CN116344387A - 初始端口和用于处理基板的装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及初始端口和用于处理基板的装置。提供了一种初始端口，在该初始端口中将处理液供应到基板的喷嘴等待。该初始端口包括：排出杯状件；壳体，该壳体被设置成覆盖该排出杯状件并且具有排出由处理液产生的烟气的排放空间；以及插入体，该插入体设置在该壳体的上壁与该壳体中的排出杯状件之间。将烟气引导至该排放空间的第一排放通道在该插入体与该排出杯状件之间形成，并且将烟气引导至该排放空间的第二排放通道在该插入体与该壳体之间形成。

Description

初始端口和用于处理基板的装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2021年12月24日提交韩国知识产权局的、申请号为10-2021-0186759的韩国专利申请的优先权和权益，其全部内容通过引用结合在本申请中。

技术领域

本发明涉及一种用于处理基板的装置，更特别地涉及一种初始端口(home port)，在该初始端口中喷嘴将处理液供应到基板，并且涉及一种包括该初始端口的用于处理基板的装置。

背景技术

半导体工艺包括清洁薄膜、异物和颗粒等的工艺。这些工艺通过以下来执行：将基板放置在旋转头上，使得图案侧面向上或向下，在旋转旋转头的情况下将处理液供应至基板，然后干燥晶圆。

将向晶圆供应处理液的喷嘴安装在支承构件上，并且该支承构件被设置成通过驱动器在等待位置与工艺位置之间移动。等待位置是喷嘴在供应处理液之前等待的位置，并且工艺位置是当用处理液处理基板时放置喷嘴的位置。通常，为了防止处理液的飞溅，在杯状件内对基板进行处理，并且喷嘴在杯状件的一侧处的初始端口位置等待。在喷嘴移动到初始端口并等待的情况下，处理液从喷嘴喷射到初始端口中，以防止处理液在喷嘴中固化。进一步地，在喷嘴长时间等待并随后移动到工艺位置时，处理液首先从初始端口喷射，使得处理液能够向晶圆平滑地喷射。

图1为示意性地示出了一般的初始端口900的结构的图示。

参考图1，初始端口900具有排出杯状件(drain cup)920和壳体940。排出杯状件920具有上部开口的容纳空间922，并且排出端口924形成在排出杯状件920的底部上。壳体940被设置成覆盖排出杯状件920的侧部和上部。壳体940的下壁上形成排放端口944。由喷嘴964将处理液喷射到排出杯状件920的容纳空间922而产生的烟气和由残留在排出杯状件920内的处理液而产生的烟气被引入到在排出杯状件920与壳体940之间形成的排放空间942内，并且随后通过与排放端口924连接的排放管线980而被排放到壳体940的外部。

排出杯状件920的上端926与壳体940的上壁946之间的间隙设置为排放通道P，排出杯状件920中的烟气在该排放通道中流动。通常，排放通道P如图1中所示是窄的。结果，如图2所示，当由处理液产生大量的烟气时，烟气不能通过排放通道P平稳地排泄，而是附着到喷嘴962的外表面，并且随后当喷嘴962移动到工艺位置时，烟气成为污染晶圆的污染源。

进一步地，也可以在支承臂964上安装多个喷嘴962，可以从喷嘴962的一个喷嘴供应酸性液体，并且可以从另一个喷嘴喷射碱性液体。在这种情况下，同时产生了酸性烟气和碱性烟气。酸性烟气和碱性烟气彼此反应，从而在喷嘴962的表面上产生碱。

发明内容

本发明致力于提供一种能够平稳地排出由处理液产生的烟气的初始端口以及一种用于处理基板的装置，该装置包括该初始端口。

本发明也致力于提供一种用于处理基板的装置，该装置在喷嘴在初始端口等待的情况下防止喷嘴被污染。

本发明所要解决的问题不限于上述问题，并且本领域技术人员将从本说明书和附图清楚地理解未提及的问题。

本发明的示例性实施方案提供一种用于处理基板的装置。根据示例性实施方案，用于处理基板的装置包括：处理单元，该处理单元被配置成对基板进行液体处理；初始端口，该初始端口设置在处理单元的外部；以及喷嘴单元，该喷嘴单元用于向定位在该处理单元中的基板供应处理液，并且该喷嘴单元具有喷嘴，该喷嘴被设置成在该处理单元对该基板进行液体处理的工艺位置与在该初始端口中等待的等待位置之间是可移动的，其中，该初始端口具有排出杯状件和壳体，该排出杯状件具有容纳从该喷嘴喷射的处理液的容纳空间，该壳体被设置成覆盖排出杯状件并且具有排放由该处理液产生的烟气的排放空间，在该初始端口中设置有第一排放通道和第二排放通道，由该排出杯状件中的该处理液产生的烟气通过该第一排放通道和该第二排放通道流到该排放空间，并且该第二排放通道定位在该第一排放通道的上方。

根据实施例，第一排放通道可以在邻近排出杯状件的位置处、设置在排出杯状件的上方。

根据实施例，壳体可以具有上壁，在该上壁中形成有入口，该入口设置在排出杯状件的上方并且从喷嘴单元喷射的处理液被引入，并且第二排放通道可以在邻近上壁的位置处、设置在上壁的下方。

根据实施例，第一排放通道和/或第二排放通道可以被设置成环形状。

根据实施例，该初始端口还可以包括插入体，该插入体具有在竖直方向上穿透的贯通孔，该插入体可以具有定位成与该壳体的内壁间隔开的本体，该本体可以设置在高于该排出杯状件并且低于该壳体的上壁的位置处，该本体与该排出杯状件之间的第一间隙可以设置为第一排放通道，并且该本体与该壳体的上壁之间的第二间隙可以设置为第二排放通道。

