이소프로필모노카보네이트(퍼헥실I, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시말레인산(퍼부틸MA, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시3,5,5-트리메틸헥사노에이트(퍼부틸355, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시라우레이트(퍼부틸L, 니혼유시제), 2,5-디메틸2,5-비스(m-툴루오일퍼옥시)헥산(퍼헥사25MT, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시이소프로필모노카보네이트(퍼부틸I, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시2-에틸헥실모노카보네이트(퍼부틸E, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시벤조에이트(퍼헥실Z, 니혼유시제), 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일퍼옥시)헥산(퍼헥사25Z, 니혼유시제), t-부틸 퍼옥시아세테이트(퍼부틸A, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시-m-툴루오일벤조에이트(퍼부틸ZT, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시벤조에이트(퍼부틸Z, 니혼유시제), 비스(t-부틸퍼옥시)이소프탈레이트(퍼부틸IF, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
상기 이외의 유기과산화물로서는, 예를 들면, t-부틸퍼옥시아릴모노카보네이트(페로마AC, 니혼유시제), t-부틸트리메틸시릴퍼옥사이드(퍼부틸SM, 니혼유시제), 3,3'4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논(BTTB-50, 니혼유시제), 2,3-디메틸-2,3-디페닐부탄(노후마BC, 니혼유시제) 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 10시간 반감기온도가 낮은 음이온성 라디칼중합개시제를 사용 함으로써, 소량으로 효과적으로 입자 지름을 크게 할 수 있다.
음이온성 중합개시제는, 상기 단량체의 전량에 대하여 0.01∼10.0중량%의 비율로 이용할 수 있고, 상기 양이온성의 수용성 아조중합개시제와 동시에 첨가하는 것이 바람직하다.
불소함유 수지미립자는, 예를 들면, 상기 용제 중에 상기 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 상기 다른 에틸렌성 불포화단량체를 균일하게 용해하고, 용존산소를 제거, 60℃로 가열 후, 상기 양이온성 수용성 아조중합개시제를 이온 교환수에 용해한 것을, 필요에 따라 상기 음이온성 중합개시제와 동시에 첨가하고, 3∼10시간 가열 교반하는 방법으로 합성된다.
또는, 상기 용제 중에 상기 다른 에틸렌성 불포화단량체를 균일하게 용해하고, 용존산소를 제거, 60℃로 가열 후, 상기 양이온성 수용성 아조중합개시제를 이온 교환수에 용해한 것을, 필요에 따라 상기 음이온성 중합개시제와 동시에 첨가하고, 3∼10시간 가열 교반하고, 얻어진 미립자분산액 중에, 상기 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 상기 다른 에틸렌성 불포화단량체를 용해하고, 상기 음이온성 중합개시제를 첨가하고, 3∼10시간 가열 교반하는 방법으로 합성된다.
중합 후의 전화율이 충분하지 않을 때는, 중합 종료 후에, 단량체 전량에 대하여 0.1∼2중량%의 중합개시제를 첨가한다. 중합 종료 후에 첨가하는 개시제로서는, 통상의 유용성 라디칼중합개시제라면 문제 없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 2,2-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)(V-70, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)(V-65, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(V-60, 와코쥰야쿠제), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴)(V-59, 와코쥰야쿠제) 등의 아조니트릴화합물, 옥타노일퍼옥시드(퍼로일O, 니혼유시제), 라우로일퍼옥시드(퍼로일L, 니혼유시제), 스테아로일퍼옥시드(퍼로일S, 니혼유시제), 숙신산퍼옥시드(퍼로일SA, 니혼유시제), 벤조일퍼옥사이드(나이퍼BW.