KR20050006071A - 노광장치 - Google Patents

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KR20050006071A
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Abstract

본 발명에 따르면, 웨이퍼 스테이지(4)에서 파이핑 시스템의 연결 부분으로부터의 외란, 파이프로부터의 먼지 및 파이핑 부재의 표면에서의 정전기 발생을 최소화할 수 있는 노광장치가 제공된다. 본 발명에 따른 노광장치는, 투영 광학계(조명계 유니트)(1)를 통해 기판으로 마스터의 표면에서 그려진 패턴을 투영하고, 투영 광학계에 대해, 마스터 및 기판의 양쪽 또는 기판 만을 스테이지 장치(4)에 의해 이동함으로써, 그 기판을 마스터의 패턴에 반복적으로 노광하는 노광장치(5)이다. 그 장치에 있어서, 스테이지 장치의 가동부에 연결되고, 다른 내부 및 외부 직경을 갖는 복수의 파이프는, 파이프의 부분 외부 표면에서 서로 연결되고, 파이프 어레이(20) 또는 (21)에 집적된다.

Description

노광장치{EXPOSURE APPARATUS}
본 발명은, 실리콘 웨이퍼 상에 레티클 패턴을 투영하고 전사하는 투영 노광 장치와 같은 반도체 제조 처리에 사용되는 노광장치에 관한 것으로, 특히 레티클 패턴이 웨이퍼 상에 투영되고/노광되는 경우 투영 노광계에 대하여, 각각 레티클 및 웨이퍼를 순차로 이동하는 레티클 스테이지 및 웨이퍼 스테이지에 의해 레티클 및 실리콘 웨이퍼를 이동하는 스테이지 장치에 관한 것이다.
도 1a 및 도 1b는, 본 발명의 종래 기술을 설명하는 도면이고, 웨이퍼 스테이지의 X 및 Y 파이핑(piping) 어셈블리와, X 파이핑 어셈블리의 단면을 각각 나타낸다.
도 1a 및 1b에 도시된 것처럼, 압축 공기 시스템은, 압축 공기를 공급하는 압축 공기 파이프(120a 내지 120e)를 포함한다. 진공 시스템은, 웨이퍼(109)를 위한 척크(chuck) 진공 공기 및 웨이퍼 척크(108)를 위한 척크 진공 공기를 공급하는 진공 파이프(120f 및 120g)를 포함한다. 냉각제 시스템은, 냉각제를 공급하고/복구하는 냉각제 파이프(120h 및 120i)를 포함한다. 전기 시스템은, 미세 조정 스테이지(107)의 발광 센서(112), 스테이지 기준 마크(113) 내의 광센서 및 구동부 중 신호와 구동 전류를 공급하는 전기 케이블(120j 및 120k)을 포함한다. Y 파이핑 어셈블리(121)는, X 파이핑 어셈블리와 거의 같은 구성을 갖고, Y 방향으로 파이프를 이동가능하게 연결하는 목적을 갖는다. 파이프 커플링 배선(122)은, 압축 공기 및 진공 시스템의 파이프(120a 내지 120g), 냉각제 시스템의 냉각제 파이프(120h 및 120i), 전기 시스템의 전기 케이블(120j 및 120k)을 거의 벨트 형태의 방법으로 연결하는 각 시스템의 파이핑 어셈블리를 묶는다. 이 형태의 파이핑 어셈블리 및 같은 개념에 의거한 구성은, 일본 특허 공개 제 11-030294 호에 개시된다.
그러나, 상기 언급한 종래 기술 예에서, 시스템의 파이프는 스테이지 가동부에 개별적으로 연결된다. 스테이지 가동부가 이동하는 경우, 시스템의 파이프는 서로 비벼질 수도 있고, 분명치 않은 위치에서 비틀어질 수 있고, 또는 파이프 커플링부에서 비틀어질 수도 있다. 각 파이핑 시스템의 연결 부분으로부터의 외란은 스테이지의 제어 정밀도를 감소시킬 수 있다.
