KR20050021902A - 감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터 - Google Patents

감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터 Download PDF

Info

Publication number
KR20050021902A
KR20050021902A KR1020040067905A KR20040067905A KR20050021902A KR 20050021902 A KR20050021902 A KR 20050021902A KR 1020040067905 A KR1020040067905 A KR 1020040067905A KR 20040067905 A KR20040067905 A KR 20040067905A KR 20050021902 A KR20050021902 A KR 20050021902A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
substituted
carbon atoms
photosensitive resin
resin composition
Prior art date
Application number
KR1020040067905A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101077077B1 (ko
Inventor
히가시마나부
츠치야마사히로
코노마사노리
Original Assignee
신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 filed Critical 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤
Publication of KR20050021902A publication Critical patent/KR20050021902A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101077077B1 publication Critical patent/KR101077077B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D471/08—Bridged systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D498/04—Ortho-condensed systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

패턴 치수안정성, 현상 마진, 밀착성, 에지형상의 샤프성이 양호한 패턴을 형성할 수 있는 컬러필터용 감광성 수지재료를 제공한다.
(A)비스페놀류로부터 유도되는 2개의 글리시딜에테르기를 갖는 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산의 반응물을 또한 다염기산 카르복실산 또는 그 무수물과 반응시켜서 얻어진 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지화합물, (B)적어도 1개이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 광중합성 모노머, (C)광중합 개시제, 및 (D)착색제를 필수성분으로서 함유하고, (A)/(B)가 20/80∼90/10(중량비), (A)+(B) 100중량부에 대하여 (C)를 2∼30중량부 함유하고, 또한, (C)의 광중합 개시제로서 하기 일반식(I)로 나타내어지는 o-아실옥심계 화합물을 함유하는 컬러필터용 감광성 수지조성물.
(단, R1은 페닐기, 알킬기 등, R2는 아실기를 나타낸다)