니혼유시제), 이소부티릴퍼옥사이드(퍼로일IB, 니혼유시제), 2,4-디클로로벤조일퍼옥시드(나이퍼CS, 니혼유시제), 3,5,5-트리메틸헥사노일퍼옥시드(퍼로일355, 니혼유시제) 등의 디아실퍼옥사이드류, 디-n-프로필퍼옥시디카보네이트(퍼로일NPP-50M, 니혼유시제), 디이소프로필퍼옥시디카보네이트(퍼로일IPP-50, 니혼유시제), 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트(퍼로일TCP, 니혼유시제), 디-2-에톡시에틸퍼옥시디카보네이트(퍼로일EEP, 니혼유시제), 디-2-에톡시헥실퍼옥시디카보네이트(퍼로일0PP, 니혼유시제), 디-2-메톡시부틸퍼옥시디카보네이트(퍼로일MBP, 니혼유시제), 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시디카보네이트(퍼로일SOP, 니혼유시제) 등의 퍼옥시디카보네이트류, t-부틸히드로퍼옥사이드(퍼부틸H-69, 니혼유시제), 1,1,3,3-테트라메틸부틸히드로퍼옥사이드(퍼옥타H, 니혼유시제), 등의 히드로퍼옥사이드류, 디-t-부틸퍼옥사이드(퍼부틸D, 니혼유시제), 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥산(퍼헥사25B, 니혼유시제) 등의 디알킬히퍼옥사이드류, α,α'-비스(네오데카노일퍼옥시)디이소프로필벤젠(다이퍼ND, 니혼유시제), 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트(퍼쿠밀ND, 니혼유시제), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트(퍼옥타ND, 니혼유시제), 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트(퍼시클로ND, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시네오데카노에이트(퍼헥실ND, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시네오데카노에이트(퍼부틸ND, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시피발레이트(퍼헥실PV, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시피발레이트(퍼부틸PV, 니혼유시제), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(퍼옥타O, 니혼유시제), 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산(퍼헥사250, 니혼유시제), 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(퍼시클로O, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시2-에틸헥사노에이트(퍼헥실O, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시2-에틸헥사노에이트(퍼부틸O, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시이소부틸레이트(퍼부틸IB, 니혼유시제), t-헥실퍼옥시이소프로필모노카보네이트(퍼헥실I, 니혼유시제), t-부틸퍼옥시말레인산(퍼부틸MA, 니혼유시제) 등의 퍼옥시에스테르류 등의 유기과산화물등을 들 수 있다.
또, 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 다른 에틸렌성 불포화단량체를 공중합시킬 때에는, 분산안정제나 계면활성제를 이용할 수 있다. 분산안정제로서는, 폴리비닐크롤라이드나 스티렌아크릴코폴리머 등으로의 상용성을 향상시키는 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 또, 계면활성제로서는, 폴리프로필렌으로의 상용성을 향상시키는 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌블록코폴리머(다이이치고교세이야쿠제「에판」), 폴리에테르변성실리콘(니혼유니카제 「실웨트」) 등의 음이온성 계면활성제, 대전을 방지하는 제4급암모늄염(카오제「코타민」) 등의 양이온성 계면활성제, 알킬디메틸아미노아세트산베타인(다이이치고교세이야쿠제「아모겐」) 등의 양성계면활성제 등을 들 수 있지만, 특별히 이들로 한정되는 것은 아니다. 또, 분산안정제 및 계면활성제의 첨가는, 중합 중이라도 중합 후라도 좋다. 분산안정제는, 상기 단량체의 전량을 기준으로 하여, 0.1∼10중량%의 양으로 이용할 수 있다. 또, 계면활성제는, 상기 단량체의 전량을 기준으로 하여, 0.1∼10중량%의 양으로 이용할 수 있다.
불소함유 수지미립자는, 단량체의 조성, 중합용제 중의 물의 양, 음이온성 중합개시제의 양을 조정함으로써, 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm, 바람직하게는 1.3∼2.7μm의 범위가 되도록 한다. 불소함유 수지미립자의 평균 입자 지름이 0.8μm미만의 경우에는 광산란능이 낮아지게 되고, 5.0μm을 넘을 경우에는 표면평활성이 나빠진다.
또, 본 발명의 불소함유 수지미립자의 굴절율은, 1.5미만이지만, 1.36이상 1.49이하인 것이 바람직하다.
불소함유 수지미립자는, 제2의 에틸렌성 불포화단량체로서 가교성 단량체와 비가교성 단량체를 병용하여 합성했을 경우에는, 내열성, 내용제성이 우수한 기가교미립자가 되는 것으로부터, 이 미립자를 용해하지 않은 임의의 용제 중에, 스트립핑 등의 공정을 이용해서 분산시킬 수 있다. 이 방법을 이용하면, 건조 공정을 거치지 않기 때문에, 불소함유 수지미립자끼리가 응집하지 않고, 1차입자로 분산된 상태의 광산란막용 조성물을 얻을 수 있다.