스테이지 장치가 질소-제거 분위기 또는 진공과 같은 저 습도 환경에서 사용되는 경우, 파이핑 시스템 연결 부분의 이동은 각각의 파이핑 부재의 표면을 충전하는 정전기를 발생하는 경향이 있다. 정전기 스파크는 파이프 사이 또는 스테이지 장치 상의 부품 사이의 분명치 않은 위치에서 일어날 수 있어서 파이프, 전기 케이블, 및 스테이지 상의 부품에 손상을 준다.
본 발명은 종래의 결점을 고려하여 만들어진 것으로, 파이핑 시스템 연결 부분에 의한 외란, 먼지 및 파이핑 부재의 표면의 정전기 발생을 최소화할 수 있는 노광장치를 제공한다.
도 1은 종래 기술의 스테이지 및 파이핑 어셈블리의 단면을 각각 나타낸 도면,
도 2는 본 발명에 따른 노광장치의 전체를 나타내는 도면,
도 3은 본 발명에 따른 스테이지 장치의 사시도,
도 4는 제 1실시예에 따른 웨이퍼 스테이지(4) 및 스테이지 파이핑 어셈블리의 단면을 각각 나타낸 도면,
도 5는 제 2실시예에 따른 스테이지 파이핑 어셈블리의 단면을 나타내는 도면,
도 6은 제 3실시예에 따른 스테이지 파이핑 어셈블리의 단면을 나타내는 도면,
도 7은 제 4실시예에 따른 스테이지 파이핑 어셈블리의 단면을 나타내는 도면,
도 8은 제 5실시예에 따른 스테이지 파이핑 어셈블리의 단면을 나타내는 도면,
도 9는 제 6실시예에 따른 스테이지 파이핑 어셈블리의 단면을 나타내는 도면,
도 10은 제 7실시예에 따른 정전기 방지의 파이핑 튜브(26 내지 29)가 유연하게 이동하는 영역 내에 섀시 접지(31)가 배치된 파이핑 레일(30)(도전성 물질)을 나타내는 도면,
도 11은 제 8실시예에 따른 레티클 스테이지(2)의 Y 파이핑 어셈블리(32)를 나타내는 도면,
도 12는 제 9실시예에 따른 레티클 스테이지(2)에 대하여 거의 대칭적으로 배치된 Y 파이핑 어셈블리의 상태 및 단면을 각각 나타내는 도면.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
4: 웨이퍼 스테이지 7: 미세 조정 스테이지
8: 웨이퍼 척크 9: 웨이퍼
10: X 막대 거울 11: Y 막대 거울
12: 조명 센서 13: 스테이지 참조 표식
14: X 선형 모터 15: X 가이드
16: Y 가이드 17: 스테이지 표면 플레이트
18, 19: Y 선형 모터 20: X 파이핑 어셈블리
21: Y 파이핑 어셈블리
본 발명에 따르면, 마스터의 표면에 그려진 패턴을 투영하는 투영수단, 스테이지 장치가 투영수단에 대해 적어도 마스터 및 기판 중에서 기판을 이동하도록 하는 이동수단, 및 마스터의 패턴에 기판을 반복적으로 노광하는 노광수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치를 제공하고, 스테이지 장치의 가동부에 연결되고 다른 내경 및 외경을 갖는 복수의 파이프는 파이프의 부분 외부 표면에서 서로 결합하고, 집적 파이핑 어레이를 구성한다.
장치가 진공의 저 습도 환경에서 사용되는 경우, 그것은 각각의 파이핑 시스템 연결 부분의 이동이 파이핑 부재의 표면에서 정전기를 발생하는 것을 방지하는 다음의 방법으로 구성된다. 더 구체적으로, 도전성 물질은 파이핑 수지에 첨가되고, 또는 도전성 막은 파이프 표면에 스퍼터링 된다. 또한, 튜브의 다른 형태는 파이프의 내부 및 외부 표면에 사용되고, 외부 표면은 도전성으로 만들어지고, 따라서 층 구조를 형성한다. 이 구성에 의해, 각 튜브의 표면에 충전된 임의의 전위도 예를 들어, 섀시 그라운드에 접지 및 방전된다.
