TWI729584B - 濕製程用清潔機構 - Google Patents
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Abstract
本本發明在於提供一種應用上更多元，能降低成本、耗能、故障率，並節約空間的濕製程用清潔機構。其技術手段：為所述清潔機構能配合濕製程設備應用，其特徵在於：清潔機構至少包括配合濕製程設備設置的機器臂機構及清潔頭組；機器臂機構包含水平、垂直位移機構及機器臂、快速公接頭，水平位移機構設於濕製程設備後側，垂直位移機構設於水平位移機構頂側面，並能被其帶動位移，機器臂設於垂直位移機構前側處，能被其帶動位移，快速公接頭設於機器臂自由端；清潔頭組至少包含水清洗頭、藥液清潔頭及乾燥頭，其三者皆設有快速母接頭，水清洗頭能調整噴水角度，快速母、公接頭能相互配合，使各頭能被機器臂機構分別提起帶動位移、以供發揮出相應功能用。
Description
本發明涉及一種能配合濕製程設備應用的清潔結構，尤指一種濕製程用清潔機構。
在現今的半導體製程中，濕式蝕刻是最早、最廣泛被使用的蝕刻技術，其為利用材料與特定溶液之間所進行的化學反應，以將材料中不需要的部分溶解而去除掉，而保留下需要的部分，具有製程單純、產量速度快、成本低以及優異的蝕刻選擇比。
一個濕製程設備上，為了在製程中進行沖水、噴藥、乾燥等動作，存在著數個擺臂，且各自具有相應的功能，在應用上非常單一，隨著半導體產業的進步，製程和元件的需求不斷提升，變得難以跟上製程的進步，還有擺臂還會佔用到非常多的空間，而且還需要對應數量的動力源，無形中增加了設備的成本與耗能，另一方面還提高了故障率，同時了避免發生相互干涉的問題，在擺臂的控制上，更有著一定的困難度。
有鑑於此，如何提供一種能解決前述問題的濕製程用清潔機構結構，便成為本發明欲改進的課題。
本發明的目的在於提供一種應用上更多元，能降低成本、耗能、故障率，並節約空間的濕製程用清潔機構。
本發明正是為了解決上述問題而研發的，為達到本發明的目的，本發明的技術手段是這樣實現的，為一種濕製程用清潔機構，所述清潔機構(100)能配合濕製程設備(200)應用，其特徵在於：所述清潔機構(100)，其至少包括有配合該濕製程設備(200)設置的一機器臂機構(1)、及一清潔頭組(2)；所述機器臂機構(1)，其至少包含有一水平位移機構(11)、一垂直位移機構(12)、一機器臂(13)、及一快速公接頭(14)，該水平位移機構(11)設於該濕製程設備(200)後側處，該垂直位移機構(12)設於該水平位移機構(11)頂側面處，並能被其所帶動而位移，該機器臂(13)設於該垂直位移機構(12)前側處，能被其所帶動而位移，該快速公接頭(14)設於該機器臂(13)自由端處；所述清潔頭組(2)，其至少包含有排列設置於該濕製程設備(200)鄰近於該機器臂機構(1)一側處的一水清洗頭(21)、一藥液清潔頭(22)、及一乾燥頭(23)，其三者皆設有一位於各頭頂端處的快速母接頭(24)，該水清洗頭(21)能調整噴水角度，該快速母接頭(24)能與該快速公接頭(14)配合，使各頭能被該機器臂機構(1)分別提起帶動位移、以供發揮出相應功能用。
更優選的是，所述水清洗頭(21)、該藥液清潔頭(22)、及該乾燥頭(23)，其三者的該快速母接頭(24)底端處，還分別設有一定位部(25)；所述清潔頭組(2)，其還包括有一定位盤組(26)，該定位盤組(26)還包含有一托盤(261)、及間距各不相同且排列定位於該托盤(261)內的一第一架體(262)、一第二架體(263)、及一第三架體(264)，該第一架體(262)能與該水清洗頭(21)之該定位部(25)配合、以定位放置該水清洗頭(21)，該第二架體(263)能與該藥液清潔頭(22)之該定位部(25)配合、以定位放置該藥液清潔頭(22)，該第三架體(264)能與該乾燥頭(23)之該定位部(25)配合、以定位放置
該乾燥頭(23)。