용제 중에서, 상기 화학식 1 또는 상기 화학식 2에서 나타나는 중합개시제를 이용하여, 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 및 다른 에틸렌성 불포화단량체를 공중합시킴으로써 얻어지는 불소함유 수지미립자는, 입자 지름의 변동계수가 5%이하의 입도분포를 가지는 단분산 미립자로서 얻을 수 있다. 변동계수는, 미립자의 지름을 광학현미경으로 관찰해서 실측하고, 표준편차를 평균치로 나눈 값의 백분률로 나타낸 것이다.
그러나, 변동계수가 작은 미립자만을 포함하는 광산란막용 조성물을 이용해서 형성된 광산란막에는, 모아레(moire)(간섭무늬(interference fringe))가 발생하는 것으로부터, 평균 입자 지름이 다른 2종 이상의 불소함유 수지미립자를 함유시키고, 2종 이상의 불소함유 수지미립자를 합친 불소함유 수지미립자 전체의 입자 지름의 변동계수가 2.0∼20.0%이 되도록 하는 것이 바람직하다. 불소함유 수지미립자 전체의 입자 지름의 변동계수가 2.0%미만에서는 모아레가 발생하고, 입자 지름의 변동계수가 20.0%을 넘으면 표면 거칠기가 나빠진다. 불소수지미립자 전체의 입자 지름의 변동계수는 6.0∼20.0%인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 광산란막용 조성물에는, 모아레가 발생하지 않도록 하기 위해서, 굴절율이 1.30이상 1.50미만, 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 다른(불소함유 수지미립자 이외의) 미립자를 함유시켜, 이 다른 미립자와 불소함유 수지미립자를 합친 미립자 전체의 입자 지름의 변동계수가 2.0∼20.0%이 되도록 할 수 있다.
굴절율이 1.30이상 1.50미만의 다른 저굴절율 미립자로서는, 불소수지(굴절율 약 1.35), 실리콘수지(굴절율 약 1.45), 염화비닐수지(굴절율 약 1.45), 아세트산비닐수지(굴절율 약 1.46), 폴리프로필렌수지(굴절율 약 1.49), 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(굴절율 약 1.47) 등의 수지미립자, 및 호로실리케이트(굴절율 약 1.43) 등의 무기미립자를 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 이러한 다른 저굴절율 미립자는, 투명수지 100중량부에 대하여 1∼300중량부의 양으로 이용할 수 있다.
본 발명의 광산란막용 조성물에 함유되는 투명수지는, 굴절율이 1.50이상 1.70이하의 고굴절율 투명수지이다. 광산란막의 광산란능은, 투명수지와 그것에 분산되는 입자의 굴절율의 차이가 클수록 우수하며, 본 발명의 불소함유 수지미립자는 굴절율이 1.50미만의 저굴절율 입자인 것으로부터, 본 발명의 광산란막용 조성물에는, 굴절율이 1.50이상 1.70이하의 고굴절율 투명수지를 이용한다.
고굴절율 투명수지로서는, 아크릴수지(굴절율 1.50∼1.55), 플루오렌수지(굴절율 약 1.6), 페놀수지(굴절율 약 1.7), 셀룰로오스(굴절율 약 1.54), 우레아수지(굴절율 약 1.57), 폴리아세트산비닐(굴절율 약 1.53), 폴리염화비닐(굴절율 약 1.54), 폴리에테르에테르케톤(굴절율 약 1.68), 폴리에틸렌테레프탈레이트(굴절율 약 1.67), 폴리스티렌(굴절율 약 1.59), 폴리카보네이트(굴절율 약 1.58), 폴리아미드(굴절율 약 1.53), 폴리아릴레이트(굴절율 약 1.60) 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
불소함유 수지미립자의 양은, 투명수지 100중량부에 대하여 1∼300중량부인 것이 바람직하다. 불소함유 수지미립자의 양이 투명수지 100중량부에 대하여 300중량부보다 많으면, 수지미립자간의 거리가 작아지는 것으로부터, 안정된 분산 상태를 유지하는 것이 곤란해 지고, 수지미립자끼리의 응집이 일어나기 쉬워진다. 불소함유 수지미립자의 양은, 투명수지 100중량부에 대하여 5∼100중량부인 것이 더 바람직하다.