根据实施例，壳体可以包括：下本体，该下本体覆盖排出杯状件的侧部和下部；以及上本体，该上本体定位在下本体的上方，插入体还可以包括支承基部以及连接本体和支承基部的连接杆，下本体的上端可以定位成高于排出杯状件的上端，支承基部的底部可以由下本体支承，上本体可以由支承基部支承，通过第二排放通道排出的烟气可以被设置成通过连接杆之间的空间流到排放空间。

根据实施例，本体在竖直方向上的长度可以被设置成大于第一间隙和第二间隙。

根据实施例，通过第一排放通道排放的烟气和通过第二排放通道排放的烟气可以通过同一排放空间排放。

根据实施例，排放管可以连接到排放空间，减压构件安装在该排放管中，并且从第一排放通道直到排放管的排放路径可以被设置成比从第二排放通道直到排放管的排放路径更短。

根据实施例，该排放空间可以包括第一排放空间和第二排放空间，该壳体还可以包括内壳体和外壳体，该内壳体被设置成覆盖该排出杯状件，并且具有来自该排出杯状件的第一排放空间，该外壳体被设置成覆盖该内壳体，并且具有来自该内壳体的第二排放空间，流过该第一排放通道的烟气可以连接到该第一排放空间，并且该第二排放通道可以连接到该第二排放空间。

根据实施例，该初始端口还可以包括插入体，该插入体具有在竖直方向上穿透的贯通孔，该插入体可以具有本体，该本体可以设置在高于该排出杯状件并且低于该外壳体的上壁的位置处，该本体与该排出杯状件之间的第一间隙可以设置为该第一排放通道，并且该本体与该外壳体的上壁之间的第二间隙可以设置为该第二排放通道。

根据实施例，该内壳体的上端可以定位在高于该排出杯状件的上端的位置处，并且该本体的下端可以由该内壳体的上端支承。

根据实施例，第一排放管可以连接到第一排放空间，第二排放管可以连接到第二排放空间，第一排放管和第二排放管可以连接到集成式排放管，减压构件可以安装在集成式排放管中。

根据实施例，喷嘴单元可以包括基部块和联接到基部块并具有喷嘴的多个喷嘴构件，多个喷嘴构件可以在一个方向上成排地(in line)联接到基部块，并且当喷嘴单元定位在壳体和排出杯状件中的每一者中的等待位置处时，从喷嘴喷射的处理液所通过的入口的纵向方向可以被设置成平行于布置喷嘴的方向。

本发明的另一个示例性实施方案提供了一种初始端口，在该初始端口中将处理液供应到基板的喷嘴等待。初始端口包括：排出杯状件，该排出杯状件具有容纳从喷嘴喷射的处理液的容纳空间；壳体，该壳体被设置成覆盖该排出杯状件，并且具有将由该处理液产生的烟气排放的排放空间；以及插入体，该插入体设置在壳体的上壁与壳体内的排出杯状件之间，其中，将烟气引导到排放空间的第一排放通道形成在插入体与排出杯状件之间，将烟气引导到排放空间的第二排放通道形成在插入体与壳体之间，第二排放通道设置在高于第一排放通道的位置处，并且从喷嘴单元喷射的处理液通过在上壁上形成的入口和在插入体中形成的贯通孔被引入到排出杯状件中。

根据实施例，第一排放通道和第二排放通道中的每一者可以被设置成环形状，壳体可以在低于排出杯状件的上端的位置处连接到排放空间，并且排放管可以连接到排放空间，减压构件安装在在该排放管中。

根据实施例，第一排放通道和第二排放通道可以被设置成将烟气引导到同一排放空间。

根据实施例，排放管可以连接到排放空间，减压构件安装在该排放管中，并且从第一排放通道直到排放管的排放路径可以被设置成比从第二排放通道直到排放管的排放路径更短。

根据实施例，壳体可以包括：下本体，该下本体覆盖排出杯状件的侧部和下部；以及上本体，该上本体定位在下本体的上方，插入体还可以包括支承基部以及连接本体和支承基部的连接杆，下本体的上端可以定位成高于排出杯状件的上端，支承基部的底部可以由下本体支承，上本体可以由支承基部支承，通过第二排放通道排出的烟气可以被设置成通过连接杆之间的空间流到排放空间。

此外，本发明的又一示例性实施方案提供了一种用于处理基板的装置，该装置包括：处理单元，该处理单元被配置成对基板进行液体处理；初始端口，该初始端口设置在处理单元的外部；以及喷嘴单元，该喷嘴单元向定位在该处理单元中的基板供应处理液，该喷嘴单元具有喷嘴，该喷嘴被设置成在该处理单元对该基板进行液体处理的工艺位置与在该初始端口中等待的等待位置之间是可移动的，其中该初始端口包括：排出杯状件，该排出杯状件具有容纳从该喷嘴喷射的该处理液的容纳空间；壳体，该壳体被设置成覆盖该排出杯状件并且具有排放由该处理液产生的烟气的排放空间；以及插入体，该插入体设置在该壳体的上壁与该壳体内的排出杯状件之间，将烟气引导至该排放空间的第一排放通道在该插入体与该排出杯状件之间形成，将烟气引导至该排放空间的第二排放通道在该插入体与该壳体之间形成，该第二排放通道设置在高于该第一排放通道的位置处，并且排放管连接到排放空间，减压构件安装在该排放管中，并且从该第一排放通道直至该排放管的排放路径被设置成比从该第二排放通道直至该排放管的排放路径更短。