Description

감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND COLOR FILTER USING THE SAME}
본 발명은 광경화성 조성물 및 그것을 사용한 컬러필터에 관한 것이고, 상세하게는, 컬러필터용 잉크에 적합한 감광성 수지조성물에 관한 것이다.
컬러 액정표시장치는, 광의 투과량 혹은 반사량을 제어하는 액정부와 컬러 필터를 구성요소로 하지만, 그 컬러필터의 제조방법은, 통상, 유리, 플라스틱 시트 등의 투명기판의 표면에 흑색의 매트릭스를 형성하고, 계속해서, 적색, 녹색, 청색의 다른 색상을 순차, 스트라이프상 혹은 모자이크상 등의 색패턴으로 형성하는 방법이 사용되고 있다. 패턴 사이즈는 컬러필터의 용도 및 각각의 색에 따라 다르지만 적색, 녹색, 청색 화소는 200∼300㎛로부터 100㎛로, 블랙매트릭스는 20㎛로부터 10㎛로 세선화되고, 이것에 따라 감광성 수지 재료에는 높은 치수정밀도가 요구되고 있다.
최근 몇년, 액정 텔레비전, 액정 모니터, 컬러 액정 휴대전화 등 모든 분야에서 컬러 액정표시장치가 사용되어 왔다. 컬러필터는 컬러 액정표시장치의 시인성을 좌우하는 중요한 부재의 하나이며, 시인성의 향상, 즉 선명한 화상을 얻기 위해서는, 컬러필터를 구성하는 적색, 녹색, 청색 등의 화소를 지금까지 이상으로 고색순도화, 및 블랙매트릭스에서는 고차광화를 달성할 필요가 있어, 감광성 수지조성물에 착색제를 종래보다 다량으로 첨가하지 않으면 안된다.
패턴 형성은 광반응성 수지와 광중합 개시제의 반응에 의한 광경화 작용이 이용되고 있지만, 수은등의 선 스펙트럼의 하나인 i선(365㎚)이 안료분산계 네가티브형 컬러 레지스트를 경화시키기 위한 노광파장으로서 주로 사용되고 있다. 적색, 녹색, 청색 및 흑색의 감광성 수지조성물(잉크라고도 함)은 착색제 그 자체가 자외선을 흡수하고, 또한 감광성 수지조성물에 차지하는 착색제의 비율이 많아져 왔기 때문에, 다음과 같은 이유로 감광성 수지조성물의 광경화성, 현상성이 악화되는 결과, 패턴 치수안정성, 현상마진, 패턴 밀착성, 패턴의 에지형상이 양호한 컬러필터를 얻는 것이 곤란했다. 1) 노광된 부분에서도 막두께 방향에 대한 가교밀도의 차가 발생하고, 도막 표면에서 충분히 광경화되어도 기저면에서는 광경화되기 어렵다, 2) 노광 부분과 미노광 부분에 있어서의 가교밀도의 차를 내는 것이 현저하게 곤란, 3) 현상액에 불용인 착색제를 다량으로 배합하기 때문에 현상성의 저하가 현저한 것. 그리고, 이들 문제는 특히 감광성 수지조성물의 분광 특성상, 차광 감광성 수지조성물에 있어서 현저하다.
또한, 최근 컬러필터의 제조라인은 생산성 효율을 높여서 비용 삭감을 하기 위해서, 머더 유리기판이 해마다 대형화되는 경향이 있고, 1m를 초과하는 머더 유리기판에서의 제조도 행해지고 있다. 또한, 택트타임을 저감시켜 생산성 효율을 높이기 위해서, 노광공정에 있어서는, 노광시간을 짧게, 다시 말해, 저노광량으로 광경화하는 컬러필터용 감광성 수지조성물이 요구되고 있다.
이와 같이, 착색제의 함유비율이 많아 광경화가 곤란한 컬러필터용 감광성 수지조성물을 저노광량으로 패턴 치수안정성, 패턴 밀착성, 패턴 에지형상의 샤프성이 양호한 패턴을 넓은 현상마진으로 얻는 것이 요구되고 있고, 그것을 위해서는 감광성 수지조성물의 고감도화가 불가결하다.
[특허문헌1] 일본 특허공개 평1-152449호 공보
[특허문헌2] 일본 특허공개 평7-278214호 공보
[특허문헌3] 일본 특허공개2001-264530호 공보
[특허문헌4] 일본 특허공개2002-323762호 공보
[특허문헌5] 일본 특허공개2003-96118호 공보
[특허문헌6] 일본 특허공개 평7-3122호 공보
특허문헌1에는, 안료 농도를 높여서 양호한 색재현성을 꾀하면서 감도 저하를 방지하기 위해서, 고감도 광중합 개시제로서 할로메틸옥사디아졸계 화합물, 할로메틸-S-트리아진계 화합물의 사용예가 개시되어 있다. 그러나, 이들 화합물은 산소에 의한 반응 저해에 의해 표면평탄성 저하는 개선되지만, 패턴 치수정밀도의 점에서는 여전히 만족할만한 수준에는 이르지 못하고 있다. 또한, 특허문헌2∼5 등에는 고감도 광중합 개시제로서 감광성 수지조성물에 옥심에스테르계의 광중합 개시제를 사용한 예가 개시되어 있지만, 아직 만족할만한 수준에는 이르지 못하고 있다. 또, 특허문헌6에는, 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지 화합물을 사용한 컬러필터용 감광성 수지조성물이 개시되어 있다.
따라서, 본 발명의 목적은, 상기 문제를 해결하고, 패턴 치수안정성이 뛰어나고, 또한 현상 마진이 넓으며, 패턴 밀착성, 패턴 에지형상의 샤프성이 양호한 패턴을 형성할 수 있는 컬러필터용 감광성 수지조성물을 제공하는 것에 있다. 또한, 다른 목적은, 이 컬러필터용 감광성 수지조성물을 사용해서 형성한 도막 및 컬러필터를 제공하는 것이다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 검토를 행한 결과, 비스페놀류로부터 유도되는 방향족 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산의 반응물을 또한 다염기산 카르복실산 또는 그 무수물과 반응시켜서 얻어진 불포화기 함유 화합물을 함유하는 감광성 수지조성물의 광중합 개시제에 특정의 화학구조를 갖는 o-아실옥심계 광중합 개시제를 배합하면, 상기의 문제점이 해결되는 것을 발견하고, 본 발명을 완성시켰다.
본 발명은, 하기 (A)∼(D)성분,
(A)비스페놀류로부터 유도되는 2개의 글리시딜에테르기를 갖는 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산의 반응물을 또한 다염기산 카르복실산 또는 그 무수물과 반응시켜서 얻어진 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지화합물,
(B)적어도 1개이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 광중합성 모노머,
(C)광중합 개시제,
(D)착색제
를 필수성분으로 함유하는 컬러필터용 감광성 수지조성물에 있어서, (A)성분과 (B)성분의 중량비율 (A)/(B)가, 20/80∼90/10이며, (A)성분과 (B)성분의 합계 100중량부에 대하여 (C)성분을 2∼30중량부 함유하고, 또한, (C)성분의 광중합 개시제로서 하기 일반식(I)로 나타내어지는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지조성물이다.
단, 일반식(I)에 있어서,
R1은, 페닐기(탄소수 1∼6의 알킬기, 페닐기 혹은 할로겐원자로 치환되어 있어도 좋다), 탄소수 1∼20의 알킬기(1개이상의 수산기로 치환되어 있어도 좋고, 알킬쇄의 중간에 1개이상의 산소원자를 갖고 있어도 좋다), 탄소수 5∼8의 시클로알킬기, 탄소수 2∼20의 알카노일기 또는 벤조일기(탄소수 1∼6의 알킬기 혹은 페닐기로 치환되어도 좋다)를 나타내며;
R2는, 탄소수 2∼12의 알카노일기(1이상의 할로겐원자 혹은 시아노기로 치환되어 있어도 좋다), 그 이중결합이 카르보닐기와 공역하고 있지 않은 탄소수 4∼6의 알케노일기, 벤조일기(탄소수 1∼6의 알킬기, 할로겐원자 혹은 시아노기로 치환되어 있어도 좋다), 탄소수 2∼6의 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기(1이상의 탄소수 1∼6의 알킬기 혹은 할로겐원자로 치환되어 있어도 좋다)를 나타내며;
R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10은, 서로 독립으로, 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 벤조일기, 탄소수 2∼12의 알카노일기, 탄소수 2∼12의 알콕시카르보닐기(알킬기의 탄소수가 2∼11의 경우, 주쇄 탄소원자 사이에 1이상의 산소원자를 가져도 좋고, 1이상의 수산기로 치환되어 있어도 좋다) 또는 페녹시카르보닐기를 나타낸다.
또 본 발명은, 비스페놀류로부터 유도되는 2개의 글리시딜에테르기를 갖는 에폭시 화합물이, 하기 일반식(II)로 나타내어지는 에폭시 화합물인 상기 컬러필터용 감광성 수지조성물이다.
단, 일반식(II)에 있어서,
R11 및 R12는, 독립으로 수소원자, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 할로겐원자를 나타내고, X는 -CO-, -SO2-, -C(CF3)2-, -Si(CH3)2-, -CH2-, -C(CH3)2-, -O-, 9,9-플루오레닐기 또는 부존재를 나타내며, n은 0∼10의 정수이다.
또한 본 발명은, (C)성분의 광중합 개시제가 하기 일반식(III)로 나타내어지는 화합물인 상기 컬러필터용 감광성 수지조성물이다.
또, 본 발명은, (D)성분의 착색제가, 차광성 분산안료인 상기 컬러필터용 감광성 수지조성물이다. 또한 본 발명은, 차광성 분산안료가 카본블랙 분산체인 상기 컬러필터용 감광성 수지조성물이다. 또 본 발명은, 상기 컬러필터용 감광성 수지조성물을 경화시켜서 형성한 것을 특징으로 하는 도막이다. 또한, 본 발명은, 상기 컬러필터용 감광성 수지조성물을 투명기판상에 도포, 프리베이킹한 후, 자외선 노광장치에 의한 노광, 알칼리 수용액에 의한 현상, 포스트베이킹하여 제작된 화소 또는 블랙매트릭스를 구비한 것을 특징으로 하는 컬러필터이다.
이하, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.
본 발명의 컬러필터용 감광성 수지조성물(이하, 간단히 조성물이라고도 함)은, (A)∼(D)성분을 필수성분으로서 함유한다. 여기에서, (B)성분 및 (D)성분 및 필요에 따라서 첨가되는 용제나 그 밖의 성분에 대해서는, 특허문헌1∼6 등에 기재되어 있고, 이들로부터 선택해서 사용할 수 있다. 따라서, (A) 및 (C)성분 이외의 성분에 대해서는 간결하게 설명하고, (A) 및 (C)성분에 대해서 상세하게 설명한다.
(A)성분의 불포화기 함유 화합물은, 비스페놀류로부터 유도되는 2개의 글리시딜에테르기를 갖는 에폭시 화합물에, (메타)아크릴산(이것은 「아크릴산 및/또는 메타크릴산」의 의미이다)을 반응시켜, 얻어진 히드록시기를 갖는 화합물에 다염기산 카르복실산 또는 그 무수물을 반응시켜서 얻어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 산부가물이다. 이러한 부가물의 화학식 및 제조방법의 일례는 특허문헌6에 기재되어 있다. 그리고, 비스페놀류로부터 유도되는 에폭시 화합물이란, 비스페놀류와 에피할로히드린을 반응시켜서 얻어지는 에폭시 화합물 또는 이것과 동등물을 의미한다. (A)성분인 불포화기 함유 화합물은, 에틸렌성 불포화 이중결합과 카르복실기를 아울러 갖기 때문에, 컬러필터용 감광성 수지조성물에 뛰어난 광경화성, 양호한 현상성, 패터닝 특성을 주어 차광막의 물성 향상을 초래한다.
(A)성분인 불포화기 함유 화합물은, 바람직하게는, 일반식(II)로 나타내어지는 에폭시 화합물로부터 유도된다. 이 에폭시 화합물은 비스페놀류로부터 유도된다. 따라서, 비스페놀류를 설명함으로써, 불포화기 함유 화합물이 이해되므로, 바람직한 구체예를 비스페놀류에 의해 설명한다. 또한, 일반식(II)에 있어서, R11 및 R12는 독립으로 수소원자, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 할로겐원자를 나타내지만, 바람직하게는 수소원자이고, X는 -CO-, -SO2-, -C(CF3)2-, -Si(CH3) 2-, -CH2-, -C(CH3)2-, -O-, 9,9-플루오레닐기 또는 부존재를 나타내지만, 바람직하게는 9,9-플루오레닐기이다. n은 0∼10의 정수이지만, 바람직하게는 0 또는 평균치로서 0∼2의 범위이다. 여기에서, 9,9-플루오레닐기는, 하기 식으로 표현되는 기를 말한다.
