KR102540420B1 - 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액 - Google Patents

감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액 Download PDF

Info

Publication number
KR102540420B1
KR102540420B1 KR1020227046216A KR20227046216A KR102540420B1 KR 102540420 B1 KR102540420 B1 KR 102540420B1 KR 1020227046216 A KR1020227046216 A KR 1020227046216A KR 20227046216 A KR20227046216 A KR 20227046216A KR 102540420 B1 KR102540420 B1 KR 102540420B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
pigment
coloring composition
mass
photosensitive coloring
Prior art date
Application number
KR1020227046216A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20230009515A (ko
Inventor
다케시 오츠
요시타카 사와이
아츠야 이토
요시히데 오가와
Original Assignee
미쯔비시 케미컬 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=52743314&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR102540420(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 미쯔비시 케미컬 주식회사 filed Critical 미쯔비시 케미컬 주식회사
Priority to KR1020237018284A priority Critical patent/KR20230085213A/ko
Publication of KR20230009515A publication Critical patent/KR20230009515A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102540420B1 publication Critical patent/KR102540420B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/24Di-epoxy compounds carbocyclic
    • C08G59/245Di-epoxy compounds carbocyclic aromatic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/44Carbon
    • C09C1/48Carbon black
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

본 발명은 차광성이 우수하고, 게다가 분산성이나 제판성이 우수하며, 충분히 낮은 비유전율을 나타내는 감광성 착색 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (A) 색재, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, 및 (D) 광 중합 개시제를 적어도 함유하고, (A) 색재가 (A-1) 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 화합물의 기하 이성체, 그 화합물의 염, 또는 그 화합물의 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함한다.
Figure 112022141438391-pat00058

Description

감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액{PHOTOSENSITIVE COLORING COMPOSITION, BLACK MATRIX, COLORING SPACER, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND PIGMENT DISPERSION}
본 발명은 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서 및 화상 표시 장치에 관한 것이다. 상세하게는, 차폐성 및 제판 특성이 우수한 감광성 착색 조성물과, 그 용도에 관한 것이다.
액정 표시 소자용 블랙 매트릭스는 액정 표시 소자에 있어서 구동 전극 사이로부터의 광의 누출을 방지하기 위해 사용된다. 일반적으로 블랙 매트릭스는, TFT (Thin Film Transistor) 소자 기판과 쌍을 이루는 유리 또는 플라스틱 시트 등의 투명 기판 상에 포토 리소그래피법을 이용하여 형성되는 스트라이프상 또는 격자상의 차광성 재료의 패턴이다.
최근에는, 컬러 액정 표시 소자의 보다 고정세(高精細)·고휘도화에 대응하기 위해서, 액티브 매트릭스형 액정 디스플레이에 있어서, 컬러 필터를 TFT 소자 기판측에 설치한 컬러 필터 온 어레이 방식 (COA 방식) 이나 블랙 매트릭스만을 TFT 소자 기판측에 형성한 블랙 매트릭스 온 어레이 방식 (BOA 방식) 이 제안되어 있다. 이 방식에 의하면, 컬러 필터측에 블랙 매트릭스를 형성하는 경우에 비해, 액티브 소자측과의 위치 맞춤 마진을 둘 필요가 없어지기 때문에, 개구율을 높게 할 수 있고, 그 결과 고휘도화를 도모할 수 있다.
단, 이와 같은 구조를 취하는 경우에 블랙 매트릭스에는, TFT 소자 상에 직접 탑재시켜도 전기 회로의 단락을 일으키지 않도록 일정 이상의 체적 저항률이나 일정 이하의 비유전율을 가질 것이 요구된다.
이와 같은 블랙 매트릭스로는, 안료에 복수종의 유기 착색 안료와 카본 블랙을 사용한 블랙 매트릭스가 제안되어 있다 (예를 들어 특허문헌 1 참조).
또, 안료로서 유기 흑색 안료를 사용한 블랙 매트릭스용 감광성 조성물도 알려져 있고, 구체적으로는 아닐린 블랙 (예를 들어 특허문헌 2 참조) 이나 페릴렌 블랙 (예를 들어 특허문헌 3 참조) 을 사용한 감광성 조성물이 알려져 있다.
한편, 유기 안료로서 비스-옥소디하이드로-인돌릴렌-벤조푸란 착색제가 알려져 있다 (예를 들어 특허문헌 4 참조). 본 문헌 중에는 그 안료를 컬러 필터의 적색층, 청색층 및 녹색층을 형성하기 위해서 사용하는 것이 기재되어 있다. 또, 그 안료는 전기 영동 디스플레이용 유기 흑색 안료로서도 사용되는 것이 알려져 있다 (예를 들어 특허문헌 5 참조).
일본 공개특허공보 2009-75446호 일본 공개특허공보 평8-44049호 일본 공개특허공보 2006-235153호 일본 공표특허공보 2002-528448호 일본 공표특허공보 2012-515240호
본 발명자들이 예의 검토한 결과, 특허문헌 1 에 기재되어 있는 감광성 조성물은, 유기 착색 안료의 차폐율 (광학 농도) 이 낮아, 충분한 광학 농도를 얻기 위해서는 막두께를 두껍게 할 필요가 있는 것을 알 수 있었다.
또, 특허문헌 2 나 3 에 기재되어 있는, 상기 아닐린 블랙이나 페릴렌 블랙은 분산성이 나빠, 분산시키기 위해서 다량의 분산제를 사용할 필요가 있어, 제판성 등에 문제가 발생하는 경우가 있는 것을 알 수 있었다. 게다가 차폐율 (광학 농도) 도 충분한 것은 아닌 것을 알 수 있었다.
