KR20230097352A - 홈 포트 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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문종원
이경훈
최은혁
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Abstract

기판에 처리액을 공급하는 노즐이 대기하는 홈 포트가 제공된다. 홈 포트는 배액 컵, 상기 배액 컵을 감싸도록 제공되고 상기 처리액에서 발생되는 흄을 배기하는 배기 공간을 가지는 하우징, 그리고 상기 하우징 내에서 상기 하우징의 상벽과 배액 컵 사이에 배치된 삽입체를 포함한다. 상기 삽입체와 상기 배액 컵 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제1배기 통로가 형성되고, 상기 삽입체와 상기 하우징 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제2배기 통로가 형성된다.

Description

홈 포트 및 기판 처리 장치{A HOME POT AND AN APPARATUS FOR TREATING A SUBSTRATE}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판으로 처리액을 토출하는 노즐이 대기하는 홈 포트 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 공정은 기판 상에 박막, 이물질, 파티클 등을 세정하는 공정을 포함한다. 이들 공정은 패턴 면이 위 또는 아래를 향하도록 기판을 스핀 헤드 상에 놓고, 스핀 헤드를 회전시킨 상태에서 기판 상에 처리액을 공급하고, 이후 웨이퍼를 건조함으로써 이루어진다
웨이퍼에 처리액을 공급하는 노즐은 지지 부재에 장착되고, 지지 부재는 구동기에 의해 대기 위치와 공정 위치 간에 이동 가능하게 제공된다. 대기 위치는 기판으로 처리액을 공급하기 전에 노즐이 대기하는 위치이고, 공정 위치는 기판을 처리액으로 처리할 때 노즐이 배치되는 위치이다. 일반적으로 기판의 처리는 처리액의 비산을 방지하기 위해 컵 내에서 이루어지고, 노즐의 대기는 컵의 일측에 위치된 홈 포트에서 이루어진다. 노즐이 홈 포트로 이동하여 대기하는 도중에, 노즐 내에서 처리액이 고화되는 것을 방지하기 위해 노즐로부터 홈 포트 내로 주기적으로 처리액의 토출이 이루어진다. 또한, 노즐이 장기간 대기 후 공정 위치로 이동될 때에는, 웨이퍼에 처리액이 원활하게 토출될 수 있도록 홈 포트에서 토출이 먼저 이루어진다.
도 1은 일반적인 홈 포트(900)의 구조를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 1을 참조하면, 홈 포트(900)는 배액 컵(920)과 하우징(940)을 가진다. 배액 컵(920)은 상부가 개방된 수용 공간(922)을 가지고, 배액 컵(920)의 바닥에는 배액구(924)가 형성된다. 하우징(940)은 배액 컵(920)의 측부 및 상부를 감싸도록 제공된다. 하우징(940)의 하벽에는 배기구(944)가 형성된다. 노즐(964)로부터 배액 컵(920)의 수용 공간(922)으로 토출되고 있는 처리액으로부터 발생되는 흄과 배액 컵(920)에 잔류하는 처리액으로부터 발생되는 흄(fume)은 배액 컵(920)과 하우징(940) 사이에 형성된 배기 공간(942)으로 유입된 후 배기구(924)에 연결된 배기관(980)를 통해 하우징(940) 외부로 배기된다.
배액 컵(920)의 상단(926)과 하우징(940)의 상벽(946) 사이의 간극은 배액 컵(820) 내의 흄이 흐르는 배기 통로(P)로 제공된다. 일반적으로 위 배기 통로(P)는 도 1에 도시된 바와 같이 좁다. 이로 인해 도 2에 도시된 바와 같이, 처리액으로부터 다량의 흄이 발생될 때, 이들 흄들이 위 배기 통로(P)를 통해서 원활히 배출되지 않고 노즐(962)의 외측면에 부착되고, 후에 노즐(962)이 공정 위치로 이동될 때 웨이퍼를 오염시키는 오염원이 된다.
또한, 지지 아암(964)에 복수의 노즐(962)이 장착되고, 노즐들(962) 중 하나로부터 산성 액이 공급되고, 다른 하나로부터 염기성 액이 토출될 수 있다. 이 경우, 산성을 띄는 흄과 염기성을 띄는 흄이 동시에 발생한다. 노즐(962)의 표면에서 산성을 띄는 흄과 염기성을 띄는 흄은 서로 반응하여 염을 생성한다.
본 발명은 처리액으로부터 발생되는 흄을 원활하게 배기할 수 있는 홈 포트 및 이를 가지는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 홈 포트에서 노즐이 대기하는 동안에 노즐이 오염되는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는 기판의 액 처리가 이루어지는 처리 유닛, 상기 처리 유닛의 외측에 제공되는 홈 포트, 그리고 상기 처리 유닛에 위치된 기판으로 처리액을 공급하고 상기 처리 유닛에서 기판에 대해 액 처리를 수행하는 공정 위치와 상기 홈 포트에서 대기하는 대기 위치 간에 이동 가능하게 제공되는 노즐을 가지는 노즐 유닛을 포함하고, 상기 홈 포트는 상기 노즐에서 토출되는 처리액을 수용하는 수용 공간을 가지는 배액 컵, 상기 배액 컵을 감싸도록 제공되고 상기 처리액에서 발생되는 흄을 배기하는 배기 공간을 가지는 하우징을 가지고, 상기 홈 포트에는 상기 배액 컵 내에서 처리액으로부터 발생되는 흄이 상기 배기 공간으로 흐르는 제1배기 통로 및 제2배기 통로가 제공되고, 상기 제2배기 통로는 상기 제1배기 통로보다 상부에 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 제1배기 통로는 상기 배액 컵과 인접한 위치에서 상기 배액 컵의 상부에 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 하우징은 상기 배액 컵의 상부에 배치되며 상기 노즐 유닛으로부터 토출되는 처리액이 유입되는 유입구가 형성된 상벽을 구비하고, 상기 제2배기 통로는 상기 상벽과 인접한 위치에서 상기 상벽의 아래에 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제1배기 통로 및/또는 상기 제2배기 통로는 링 형상으로 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 홈 포트는 상하 방향으로 관통된 통공을 가지는 삽입체를 더 포함하며, 상기 삽입체는 상기 하우징의 내측벽과 이격되게 위치되는 바디를 가지며, 상기 바디는 상기 배액 컵보다 높고 상기 하우징의 상벽보다는 낮은 위치에 배치되며, 상기 바디와 상기 배액 컵 사이의 제1간극은 상기 제1배기 통로로 제공되고, 상기 바디와 상기 하우징의 상벽 사이의 제2간극은 상기 제2배기 통로로 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 하우징은 상기 배액 컵의 측부 및 하부를 감싸는 하체와 상기 하체의 상부에 위치되는 상체를 구비하며, 상기 삽입체는 지지 베이스, 상기 바디와 상기 지지 베이스를 연결하는 연결 로드들을 더 포함하며, 상기 하체의 상단은 상기 배액 컵의 상단보다 높게 위치되고, 상기 지지 베이스의 저면은 상기 하체에 의해 지지되고, 상기 상체는 상기 지지 베이스의 상면에 의해 지지되고, 상기 제2배기 통로를 통해 배기되는 흄은 상기 연결 로드들 사이의 공간을 통해서 상기 배기 공간으로 흐르도록 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상하 방향을 따른 상기 바디의 길이는 상기 제1간극 및 상기 제2간극보다 크게 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제1배기 통로를 통해 배기되는 흄과 상기 제2배기 통로를 통해 배기되는 흄은 동일한 상기 배기 공간을 통해서 배기될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결되고, 상기 제1배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로는 상기 제2배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로보다 더 짧게 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 배기 공간은 제1배기 공간과 제2배기 공간을 포함하고, 상기 하우징은 상기 배기 컵을 감싸도록 배치되고 상기 배액 