KR20050021238A - 기판 유지용 척의 세정·건조 장치 및 기판 유지용 척의세정·건조 방법 - Google Patents

기판 유지용 척의 세정·건조 장치 및 기판 유지용 척의세정·건조 방법 Download PDF

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Abstract

복수 장의 웨이퍼(W)를 유지하는 복수의 유지홈(31a)을 줄지어 설치하는 유지 부재(31)(32,33)를 구비하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치에 있어서, 척(30)의 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 N2 가스와 함께 순수를 분사하는 2유체 공급 노즐(50)과, 유지 부재(31)의 측면(31b)을 향해 순수를 분사하는 세정액 공급 노즐(60)과, 2유체 공급 노즐(50) 및 세정액 공급 노즐(60)과, 척(30)의 유지 부재(31)를 상대적으로 유지 부재(31)의 길이 방향을 따르는 수평 방향으로 이동하는 에어 실린더(300)를 구비하고, 에어 실린더(300)의 구동에 의해서 2유체 공급 노즐(50)이 세정액 공급 노즐(60)보다 먼저 N2 가스와 함께 순수를 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사하도록 형성한다. 따라서, 기판 유지용 척의 세정·건조 처리 시간의 단축을 도모하는 동시에, 장치 전체의 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.

Description

기판 유지용 척의 세정·건조 장치 및 기판 유지용 척의 세정·건조 방법{APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING AND DRYING A SUBSTRATE HOLDING CHUCK}
본 발명은 기판 유지용 척의 세정·건조 장치 및 기판 유지용 척의 세정·건조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 복수 장의 예컨대 반도체 웨이퍼 등의 기판을 유지하여 반송하는 종래의 기판 유지용 척은 적어도 기판을 유지하는 하부 유지 부재와, 하부 유지 부재의 양측 기판 근처부를 유지하는 복수의 측부 유지 부재를 구비하고 있고, 각 유지 부재에는 복수의 유지홈이 줄지어 설치되어 있다.
상기한 바와 같이 구성되는 기판 유지용 척을 세정·건조하는 경우, 종래에 있어서는, 일본 특허 공개 제2000-12668호 공보의 특허청구범위, 단락번호 0049, 도 7에 기재한 바와 같이, 세정액 공급 노즐로부터 세정액을 기판 유지용 척의 유지 부재에 분사하는 공정과, 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 유지 부재에 분사하는 공정을, 각 유지 부재, 즉 하부 유지 부재와 2개의 측부 유지 부재마다 반복하여 행하고 있었다
그러나, 종래의 이러한 종류의 세정·건조 장치(방법)에 있어서는, 세정 공정과 건조 공정을 반복하여 행하고, 더구나, 세정액 공급 노즐과 건조 가스 공급 노즐은 분리되어 있으며, 세정액 공급 노즐은 세정액의 공급압에 의존하고 있기 때문에, 기판 유지용 척의 세정·건조 처리에 많은 시간을 요한다고 하는 문제가 있었다. 또한, 기판 유지용 척의 세정·건조 처리에 많은 시간을 요함으로써, 장치 전체의 작업 처리량이 저하된다고 하는 문제도 있었다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 기판 유지용 척의 세정·건조 처리 시간의 단축을 도모하는 동시에, 장치 전체의 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있도록 한 기판 유지용 척의 세정·건조 장치 및 그 방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 복수 장의 기판을 유지하는 복수의 유지홈을 줄지어 설치하는 유지 부재를 구비하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치에 있어서, 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 기체와 함께 세정액을 분사하는 2유체 공급 노즐과, 상기 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐과, 상기 2유체 공급 노즐 및 세정액 공급 노즐과 상기 유지 부재를 상대적으로 상기 유지 부재의 길이 방향을 따르는 방향으로 이동시키는 이동 수단을 구비하며, 상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐이 세정액 공급 노즐보다 먼저 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하도록 한 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 복수 장의 기판을 유지하는 복수의 유지홈을 줄지어 설치하는 유지 부재와 세정액을 분사하는 노즐을 상대적으로 상기 유지 부재의 길이 방향을 따르는 방향으로 이동하여, 상기 유지 부재를 세정 및 건조하는 기판 유지용 척의 세정·건조 방법에 있어서, 세정액 및 기체를 분사하는 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정와, 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐로부터 세정액을 상기 유지 부재의 측면으로 분사하는 측면 세정 공정을 갖는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 기판 유지용 척의 유지 부재의 유지홈을 향해 분사한 후에, 세정액 공급 노즐로부터 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하여, 유지 부재의 유지홈의 세정을 행함으로써, 고압의 세정액에 의해 유지홈을 세정할 수 있고, 유지홈으로부터 유지 부재의 측면에 흐른 예컨대 약액이나 파티클 등의 오염물을 세정액 공급 노즐로부터 유지 부재의 측면으로 분사되는 세정액에 의해 제거(세정)할 수 있다. 따라서, 기판 유지용 척의 유지 부재의 세정 처리를 단시간에 효율적으로 또한 확실하게 세정할 수 있다.
또한, 본 발명은 복수 장의 기판을 유지하는 복수의 유지홈을 줄지어 설치하는 유지 부재를 구비하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치에 있어서, 상기 기판 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 기체와 함께 세정액을 분사하는 2유체 공급 노즐과, 상기 2유체 공급 노즐에의 세정액과 기체의 공급을 선택적으로 전환하는 전환 수단과, 상기 유지 부재의 유지홈 및 측면을 향해 건조 가스를 분사하는 건조 가스 공급 노즐과, 상기 2유체 공급 노즐 및 건조 가스 공급 노즐과 상기 유지 부재를 상대적으로 상기 유지 부재의 길이 방향을 따르는 방향으로 이동시키는 이동 수단과, 상기 전환 수단의 전환 동작 및 상기 이동 수단의 이동을 제어하는 제어 수단을 구비하며, 상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하여 세정을 행한 후, 상기 전환 수단에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 상기 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면으로 분사하여 건조를 행하도록 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하여 세정을 행한 후, 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 유지 부재의 유지홈 및 측면으로 분사하여 건조를 행함으로써, 고압의 세정액에 의해 유지홈을 세정할 수 있고, 건조 처리시에는, 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 분사하는 동시에, 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 분사할 수 있기 때문에, 세정 및 건조 처리를 단시간에 효율적으로 또한 확실하게 세정할 수 있다. 따라서, 장치 전체의 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.
본 발명은 상기 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐을 더 구비하며, 상기 이동 수단은 추가로 상기 세정액 공급 노즐을 이동 가능하게 하고, 상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하고, 상기 세정액 공급 노즐로부터 세정액을 상기 유지 부재의 측면을 향해 분사하여 세정을 행한 후, 상기 전환 수단에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 상기 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면으로 분사하여 건조를 행하도록 한 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 본 발명은 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체를 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 건조 공정과, 건조 가스를 분사하는 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면에 분사하는 건조 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 기판 유지용 척의 유지 부재의 유지홈을 향해 분사한 후에, 세정액 공급 노즐로부터 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하여, 유지 부재의 세정을 행함으로써, 고압의 세정액에 의해 유지홈을 세정할 수 있고, 유지홈으로부터 유지 부재의 측면으로 흐른 예컨대 약액이나 파티클 등의 오염물을 세정액 공급 노즐로부터 유지 부재의 측면으로 분사되는 세정액에 의해 제거(세정)할 수 있다. 또한, 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 유지 부재의 유지홈 및 측면으로 분사하여 건조를 행함으로써, 건조 처리시에는, 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 분사하는 동시에, 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 분사할 수 있다. 따라서, 세정 및 건조 처리를 단시간에 효율적으로 또한 확실하게 세정 및 건조할 수 있고, 장치 전체의 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.