또한, 특허문헌 4 나 5 에는, 비스-옥소디하이드로-인돌릴렌-벤조푸란 착색제를 화상 표시 장치에 사용하는 차폐제로서 사용하는 것에 대해서는 기재도 시사도 없고, 화상 표시 장치에 사용하는 차폐제로서 사용했을 때의 광학 농도, 분산성이나 제판성과 같은 특성에 대해서도 불분명하다.
본 발명은 상기 종래의 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 차광성이 우수하고, 또한 분산성이나 제판성이 우수하고, 충분히 낮은 비유전율을 나타내는 감광성 착색 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들이 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 실시한 결과, 감광성 착색 조성물 중의 색재를 특정 구조를 갖는 유기 흑색 안료를 사용하고, 또한 특정 분산제를 사용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아내, 본 발명에 이르렀다.
즉, 본 발명은 이하의 [1] ∼ [17] 의 구성을 갖는다.
[1] (A) 색재, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, 및 (D) 광 중합 개시제를 적어도 함유하는 감광성 착색 조성물로서, 상기 (A) 색재가 (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한 상기 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함하는 감광성 착색 조성물.
[화학식 1]
Figure 112022141438391-pat00001
[식 (1) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ; R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ; 또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ; R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.]
[2] 상기 일반식 (1) 에 있어서,
식 중, R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고, R3 및 R8 은 서로 독립적으로 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이며, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, R5 는 R10 과 동일한, [1] 에 기재된 감광성 착색 조성물.
[3] 상기 고분자 분산제가, 추가로 3 급 아민을 관능기로서 갖는, [1] 또는 [2] 에 기재된 감광성 착색 조성물.
[4] 상기 (C) 알칼리 가용성 수지가, 하기 알칼리 가용성 수지 (c1) 및 하기 알칼리 가용성 수지 (c2) 중 적어도 어느 하나를 포함하는, [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.
<알칼리 가용성 수지 (c1)>
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.
<알칼리 가용성 수지 (c2)>
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다가 알코올, 그리고 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.
[5] (A) 색재가, 추가로 (A-2) 유기 착색 안료를 함유하는, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.
[6] (A-2) 유기 착색 안료가, 이하의 안료 중 적어도 1 종을 함유하는, [5] 에 기재된 감광성 착색 조성물.
청색 : 컬러 인덱스 피그먼트 블루 60, 또는 15 : 6
적색 : 컬러 인덱스 피그먼트 레드 177, 254, 또는 272
자색 : 컬러 인덱스 피그먼트 바이올렛 23, 또는 29
등색 : 컬러 인덱스 피그먼트 오렌지 43, 64, 또는 72
[7] (A) 색재 100 질량% 에 대하여, 상기 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 30 ∼ 90 질량%, (A-2) 유기 착색 안료의 함유 비율이 10 ∼ 70 질량% 인, [5] 또는 [6] 에 기재된 감광성 착색 조성물.
[8] (A) 색재가 추가로 (A-3) 카본 블랙을 함유하는, [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.
[9] (A) 색재 100 질량% 에 대하여, 상기 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 50 ∼ 90 질량%, (A-3) 카본 블랙의 함유 비율이 10 ∼ 50 질량% 인, [8] 에 기재된 감광성 착색 조성물.
[10] (D) 광 중합 개시제가, 옥심에스테르 개시제, 및/또는 케톡심에스테르 개시제인, [1] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.
[11] [1] ∼ [10] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.
[12] [11] 에 기재된 경화물로부터 형성되는 블랙 매트릭스.
[13] [11] 에 기재된 경화물로부터 형성되는 착색 스페이서.
[14] [12] 에 기재된 블랙 매트릭스 또는 [13] 에 기재된 착색 스페이서를 포함하는 화상 표시 장치.
[15] (A) 색재, 및 (B) 분산제를 함유하는 안료 분산액으로서, 상기 (A) 색재가 (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한 상기 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함하는 안료 분산액.
[화학식 2]
Figure 112022141438391-pat00002
[식 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ; R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ; 또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ; R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.]
[16] 상기 일반식 (1) 에 있어서,
식 중, R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, R3 및 R8 은 서로 독립적으로 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이며, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, R5 는 R10 과 동일한, [15] 에 기재된 안료 분산액.
[17] 상기 고분자 분산제가, 추가로 3 급 아민을 관능기로서 갖는, [15] 또는 [16] 에 기재된 안료 분산액.
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 특정 구조를 갖는 유기 흑색 안료를 포함함으로써, 안료 분산체 제작시에 분산제의 양을 적게 할 수 있기 때문에 우수한 제판 특성을 나타내고, 또 분산성도 우수하다. 따라서, 본 발명의 감광성 착색 조성물로부터 형성되는 블랙 매트릭스는 우수한 차광성을 나타낸다. 또, 본 발명의 블랙 매트릭스 및 착색 스페이서는, TFT 소자 기판 상에 형성되어도 단락·오동작 등을 일으키지 않는 만큼의 충분히 낮은 비유전율을 나타낸다. 본 발명의 블랙 매트릭스를 갖는 화상 표시 장치는, TFT 고장이나 액정 구동의 난조 등의 문제가 없고, 신뢰성이 우수하다.
도 1 은 유기 EL 소자의 일례를 나타내는 단면 개략도이다.