광산란막용 조성물에는, 이 조성물을 활성 에너지선에 의해 경화시켜서 광산란막을 형성할 경우, 또는 광산란막을 리소그래피법에 의해 패터닝해서 형성할 경우에는, 에틸렌성 불포화화합물을 함유시키고, 또한 이 조성물을 자외선에 의해 경화시킬 경우에는, 광중합개시제를 함유시킨다.
또, 광산란막용 조성물을 리소그래피법에 의해 패터닝할 때에 알칼리 현상할 경우에는, 굴절율이 1.50이상 1.70이하의 고굴절율 투명수지로 하고, 알칼리 가용성의 것, 예를 들면, 플루오렌수지나, 카르복실기를 가지는 아크릴계수지 등을 이용하는 것이 바람직하다.
에틸렌성 불포화화합물은, 에틸렌성 불포화이중결합을 1개 또는 2개이상 가지는 화합물이며, 모노머, 올리고머, 감광성수지를 이용할 수 있다. 모노머로서는, 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또, 올리고머로서는, 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 에스테르(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 감광성 수지로서는, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 에폭시수지, 아크릴수지 등에 공지의 방법으로 에틸렌성 불포화이중결합을 도입한 것을 들 수 있다.
에틸렌성 불포화화합물은, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합해서 이용된다. 에틸렌성 불포화화합물은, 투명수지 100중량부에 대하여 1∼200중량부의 양으로 이용할 수 있다.
광중합개시제로서는, 예를 들면, 4-페녹시디클로로아세트페논, 4-t-부틸디클로로아세트페논, 디에톡시아세트페논, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 아세트페논계 광중합개시제, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤질디메틸케탈 등의 벤조인계 광중합개시제, 벤조페논, 벤조일벤조산, 벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드 등의 벤조페논계 광중합개시제, 티옥산톤, 2-크롤티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 광중합개시제, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-트릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-피페로닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-스티릴s-트리아진, 2-(나프트-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시-나프트-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(피페로닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진 등의 트리아진계 광중합개시제, 카르바졸계 광중합개시제, 이미다졸계 광중합개시제 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제는, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합해서 이용된다. 광중합개시제는, 상기 에틸렌성 불포화화합물의 중량을 기준으로 하여, 1∼50%의 양으로 이용할 수 있다.
또, 광산란막용 조성물에는, 증감제를 함유시켜도 좋다. 증감제로서는, 예를 들면, α-아실록시에스테르, 아실포스핀옥사이드, 메틸페닐글리옥실레이트, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄파퀴논, 에틸안트라퀴논, 4,4'-디에틸이소프탈로페논, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논 등을 들 수 있다. 상기 증감제는, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합해서 이용할 수 있다. 증감제는, 광중합개시제의 중량을 기준으로 하여, 1∼100%의 양으로 이용할 수 있다.
광산란막용 조성물에는, 균일한 광산란막을 형성하기 위해서, 용제를 함유시키는 것이 바람직하다. 용제로서는, 예를 들면 시클로헥사논, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸벤젠, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 크실렌, 에틸셀로솔브, 메틸-n아밀케톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 아세트산에틸, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 이소부틸케톤, 석유계 용제 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로, 또는 혼합해서 이용한다. 용제는, 투명수지 100중량부에 대하여 5∼500중량부의 양으로 이용할 수 있다.
광산란막용 조성물에는, 도공성 향상, 감도의 향상, 밀착성의 향상 등을 목적으로 하여, 연쇄이동제, 계면활성제, 실란카플링제 등의 첨가제를 첨가하여도 좋다. 이들 첨가제는, 투명수지 100중량부에 대하여 0.01∼100중량부의 양으로 이용할 수 있다.
광산란막용 조성물은, 각 성분을 혼합하고, 쉐이커, 디스퍼, 샌드밀, 어트리터(attritor) 등의 각종 분산 장치를 이용해서 분산함으로써 제조할 수 있다.
광산란막용 조성물은, 소결 필터, 멤브레인 필터 등의 수단으로, 5μm이상의 조대입자 및 혼입한 먼지의 제거를 행하는 것이 바람직하다.
다음으로, 광산란막에 대하여 설명하겠다.