컵과의 사이에 상기 제1배기 공간을 가지는 내측 하우징과 상기 내측 하우징을 감싸도록 배치되며, 상기 내측 하우징과의 사이에 상기 제2배기 공간을 가지는 외측 하우징을 포함하고, 상기 제1배기 통로를 통해 흐르는 흄은 상기 제1배기 공간과 연결되고, 상기 제2배기 통로는 상기 제2배기 공간과 연결될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 홈 포트는 상하 방향으로 관통된 통공을 가지는 삽입체를 더 포함하며, 상기 삽입체는 바디를 가지며 상기 바디는 상기 배액 컵보다 높고 상기 외측 하우징의 상벽보다는 낮은 위치에 배치되며, 상기 바디와 상기 배액 컵 사이의 제1간극은 상기 제1배기 통로로 제공되고, 상기 바디와 상기 외측 하우징의 상벽 사이의 제2간극은 상기 제2배기 통로로 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 내측 하우징의 상단은 상기 배액 컵의 상단보다 높은 위치에 배치되고, 상기 바디의 하단은 상기 내측 하우징의 상단에 의해 지지될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제1배기 공간에는 제1배기관이 연결되고, 상기 제2배기 공간에는 제2배기관이 연결되며, 상기 제1배기관과 상기 제2배기관은 통합 배기관과 연결되고, 상기 통합 배기관에는 감압 부재가 설치될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 노즐 유닛은 베이스 블럭과 상기 베이스 블럭에 결합되고, 노즐을 가지는 복수의 노즐 부재를 포함하고, 상기 복수의 노즐 부재는 일 방향으로 나란하게 상기 베이스 블럭에 결합되고, 상기 하우징 및 상기 배액 컵 각각에서 상기 노즐에서 토출되는 처리액이 유입되는 유입구는 그 길이 방향이 상기 노즐 유닛이 상기 대기 위치에 위치될 때 상기 노즐들이 배열되는 방향과 평행하게 제공될 수 있다.
본 발명은 기판에 처리액을 공급하는 노즐이 대기하는 홈 포트를 제공한다. 홈 포트는 상기 노즐에서 토출되는 처리액을 수용하는 수용 공간을 가지는 배액 컵, 상기 배액 컵을 감싸도록 제공되고 상기 처리액에서 발생되는 흄을 배기하는 배기 공간을 가지는 하우징, 그리고 상기 하우징 내에서 상기 하우징의 상벽과 배액 컵 사이에 배치된 삽입체를 포함하고, 상기 삽입체와 상기 배액 컵 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제1배기 통로가 형성되고, 상기 삽입체와 상기 하우징 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제2배기 통로가 형성되며, 상기 제2배기 통로는 상기 제1배기 통로보다 높은 위치에 제공되고, 상기 노즐 유닛에서 토출된 처리액은 상기 상벽에 형성된 유입구, 상기 삽입체에 형성된 통공을 통해서 상기 배액 컵으로 유입된다.
일 예에 의하면, 상기 제1배기 통로 및 상기 제2배기 통로는 각각 링 형상으로 제공되고, 상기 하우징은 상기 배액 컵의 상단보다 낮은 위치에서 상기 배기 공간에 연결되고, 상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제1배기 통로 및 상기 제2배기 통로는 동일한 배기 공간으로 상기 흄을 안내하도록 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결되고, 상기 제1배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로는 상기 제2배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로보다 더 짧게 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 하우징은 상기 배액 컵의 측부 및 저부를 감싸는 하체와 상기 하체의 상부에 위치되는 상체를 구비하며, 상기 삽입체는 지지 베이스, 상기 바디와 상기 지지 베이스를 연결하는 연결 로드들을 더 포함하며, 상기 하체의 상단은 상기 배액 컵의 상단보다 높게 위치되고, 상기 지지 베이스의 저면은 상기 하체에 의해 지지되고, 상기 상체는 상기 지지 베이스의 상면에 의해 지지되고, 상기 제2배기 통로를 통해 배기되는 흄은 상기 연결 로드들 사이의 공간을 통해서 상기 배기 공간으로 흐르도록 제공될 수 있다.
또한, 본 발명의 기판 처리 장치는 기판의 액 처리가 이루어지는 처리 유닛, 상기 처리 유닛의 외측에 제공되는 홈 포트, 그리고 상기 처리 유닛에 위치된 기판으로 처리액을 공급하고 상기 처리 유닛에서 기판에 대해 액 처리를 수행하는 공정 위치와 상기 홈 포트에서 대기하는 대기 위치 간에 이동 가능하게 제공되는 노즐을 가지는 노즐 유닛을 포함하고, 상기 홈 포트는 상기 노즐에서 토출되는 처리액을 수용하는 수용 공간을 가지는 배액 컵, 상기 배액 컵을 감싸도록 제공되고 상기 처리액에서 발생되는 흄을 배기하는 배기 공간을 가지는 하우징, 그리고 상기 하우징 내에서 상기 하우징의 상벽과 배액 컵 사이에 배치된 삽입체를 포함하고, 상기 삽입체와 상기 배액 컵 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제1배기 통로가 형성되고, 상기 삽입체와 상기 하우징 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제2배기 통로가 형성되며, 상기 제2배기 통로는 상기 제1배기 통로보다 높은 위치에 제공되고, 상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결되고, 상기 제1배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로는 상기 제2배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로보다 더 짧게 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 홈 포트에서 노즐이 대기할 때 홈 포트로부터 처리액에서 발생한 흄의 배출이 원활하게 이루어지므로 흄에 의해 노즐이 오염되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 일반적인 홈 포트의 구조를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1의 홈 포트에서 흄이 배출되는 상태를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 2의 액 처리 챔버의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 유닛의 일 예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 6은 도 4의 홈 포트의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 6의 홈 포트의 분해 사시도이다.
도 8은 도 6의 홈 포트에서 흄이 배출되는 상태를 보여주는 도면이다.
도 9는 도 6의 홈 포트의 변형 예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 10은 도 6의 홈 포트의 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 11은 도 10의 홈 포트의 분해 사시도이다.
도 12 및 도 13은 각각 도 10의 홈 포트의 변형 예를 개략적으로 보여주는 도면들이다.
도 14는 도 10의 홈 포트에서 흄이 배출되는 상태를 보여주는 도면이다.
도 15는 도 6의 홈 포트의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 분해 사시도이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 3을 참조하면, 기판 처리 장치는 인덱스 모듈(10), 처리 모듈(20), 그리고 제어기(30)를 포함한다. 일 실시예에 의하며, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)은 일방향을 따라 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)이 배치된 방향을 제1방향(92)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1방향(92)과 수직한 방향을 제2방향(94)이라 하고, 제1방향(92) 및 제2방향(94)에 모두 수직한 방향을 제3방향(96)이라 한다.