이하, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 그 요지의 범위 내에서 여러 가지로 변경해 실시할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴」이란 「아크릴 및/또는 메타크릴」을 의미하고, 「(메트)아크릴레이트」, 「(메트)아크릴로일」에 대해서도 동일하다.
「(공)중합체」란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미하고, 「산(무수물)」, 「(무수)…산」이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다. 또, 본 발명에 있어서 「아크릴계 수지」란, (메트)아크릴산을 포함하는 (공)중합체, 카르복실기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 포함하는 (공)중합체를 의미한다.
또, 본 발명에 있어서 「모노머」란, 이른바 고분자 물질 (폴리머) 에 상대되는 용어이고, 협의의 단량체 (모노머) 외에, 2 량체, 3 량체, 올리고머 등도 포함하는 의미이다.
본 발명에 있어서 「전체 고형분」이란, 감광성 착색 조성물 중 또는 후술하는 잉크 중에 포함되는, 용제 이외의 전체 성분을 의미하는 것으로 한다.
본 발명에 있어서 중량 평균 분자량이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 가리킨다.
또, 본 발명에 있어서 「아민가」란, 특별히 기재하지 않는 한, 유효 고형분 환산의 아민가를 나타내고, 분산제의 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내는 값이다. 또한, 측정 방법에 대해서는 후술한다. 한편, 「산가」란, 특별히 기재가 없는 한 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.
또, 본 명세서에 있어서, 「질량」으로 나타내는 백분율이나 부는 「중량」으로 나타내는 백분율이나 부와 동일한 의미이다.
[감광성 착색 조성물]
본 발명의 감광성 착색 조성물 (이하, 「감광성 착색 조성물」 또는 「착색 수지 조성물」이라고 칭하는 경우가 있다) 은,
(A) 색재
(B) 분산제
(C) 알칼리 가용성 수지
(D) 광 중합 개시제
를 필수 성분으로서 함유하고, 필요에 따라 추가로 유기 용제, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등, 기타 배합 성분을 포함하는 것이고, 통상 각 배합 성분이 유기 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.
<(A) 색재>
본 발명에서 사용하는 (A) 색재는, (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함한다.
[화학식 3]
Figure 112022141438391-pat00003
[식 (1) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ;
R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ;
또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ;
R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.]
일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략하고 있다), 트랜스-트랜스 이성체는 필시 가장 안정적이다.
[화학식 4]
Figure 112022141438391-pat00004
일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지된 적합한 카티온, 예를 들어 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 또, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.
일반식 (1) 의 치환기 및 그들의 정의에 있어서는, 차폐율이 높아지는 경향이 있으므로, 이하가 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없어, 안료의 색상에 영향을 주지 않는다고 생각되기 때문이다.
R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, 더 바람직하게는 수소 원자이다.
R3 및 R8 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, 더 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이다.
R1 및 R6 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이고, 더 바람직하게는 수소 원자이다.
바람직하게는, R1 과 R6, R2 와 R7, R3 과 R8, R4 와 R9, 및 R5 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일하고, 보다 바람직하게는 R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하며, 또한 R5 는 R10 과 동일하다.
탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 헵틸기, n-옥틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기 또는 도데실기이다.
탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기, 트리메틸시클로헥실기, 트질기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카릴기, 카릴기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 1-아다만틸기 또는 2-아다만틸기이다.
탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐-1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-멘틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 또는 도데세닐기이다.
탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어 2-시클로부텐-1-일기, 2-시크로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-튜젠-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기 또는 캄페닐기이다.
탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥신-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기 또는 1-도데신-12-일기이다.
할로겐 원자는, 예를 들어 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이다.
바람직한 (A-1) 의 유기 흑색 안료는, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물이다.
[화학식 5]
Figure 112022141438391-pat00005
이와 같은 유기 흑색 안료의 구체예로는, 상품명으로 Irgaphor (등록 상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.
(A-1) 의 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 방법에 따라서, 분산제, 용제에 분산시켜 사용된다. 또, 분산시에 상기 일반식 (2) 의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있다.
본 발명의 감광성 착색 조성물은, (A) 색재로서 (A-1) 이외의 색재를 포함하고 있는 경우도 있다. 그 색재로는 염 안료를 사용할 수 있지만, 내열성, 내광성 등의 점에서 안료가 바람직하다. 특히 (A-2) 유기 착색 안료 및/또는 (A-3) 카본 블랙이 바람직하게 사용된다. 또한, 본 명세서에 있어서 유기 착색 안료란, 착색에 사용하는 유기 화합물을 성분으로 하는 분말이고, 물이나 기름에 불용한 것을 의미하는 것이다.
(A-2) 유기 착색 안료로는 청색 안료, 녹색 안료, 적색 안료, 황색 안료, 자색 안료, 오렌지 안료, 브라운 안료, (A-1) 및 (A-3) 이외의 흑색 안료 등 각종 색의 유기 안료를 사용할 수 있다. 또, 그 구조로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계 등의 유기 안료 외에 여러 가지 무기 안료 등도 이용 가능하다. 또한, 본 명세서에서는, 안료의 색은 특별히 기재가 없는 한은, 색재로서 그 안료를 단독으로 사용하여 감광성 착색 조성물을 형성했을 때에 나타내는 색을 의미한다. 요컨대, 예를 들어 흑색 안료란, 색재로서 당해 안료를 단독으로 사용하여 감광성 착색 조성물을 형성했을 때에 나타내는 색이 흑색이 되는 안료를 의미하고 있다.