根据本发明的示例性实施方案，当喷嘴在初始端口中等待时，由处理液产生的烟气能够从初始端口平稳地排泄，从而防止喷嘴由于烟气而被污染。

本发明的效果不限于上述效果，并且本领域技术人员将从本说明书和附图中清楚地理解未提及的效果。

附图说明

图1为示意性地示出了一般的初始端口的结构的图示。

图2为示意性地示出了烟气从图1的初始端口排泄的状态的图示。

图3为示意性地示出了根据本发明的示例性实施方案的用于处理基板的装置的平面图。

图4为示意性地示出了图2中的液体处理腔室的示例性实施方案的视图。

图5为示意性地示出了根据本发明的示例性实施方案的喷嘴单元的实施例的图示。

图6为示意性地示出了图4的初始端口的示例性实施方案的截面图。

图7为图6的初始端口的分解立体图。

图8为示出了烟气从图6的初始端口排泄的状态的图示。

图9为示意性地示出了图6的初始端口的修改实施例的图示。

图10为示意性地示出了图6的初始端口的另一示例性实施方案的截面图。

图11为图10的初始端口的分解立体图。

图12和图13的每一者为示意性地示出了图10的初始端口的修改实施例的图示。

图14为示出了烟气从图10的初始端口排泄的状态的图示。

图15为示意性地示出了图6的初始端口的又一示例性实施方案的分解立体图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图更加详细地描述本发明的示例性实施方案。可以以各种形式修改本发明的示例性实施方案，并且不应将本发明的范围解释为限于下述的实施方案。提供示例性实施方案以向本领域的技术人员更完整地描述本发明。因此，为了强调更清楚的描述，夸大了图中的元件的形状。

图3为示意性地示出了根据本发明的示例性实施方案的用于处理基板的装置的平面图。

参考图3，基板处理装置包括索引模块10、处理模块20和控制器30。根据实施例性实施方案，索引模块10和处理模块20可以沿一个方向设置。在下文中，设置索引模块10和处理模块20的方向将被称为第一方向92，当从顶部观察时垂直于第一方向92的方向将被称为第二方向94，并且与第一方向92和第二方向94二者都垂直的方向将被称为第三方向96。

索引模块10将基板W从储存基板W的容器80传送到处理模块20，并且将处理完成的基板W储存在容器80中。索引模块10的纵向方向被设置为第二方向94。索引模块10具有装载端口12和索引框架14。装载端口12基于索引框架14定位在处理模块20的相对侧处。储存基板W的容器80被放置在装载端口12中。可以设置多个装载端口12，且多个装载端口12可以沿第二方向94布置。

诸如前开式晶圆传送盒(front opening unified pod，FOUP)等密封容器可以作为容器80使用。容器80可以通过诸如高架(overhead)传送机、高架运输机或自动引导车辆等输送装置(未示出)，或者由工人而被放置在装载端口12上。

索引机械手120设置在索引框架14中。纵向方向被设置为第二方向14的导轨140可以设置在索引框架14中，并且索引机械手120可以被设置成在导轨140上是可移动的。索引机械手120可以包括手部122，基板W放置在该手部中，并且手部122可以被设置成向前向后可移动、以第三方向96作为轴线可旋转、且沿第三方向96可移动。多个手部122可以被设置成在竖直方向上彼此间隔开，并且手部122可以彼此独立地向前和向后移动。

处理模块20包括缓冲单元200、传送腔室300和处理腔室400。缓冲单元200提供了装载入处理模块20中的基板W和从处理模块20中卸载的基板W暂时停留的空间。处理腔室400执行将液体供应到基板W上并对基板W进行液体处理的处理工艺。传送腔室300在缓冲单元200与液体处理腔室400之间传送基板W。

传送腔室300的纵向方向可以设置为第一方向92。缓冲单元200可以布置在索引模块10与传送腔室300之间。可以设置多个液体处理腔室400，并且这些液体处理腔室布置在传送腔室300的侧部处。液体处理腔室400和传送腔室300可以沿第二方向94布置。缓冲单元200可以定位在传送腔室300的一端处。

根据实施例，液体处理腔室400分别布置在传送腔室300的两侧处。液体处理腔室400可以分别在第一方向92和第三方向96上在传送腔室300的两侧、以A×B阵列(A和B中的每一者均是1或大于1的自然数)进行设置。

传送腔室300具有传送机械手320。纵向方向被设置为第一方向92的导轨340可以设置在传送腔室300中，并且传送机械手320可以被设置成在导轨340上是可移动的。传送机械手320可以包括手部322，基板W放置在该手部上，并且手部322可以被设置成向前和向后可移动的、以第三方向96为轴线可旋转的、并且沿第三方向96可移动的。多个手部322可以被设置成在竖直方向上彼此间隔开，并且手部322可以彼此独立地向前和向后移动。

缓冲单元200包括多个缓冲区220，基板W放置在该多个缓冲区上。缓冲区220可以布置成沿第三方向96彼此间隔开。缓冲单元200的前面和后面是敞开的。前面是面向索引模块10的面，而后面是面向传送腔室300的面。索引机械手120可以通过前面触及缓冲单元200，并且传送机械手320可以通过后面触及缓冲单元200。

图4为示意性地示出了图3的液体处理腔室400的示例性实施方案的图示。参考图4，液体处理腔室400包括处理单元401、喷嘴单元460和初始端口490。处理单元401具有壳体410、杯状件420、支承单元440和升降单元480。

壳体410被设置成大致长方体(rectangular parallelepiped)形状。杯状件420、喷嘴单元460和初始端口490被布置在壳体410内部。

杯状件420具有上部开口的处理空间，并且在处理空间内对基板W进行液体处理。支承单元440在处理空间中支承基板W。液体供应单元460可以将液体供应至支承在支承单元440上的基板W。可以提供多种类型的液体，并且这些液体被顺序地供应到基板W上。升降单元480调节杯状件420与支承单元440之间的相对高度。