更優選的是，所述機器臂(13)，其還具有與該垂直位移機構(12)連接的一第一轉臂(131)、一樞設於該第一轉臂(131)自由端處的第二轉臂(132)、及一樞設於該第二轉臂(132)自由端處的第三轉臂(133)，該第三轉臂(133)自由端與該快速公接頭(14)連接。
更優選的是，所述定位部(25)，其還包括有一各頭之該快速母接頭(24)底端處的片體(251)、設於該片體(251)左側自由端處的兩左定位銷(252)、及設於該片體(251)右側自由端處的兩右定位銷(253)；所述第一架體(262)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第一左L支架(a1)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第一右L支架(b1)、設於該第一左L支架(a1)頂端的兩第一左定位孔(c1)、及設於該第一右L支架(b1)頂端的兩第一右定位孔(d1)，該第一左定位孔(c1)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第一右定位孔(d1)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合；所述第二架體(263)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第二左L支架(a2)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第二右L支架(b2)、設於該第二左L支架(a2)頂端的兩第二左定位孔(c2)、及設於該第二右L支架(b2)頂端的兩第二右定位孔(d2)，該第二左定位孔(c2)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第二右定位孔(d2)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合；所述第三架體(264)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第三左L支架(a3)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第三右L支架(b3)、設於該第三左L支架(a3)頂端的兩
第三左定位孔(c3)、及設於該第三右L支架(b3)頂端的兩第三右定位孔(d3)，該第三左定位孔(c3)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第三右定位孔(d3)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合。
更優選的是，所述水清洗頭(21)，其還包括有分別設於相應之該片體(251)底側兩端的兩樞轉支架(211)、一兩端與相應之該樞轉支架(211)自由端樞接的噴水頭組(212)、設於相應之該樞轉支架(211)自由端處的兩限位螺絲(213)、一設於該噴水頭組(212)前側處的前殼體(214)、及一設於該噴水頭組(212)後側處的後殼體(215)，該樞轉支架(211)自由端處還分別具有一刻度部(2111)、一凹槽部(2112)、及一定位擋片(2113)，該刻度部(2111)能供判斷該噴水頭組(212)角度用，該凹槽部(2112)能供容置該噴水頭組(212)相應端用，該定位擋片(2113)能供定位該噴水頭組(212)相應端用；所述藥液清潔頭(22)，其還包括有分別設於相應之該片體(251)底側兩端的兩垂直支架(221)、一兩端與相應之該垂直支架(221)自由端連接的水平支架(222)、及至少一設於該水平支架(222)上的噴藥頭(223)；所述乾燥頭(23)，其還包括有設於相應之該片體(251)底側的L字形支架(231)、及一設於該L字形支架(231)上的噴氣頭(232)。