이하에, 본 발명에 사용할 수 있는 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다. 또한, 이하에 예시하는 「C. I. 피그먼트 레드 2」 등의 용어는 컬러 인덱스 (C. I.) 를 의미한다.
적색 안료로는,
Figure 112022141438391-pat00006
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 레드 254, 272 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
청색 안료로는,
Figure 112022141438391-pat00007
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15 : 6 을 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16, 60 을 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 블루 60 을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
녹색 안료로는, C. I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55 를 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.
황색 안료로는,
Figure 112022141438391-pat00008
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.
오렌지 (등색) 안료로는,
Figure 112022141438391-pat00009
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 오렌지 38, 71 을 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 오렌지 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 오렌지 64, 72 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
자색 안료로는, C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 23 을 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 자색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 바이올렛 29 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
이들 중에서도, 이하의 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것으로 하는 것이 바람직하다.
청색 : 컬러 인덱스 피그먼트 블루 60, 또는 15 : 6
적색 : 컬러 인덱스 피그먼트 레드 177, 254, 또는 272
자색 : 컬러 인덱스 피그먼트 바이올렛 23 또는 29
등색 : 컬러 인덱스 피그먼트 오렌지 43, 64 또는 72
또한, 상이한 색의 안료를 조합하여 사용하는 경우, 색의 조합에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는 예를 들어, 적색 안료와 청색 안료 의 조합, 또는 청색 안료와 오렌지 안료와 자색 안료의 조합 등을 들 수 있다.
또, (A-2) 유기 착색 안료 대신에 염료를 사용해도 되고, 또 (A-2) 유기 착색 안료에 추가로 염료를 사용해도 된다. 색재로서 사용할 수 있는 염료로는, 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 카르보닐계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다.
아조계 염료로는, 예를 들어 C. I. 엑시드 옐로우 11, C. I. 엑시드 오렌지 7, C. I. 엑시드 레드 37, C. I. 엑시드 레드 180, C. I. 엑시드 블루 29, C. I. 다이렉트 레드 28, C. I. 다이렉트 레드 83, C. I. 다이렉트 옐로우 12, C. I. 다이렉트 오렌지 26, C. I. 다이렉트 그린 28, C. I. 다이렉트 그린 59, C. I. 리엑티브 옐로우 2, C. I. 리엑티브 레드 17, C. I. 리엑티브 레드 120, C. I. 리엑티브 블랙 5, C. I. 디스퍼스 오렌지 5, C. I. 디스퍼스 레드 58, C. I. 디스퍼스 블루 165, C. I. 베이직 블루 41, C. I. 베이직 레드 18, C. I. 모르단트 레드 7, C. I. 모르단트 옐로우 5, C. I. 모르단트 블랙 7 등을 들 수 있다.
안트라퀴논계 염료로는, 예를 들어 C. I. 배트 블루 4, C. I. 엑시드 블루 40, C. I. 엑시드 그린 25, C. I. 리엑티브 블루 19, C. I. 리엑티브 블루 49, C. I. 디스퍼스 레드 60, C. I. 디스퍼스 블루 56, C. I. 디스퍼스 블루 60 등을 들 수 있다.
이 외, 프탈로시아닌계 염료로서, 예를 들어 C. I. 패드 블루 5 등을, 퀴논이민계 염료로서 예를 들어 C. I. 베이직 블루 3, C. I. 베이직 블루 9 등을, 퀴놀린계 염료로서 예를 들어 C. I. 솔벤트 옐로우 33, C. I. 엑시드 옐로우 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 64 등을, 니트로계 염료로서 예를 들어 C. I. 엑시드 옐로우 1, C. I. 엑시드 오렌지 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 42 등을 들 수 있다.
또, 본 발명의 감광성 착색 조성물에는, (A-1) 이외의 흑색 안료를 사용할 수도 있다. (A-1) 이외의 흑색 안료는, 단독이어도 되고, 또는 적, 녹, 청 등의 혼합에 의한 것이어도 된다. 또, 이들 색재는 무기 또는 유기 안료, 염료 중에서 적절히 선택할 수 있다.
흑색 색재를 조제하기 위해서 혼합 사용 가능한 색재로는, 빅토리아 퓨어 블루 (42595), 오라민 O (41000), 카틸론브릴리언트플라빈 (베이직 13), 로다민 6GCP (45160), 로다민 B (45170), 사프라닌 OK70 : 100 (50240), 에리오글라우신 X (42080), No.120/리오놀 옐로우 (21090), 리오놀 옐로우 GRO (21090), 시뮬러 패스트 옐로우 8GF (21105), 벤지딘 옐로우 4T-564D (21095), 시뮬러 패스트 레드 4015 (12355), 리오놀 레드 7B4401 (15850), 패스토겐 블루 TGR-L (74160), 리오놀 블루 SM (26150), 리오놀 블루 ES (피그먼트 블루 15 : 6), 리오노겐 레드 GD (피그먼트 레드 168), 리오놀 그린 2YS (피그먼트 그린 36) 등을 들 수 있다 (또한, 상기 ( ) 안의 숫자는 컬러 인덱스 (C. I.) 를 의미한다).
또, 추가로 다른 혼합 사용 가능한 안료에 대해 C. I. 넘버로 나타내면, 예를 들어 C. I. 황색 안료 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154, 166, C. I. 오렌지 안료 36, 43, 51, 55, 59, 61, C. I. 적색 안료 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, C. I. 바이올렛 안료 19, 23, 29, 30, 37, 40, 50, C. I. 청색 안료 15, 15 : 1, 15 : 4, 22, 60, 64, C. I. 녹색 안료 7, C. I. 브라운 안료 23, 25, 26 등을 들 수 있다.