본 발명은 상기 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐과, 상기 유지 부재의 유지홈, 측면 하부 및 기단부를 향해 건조 가스를 분사하는 2차 건조 가스 공급 노즐을 더 구비하며, 상기 이동 수단은 추가로 상기 세정액 공급 노즐 및 2차 건조 가스 공급 노즐을 이동 가능하게 하고, 상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하고, 상기 세정액 공급 노즐로부터 세정액을 유지 부재의 측면을 향해 분사하여 세정을 행한 후, 상기 전환 수단에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 상기 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면으로 분사하고, 또한, 상기 2차 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈, 측면 하부 및 기단부를 향해 분사하여 건조를 행하도록 한 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 본 발명은 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체를 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 건조 공정과, 1차 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면에 분사하는 1차 건조 공정과, 2차 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈, 측면 하부 및 기단부를 향해 분사하는 2차 건조 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 기판 유지용 척의 유지 부재의 유지홈을 향해 분사한 후에, 세정액 공급 노즐로부터 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하여, 유지 부재의 세정을 행함으로써, 고압의 세정액에 의해 유지홈을 세정할 수 있고, 유지홈으로부터 유지 부재의 측면으로 흐른 예컨대 약액이나 파티클 등의 오염물을 세정액 공급 노즐로부터 유지 부재의 측면으로 분사되는 세정액에 의해 제거(세정)할 수 있다. 또한, 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 건조 가스 공급 노즐(1차 건조 가스 공급 노즐)로부터 건조 가스를 유지 부재의 유지홈 및 측면으로 분사하고, 또한, 2차 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 유지 부재의 유지홈, 측면 하부 및 기단부를 향해 분사하여 건조를 행함으로써, 건조 처리를 단시간에 효율적으로 또한 확실하게 세정·및 건조할 수 있어, 장치 전체의 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.
또 본 발명은 상기 각 노즐을 상기 이동 수단에 의한 이동의 왕이동 방향의 선단측에서 기단측을 향해, 2차 건조 가스 공급 노즐, 건조 가스 공급 노즐, 2유체 공급 노즐 및 세정액 공급 노즐의 순으로 배치하여 이루어지는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 이동 수단의 왕이동에 의해 2유체 공급 노즐이 세정액 공급 노즐보다 먼저 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사할 수 있고, 또한, 이동 수단의 복이동에 의해 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 분사하며, 계속해서, 건조 가스 공급 노즐, 2차 건조 가스 공급 노즐의 순으로 건조 가스를 분사하여 건조 처리를 행할 수 있다. 따라서, 이동 수단의 왕복 이동에 의해 기판 유지용 척의 유지 부재의 세정 및 건조 처리를 행할 수 있기 때문에, 추가로 세정·건조 처리를 단시간에 행할 수 있는 동시에, 장치의 소형화 및 신뢰성의 향상을 도모할 수 있다.
또한 본 발명은 상기 2유체 공급 노즐의 외측부에 외기 흡인 통로를 설치하는 동시에, 이 외기 흡인 통로에 이어져 유지 부재의 외측면을 따라 기체를 안내하는 기체 안내 통로를 설치하여 이루어지는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 2유체 공급 노즐로부터 분사되는 세정액 및 기체나 건조에 제공하는 기체의 분사시에, 외기 흡인 통로로부터 도입되는 외기(예컨대 청정 공기)에 의해 유지 부재의 유지홈 및 측면을 따라 세정액 또는 기체가 유속을 빠르게 한 상태로 흐르기 때문에, 세정 및 건조를 효율적으로 행할 수 있는 동시에, 세정액 및 기체의 유효 이용을 도모할 수 있다.
게다가, 본 발명은 상기 2유체 공급 노즐을 상기 유지 부재의 상기 유지홈의 홈 방향에 대하여 경사시켜 배치하여 이루어지는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 세정액 및 기체나 건조에 제공하는 기체를 유지홈의 일단측에서 타단측으로 흐르게 할 수 있기 때문에, 유지홈에 부착되는 오염물의 제거(세정)를 확실하게 할 수 있는 동시에, 유지홈에 부착되는 액적의 제거(건조)를 확실하게 할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 유지 부재는 그 측부에 상기 복수의 기판의 측부에 결합하는 복수의 유지홈을 갖고, 상기 2유체 공급 노즐은 이들 복수의 유지홈에 대향하는 동시에 이들 복수의 유지홈을 향해 기체와 함께 세정액을 분사하는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 기판의 상부와 하부를 유지하는 유지 부재에 관해서도 충분한 세정 건조를 행할 수 있다.
본 발명은 상기 2유체 공급 노즐과 기체 공급원을 접속하는 기체 공급 관로에 전환 수단을 개설하는 동시에, 압력 조정 수단을 개설하고, 상기 제어 수단에 의해 상기 압력 조정 수단의 압력 조정을 제어 가능하게 하고, 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 공급할 때는 상기 압력 조정 수단에 의해서 저압으로 조정된 기체를 상기 전환 수단에 의해서 공급하고, 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 공급할 때는 상기 압력 조정 수단에 의해서 세정액 공급시보다 고압으로 조정된 기체를 공급하도록 한 것을 특징으로 하고 있다.
또한 본 발명은 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정시의 기체의 공급압을 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체를 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 건조 공정시의 기체의 공급압에 대하여 저압 조정 가능하게 하여 세정액 등의 외부로의 비산을 억제하는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 공급할 때는 기체의 공급압을 저압으로 조정함으로써 외부로의 세정액 등의 비산을 억제할 수 있는 동시에, 건조시에는 높은 공급압으로 충분한 건조를 행할 수 있다.
본 발명은 상기 2유체 공급 노즐에 대하여 적어도 상기 유지 부재에의 세정시의 이동 방향측에 형성되고, 유지 부재가 삽입 관통 가능한 양압실과, 상기 양압실내를 향해 기체를 분사하는 기체 분사 노즐과, 상기 기체 분사 노즐과 기체 공급원을 접속하는 관로에 개설되는 전환 수단과, 상기 전환 수단의 전환 동작을 제어하는 제어 수단을 구비하며, 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 동안, 상기 전환 수단에 의해서 상기 기체 공급 노즐로부터 상기 양압실내에 기체를 분사하여 상기 양압실내를 양압 상태로 하도록 한 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 본 발명은 상기 2차 건조 가스 공급 노즐을 포위하는 동시에, 상기 유지 부재가 삽입 관통 가능한 양압실과, 상기 2차 건조 가스 공급 노즐과 건조 가스 공급원을 접속하는 관로에 개설되는 전환 수단과, 상기 전환 수단의 전환 동작을 제어하는 제어 수단을 구비하며, 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 동안, 상기 전환 수단에 의해서 상기 2차 건조 가스 공급 노즐로부터 상기 양압실내에 건조 가스를 분사하여 상기 양압실내를 양압 상태로 하도록 한 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 본 발명은 상기 2유체 공급 노즐에 대하여 적어도 상기 유지 부재에의 세정시의 이동 방향측에 유지 부재가 삽입 관통 가능한 양압실을 형성하고, 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정 동안, 상기 양압실내에 기체를 분사하여 양압실내를 양압 상태로 하여, 세정액 등의 외부에의 비산을 억제하는 것을 특징으로 하고 있다.
따라서, 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정 동안, 적어도 유지 부재에의 세정시의 이동 방향측을 양압 상태로 함으로써 외부에의 세정액 등의 비산을 억제할 수 있다. 따라서, 약액을 포함하는 세정액이 주변부에 비산하여, 주변 기기류 등에 부착되어 부식시키는 것을 방지할 수 있다. 또한, 세정액과 기체의 분사압을 높게 할 수 있기 때문에 세정·건조의 처리 시간을 단축할 수 있다.
이하에, 본 발명의 최량의 실시 형태를 첨부 도면에 기초하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 유지용 척(이하에 척이라 함)의 세정·건조 장치를 적용한 반도체 웨이퍼의 세정 처리 시스템의 일례를 도시한 개략 평면도이다.