광산란막은, 유리판 등의 투명기판 위에, 스핀코트, 슬릿코트, 롤코트 등의 도포 방법에 의해 광산란막용 조성물을 도포, 건조하고, 필요에 따라 활성 에너지선을 조사함으로써 작성된다. 광산란막을 패터닝에 의해 형성할 경우에는, 광산란막용 조성물을 도포, 건조 후에, 포토마스크를 통해 조성물 도포면측에 활성 에너지선을 조사하고, 용제 또는 알칼리 현상액에 침지하든지 스프레이 등에 의해 현상액을 분무해서 미조사부, 즉 미경화부를 제거하여 현상을 행하고, 원하는 형상의 패턴을 형성한다.
광산란막용 조성물의 도포막 두께는, 0.2∼5.0μm(건조 시)의 범위인 것이 바람직하고, 도공성과 광산란 특성의 밸런스가 양호한 것으로부터 0.5∼3.5μm의 범위인 것이 더 바람직하다.
알칼리 현상액으로서는, 탄산나트륨, 수산화나트륨 등의 수용액이 사용되고, 디메틸벤질아민, 트리에탄올아민 등의 유기알칼리를 이용할 수도 있다. 또, 현상액에는, 소포제나 계면활성제를 첨가할 수도 있다.
또한, 활성 에너지선에 의한 노광 감도를 올리기 위해서, 광산란막용 조성물을 도포 건조 후, 수용성 또는 알칼리 가용성수지, 예를 들면, 폴리비닐알코올이나 수용성 아크릴수지 등을 도포 건조하고 산소에 의한 중합저해를 방지하는 막을 형성한 후, 조성물 도포면측에 활성 에너지선을 조사할 수도 있다.
활성 에너지선으로서는, 전자선, 자외선, 400∼500nm의 가시광선을 사용할 수 있다. 조성물 도포면측에 조사하는 전자선의 선원에는, 열전자방사총, 전계방사총 등을 사용할 수 있다. 또, 자외선 및 400∼500nm의 가시광선의 선원(광원)에는, 예를 들면, 고압수은등, 초고압수은등, 메탈할라이드등, 갈리움등, 크세논등, 카본아크등 등을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 점광원인 것, 휘도가 안정된 것으로부터, 초고압 수은램프, 크세논수은램프가 이용되는 경우가 많다. 조성물 도포면측에 조사하는 활성 에너지선량은, 5∼1000mJ의 범위에서 적시설정할 수 있지만, 공정상 관리하기 쉬운 20∼300mJ의 범위인 것이 바람직하다.
다음으로, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하겠다. 실시예에 있어서 부 및 %는, 특별히 지정이 없는 한, 모두 중량기준이다.
수지미립자(1)의 합성
교반기, 환류 냉각기, 온도계, 질소도입관이 붙은 반응기에 메탄올 68.5부, 물 16.32부, 메틸메타크릴레이트(와코쥰야쿠제) 12.75부, 트리플루오르에틸메타크릴레이트(와코쥰야쿠제) 1.5부, 아릴메타크릴레이트(와코쥰야쿠제) 0.75부를 투입하고, 질소 가스를 흘려보내고 용존산소를 제거하였다. 반응기를 60℃로 가열 후, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로크롤라이드(음이온성 개시제;와코쥰야쿠제「V-50」) 0.025부를 이온 교환수 0.5부에 용해한 것과 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)(와코쥰야쿠제「V-70」) 0.003부를 동시에 첨가하여 6시간 가열 교반한 후, 벤조일퍼옥사이드(니혼유시제「나이퍼BW」) 0.015부를 첨가하고, 또한 2시간 가열 교반을 행하여, 고형분 15%, 입자 지름 2.10μm, 변동계수 3.60%의 단분산 불소함유 수지미립자분산액을 얻었다. 다음으로, 시클로헥사논을 더하고, 스트립핑 공정을 거쳐서 고형분 20%의 단분산 불소함유 수지미립자 시클로헥사논 분산액을 얻었다.
수지미립자(2∼7)의 합성
미리 반응 용기에 투입하는 용제조성, 단량체조성, 음이온성 중합개시제의 투입량을 표1에 나타낸 양으로 변경한 것 이외는, 수지미립자(1)와 마찬가지로 중합하고, 스트립핑 공정을 거쳐서 고형분 20%의 단분산 불소함유 수지미립자 시클로헥사논 분산액을 얻었다.