인덱스 모듈(10)은 기판(W)이 수납된 용기(80)로부터 기판(W)을 처리 모듈(20)로 반송하고, 처리 모듈(20)에서 처리가 완료된 기판(W)을 용기(80)로 수납한다. 인덱스 모듈(10)의 길이 방향은 제2방향(94)으로 제공된다. 인덱스 모듈(10)은 로드포트(12, loadport)와 인덱스 프레임(14)을 가진다. 인덱스 프레임(14)을 기준으로 로드포트(12)는 처리 모듈(20)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(80)는 로드포트(12)에 놓인다. 로드포트(12)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드포트(12)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다.
용기(80)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다. 용기(80)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드포트(12)에 놓일 수 있다.
인덱스 프레임(14)에는 인덱스 로봇(120)이 제공된다. 인덱스 프레임(14) 내에는 길이 방향이 제2방향(94)으로 제공된 가이드 레일(140)이 제공되고, 인덱스 로봇(120)은 가이드 레일(140) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(120)은 기판(W)이 놓이는 핸드(122)를 포함하며, 핸드(122)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(122)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(122)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진이동할 수 있다.
처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(200), 반송 챔버(300), 그리고 처리 챔버(400)를 포함한다. 버퍼 유닛(200)은 처리 모듈(20)로 반입되는 기판(W)과 처리 모듈(20)로부터 반출되는 기판(W)이 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 처리 챔버(400)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 기판(W)을 액 처리하는 처리 공정을 수행한다. 반송 챔버(300)는 버퍼 유닛(200) 및 액 처리 챔버(400) 간에 기판(W)을 반송한다.
반송 챔버(300)는 그 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 인덱스 모듈(10)과 반송 챔버(300) 사이에 배치될 수 있다. 액 처리 챔버(400)는 복수 개 제공되며, 반송 챔버(300)의 측부에 배치될 수 있다. 액 처리 챔버(400)와 반송 챔버(300)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 반송 챔버(300)의 일단에 위치될 수 있다.
일 예에 의하면, 액 처리 챔버(400)들은 반송 챔버(300)의 양측에 각각 배치된다. 반송 챔버(300)의 양측 각각에서 액 처리 챔버(400)들은 제1방향(92) 및 제3방향(96)을 따라 각각 A X B(A, B는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수) 배열로 제공될 수 있다.
반송 챔버(300)는 반송 로봇(320)을 가진다. 반송 챔버(300) 내에는 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공된 가이드 레일(340)이 제공되고, 반송 로봇(320)은 가이드 레일(340) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 로봇(320)은 기판(W)이 놓이는 핸드(322)를 포함하며, 핸드(322)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(322)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(322)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진이동할 수 있다.
버퍼 유닛(200)은 기판(W)이 놓이는 버퍼(220)를 복수 개 구비한다. 버퍼(220)들은 제3방향(96)을 따라 서로 간에 이격되도록 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 전면(front face)과 후면(rear face)이 개방된다. 전면은 인덱스 모듈(10)과 마주보는 면이고, 후면은 반송 챔버(300)와 마주보는 면이다. 인덱스 로봇(120)은 전면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근하고, 반송 로봇(320)은 후면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근할 수 있다.
도 4는 도 3의 액 처리 챔버(400)의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 액 처리 챔버(400)는 처리 유닛(401), 노즐 유닛(460), 그리고 홈 포트(490)를 가진다. 처리 유닛(401)은 하우징(410), 컵(420), 지지 유닛(440), 그리고 승강 유닛(480)을 가진다.
하우징(410)은 대체로 직육면체 형상으로 제공된다. 컵(420), 노즐 유닛(460), 그리고 홈 포트(490)는 하우징(410) 내에 배치된다.
컵(420)은 상부가 개방된 처리 공간을 가지고, 기판(W)은 처리 공간 내에서 액 처리 된다. 지지 유닛(440)은 처리 공간 내에서 기판(W)을 지지한다. 액 공급 유닛(460)은 지지 유닛(440)에 지지된 기판(W) 상으로 액을 공급한다. 액은 복수 종류로 제공되고, 기판(W) 상으로 순차적으로 공급될 수 있다. 승강 유닛(480)은 컵(420)과 지지 유닛(440) 간의 상대 높이를 조절한다.
일 예에 의하면, 컵(420)은 복수의 회수통(422, 424, 426)을 가진다. 회수통들(422, 424, 426)은 각각 기판 처리에 사용된 액을 회수하는 횟수 공간을 가진다. 각각의 회수통들(422, 424, 426)은 지지 유닛(440)을 감싸는 링 형상으로 제공된다. 액 처리 공정이 진행시 기판(W)의 회전에 의해 비산되는 처리액은 각 회수통(422, 424, 426)의 유입구(422a, 424a, 426a)를 통해 회수 공간으로 유입된다. 일 예에 의하면, 컵(420)은 제1회수통(422), 제2회수통(424), 그리고 제3회수통(426)을 가진다. 제1회수통(422)은 지지 유닛(440)을 감싸도록 배치되고, 제2회수통(424)은 제1회수통(422)을 감싸도록 배치되고, 제3회수통(426)은 제2회수통(424)을 감싸도록 배치된다. 제2회수통(424)으로 액을 유입하는 제2유입구(424a)는 제1회수통(422)으로 액을 유입하는 제1유입구(422a)보다 상부에 위치되고, 제3회수통(426)으로 액을 유입하는 제3유입구(426a)는 제2유입구(424a)보다 상부에 위치될 수 있다.
지지 유닛(440)은 지지판(442)과 구동축(444)을 가진다. 지지판(442)의 상면은 대체로 원형으로 제공되고 기판(W)보다 큰 직경을 가질 수 있다. 지지판(442)의 중앙부에는 기판(W)의 후면을 지지하는 지지핀(442a)이 제공되고, 지지핀(442a)은 기판(W)이 지지판(442)으로부터 일정 거리 이격되도록 그 상단이 지지판(442)으로부터 돌출되게 제공된다. 지지판(442)의 가장자리부에는 척핀(442b)이 제공된다. 척핀(442b)은 지지판(442)으로부터 상부로 돌출되게 제공되며, 기판(W)이 회전될 때 기판(W)이 지지 유닛(440)으로부터 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 구동축(444)은 구동기(446)에 의해 구동되며, 기판(W)의 저면 중앙과 연결되며, 지지판(442)을 그 중심축을 기준으로 회전시킨다.
승강 유닛(480)은 컵(420)을 상하 방향으로 이동시킨다. 컵(420)의 상하 이동에 의해 컵(420)과 기판(W) 간의 상대 높이가 변경된다. 이에 의해 기판(W)에 공급되는 액의 종류에 따라 처리액을 회수하는 회수통(422, 424, 426)이 변경되므로, 액들을 분리회수할 수 있다. 상술한 바와 달리, 컵(420)은 고정 설치되고, 승강 유닛(480)은 지지 유닛(440)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
도 5는 노즐 유닛의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 노즐 유닛(460)은 기판으로 처리액을 공급한다.
