KR20010024922A - 피부 적용용 수성 구충제 제제 - Google Patents
피부 적용용 수성 구충제 제제 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (7)
- a) 제제의 총 중량을 기준으로 하여 1 내지 20 중량% 농도의 곤충의 니코틴성(nicotinic) 아세틸콜린 수용체의 작용제(agonist) 또는 길항제(antagonist);b) 제제의 총 중량을 기준으로 하여 2.5 내지 15 중량% 농도의 물;c) 제제의 총 중량을 기준으로 하여 적어도 20 중량% 농도의 알콜 및 임의로 치환된 피롤리돈 그룹중에서 선택된 용매;d) 제제의 총 중량을 기준으로 하여 5 내지 50 중량% 농도의 사이클릭 카보네이트 및 락톤 그룹중에서 선택된 용매; 및e) 경우에 따라, 농조화제, 전착제, 착색제, 항산화제, 추진제, 방부제, 접착제 및 유화제 그룹중에서 선택된 추가의 보조제의 조성을 가지며,곤충의 니코틴성 아세틸콜린 수용체의 작용제 또는 길항제를 이용하여 동물에 대한 기생성 곤충을 피부상에서 구제(dermal control)하기 위한 물-함유 제제.
- 제 1 항에 있어서, 사용된 활성 화합물이 하나이상의 하기 일반식 (I)의 화합물인 물-함유 제제:상기 식에서,R 은 수소를 나타내거나, 아실, 알킬, 아릴, 아르알킬, 헤테로아릴 및 헤테로아릴알킬로 구성된 그룹중에서 선택된 임의로 치환된 래디칼을 나타내고,A 는 수소, 아실, 알킬 및 아릴로 구성된 그룹중에서 선택된 일작용성 그룹 또는 래디칼 Z 에 결합된 이작용성 그룹을 나타내며,E 는 전자-흡인(electron-withdrawing) 래디칼을 나타내고,X 는 H 원자 대신 래디칼 Z 에 결합될 수 있는 래디칼 -CH=, 또는 =N- 을 나타내며,Z 는 알킬, -O-R, -S-R 및(여기에서, 래디칼 R 은 동일하거나 상이하며 각각 상기 정의된 바와 같다)로 구성된 그룹중에서 선택된 일작용성 그룹을 나타내거나, 래디칼 A 또는 래디칼 X 에 결합된 이작용성 그룹을 나타낸다.
- 제 2 항에 있어서, 사용된 활성 화합물이R 이 수소를 나타내거나, 아실, 알킬, 아릴, 아르알킬, 헤테로아릴, 헤테로아릴알킬 및 헤테로사이클릴알킬로 구성된 그룹중에서 선택된 임의로 치환된 래디칼을 나타내고,여기에서,아실 래디칼로는 각각 치환될 수 있는 포르밀, 알킬카보닐, 아릴카보닐, 알킬설포닐, 아릴설포닐, (알킬-)-(아릴-)포스포릴이 언급될 수 있으며,알킬로는 치환될 수 있는 C1-10-알킬이 언급될 수 있고,아릴로는 페닐, 나프틸이 언급될 수 있으며,아르알킬로는 페닐메틸, 페닐에틸이 언급될 수 있고,헤테로아릴로는 티에닐, 푸릴, 티아졸릴, 이미다졸릴, 피리딜, 벤조티아졸릴이 언급될 수 있으며,헤테로아릴알킬로는 헤테로아릴 래디칼이 6 개 이하의 환 원자 및 헤테로 원자로서 N, O, S 를 갖는 헤테로아릴메틸, 헤테로아릴에틸이 언급될 수 있고,헤테로사이클릴로는 테트라하이드로푸라닐이 언급될 수 있으며,치환체로는 탄소원자수 1 내지 