根据实施例，杯状件420具有多个回收罐422、424和426。回收罐422、424和426中的每一者具有回收用于处理基板的液体的回收空间。回收罐422、424和426中的每一者被设置成覆盖支承单元440的环形状。当进行液体处理工艺时，由基板W的旋转而溅射出的处理液通过相应回收罐422、424和426的入口422a、424a和426a而被引入到回收空间中。根据实施例，杯状件420具有第一回收罐422、第二回收罐424和第三回收罐426。第一回收罐422被布置成覆盖支承单元440，第二回收罐424被布置成覆盖第一回收罐422，且第三回收罐426被布置成覆盖第二回收罐424。用于将液体引入第二回收罐424的第二入口424a可以定位在用于将液体引入第一回收罐422的第一入口422a的上方，并且用于将液体引入第三回收罐426的第三入口426a可以定位在第二入口424a的上方。

支承单元440具有支承板442和驱动轴444。支承板442的上表面可以被设置成基本上圆形的形状，并且比基板W具有更大的直径。支承基板W的后面的支承销442a可以设置在支承板442的中心处，并且支承销442a被设置成其上端从支承板442突出，使得基板W与支承板442间隔开预定距离。卡盘销442b设置在支承板442的边缘处。卡盘销442b被设置成从支承板442向上突起，并且支承基板W的侧部，使得基板W不会与支承单元440分离。驱动轴444由驱动器446驱动，并且连接到基板W的底部中心，并且围绕中心轴线旋转支承板442。

升降单元480在竖直方向上移动杯状件420。杯状件420与基板W之间的相对高度通过杯状件420的竖直运动而改变。结果，由于回收处理液的回收罐422、424和426根据由基板W供应的液体的类型而改变，因此液体可以被分离和回收。与以上描述不同，杯状件420可以被固定地安装，并且升降单元480可以在竖直方向上移动支承单元440。

图5为示意性地示出了喷嘴单元的示例性实施方案的图示。喷嘴单元460可以将处理液供应至基板。

参照图5，喷嘴单元460包括基部块462、多个喷嘴构件464、驱动轴468和驱动器469。基部块462具有大致长方体形状。多个喷嘴构件464固定地联接到基部块462。根据实施例，第一喷嘴构件464a、第二喷嘴构件464b和第三喷嘴构件464c可以安装在基部块462上。第一喷嘴构件464a、第二喷嘴构件464b和第三喷嘴构件464c供应不同的处理液。根据实施例，第一喷嘴构件464a、第二喷嘴构件464b和第三喷嘴构件464c可以喷射具有类似特性的液体。例如，第一喷嘴构件464a、第二喷嘴构件464b和第三喷嘴构件464c可以喷射具有酸成分的液体。任选地，第一喷嘴构件464a和第二喷嘴构件464b可以喷射具有酸成分的液体，并且第三喷嘴构件464c可以喷射水。例如，第一喷嘴构件464a可以喷射硫酸，第二喷嘴构件464b可以喷射氢氟酸，并且第三喷嘴构件464c可以喷射水。任选地，第一喷嘴构件464a、第二喷嘴构件464b和第三喷嘴构件464c可以喷射具有不同性质的液体。例如，第一喷嘴构件464a可以喷射具有酸成分的液体，第二喷嘴构件464b可以喷射具有碱成分的液体，并且第三喷嘴构件464c可以喷射水。

第一喷嘴构件464a、第二喷嘴构件464b和第三喷嘴构件464c可以被设置成相同的形状。在下文中，将描述第一喷嘴构件464a的结构。

第一喷嘴构件464a具有支承臂466和喷嘴467。支承臂466具有水平杆单元466a和竖直杆单元466b。水平杆单元466a在水平方向上从基部块462的前面延伸到地面。竖直杆单元466b从水平杆单元466a的端部向下延伸。竖直杆单元466b和水平杆单元466a的连接部分可以被设置成圆化形状。喷嘴467安装在竖直杆单元466b的下端上。处理液供应管465连接到基部块462的后面。在处理液供应管465中安装有阀465a。在支承臂466中形成流动路径(未示出)，在该流动路径中通过处理液供应管465供应处理液。基部块462由驱动轴468支承，并且驱动器469联接到驱动轴468。驱动器469通过驱动轴468在竖直方向上移动，并且进一步地，使驱动轴468基于中心轴线旋转。喷嘴467通过驱动轴468的旋转在工艺位置与等待位置之间移动。在工艺位置处，喷嘴467将处理液喷射到支承在支承单元上的基板以对基板执行液体处理。在不对基板进行液体处理时，喷嘴467在等待位置处等待。

在喷嘴467定位在等待位置处的情况下，执行自动分配操作和预分配操作。自动分配操作是当喷嘴467在等待位置处等待很长时间时以预定时间间隔喷射处理液的操作。处理液通过自动分配操作来防止在喷嘴单元460中固化。预分配操作是在从喷嘴467向基板喷射处理液之前在等待位置处预先喷射处理液的操作。在通过预分配操作将处理液喷射到基板的时候，处理液被平稳地喷射。

初始端口490设置在杯状件420的外部。当从顶部观察时，喷嘴468的等待位置与初始端口490重叠。图6为示意性地示出了图4的初始端口的示例性实施方案的截面图，以及图7为图6的初始端口的分解立体图。

参考图6和图7，初始端口490具有排出杯状件1200和壳体1400。排出杯状件1200具有上部敞开的容纳空间1202。排出杯状件1200的上区域可以比下区域设置在更宽范围内。当从顶部观察时，排出杯状件1200的上区域在一个方向上的长度较长。当喷嘴单元460定位在等待位置处时，排出杯状件1200的纵向方向被设置成平行于喷嘴构件464的布置方向。

排出端口1204可以形成在容纳空间1202的底部上，并且排出管1206可以连接到排出端口1204。在排出管1206中安装有开/闭阀1206a。从喷嘴467喷射的处理液在自动分配或预分配期间容纳在排出杯状件1200的容纳空间1202中，然后通过排出管1206排泄到排出杯状件1200的外部。