更優選的是，所述水平位移機構(11)，其還具有一能供保護內部裝置的第一殼體(111)；所述垂直位移機構(12)，其還具有一能供保護內部裝置的第二殼體(121)；所述快速公接頭(14)，其底端還具有一凸接頭(141)；所述快速母接頭(24)，其中央處還具有一能與該凸接頭(141)配合的連接孔(241)。
更優選的是，所述水清洗頭(21)、該藥液清潔頭(22)、及該
乾燥頭(23)，其三者的該快速母接頭(24)外，還分別設有一保護殼體(27)。
更優選的是，所述第三轉臂(133)，其與該快速公接頭(14)間，還設有一連接軸件(15)，能帶動該快速公接頭(14)轉動。
與現有技術相比，本發明的效果如下所示：本發明清潔機構(100)，利用機器臂機構(1)及清潔頭組(2)的設置，機器臂(13)能被水平位移機構(11)和垂直位移機構(12)帶動，通過快速公接頭(14)，依據製程階段，連接水清洗頭(21)、或是藥液清潔頭(22)、或是乾燥頭(23)，兩者的配合應用上能更多元，所以不用設置多個擺臂，不但能降低成本、耗能、故障率，還能節約空間，如此一來，整體的運作效率還能提昇。
1‧‧‧機器臂機構
24‧‧‧快速母接頭
11‧‧‧水平位移機構
241‧‧‧連接孔
111‧‧‧第一殼體
25‧‧‧定位部
12‧‧‧垂直位移機構
251‧‧‧片體
121‧‧‧第二殼體
252‧‧‧左定位銷
13‧‧‧機器臂
253‧‧‧右定位銷
131‧‧‧第一轉臂
26‧‧‧定位盤組
132‧‧‧第二轉臂
261‧‧‧托盤
133‧‧‧第三轉臂
262‧‧‧第一架體
14‧‧‧快速公接頭
263‧‧‧第二架體
141‧‧‧凸接頭
264‧‧‧第三架體
15‧‧‧連接軸件
27‧‧‧保護殼體
2‧‧‧清潔頭組
100‧‧‧清潔機構
21‧‧‧水清洗頭
200‧‧‧濕製程設備
211‧‧‧樞轉支架
a1‧‧‧第一左L支架
212‧‧‧噴水頭組
b1‧‧‧第一右L支架
213‧‧‧限位螺絲
c1‧‧‧第一左定位孔
214‧‧‧前殼體
d1‧‧‧第一右定位孔
215‧‧‧後殼體
a2‧‧‧第二左L支架
22‧‧‧藥液清潔頭
b2‧‧‧第二右L支架
221‧‧‧垂直支架
c2‧‧‧第二左定位孔
222‧‧‧水平支架
d2‧‧‧第二右定位孔
223‧‧‧噴藥頭
a3‧‧‧第三左L支架
23‧‧‧乾燥頭
b3‧‧‧第三右L支架
231‧‧‧L字形支架
c3‧‧‧第三左定位孔
232‧‧‧噴氣頭
d3‧‧‧第三右定位孔
第1圖：本發明的立體示意圖。
第2圖：本發明的分解示意圖。
第3圖：為第2圖A部分的分解示意圖。
第4圖：為第2圖B部分的分解示意圖。
第5圖：為第2圖C部分的分解示意圖。
第6圖：為第2圖D部分的分解示意圖。
第7圖：為第6圖E部分的分解示意圖。
第8圖：本發明應用水清洗頭時的立體實施示意圖。
第9圖：本發明由水清洗頭更換為應用藥液清潔頭時的立體實施示意圖。
第10圖：本發明由藥液清潔頭更換為應用乾燥頭時的立體實施示意圖。
以下依據圖面所示的實施例詳細說明如後。首先需要注意的是，在附圖中，相同的構成要素或部件盡可能用相同的附圖標記代表。在說明本發明方面，為了不混淆本發明的要旨，省略關於相關公知功能或構成的具體說明。
如第1圖至第10圖所示，圖中揭示出，為一種濕製程用清潔機構，所述清潔機構(100)能配合濕製程設備(200)應用，其特徵在於：所述清潔機構(100)，其至少包括有配合該濕製程設備(200)設置的一機器臂機構(1)、及一清潔頭組(2)；所述機器臂機構(1)，其至少包含有一水平位移機構(11)、一垂直位移機構(12)、一機器臂(13)、及一快速公接頭(14)，該水平位移機構(11)設於該濕製程設備(200)後側處，該垂直位移機構(12)設於該水平位移機構(11)頂側面處，並能被其所帶動而位移，該機器臂(13)設於該垂直位移機構(12)前側處，能被其所帶動而位移，該快速公接頭(14)設於該機器臂(13)自由端處；所述清潔頭組(2)，其至少包含有排列設置於該濕製程設備(200)鄰近於該機器臂機構(1)一側處的一水清洗頭(21)、一藥液清潔頭(22)、及一乾燥頭(23)，其三者皆設有一位於各頭頂端處的快速母接頭(24)，該水清洗頭(21)能調整噴水角度，該快速母接頭(24)能與該快速公接頭(14)配合，使各頭能被該機器臂機構(1)分別提起帶動位移、以供發揮出相應功能用。