바람직한 불포화기 함유 화합물을 부여하는 비스페놀류로서는, 다음과 같은 것을 들 수 있다. 비스(4-히드록시페닐)케톤, 비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)케톤, 비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)케톤, 비스(4-히드록시페닐)술폰, 비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)술폰, 비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)술폰, 비스(4-히드록시페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-히드록시페닐)디메틸실란, 비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)디메틸실란, 비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)디메틸실란, 비스(4-히드록시페닐)메탄, 비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)메탄, 비스(4-히드록시-3,5-디브로모페닐)메탄, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3-메틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3-클로로페닐)프로판, 비스(4-히드록시페닐)에테르, 비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)에테르, 비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)에테르 등을 함유하는 화합물이나, X가 상기 9,9-플루오레닐기인 9,9-비스(4-히드록시페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-브로모페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-플루오로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-메톡시페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3,5-디브로모페닐)플루오렌 등이나, 또한 4,4'-비페놀, 3,3'-비페놀 등의 화합물을 들 수 있다.
이 불포화기 함유 화합물은, 상기와 같은 비스페놀류로부터 유도되는 에폭시 화합물로부터 얻을 수 있지만, 이러한 에폭시 화합물 이외에 페놀 노볼락형 에폭시 화합물이나, 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물 등도 2개의 글리시딜에테르기를 갖는 화합물을 유의하게 함유하는 것이라면 사용할 수 있다. 또한, 비스페놀류를 글리시딜에테르화할 때에, 올리고머 단위가 혼입되게 되지만, 식(II)에 있어서의 n의 평균치가 0∼10, 바람직하게는 0∼2의 범위이면, 본 수지조성물의 성능에는 문제는 없다.
또, 이러한 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어진 에폭시(메타)아크릴레이트 분자중의 히드록시기와 반응할 수 있는 다염기산 카르복실산 또는 그 산무수물로서는, 예를 들면, 마레인산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산, 메틸 엔드 메틸렌 테트라히드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라히드로프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산 등이나 그 산무수물, 또한 벤조페논테트라카르복실산, 비페닐테트라카르복실산, 비페닐에테르테트라카르복실산 등의 방향족 다가 카르복실산이나 그 산 2무수물 등을 들 수 있다. 그리고, 산무수물과 산 2무수물의 사용비율에 대해서는, 노광, 알칼리 현상조작에 의해 미세한 패턴을 형성하는데 적합한 비율을 선택할 수 있다.
(A)성분의 불포화기 함유 화합물에 대해서는, 그 1종만을 사용해도, 2종이상의 혼합물을 사용할 수도 있다. 또한, 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산의 반응으로 얻어진 에폭시(메타)아크릴레이트와 다염기산 또는 그 산무수물과의 반응시켜서 A성분의 불포화기 함유 화합물을 제조하는 방법에 대해서는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 그 일례를 나타내면, 예를 들면 다음과 같이 해서 제조할 수 있다. 즉, 우선, 9,9-비스(4-히드록시페닐)플루오렌과 에피크롤로히드린을 반응시켜서 하기 일반식(IV)로 나타내어지는 비스페놀 플루오렌형 에폭시 화합물을 합성하고, 이 일반식(IV)의 비스페놀 플루오렌형 에폭시 화합물과 하기 일반식(V)로 나타내어지는 (메타)아크릴산을 반응시켜서 하기 일반식(VI)로 나타내어지는 비스페놀 플루오렌형 에폭시아크릴레이트 수지를 합성하고, 이어서 프로필렌글리콜모노메틸 용매중에서 일반식(VI)의 비스페놀 플루오렌형 에폭시아크릴레이트 수지와 상기 다염기산 또는 그 산무수물을 가열하에 반응시켜, 목적의 불포화기 함유 화합물을 제조한다. 여기서 식(IV)∼(VI)에 있어서, R11, R12는, 상기와 같고, R13은, 독립으로 H 또는 CH3이다.
또, 이때의 반응에 대해서는, 산무수물이 에폭시아크릴레이트 수지의 OH기 1몰당 1/2몰이 되도록 정량적으로 반응시키는 것이 바람직하고, 그 때문에 반응온도로서는 90∼130℃, 바람직하게는 95∼125℃이다. 이 반응에 대해서는, 일반식(I)의 단위구조를 갖는 화합물 전체에 대해서 같다.
(B)성분의 적어도 1개이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 광중합성 모노머로서는, 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 모노머나, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤에탄트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에스테르류를 들 수 있고, 이들의 화합물은, 그 1종만을 단독으로 사용할 수 있는 외에, 2종이상을 병용해서 사용할 수도 있다.
이들 (A)성분과 (B)성분의 배합비율은, 중량비 (A)/(B)로 20/80∼90/10이며, 바람직하게는 40/60∼80/20이다. (A)성분의 배합비율이 20/80보다 적으면, 광경화후의 경화물이 부서지기 쉽게 되고, 또한, 미노광부에 있어서 도막의 산가가 낮기 때문에 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되고, 패턴에지가 깔쭉하게 되어 샤프하게 되지 않는다는 문제가 생기고, 또한, 90/10보다도 많으면, 수지에 차지하는 광반응성 관능기의 비율이 적어 가교구조의 형성이 충분하지 않으며, 또한 수지성분에 있어서의 산가도가 지나치게 높아서, 노광부에 있어서의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 높아지기 때문에, 형성된 패턴이 목표로 하는 선폭보다 가늘어지거나, 패턴의 결락이 생기기 쉽게 된다는 문제가 발생할 우려가 있다.
(C)성분의 광중합 개시제로서는, 상기 일반식(I)로 나타내어지는 화합물을 필수성분으로서 함유하고, 자외선광 등의 조사에 의해 라디칼종을 발생하고, 광중합성의 화합물에 부가해서 라디칼 중합을 개시시켜, 조성물을 경화시킨다. 여기에서, 일반식(I)에 있어서, R1은, 페닐기(탄소수 1∼6의 알킬기, 페닐기 혹은 할로겐원자로 치환되어 있어도 좋다), 탄소수 1∼20의 알킬기(1개이상의 수산기로 치환되어 있어도 좋고, 알킬기쇄 중에 1개이상의 산소원자를 갖고 있어도 좋고, 수산기와 산소원자의 양자를 가지고 있어도 좋다), 탄소수 5∼8의 시클로알킬기, 탄소수 2∼20의 알카노일기 또는 벤조일기(탄소수가 1∼6의 알킬기 혹은 페닐기로 치환되어도 좋다)를 나타낸다. R2는, 탄소수 2∼12의 알카노일기(1이상의 할로겐원자 혹은 시아노기로 치환되어 있어도 좋다), 그 이중결합이 카르보닐기와 공역하고 있지 않은 탄소수 4∼6의 알케노일기, 벤조일기(탄소수 1∼6의 알킬기, 할로겐원자 혹은 시아노기로 치환되어 있어도 좋다), 탄소수 2∼6의 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기(1이상의 탄소수 1∼6의 알킬기 혹은 할로겐원자로 치환되어 있어도 좋다)를 나타내며, 아실기를 총칭한다. R3, R4, R5, R6, R7 , R8, R9 및 R10은, 서로 독립으로, 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 벤조일기, 탄소수 2∼12의 알카노일기, 탄소수 2∼12의 알콕시카르보닐기(알콕실기의 탄소수 2∼11의 경우, 상기 알콕실기 또는 주쇄 탄소원자간에 1이상의 산소원자를 가져도 및/또는 1이상의 수산기로 치환되어 있어도 좋다) 또는 페녹시카르보닐기를 나타낸다.
이러한 화합물의 제조에는, 그 유사의 화합물을 생각하는 특허문헌4 등에 기재된 제조방법이 참조된다. 본 발명에 있어서 일반식(I)로 나타내어지는 광중합 개시제 중에서는, 상기 식(III)로 나타내어지는 화합물이 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 일반식(I)로 나타내어지는 광중합 개시와 함께, 다른 광중합 개시제 혹은 증감제를 1종이상 병용할 수 있다. 상기 기타의 광중합 개시제 혹은 증감제로서는 예를 들면, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논 등의 아세토페논류, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 에테르류, 2-(o-클로로페닐)-4,5-페닐비이미다졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)비이미다졸, 2-(o-플루오로페닐)-4,5-디페닐비이미다졸, 2-(o-메톡시페닐)-4,5-디페닐비이미다졸, 2,4,5-트리아릴비이미다졸 등의 비이미다졸계 화합물류, 2-트리클로로메틸-5-스티릴-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(p-시아노스티릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(p-메톡시스티릴)-1,3,4-옥사디아졸 등의 할로메틸티아졸 화합물류, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-(4-클로로페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-(4-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-(3,4,5-트리메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-(4-메틸티오스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진 등의 할로메틸-S-트리아진계 화합물류, 1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)페닐]-,2-(O-벤조일옥심), 1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-메틸술파닐페닐)부탄-1,2-디온-2-옥심-O-아세테이트, 1-(4-메틸술파닐페닐)부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등, 상기 식(I)을 포함하지 않는 범주에서의 O-아실옥심계 화합물류, 벤질디메틸케탈, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤 등의 유황 화합물, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논 등의 안트라퀴논류, 아조비스이소부틸니트릴, 벤조일퍼옥사이드, 쿠멘퍼옥시드 등의 유기 과산화물, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조티아졸 등의 티올 화합물 등을 들 수 있다.