도 5를 참조하면, 노즐 유닛(460)은 베이스 블럭(462), 복수의 노즐 부재들(464), 구동축(468), 그리고 구동기(469)를 포함한다. 베이스 블럭(462)은 대체로 직육면체의 형상을 가진다. 복수의 노즐 부재들(464)은 베이스 블럭(462)에 고정 결합된다. 일 에에 의하면, 베이스 블럭(462)에는 제1노즐 부재(464a), 제2노즐 부재(464b), 그리고 제3노즐 부재(464c)가 장착될 수 있다. 제1노즐 부재(464a), 제2노즐 부재(464b), 그리고 제3노즐 부재(464c)는 서로 상이한 처리액을 공급한다. 일 예에 의하면, 제1노즐 부재(464a), 제2노즐 부재(464b), 그리고 제3노즐 부재(464c)는 유사한 성질의 액을 토출할 수 있다. 예컨대. 제1노즐 부재(464a), 제2노즐 부재(464b), 그리고 제3노즐 부재(464c)는 산(acid) 성분의 액을 토출할 수 있다. 선택적으로 제1노즐 부재(464a)와 제2노즐 부재(464b)는 산 성분의 액을 토출하고, 제3노즐 부재(464c)는 물을 토출할 수 있다. 예컨대, 제1노즐 부재(464a)는 황산을 포함하는 액을 토출하고, 제2노즐 부재(464b)는 불산을 포함하는 액을 토출하고, 제3노즐 부재(464c)는 물을 토출할 수 있다. 선택적으로 제1노즐 부재(464a), 제2노즐 부재(464b), 그리고 제3노즐 부재(464c)는 서로 다른 성질의 액을 토출할 수 있다. 예컨대. 제1노즐 부재(464a)는 산(acid) 성분의 액을 토출하고, 제2노즐 부재(464b)는 염기(alkali) 성분의 액을 토출하고, 제3노즐 부재(464c)는 물을 토출할 수 있다.
제1노즐 부재(464a), 제2노즐 부재(464b), 그리고 제3노즐 부재(464c)는 동일한 형상으로 제공될 수 있다. 이하에서는 제1노즐 부재(464a)의 구조에 대해 설명한다.
제1노즐 부재(464a)는 지지 암(466)과 노즐(467)을 가진다. 지지 암(466)은 수평 로드부(466a)와 수직 로드부(466b)를 가진다. 수평 로드부(466a)는 베이스 블럭(462)의 전면(front face)으로부터 지면(ground)에 대해 수평 방향으로 연장된다. 수직 로드부(466b)는 수평 로드부(466a)의 끝단으로부터 아래 방향으로 연장된다. 수직 로드부(466b)와 수평 로드부(466a)의 연결 부분은 라운드진 형상으로 제공될 수 있다. 수직 로드부(466b)의 하단에는 노즐(467)이 장착된다. 처리액 공급관(465)은 베이스 블럭(462)의 후면(rear face)에 연결된다. 처리액 공급관(465)에는 밸브(465a)가 설치된다. 지지 암(466)에는 처리액 공급관(465)으로 공급받은 처리액이 흐르는 유로(도시되지 않음)가 형성된다. 베이스 블럭(462)은 구동축(468)에 의해 지지되고, 구동축(468)에는 구동기(469)가 결합된다. 구동기(469)는 구동축(468)에 상하 방향으로 이동시키고, 또한 구동축(468)을 그 중심축을 기준으로 회전시킨다. 구동축(468)의 회전에 의해 노즐(467)은 공정 위치와 대기 위치 간에 이동된다. 공정 위치에서 노즐(467)은 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 토출하여 기판에 대해 액 처리를 수행한다. 기판에 대해 액 처리가 이루어지지 않는 동안에 노즐(467)은 대기 위치에서 대기한다.
노즐들(467)이 대기 위치에 위치하는 동안 오토 디스펜스(auto-dispense) 동작 및 프리 디스펜스(pre-dispense) 동작이 이루어진다. 오토 디스펜스 동작은 노즐들(467)이 장 시간동안 대기위치에 대기할 때 일정 시간 간격으로 처리액을 토출하는 동작이다. 오토 디스펜스 동작에 의해 노즐 유닛(460) 내에서 처리액이 고화되는 것을 방지한다. 프리 디스펜스 동작은 노즐(467)로부터 기판으로 처리액을 토출하기 전에 대기 위치에서 처리액을 미리 토출하는 동작이다. 프리 디스펜스 동작에 의해 기판으로 처리액을 토출시 처리액이 원활하게 이루어진다.
홈 포트(490)는 컵(420)의 외측에 배치된다. 상부에서 바라볼 때, 노즐(467)의 대기 위치는 홈 포트(490)와 중첩된다. 도 6은 홈 포트의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이고, 도 7은 도 6의 홈 포트의 분해 사시도이다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 홈 포트(490)는 배액 컵(1200)과 하우징(1400)을 가진다. 배액 컵(1200)은 상부가 개방된 수용 공간(1202)을 가진다. 배액 컵(1200)의 상부 영역은 하부 영역에 비해 넓은 면적으로 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 배액 컵(1200)의 상부 영역은 일 방향으로 긴 길이를 가진다. 배액 컵(1200)의 길이 방향은 노즐 유닛(460)이 대기 위치에 위치될 때, 노즐 부재들(464)의 배열 방향과 평행하게 제공된다.
수용 공간(1202)의 저면에는 배액구(1204, drain port)가 형성되고, 배액구(1204)에는 배액관(1206)이 연결될 수 있다. 배액관(1206)에는 개폐 밸브(1206a)가 설치된다. 오토 디스펜스 또는 프리 디스펜스 동안에 노즐들(467)로부터 토출된 처리액은 배액 컵(1200)의 수용 공간(1202)에 수용되고, 이후에 배액관(1206)을 통해서 배액 컵(1200)의 외부로 배출된다.
하우징(1400)은 배액 컵(1200)을 감싸도록 위치된다. 일 예에 의하면, 하우징(1400)은 배액 컵(1200)의 상부, 하부, 그리고 측부를 전체적으로 감싸도록 배치된다. 하우징(1400)의 하벽(1426)에는 배기구(1402, exhaust port)가 형성되고, 배기구(1402)에는 배기관(1404)이 연결된다. 배기관(1404)에는 감압부재(1406) 및 밸브(1404a)가 설치된다. 감압부재(1406)로는 펌프가 사용될 수 있다. 이에 의해 하우징(1400) 내에는 음압이 제공되어 하우징(1400) 내부의 분위기를 배기한다.
하우징(1400)은 하체(1420), 상체(1440), 그리고 삽입체(1460)를 가진다.
하체(1420)는 배액 컵(1200)의 하부 및 측부를 감싼다. 하체(1420)는 측벽(1422) 및 하벽(1424)을 가진다. 상부에서 바라볼 때 하체(1420)의 측벽(1422)은 배액 컵(1200)보다 큰 크기로, 그리고 배액 컵(1200)과 유사한 형상으로 제공될 수 있다. 배액 컵(1200)과 하체(1420) 사이에 제공된 이격 공간은 배기 공간(1428)으로 기능한다. 배기구(1402)는 하체(1420)의 하벽(1424)에 형성될 수 있다. 배액 컵(1200)의 수용 공간(1202)에 잔류하는 처리액으로부터 발생되는 흄은 후술하는 제1배기 통로(1620)를 통해 배기 공간(1428)으로 흐른 후 배기관(1404)으로 배기된다. 하체(1420)에서 측벽(1422) 상단은 배액 컵(1200)의 상단보다 높게 위치된다.