其中，通過機器臂機構(1)及清潔頭組(2)的設置配合，組成本發明清潔機構(100)，因為機器臂(13)能通過快速公接頭(14)，根據製程階段，快速連接水清洗頭(21)、或是藥液清潔頭(22)、或是乾燥頭(23)，請參
閱第8至10圖，機器臂機構(1)及清潔頭組(2)的設計，應用上能更多元化，能依據需求變動，還不用設置多個擺臂，成本、耗能、故障率還能變低，並且更是節約了空間，整體的運作效率還能提昇，非常有利於廠商應用。
請參閱第2圖，所述水清洗頭(21)、該藥液清潔頭(22)、及該乾燥頭(23)，其三者的該快速母接頭(24)底端處，還分別設有一定位部(25)；所述清潔頭組(2)，其還包括有一定位盤組(26)，該定位盤組(26)還包含有一托盤(261)、及間距各不相同且排列定位於該托盤(261)內的一第一架體(262)、一第二架體(263)、及一第三架體(264)，該第一架體(262)能與該水清洗頭(21)之該定位部(25)配合、以定位放置該水清洗頭(21)，該第二架體(263)能與該藥液清潔頭(22)之該定位部(25)配合、以定位放置該藥液清潔頭(22)，該第三架體(264)能與該乾燥頭(23)之該定位部(25)配合、以定位放置該乾燥頭(23)。
其中，通過定位部(25)能與第一架體(262)、第二架體(263)及第三架體(264)配合，定位並架高相應的水清洗頭(21)、藥液清潔頭(22)及乾燥頭(23)的定位部(25)，同時讓機器臂(13)能更快速地連接與放置，提高運作效率，而托盤(261)的應用，能便於設置第一架體(262)、第二架體(263)及第三架體(264)，還能避免水清洗頭(21)的液體、藥液清潔頭(22)的藥液，滴落到濕製程設備(200)上，影響到良率。
請參閱第6圖，所述機器臂(13)，其還具有與該垂直位移機構(12)連接的一第一轉臂(131)、一樞設於該第一轉臂(131)自由端處的第二轉臂(132)、及一樞設於該第二轉臂(132)自由端處的第三轉臂(133)，該第三轉臂(133)自由端與該快速公接頭(14)連接。
其中，通過第一轉臂(131)、第二轉臂(132)及第三轉臂(133)的應用，提供一非常穩定的水平面移動，降低晃動的影響，而且還能便於控制，降低成本，便於維護。
請參閱第3圖，所述定位部(25)，其還包括有一各頭之該快速母接頭(24)底端處的片體(251)、設於該片體(251)左側自由端處的兩左定位銷(252)、及設於該片體(251)右側自由端處的兩右定位銷(253)；所述第一架體(262)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第一左L支架(a1)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第一右L支架(b1)、設於該第一左L支架(a1)頂端的兩第一左定位孔(c1)、及設於該第一右L支架(b1)頂端的兩第一右定位孔(d1)，該第一左定位孔(c1)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第一右定位孔(d1)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合；所述第二架體(263)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第二左L支架(a2)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第二右L支架(b2)、設於該第二左L支架(a2)頂端的兩第二左定位孔(c2)、及設於該第二右L支架(b2)頂端的兩第二右定位孔(d2)，該第二左定位孔(c2)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第二右定位孔(d2)