본 발명의 다른 특징 및 장점은 첨부한 도면을 참조한 다음의 설명으로부터 명백할 것이고, 같은 참조 문자는 도면 전체에 걸쳐서 같거나 또는 유사한 부분을 가리킨다.
본 발명의 바람직한 실시예는 지금 첨부한 도면에 따라 상세히 설명될 것이다.
<실시예 1>
도 2 및 도 3은, 각 실시예에 공통인 노광장치 및 노광장치의 부분을 구성하는 웨이퍼 스테이지를 각각 나타내는 도면이다.
도 2에서, 도면 부호 1은, 노광광원을 포함하고, 노광광원으로부터 방출된 노광광을 정형하고 레티클을 노광광으로 조사하는 기능을 갖는 조명계 유니트를 표시한다. 도면 부호 2는, 그 위에 노광 패턴 마스터로서 역할하는 레티클을 갖고, 웨이퍼에 대한 소정의 축소 노광배율비로 웨이퍼에 대해 레티클 스캔 동작을 실행하는 기능을 갖는 레티클 스테이지를 표시한다. 도면 부호 3은 웨이퍼(기판)에 마스터 패턴을 축소하여 투영하는 축소 투영 렌즈를 표시한다. 도면 부호 4는 모든 노광 과정에서 기판(웨이퍼)을 계속하여 연속적으로 이동하는 기능을 갖는 웨이퍼 스테이지(4)를 표시한다.
도면 부호 5는, 레티클 스테이지(2), 축소 투영 렌즈(3) 및 웨이퍼 스테이지(4)를 지지하는 노광장치 본체(5)를 표시한다. 도면 부호 6은 웨이퍼의 정렬 마크 및 스테이지 상의 정렬 기준 마크를 측정하고, 웨이퍼 내의 정렬 및 레티클과 웨이퍼 사이의 정렬에서 측정을 실행하는 정렬 범위를 표시한다.
도 3은 도 2에서 웨이퍼 스테이지(4)를 상세히 나타내는 도면이다.
도 3에서, 도면 부호 7은 축소 노광 시스템의 광축 방향, 경사 방향 및 광축에 대한 회전 방향으로 스테이지의 웨이퍼를 미세하게 조절하는 미세 조정 스테이지를 표시한다. 도면 부호 8은 미세 조정 스테이지(7)에 웨이퍼를 지지하고 고정하는 웨이퍼 척크를 표시한다. 도면 부호 9는 웨이퍼를 표시한다. 웨이퍼(9)에서, 단결정 Si 기판의 표면은 축소 노광 시스템을 통해 웨이퍼(9)상의 레티클 기판에 그려진 레티클 패턴을 투영하고 전사하기 위해 레지스트로 코팅된다.
도면 부호 10은, 레이저 간섭계가 미세 조정 스테이지(7)의 X 방향 위치를 측정하는 경우, 타겟으로 역할하는 X 막대 거울을 표시한다. 도면 부호 11은 X 막대 거울에 유사하게, Y 방향 위치를 측정할 때 타겟으로 역할하는 Y 막대 거울을 표시한다. 도면 부호 12는 미세 조정 스테이지(7)의 상부 표면에 배치된 조명 센서를 표시한다. 조명 센서(12)는 노광 전에 노광광의 조도에 대해 눈금 측정을 실행하고, 얻어진 조도를 사용하여 광 노출을 교정한다. 도면 부호 13은 미세 조정 스테이지(7)의 상부 표면에 배치된 스테이지 기준 마크를 나타낸다. 스테이지 정렬 측정에 대한 타겟은 그 안에 형성된다.
도면 부호 14는 X 방향으로 미세 조정 스테이지(7)를 이동하고 구동하는 X 선형 모터를 표시한다. 도면 부호 15는 미세 조정 스테이지(7)의 X 축 이동을 인도하는 X 가이드를 표시한다. 도면 부호 16은 X 가이드(15) 및 미세 조정 스테이지(7)를 Y 방향으로 이동하여 인도하는 Y 가이드를 표시한다. 도면 부호 17은 미세 조정 스테이지(7)를 2차원적으로 인도하는 스테이지 표면 플레이트를 표시한다. 도면 부호 18 및 19는 Y 방향으로 미세 조정 스테이지(7)를 이동하고 구동하는 Y 선형 모터를 표시한다.