4 의 알킬; 탄소원자수 1 내지 4 의 알콕시; 탄소원자수 1 내지 4 의 알킬티오; 1 내지 4 개의 탄소원자 및 1 내지 5 개의 할로겐 원자(여기에서 할로겐 원자는 동일하거나 상이하고 불소, 염소 또는 브롬이다)를 갖는 할로게노알킬; 하이드록실; 할로겐; 시아노; 니트로; 아미노; 알킬 그룹당 1 내지 4 개의 탄소원자를 갖는 모노알킬- 및 디알킬아미노; 카복실; 탄소원자수 2 내지 4 의 카브알콕시; 설포(-SO3H); 탄소원자수 1 내지 4 의 알킬설포닐; 페닐설포닐; 클로로피리딜아미노 및 클로로피리딜메틸아미노가 언급될 수 있고,A 는 수소를 나타내거나, R 에 정의된 바와 같은 아실, 알킬 및 아릴로 구성된 그룹중에서 선택된 임의로 치환된 래디칼을 나타내거나, 이작용성 그룹을 나타내며, 여기에서 이작용성 그룹으로는 탄소원자수 1 내지 4, 특히 1 내지 2 의 임의로 치환된 알킬렌이 언급될 수 있고, 치환체로는 상기 언급된 치환체가 언급될 수 있으며, 알킬렌 그룹은 N, O 및 S 그룹중에서 선택된 헤테로 원자에 의해 차단될 수 있거나,A 및 Z 는 이들이 결합된 원자와 함께, 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 환을 형성할 수 있으며, 여기에서 헤테로사이클릭 환은 추가로 1 또는 2 개의 동일하거나 상이한 헤테로 원자 및/또는 헤테로 그룹을 함유할 수 있고, 헤테로 원자는 바람직하게는 산소, 황 또는 질소이고, 헤테로 그룹은 바람직하게는 N-알킬이며, 여기에서 N-알킬 그룹의 알킬은 1 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하고, 헤테로사이클릭 환으로는 각각 메틸에 의해 임의로 치환될 수 있는 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 헥사메틸렌이민, 헥사하이드로-1,3,5-트리아진, 모폴린, 옥사디아진이 언급될 수 있으며,E 는 전자-흡인 래디칼을 나타내고,X 는 -CH= 또는 -N= 을 나타내며,Z 는 임의로 치환된 래디칼 알킬, -OR, -SR 또는 -NRR(R 은 동일하거나 상이하다)을 나타내며, 여기에서 R 및 치환체는 각각 상기 정의된 바와 같거나,Z 는 상기 언급한 환 이외에도, 이것이 결합된 원자 및 X 대신 래디칼와 함께, 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 환을 형성할 수 있으며, 여기에서 헤테로사이클릭 환은 추가로 1 또는 2 개의 동일하거나 상이한 헤테로 원자 및/또는 헤테로 그룹을 함유할 수 있고, 헤테로 원자는 산소, 황 또는 질소이고, 헤테로 그룹은 N-알킬이며, 여기에서 알킬 또는 N-알킬 그룹은 1 내지 4 개의 탄소원자를 함유하고, 헤테로사이클릭 환으로 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 헥사메틸렌이민, 모폴린 및 N-메틸피페라진이 언급될 수 있는 하나이상의 일반식 (I)의 화합물인 제제.