상체(1440)는 하체(1420)의 상부에 위치된다. 상체(1440)는 측벽(1442) 및 상벽(1444)을 가진다. 상부에서 바라볼 때 상체(1440)의 측벽(1442)은 하체(1420)의 측벽(1422)과 대응되는 크기 및 형상을 가진다. 상체(1440)의 상벽(1444)에는 유입구(1444a)가 형성된다. 노즐 유닛(460)으로부터 토출된 처리액은 유입구(1444a)를 통해 배액 컵(1200)의 수용 공간(1202)으로 유입된다.
삽입체(1460)는 배액 컵(1200)의 상부에 위치된다. 삽입체(1460)는 하우징(1400) 내에 제1배기 통로(1620) 및 제2배기 통로(1640)를 제공한다. 삽입체(1460)는 상체(1440)의 상벽(1444)과 배액 컵(1200)의 상단 사이에 위치한다. 삽입체(1460)는 상체(1440)의 상벽(1444)과 상하 방향으로 이격된다. 삽입체(1460)는 배액 컵(1200)의 상단과도 상하 방향으로 이격된다. 삽입체(1460)의 하단과 배액 컵(1200)의 상단 사이에 제공된 제1간극은 제1배기 통로(1620)로 기능하고, 삽입체(1460)의 상단과 상체(1440)의 상벽(1444) 사이에 제공된 제2간극은 제2배기 통로(1640)로 기능한다. 제1간극은 링 형상으로 제공된다. 또한, 제2간극은 링 형상으로 제공된다. 제1간극과 제2간극은 동일한 크기로 제공될 수 있다.
제1간극 및 제2간극은 서로 다른 크기로 제공될 수 있다. 제1간극 및 제2간극의 크기를 서로 상이하게 제공함으로써 제1배기 통로를 통해 배기되는 흄의 량과 제2배기 통로를 통해 배기되는 흄의 량을 각각 변화시킬 수 있다.
삽입체(1460)는 지지 베이스(1470)와 바디(1480)를 가진다. 지지 베이스(1470)는 링 형상을 가진다. 상부에서 바라볼 때 지지 베이스(1470)는 하체(1420)의 측벽(1422)과 대응되는 크기 및 형상을 가진다. 지지 베이스(1470)는 상체(1440)의 측벽(1442)과 하체(1420)의 측벽(1422) 사이에 위치된다. 예컨대, 지지 베이스(1470)는 하체(1420)의 측벽(1422)의 상단에 놓여지고, 상체(1440)의 측벽(1442)은 지지 베이스(1470)의 상단에 놓여진다.
상하 방향을 따른 바디(1480)의 길이는 제1간극 및 제2간극보다 길게 제공된다. 바디(1480)는 측벽(1482), 상벽(1484), 그리고 하벽(1486)을 가진다. 바디(1480)의 측벽(1482)은 링 형상을 가진다. 바디(1480)의 측벽(1482)은 홀이 없는 블로킹 면(blocking face)으로 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 바디(1480)의 측벽(1482)은 배액 컵(1200)과 대응되는 크기 및 형상을 가질 수 있다.
바디(1480)의 하벽(1486)에는 복수의 홀(1486a)이 형성된다. 홀(1486a)은 노즐 유닛(460)에 제공된 노즐들(467)의 수와 동일한 수로 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 노즐 유닛(460)이 대기 위치에 위치한 상태에서 각각의 홀(1486)은 각각의 노즐(467)과 중첩되는 위치에 제공된다. 바디(1480)의 상벽(1484)에는 개구(1484a)가 형성된다.
바디(1480)의 상벽(1484)에 형성된 개구(1484a)의 크기 및 형상은 상체(1440)의 상벽(1444)에 형성된 개구(1444a)의 크기 및 형상과 동일하게 제공될 수 있다. 또한, 상부에서 바라볼 때 바디(1480)의 상벽(1484)에 형성된 개구(1484a)는 상체(1440)의 상벽(1444)에 형성된 유입구(1444a)와 중첩되게 위치된다. 바디(1480)의 상벽(1484)에 형성된 개구(1484a)와 바디(1480)의 하벽(1486)의 홀들(1486a)은 노즐들(467)로부터 토출된 처리액이 통과하는 통공으로 기능한다.
바디(1480)는 연결 로드(1490)에 의해 지지 베이스(1470)에 지지된다. 일 예에 의하면 지지 베이스(1470)는 바디(1480)의 하벽(1420)과 동일한 높이에 위치된다. 연결 로드(1490)는 지지 베이스(1470)의 둘레를 따라 복수 개가 제공된다. 연결 로드(1490)들은 서로 이격되게 위치된다. 인접하는 연결 로드(1490)들 간의 이격된 공간(1492)은 제2배기 통로(1640)를 통해서 배기되는 흄이 배기관(1404)을 향하는 방향으로 흐르는 통로로 제공된다.
상술한 구조에서, 제1배기 통로(1620)는 제2배기 통로(1640)보다 낮은 높이에 위치된다. 제1배기 통로(1620)는 제2배기 통로(1640)보다 배액 컵(1200)에 인접하게 위치된다. 또한, 제2배기 통로(1640)는 제1배기 통로(1620)보다 상체(1440)의 상벽에 인접하게 위치된다. 제1배기 통로(1620)에서 배기관(1404)까지의 배기 경로는 제2배기 통로(1640)에서 배기관(1404)까지의 배기 경로보다 더 짧게 제공된다.
도 8은 도 6의 홈 포트에서 흄이 배출되는 상태를 보여준다.
노즐 유닛(460)이 대기 위치에 위치할 때, 프리 디스펜스 또는 오토 디스펜스 동작 중에 노즐들(467)로부터 처리액이 토출된다. 노즐들(467)의 토출단은 홈 포트(490)보다 높게 위치된다. 노즐들(467)의 토출단(467a)은 상체(1440)의 상벽(1444)과 인접하게 위치될 수 있다. 도 8에서는 모든 노즐들(467)로부터 동시에 처리액이 토출되는 것으로 도시하였다. 그러나 이와 달리 복수의 노즐들(467) 중 선택된 노즐(467)에서만 처리액이 토출될 수 있다.
처리액은 상체(1440)의 상벽(1444)에 형성된 유입구(1444a), 바디(1480)의 상벽(1484)에 형성된 개구(1484a), 그리고 바디(1480)의 하벽(1486)에 형성된 홀(1486a)을 통해 아래로 떨어져 배액 컵(1200)의 수용 공간(1202)에 수용된다. 수용 공간(1202)에 수용된 처리액은 배액관(1206)을 통해 수용 공간(1202) 외부로 배기된다. 처리액이 산 또는 염기 성분을 포함하는 경우, 처리액이 수용 공간(1202)에 잔류하고 있는 동안 처리액으로부터 흄이 발생된다. 흄은 수용 공간(1202) 내에서 상부로 흐르며, 흄들 중 대부분은 제1배기 통로(1620)를 통해 배액 컵(1200)과 하체(1420) 사이에 형성된 배기 공간(1428)으로 유입된다. 이후 흄들은 하체(1420)에 결합된 배기관(1404)을 통해서 외부로 배기된다.
흄들 중 일부는 제1배기 통로(1620)로 배기되지 않고 바디(1480)를 통해서 상부로 흐른다. 이들은 제2배기 통로(1640)를 통해 배액 컵(1200)과 상체(1440) 사이의 통로로 흐른다. 이후 이들 흄은 지지 베이스(1470)과 바디(1480) 사이에 형성된 공간(1492)을 통해 배액 컵(1200)과 하체(1420) 사이에 제공된 배기 공간(1428)으로 흐른 후 배기관(1404)을 통해서 외부로 배기된다.