도면 부호 20은 X 파이핑 어셈블리를 표시한다. X 파이핑 어셈블리(20)는 압축 건조 공기 또는 진공 공기를, 공기 베어링 시스템(도시하지 않음) 또는 미세 조정 스테이지(7)에 장착된 웨이퍼 척크(8)에 공급하는 복수의 파이프, 미세 조정 스테이지(7) 내부의 구동부를 냉각하는 액체 냉각 매체를 공급하고 복구하는 파이프, 및 센서 시스템과 미세 조정 스테이지(7)에 장착된 구동부 사이에서 신호를 보내고 전류를 공급하는 전기 케이블을 X 방향으로 이동가능하게 연결하는 것을 목적으로 한다.
도 4a 및 도 4b는, 제 1 실시예에 따른 파이핑 어셈블리를 나타내는 도면이다. 도 4a는 웨이퍼 스테이지(4)와, X 파이핑 어셈블리(20)와 Y 파이핑 어셈블리(21) 사이의 레이아웃 관계를 나타낸다. 도 4b는 제 1 실시예에 따른 X 파이핑 어셈블리의 단면을 나타내는 도면이다.
도 4a 및 도 4b에 도시된 것처럼, 압축 공기 시스템은, 압축 공기를 공급하는 압축 공기 파이프(20a 내지 20e)를 갖는다.
진공 시스템은 웨이퍼(9)의 척크 진공 공기 및 웨이퍼 척크(8)의 척크 진공 공기를 끌어오는 진공 파이프(20f 및 20g)를 갖는다.
냉각제 시스템은, 냉각제를 공급하고 복구하는 냉각제 파이프(20h 및 20i)를 갖는다.
전기 시스템은, 미세 조정 스테이지(7)의 조명 센서(12), 스테이지 기준 마크(13) 내의 광센서, 및 전기 케이블 실장 파이프(20m) 내부에서 확장하는 전기 케이블(20j 및 20k)을 통한 구동부 사이에서 신호 및 구동 전류를 공급한다.
Y 파이핑 어셈블리(21)는 X 파이핑 어셈블리와 거의 같은 구성을 갖고, Y 방향으로 파이프를 이동가능하게 연결하는 것을 목적으로 한다. Y 파이핑 어셈블리(21)의 구성은 X 파이핑 어셈블리(20)의 구성과 유사하다.
도 4a 및 도 4b에 도시된 것처럼, 압축 공기 시스템으로서 역할하는 압축 공기 파이프(20a 내지 20e), 냉각 시스템으로서 작용하는 냉각제 파이프(20h 및 20i), 및 전기 케이블 실장 파이프(20m)는 그들의 외부 표면에서 서로 연결되고, 벨트 형태 파이프 어레이로서 집적된다. 폴리우레탄 튜브 등은 파이핑 재료로서 사용된다.
전기 케이블 실장 파이프(20m)는 냉각제 파이프(20h 및 20i)와 거의 같은 직경을 갖는다. 이것은 파이핑 어셈블리가 전기 케이블 실장 파이프에서 쉽게 부서지는 것을 방지한다. 종래 기술에서 보여진 어레이 같은 직접 집적은 집적의 장점을 누릴 수 있다. 그러나, 종래 기술에서 설명된 전기 케이블은 다른 어떤 파이프보다 훨씬 더 얇고, 따라서 부서지는 경향이 있다.
전기 케이블 실장 파이프(20m)의 직경은 압축 공기 파이프의 직경과 같게 만들어질 수 있고, 또는 압축 공기 파이프와 냉각제 파이프 사이에 설치될 수도 있다.
상기한 것처럼, 제 1실시예에 따르면, 압축 공기 시스템, 냉각 시스템, 전기 케이블 실장 파이프는 벨트 형태 파이프 어레이로서 집적된다. 이 구성은 각 스테이지 가동부가 이동하는 경우, 서로에 대하여 각각의 시스템 파이프의 비벼짐, 명확하지 않은 위치에서 파이프의 임의의 뒤틀림, 및 파이프 커플링 부분에서 파이프의 임의의 뒤틀림을 방지한다. 이것은 스테이지 가동부에의 외란 및 파이프로부터의 먼지를 감소하고, 스테이지 제어 정밀도 및 정렬 정확성을 증가하는 것을 가능하게 한다.