이들 광중합 개시제나 증감제는, 그 1종만을 단독으로 사용할 수 있는 외에, 2종이상을 조합하여 사용할 수도 있다. 또한, 그 자체로는 광중합 개시제나 증감제로서 작용하지 않지만, 상기 화합물로 조합하여 사용함으로써 광중합 개시제나 증감제의 능력을 증대시킬 수 있는 화합물을 첨가할 수도 있다. 그러한 화합물로서는, 예를 들면, 벤조페논과 조합하여 사용하면 효과가 있는 트리에탄올아민 등의 제3급 아민을 들 수 있다.
(C)성분의 광중합 개시제의 사용량은, (A), (B)의 각 성분의 합계 100중량부를 기준으로 하여 2∼30중량부이며, 바람직하게는 5∼20중량부이다. (C)성분의 배합비율이 2중량부 미만의 경우에는, 광중합의 속도가 느려져서 감도가 저하하며, 한편, 30중량부를 넘을 경우에는, 감도가 지나치게 강해서 패턴 선폭이 패턴 마스크에 대하여 굵어진 상태가 되어, 마스크에 대하여 충실한 선폭을 재현할 수 없거나, 또는 패턴 에지가 깔쭉하게 되어 샤프하게 되지 않는다는 문제가 생길 우려가 있다. (C)성분의 광중합 개시제는, 필수성분으로서 일반식(I)로 나타내어지는 광중합 개시제를 함유하지만, 그 양은 다른 (C)성분을 첨가하지 않는 경우라도, 단독으로 광중합 개시제로서 유효하게 작용하는 양 이상인 것이 좋고, 그 양은 (A), (B)의 각 성분의 합계 100중량부를 기준으로 하여 2∼30중량부이며, 바람직하게는 3∼15중량부이다.
(D)성분의 착색제는, 색조가 특별히 한정되는 것은 아니고, 얻어지는 컬러필터의 용도에 따라서 적당히 선정되어, 안료, 염료 혹은 천연색소 어느 것이라도 좋다. 컬러필터에는 고정밀하고 미세한 발색과 내열성이 요구되기 때문에, 통상, 안료, 특히 바람직하게는 유기안료, 카본블랙이 이용된다. 상기 유기안료로서는, 적색의 안료에는, 단일의 적색 안료계를 사용해도 좋고, 황색 안료계를 적색 안료계에 혼합해서 조색(調色)을 행하여도 좋다. 적색 안료계로서는, 예를 들면, 안트라퀴논계 안료, 퀴나크리돈계 안료, 디케토피로롤계 안료, 페릴렌계 안료 등, 특히 바람직하게는 디케토피로로피롤 레드(C.I.피그먼트 레드 254)나 디안트라퀴놀릴 레드(C.I.피그먼트 레드 177) 등을 들 수 있다. 또한, 황색 안료계로서는, 예를 들면, 이소인도린 옐로(C.I.피그먼트 옐로 139), 니켈아조 옐로(C.I.피그먼트 옐로 150), 디아릴리드 옐로(C.I.피그먼트 옐로 83) 등을 들 수 있다. 이들 적색 안료계 및 황색 안료계는, 각각 2종이상 혼합해서 사용할 수도 있다. 또한, 적색 안료계와 황색 안료계를 혼합해서 사용할 경우에는, 적색 안료계와 황색 안료계의 총량 100중량부에 대하여 황색 안료계를 90중량부 이하로 사용하는 것이 바람직하다. 녹색의 안료에는, 단일의 녹색 안료계를 사용해도 좋고, 황색 안료계를 녹색 안료계에 혼합해서 조색을 행하여도 좋다. 녹색 안료계로서는, 염소화 프탈로시아닌 그린(C.I.피그먼트 그린 7), 브롬염소화 프탈로시아닌 그린(C.I.피그먼트 그린 36) 등을 들 수 있다. 또한, 황색 안료계로서는, 예를 들면, 이소인도린 옐로(C.I.피그먼트 옐로 139), 디아릴리드 옐로(C.I.피그먼트 옐로 83) 등을 들 수 있다. 이들 녹색 안료계 및 황색 안료계는, 각각 2종이상 혼합해서 사용할 수도 있다. 또한, 녹색 안료계와 황색 안료계를 혼합해서 사용할 경우에는, 녹색 안료계와 황색 안료계의 총량 100중량부에 대하여 황색 안료계를 90중량부 이하로 사용하는 것이 바람직하다. 청색의 안료에는, 단일의 청색 안료계를 사용해도 좋고, 보라색 안료계를 청색 안료계에 혼합해서 조색을 행하여도 좋다. 청색 안료계로서는, 프탈로시아닌계 안료, 스렌계 안료 등, 특히 바람직하게는 ε-프탈로시아닌 블루(C.I.피그먼트 블루 15:6) 등을 들 수 있다. 또한, 보라색 안료계로서는, 예를 들면, 디옥사딘 바이올렛(C.I.피그먼트 바이올렛 23) 등을 들 수 있다. 이들 청색 안료계 및 보라색 안료계는, 각각 2종이상 혼합해서 사용할 수도 있다. 또한, 청색 안료계와 보라색 안료계를 혼합해서 사용할 경우에는, 청색 안료계와 보라색 안료계의 총량 100중량부에 대하여 보라색 안료계를 90중량부 이하로 사용하는 것이 바람직하다.
또, 차광성 안료에는, 흑색 유기안료, 혼색 유기안료 또는 차광재 등을 들 수 있고, 흑색 유기안료로서는, 예를 들면 페릴렌 블랙, 시아닌 블랙 등을 들 수 있다. 혼색 유기안료로서는, 적색, 청색, 녹색, 보라색, 황색, 시아닌, 마젠타 등으로부터 선택되는 적어도 2종이상의 안료를 혼합해서 유사 흑색화된 것을 들 수 있다. 차광재로서는, 카본블랙, 산화크롬, 산화철, 티타늄 블랙, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙을 들 수 있고, 2종이상을 적당히 선택해서 사용할 수도 있지만, 특히 카본블랙이, 차광성, 표면평활성, 분산안정성, 수지와의 상용성이 양호한 점에서 바람직하다.
또, 착색제는 소망에 따라 분산제와 함께 사용할 수 있다. 이러한 분산제로서는, 예를 들면, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 실리콘계, 불소계 등의 계면활성제를 들 수 있다. 상기 계면활성제의 구체예로서는, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르류 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서의 (D)성분의 색소의 사용량은, (A)성분, (B)성분의 총량 100중량부에 대하여 30∼280중량부, 바람직하게는 50∼230중량부의 범위가 좋다. 30중량부보다 적으면, 색순도 또는 차광성이 충분하지 않게 되고, 바람직한 콘트라스트를 얻기 위해서는 막두께를 두껍게 하지 않으면 안되게 되어, 컬러필터의 면평활성을 얻기 어렵다. 반대로, 280중량부를 넘으면, (D)성분을 함유하는 컬러필터용 감광성 수지조성물의 분산 안정성에서 저하하고, 또한, 본래의 바인더로 되는 감광성 수지의 함유량도 감소하기 때문에, 현상 특성을 손상함과 아울러 막형성능이 손상된다는 바람직하지 못한 문제가 발생할 우려가 있다.
본 발명의 컬러필터용 감광성 수지조성물에 있어서는, 상기 (A)∼(D)성분 이외에 용제를 사용하는 것이 바람직하다. 용제로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알코올류, α- 혹은 β-테르피네올 등의 테르펜류 등, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, N-메틸-2-피롤리돈 등의 케톤류, 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류, 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 초산에틸, 초산부틸, 셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔부아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 에틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 초산 에스테르류 등을 들 수 있고, 이들을 사용해서 용해, 혼합시키는 것에 의해, 균일한 용액상의 조성물로 할 수 있다.
또, 본 발명의 컬러필터용 감광성 수지조성물에는, 필요에 따라서 경화 촉진제, 열중합 금지제, 가소제, 충전재, 용제, 레벨링제, 소포제 등의 첨가제를 배합할 수 있다. 열중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 피로갈롤, tert-부틸카테콜, 페노티아진 등을 들 수 있고, 가소제로서는, 디부틸프탈레이트, 디옥틸프탈레이트, 트리크레실 등을 들 수 있고, 충전재로서는, 유리섬유, 실리카, 마이카, 알루미나 등을 들 수 있고, 또한, 소포제나 레벨링제로서는, 예를 들면, 실리콘계, 불소계, 아크릴계의 화합물을 들 수 있다.
본 발명의 컬러필터용 감광성 수지조성물은, 상기 (A)∼(D)성분 또는 이들과 용제를 주성분으로서 함유한다. 용제를 제외한 고형분(고형분에는 경화 후에 고형분이 되는 모노머를 포함함)중에, (A)∼(D)성분이 합계로 70wt%이상, 바람직하게는 80wt%, 보다 바람직하게는 90wt%이상 함유하는 것이 바람직하다. 용제의 양은, 목표로 하는 점도에 따라 변화되지만, 20∼80wt%의 범위가 바람직하다. 본 발명의 컬러필터용 감광성 수지조성물은, 블랙 및 R, G, B용의 레지스트(잉크)에 적합하지만, 블랙용의 레지스트(차광막용 잉크)에 보다 적합하다.
다음에, 감광성 수지조성물을 사용한 컬러필터의 제조법에 대해서 설명한다. 우선, 기판의 표면상에, 필요에 따라서 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층을 형성하고, 이 기판상에, 예를 들면 적색의 안료가 분산된 감광성 수지조성물의 액상 조성물을 도포한 후, 프리베이킹을 행하여 용제를 증발시켜 도막을 형성한다. 다음에, 이 도막에 포토마스크를 통해서 노광한 후, 알카리성 현상액을 사용해서 현상하고, 도막의 미노광부를 용해 제거하며, 그 후 포스트베이킹하는 것에 의해, 적색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 형성한다. 그 후, 녹색 또는 청색의 안료가 분산된 감광성 수지조성물의 액상 조성물을 사용하고, 상기와 마찬가지로 하여, 각 액상 조성물의 도포, 프리베이킹, 노광, 현상 및 포스트베이킹을 행하여, 녹색의 화소 어레이 및 청색의 화소 어레이를 동일기판상에 순차 형성함으로써, 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소 어레이가 기판상에 배치된 컬러필터를 얻는다.
감광성 수지조성물의 액상 조성물을 기판에 도포할 때에는, 공지의 용액 침지법, 스프레이법 외에, 롤러코터기, 랜드코터기나 스피너기를 사용하는 방법 등의 어느 방법도 채용할 수 있다. 이들 방법에 의해, 소정 두께로 도포한 후, 용제를 제거하는(프리베이킹) 것에 의해 피막이 형성된다. 프리베이킹은 오븐, 핫플레이트 등에 의해 가열함으로써 행하여진다. 프리베이킹에 있어서의 가열온도 및 가열시 간은 사용하는 용제에 따라서 적당히 선택되고, 예를 들면 80∼120℃의 온도에서 1∼10분간 행하여진다.