또한, 노즐(467)로부터 토출되고 있는 도중에도 처리액으로부터 흄이 발생된다. 이 때 발생한 흄은 그 발생 위치에 따라서 제1배기 통로(1620) 또는 제2배기 통로(1640)를 통해 배기 공간(1428)으로 유입된다.
도 6의 실시예에 의하면, 처리액으로부터 발생되는 흄들의 대부분은 노즐(467)과 멀리 이격된 제1배기 통로(1620)를 통해서 배기된다. 따라서 흄들이 노즐(467)에 도달하여 노즐(467)의 외측면에 다량 부착되는 것을 최소화할 수 있다. 또한, 제1배기 통로(1620)를 통해서 배기되지 않는 소량의 흄들은 제2배기 통로(1640)를 통해 배기된다. 따라서 흄들이 홈 포트(490)의 외부로 빠져나가 노즐(467) 및 주변 장치를 오염시키는 것을 최소화할 수 있다.
또한, 바디(1480)에 홀(1486a)이 형성된 하벽(1486)을 제공함으로써 바디(1480)에 하벽(1486)이 제공되지 않는 경우에 비해 더 많은 흄을 제1배기 통로(1620)를 통해 배기될 수 있다.
또한, 도 6의 실시예에 의하면, 제1배기 통로(1620)로 흐르는 흄과 제2배기 통로(1640)로 흐르는 흄 동일한 배기 공간(1428)으로 유입된다. 이 때 제1배기 통로(1620)가 제2배기 통로(1640)에 비해서 배기관(1404)에 더 인접하게 위치되어 있으므로 제2배기 통로(1640)보다 제1배기 통로(1620)에 더 큰 읍압이 제공된다. 이로 인해 더 많은 량의 흄을 제1배기 통로(1620)를 이용하여 배출할 수 있다.
상술한 예에서는 하체(1420)에 하나의 배기관(1404)이 결합된 것으로 도시하였다. 그러나 이와 달리 도 9에 도시된 바와 같이 홈 포트(490)의 하체(1420)에는 복수의 배기관(1404a, 1404b)이 결합되고, 이들 배기관(1404a, 1404b)들은 펌프(1406)가 설치된 통합 배기관(1405)에 연결될 수 있다. 이 경우, 배액 컵(1200)과 하우징(1400) 사이의 공간으로 더 큰 음압을 제공할 수 있다.
도 10은 도 6의 홈 포트의 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이고, 도 11은 도 10의 홈 포트의 분해 사시도이다.
도 10을 참조하면, 홈 포트(490a)는 배액 컵(2200), 내측 하우징(2400), 외측 하우징(2600), 그리고 삽입체(2600)를 가진다. 배액 컵(2200)은 도 6의 배액 컵(2200)과 유사한 구조를 가질 수 있다.
내측 하우징(2400)은 배액 컵(2200)을 감싸도록 위치된다. 내측 하우징(2400)은 배액 컵(2200)의 하부와 측부를 감싸도록 배치된다. 내측 하우징(2400)의 하벽에는 배기구(2402)가 형성되고, 배기구(2402)에는 제1배기관(2404)이 연결된다. 제1배기관(2404)에 의해 내측 하우징(2400) 내에는 음압이 제공되어 내측 하우징(2400) 내 분위기가 배기된다. 배액 컵(2200)의 외벽과 내측 하우징(2400)의 측벽 사이에는 이격 공간이 제공된다. 이격 공간은 제1배기 공간(2428)으로 제공된다. 배액 컵(2200)의 수용 공간(2202)에 잔류하는 처리액으로부터 발생되는 흄은 제1배기 공간(2428)으로 유입된 후 제1배기관(2404)을 통해 내측 하우징(2400)의 외부로 배기된다. 내측 하우징(2400)에서 측벽(2440) 상단은 배액 컵(2200)의 상단보다 높게 위치된다. 일 예에 의하면, 내측 하우징(2400)은 도 6의 홈 포트(490)에서 하우징(1400)의 하체(1420)와 유사한 구조로 제공될 수 있다.
삽입체(2600)는 내측 하우징(2400)의 상부에 위치된다. 삽입체(2600)는 바디(2802)를 가진다. 바디(2802)는 내측 하우징(2400) 상에 놓여진다. 바디(2802)는 측벽(2820), 상벽(2840), 그리고 하벽(2860)을 가진다. 바디(2802)의 측벽(2820)은 링 형상을 가진다. 바디(2802)의 측벽은 홀이 없는 블로킹 면(blocking face)으로 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 바디(2802)의 측벽(2820)은 내측 하우징(2400)과 대응되는 크기 및 형상을 가질 수 있다. 바디(2802)의 하벽(2860)에는 복수의 홀(2860a)이 형성된다. 홀(2860a)은 노즐 유닛(460)에 제공된 노즐들(467)의 수와 동일한 수로 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 노즐 유닛(460)이 대기 위치에 위치한 상태에서 각각의 홀(2860a)은 각각의 노즐(467)과 중첩되는 위치에 제공된다. 바디(2802)의 상벽(2840)에는 개구(2840a)가 형성된다. 바디(2802)의 상벽(2840)에 형성된 개구(2840a)와 바디(2802)의 하벽(2860)의 홀(2860a)들은 노즐들(467)로부터 토출된 처리액이 통과하는 통공으로 기능한다.
외측 하우징(2600)은 내측 하우징(2400) 및 삽입체(2600)를 감싸도록 배치된다. 외측 하우징(2600)은 내측 하우징(2400) 및 삽입체(2600)의 상부, 하부, 그리고 측부를 전체적으로 감싸도록 배치된다. 외측 하우징(2600)의 하벽(2620)에는 배기구(2402)가 형성되고, 배기구(2402)에는 제2배기관(2604)이 연결된다. 이에 의해 외측 하우징(2600) 내에는 음압이 제공되어 외측 하우징(2600) 내부를 배기한다. 외측 하우징(2600)의 상벽(2640)에는 유입구(2640a)가 형성된다. 내측 하우징(2400)과 외측 하우징(2600) 사이, 그리고 배액 컵(2200)과 외측 하우징(2600) 사이에는 이격 공간이 제공된다. 이격 공간은 제2배기 공간(2628)으로 제공된다. 배액 컵(2200)의 수용 공간(2202)에 잔류하는 처리액으로부터 발생되는 흄들 중 일부는 위 제2통로를 통해 제2배기 공간(2628)으로 유입된 후 제2배기관(2604)을 통해 외측 하우징(2600) 외부로 배기된다.
삽입체(2600)는 제1배기 통로(2920) 및 제2배기 통로(2940)를 제공한다. 삽입체(2600)는 배액 컵(2200)의 상단과 외측 하우징(2600)의 상벽 사이에 위치한다. 삽입체(2600)는 외측 하우징(2600)의 상벽과 상하 방향으로 이격된다. 또한 삽입체(2600)는 배액 컵(2200)의 상단과 상하 방향으로 이격되게 위치한다. 삽입체(2600)의 하단과 배액 컵(2200)의 상단 사이에 형성된 제1간극은 제1배기 통로(2920)로 기능한다. 삽입체(2600)의 상단과 외측 하우징(2600)의 상벽(2640) 사이에 형성된 제2간극은 제2배기 통로(2940)로 기능한다. 제1간극은 링 형상으로 제공된다. 또한, 제2간극은 링 형상으로 제공된다. 제1간극과 제2간극은 동일한 크기로 제공될 수 있다.