<실시예 2>
도 5는 제 2실시예에 따른 파이핑 어셈블리의 구성을 나타내는 도면이다.
제 2 실시예에 따른 파이핑 어셈블리는, 제 1 실시예에 따른 파이핑 어셈블리의 양끝에서 진동 댐핑(damping) 파이프(23)(큰 내부 손실을 갖는 겔(gel) 및 액체는 파이프의 내부에 봉인된다.)를 연결하는 것에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다. 각 진동 댐핑 파이프(23)는 예를 들어, 큰 내부 손실을 갖는 겔라틴물질(23A), 액체, 폴리머 물질 등으로 채워질 수 있다.
파이프를 포함하는 파이핑 어셈블리의 양끝의 진동 댐핑 파이프는, 스테이지가 이동함에 따라 이동하는 파이프의 진동을 스스로 감소하는 것을 가능하게 한다. 또한 제 1 실시예의 구성을 갖는 제 2 실시예는, 각 스테이지 가동부가 이동하는 경우, 서로에 대하여 각각의 시스템 파이프의 임의의 비벼짐, 명확하지 않은 위치에서의 파이프의 임의의 뒤틀림, 및 파이프 커플링 위치에서의 파이프의 임의의 뒤틀림을 방지한다. 이것은 스테이지 가동부에의 외란 및 파이프로부터의 먼지를 감소하고, 스테이지 제어 정밀도 및 정렬 정확성을 증가하는 것을 가능하게 한다.
<실시예 3>
도 6은 제 3실시예에 따른 파이핑 어셈블리의 구성을 나타내는 도면이다.
제 3실시예에 따른 파이핑 어셈블리는, 진동 댐핑 파이프(23B)(큰 내부 손실을 갖는 겔라틴 물질(23A), 액체, 폴리머 물질 등은 파이프 내부에 봉인된다.)가 파이프의 외부 표면을 감싸기 위하여 제 1 실시예에 따른 파이핑 어셈블리에 제공되는 것을 특징으로 한다. 진동 댐핑 파이프(23B)는, 제 2실시예에서 설명된 것처럼 예를 들어 큰 내부 손실을 갖는 겔라틴 물질(23A), 액체, 폴리머 물질 등으로 채워진다.
파이프의 외부 표면을 감싸도록 배치된 진동 댐핑 파이프(23B)는, 스테이지가 이동함에 따라 이동하는 파이프의 진동을 스스로 감소하는 것을 가능하게 한다.
또한 제 1 실시예의 구성을 갖는 제 3 실시예는, 각 스테이지 가동부가 이동하는 경우, 서로에 대하여 각 시스템 파이프의 임의의 비벼짐, 명확하지 않은 위치에서의 파이프의 임의의 뒤틀림, 및 파이프 커플링 위치에서의 파이프의 임의의 뒤틀림을 방지한다. 이것은 스테이지 가동부에의 외란 및 파이프로부터의 먼지를 감소하고, 스테이지 제어 정밀도 및 정렬 정확성을 증가하는 것을 가능하게 한다.
<실시예 4>
도 7은 제 4 실시예에 따른 파이핑 어셈블리의 구성을 나타내는 도면이다.
상기 언급한 실시예는 파이핑 재료로서 폴리우레탄 튜브를 사용한다. 제 4 실시예는, 더 낮은 물 흡수율을 갖는 열가소성 플루오르 수지(fluororesin) 튜브(24)를 사용하는 것을 특징으로 한다.
이 구성에 의해, 더 작은 물 손실을 갖는 파이핑 어셈블리는, 진공 환경의 스테이지 장치 또는 질소, 헬륨 등으로 공기(산소)가 제거된 환경의 스테이지 장치에 장착될 수 있다.
<실시예 5>
도 8은 제 5 실시예에 따른 파이핑 어셈블리의 구성을 나타내는 도면이다.