壳体1400定位成覆盖排出杯状件1200。根据实施例，壳体1400被设置成完全覆盖排出杯状件1200的上部、下部和侧部。在壳体1400的下壁1426上形成有排放端口1402，排放管1404与排放端口1402连接。减压构件1406和阀1404a安装在排放管1404中。泵可以用作减压构件1406。结果，在壳体1400中提供负压以排放壳体1400内部的气氛。

壳体1400包括下本体1420、上本体1440和插入体1460。

下本体1420覆盖排出杯状件1200的下部和侧部。下本体1420具有侧壁1422和下壁1424。当从顶部观察时，下本体1420的侧壁1422可以被设置成大于排出杯状件1200的尺寸并且被设置成与排出杯状件1200类似的形状。在排出杯状件1200和下本体1420之间设置的分离空间用作排放空间1428。排放端口1402可以形成在下本体1420的下壁1424上。由残留在排出杯状件1200的容纳空间1202中的处理液产生的烟气通过将在下面描述的第一排放通道1620流动到排放空间1428，然后排放到排放管1404。下本体1420中的侧壁1422的上端定位成高于排出杯状件1200的上端。

上本体1440定位在下本体1420的上方。上本体1440具有侧壁1442和上壁1444。当从顶部观察时，上本体1440的侧壁1442具有与下本体1420的侧壁1422对应的尺寸和形状。入口1444a形成在上本体1440的上壁1444上。从喷嘴单元460喷射的处理液通过入口1444a被引入到排出杯状件1200的容纳空间1202中。

插入体1460定位在排出杯状件1200的上方。插入体1460在壳体1400中提供第一排放通道1620和第二排放通道1640。插入体1460定位在上本体1440的上壁1444与排出杯状件1200的上端之间。插入体1460在竖直方向上与上本体1440的上壁1444间隔开。插入体1460也在竖直方向上与排出杯状件1200的上端间隔开。在插入体1460的下端与排出杯状件1200的上端之间设置的第一间隙用作第一排放通道1620，并且在插入体1460的上端与上本体1440的上壁1444之间设置的第二间隙用作第二排放通道1640。第一间隙被设置成环形状。进一步地，第二间隙被设置成环形状。第一间隙和第二间隙可以以相同的尺寸设置。

第一间隙和第二间隙可以以不同的尺寸设置。第一间隙的尺寸和第二间隙的尺寸被设置成彼此不同，以改变通过第一排放通道排放的烟气量和通过第二排放通道排放的烟气量中的每一者。

插入体1460具有支承基部1470和本体1480。支承基部1470具有环形状。当从顶部观察时，支承基部1470具有与下本体1420的侧壁1422对应的尺寸和形状。支承基部1470定位在上本体1440的侧壁1442与下本体1420的侧壁1422之间。例如，支承基部1470设置在下本体1420的侧壁1422的上端上，并且上本体1440的侧壁1442设置在支承基部1470的上端上。

本体1480在竖直方向上的长度被设置成比第一间隙和第二间隙更长。本体1480具有侧壁1482、上壁1484和下壁1486。本体1480的侧壁1482具有环形状。本体1480的侧壁1482可以被设置为无孔的阻挡面。当从顶部观察时，本体1482的侧壁1480可以具有与排出杯状件1200对应的尺寸和形状。

多个孔1486a形成在本体1480的下壁1486上。孔1486a可以以与设置在喷嘴单元460中的喷嘴467的数量相同的数量设置。当从顶部观察时，在喷嘴单元460定位在等待位置处的状态下，每个孔1486设置在与每个喷嘴467重叠的位置处。在本体1480的上壁1484上形成开口1484a。

可以在上本体1440的上壁1444上的形成的入口1444a的尺寸和形状内设置在本体1480的上壁1484上形成的开口1484a的尺寸和形状。进一步地，当从顶部观察时，在本体1480的上壁1484上形成的开口1484a被定位成与在上本体1440的上壁1444上形成的入口1444a重叠。在本体1480的上壁1484上形成的开口1484a和本体1480的下壁1486的孔1486a用作贯通孔，从喷嘴467喷射的处理液通过该贯通孔。

本体1480通过连接杆1490支承在支承基部1470上。根据实施例，支承基部1470被定位在与本体1480的下壁1420相同的高度处。多个连接杆1490沿支承基部1470的圆周设置。连接杆1490被定位成彼此间隔开。相邻连接杆1490之间的分离空间1492设置为通道，通过第二排放通道1640排放的烟气在该通道中朝向排放管1404流动。

在上述的结构中，第一排放通道1620被定位在比第二排放通道1640低的高度处。第一排放通道1620被定位成比第二排放通道1640更靠近排出杯状件1200。进一步地，第二排放通道1640被定位成比第一排放通道1620更靠近上本体1440的上壁。从第一排放通道1620到排放管1404的排放路径被设置成比从第二排放通道1640到排放管1404的排放路径更短。

图8示出了从图6的初始端口排泄烟气的状态。

当喷嘴单元460被定位在等待位置处时，在预分配或自动分配操作期间从喷嘴467喷射处理液。喷嘴467的喷射端被定位成高于初始端口490。喷嘴467的喷射端467a可以定位在上本体1440的上壁1444附近。在图8中，示出了处理液同时从所有喷嘴467喷射。然而，与此不同，处理液可以仅从多个喷嘴467中的选定喷嘴467喷射。

处理液通过在上本体1440的上壁1444上的形成的入口1444a、在本体1480的上壁1484上形成的开口1484a、以及在本体1480的下壁1486上形成的孔1486a向下滴落，并且容纳在排出杯状件1200的容纳空间1202中。容纳在容纳空间1202中的处理液通过排出管1206排放到容纳空间1202的外部。当处理液包括酸成分或碱成分时，在处理液残留在容纳空间1202中的情况下由处理液产生烟气。烟气在容纳空间1202中向上流动，并且大部分烟气通过第一排放通道1620被引入到在排出杯状件1200与下本体1420之间形成的排放空间1428中。此后，烟气通过联接到下本体1420的排放管1404排放到外部。