또, 단독 사용 가능한 흑색 색재로는, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 페릴렌 블랙 등을 들 수 있다.
또, (A-1) 유기 흑색 안료 이외의 색재로서 (A-3) 카본 블랙이 차광률, 화상 특성의 관점에서 바람직하게 사용된다. 카본 블랙의 예로는, 이하와 같은 카본 블랙을 들 수 있다.
미츠비시 화학사 제조 :
Figure 112022141438391-pat00010
데구사사 제조 :
Figure 112022141438391-pat00011
캐봇사 제조 :
Figure 112022141438391-pat00012
콜럼비안 카본사 제조 :
Figure 112022141438391-pat00013
카본 블랙은 수지로 피복된 것을 사용해도 상관없다. 수지로 피복된 카본 블랙을 사용하면, 유리 기판에의 밀착성이나 체적 저항값을 향상시키는 효과가 있다. 수지로 피복된 카본 블랙으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평09-71733호에 기재되어 있는 카본 블랙 등을 바람직하게 사용할 수 있다.
수지에 의한 피복 처리에 제공하는 카본 블랙으로는, Na 와 Ca 의 합계 함유량이 100 ppm 이하인 것이 바람직하다. 카본 블랙은 통상 제조시의 원료유나 연소유 (또는 가스), 반응 정지수나 조립수 (造粒水), 나아가서는 반응로의 노재 등으로부터 혼입한 Na 나, Ca, K, Mg, Al, Fe 등을 조성으로 하는 회분이 퍼센트의 오더로 함유되어 있다. 이 중, Na 나 Ca 는, 각각 수백 ppm 이상 함유되어 있는 것이 일반적이지만, 이들이 다량으로 존재하면, 투명 전극 (ITO) 이나 그 밖의 전극에 침투해, 전기적 단락의 원인이 되는 경우가 있기 때문이다.
이들의 Na 나 Ca 를 포함하는 회분의 함유량을 저감하는 방법으로는, 카본 블랙을 제조할 때의 원료유나 연료유 (또는 가스) 그리고 반응 정지수로서, 이들의 함유량이 최대한 적은 것을 엄선하는 것 및 스트럭쳐를 조정하는 알칼리 물질의 첨가량을 최대한 적게 하는 것에 의해 가능하다. 다른 방법으로는, 노로부터 제출된 카본 블랙을 물이나 염산 등으로 씻어 Na 나 Ca 를 용해해 제거하는 방법을 들 수 있다.
구체적으로는 카본 블랙을 물, 염산, 또는 과산화수소수에 혼합 분산시킨 후, 물에 난용의 용매를 첨가해 가면 카본 블랙은 용매측으로 이행해, 물과 완전히 분리됨과 함께 카본 블랙 중에 존재한 대부분의 Na 나 Ca 는, 물이나 산에 용해, 제거된다. Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 저감하기 위해서는, 원재료를 엄선한 카본 블랙 제조 과정 단독 혹은 물이나 산 용해 방식 단독으로도 가능한 경우도 있지만, 이 양 방식을 병용함으로써 더 용이하게 Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 할 수 있다.
또 수지 피복 카본 블랙은, pH6 이하의 이른바 산성 카본 블랙인 것이 바람직하다. 수중에서의 분산 직경 (어글로머레이트 직경(agglomerate diameter)) 이 작아지므로, 미세 유닛까지의 피복이 가능해져 바람직하다. 또한 입경 40 ㎚ 이하, 디부틸프탈레이트 (DBP) 흡수량 140 ㎖/100 g 이하인 것이 바람직하다. 입경이 40 ㎚ 보다 크고, DBP 흡수량이 140 ㎖/100 g 보다 크면 페이스트로 한 경우의 분산성은 우수하지만, 도포막의 농도감이 충분하지 않은 경우가 있고, 막두께 1 ∼ 2 ㎛ 정도에서는 차광성이 부족해질 우려가 있기 때문이다.
수지로 피복 된 카본 블랙을 조제하는 방법에는 특별히 한정이 없지만, 예를 들어 카본 블랙 및 수지의 배합량을 적절히 조정한 후, 1. 수지와 시클로헥사논, 톨루엔, 자일렌 등의 용제를 혼합해 가열 용해시킨 수지 용액과, 카본 블랙 및 물을 혼합한 현탁액을 혼합 교반하고, 카본 블랙과 물을 분리시킨 후, 물을 제거하고 가열 혼련해 얻어진 조성물을 시트상으로 성형하고, 분쇄한 후, 건조시키는 방법 ; 2. 상기와 동일하게 해 조제한 수지 용액과 현탁액을 혼합 교반하여 카본 블랙 및 수지를 입상화한 후, 얻어진 입상물을 분리, 가열해 잔존하는 용제 및 물을 제거하는 방법 ; 3. 상기 예시한 용제에 말레산, 푸마르산 등의 카르복실산을 용해시키고, 카본 블랙을 첨가, 혼합하여 건조시키고, 용제를 제거해 카르복실산 첨착 카본 블랙을 얻은 후, 이것에 수지를 첨가해 드라이 블렌드하는 방법 ; 4. 피복시키는 수지를 구성하는 반응성기 함유 모노머 성분과 물을 고속 교반하여 현탁액을 조제하고, 중합 후 냉각하여 중합체 현탁액으로부터 반응성기 함유 수지를 얻은 후, 이것에 카본 블랙을 첨가해 혼련하고, 카본 블랙과 반응성기를 반응시키고 (카본 블랙을 그래프트시키고), 냉각 및 분쇄하는 방법 등을 채용할 수 있다.