제 4 실시예는 파이핑 재료로서 열가소성 플루오르 수지 튜브를 사용한다. 제 5실시예는 각각의 튜브의 내부 및 외부 표면으로서 더 낮은 물 흡수율을 갖는 열가소성 플루오르 수지 튜브를 사용하고, 튜브의 중간 층으로서 폴리우레탄 튜브(25b)를 사용하는 것을 특징으로 한다.
열가소성 플루오르 수지 튜브(25a) 및 폴리우레탄 튜브(25b)를 포함하는 다층 폴리우레탄/열가소성 플루오르 수지 튜브(25)의 사용은, 진공 환경의 스테이지 장치 또는 질소, 헬륨 등으로 공기(산소)를 제거한 환경의 스테이지 장치에서 더 작은 물 손실을 갖는 파이핑 어셈블리를 장착하는 것을 가능하게 한다.
<실시예 6>
도 9a 내지 도 9d는 제 6 실시예를 나타내는 도면이다.
제 5 실시예는 파이핑 재료로서 폴리우레탄 또는 열가소성 플루오르 수지 튜브를 사용한다. 제 6 실시예는 튜브의 표면에 정전기 발생에 대한 측정을 고려한다. 이 실시예는 진공의 저 습도 환경에서 사용되는 경우 특히 효과적이다.
도 9a에 도시된 것처럼, 이 실시예는 파이핑 재료로서 도전성 폴리우레탄 또는 도전성 열가소성 플루오르 수지 튜브(26)를 사용하는 것을 특징으로 한다. 이 튜브들 각각은 제 1 실시예에 따른 폴리우레탄 또는 열가소성 플루오르 수지 튜브의 기초 재료에 탄소 분말 같은 도전성 필러(filler)를 첨가함으로써 형성된다. 튜브를 도전성으로 만드는 것과 그 표면을 섀시 접지에 접지하는 것은 정전기 발생을 방지하는 것을 가능하게 한다.
또한, 도 9b에 도시된 것처럼, 이 실시예는 파이핑 재료로서 표면이 도전성인 도전성 재료 적층 튜브(27)를 사용하는 것을 특징으로 한다. 각 도전성 재료 적층 튜브는, 스퍼터링 등에 의해 파이핑 튜브의 표면에 도전성 물질 적층 층(27a)을 형성함에 의해 제조될 수 있다. 도 9a의 예와 마찬가지로, 튜브를 도전성으로 만들고, 그 표면을 섀시 접지에 접지하는 것은 정전기 발생을 방지하는 것을 가능하게 한다.
또한, 도 9c에 도시된 것처럼, 이 실시예는. 튜브의 내부 및 외부 표면으로서 더 낮은 물 흡수율을 갖는 열가소성 플루오르 수지 튜브 및 튜브의 중간 층으로서 폴리우레탄 튜브(28b)를 각각 갖는 다층 폴리우레탄/열가소성 플루오르 수지 튜브(28)를 파이핑 튜브로서 사용하는 것을 특징으로 한다. 도전성 물질 적층 층(28c)은 스퍼터링 등에 의해 표면에 형성된다. 이 구성에 의해, 정전기 발생을 방지할 수 있는 더 작은 물 손실을 갖는 파이핑 어셈블리는, 진공 환경의 스테이지 장치 또는 질소, 헬륨 등으로 공기(산소)를 제거한 환경의 스테이지 장치에 장착될 수 있다.
또한, 도 9d에 도시된 것처럼, 이 실시예는 일체로 연결된 파이핑 튜브의 상부 및 하부 표면에 인접한 도전성 플렉시블 쉬트(29)를 배치하고, 도전성 플렉시블 쉬트(29)를 스테이지 섀시에 접지하는 것을 특징으로 한다. 이것은 파이핑 튜브의 표면으로부터 전하를 제거하는 것을 가능하게 한다.
상기 설명은, 튜브의 표면에 정전기의 대전 방지대책을 고려한 실시예를 설명하였다.
<실시예 7>
도 10은 제 7 실시예를 나타내는 도면이다.