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合；所述第三架體(264)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第三左L支架(a3)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第三右L支架(b3)、設於該第三左L支架(a3)頂端的兩第三左定位孔(c3)、及設於該第三右L支架(b3)頂端的兩第三右定位孔(d3)，該第三左定位孔(c3)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第三右定位孔(d3)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合。
其中，通過水清洗頭(21)、藥液清潔頭(22)及乾燥頭(23)的定位部(25)，利用其片體(251)上的左定位銷(252)配合定位在第一、二、三左L支架(a1、a2、a3)的第一、二、三左定位孔(c1、c2、c3)上，以右定位銷(253)配合定位在第一、二、三右L支架(b1、b2、b3)的第一、二、三右定位孔(d1、d2、d3)上，將水清洗頭(21)、藥液清潔頭(22)及乾燥頭(23)架高，避免污染的同時，還能避免碰撞，確保裝置的正常運作。
請參閱第3圖、第4圖、第5圖，所述水清洗頭(21)，其還包括有分別設於相應之該片體(251)底側兩端的兩樞轉支架(211)、一兩端與相應之該樞轉支架(211)自由端樞接的噴水頭組(212)、設於相應之該樞轉支架(211)自由端處的兩限位螺絲(213)、一設於該噴水頭組(212)前側處的前殼體(214)、及一設於該噴水頭組(212)後側處的後殼體(215)，該樞轉支架(211)自由端處還分別具有一刻度部(2111)、一凹槽部(2112)、及一定位擋片(2113)，該刻度部(2111)能供判斷該噴水頭組(212)角度用，該凹槽部(2112)能供容置該噴水頭組(212)相應端用，該定位擋片(2113)能供定位該噴水頭組(212)相應端用；所述藥液清潔頭(22)，其還包括有分別設於相應之該片體(251)底側兩端的兩垂直支架(221)、一兩端與相應之該垂直支架(221)自由端連接的水平支架(222)、及至少一設於該水平支架(222)上的噴藥頭(223)；所述乾燥頭(23)，其還包括有設於相應之該片體(251)底側的L字形支架(231)、及一設於該L字形支架(231)上的噴氣頭(232)。
其中，通過樞轉支架(211)、噴水頭組(212)、限位螺絲(213)、前殼體(214)及後殼體(215)的應用，以便於配合使用需求，並且非常穩定，
而刻度部(2111)、凹槽部(2112)及定位擋片(2113)的設計，還能有利於水清洗頭(21)的角度調整；通過兩垂直支架(221)、水平支架(222)及噴藥頭(223)的應用，讓藥液清潔頭(22)一樣能配合使用需求，還能便於維護；通過L字形支架(231)及噴氣頭(232)的應用，讓乾燥頭(23)能配合使用需求，提供穩定的支撐，避免晃動過大，而影響到處理效果。
請參閱第1圖、第2圖、第6圖，所述水平位移機構(11)，其還具有一能供保護內部裝置的第一殼體(111)；所述垂直位移機構(12)，其還具有一能供保護內部裝置的第二殼體(121)；所述快速公接頭(14)，其底端還具有一凸接頭(141)；所述快速母接頭(24)，其中央處還具有一能與該凸接頭(141)配合的連接孔(241)。
其中，通過第一殼體(111)、第二殼體(121)的應用，避免影響到內部裝置的正常運作，而通過凸接頭(141)與連接孔(241)的應用，讓快速公接頭(14)與快速母接頭(24)能快速配合連接，降低不正確連接的機率。
請參閱第3圖、第4圖、第5圖，所述水清洗頭(21)、該藥液清潔頭(22)、及該乾燥頭(23)，其三者的該快速母接頭(24)外，還分別設有一保護殼體(27)。