상술한 구조에서, 제1배기 통로(2920)는 제2배기 통로(2940)보다 낮은 높이에 위치된다. 제1배기 통로(2920)는 제2배기 통로(2940)보다 배액 컵(2200)에 인접하게 위치된다. 또한, 제2배기 통로(2940)는 제1배기 통로(2920)보다 외측 하우징(2600)의 상벽에 인접하게 위치된다
일 예에 의하면, 도 10에 도시된 바와 같이 제1배기관(2404)과 제2배기관(2604)은 통합 배기관(2504)과 연결되고, 통합 배기관(2504)에는 펌프(2506) 및 밸브(2504a)가 설치될 수 있다. 이 경우, 내측 하우징(2400)과 외측 하우징(2600)에 각각 서로 동일한 음압을 제공할 수 있다. 선택적으로 도 12에 도시된 바와 같이 제1배기관(2404)과 제2배기관(2604)에 각각 밸브(2404a, 2604a)를 설치하고, 밸브(2404a, 2604a)의 개방률을 조절하여 내측 하우징(2400)과 외측 하우징(2600)에 서로 상이한 음압을 제공할 수 있다. 선택적으로 도 13에 도시된 바와 같이 제1배기관(2404)과 제2배기관(2604)에 각각 펌프(2506a, 2506b))가 설치되어 내측 하우징(2400)과 외측 하우징(2600)에 제공되는 음압을 각각 조절할 수 있다.
도 14는 도 10의 홈 포트에서 흄이 배출되는 상태를 보여준다.
프리 디스펜스 동작 또는 오토 디스펜스 동작 중에 노즐들(467)로부터 처리액이 토출된다. 도 14에서는 모든 노즐들(467)로부터 동시에 처리액이 토출되는 것으로 도시하였다. 그러나 이와 달리 복수의 노즐들(467) 중 선택된 노즐(467)에서만 처리액이 토출될 수 있다. 처리액은 외측 하우징(2600)의 상벽(2640)에 형성된 유입구(2640a), 바디(2802)의 상벽(2840)에 형성된 개구(2840a), 바디(2802)의 하벽(2860)에 형성된 홀(2860a)을 통해 아래로 떨어져 배액 컵(2200)의 수용 공간(2202)에 수용된다. 수용 공간(2202)에 수용된 처리액은 배액관(2206)을 통해 수용 공간(2202) 외부로 배기된다. 처리액이 산 또는 염기 성분을 포함하는 경우, 처리액이 수용 공간(2202)에 잔류하고 있는 동안 처리액으로부터 흄이 발생된다. 흄은 수용 공간(2202) 내에서 상부로 흐르며, 흄들 중 대부분은 제1배기 통로(2920)를 통해 배액 컵(2200)과 내측 하우징(2400) 사이에 제공된 제1배기 공간(2428)으로 유입된다. 이후 흄들은 내측 하우징(2400)에 결합된 제1배기관(2404)을 통해서 외부로 배기된다. 흄들 중 일부는 제1배기 통로(2920)로 배기되지 않고 삽입체(2600)를 통해서 상부로 흐른다. 이들은 제2배기 통로(2940)를 통해 배액 컵(2200)과 외측 하우징(2600) 사이에 형성된 제2배기 공간(2428)으로 유입된다. 이후 흄들은 외측 하우징(2600)에 결합된 제2배기관(2604)을 통해 외측 하우징(2600) 외부로 배기된다.
도 6에서는 노즐 유닛(460)이 복수의 노즐(467)을 구비하고, 복수의 노즐들(467) 전체 또는 선택된 노즐(467)로부터 홈 포트(490a)로 처리액이 공급되는 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리 도 15에 도시된 바와 같이 노즐 유닛(460)은 하나의 노즐(467)만을 구비하고, 홈 포트(490b)는 이에 대응되는 형상으로 제공될 수 있다. 이 경우, 홈 포트(490b)는 상부에서 바라볼 때 원형으로 제공될 수 있다.
상술한 예에서는 기판 처리 장치가 기판을 세정하는 장치인 것으로 예를 들어 설명하였다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 기판을 액 처리하는 노즐이 대기하는 홈 포트를 구비한 다른 종류의 공정을 수행하는 장치에도 적용될 수 있다. 예컨대, 본 발명의 홈 포트는 기판에 포토 레지스트 또는 현상액을 공급하는 노즐을 구비하는 장치에 제공될 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한, 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한, 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
401: 처리 유닛 460: 노즐 유닛
490: 홈 포트 1200: 배액 컵
1400: 하우징 1420: 하체
1428: 배기 공간 1440: 상체
1460: 삽입체 1620: 제1배기 통로
1640: 제2배기 통로 2200: 배액 컵
2400: 내측 하우징 2428: 제1배기 공간
2600: 외측 하우징 2628: 제2배기 공간
2800: 삽입체 2920: 제1배기 통로
2940: 제2배기 통로

Claims (20)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판의 액 처리가 이루어지는 처리 유닛과
    상기 처리 유닛의 외측에 제공되는 홈 포트와; 그리고
    상기 처리 유닛에 위치된 기판으로 처리액을 공급하고, 상기 처리 유닛에서 기판에 대해 액 처리를 수행하는 공정 위치와 상기 홈 포트에서 대기하는 대기 위치 간에 이동 가능하게 제공되는 노즐을 가지는 노즐 유닛을 포함하고,
    상기 홈 포트는,
    상기 노즐에서 토출되는 처리액을 수용하는 수용 공간을 가지는 배액 컵과;
    상기 배액 컵을 감싸도록 제공되고 상기 처리액에서 발생되는 흄을 배기하는 배기 공간을 가지는 하우징을 가지고,
    상기 홈 포트에는,
    상기 배액 컵 내에서 처리액으로부터 발생되는 흄이 상기 배기 공간으로 흐르는 제1배기 통로 및 제2배기 통로가 제공되고,
    상기 제2배기 통로는 상기 제1배기 통로보다 상부에 위치되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1배기 통로는 상기 배액 컵과 인접한 위치에서 상기 배액 컵의 상부에 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 하우징은,
    상기 배액 컵의 상부에 배치되며 상기 노즐 유닛으로부터 토출되는 처리액이 유입되는 유입구가 형성된 상벽을 구비하고,
    상기 제2배기 통로는 상기 상벽과 인접한 위치에서 상기 상벽의 아래에 제공되는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1배기 통로 및/또는 상기 제2배기 통로는 링 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 홈 포트는 상하 방향으로 관통된 통공을 가지는 삽입체를 더 포함하며,
    상기 삽입체는 상기 하우징의 내측벽과 이격되게 위치되는 바디를 가지며,
    상기 바디는 상기 배액 컵보다 높고 상기 하우징의 상벽보다는 낮은 위치에 배치되며,
    상기 바디와 상기 배액 컵 사이의 제1간극은 상기 제1배기 통로로 제공되고,
    상기 바디와 상기 하우징의 상벽 사이의 제2간극은 상기 제2배기 통로로 제공되는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 하우징은,
    상기 배액 컵의 측부 및 하부를 감싸는 하체와;
    상기 하체의 상부에 위치되는 상체를 구비하며,
    상기 삽입체는,
    지지 베이스와;
    상기 바디와 상기 지지 베이스를 연결하는 연결 로드들을 더 포함하며,
    상기 하체의 상단은 상기 배액 컵의 상단보다 높게 위치되고,
    상기 지지 베이스의 저면은 상기 하체에 의해 지지되고,
    상기 상체는 상기 지지 베이스에 의해 지지되고,