제 7 실시예는, 제 6 실시예에 설명된 정전기 방지 파이핑 튜브(26 내지 29)가 유연하게 움직이는 영역 내에서 도 10에 도시된 것과 같은 섀시 접지(31)가 배치된 파이핑 레일(30)(도전성 물질)을 제공하는 것을 특징으로 한다.
이 파이핑 레일은, 도전성 파이핑 튜브의 표면을 파이핑 레일에, 즉, 직접 섀시 접지에 접지하는 것을 가능하게 한다.
도전성이 아닌 제 1 내지 제 5 실시예에 설명된 파이핑 튜브(20, 24, 및 25)에서, 정전기 방지 효과가 기대될 수 있다.
<실시예 8>
도 11은 제 8 실시예, 즉 레티클 스테이지(2) 내의 Y 파이핑 어셈블리(32)를 나타낸다.
제 1 내지 제 7 실시예의 각각은 웨이퍼 스테이지의 파이핑 어셈블리를 설명한다. 제 8 실시예에서, Y 파이핑 어셈블리(32)는, 레티클 스테이지에서 소정의 축소 노광 배율비로 웨이퍼에 대하여 레티클 스캔 동작을 실행하는 레티클 스테이지(2)의 가동부에 따라 스캔 이동을 실행하고, 노광 패턴 마스터로서 역할하는 레티클이 장착된다. Y 파이핑 어셈블리(32)는 상기 언급한 실시예의 그것과 같은 구성을 가질 수 있다.
<실시예 9>
도 12a 내지 도 12c는 제 9 실시예를 나타낸다.
도 12a는 레티클 스테이지를 나타내고, 도 12b 및 도 12c는 레티클 스테이지에 배치된 Y 파이핑 어셈블리의 단면을 각각 나타낸다.
제 1 내지 제 8 실시예에서, 집적 파이프 어레이는 스테이지 장치의 가동부의 이동 방향의 한 측면에 배치된다. 제 9 실시예는, 파이프 어레이가 스테이지 장치의 이동 방향에 대하여 대칭적으로 배치되는 것을 특징으로 한다.
도 12a 내지 12c에 도시된 것처럼, Y 파이핑 어셈블리 33 및 Y 파이핑 어셈블리 34(파이프 어레이)는 레티클 스테이지(2)의 이동 방향에 대하여 거의 대칭적으로 배치된다. 이 구성에 의해, 집적 파이프 어레이로부터의 이동 저항이, 스테이지가 이동 방향으로 이동하는 경우, 대칭적으로 인가된다. 이것은 스테이지 이동에서의 흔들림의 발생을 억제하고 안정된 이동 제어를 실행하는 것을 가능하게 한다.
레티클 스테이지(2)의 좌측면의 Y 파이핑 어셈블리(33)에서, 진동 댐핑 파이프(23)(큰 내부 손실을 갖는 겔 및 액체는 파이프의 내부에 봉인된다.) 중 하나와 압축 공기 파이프(20a 내지 20e)는 도 12b에 도시된 것처럼, 이 순서로 완전히 배치된다.
레티클 스테이지(2)의 우측면의 Y 파이핑 어셈블리(34)에서, 나머지 진동 댐핑 파이프(23)(큰 내부 손실을 갖는 겔 및 액체는 파이프의 내부에 봉인된다.), 냉각제 파이프(20h 및 20i), 전기 케이블(20j 및 20k)을 내장하는 전기 케이블 실장 파이프(20m), 및 진공 파이프(20f 및 20g)는 이 순서로 일체로 배치된다.
파이프 어레이의 이 대칭적인 구성은 어셈블리 외란을 감소한다. 이 때, 가동부에 대하여 대칭적으로 파이프에 이동 부하를 생성하는 것은, 이동에서의 흔들림의 발생을 억제한다. 이것은 스테이지 장치의 정렬 정확성을 안정화할 수 있다.
상기한 것처럼, 본 발명에 따르면, 시스템으로부터 가동부로의 개별적인 연결은, 벨트 형태 파이프 어레이에 집적된다. 이 구성은 서로에 대하여 각 시스템 파이프의 임의의 비벼짐, 명확하지 않은 위치에서의 파이프의 임의의 뒤틀림, 및 파이프 커플링 위치에서의 파이프의 임의의 뒤틀림을 방지한다. 이것은 스테이지 가동부에의 외란 및 파이프로부터의 먼지를 감소하고, 스테이지 제어 정밀도 및 정렬 정확성을 증가하는 것을 가능하게 한다.