一些烟气没有被排放到第一排放通道1620，而是向上流动通过本体1480。烟气通过第二排放通道1640流到排出杯状件1200与上本体1440之间的通道。此后，烟气通过在支承基部1470与本体1480之间形成的空间1492流到在排出杯状件1200与下本体1420之间设置的排放空间1428，然后通过排放管1404排放到外部。

进一步地，即使在处理液从喷嘴467喷射的情况下，也会由处理液产生烟气。在这种情况下，根据烟气的产生位置，产生的烟气通过第一排放通道1620或第二排放通道1640被引入到排放空间1428中。

根据图6的示例性实施方案，由处理液产生的大部分烟气通过与喷嘴467分开一定距离的第一排放通道1620排出。因此，烟气到达喷嘴467，以使附着到喷嘴467外表面的大量烟气最小化。进一步地，没有通过第一排放通道1620排放的少量烟气通过第二排放通道1640排放。因此，烟气被排泄到初始端口490的外部，以使喷嘴467和外围设备的污染最小化。

进一步地，具有孔1486a的下壁1486设置到本体1480，结果，与下壁1486没有设置到本体1480的情况相比，通过第一排放通道1620排放的烟气可能更多。

进一步地，根据图6的示例性实施方案，流到第一排放通道1620的烟气和流到第二排放通道1640的烟气被引入到同一排放空间1428。在这种情况下，由于第一排放通道1620被定位成比第二排放通道1640更靠近排放管1404，所以相比第二排放通道1640向第一排放通道1620提供更高的负压。结果，通过使用第一排放通道1620可以排泄更大量的烟气。

在上述的实施例中，示出了一个排放管1404联接到下本体1420。然而，与此不同，如图9所示，多个排放管1404a和1404b可以联接到初始端口490的下本体1420，并且排放管1404a和1404b可以联接到集成式排放管1405，泵1406安装在该集成式排放管中。在这种情况下，可以在排出杯状件1200与壳体1400之间提供更大的负压。

图10为示意性地示出了图6的初始端口的另一示例性实施方案的截面图，以及图11为图10的初始端口的分解立体图。

参考图10，初始端口490a具有排出杯状件2200、内壳体2400、外壳体2600和插入体2800。排出杯状件2200可以具有与图6的排出杯状件2200类似的结构。

内壳体2400被定位成覆盖排出杯状件2200。内壳体2400被设置成覆盖排出杯状件2200的下部和侧部。在内壳体2400的下壁上形成有排放端口2402，并且第一排放管2404连接至排放端口2402。通过第一排放管2404在内壳体2400中提供负压，以排放内壳体2400中的气氛。分离空间设置在排出杯状件2200的外壁与内壳体2400的侧壁之间。分离空间被设置为第一排放空间2428。由残留在排出杯状件2200的容纳空间2202中的处理液产生的烟气被引入到第一排放空间2428，然后通过第一排放管2404排放到内壳体2400的外部。内壳体2400中的侧壁2440的上端被定位成高于排出杯状件2200的上端。根据实施例，内壳体2400可以被设置成与图6的初始端口490中的壳体1400的下本体1420类似的结构。

插入体2800定位在内壳体2400的上方。插入体2800具有本体2802。本体2802设置在内壳体2400上。本体2802具有侧壁2820、上壁2840和下壁2860。本体2802的侧壁2802具有环形状。本体2802的侧壁可以被设置为无孔的阻挡面。当从顶部观察时，本体2802的侧壁2820可以具有与内壳体2400对应的尺寸和形状。多个孔2860a形成在本体2802的下壁2860上。孔2860a可以以与设置在喷嘴单元460中的喷嘴467的数量相同的数量设置。当从顶部观察时，在喷嘴单元460被定位在等待位置处的状态下，每个孔2860a设置在与每个喷嘴467重叠的位置处。开口2840a形成在本体2802的上壁2840上。在本体2802的上壁2840上形成的开口2840a和本体2802的下壁2860的孔2860a用作贯通孔，从喷嘴467喷射的处理液通过该贯通孔。

设置外壳体2600以覆盖内壳体2400和插入体2800。外壳体2600被设置成完全覆盖内壳体2400和插入体2800的上部、下部和侧部。在外壳体2600的下壁2602上形成有排放端口2402，并且第二排放管2604连接到排放端口2402。结果，在外壳体2600中提供负压以对外壳体2600的内部进行排放。在外壳体2600的上壁2640上形成入口2640a。分离空间设置在内壳体2400与外壳体2600之间、以及排出杯状件2200与外壳体2600之间。分离空间被设置为第二排放空间2628。由残留在排出杯状件2200的容纳空间2202中的处理液产生的烟气通过第二通道被引入到第二排放空间2628中，然后通过第二排放管2604排放到外壳体2600的外部。

插入体2800提供第一排放通道2920和第二排放通道2940。插入体2800定位在排出杯状件2200的上端与外壳体2600的上壁之间。插入体2800在竖直方向上与外壳体2600的上壁隔开。进一步地，插入体2800被定位成在竖直方向上与排出杯状件2200的上端间隔开。在插入体2800的下端与排出杯状件2200的上端之间形成的第一间隙用作第一排放通道2920。在插入体2800的上端与外壳体2600的上壁2640之间形成的第二间隙用作第二排放通道2940。第一间隙被设置成环形状。进一步地，第二间隙被设置成环形状。第一间隙和第二间隙可以以相同的尺寸设置。

在上述的结构中，第一排放通道2920被定位在比第二排放通道2940低的高度处。第一排放通道2920被定位成比第二排放通道2940更靠近排出杯状件2200。进一步地，第二排放通道2940被定位成比第一排放通道2920更靠近外壳体2600的上壁。