피복 처리하는 수지의 종류도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 합성 수지가 일반적이고, 또한 구조 중에 벤젠핵을 가진 수지가 양쪽성계 계면 활성제적인 작용이 보다 강하기 때문에 분산성 및 분산 안정성의 점에서 바람직하다.
구체적인 합성 수지로는, 페놀 수지, 멜라민 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글립탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리술폰, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르술포폴리페닐렌술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤 등의 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 카본 블랙에 대한 수지의 피복량은, 카본 블랙과 수지의 합계량에 대해 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 1 질량% 미만의 양에서는 미처리의 카본 블랙과 동일한 분산성이나 분산 안정성밖에 얻어지지 않을 우려가 있다. 한편, 30 질량% 를 초과하면, 수지끼리의 점착성이 강해 경단상의 덩어리가 되어, 분산이 진행되지 않게 될 우려가 있다.
이와 같이 하여 수지로 피복 처리해 이루어지는 카본 블랙은, 통상적인 방법에 따라 블랙 매트릭스의 차광재로서 사용할 수 있고, 이 블랙 매트릭스를 구성 요소로 하는 컬러 필터를 통상적인 방법에 의해 제조할 수 있다. 이와 같은 카본 블랙을 사용하면, 고차광률이고 또한 표면 반사율이 낮고 또 막두께가 얇은 블랙 매트릭스를 저비용으로 달성할 수 있다. 블랙 매트릭스액을 구성하는 수지나 용매에 대해, 카본 블랙의 분산성이나 분산 안정성이 현격히 향상되었기 때문이라고 추측된다. 또, 카본 블랙 표면을 수지로 피복한 것에 의해, Ca 나 Na 를 카본 블랙 중에 봉쇄하는 작용도 있는 것도 추측된다.
또, 안료로서 황산바륨, 황산납, 산화티탄, 황색납, 벵갈라, 산화크롬 등을 사용할 수도 있다.
이들 각종 안료는 복수종을 병용할 수도 있다. 예를 들어, 색도의 조정을 위해서 녹색 안료와 황색 안료를 병용하거나, 청색 안료와 자색 안료를 병용할 수 있다.
이들 각종 안료 중 (A-2) 유기 착색 안료로서, 차광성의 점에서 특히 바람직하게 사용되는 안료로는 C. I. 피그먼트 블루 60, C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, C. I. 피그먼트 레드 177, C. I. 피그먼트 레드 242, C. I. 피그먼트 블루 254, C. I. 피그먼트 바이올렛 23, C. I. 피그먼트 바이올렛 29, C. I. 피그먼트 오렌지 49, C. I. 피그먼트 오렌지 64, C. I. 피그먼트 오렌지 79 를 들 수 있다. (A-2) 유기 착색 안료를 포함하는 경우, 상기 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것이 바람직하고, 2 종 이상을 함유하는 것이 더 바람직하다.
또, (A-3) 카본 블랙으로는, 체적 저항이나 유전율의 점에서, 수지 피복 카본 블랙이 바람직하게 사용된다.
이들 안료는, 평균 입경이 통상 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.25 ㎛ 이하가 되도록, 분산시켜 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 평균 입경의 기준은 안료 입자의 수이다.
또한, 본 발명에 있어서, 안료의 평균 입경은, 동적 광 산란 (DLS) 에 의해 측정된 안료 입경으로부터 구한 값이다. 입경 측정은, 충분히 희석된 착색 수지 조성물 (통상은 희석하여 안료 농도 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제. 단 측정 기기에 의해 추천된 농도가 있으면 그 농도에 따른다) 에 대해 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.
<(B) 분산제>
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서는, (A) 색재를 미세하게 분산시키고, 또한 그 분산 상태를 안정화시키는 것이 품질의 안정성 확보에는 중요하기 때문에, (B) 분산제를 포함하고, 특히 (A-1) 유기 흑색 안료의 분산성의 관점에서 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함한다.
상기 고분자 분산제는 추가로, 분산 안정성의 면에서 카르복실기 ; 인산기 ; 술폰산기 ; 또는 이들의 염기 ; 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 관능기를 추가로 갖는 것이어도 된다. 그 중에서도 특히, 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 염기성 관능기를 추가로 갖는 고분자 분산제가 안료를 분산시킬 때에 소량의 분산제로 분산시킬 수 있다는 관점에서 바람직하다.
이들 중에서도, (A-1) 유기 흑색 안료의 분산성의 관점에서, 또 (A-2) 유기 착색 안료 및/또는 (A-3) 카본 블랙의 분산성의 관점에서, 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.
또, 고분자 분산제로는, 예를 들어 우레탄계 분산제, 아크릴계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 갖는 모노머와 매크로 모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제 등을 들 수 있다.
이와 같은 분산제의 구체예로는, 상품명으로 EFKA (등록 상표. BASF 사 제조.), DISPERBYK (등록 상표. 빅케미사 제조.), 디스파론 (등록 상표. 쿠스모토 화성사 제조.), SOLSPERSE (등록 상표. 루브리졸사 제조.), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로우 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록 상표. 아지노모토사 제조.) 등을 들 수 있다.
이들 고분자 분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.
고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 700 이상, 바람직하게는 1000 이상이고, 또 통상 100,000 이하, 바람직하게는 50,000 이하이다.