또한 본 발명은, 파이핑 시스템 연결 부분의 이동이 진공의 저 습도 환경에서 스테이지 장치가 사용되는 경우 파이핑 재료의 표면에 정전기를 발생하지 않도록 배치된다. 이 구성은, 파이프, 전기 케이블, 스테이지의 구성 요소에 손상을 주는 파이프의 사이 또는 스테이지 장치의 구성 요소 사이의 명확하지 않은 위치에서 정전기 스파크가 발생하는 것을 방지한다. 스테이지 장치의 신뢰도는 증가한다.
이때, 상기 설명한 실시예에 보여진 각 요소의 형상 및 구조는 본 발명의 구현의 예로서 단순히 주어지고, 본 발명의 기술적 범위는 이 형상 및 구조에 제한적으로 해석되는 것은 아니다. 즉, 본 발명은 그 사상 및 그 주요 특징으로부터 벗어남이 없이 다양한 형태로 구현될 수 있다.
본 발명의 많은 명백히 폭넓은 다른 실시예가 사상 및 그 범위로부터 벗어남이 없이 만들어질 수 있기 때문에, 본 발명은 첨부된 청구항에서 정의된 것을 제외하고 그 특정 실시예에 한정되지 않는다는 것이 이해되어야 한다.
본 발명에 따르면, 파이핑 시스템 연결 부분, 먼지, 및 파이핑 부재의 표면의 정전기 발생에 의한 외란을 최소화할 수 있는 노광장치를 제공할 수 있다.

Claims (12)

  1. 마스터의 표면에 그려진 패턴을 투영하는 투영수단과,
    상기 투영수단에 대해, 원판과 기판 중에서 적어도 기판을 이동시키는 스테이지 장치와,
    상기 기판을 상기 마스터의 상기 패턴에 반복적으로 노광하는 노광수단을 포함하고,
    상기 스테이지 장치의 가동부에 연결된 복수의 파이프는 상기 파이프의 부분 외부 표면에서 서로 결합되고, 집적 파이프 어레이를 구성하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 가동부에 연결된 전기 케이블 또는 신호 라인 케이블은 상기 집적 파이프 어레이로서 역할하는 상기 파이프의 일부의 속 빈 부분을 통과하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    액체 또는 댐핑 부재로 채워진 진동 댐핑 파이프는 상기 파이프 어레이의 외부 표면에 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 집적 파이프 어레이를 감싸는 진동 댐핑 파이프가 제공되고, 상기 집적 파이프 어레이와 상기 진동 댐핑 파이프의 사이의 속 빈 부분은 액체 또는 댐핑 부재로 채워지는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    열가소성 플루오르 수지, 또는 폴리우레탄 수지 및 열가소성 플루오르 수지로 구성된 다층재는 상기 집적 파이프 어레이를 위해 파이핑 재료로서 사용되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    도전성 물질이 첨가된 폴리머 물질로 구성된 수지는 상기 집적 파이프 어레이를 위해 파이핑 재료로서 사용되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    도전성 물질이 첨가된 열가소성 플루오르 수지, 폴리우레탄 수지, 및 나일론 수지 중 하나는 상기 집적 파이프 어레이를 위해 파이핑 재료로서 사용되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    도전성 물질이 상기 집적 파이프 어레이의 상기 외부 표면에 적층되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    도전성 물질로 구성된 쉬트형 막은 상기 집적 파이프 어레이의 상기 외부 표면에 거의 인접하여 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 집적 파이프 어레이의 상기 외부 표면은 상기 스테이지 장치의 섀시 접지에 접지되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    도전성 부재는 고정부로서 지지하거나 또는 상기 집적 파이프 어레이를 인도하는 부재를 위한 재료로서 사용되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 집적 파이프 어레이는 상기 스테이지 장치에서 상기 가동부의 이동 방향에 대하여 수평 또는 수직 방향으로 거의 대칭적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
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