상기 세정 처리 시스템은 피처리용 기판, 예컨대 반도체 웨이퍼(W; 이하에 웨이퍼(W)라 함)를 수평 상태로 수납하는 용기, 예컨대 캐리어(1)를 반입·반출하기 위한 반입·반출부(2)와, 웨이퍼(W)를 약액, 세정액 등에 의해 액처리하는 동시에 건조 처리하는 처리부(3)와, 반입·반출부(2)와 처리부(3) 사이에 위치하여 웨이퍼(W)의 교환, 위치 조정, 자세 변환 및 간격 조정 등을 행하는 웨이퍼(W)의 교환부, 예컨대 인터페이스부(4)로 주로 구성되어 있다. 또, 세정 처리 시스템은 클린룸 내에 설치되어 있고, 클린룸의 천장부에서 공급되는 청정 공기의 다운 플로우 분위기 하에 놓여져 있다.
상기 반입·반출부(2)는 세정 처리 시스템의 일측단부에는 캐리어 반입부(5a)와 캐리어 반출부(5b)가 병설되는 동시에, 웨이퍼 반출입부(6)가 설치되어 있다. 이 경우, 캐리어 반입부(5a)와 웨이퍼 반출입부(6) 사이에는 도시하지 않은 반송 기구가 설치되어 있고, 이 반송 기구에 의해 캐리어(1)가 캐리어 반입부(5a)에서 웨이퍼 반출입부(6)로 반송되도록 구성되어 있다.
또한, 상기 처리부(3)에는 인터페이스부(4)와 반대측에서 인터페이스부(4)를 향해 차례로, 웨이퍼(W)에 부착되는 파티클이나 유기 오염 물질을 제거하는 제1 약액 처리조(21a)와 세정액, 예컨대 순수를 오버 플로우하는 제1 수세 처리조(21b)를 구비하는 제1 처리부(21)와, 웨이퍼(W)에 부착되는 금속 오염 물질을 제거하는 제2 약액 처리조(22a)와 세정액, 예컨대 순수를 오버 플로우하는 제2 수세 처리조(22b)를 구비하는 제2 처리부(22)와, 본 발명에 따른 척의 세정·건조 장치(40)를 구비하는 제3 처리부(23)와, 웨이퍼(W)에 부착되는 산화막을 제거하는 동시에 건조 처리를 하는 세정·건조 처리 유닛(24a)을 구비하는 제4 처리부(24)로 구성되어 있다. 또, 제3 처리부(23)는 반드시 제2 처리부(22)와 제4 처리부(24) 사이에 배치하는 경우에 한정되는 것이 아니라, 예컨대 제1 처리부(21)의 외측에 배치하거나 혹은 제4 처리부(24)와 인터페이스부(4) 사이에 배치하여도 좋다.
상기 캐리어(1)는 일측에 도시하지 않은 개구부를 갖고, 내벽에 복수, 예컨대 25장의 웨이퍼(W)를 적절하게 간격을 두고 수평 상태로 유지하는 유지홈(도시하지 않음)을 갖는 용기 본체(도시하지 않음)와, 이 용기 본체의 개구부를 개폐하는 덮개(도시하지 않음)로 구성되어 있고, 후술하는 덮개 개폐 장치(7)에 의해 상기 덮개를 개폐할 수 있도록 구성되어 있다.
상기 웨이퍼 반출입부(6)는 상기 인터페이스부(4)에 개구하고 있고, 그 개구부에는 덮개 개폐 장치(7)가 설치되어 있다. 이 덮개 개폐 장치(7)에 의해 캐리어(1)의 도시하지 않은 덮개가 개방 혹은 폐색되도록 되어 있다. 따라서, 웨이퍼 반출입부(6)에 반송된 처리되지 않은 웨이퍼(W)를 수납하는 캐리어(1)의 덮개를 덮개 개폐 장치(7)에 의해 개방하여 캐리어(1)내의 웨이퍼(W)를 반출 가능하게 하고, 모든 웨이퍼(W)가 반출된 후, 다시 덮개 개폐 장치(7)에 의해 상기 덮개를 폐색할 수 있다. 또한, 상기 캐리어 대기부에서 웨이퍼 반출입부(6)로 반송된 빈 캐리어(1)의 덮개를 덮개 개폐 장치(7)에 의해 개방하여 캐리어(1)내로의 웨이퍼(W)의 반입을 가능하게 하고, 모든 웨이퍼(W)가 반입된 후, 다시 덮개 개폐 장치(7)에 의해 덮개를 폐색할 수 있다. 또, 웨이퍼 반출입부(6)의 개구부 근방에는 캐리어(1)내에 수용된 웨이퍼(W)의 매수를 검출하는 맵핑 센서(8)가 설치되어 있다.
상기 인터페이스부(4)에는 복수 장, 예컨대 25장의 웨이퍼(W)를 수평 상태로 유지하는 동시에 웨이퍼 반출입부(6)의 캐리어(1)와의 사이에서 수평 상태로 웨이퍼(W)를 교환하는 웨이퍼 반송 아암(9)과, 복수 장, 예컨대 50장의 웨이퍼(W)를 소정 간격을 두고 수직 상태로 유지하는 후술하는 간격 조정 수단, 예컨대 피치 체인저(도시하지 않음)와, 웨이퍼 반송 아암(9)과 피치 체이져 사이에 위치하여 복수 장, 예컨대 25장의 웨이퍼(W)를 수평 상태에서 수직 상태로 혹은 수직 상태에서 수평 상태로 변환하는 자세 변환 장치(10)와, 수직 상태로 변환된 웨이퍼(W)에 설치된 노치(도시하지 않음)를 검출하는 위치 검출 수단, 예컨대 노치 얼라이너(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 또한, 인터페이스부(4)에는 처리부(3)와 이어지는 반송로(11)가 설치되어 있고, 이 반송로(11)에는 웨이퍼(W)를 유지하여 반송로(11)상을 반송하며, 상기 제1, 제2 및 제4 처리부(21, 22, 24)의 제1 약액조(21a), 제1 수세조(21b), 제2 약액조(22a), 제2 수세조(22b) 및 세정·건조 처리 유닛(24a) 중 어느 하나에 웨이퍼(W)를 교환하기 위한, 본 발명에 있어서의 척(30)이 이동 자유자재로 설치되어 있다.
이 경우, 상기 척(30)은 웨이퍼(W)의 하부를 유지하는 하부 유지 부재(31)와, 하부 유지 부재(31)의 양측 웨이퍼(W) 근처부를 유지하는 한 쌍의 측부 유지 부재(32, 33)를 구비하여 이루어진다. 이 경우, 각 유지 부재(31, 32, 33)에는 복수, 예컨대 50개의 유지홈(31a, 32a, 33a)이 줄지어 설치되어 있다. 또한, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기부측에는, 예컨대 원판형의 비산 방지판(34)이 길이 방향과 직교하도록 장착되어 있고, 척 세정시에 척 구동부측에 세정액인 순수(DIW)가 비산하여 부착되는 것을 방지하고 있다. 또한, 양 측부 유지 부재(32, 33)는 웨이퍼(W)를 유지하지 않는 경우에는, 하부 유지 부재(31)와 동일한 수평면상에 위치하고, 웨이퍼(W)를 유지하는 경우에는, 상방측에 원호형의 궤적을 그리며 변위하여 웨이퍼(W)의 하부 양측을 유지할 수 있도록 구성되어 있다. 또, 각 유지 부재(31, 32, 33)는 내식성 및 내약품성이 우수한 부재, 예컨대 폴리에테르에테르케톤(PEEK)이나 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE) 등의 수지로써 형성되어 있다.
이와 같이 구성되는 척(30)은 처리되지 않은 1로트, 예컨대 50장의 웨이퍼(W)를 피칭 체인저로부터 수취하여 처리부(3)로 반송하고, 처리부(3)에서 적절하게 처리가 행해진 처리를 끝낸 1로트, 예컨대 50장의 웨이퍼(W)를 피치 체인저로 교환하도록 구성되어 있다. 이 경우, 다음 로트의 웨이퍼(W)를 처리부(3)에 투입할 때, 이하와 같은 제어가 행해지고 있다.