표2에, 불소함유 수지미립자의 합성 조건, 평균 입자 지름, 변동 계수를 나타내었다. 불소함유 수지미립자의 평균 입자 지름 및 변동 계수는, 입자를 광학현미경(OLYMPUS제「BX60」)으로 관찰하고, 화상해석, 계측 소프트웨어(미타니쇼지제「Mac Scope」)를 이용하여, 입자 100개의 지름을 실측해서 산출하였다.
표1에 있어서 :
MMA: 메틸메타크릴레이트
AMA: 아릴메타크릴레이트
M-3F: 트리플루오르에틸메타크릴레이트
실시예1∼8, 비교예1∼2
하기 표3에 나타낸 수지미립자의 시클로헥사논 분산액을 포함하는 하기의 광산란막용 조성물 처방의 조성물을 멀티 쉐이커(아이라사제「MMS-310」)를 이용해서 혼합하고, 100㎜×100㎜×1.1㎜의 유리판에 스핀코트로 도공하고, 70℃에서 20분 건조 후, 초고압 수은램프를 이용하여, 적산 광량 150mJ로 자외선 노광 후, 230℃에서 1시간 가열하여, 약 3μm의 광산란막을 형성하였다. 실시예8에서는, 불소함유 수지미립자 이외의 미립자로서, 실리콘수지 미립자(도시바실리콘제「토스팔120」, 굴절율 1.45, 평균 입자 지름 2.0μm)를 이용하였다. 「토스팔120」은 분체이며, 고형분이 20%가 되도록 시클로헥사논을 더하였다.
광산란막용 조성물처방:
수지미립자의 시클로헥사논 분산액(고형분20%) 33.6%
플루오렌수지수지(굴절율 1.6, 중량 평균 분자량 4000)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트용액(고형분60%) 24.6%
디펜타에리스리톨펜타 및 헥사아크릴레이트
(도아갓세이제「아로닉스M-402」) 7.5%
광중합개시제(치바가이기제「일가큐아907」) 0.9%
음이온성 계면활성제 1.0%
시클로헥사논 32.4%
실시예1∼8 및 비교예1∼2에서 얻어진 광산란막의 헤이즈를 HAZEMETER HM -150(무라카미시키사이기쥬츠켄큐쇼제)로 측정하고, 표면 거칠기(Ra)를 Dektak 3030 (니혼신쿠기쥬츠제)으로 측정하였다. 모아레는 육안으로 평가하였다. 결과를 표3에 나타내었다. 또, 표3에는, 수지미립자의 변동계수도 병기하였다. 수지입자가 2종 이상의 수지미립자를 포함할 경우에는, 상기 불소함유 수지미립자의 입자 지름의 변동 계수의 산출 방법과 동일한 방법으로, 미립자 전체의 입자 지름의 변동 계수를 산출하였다.
실시예1∼8에 나타나 있는 바와 같이, 불소함유 수지미립자의 평균 입자 지름 및 불소함유량을 적당히 선택함으로써, 원하는 헤이즈의 광산란막을 형성할 수 있다.
또, 실시예1, 4∼7에 있어서는, 2종류 이상의 불소함유 수지미립자를 사용하고 있기 때문에, 미립자 전체의 입자 지름의 변동 계수가 더 바람직한 6.0∼20.0%의 범위로 되고, 모아레는 발생하지 않는다.
또, 실시예8에 있어서는, 불소함유 수지미립자 이외의 저굴절 수지미립자를 포함하고, 입자 지름의 변동 계수가 더 바람직한 6.0∼20.0%의 범위로 조정되어 있기 때문에, 고헤이즈로 모아레가 없는 광산란막을 얻을 수 있다.
비교예1의 수지미립자(6)는 불소를 함유하지 않기 때문에, 저헤이즈이며 충분한 광산란능을 얻을 수 없다.
비교예2의 수지미립자(7)는 불소함유량이 70%로 많기 때문에, 도공 시에 응집이 일어나고, 표면 거칠기가 극단적으로 나빠, 미립자가 균일하게 분산된 광산란막을 얻을 수 없다.