컬러필터를 제작할 때에 사용되는 방사선으로서는, 예를 들면, 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 사용할 수 있지만, 파장이 250∼450㎚의 범위에 있는 방사선이 바람직하다. 또한, 이 알칼리 현상에 적합한 현상액으로서는, 예를 들면, 알칼리 금속이나 알칼리 토류금속의 탄산염의 수용액, 알칼리 금속의 수산화물의 수용액 등을 들 수 있지만, 특히 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬 등의 탄산염을 0.05∼10중량% 함유하는 약알카리성 수용액을 사용해서 20∼30℃의 온도로 현상하는 것이 좋고, 시판의 현상기나 초음파세정기 등을 사용해서 미세한 화상을 정밀하게 형성할 수 있다. 또, 알칼리 현상후는, 통상 물세정한다. 현상처리법으로서는, 샤워 현상법, 스프레이 현상법, 딥(침지) 현상법, 퍼들(액수용) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상조건은, 상온에서 10∼120초가 바람직하다.
이와 같이 하여 현상한 후, 180∼250℃의 온도, 및 20∼100분의 조건으로 열처리(포스트베이킹)가 행하여진다. 이 포스트베이킹은, 패터닝된 도막과 기판의 밀착성을 향상시키기 위한 등의 목적으로 행하여진다. 이것은 프리베이킹과 마찬가지로, 오븐, 핫플레이트 등에 의해 가열함으로써 행하여진다. 본 발명의 패터닝된 도막은, 이상의 포토리소그래피법에 의한 각 공정을 거쳐서 형성된다.
또한, 블랙매트릭스는, 차광 감광성 수지조성물을 사용하고, 상기 화소 어레이의 경우와 마찬가지로 해서 형성할 수 있다.
화소 및/또는 블랙매트릭스를 구비한 컬러필터를 형성할 때에 사용되는 기판으로서는, 예를 들면, 유리, 투명필름(예를 들면, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르세르폰 등)상에 ITO, 금 등의 투명전극이 증착 혹은 패터닝 된 것 등을 사용할 수 있다. 또한, 이들 기판에는, 소망에 의해, 실란커플링제 등에 의한 약품처리, 플라즈마처리, 이온플레이팅, 스퍼터링, 기상반응법, 진공증착 등의 적당한 전처리를 실시해 둘 수도 있다.
이하, 실시예 및 비교예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 여기에서, 실시예, 비교예의 컬러필터의 제조에서 사용한 원료 및 약호는 이하와 같다.
(A)-1: 플루오렌 골격을 갖는 에폭시아크릴레이트의 산무수물 중축합물의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액(수지 고형분 농도 = 56.1중량%, 신닛테츠가가쿠(주) 제품 상품명 V259ME)
(A)-2: Mw8800, 산가 130의 N-페닐말레이미드/메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액(수지 고형분 농도 = 37.9중량%)(N-페닐말레이미드:메타크릴산:벤질메타크릴레이트 = 26:34:40㏖%)
(A)-3: Mw160000, 산가 95의 N-페닐말레이미드/메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액(수지 고형분 농도 = 38.1중량%)(N-페닐말레이미드:메타크릴산:벤질메타크릴레이트 = 36:25:39㏖%)
(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트의 혼합물(니폰카야쿠(주) 제품 상품명 DPHA)
(C)-1: 상기 일반식(III)로 나타내어지는 화합물
(C)-2: p,p-디에틸아미노벤조페논
(C)-3: 2-(4-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진
(C)-4: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부타논-1
(C)-5: 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모노폴리노프로판-1-온
(C)-6: 1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)페닐]-,2-(O-벤조일옥심), (화학식: 하기)
(D)-1: ε형 프탈로시아닌 블루 안료(C.I.피그먼트 블루 15:6) 농도 13.7중량%, 고분자 분산제 농도 5.4중량%의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산액(고형분 19.1%)
(D)-2: 브롬염소화 프탈로시아닌 그린 안료(C.I.피그먼트 그린 36) 농도 15.1중량%, 고분자 분산제 농도 4.0중량%의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산액(고형분 19.1%)
(D)-3: 디케토피로로피롤 레드 안료(C.I.피그먼트 레드 254) 농도 15.0중량%, 고분자 분산제 농도 5.3중량%의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산액(고형분 18.3%)
(D)-4: 니켈아조 옐로 안료(C.I.피그먼트 옐로 150) 농도 13.3중량%, 고분자 분산제 농도 4.4중량%의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산액(고형분 17.7%)
(D)-5: 카본블랙 농도 20중량%, 고분자 분산제 농도 5중량%의, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산액(고형분 25.0%)
(E)-1: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트
(E)-2: 유산에틸
(F): 에폭시수지(재팬에폭시레진사 제품 상품명 YX4000H)
(G): 실란커플링제
(H): 계면활성제
[실시예]
상기 배합성분을 표 1에 기재된 비율로 배합하여, 실시예 1∼8의 조성물을 조제했다. 표중의 P/B는, (분산액중의 안료중량)/((A), (B), (F)성분중의 고형분 합계 중량)을 나타내고 있다.
이것을 균일하게 혼합해서 얻은 컬러필터용 감광성 수지조성물을, 스핀코터를 사용해서 125㎜×125㎜의 유리기판상에 포스트베이킹한 후의 막두께가 1.0㎛ 혹은, 1.5㎛로 되도록 도포하고, 90℃에서 2분간 프리베이킹. 그 후, 노광갭을 80㎛로 조정하여 건조 도막상에, 라인/스페이스=20㎛/20㎛, 100㎛/100㎛의 네가티브형 포토마스크를 씌우고, I선 조도 30㎽/㎠의 초고압 수은램프로 100mj/㎠의 자외선을 조사해 감광부분의 광경화 반응을 행했다. 다음에, 이 노광이 끝난 도포판을 0.04% 수산화칼륨 수용액중, 23℃에서 50초 또는 80초의 1kgf/㎠압 샤워현상 및 5kgf/㎠압의 스프레이 물세정을 행하고, 도막의 미노광부를 제거해 유리기판상에 화소 패턴을 형성, 그 후, 열풍건조기를 사용해서 230℃, 30분간 열포스크베이킹한 후의 패턴 선폭, 패턴 직선성, 및 도막 표면조도를 평가했다.
또한, 포스트베이킹 실시가 완료된 패턴 형성기판을, 121℃, 100%RH, 2atm, 24시간의 조건하에 두고 PCT(프레셔·쿠커)테스트를 실시한 후, 20㎛ 패턴부에 셀로판 테이프를 붙여 필링 테스트를 행함으로써 패턴 밀착성을 평가했다.
실시예, 비교예에 있어서의 패턴 화소 패턴의 평가항목과 방법은 이하와 같다.
막두께: 촉침식 단차형상 측정장치(케이엘에이 텐콜(주) 제품 상품명 P-10)를 사용해서 측정했다.
패턴 선폭: 측장현미경((주)니콘 제품 상품명 XD-20)을 사용하여, 적색, 녹색, 청색 감광성 수지조성물에 대해서는, 마스크 폭 100㎛, 흑색 감광성 수지조성물에 대해서는 마스크 폭 20㎛에 대하여 선 굵기율이 ±10%미만일 때를 ○<양호>, 그 이상일 때를 ×<불량>라 판정했다.
패턴 직선성: 현상후의 화소 패턴을 현미경 관찰하고, 기판에 대한 박리나 패턴 에지부분의 깔쭉함이 확인되지 않는 것을 ○<양호>, 확인되는 것을 ×<불량>라 평가했다.
도막 표면조도: 현상, 열소성 후의 도막의 표면조도(Ra)의 값이, 150Å미만을 ○<양호>, 150Å이상을 ×<불량>라 평가했다.
패턴 밀착성: 필링 테스트로 20㎛패턴의 박리가 확인되지 않는 것을 ○<양호>, 확인되는 것을 ×<불량>라 평가했다.
결과를 표 2에 나타낸다. 표 2에 있어서, 각 실시예의 좌측 란은 현상시간 50초의 예이며, 우측 란은 80초의 예의 결과이다. 표 2에 나타낸 바와 같이 모두 양호하였다.
비교예 1
(C)성분으로서, (C)-4를 0.3중량부, 및 (C)-6을 1.5중량부로 한 이외는, 실시예 1과 같은 조건으로 화소 패턴을 형성해서 평가를 행했지만, 패턴에 깔쭉함이 확인되어, 패턴 직선성이 불량(×)이었다.
비교예 2
(A)성분을, (A)-2로 변경한 이외는, 실시예 3과 같은 조건으로 화소 패턴을 제조해서 평가를 행했지만, 90초 현상으로, 선폭에 10%이상의 선 가늘어짐이 확인되어, 선폭판정은 불량(×)이었다. 또한, 패턴 직선성, 밀착성 판정도 불량(×)이었다.
비교예 3
(C)성분을, (C)-3을 2.0중량부로 변경한 이외는, 실시예 4와 같은 조건으로 화소 패턴을 제조해서 평가를 행했지만, 패턴 직선성이 불량(×)이고, 또, (C)-3의 불용물이라 생각되는 이물이 도막 표면에 점재했다.
비교예 4
(A)성분의 종류를 (A)-2로 변경한 이외는, 실시예 5와 같은 조건으로 화소 패턴을 제조해서 평가를 행했지만, 현상시간 80초에서 감도부족 때문에 패턴이 결락되었기 때문에 불량이라고 했다.
비교예 5
(C)성분을, (C)-6을 18중량부로 변경한 이외는, 실시예 5와 같은 조건으로 화소 패턴을 제조해서 평가를 행했지만, 90초 현상으로, 선폭에 10%이상의 선 가늘어짐이 확인되어, 선폭판정은 불량(×)이었다. 또, 패턴 직선성도 불량(×)이었다.
비교예 6
(C)성분의 첨가량을 0.1중량부로 한 이외는, 실시예 5와 같은 조건으로 화소 패턴을 제조해서 평가를 행했지만, 50초 현상으로, 선폭에 10%이상의 선 가늘어짐이 확인되어, 선폭판정은 불량(×)이었다. 또한, 패턴 직선성, 밀착성 판정도 불량(×), 표면조도가 250Å로 되어 불량(×)이었다.
비교예 7
(A)성분의 종류를, (A)-3으로 변경한 이외는, 실시예 8과 같은 조건으로 화소 패턴을 제조해서 평가를 행했지만, 패턴 직선성, 밀착성 판정 모두 불량(×)이었다.
본 발명의 컬러필터용 감광성 수지조성물은, 패턴 치수안정성이 뛰어나고, 또한 현상마진, 패턴 밀착성, 패턴 에지형상의 샤프성이 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 이 때문에, 본 발명의 컬러필터용 감광성 수지조성물은, 컬러 액정표시장치, 컬러 팩시밀리, 이미지센서 등의 각종 다색 표시체나, 광학기기 등에 사용되는 컬러필터용의 착색 잉크, 및 이들에 의해 형성된 블랙매트릭스를 갖는 컬러필터나, 텔레비전, 비디오 모니터, 혹은 컴퓨터의 디스플레이 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 이렇게 하여 얻어진 컬러필터는, 예를 들면, 투과형 혹은 반사형의 컬러 액정표시장치, 컬러 촬상관 소자, 컬러 센서 등에 매우 유용하다.