예컨대, 웨이퍼(W)의 처리에 있어서, 약액조(21a)에 우선 1번째 로트를 투입한다. 그 후, 약액조(21a)의 로트가 반출되면, 즉시 2번째 로트가 약액조(21a)에 반입된다. 약액조(21a, 22a)에서의 오버 에칭을 막기 위해서, 척(30)을 다음에 종료하는 약액조(21a, 22a)상에서 대기시키도록 제어한다. 또한, 약액 처리 종료 시간과 수세 처리 종료 시간 또는 웨이퍼(W)의 건조 처리 종료 시간이 중복되는 경우는, 종료 직전에 약액의 처리 시간을 체크하여, 약액조(21a, 22a)로부터의 웨이퍼(W)의 반출을 우선하도록 제어한다. 또한, 약액조(21a, 22a)와 수세조(21b, 22b)를 1군이라고 생각하고, 1군에는 하나의 로트밖에 반입되지 않도록 제어하여도 좋다. 이 제어에 의해 약액 처리 후의 수세조(21b, 22b)가 반드시 비어 있게 되어, 오버 에칭을 막을 수 있다.
다음에, 본 발명에 관한 척의 세정·건조 장치(40)에 대해서, 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
◎ 제1 실시형태
도 2는 본 발명에 따른 척의 세정·건조 장치(40)의 제1 실시형태를 도시하는 개략 단면도, 도 3은 제1 실시형태에 있어서의 세정·건조 노즐과 척을 도시하는 개략 사시도이다.
상기 척의 세정·건조 장치(40)는 도 2, 도 3, 도 4a, 도 4b, 도 5a∼도 5c에 도시한 바와 같이, 세정액, 예컨대 순수 및 기체, 예컨대 질소(N2) 가스를 유지 부재(31, 32, 33; 이하에 하부 유지 부재(31)로 대표함)의 유지홈(31a)을 향해 분사하는 2유체 공급 노즐(50)과, 세정액인 순수(DIW)를 유지 부재(31)의 측면(31b)을 향해 분사하는 세정액 공급 노즐(60)과, 건조 가스, 예컨대 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a) 및 측면(31b)을 향해 분사하는 1차 건조 가스 공급 노즐(70)과, 건조 가스인 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a), 측면 하부(31c) 및 기단부, 즉 비산 방지판(34)을 향해 분사하는 2차 건조 가스 공급 노즐(80)을 구비하고 있다. 또, 기체를 N2 가스 대신에 청정 공기로 하여도 좋다.
이 경우, 2유체 공급 노즐(50)은 도 4a에 도시한 바와 같이, 유지 부재(31)의 유지홈(31a)의 상측에 위치하는 노즐 구멍(51)과 연통하는 N2 가스 유통로(52)와 순수 유통로(53)를 합류하는 통로를 가지며, 순수 유통로(53)에는 제1 개폐 밸브(V1)를 통해 순수(DIW)의 공급원(90; 이하에 순수 공급원(90)이라 함)이 접속되어 있다. 또한, N2 가스 유통로(52)에는 제2 개폐 밸브(V2)를 통해 N2 가스 공급원(91)이 접속되어 있다. 이들 제1 개폐 밸브(V1)와 제2 개폐 밸브(V2)로 전환 수단이 구성되어 있고, 이들 제1 및 제2 개폐 밸브(V1, V2)를 후술하는 제어 수단, 예컨대 CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초하여 개폐 제어함으로써, 2유체 공급 노즐(50)로부터 순수(DIW) 및 N2 가스, 또는, DIW만 혹은 N2 가스만이 선택적으로 전환되어 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사되도록 되어 있다. 또, 이 경우, 제1 개폐 밸브(V1)와 제2 개폐 밸브(V2) 대신에 순수(DIW)와 N2 가스의 유통과 N2 가스만의 유통을 선택적으로 전환하는 전환 밸브를 이용하여도 좋다.
이와 같이 구성되는 2유체 공급 노즐(50)에 따르면, 기체, 예컨대 N2 가스와 함께 세정액, 예컨대 순수(DIW)를 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사할 수 있기 때문에, 순수(DIW)만을 공급하는 경우에 비하여 분사압을 높일 수 있고, 유지홈(31a)에 부착되는 약액이나 파티클 등의 오염물을 확실하게 제거(세정)할 수 있다.
또, 상기한 바와 같이 구성되는 2유체 공급 노즐(50) 대신에, 도 6에 도시한 바와 같이, 2유체 공급 노즐(50)의 외측부에 외기 흡인 통로(54)를 설치하는 동시에, 이 외기 흡인 통로(54)에 이어져 유지 부재(31)의 외측면(31b)을 따라 기체를 안내하는 기체 안내 통로(55)를 설치함으로써, 2유체 공급 노즐(50)로부터 분사되는 순수(DIW) 및 N2 가스나 N2 가스의 분사시에, 외기 흡인 통로(54)로부터 도입되는 외기(예컨대 다운 플로우 DF의 청정 공기)에 의해 유지 부재(31)의 유지홈(31a) 및 측면(31b)을 따라 순수(DIW)나 N2 가스가 유속을 빠르게 한 상태로 흐르기 때문에, 세정 및 건조를 효율적으로 행할 수 있는 동시에, 순수(DIW) 및 N2 가스의 유효 이용을 도모할 수 있다.
또한, 상기 2유체 공급 노즐(50)을, 도 7에 도시한 바와 같이, 유지 부재(31)의 유지홈(31a)의 홈 방향에 대하여 경사시켜 배치하여도 좋다. 이에 따라, 순수(DIW)나 N2 가스를 유지홈(31a)의 일단측에서 타단측으로 흐르게 할 수 있기 때문에, 추가로 유지홈(31a)에 부착되는 오염물의 제거(세정)를 확실하게 할 수 있는 동시에, 유지홈(31a)에 부착되는 액적의 제거(건조)를 확실하게 할 수 있다.
상기 세정액 공급 노즐(60)은 도 4b에 도시한 바와 같이, 유지 부재(31)를 포위하는 거의 아치형의 노즐체(61)와, 이 노즐체(61)를 구성하는 수평부(62)와 양 각부(63)에 설치되는 순수 연통로(64)와, 각 각부(63)에 있어서의 순수 연통로(64)에 연통하는 2개의 노즐 구멍(65)을 구비하고 있다. 이와 같이 구성되는 세정액 공급 노즐(60)은 제3 개폐 밸브(V3)를 통해 순수 공급원(90)에 접속되어 있고, 순수 공급원(90)으로부터 공급되는 순수(DIW)를 노즐 구멍(65)으로부터 유지 부재(31)의 양측면(31b)을 향해 분사하도록 되어 있다.
상기 1차 건조 가스 공급 노즐(70)은 도 5b에 도시한 바와 같이, 세정액 공급 노즐(60)과 같이, 유지 부재(31)를 포위하는 거의 아치형의 노즐체(71)와, 이 노즐체(71)를 구성하는 수평부(72)와 양 각부(73)에 설치되는 N2 가스 연통로(74)와, 수평부(72)에 있어서의 N2 가스 연통로(74)에 연통하는 3개의 유지홈 분사 노즐 구멍(75)과, 양 각부(73)에 있어서의 N2 가스 연통로(74)에 각각 연통하는 2개의 측면 분사 노즐 구멍(76)과, 수평부(72)에 있어서의 N2 가스 연통로(74)의 일측부에 연통하는 N2 가스 공급구(77)를 구비하고 있다.
이와 같이 구성되는 1차 건조 가스 공급 노즐(70)은 N2 가스 공급구(77)에 제4 개폐 밸브(V4)를 통해 N2 가스 공급원(91)이 접속되어 있고, N2 가스 공급원(91)으로부터 공급되는 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a) 및 양측면(31b)을 향해 분사하도록 되어 있다.