根据实施例，如图10所示，第一排放管2404和第二排放管2604可以连接到集成式排放管2504，并且泵2506和阀2504a可以安装在集成式排放管2504中。在这种情况下，相同的负压可以被提供至内壳体2400和外壳体2600。任选地，如图12所示，阀2404a和2604a分别安装在第一排放管2404和第二排放管2604中，并且阀2404a和2604a的开启率被调节以向内壳体2400和外壳体2600提供不同的负压。任选地，如图13所示，泵2506a和2506b分别安装在第一排放管2404和第二排放管2604中，以分别调节提供至内壳体2400和外壳体2600的负压。

图14示出了烟气从图10的初始端口排泄的状态。

在预分配操作或自动分配操作期间，处理液从喷嘴467喷射。在图14中，示出了处理液同时从所有喷嘴467喷射。然而，与此不同，处理液可以仅从多个喷嘴467中的选定喷嘴467喷射。处理液通过在外壳体2600的上壁2640上形成的入口2640a、在本体2802的上壁2840上形成的开口2840a、以及在本体2802的下壁2860上形成的孔2860a向下滴落，并且容纳在排出杯状件2200的容纳空间2202中。容纳在容纳空间2202中的处理液通过排出管2202被排放到容纳空间2206的外部。当处理液包括酸成分或碱成分时，在处理液残留在容纳空间2202中的情况下，由处理液产生烟气。烟气在容纳空间2202中向上流动，并且大部分烟气通过第一排放通道2920被引入到在排出杯状件2200与内壳体2400之间设置的第一排放空间2428中。此后，烟气通过联接到内壳体2400的第一排放管2404排放到外部。一些烟气没有被排放到第一排放通道2920，而是向上流动通过插入体2800。烟气通过第二排放通道2940引入到在排出杯状件2200与外壳体2600之间形成的第二排放空间2628。此后，烟气通过联接到外壳体2600的第二排放管2604排放到外壳体2600的外部。

在图6中，描述了喷嘴单元460包括多个喷嘴467，并且处理液从多个喷嘴467中的全部喷嘴或所选定的喷嘴467供应至初始端口490a。然而，与此不同，如图15所示，喷嘴单元460仅包括一个喷嘴467，并且初始端口490b可以被设置成在形状上与喷嘴对应。在这种情况下，当从顶部观察时，初始端口490b可以被设置成圆形形状。

在上述实施例中，以基板处理装置是清洁基板的装置作为实施例进行了描述。然而，本发明的技术精神也可以应用于执行不同类型的工艺的装置，该装置包括液体处理基板的喷嘴在其中等待的初始端口。例如，本发明的初始端口可以设置到包括供应光刻胶或显影液的喷嘴的装置。

前述详细的描述说明了本发明。此外，以上内容示出并描述了本发明的示例性实施方案，并且本发明可以在各种其他组合、修改和环境中使用。也就是说，在本说明书中所公开的发明构思的范围、与本公开的范围等同的范围和/或本领域的技术或知识的范围内，可以对前述内容进行修改或修正。前述示例性实施方案描述了实施本发明的技术精神的最佳状态，并且本发明的具体应用领域和用途中所需的各种改变是可能的。因此，本发明的上述详细描述并不旨在将本发明限制于所公开的实施方案。进一步地，所附权利要求也应被解释为包括其他实施方案。

Claims (20)

1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：

处理单元，所述处理单元被配置成对基板进行液体处理；

初始端口，所述初始端口设置在所述处理单元的外部；以及

喷嘴单元，所述喷嘴单元将处理液供应至定位在所述处理单元中的基板，并且所述喷嘴单元具有喷嘴，所述喷嘴被设置成在所述处理单元对所述基板进行液体处理的工艺位置与在所述初始端口中等待的等待位置之间是可移动的，

其中，所述初始端口具有：

排出杯状件，所述排出杯状件具有容纳从所述喷嘴喷射的处理液的容纳空间，以及

壳体，所述壳体被设置成覆盖所述排出杯状件并且具有排放由所述处理液产生的烟气的排放空间，

在所述初始端口中设置有第一排放通道和第二排放通道，由所述排出杯状件中的所述处理液产生的所述烟气通过所述第一排放通道和所述第二排放通道流到所述排放空间，并且

所述第二排放通道定位在所述第一排放通道的上方。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一排放通道在邻近所述排出杯状件的位置处、设置在所述排出杯状件的上方。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述壳体具有上壁，在所述上壁中形成有入口，所述入口设置在所述排出杯状件的上方并且从所述喷嘴单元喷射的所述处理液被引入，并且

所述第二排放通道在邻近所述上壁的位置处、设置在所述上壁的下方。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述第一排放通道和/或所述第二排放通道被设置成环形状。

5.根据权利要求1所述的装置，其中，所述初始端口还包括插入体，所述插入体具有在竖直方向上穿透的贯通孔，

所述插入体具有被定位成与所述壳体的内壁间隔开的本体，

所述本体被设置在高于所述排出杯状件并且低于所述壳体的所述上壁的位置处，

在所述本体与所述排出杯状件之间的第一间隙被设置为所述第一排放通道，并且

在所述本体与所述壳体的所述上壁之间的第二间隙被设置为所述第二排放通道。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述壳体包括：