수지미립자(8)의 합성
교반기, 환류 냉각기, 온도계, 질소도입관을 구비한 반응기에, 메탄올 74.0부, 물 11.0부, 2-아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산(교에이샤카가쿠제「H0A-HH」) 0.375부, 폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트(니혼유시제「브렌마PE-200」) 0.375부, 트리플루오르에틸메타크릴레이트(와코쥰야쿠제) 13.5부, 아릴메타크릴레이트(와코쥰야쿠제) 0.75부를 투입하고, 질소가스를 흘려보내 용존산소를 제거하였다. 반응기를 60℃로 가열후, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로크롤라이드(음이온성 개시제;와코쥰야쿠제「V-50」) 0.025부를 이온 교환수 0.5부에 용해한 것과 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴)(와코쥰야쿠제「V-70」) 0.02부를 동시에 첨가하여 6시간 가열 교반한 후, 벤조일퍼옥사이드(니혼유시제「나이퍼BW」)를 0.015부 첨가하고, 또한 2시간 가열 교반을 행하여, 고형분 15%, 입자 지름 1.71μm, 변동 계수 5.40%의 단분산 가교미립자 분산액을 얻었다. 다음으로, 시클로헥사논을 더하고, 스트립핑 공정을 거쳐서 고형분 20%의 단분산 불소함유 수지미립자 시클로헥사논 분산액을 얻었다.
수지미립자(9∼14)의 합성
미리 반응 용기에 투입하는 용제조성, 단량체조성, 음이온성 중합개시제의 투입량을 표4에 나타낸 양으로 변경한 것 이외는, 수지미립자(8)와 마찬가지로 중합을 행하고, 스트립핑 공정을 거쳐서 고형분 20%의 단분산 불소함유 수지미립자 시클로헥사논 분산액을 얻었다.
표4에, 불소함유 수지미립자의 합성조건을 나타내고, 표5에 상기와 마찬가지로 측정한 평균 입자 지름, 변동계수, 이론굴절율을 나타내었다.
표4에 있어서:
MMA: 메틸메타크릴레이트
AMA: 아릴메타크릴레이트
M-3F: 트리플루오르에틸메타크릴레이트
MAA: 메타크릴산
HOA-HH: 교에이샤카가쿠(주)제 2-아크릴로일에틸헥사히드로프탈산
HO-HH: 교에이샤카가쿠(주)제 2-메타아크릴로일에틸헥사히드로프탈산
브렌마PE-200: 니혼유시제 폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트
실시예9∼14, 비교예3∼4
하기 표6에 나타난 수지미립자의 시클로헥사논 분산액을 포함하는 상기 광산란막용 조성물처방의 조성물을 이용한 것 이외는, 실시예1∼8과 완전히 동일하게 하여 광산란막을 형성하였다. 실시예13에서는, 불소함유 수지미립자 이외의 미립자로서, 실리콘수지 미립자(도시바실리콘제「토스팔120」를 이용하였다. 「토스팔120」은 분체이며, 고형분이 20%가 되도록 시클로헥사논을 더하였다.
실시예9∼14 및 비교예3∼4에서 얻어진 광산란막의 헤이즈, 표면 거칠기(Ra)를 실시예1∼8과 마찬가지로 측정하고, 모아레를 육안으로 평가하였다. 결과를 표6에 나타내었다. 표6에는, 수지미립자의 입자 지름의 변동 계수도 병기하였다.
실시예9∼14에 나타나 있는 바와 같이, 불소함유 수지미립자가 친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체도 공중합하여 이루어지는 것인 경우는 고헤이즈이며 표면평활성 우수한 광산란막을 형성할 수 있다.
또, 실시예12에 있어서는, 2종류의 입자 지름의 불소함유 수지미립자를 사용하고 있기 때문에, 미립자 전체의 입자 지름의 변동 계수가 더 바람직한 6.0∼20.0%의 범위가 되고, 모아레는 발생하지 않는다.
또, 실시예13에 있어서는, 불소함유 수지미립자 이외의 저굴절 수지미립자를 포함하고, 입자 지름의 변동계수가 더 바람직한 6.0∼20.0%의 범위로 조정되어 있기 때문에, 고헤이즈이며 모아레가 없은 광산란막을 얻을 수 있다.