또한, 상기 2차 건조 가스 공급 노즐(80)은 도 5c에 도시한 바와 같이, 1차 건조 가스 공급 노즐(70)보다 약간 크게 형성되고, 유지 부재(31) 및 비산 방지판(34)을 포위하는 거의 아치형의 노즐체(81)와, 이 노즐체(81)를 구성하는 수평부(82)와 양 각부(83)에 설치되는 N2 가스 연통로(84)와, 수평부(82)에 있어서의 N2 가스 연통로(84)에 연통하는 5개의 유지홈 분사 노즐 구멍(85)과, 양 각부(83)에 있어서의 N2 가스 연통로(84)에 각각 연통하는 2개의 측면 하부 분사 노즐 구멍(86)과, 수평부(82)에 있어서의 N2 가스 연통로(84)의 일측부에 연통하는 N2 가스 공급구(87)를 구비하고 있다.
이와 같이 구성되는 2차 건조 가스 공급 노즐(80)은 N2 가스 공급구(87)에 제5 개폐 밸브(V5)를 통해 N2 가스 공급원(91)이 접속되어 있고, N2 가스 공급원(91)으로부터 공급되는 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a), 양측면 하부(31c) 및 유지 부재(31)의 기단부의 비산 방지판(34)을 향해 분사하도록 되어 있다. 이 경우, 2차 건조 가스 공급 노즐(80)에 설치되는 유지홈 분사 노즐 구멍(85)과 측면 하부 분사 노즐 구멍(86)의 수는 1차 건조 가스 공급 노즐(70)에 설치되는 유지홈 분사 노즐 구멍(75)과 측면 분사 노즐 구멍(76)의 수(5개)보다 많은 7개이기 때문에, 1차 건조 가스 공급 노즐(70)로부터 분사되는 N2 가스의 분사압보다 약한 분사압으로 N2 가스를 분사하여, 1차 건조 가스 공급 노즐(70)에 의해 1차 건조된 유지홈(31a) 및 측면(31b)에 되도록이면 세정액(순수(DIW))을 재부착시키지 않도록 하여 마무리 건조를 행할 수 있다.
상기 제1 내지 제5 개폐 밸브(V1∼V5)는 에어 오퍼레이션 밸브로써 형성되어 있고, 각각 제어 수단인 CPU(100)에 전기적으로 접속되며, CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초하여 개폐 제어되도록 되어 있다. 또, 제1 개폐 밸브(V1)와 제2 개폐 밸브(V2)로 전환 수단이 구성되어 있다.
또한, 상기 2유체 공급 노즐(50), 세정액 공급 노즐(60), 1차 건조 가스 공급 노즐(70) 및 2차 건조 가스 공급 노즐(80)은 노즐 박스(200)내에 배치되어 있다.
이 경우, 노즐 박스(200)의 하부에는 하단이 개구하는 커버부가 연장되어 있고, 이 커버부에 의해서 세정·건조시의 세정액 등이 측방 주변부에 비산하는 것을 억제하고 있다. 이 노즐 박스(200)는 이동 수단, 예컨대 에어 실린더(300)의 가동부(301)에 연결되어, 상기 유지 부재(31)의 길이 방향을 따르는 수평 방향으로 왕복 이동할 수 있도록 구성되어 있다. 이 경우, 에어 실린더(300)에 의한 이동의 왕이동 방향{유지 부재(31)의 선단측에서 기단측으로의 이동 방향}의 선단측에서 기단측을 향해, 2차 건조 가스 공급 노즐(80), 1차 건조 가스 공급 노즐(70), 2유체 공급 노즐(50) 및 세정액 공급 노즐(60)의 순으로 배치되어 있다. 이와 같이, 에어 실린더(300)에 의한 이동의 왕이동 방향{유지 부재(31)의 선단측에서 기단측으로의 이동 방향}의 선단측에서 기단측을 향해, 2차 건조 가스 공급 노즐(80), 1차 건조 가스 공급 노즐(70), 2유체 공급 노즐(50) 및 세정액 공급 노즐(60)의 순으로 배치함으로써, 장치의 소형화 및 신뢰성의 향상이 도모되고, 또한, 에어 실린더(300)에 의해 노즐 박스(200)를 왕복 이동시켜 유지 부재(31)의 세정 및 건조 처리를 효율적으로 행할 수 있다. 즉, 노즐 박스(200)의 왕이동시에, 2유체 공급 노즐(50)로부터 N2 가스와 함께 순수(DIW)를 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사하여 유지홈(31a)을 세정한 후, 세정액 공급 노즐(60)로부터 순수(DIW)를 유지 부재(31)의 양측면(31b)을 향해 분사하여 유지 부재(31)의 세정을 행할 수 있다. 또한, 노즐 박스(200)의 복이동시에, 2유체 공급 노즐(50)로부터 N2 가스만을 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사하는 동시에, 1차 건조 가스 공급 노즐(70)로부터 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a) 및 양 측면(31b)을 향해 분사하고, 또한, 2차 건조 가스 공급 노즐(80)로부터 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a), 측면 하부(31c) 및 기단부의 비산 방지판(34)을 향해 분사하여 유지 부재(31)의 건조를 행할 수 있다.
또, 에어 실린더(300)의 양단부에는 포트 A와 포트 B가 설치되어 있고, 이들 포트 A, B에는 4포트 3위치 전환 밸브(92) 및 유량 제어 밸브(93)를 통해 공기 공급원(94)이 접속되어 있다. 이 경우, 4포트 3위치 전환 밸브(92)와 유량 제어 밸브(93)는 CPU(100)에 전기적으로 접속되어 있고, CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초하여 왕이동 전환 위치(92A), 복이동 전환 위치(92B) 및 중립(정지) 위치(92C)로 전환 가능 및 공기의 공급량이 제어 가능하게 형성되어 있다.
이와 같이 구성함으로써, 4포트 3위치 전환 밸브(92)가 왕이동 전환 위치(92A)로 전환되면, 공기 공급원(94)으로부터 공급되는 공기가 에어 실린더(300)의 포트 A에 공급되는 동시에, 에어 실린더(300)내의 공기가 포트 B를 통해 배기되고, 노즐 박스(200)가 유지 부재(31)의 선단측에서 기단측으로 이동(왕이동)한다. 또한, 4포트 3위치 전환 밸브(92)가 복이동 전환 위치(92B)로 전환되면, 공기 공급원(94)으로부터 공급되는 공기가 에어 실린더(300)의 포트 B에 공급되는 동시에, 에어 실린더(300)내의 공기가 포트 A를 통해 배기되고, 노즐 박스(200)가 유지 부재(31)의 기단측에서 선단측으로 이동(복이동)한다.
다음에, 척(30)의 세정·건조 처리의 동작 형태에 대해서, 도 4a, 도 4b, 도 5a∼도 5c를 참조하여 설명한다.
우선, 노즐 박스(200)를 유지 부재(31)의 선단 외방측에 대기 위치시킨 상태에서, 4포트 3위치 전환 밸브(92)가 왕이동 전환 위치(92A)로 전환되어, 노즐 박스(200)가 유지 부재(31)의 선단측에서 기단측의 방향(Y축 - 방향)으로 이동(왕이동)한다. 이 때, CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초하여 제1 및 제2 개폐 밸브(V1, V2)가 개방되고, 2유체 공급 노즐(50)로부터 기체, 즉 N2 가스와 함께 순수(DIW)가 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사되어 유지홈(31a)에 부착되는 약액이나 파티클 등의 오염물이 제거된다(유지홈 세정 공정). 한편, 세정액 공급 노즐(60)로부터 순수(DIW)가 유지 부재(31)의 측면(31b)으로 분사되어, 유지홈(31a)에서 측면(31b)으로 유출한 오염물을 제거(세정)한다(측면 세정 공정). 이 세정 처리(유지홈 세정 공정 및 측면 세정 공정)는 유지 부재(31)의 선단에서 기단까지의 예컨대 300 ㎜의 범위에 걸쳐 예컨대 6 sec(초) 행해진다.
상기한 바와 같이 하여, 세정 처리(유지홈 세정 공정 및 측면 세정 공정)가 종료된 후, CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초하여 4포트 3위치 전환 밸브(92)가 중립 전환 위치(92C)로 전환되어 노즐 박스(200)의 이동이 정지되는 동시에, 제1 및 제3 개폐 밸브(V1, V3)가 폐쇄되는 한편, 제4 및 제5 개폐 밸브(V4, V5)가 개방된다. 이에 따라, 2차 건조 가스 공급 노즐(80)의 유지홈 분사 노즐 구멍(85) 및 측면 하부 분사 노즐 구멍(86)으로부터 분사되는 N2 가스에 의해 비산 방지판(34)에 부착되는 액적이 제거(건조)된다.