Claims (7)

  1. 하기 (A)∼(D)성분,
    (A)비스페놀류로부터 유도되는 2개의 글리시딜에테르기를 갖는 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산의 반응물을 또한 다염기산 카르복실산 또는 그 무수물과 반응시켜서 얻어진 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지화합물,
    (B)적어도 1개이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 광중합성 모노머,
    (C)광중합 개시제,
    (D)착색제
    를 필수성분으로서 함유하는 컬러필터용 감광성 수지조성물에 있어서, (A)성분과 (B)성분의 중량비율 (A)/(B)가 20/80∼90/10이며, (A)성분과 (B)성분의 합계 100중량부에 대하여 (C)성분을 2∼30중량부 함유하고, 또한, (C)성분의 광중합 개시제로서 하기 일반식(I)로 나타내어지는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지조성물.
    단, 일반식(I)에 있어서,
    R1은, 페닐기(탄소수 1∼6의 알킬기, 페닐기 혹은 할로겐원자로 치환되어 있어도 좋다), 탄소수 1∼20의 알킬기(1개이상의 수산기로 치환되어 있어도 좋고, 알킬쇄의 중간에 1개이상의 산소원자를 갖고 있어도 좋다), 탄소수 5∼8의 시클로알킬기, 탄소수 2∼20의 알카노일기 또는 벤조일기(탄소수 1∼6의 알킬기 혹은 페닐기로 치환되어도 좋다)를 나타내며;
    R2는, 탄소수 2∼12의 알카노일기(1이상의 할로겐원자 혹은 시아노기로 치환되어 있어도 좋다), 그 이중결합이 카르보닐기와 공역하고 있지 않은 탄소수 4∼6의 알케노일기, 벤조일기(탄소수 1∼6의 알킬기, 할로겐원자 혹은 시아노기로 치환되어 있어도 좋다), 탄소수 2∼6의 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기(1이상의 탄소수 1∼6의 알킬기 혹은 할로겐원자로 치환되어 있어도 좋다)를 나타내며;
    R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10은, 서로 독립으로, 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 벤조일기, 탄소수 2∼12의 알카노일기, 탄소수 2∼12의 알콕시카르보닐기(알콕실기를 구성하는 알킬기의 탄소수가 2이상인 경우, 알킬기는 1개이상의 수산기로 치환되어 있어도 좋고, 알킬쇄의 중간에 1개이상의 산소원자를 갖고 있어도 좋다) 또는 페녹시카르보닐기를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 비스페놀류로부터 유도되는 2개의 글리시딜에테르기를 갖는 에폭시 화합물이, 하기 일반식(II)로 나타내어지는 에폭시 화합물인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지조성물.
    단, 일반식(II)에 있어서,
    R11 및 R12는, 독립으로 수소원자, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 할로겐원자를 나타내고, X는 -CO-, -SO2-, -C(CF3)2-, -Si(CH3)2-, -CH2-, -C(CH3)2-, -O-, 9,9-플루오레닐기 또는 부존재를 나타내며, n은 0∼10의 정수이다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, (C)성분의 광중합 개시제가 하기 일반식(III)로 나타내어지는 화합물인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, (D)성분의 착색제가 차광성 분산안료인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지조성물.
  5. 제4항에 있어서, 차광성 분산안료가 카본블랙 분산체인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 감광성 수지조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 컬러필터용 감광성 수지조성물을 경화시켜서 형성한 것을 특징으로 하는 도막.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 컬러필터용 감광성 수지조성물을 투명기판상에 도포, 프리베이킹한 후, 자외선 노광장치에 의한 노광, 알칼리 수용액에 의한 현상, 포스트베이킹하여 제작된 화소 또는 블랙매트릭스를 구비한 것을 특징으로 하는 컬러필터.
KR1020040067905A 2003-08-28 2004-08-27 감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터 KR101077077B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2003-00304248 2003-08-28
JP2003304248A JP4437651B2 (ja) 2003-08-28 2003-08-28 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050021902A true KR20050021902A (ko) 2005-03-07
KR101077077B1 KR101077077B1 (ko) 2011-10-26