또, 실시예14에 나타나 있는 바와 같이, 불소함유 단량체량이 50%로 비교적 낮아도, 친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체가 공중합되어 있는 불소함유 수지미립자를 사용하고 있을 경우에는, 같은 불소단량체량으로 친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체가 공중합되어 있지 않는 수지미립자를 사용하고 있을 경우(비교예3)와 비교해서 헤이즈가 높다.
비교예4에 있어서는, 불소함유 단량체량이 90%로 많고 친수성기함유 에틸렌성 불포화단량체를 포함하지 않는 불소함유 수지미립자를 사용하고 있기 때문에, 도공 시에 응집이 일어나고, 표면 거칠기가 극단적으로 나빠, 미립자가 균일하게 분산된 광산란막을 얻을 수 없다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 광산란막용 조성물을 사용함으로써, 광산란 기능과 표면평활성이 우수한 광산란막을 형성할 수 있다.

Claims (14)

  1. 불소함유를 하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 10∼60중량%, 및 불소와 친수성기를 함유하지 않는 제2의 에틸렌성 불포화단량체 90∼40중량%의 공중합체를 각각 포함하는 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 불소함유 수지미립자와,
    굴절율이 1.50이상 1.70이하의 투명수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 광산란막용 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 불소함유 수지미립자가, 용제 중에서, 상기 제1의 단량체와 제2의 단량체를, 화학식 1:
    (화학식 1)
    (식 1중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기 또는 방향족기를 나타낸다) 또는 화학식 2:
    (화학식 2)
    (식 2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 알킬렌기 또는 2가의 방향족기를 나타낸다)에서 나타나는 중합개시제의 존재하에 공중합시켜서 얻어지는 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제2의 단량체가, (메타)아크릴산잔기 및 비닐기를 가지는 에틸렌성 불포화단량체를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 공중합체가, 다른 에틸렌성 불포화화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 불소함유 수지미립자가, 평균 입자 지름이 다른 2종 이상의 불소함유 수지미립자로 이루어지고, 불소함유 수지미립자 전체의 입자 지름의 변동 계수가 2.0∼20.0%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서, 굴절율이 1.30이상 1.50미만, 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 다른 미립자를 또한 포함하고, 이 다른 미립자와 상기 불소함유 수지미립자를 합친 미립자 전체의 입자 지름의 변동 계수가 2.0∼20.0%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항에 기재된 광산란막용 조성물을 이용해서 형성된 것을 특징으로 하는 광산란막.
  8. 불소를 함유하는 제1의 에틸렌성 불포화단량체 10∼90중량%, 불소와 친수성기를 함유하지 않는 제2의 에틸렌성 불포화단량체 89∼5중량% 및 친수성기를 함유하는 제3의 에틸렌성 불포화단량체 1∼10중량%의 공중합체를 포함하는 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 불소함유 수지미립자와,
    굴절율이 1.50이상 1.70이하의 투명수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 광산란막용 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 불소함유 수지미립자가, 용제 중에서, 상기 제1의 단량체, 제2의 단량체 및 제3의 단량체를, 화학식 1:
    (화학식 1)
    (식 1중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기 또는 방향족기를 나타낸다) 또는 화학식 2:
    (화학식 2)
    (식 2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 알킬렌기 또는 2가의 방향족기를 나타낸다)에서 나타나는 중합개시제의 존재하에 공중합시켜서 얻어지는 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 제2의 단량체가, (메타)아크릴산잔기 및 비닐기를 가지는 에틸렌성 불포화단량체를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 8 항에 있어서, 상기 공중합체가, 다른 에틸렌성 불포화화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 8 항에 있어서, 상기 불소함유 수지미립자가, 평균 입자 지름이 다른 2종 이상의 불소함유 수지미립자로 이루어지고, 불소함유 수지미립자 전체의 입자 지름의 변동계수가 2.0∼20.0%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 8 항에 있어서, 굴절율이 1.30이상 1.50미만, 평균 입자 지름이 0.8∼5.0μm의 다른 미립자를 또한 포함하고, 이 다른 미립자와 상기 불소함유 수지미립자를 합친 미립자 전체의 입자 지름의 변동계수가 2.0∼20.0%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 8 항에 기재된 광산란막용 조성물을 이용해서 형성된 것을 특징으로 하는 광산란막.
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