그리고, 정지하고 나서 소정 시간, 예컨대 2 sec(초) 후에, CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초하여 4포트 3위치 전환 밸브(92)가 복이동 전환 위치(92B)로 전환되어, 노즐 박스(200)가 유지 부재(31)의 기단측에서 선단측의 방향(Y축 + 방향)으로 이동(복이동)한다. 이 때, 2유체 공급 노즐(50)로부터 N2 가스만을 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사하여 건조하고(유지홈 건조 공정), 다음에, 1차 건조 가스 공급 노즐(70)로부터 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a) 및 측면(31b)을 향해 분사하여 건조하며(1차 건조 공정), 계속해서, 2차 건조 가스 공급 노즐(80)로부터 1차 건조 가스 공급 노즐(70)보다 약한 분사압의 N2 가스를 유지 부재(31)의 유지홈(31a), 측면 하부(31c) 및 기단부를 향해 분사하여 건조(2차 건조 공정)를 행함으로써, 건조 처리를 단시간에 효율적으로 또한 확실하게 세정 및 건조할 수 있고, 장치 전체의 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다. 따라서, 종래와 같이 세정액 공급 노즐과 건조 가스 공급 노즐을 분리하여 세정 및 건조 처리를 행하는 것에 비하여 단시간에 세정 및 건조 처리를 행할 수 있다.
◎ 제2 실시형태
도 8은 본 발명에 따른 척의 세정·건조 장치의 제2 실시형태를 도시하는 개략 단면도이다.
제2 실시형태는 세정 처리시(유지홈 세정 공정)에 있어서의 세정액 등이 주변부에 비산하여, 주변 기기류 등에 부착함으로써, 주변 기기류 등을 부식시키는 것을 방지하도록 한 경우이다.
즉, 제2 실시형태의 척의 세정·건조 장치(40A)는 도 8에 도시한 바와 같이, 2유체 공급 노즐(50)과 기체 공급원인 N2 가스 공급원(91)을 접속하는 기체 공급 관로(95)에 전환 수단인 개폐 밸브(V2)(제1 실시형태에 있어서의 제2 개폐 밸브)를 개설하는 동시에, 이 개폐 밸브(V2)의 일차측에 제1 압력 조정 수단인 제1 조절기(R1)를 개설하고, 기체 공급 관로(95)에 있어서의 개폐 밸브(V2)의 일차측 및 이차측에 접속하는 분기 관로(96)에 보조 전환 수단인 개폐 밸브(V6)(제6 개폐 밸브)를 개설하는 동시에, 개폐 밸브(V6)의 일차측에 제2 압력 조정 수단인 제2 조절기(R2)를 개설하여 이루어진다. 또한, 개폐 밸브(V2, V6)와 조절기(R1, R2)는 각각 제어 수단인 CPU(100)와 전기적으로 접속되어 있고, CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초로 하여 개폐 밸브(V2, V6)의 개폐 동작의 제어와 조절기(R1, R2)의 압력 조정이 제어되도록 되어 있다.
상기한 바와 같이 구성함으로써, 유지홈 세정 공정에서 2유체 공급 노즐(50)로부터 기체(예컨대 N2 가스)와 함께 세정액(예컨대 순수)을 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사할 때에는, 개폐 밸브(V2)를 폐쇄하고 개폐 밸브(V6)를 개방하는 동시에, 조절기(R2)의 압력 조정에 의해 N2 가스의 공급압을 저압으로 조정(예컨대 0.2 MPa)하고, N2 가스와 함께 순수(DIW)를 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사할 수 있다. 또한, 유지홈 건조 공정에서는, 개폐 밸브(V6)를 폐쇄하고 개폐 밸브(V2)를 개방하는 동시에, 조절기(R1)의 압력 조정에 의해 N2 가스의 공급압을 고압으로 조정(예컨대 0.35 MPa)하고, N2 가스만을 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사할 수 있다.
따라서, 제2 실시형태에 따르면 유지홈 세정 공정에서 N2 가스와 순수(DIW)의 분사압을 저감할 수 있기 때문에 외부에 세정액 등이 비산하는 것을 억제하여, 건조시에 있어 충분한 공급압으로 건조할 수 있다.
또, 제2 실시형태에 있어서 그 밖의 부분은 제1 실시형태와 동일하기 때문에 동일 부분에는 동일 부호를 붙이고, 설명은 생략한다.
또, 상기 설명에서는 기체 공급 관로(95)에 제1 조절기(R1)를 개설하고, 분기 관로(96)에 제2 조절기(R2)를 개설하며, 이들 조절기(R1, R2)를 CPU(100)에 의해서 제어하는 경우에 관해서 설명했지만, 반드시 이와 같이 구성할 필요는 없다. 예컨대, 상기 분기 관로(96)와 제2 조절기(R2)를 이용하지 않고서, 상기 제1 조절기(R1)를 예컨대 전공 조절기로써 형성하는 동시에, CPU(100)에 의해서 제어 가능하게 함으로써 상기와 같이 유지홈 세정 공정에서 N2 가스와 순수(DIW)의 분사압을 저감할 수 있기 때문에 외부에 세정액 등이 비산하는 것을 억제하여, 건조시에 있어 충분한 공급압으로 건조할 수 있다.
◎ 제3 실시형태
도 9는 본 발명에 따른 척의 세정·건조 장치의 제3 실시형태를 도시하는 개략 단면도, 도 l0은 제3 실시형태에 있어서의 유지홈 세정 상태를 도시하는 개략 단면도이다.
제3 실시형태는 세정 처리시(유지홈 세정 공정)에 있어서의 세정액 등이 주변부에 비산하는 것을 억제하여, 주변 기기류 등이 부식되는 것을 방지하며, 또한, 세정·건조 처리 시간을 단축하여 처리 효율의 향상을 도모할 수 있도록 한 경우이다.
즉, 제3 실시형태는 2유체 공급 노즐(50)에 대하여 적어도 척(30)의 유지 부재(31, 32, 33)(이하에 부호 31로 대표함)에의 세정시의 이동 방향측에 유지 부재(31)가 삽입 관통 가능한 양압실(400)을 형성하고, 2유체 공급 노즐(50)로부터 기체(N2가스)와 함께 세정액(예컨대 순수)을 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정 동안, 양압실(400)내에 N2 가스를 분사하여 양압실(400)내를 양압 상태로 하여, 세정액 등의 외부에의 비산을 억제하는 동시에, N2 가스와 순수의 분사압을 높여 세정·건조의 처리 시간의 단축을 도모할 수 있도록 한 경우이다.
이 경우, 상기 양압실(400)은 도 9 및 도 10에 도시한 바와 같이, 상기 2차 건조 가스 공급 노즐(80)을 포위하는 동시에, 척(30)의 유지 부재(31)가 삽입 관통 가능한 삽입 관통구(401)가 설치된다. 또한, 2차 건조 가스 공급 노즐(80)과 건조 가스 공급원인 N2 가스 공급원(91)을 접속하는 관로(97)에는 전환 수단인 개폐 밸브(V5)(제1 실시형태에 있어서의 제5 개폐 밸브)가 개설되어 있다. 이 개폐 밸브(V5)는 CPU(100)와 전기적으로 접속되어 있고, CPU(100)로부터의 제어 신호에 기초로 하여 전환 동작하고, 2유체 공급 노즐(50)로부터 N2 가스와 함께 순수(DIW)를 유지 부재(31)의 유지홈(31a)을 향해 분사하는 동안, 개폐 밸브(V5)에 의해서 2차 건조 가스 공급 노즐(80)로부터 양압실(400)내에 N2 가스를 분사하여 양압실(400)내를 양압 상태로 하도록 형성되어 있다.