    상기 제2배기 통로를 통해 배기되는 흄은 상기 연결 로드들 사이의 공간을 통해서 상기 배기 공간으로 흐르도록 제공되는 기판 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상하 방향을 따른 상기 바디의 길이는 상기 제1간극 및 상기 제2간극보다 크게 제공되는 기판 처리 장치.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 제1배기 통로를 통해 배기되는 흄과 상기 제2배기 통로를 통해 배기되는 흄은 동일한 상기 배기 공간을 통해서 배기되는 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결되고,
    상기 제1배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로는 상기 제2배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로보다 더 짧게 제공되는 기판 처리 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 배기 공간은 제1배기 공간과 제2배기 공간을 포함하고,
    상기 하우징은,
    상기 배기 컵을 감싸도록 배치되고, 상기 배액 컵과의 사이에 상기 제1배기 공간을 가지는 내측 하우징과;
    상기 내측 하우징을 감싸도록 배치되며, 상기 내측 하우징과의 사이에 상기 제2배기 공간을 가지는 외측 하우징을 더 포함하고,
    상기 제1배기 통로를 통해 흐르는 흄은 상기 제1배기 공간과 연결되고,
    상기 제2배기 통로는 상기 제2배기 공간과 연결되는 기판 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 홈 포트는 상하 방향으로 관통된 통공을 가지는 삽입체를 더 포함하며,
    상기 삽입체는 바디를 가지며,
    상기 바디는 상기 배액 컵보다 높고 상기 외측 하우징의 상벽보다는 낮은 위치에 배치되며,
    상기 바디와 상기 배액 컵 사이의 제1간극은 상기 제1배기 통로로 제공되고,
    상기 바디와 상기 외측 하우징의 상벽 사이의 제2간극은 상기 제2배기 통로로 제공되는 기판 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 내측 하우징의 상단은 상기 배액 컵의 상단보다 높은 위치에 배치되고,
    상기 바디의 하단은 상기 내측 하우징의 상단에 의해 지지되는 기판 처리 장치.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 제1배기 공간에는 제1배기관이 연결되고,
    상기 제2배기 공간에는 제2배기관이 연결되며,
    상기 제1배기관과 상기 제2배기관은 통합 배기관과 연결되고,
    상기 통합 배기관에는 감압 부재가 설치되는 기판 처리 장치.
  14. 제1항 내지 제5항 중 어느 하나에 있어서,
    상기 노즐 유닛은,
    베이스 블럭과;
    상기 베이스 블럭에 결합되고, 노즐을 가지는 복수의 노즐 부재를 포함하고,
    상기 복수의 노즐 부재는 일 방향으로 나란하게 상기 베이스 블럭에 결합되고,
    상기 하우징 및 상기 배액 컵 각각에서 상기 노즐에서 토출되는 처리액이 유입되는 유입구는 그 길이 방향이 상기 노즐 유닛이 상기 대기 위치에 위치될 때 상기 노즐들이 배열되는 방향과 평행하게 제공되는 기판 처리 장치.
  15. 기판에 처리액을 공급하는 노즐이 대기하는 홈 포트에 있어서,
    상기 노즐에서 토출되는 처리액을 수용하는 수용 공간을 가지는 배액 컵과;
    상기 배액 컵을 감싸도록 제공되고 상기 처리액에서 발생되는 흄을 배기하는 배기 공간을 가지는 하우징과; 그리고
    상기 하우징 내에서 상기 하우징의 상벽과 배액 컵 사이에 배치된 삽입체를 포함하고,
    상기 삽입체와 상기 배액 컵 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제1배기 통로가 형성되고,
    상기 삽입체와 상기 하우징 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제2배기 통로가 형성되며,
    상기 제2배기 통로는 상기 제1배기 통로보다 높은 위치에 제공되고,
    상기 노즐 유닛에서 토출된 처리액은 상기 상벽에 형성된 유입구, 상기 삽입체에 형성된 통공을 통해서 상기 배액 컵으로 유입되는 홈 포트.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제1배기 통로 및 상기 제2배기 통로는 각각 링 형상으로 제공되고,
    상기 하우징은 상기 배액 컵의 상단보다 낮은 위치에서 상기 배기 공간에 연결되고,
    상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결되는 포함하는 홈 포트.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    상기 제1배기 통로 및 상기 제2배기 통로는 동일한 배기 공간으로 상기 흄을 안내하도록 제공되는 홈 포트.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결되고,
    상기 제1배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로는 상기 제2배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로보다 더 짧게 제공되는 홈 포트.
  19. 제17항에 있어서,
    상기 하우징은,
    상기 배액 컵의 측부 및 저부를 감싸는 하체와;
    상기 하체의 상부에 위치되는 상체를 구비하며,
    상기 삽입체는,
    지지 베이스와;
    상기 바디와 상기 지지 베이스를 연결하는 연결 로드들을 더 포함하며,
    상기 하체의 상단은 상기 배액 컵의 상단보다 높게 위치되고,
    상기 지지 베이스의 저면은 상기 하체에 의해 지지되고,
    상기 상체는 상기 지지 베이스의 의해 지지되고,
    상기 제2배기 통로를 통해 배기되는 흄은 상기 연결 로드들 사이의 공간을 통해서 상기 배기 공간으로 흐르도록 제공되는 홈 포트.
  20. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판의 액 처리가 이루어지는 처리 유닛과
    상기 처리 유닛의 외측에 제공되는 홈 포트와; 그리고
    상기 처리 유닛에 위치된 기판으로 처리액을 공급하고, 상기 처리 유닛에서 기판에 대해 액 처리를 수행하는 공정 위치와 상기 홈 포트에서 대기하는 대기 위치 간에 이동 가능하게 제공되는 노즐을 가지는 노즐 유닛을 포함하고
    상기 홈 포트는,
    상기 노즐에서 토출되는 처리액을 수용하는 수용 공간을 가지는 배액 컵과;
    상기 배액 컵을 감싸도록 제공되고 상기 처리액에서 발생되는 흄을 배기하는 배기 공간을 가지는 하우징과; 그리고
    상기 하우징 내에서 상기 하우징의 상벽과 배액 컵 사이에 배치된 삽입체를 포함하고,
    상기 삽입체와 상기 배액 컵 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제1배기 통로가 형성되고,
    상기 삽입체와 상기 하우징 사이에는 상기 배기 공간으로 흄을 안내하는 제2배기 통로가 형성되며,
    상기 제2배기 통로는 상기 제1배기 통로보다 높은 위치에 제공되고,
    상기 배기 공간에는 감압 부재가 설치된 배기관이 연결되고,
    상기 제1배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로는 상기 제2배기 통로에서 상기 배기관까지의 배기 경로보다 더 짧게 제공되는 기판 처리 장치.
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