下本体，所述下本体覆盖所述排出杯状件的侧部和下部，以及

上本体，所述上本体定位在所述下本体的上方，

所述插入体还包括：

支承基部，以及

连接杆，所述连接杆连接所述本体和所述支承基部，

所述下本体的上端被定位成高于所述排出杯状件的上端，

所述支承基部的底部由所述下本体支承，

所述上本体由所述支承基部支承，并且

通过所述第二排放通道排放的所述烟气被设置成通过所述连接杆之间的空间流到所述排放空间。

7.根据权利要求5所述的装置，其中，所述本体在所述竖直方向上的长度被设置成大于所述第一间隙和所述第二间隙。

8.根据权利要求5所述的装置，其中，通过所述第一排放通道排放的所述烟气和通过所述第二排放通道排放的所述烟气通过同一排放空间排放。

9.根据权利要求8所述的装置，其中，排放管连接到所述排放空间，减压构件安装在所述排放管中，并且

从所述第一排放通道直到所述排放管的排放路径被设置成比从所述第二排放通道直到所述排放管的排放路径更短。

10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述排放空间包括第一排放空间和第二排放空间，

所述壳体还包括：

内壳体，所述内壳体被设置成覆盖所述排出杯状件，并且所述内壳体具有来自所述排出杯状件的所述第一排放空间，以及

外壳体，所述外壳体被设置成覆盖所述内壳体，并且所述外壳体具有来自所述内壳体的所述第二排放空间，

流过所述第一排放通道的所述烟气连接到所述第一排放空间，并且

所述第二排放通道连接到所述第二排放空间。

11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述初始端口还包括插入体，所述插入体具有在竖直方向上穿透的贯通孔，

所述插入体具有本体，

所述本体被设置在高于所述排出杯状件并且低于所述外壳体的上壁的位置处，

在所述本体与所述排出杯状件之间的第一间隙被设置为所述第一排放通道，并且

在所述本体与所述外壳体的上壁之间的第二间隙被设置为所述第二排放通道。

12.根据权利要求11所述的装置，其中，所述内壳体的上端被定位在高于所述排出杯状件的上端的位置处，并且

所述本体的下端由所述内壳体的上端支承。

13.根据权利要求10所述的装置，其中，第一排放管连接到所述第一排放空间，

第二排放管连接到所述第二排放空间，

所述第一排放管和所述第二排放管连接到集成式排放管，并且

减压构件安装在所述集成式排放管中。

14.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，其中，所述喷嘴单元包括基部块，以及

多个喷嘴构件，所述多个喷嘴构件联接到所述基部块并且具有喷嘴，

所述多个喷嘴构件在一个方向上成排地联接到所述基部块，并且

当所述喷嘴单元定位在所述壳体与所述排出杯状件中的每一者中的等待位置处时，从所述喷嘴喷射的所述处理液所通过的所述入口的纵向方向被设置成平行于布置所述喷嘴的方向。

15.一种初始端口，在所述初始端口中将处理液供应到基板的喷嘴等待，所述初始端口包括：

排出杯状件，所述排出杯状件具有容纳从所述喷嘴喷射的所述处理液的容纳空间；

壳体，所述壳体被设置成覆盖所述排出杯状件并且具有排放由所述处理液产生的烟气的排放空间；以及

插入体，所述插入体设置在所述壳体的上壁与所述壳体中的所述排出杯状件之间，

其中，将烟气引导到所述排放空间的第一排放通道在所述插入体与所述排出杯状件之间形成，

将所述烟气引导到所述排放空间的第二排放通道在所述插入体与所述壳体之间形成，

所述第二排放通道被设置在高于所述第一排放通道的位置处，并且

从所述喷嘴单元喷射的所述处理液通过在所述上壁上形成的所述入口和在所述插入体中形成的贯通孔被引入到所述排出杯状件中。

16.根据权利要求15所述的初始端口，其中，所述第一排放通道和所述第二排放通道中的每一者被设置成环形状，

所述壳体在低于所述排出杯状件的上端的位置处连接到所述排放空间，并且

排放管连接到所述排放空间，减压构件安装在所述排放管中。

17.根据权利要求15或16所述的初始端口，其中，所述第一排放通道和所述第二排放通道被设置成将所述烟气引导至同一排放空间。

18.根据权利要求17所述的初始端口，其中，排放管连接到所述排放空间，减压构件安装在所述排放管中，并且

从所述第一排放通道直到所述排放管的排放路径被设置成比从所述第二排放通道直到所述排放管的排放路径更短。

19.根据权利要求17所述的初始端口，其中，所述壳体包括：

下本体，所述下本体覆盖所述排出杯状件的侧部和下部，以及

上本体，所述上本体定位在所述下本体的上方，

所述插入体还包括：

支承基部，以及

连接杆，所述连接杆连接所述本体和所述支承基部，

所述下本体的上端被定位成高于所述排出杯状件的上端，

所述支承基部的底部由所述下本体支承，

所述上本体由所述支承基部支承，并且

通过所述第二排放通道排放的所述烟气被设置成通过所述连接杆之间的空间流到所述排放空间。

20.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：

处理单元，所述处理单元被配置成对基板进行液体处理；

初始端口，所述初始端口设置在所述处理单元的外部；以及

喷嘴单元，所述喷嘴单元将处理液供应至定位在所述处理单元中的基板，并且所述喷嘴单元具有喷嘴，所述喷嘴被设置成在所述处理单元对所述基板进行液体处理的工艺位置与在所述初始端口中等待的等待位置之间是可移动的，

其中，所述初始端口包括：

排出杯状件，所述排出杯状件具有容纳从所述喷嘴喷射的所述处理液的容纳空间，

壳体，所述壳体被设置成覆盖所述排出杯状件并且具有排放由所述处理液产生的烟气的排放空间，以及

插入体，所述插入体设置在所述壳体的上壁与所述壳体中的所述排出杯状件之间，

将烟气引导到所述排放空间的第一排放通道在所述插入体与所述排出杯状件之间形成，

将所述烟气引导到所述排放空间的第二排放通道在所述插入体与所述壳体之间形成，

所述第二排放通道被设置在高于所述第一排放通道的位置处，并且

排放管连接到所述排放空间，减压构件安装在所述排放管中，并且

从所述第一排放通道直到所述排放管的排放路径被设置成比从所述第二排放通道直到所述排放管的排放路径更短。

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