Family

ID=34407988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040067905A KR101077077B1 (ko) 2003-08-28 2004-08-27 감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4437651B2 (ko)
KR (1) KR101077077B1 (ko)
TW (2) TWI447523B (ko)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100740550B1 (ko) * 2006-02-10 2007-07-18 주식회사 코오롱 수지 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물
KR100777561B1 (ko) * 2005-11-24 2007-11-28 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR100796123B1 (ko) * 2004-11-17 2008-01-21 제이에스알 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 표시 패널용 스페이서 및 표시 패널
KR100805863B1 (ko) * 2005-09-06 2008-02-21 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물
KR100807494B1 (ko) * 2004-12-15 2008-02-25 제이에스알 가부시끼가이샤 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널
KR100850170B1 (ko) * 2004-07-26 2008-08-04 제이에스알 가부시끼가이샤 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널
KR100899410B1 (ko) * 2005-09-08 2009-05-26 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성수지조성물
KR101117997B1 (ko) * 2007-07-04 2012-02-24 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 착색 감광성 조성물
KR101279614B1 (ko) * 2008-11-12 2013-06-27 주식회사 엘지화학 플루오렌 그룹을 포함하는 알칼리 가용성 수지 중합체와, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR101321838B1 (ko) * 2005-07-20 2013-10-25 가부시키가이샤 아데카 알칼리현상형 감광성 착색조성물
KR101472429B1 (ko) * 2006-06-01 2014-12-24 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 컬러필터용 레지스트 조성물 및 그 제조방법, 그리고 이를 사용한 컬러필터
KR20170112923A (ko) * 2016-03-30 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 네가티브형 감광성 수지 조성물