이들 중, 밀착성 및 직선성의 면에서, (B) 분산제는 관능기를 갖는 우레탄계 고분자 분산제 및/또는 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 것이 특히 바람직하다.
또 분산성, 보존성의 면에서, 염기성 관능기를 갖고, 폴리에스테르 결합 및/또는 폴리에테르 결합을 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.
우레탄계 및 아크릴계 고분자 분산제로는, 예를 들어 DISPERBYK160 ∼ 166, 182 시리즈 (모두 우레탄계), DISPERBYK2000, 2001, LPN21116 등 (모두 아크릴계) (이상 모두 빅케미사 제조) 을 들 수 있다.
우레탄계 고분자 분산제로서 바람직한 화학 구조를 구체적으로 예시한다면, 예를 들어 폴리이소시아네이트 화합물과, 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물과, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는, 중량 평균 분자량 1,000 ∼ 200,000 의 분산 수지 등을 들 수 있다. 이들을 벤질클로라이드 등의 4 급화제로 처리함으로써, 3 급 아미노기의 전부 또는 일부를 4 급 암모늄염기로 할 수 있다.
상기 폴리이소시아네이트 화합물의 예로는, 파라페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신메틸에스테르디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 다이머산디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), ω,ω'-디이소시아네이트디메틸시클로헥산 등의 지환족 디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐메탄), 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 트리이소시아네이트, 및 이들의 3 량체, 물 부가물, 및 이들의 폴리올 부가물 등을 들 수 있다. 폴리이소시아네이트로서 바람직한 것은 유기 디이소시아네이트의 3 량체이고, 가장 바람직한 것은 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체와 이소포론디이소시아네이트의 3 량체이다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
이소시아네이트의 3 량체의 제조 방법으로는, 상기 폴리이소시아네이트류를 적당한 3 량화 촉매, 예를 들어 제 3 급 아민류, 포스핀류, 알콕사이드류, 금속 산화물, 카르복실산염류 등을 이용하여 이소시아네이트기의 부분적인 3 량화를 실시하고, 촉매독의 첨가에 의해 3 량화를 정지시킨 후, 미반응의 폴리이소시아네이트를 용제 추출, 박막 증류에 의해 제거해 목적의 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 얻는 방법을 들 수 있다.
동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물로는, 폴리에테르글리콜, 폴리에스테르글리콜, 폴리카보네이트글리콜, 폴리올레핀글리콜 등, 및 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 것 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.
폴리에테르글리콜로는, 폴리에테르디올, 폴리에테르에스테르디올, 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에테르디올로는, 알킬렌옥사이드를 단독 또는 공중합시켜 얻어지는 것, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌글리콜 및 그들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
폴리에테르에스테르디올로는, 에테르기 함유 디올 혹은 다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 그들의 무수물과 반응시키거나, 또는 폴리에스테르글리콜에 알킬렌옥사이드를 반응시킴으로써 얻어지는 것, 예를 들어 폴리(폴리옥시테트라메틸렌)아디페이트 등을 들 수 있다. 폴리에테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜 또는 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 화합물이다.
폴리에스테르글리콜로는, 디카르복실산 (숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바스산, 푸마르산, 말레산, 프탈산 등) 또는 그들의 무수물과 글리콜 (에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌글리콜, 1,9-노난디올 등의 지방족 글리콜, 비스하이드록시메틸시클로헥산 등의 지환족 글리콜, 자일릴렌글리콜, 비스하이드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, N-메틸디에탄올아민 등의 N-알킬디알카놀아민 등) 을 중축합시켜 얻어진 것, 예를 들어 폴리에틸렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌/프로필렌아디페이트 등, 또는 상기 디올류 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 1 가 알코올을 개시제로서 이용하여 얻어지는 폴리락톤디올 또는 폴리락톤모노올, 예를 들어 폴리카프로락톤글리콜, 폴리메틸발레로락톤 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에스테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리카프로락톤글리콜 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 알코올을 개시제로 한 폴리카프로락톤이다.
폴리카보네이트글리콜로는, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트디올, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트디올 등, 폴리올레핀글리콜로는 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리이소프렌글리콜 등을 들 수 있다.
이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 화합물의 수평균 분자량은, 통상 300 ∼ 10,000, 바람직하게는 500 ∼ 6,000, 더 바람직하게는 1,000 ∼ 4,000이다.
본 발명에 사용되는 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다.
활성 수소, 즉 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합하고 있는 수소 원자로는, 수산기, 아미노기, 티올기 등의 관능기 중의 수소 원자를 들 수 있고, 그 중에서도 아미노기, 특히 1 급 아미노기의 수소 원자가 바람직하다.
3 급 아미노기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 갖는 아미노기, 또는 헤테로 고리 구조, 보다 구체적으로는 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리 등을 들 수 있다.
이와 같은 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 예시한다면, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민, N,N-디부틸-1,4-부탄디아민 등을 들 수 있다.
또, 3 급 아미노기가 함질소 헤테로 고리 구조인 경우의 그 함질소 헤테로 고리로는, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조티아디아졸 고리 등의 함질소 헤테로 5 원자 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리, 이소퀴놀린 고리 등의 함질소 헤테로 6 원자 고리를 들 수 있다. 이들 함질소 헤테로 고리 중 바람직한 것은 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리이다.
이들 이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸, 1-(2-아미노에틸)이미다졸 등을 들 수 있다. 또, 트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸, 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다.