상기한 바와 같이 구성함으로써 유지홈 세정 공정 동안, 개폐 밸브(V5)가 개방하고, 2차 건조 가스 공급 노즐(80)로부터 양압실(400)내에 N2 가스가 분사되어 양압실(400)내가 양압 상태, 즉, 양압실(400)을 삽입 관통하는 유지 부재(31)와 양압실(400)과의 간극에 소위 에어 커튼이 형성된다. 이에 따라, 2유체 공급 노즐(50)로부터 분사되는 N2 가스와 순수(DIW)의 외부에의 비산이 억제된다. 따라서, 세정액 등이 외부에 비산하여 외부의 주변 기기류 등에 부착되어, 이들 주변 기기류 등이 부식되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 세정액 등의 외부에의 비산이 억제할 수 있기 때문에 N2 가스와 순수(DIW)의 분사압을 높일 수 있으며, 또한, 건조시에는 이차 건조 공급 노즐(80)로부터 N2 가스를 분사하기 때문에 세정·건조의 처리 시간의 단축을 도모할 수 있다.
또, 상기 설명에서는 2차 건조 가스 공급 노즐(80)의 부위에 양압실(400)을 형성한 경우에 관해서 설명했지만, 양압실(400)은 반드시 2차 건조 가스 공급 노즐(80)의 부위에 형성할 필요는 없고, 예컨대 1차 건조 가스 공급 노즐(70)의 부위에 형성하더라도 좋고, 혹은, 이들 노즐(70, 80)과는 별도로 형성하여, 별도로 설치된 기체 공급 노즐로부터 양압실(400)내에 기체 예컨대 N2 가스를 분사하여, 양압실(400)내를 양압 상태로 하더라도 좋다.
또한, 상기 설명에서는 양압실(400)이 노즐 박스(200)의 유지 부재(31)에의 이동 방향측에 설치되는 경우에 관해서 설명했지만, 노즐 박스(200)의 반대측에도 마찬가지로 양압실(400)과 기체 공급 노즐을 설치하도록 하더라도 좋다.
또, 제3 실시형태에 있어서 그 밖의 부분은 제1 실시형태와 동일하기 때문에 동일 부분에는 동일 부호를 붙이고, 설명은 생략한다.
◎ 제4 실시형태
도 11은 본 발명에 따른 척의 세정·건조 장치의 제4 실시형태를 도시하는 개략 단면도, 도 12는 제4 실시형태에 있어서의 유지홈 세정 상태를 도시하는 개략 단면도이다.
상기 실시형태에서는 척(30)이 웨이퍼(W)의 하부를 유지하는 하부 유지 부재(31)와, 하부 유지 부재(31)의 양측의 웨이퍼(W)의 근처부를 유지하는 한 쌍의 측부 유지 부재(32, 33)의 3개의 유지 부재를 구비하는 경우에 관해서 설명했지만, 웨이퍼(W)의 상부와 하부를 유지하는 한 쌍의 유지 부재를 구비하는 척에 있어서도 상기와 같이 하여 세정·건조를 행할 수 있다.
즉, 척(30A)이 도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이 웨이퍼(W)의 상부를 유지하는 상부 유지홈(34a, 35a)과 하부를 유지하는 하부 유지홈(34b, 35b)을 갖는 한 쌍의 유지 부재(34, 35)를 구비하는 경우에 있어서도 상기와 같이 하여 세정·건조를 행할 수 있다.
제4 실시형태에 있어서는 2유체 공급 노즐(50A)은 유지 부재(34, 35)의 상부 유지홈(34a, 35a)과 하부 유지홈(34b, 35b)을 향해 N2 가스와 순수(DIW)를 분사하도록 2개 설치된다. 또한, 제4 실시형태에 있어서 세정액 공급 노즐(60), 1차 건조 가스 공급 노즐(70) 및 2차 건조 가스 공급 노즐(80)은 제1 실시형태와 같이 순수(DIW), N2 가스를 분사하도록 형성되어 있다.
또, 제4 실시형태에 있어서 그 밖의 부분은 제1 실시형태와 동일하기 때문에 동일 부분에는 동일 부호를 붙이고, 설명은 생략한다.
또, 제4 실시형태에 있어서도 제2 실시형태나 제3 실시형태와 같이 형성할 수 있는 것은 물론이다.
상기 실시형태에서는 척(30)의 유지 부재(31)에 대하여 2유체 공급 노즐(50), 세정액 공급 노즐(60), 이차 및 2차 건조 가스 공급 노즐(70, 80)을 배치하는 노즐 박스(200)를 이동시켜, 세정·건조 처리를 하는 경우에 관해서 설명했지만, 노즐 박스(200)를 고정하여, 유지 부재(31)를 이 유지 부재(31)의 길이 방향을 따르는 수평 방향으로 왕복 이동시키더라도 좋고, 혹은, 유지 부재(31)와 노즐 박스(200)의 쌍방을 상대적으로 유지 부재(31)의 길이 방향을 따르는 수평 방향으로 왕복 이동시켜도 좋다.
또한, 상기 실시형태에서는 본 발명에 따른 척의 세정·건조 장치(방법)를 반도체 웨이퍼의 유지용 척의 세정·건조 장치(방법)에 적용한 경우에 관해서 설명했지만, 반도체 웨이퍼 이외의 기판 예컨대 LCD용 유리 기판에도 적용할 수 있는 것은 물론이다. 또한, 본 발명에 따른 척의 세정·건조 장치는 상기 실시형태에서 설명한 바와 같은 반도체 웨이퍼의 세정·건조 처리 시스템에 적용되고, 이 시스템의 일부로서 사용되는 경우에 한정되지 않고, 단독의 장치로서도 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 기판 유지용 척의 세정·건조 장치 및 그 방법에 의하면, 기판 유지용 척의 세정·건조 처리 시간의 단축을 도모하는 동시에, 장치 전체의 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.
도 l은 본 발명에 따른 기판 유지용 척의 세정·건조 장치를 적용한 반도체 웨이퍼의 세정처리 시스템의 일례를 도시하는 개략 평면도.
도 2는 상기 기판 유지용 척의 세정·건조 장치의 제1 실시형태를 도시하는 개략 구성도.
도 3은 제1 실시형태에 있어서의 세정·건조 노즐과 척을 도시하는 개략 사시도.
도 4a는 본 발명에 있어서의 2유체 공급 노즐의 세정 상태를 도시하는 단면도.
도 4b는 본 발명에 있어서의 세정액 공급 노즐의 세정 상태를 도시하는 단면도.
도 5a는 본 발명에 있어서의 2유체 공급 노즐의 건조 상태를 도시하는 단면도.
도 5b는 본 발명에 있어서의 1차 건조 가스 공급 노즐의 건조 상태를 도시하는 단면도.
도 5c는 본 발명에 있어서의 2차 건조 가스 공급 노즐의 건조 상태를 도시하는 단면도.
도 6은 상기 2유체 공급 노즐의 다른 형태를 도시하는 단면도.
도 7은 상기 2유체 공급 노즐의 또 다른 형태를 도시하는 단면도.
도 8은 본 발명에 따른 기판 유지용 척의 세정·건조 장치의 제2 실시형태를 도시하는 개략 구성도.
도 9는 본 발명에 따른 기판 유지용 척의 세정·건조 장치의 제3 실시형태를 도시하는 개략 구성도.
도 10은 제3 실시형태에 있어서의 유지홈 세정 상태를 도시하는 개략 단면도.
도 11은 본 발명에 따른 기판 유지용 척의 세정. 건조 장치의 제4 실시형태를 도시하는 개략 구성도.