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3754065B2 (ja) * 2003-06-10 2006-03-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP4484482B2 (ja) * 2003-09-25 2010-06-16 東洋インキ製造株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005202252A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Dainippon Printing Co Ltd 固体撮像素子カラーフィルター用感光性着色組成物、固体撮像素子カラーフィルター、固体撮像素子、及び固体撮像素子カラーフィルターの製造方法
JP2005215147A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物
TWI285297B (en) * 2004-02-09 2007-08-11 Chi Mei Corp Light-sensitive resin composition for black matrix
JP4556479B2 (ja) * 2004-04-27 2010-10-06 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよび液晶表示パネル
JP4448381B2 (ja) * 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP4526964B2 (ja) * 2005-01-27 2010-08-18 旭化成イーマテリアルズ株式会社 光重合性樹脂積層体、並びにそれを用いたブラックマトリックス付きガラス基板、及びカラーフィルタの製造方法
JP4508929B2 (ja) * 2005-03-31 2010-07-21 新日鐵化学株式会社 絶縁膜用感光性樹脂組成物
TW200710572A (en) * 2005-05-31 2007-03-16 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Photocuring/thermosetting resin composition, curing/setting product thereof and printed wiring board obtained using the same
JP4821206B2 (ja) * 2005-07-29 2011-11-24 東レ株式会社 カラーフィルター用感光性着色組成物、およびカラーフィルター
TW200728379A (en) * 2005-09-06 2007-08-01 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Resin composition, cured product of the same, and printed circuit board made of the same
JP2007072035A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
JP4826415B2 (ja) * 2005-10-12 2011-11-30 東レ株式会社 感光性樹脂組成物
KR100655044B1 (ko) 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 우수한 전기적 특성을 가지는 컬러필터용 감광성 수지조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JP2007233230A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性黒色組成物およびカラーフィルタ
JP2007279668A (ja) * 2006-03-14 2007-10-25 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ブラックマトリックス及びその製造方法
CN101416111B (zh) 2006-03-28 2012-07-04 富士胶片株式会社 感光性组合物及感光性薄膜、以及图案的形成方法及印制电路板
JP5073342B2 (ja) * 2006-03-31 2012-11-14 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4827088B2 (ja) * 2006-04-13 2011-11-30 太陽ホールディングス株式会社 アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
CN102445850B (zh) * 2006-04-13 2013-07-31 太阳控股株式会社 碱显影型阻焊剂及其固化物以及使用其得到的印刷线路板
JP4827089B2 (ja) * 2006-04-13 2011-11-30 太陽ホールディングス株式会社 アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
JP5108300B2 (ja) * 2006-12-28 2012-12-26 新日鉄住金化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
KR101047703B1 (ko) * 2007-02-20 2011-07-08 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
JP5003200B2 (ja) * 2007-02-26 2012-08-15 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
KR101526619B1 (ko) 2007-05-11 2015-06-05 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP5535063B2 (ja) 2007-05-11 2014-07-02 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア オキシムエステル光重合開始剤
JP5529370B2 (ja) * 2007-10-03 2014-06-25 新日鉄住金化学株式会社 多官能チオール化合物を含んだブラックレジスト用感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルター用ブラックマトリクス、及びカラーフィルター
JP2009244401A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物及び画像形成方法
JP5189392B2 (ja) * 2008-03-28 2013-04-24 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP2010053330A (ja) * 2008-08-01 2010-03-11 Jsr Corp 硬化性組成物、液晶シール剤及び液晶表示素子
US8507569B2 (en) 2009-03-23 2013-08-13 Basf Se Photoresist compositions
JP5439937B2 (ja) * 2009-04-30 2014-03-12 Ｊｓｒ株式会社 着色感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP4999891B2 (ja) * 2009-07-13 2012-08-15 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
EP2625166B1 (en) 2010-10-05 2014-09-24 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
CN103443072B (zh) 2011-01-28 2016-05-18 巴斯夫欧洲公司 包含肟磺酸酯作为热固化剂的可聚合组合物
US9365515B2 (en) 2011-12-07 2016-06-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2657754B1 (en) 2011-12-19 2016-10-05 DIC Corporation Liquid crystal display device
US8860912B2 (en) 2012-02-01 2014-10-14 Dic Corporation Liquid crystal display device
EP3354641B1 (en) 2012-05-09 2019-07-17 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US9715051B2 (en) 2012-09-20 2017-07-25 Dic Corporation Liquid crystal display device
TWI476270B (zh) * 2012-10-04 2015-03-11 Dainippon Ink & Chemicals 液晶顯示裝置
EP2837964B1 (en) 2013-06-06 2016-09-21 DIC Corporation Liquid crystal display device
US10234761B2 (en) 2013-07-08 2019-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP3044208B1 (en) 2013-09-10 2021-12-22 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2015045441A1 (ja) 2013-09-24 2015-04-02 Dic株式会社 液晶表示装置
WO2015064629A1 (ja) 2013-10-30 2015-05-07 Dic株式会社 液晶表示素子
US10437107B2 (en) 2013-10-30 2019-10-08 Dic Corporation Liquid-crystal display element
CN105745572A (zh) 2013-11-12 2016-07-06 Dic株式会社 液晶显示元件
US10421906B2 (en) 2014-07-29 2019-09-24 Dic Corporation Liquid-crystal display element
KR20170037949A (ko) 2014-07-29 2017-04-05 디아이씨 가부시끼가이샤 액정 표시 소자
JP6437388B2 (ja) * 2015-05-28 2018-12-12 日本化薬株式会社 エポキシ（メタ）アクリレート化合物を含有する樹脂組成物及びその硬化物
WO2016030790A1 (en) 2014-08-29 2016-03-03 Basf Se Oxime sulfonate derivatives
CN111095044B (zh) 2017-09-25 2022-08-12 东丽株式会社 着色树脂组合物、着色膜、滤色器及液晶显示装置
US20220121113A1 (en) 2019-01-23 2022-04-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
KR20220149716A (ko) 2020-03-04 2022-11-08 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
CN113189842B (zh) * 2020-12-20 2024-05-17 江苏穿越光电科技有限公司 一种彩色滤光片的制备方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY121423A (en) 1998-06-26 2006-01-28 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable thermosetting resin compositions
KR100801457B1 (ko) 2001-06-11 2008-02-11 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 결합된 구조를 가지는 옥심 에스테르 광개시제
JP3986406B2 (ja) 2002-09-25 2007-10-03 株式会社ニデック 非接触式眼圧計
TWI289577B (en) * 2002-10-28 2007-11-11 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerization composition and color filter using the same
JP2005062494A (ja) 2003-08-13 2005-03-10 Fujifilm Arch Co Ltd 光硬化性組成物及びそれを用いたカラーフィルタ

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100850170B1 (ko) * 2004-07-26 2008-08-04 제이에스알 가부시끼가이샤 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널
KR100796123B1 (ko) * 2004-11-17 2008-01-21 제이에스알 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 표시 패널용 스페이서 및 표시 패널
KR100807494B1 (ko) * 2004-12-15 2008-02-25 제이에스알 가부시끼가이샤 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널
KR101321838B1 (ko) * 2005-07-20 2013-10-25 가부시키가이샤 아데카 알칼리현상형 감광성 착색조성물
KR100805863B1 (ko) * 2005-09-06 2008-02-21 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물
KR100899410B1 (ko) * 2005-09-08 2009-05-26 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성수지조성물
KR100777561B1 (ko) * 2005-11-24 2007-11-28 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR100740550B1 (ko) * 2006-02-10 2007-07-18 주식회사 코오롱 수지 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물
KR101472429B1 (ko) * 2006-06-01 2014-12-24 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 컬러필터용 레지스트 조성물 및 그 제조방법, 그리고 이를 사용한 컬러필터
KR101117997B1 (ko) * 2007-07-04 2012-02-24 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 착색 감광성 조성물
KR101279614B1 (ko) * 2008-11-12 2013-06-27 주식회사 엘지화학 플루오렌 그룹을 포함하는 알칼리 가용성 수지 중합체와, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR20170112923A (ko) * 2016-03-30 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 네가티브형 감광성 수지 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
JP4437651B2 (ja) 2010-03-24
TWI447523B (zh) 2014-08-01
TW201142502A (en) 2011-12-01
KR101077077B1 (ko) 2011-10-26
TWI351581B (en) 2011-11-01
TW200508799A (en) 2005-03-01
JP2005077451A (ja) 2005-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101077077B1 (ko) 감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터
JP4570999B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4508928B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4489564B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
KR101499566B1 (ko) 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 이것을 이용한 차광막 및 컬러 필터
KR101746607B1 (ko) 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 차광막
JP4290483B2 (ja) ブラックレジスト用感光性樹脂組成物並びにこれを用いて形成された遮光膜
TWI449724B (zh) Alkali-soluble resin and method for producing the same, and a photosensitive resin composition using an alkali-soluble resin
JP4786388B2 (ja) 感光性樹脂組成物の硬化膜を有するカラーフィルター
JP5133658B2 (ja) ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物、それを用いた硬化物及びカラーフィルター
JP2007271987A (ja) ブラックレジスト用感光性樹脂組成物
KR20110109915A (ko) 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물, 및 이것을 이용해서 형성한 표시소자용 격벽, 그리고 표시소자
JP5462773B2 (ja) アルカリ可溶性樹脂及び感光性樹脂組成物
KR101051399B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 컬러필터
KR101360816B1 (ko) 알칼리 가용성 수지 및 그 제조방법, 및 알칼리 가용성수지를 이용한 감광성 수지 조성물, 경화물 및 컬러필터
KR20070115762A (ko) 컬러필터용 레지스트 조성물 및 그 제조방법, 그리고 이를사용한 컬러필터
KR101740229B1 (ko) 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 차광막
JP4508924B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
KR101063702B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 컬러필터
JP5108300B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4833324B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP5073342B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
KR20210038385A (ko) 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물의 제조 방법 및 이것을 경화해서 이루어지는 차광막, 상기 차광막을 갖는 컬러필터 및 터치패널, 상기 컬러필터 및 터치패널을 갖는 표시 장치
JP7345252B2 (ja) 遮光膜用感光性樹脂組成物及びその硬化物、並びに当該硬化物を用いたカラーフィルター及びタッチパネルの製造方法
KR20210083185A (ko) 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 이것을 경화해서 이루어지는 차광막, 상기 차광막을 갖는 컬러 필터 및 터치 패널, 상기 컬러 필터 및 터치 패널을 갖는 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141002

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150917

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160921

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170920

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181004

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191002

Year of fee payment: 9