其中，通過保護殼體(27)的應用，避免快速母接頭(24)與快速公接頭(14)連接時，所可能產生的氣體或是微粒污染，過度影響到濕製程設備(200)內部環境。
請參閱第7圖，所述第三轉臂(133)，其與該快速公接頭(14)間，還設有一連接軸件(15)，能帶動該快速公接頭(14)轉動。
其中，通過連接軸件(15)的應用，讓第三轉臂(133)能順利帶
動該快速公接頭(14)，以順利地帶動該水清洗頭(21)、該藥液清潔頭(22)、該乾燥頭(23)，使其三者能穩定運作。
以上在圖式和說明書中公開了最佳實施例。其中使用了特定的術語，但這只是出於為了說明本發明的目的而使用的，並非用於意義限定或限制申請專利範圍中記載的本發明的範圍。因此，只要是本技術領域的技術人員便會理解，可以由此導致多樣的變形及均等的其他實施例。因此，本發明的真正的技術保護範圍應根據附帶的申請專利範圍的技術思想確定。
1‧‧‧機器臂機構
2‧‧‧清潔頭組
11‧‧‧水平位移機構
21‧‧‧水清洗頭
111‧‧‧第一殼體
22‧‧‧藥液清潔頭
12‧‧‧垂直位移機構
23‧‧‧乾燥頭
121‧‧‧第二殼體
24‧‧‧快速母接頭
13‧‧‧機器臂
26‧‧‧定位盤組
131‧‧‧第一轉臂
261‧‧‧托盤
132‧‧‧第二轉臂
100‧‧‧清潔機構
133‧‧‧第三轉臂
200‧‧‧濕製程設備
14‧‧‧快速公接頭
Claims (8)
- 一種濕製程用清潔機構，所述清潔機構(100)能配合濕製程設備(200)應用，其特徵在於：所述清潔機構(100)，其至少包括有配合該濕製程設備(200)設置的一機器臂機構(1)、及一清潔頭組(2)；所述機器臂機構(1)，其至少包含有一水平位移機構(11)、一垂直位移機構(12)、一機器臂(13)、及一快速公接頭(14)，該水平位移機構(11)設於該濕製程設備(200)後側處，該垂直位移機構(12)設於該水平位移機構(11)頂側面處，並能被其所帶動而位移，該機器臂(13)設於該垂直位移機構(12)前側處，能被其所帶動而位移，該快速公接頭(14)設於該機器臂(13)自由端處；所述清潔頭組(2)，其至少包含有排列設置於該濕製程設備(200)鄰近於該機器臂機構(1)一側處的一水清洗頭(21)、一藥液清潔頭(22)、及一乾燥頭(23)，其三者皆設有一位於各頭頂端處的快速母接頭(24)，該水清洗頭(21)能調整噴水角度，該快速母接頭(24)能與該快速公接頭(14)配合，使各頭能被該機器臂機構(1)分別提起帶動位移、以供發揮出相應功能用。
- 如請求項1所述的濕製程用清潔機構，其中：所述水清洗頭(21)、該藥液清潔頭(22)、及該乾燥頭(23)，其三者的該快速母接頭(24)底端處，還分別設有一定位部(25)；所述清潔頭組(2)，其還包括有一定位盤組(26)，該定位盤組(26)還包含有一托盤(261)、及間距各不相同且排列定位於該托盤(261)內的一第一架體(262)、一第二架體(263)、及一第三架體(264)，該第一架體(262)能與該水清洗頭(21)之該定位部(25)配合、以定位放置該水清洗頭(21)，該第二架體(263)能與該藥液清潔頭(22)之該定位部(25)配合、以定位放置該藥液 清潔頭(22)，該第三架體(264)能與該乾燥頭(23)之該定位部(25)配合、以定位放置該乾燥頭(23)。
- 如請求項2所述的濕製程用清潔機構，其中：所述機器臂(13)，其還具有與該垂直位移機構(12)連接的一第一轉臂(131)、一樞設於該第一轉臂(131)自由端處的第二轉臂(132)、及一樞設於該第二轉臂(132)自由端處的第三轉臂(133)，該第三轉臂(133)自由端與該快速公接頭(14)連接。