도 12는 제4 실시형태에 있어서의 유지홈 세정 상태를 도시하는 개략 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
30, 30A : 기판 유지용 척
31 : 하부 유지 부재
31a : 유지홈
31b : 측면
31c : 측면 하부
32, 33 : 측부 유지 부재
32a, 33a : 유지홈
34, 35 : 유지 부재
34a, 35a : 상부 유지홈
34b, 35b : 하부 유지홈
50 : 2유체 공급 노즐
54 : 외기 흡인 통로
55 : 기체 안내 통로
60 : 세정액 공급 노즐
70 : 1차 건조 가스 공급 노즐
80 : 2차 건조 가스 공급 노즐
90 : 순수 공급원
91 : N2 가스 공급원
92 : 4포트 3위치 전환 밸브
93 : 공기 공급원
95 : N2 가스 공급 관로(기체 공급 관로)
96 : 분기 관로
97 : 관로
100 : CPU(제어 수단)
300 : 에어 실린더(이동 수단)
400 : 양압실
401 : 삽입 관통구
V1 : 제1 개폐 밸브(전환 수단)
V2 : 제2 개폐 밸브(전환 수단)
V3 : 제3 개폐 밸브
V4 : 제4 개폐 밸브
V5 : 제5 개폐 밸브
W : 반도체 웨이퍼(기판)

Claims (16)

  1. 복수 장의 기판을 유지하는 복수의 유지홈을 줄지어 설치하는 유지 부재를 구비하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치에 있어서,
    상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 기체와 함께 세정액을 분사하는 2유체 공급 노즐과,
    상기 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐과,
    상기 2유체 공급 노즐 및 상기 세정액 공급 노즐과 상기 유지 부재를 상대적으로 상기 유지 부재의 길이 방향을 따르는 방향으로 이동시키는 이동 수단
    을 구비하며,
    상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐이 상기 세정액 공급 노즐보다 먼저 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하도록 한 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치
  2. 복수 장의 기판을 유지하는 복수의 유지홈을 줄지어 설치하는 유지 부재를 구비하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치에 있어서,
    상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 기체와 함께 세정액을 분사하는 2유체 공급 노즐과,
    상기 2유체 공급 노즐에의 세정액과 기체의 공급을 선택적으로 전환하는 전환 수단과,
    상기 유지 부재의 유지홈 및 측면을 향해 건조 가스를 분사하는 건조 가스 공급 노즐과,
    상기 2유체 공급 노즐 및 건조 가스 공급 노즐과 상기 유지 부재를 상대적으로 상기 유지 부재의 길이 방향을 따르는 방향으로 이동시키는 이동 수단과,
    상기 전환 수단의 전환 동작 및 상기 이동 수단의 이동을 제어하는 제어 수단
    을 구비하며,
    상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하여 세정을 행한 후, 상기 전환 수단에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 상기 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면으로 분사하여 건조를 행하도록 한 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐을 더 구비하며,
    상기 이동 수단은 추가로 상기 세정액 공급 노즐을 이동 가능하게 하고,
    상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하고, 상기 세정액 공급 노즐로부터 세정액을 상기 유지 부재의 측면을 향해 분사하여 세정을 행한 후, 상기 전환 수단에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 상기 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면에 분사하여 건조를 행하도록 한 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐과,
    상기 유지 부재의 상기 유지홈, 측면 하부 및 기단부를 향해 건조 가스를 분사하는 2차 건조 가스 공급 노즐을 더 구비하며,
    상기 이동 수단은 추가로 상기 세정액 공급 노즐 및 2차 건조 가스 공급 노즐을 이동 가능하게 하고,
    상기 이동 수단의 구동에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하고, 상기 세정액 공급 노즐로부터 세정액을 상기 유지 부재의 측면을 향해 분사하여 세정을 행한 후, 상기 전환 수단에 의해 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 동시에, 상기 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면으로 분사하고, 또한, 상기 2차 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈, 측면 하부 및 기단부를 향해 분사하여 건조를 행하도록 한 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 각 노즐을 상기 이동 수단에 의한 이동의 왕이동 방향의 선단측에서 기단측을 향해, 2차 건조 가스 공급 노즐, 건조 가스 공급 노즐, 2유체 공급 노즐 및 세정액 공급 노즐의 순으로 배치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐의 외측부에 외기 흡인 통로를 설치하는 동시에, 이 외기 흡인 통로에 이어져 상기 유지 부재의 외측면을 따라 기체를 안내하는 기체 안내 통로를 설치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐을 상기 유지 부재의 상기 유지홈의 홈 방향에 대하여 경사시켜 배치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유지 부재는 그 측부에 상기 복수의 기판의 측부에 결합하는 복수의 유지홈을 갖고, 상기 2유체 공급 노즐은 이들 복수의 유지홈에 대향하는 동시에 이들 복수의 유지홈을 향해 기체와 함께 세정액을 분사하는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  9. 제2항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐과 기체 공급원을 접속하는 기체 공급 관로에 전환 수단을 개설하는 동시에, 압력 조정 수단을 개설하고,
    상기 제어 수단에 의해 상기 압력 조정 수단의 압력 조정을 제어 가능하게 하고,
    상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 공급할 때는 상기 압력 조정 수단에 의해서 저압으로 조정된 기체를 상기 전환 수단에 의해서 공급하고, 2유체 공급 노즐로부터 기체만을 공급할 때는 상기 압력 조정 수단에 의해서 세정액 공급시보다 고압으로 조정된 기체를 공급하도록 한 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐에 대하여 적어도 상기 유지 부재에의 세정시의 이동 방향측에 형성되고, 유지 부재가 삽입 관통 가능한 양압실과,
    상기 양압실내를 향해 기체를 분사하는 기체 분사 노즐과,
    상기 기체 분사 노즐과 기체 공급원을 접속하는 관로에 개설되는 전환 수단과,
    상기 전환 수단의 전환 동작을 제어하는 제어 수단을 구비하며,
    상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 동안, 상기 전환 수단에 의해서 상기 기체 공급 노즐로부터 상기 양압실내에 기체를 분사하여 상기 양압실내를 양압 상태로 하도록 한 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  11. 제4항에 있어서, 상기 2차 건조 가스 공급 노즐을 포위하는 동시에, 상기 유지 부재가 삽입 관통 가능한 양압실과,
    상기 2차 건조 가스 공급 노즐과 건조 가스 공급원을 접속하는 관로에 개설되는 전환 수단과,
    상기 전환 수단의 전환 동작을 제어하는 제어 수단을 구비하며,
    상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 동안, 상기 전환 수단에 의해서 상기 2차 건조 가스 공급 노즐로부터 상기 양압실내에 건조 가스를 분사하여 양압실내를 양압 상태로 하도록 한 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 장치.
  12. 복수 장의 기판을 유지하는 복수의 유지홈을 줄지어 설치하는 유지 부재와 세정액을 분사하는 노즐을 상대적으로 상기 유지 부재의 길이 방향을 따르는 방향으로 이동하여, 상기 유지 부재를 세정 및 건조하는 기판 유지용 척의 세정·건조 방법에 있어서,
    세정액 및 기체를 분사하는 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정과,
    세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐로부터 세정액을 상기 유지 부재의 측면으로 분사하는 측면 세정 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체를 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 건조 공정과,
    건조 가스를 분사하는 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면으로 분사하는 건조 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체를 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 건조 공정과,
    1차 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈 및 측면으로 분사하는 1차 건조 공정과,
    2차 건조 가스 공급 노즐로부터 건조 가스를 상기 유지 부재의 상기 유지홈, 측면 하부 및 기단부를 향해 분사하는 2차 건조 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정시의 기체의 공급압을 상기 2유체 공급 노즐로부터 기체를 상기 유지 부재의 상기 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 건조 공정시의 기체의 공급압에 대하여 저압 조정 가능하게 하여 세정액 등의 외부에의 비산을 억제하는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 방법.
  16. 제12항에 있어서, 상기 2유체 공급 노즐에 대하여 적어도 상기 유지 부재에의 세정시의 이동 방향측에 유지 부재가 삽입 관통 가능한 양압실을 형성하고,
    상기 2유체 공급 노즐로부터 기체와 함께 세정액을 상기 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하는 유지홈 세정 공정 동안, 상기 양압실내에 기체를 분사하여 양압실내를 양압 상태로 하여 세정액 등의 외부에의 비산을 억제하는 것을 특징으로 하는 기판 유지용 척의 세정·건조 방법.
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