- 제 2 항에 있어서, 사용된 활성 화합물이R 이 헤테로아릴메틸 및 헤테로아릴에틸 그룹중에서 선택된 임의로 치환된 래디칼을 나타내고, 여기에서 헤테로아릴로는 티에닐, 푸릴, 티아졸릴, 이미다졸릴, 피리딜, 벤조티아졸릴이 언급될 수 있으며, 치환체로는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 메틸티오, 에틸티오, 트리플루오로메틸; 하이드록실; 불소, 염소 및 브롬; 시아노; 니트로; 아미노가 언급될 수 있고,A 는 수소를 나타내거나, 래디칼 Z 에 결합되어 있으며 임의로 치환된 탄소원자수 2 의 이작용성 알킬렌 그룹을 나타내며, 여기에서 치환체로는 상기 언급된 치환체가 언급될 수 있고, 알킬렌 그룹은 N, O 및 S 그룹중에서 선택된 하나의 헤테로 원자에 의해 차단될 수 있으며,A 및 Z 는 이들이 결합된 원자와 함께, 포화되거나 불포화된 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 형성할 수 있으며, 여기에서 헤테로사이클릭 환은 추가로 1 또는 2 개의 동일하거나 상이한 헤테로 원자 및/또는 헤테로 그룹을 함유할 수 있고, 헤테로 원자는 산소, 황 또는 질소이고, 헤테로 그룹은 N-알킬이며, 여기에서 N-알킬 그룹의 알킬은 1 또는 2 개의 탄소 원자를 함유하고,E 는 NO2또는 CN 을 나타내며,X 는 -CH= 또는 -N= 을 나타내고,Z 는 임의로 치환된 래디칼 알킬, -OR', -SR' 또는 -NR'R' (래디칼 R' 는 동일하거나 상이하다)을 나타내며, 여기에서 R' 및 치환체는 각각 하기 정의된 바와 같으며,R' 는 수소를 나타내거나, 아실, 알킬, 아릴, 아르알킬, 헤테로아릴 및 헤테로아릴알킬로 구성된 그룹중에서 선택된 임의로 치환된 래디칼을 나타내고,여기에서,아실 래디칼로는 포르밀, 알킬카보닐, 아릴카보닐, 알킬설포닐, 아릴설포닐, (알킬-)-(아릴-)포스포릴이 언급될 수 있으며,알킬로는 C1-4-알킬이 언급될 수 있고,아릴로는 페닐이 언급될 수 있으며,아르알킬로는 페닐메틸, 페닐에틸이 언급될 수 있고,헤테로아릴알킬로는 헤테로아릴메틸, 헤테로아릴에틸이 언급될 수 있으며, 이때 헤테로아릴로는 티에닐, 푸릴, 티아졸릴, 이미다졸릴, 피리딜 및 벤조티아졸릴이 언급될 수 있고,래디칼 R' 의 치환체로서 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 메틸티오, 에틸티오, 1 또는 2 개의 탄소원자 및 1 내지 5 개의 할로겐 원자(여기에서 할로겐 원자는 동일하거나 상이하고 불소, 염소 또는 브롬이다)를 갖는 할로게노알킬, 하이드록실, 불소, 염소 및 브롬, 시아노, 니트로, 아미노, 알킬 그룹당 바람직하게는 1 또는 2 개의 탄소원자를 갖는 모노알킬- 및 디알킬아미노, 카복실, 2 또는 3 개의 탄소원자를 갖는 카브알콕시, 설포(-SO3H), 1 또는 2 개의 탄소원자를 갖는 알킬설포닐, 페닐설포닐, 클로로피리딜아미노 및 클로로피리딜메틸아미노가 언급될 수 있는 하나이상의 일반식 (I)의 화합물인 제제.
- 제 1 항에 있어서, 활성 화합물로서 하나이상의 하기 일반식 (II), (III) 및 (IV)의 화합물을 함유하는 제제:상기 식에서,n 은 1 또는 2 를 나타내고,m 은 0, 1 또는 2 를 나타내며,Subst. 는 제 2 항 내지 제 4 항에 기재된 치환체중의 하나를 나타내고,A, Z, X 및 E 는 각각 제 2 항 내지 제 4 항에 정의된 바와 같다.
- 제 1 항에 있어서, 활성 화합물로서 하나이상의 하기 화합물을 함유하는 제제:
- 활성 화합물(들)을 물 및 지정된 용매(들)와 혼합하여 균질 용액을 수득하고, 경우에 따라 다른 보조제를 첨가함을 특징으로 하여 제 1 항에 따른 조성물을 제조하는 방법.
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