- 如請求項3所述的濕製程用清潔機構，其中：所述定位部(25)，其還包括有一各頭之該快速母接頭(24)底端處的片體(251)、設於該片體(251)左側自由端處的兩左定位銷(252)、及設於該片體(251)右側自由端處的兩右定位銷(253)；所述第一架體(262)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第一左L支架(a1)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第一右L支架(b1)、設於該第一左L支架(a1)頂端的兩第一左定位孔(c1)、及設於該第一右L支架(b1)頂端的兩第一右定位孔(d1)，該第一左定位孔(c1)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第一右定位孔(d1)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合；所述第二架體(263)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第二左L支架(a2)、一與相應之該定位部(25)右側對應的第二右L支架(b2)、設於該第二左L支架(a2)頂端的兩第二左定位孔(c2)、及設於該第二右L支架(b2)頂端的兩第二右定位孔(d2)，該第二左定位孔(c2)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第二右定位孔(d2)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合；所述第三架體(264)，其能供定位該水清洗頭(21)用，並還包括有一與相應之該定位部(25)左側對應的第三左L支架(a3)、一與相應之該定位部(25) 右側對應的第三右L支架(b3)、設於該第三左L支架(a3)頂端的兩第三左定位孔(c3)、及設於該第三右L支架(b3)頂端的兩第三右定位孔(d3)，該第三左定位孔(c3)能與相應之該定位部(25)的該左定位銷(252)配合，該第三右定位孔(d3)能與相應之該定位部(25)的該右定位銷(253)配合。
- 如請求項4所述的濕製程用清潔機構，其中：所述水清洗頭(21)，其還包括有分別設於相應之該片體(251)底側兩端的兩樞轉支架(211)、一兩端與相應之該樞轉支架(211)自由端樞接的噴水頭組(212)、設於相應之該樞轉支架(211)自由端處的兩限位螺絲(213)、一設於該噴水頭組(212)前側處的前殼體(214)、及一設於該噴水頭組(212)後側處的後殼體(215)，該樞轉支架(211)自由端處還分別具有一刻度部(2111)、一凹槽部(2112)、及一定位擋片(2113)，該刻度部(2111)能供判斷該噴水頭組(212)角度用，該凹槽部(2112)能供容置該噴水頭組(212)相應端用，該定位擋片(2113)能供定位該噴水頭組(212)相應端用；所述藥液清潔頭(22)，其還包括有分別設於相應之該片體(251)底側兩端的兩垂直支架(221)、一兩端與相應之該垂直支架(221)自由端連接的水平支架(222)、及至少一設於該水平支架(222)上的噴藥頭(223)；所述乾燥頭(23)，其還包括有設於相應之該片體(251)底側的L字形支架(231)、及一設於該L字形支架(231)上的噴氣頭(232)。
- 如請求項5所述的濕製程用清潔機構，其中：所述水平位移機構(11)，其還具有一能供保護內部裝置的第一殼體(111)；所述垂直位移機構(12)，其還具有一能供保護內部裝置的第二殼體(121)；所述快速公接頭(14)，其底端還具有一凸接頭(141)；所述快速母接頭(24)，其中央處還具有一能與該凸接頭(141)配合的連接孔(241)。
- 如請求項6所述的濕製程用清潔機構，其中：所述水清洗頭(21)、該藥液清潔頭(22)、及該乾燥頭(23)，其三者的該快速母接頭(24)外，還分別設有一保護殼體(27)。
- 如請求項7所述的濕製程用清潔機構，其中：所述第三轉臂(133)，其與該快速公接頭(14)間，還設有一連接軸件(15)，能帶動該快速公接頭(14)轉動。
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2019
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