이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
우레탄계 고분자 분산제를 제조할 때의 원료의 바람직한 배합 비율은 폴리이소시아네이트 화합물 100 질량부에 대해, 동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물이 10 ∼ 200 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 190 질량부, 더 바람직하게는 30 ∼ 180 질량부, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물이 0.2 ∼ 25 질량부, 바람직하게는 0.3 ∼ 24 질량부이다.
우레탄계 고분자 분산제의 제조는 폴리우레탄 수지 제조의 공지된 방법에 따라 실시된다. 제조할 때의 용매로는, 통상 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산 등의 탄화수소류, 다이아세톤알코올, 이소프로판올, 제2부탄올, 제3부탄올 등 일부의 알코올류, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 염화물, 테트라하이드로푸란, 디에틸에테르 등의 에테르류, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매 등이 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
상기 제조시에, 통상 우레탄화 반응 촉매가 사용된다. 이 촉매로는, 예를 들어 디부틸틴디라우레이트, 디옥틸틴디라우레이트, 디부틸틴디옥토에이트, 스태너스옥토에이트 등의 주석계, 철아세틸아세토네이트, 염화제2철 등의 철계, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 3 급 아민계 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용하여 사용해도 된다.
동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민값으로 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 의 범위로 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 5 ∼ 95 ㎎KOH/g 의 범위이다. 아민가는 염기성 아미노기를 산에 의해 중화 적정하고, 산가에 대응시켜 KOH 의 ㎎ 수로 나타낸 값이다. 아민가가 상기 범위보다 낮으면 분산 능력이 저하되는 경향이 있고, 또 상기 범위를 초과하면 현상성이 저하되기 쉬워진다.
또한, 이상의 반응에서 고분자 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는 추가로, 알코올이나 아미노 화합물로 이소시아네이트기를 변형시키면 생성물의 시간 경과적 안정성이 높아지므로 바람직하다.
우레탄계 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 1,000 ∼ 200,000, 바람직하게는 2,000 ∼ 100,000, 보다 바람직하게는 3,000 ∼ 50,000 의 범위이다. 이 분자량이 1,000 미만에서는 분산성 및 분산 안정성이 열등하고, 200,000 을 초과하면 용해성이 저하되어 분산성이 열등하면 동시에 반응의 제어가 곤란해진다.
아크릴계 고분자 분산제로는, 관능기 (여기서 말하는 관능기란, 고분자 분산제에 함유되는 관능기로서 전술한 관능기이다) 를 갖는 불포화기 함유 단량체와, 관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체의 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체, 블록 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 공중합체는 공지된 방법으로 제조할 수 있다.
관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체로는, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 아크릴산 다이머 등의 카르복실기를 갖는 불포화 단량체, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 및 이들의 4 급화물 등의 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기를 갖는 불포화 단량체를 구체예로서 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 스티렌 및 그 유도체, α-메틸스티렌, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 N-치환 말레이미드, 아크릴로니트릴, 아세트산비닐 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리스티렌 매크로모노머, 폴리2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리에틸렌글리콜 매크로모노머, 폴리프로필렌글리콜 매크로모노머, 폴리카프로락톤 매크로모노머 등의 매크로모노머 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
아크릴계 고분자 분산제는, 특히 바람직하게는 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체이지만, 이 경우 A 블록 중에는 상기 관능기를 포함하는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조 외에, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조가 포함되어 있어도 되고, 이들이 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 관능기를 포함하지 않는 부분 구조의, A 블록 중의 함유량은 통상 80 질량% 이하이고, 바람직하게는 50 질량% 이하, 더 바람직하게는 30 질량% 이하이다.
B 블록은, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조로 이루어지는 것이지만, 1 개의 B 블록 중에 2 종 이상의 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들은 그 B 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.
그 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체는, 예를 들어 이하에 나타내는 리빙 중합법으로 조제된다.
리빙 중합법에는, 아니온 리빙 중합법, 카티온 리빙 중합법, 라디칼 리빙 중합법이 있고, 이 중 아니온 리빙 중합법은 중합 활성종이 아니온이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.
[화학식 6]
Figure 112022141438391-pat00014
상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이며, M 은 금속 원자이고, s 및 t 는 각각 1 이상의 정수이다.
라디칼 리빙 중합법은 중합 활성종이 라디칼이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.
[화학식 7]
Figure 112022141438391-pat00015
Figure 112022141438391-pat00016
상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이며, j 및 k 는 각각 1 이상의 정수이고, Ra 는 수소 원자 또는 1 가의 유기기이며, Rb 는 Ra 와는 상이한 수소 원자 또는 1 가의 유기기이다.
이 아크릴계 고분자 분산제를 합성할 때에는, 일본 공개특허공보 평9-62002호나, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), 우테 코이치, 하타다 코이치, 고분자 가공, 36, 366 (1987), 히가시무라 토시노부, 사와모토 미츠오, 고분자 논문집, 46, 189 (1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), 아이다 타쿠조, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43, 300 (1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) 등에 기재된 공지된 방법을 채용할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 아크릴계 고분자 분산제는 A-B 블록 공중합체여도, B-A-B 블록 공중합체여도 되고, 그 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비는 1/99 ∼ 80/20, 특히 5/95 ∼ 60/40 (질량비) 인 것이 바람직하고, 이 범위 밖에서는 양호한 내열성과 분산성을 겸비할 수 없는 경우가 있다.
또, 본 발명에서 사용할 수 있는 A-B 블록 공중합체, B-A-B 블록 공중합체 1 g 중 4 급 암모늄염기의 양은 통상 0.1 ∼ 10 m㏖ 인 것이 바람직하고, 이 범위 밖에서는 양호한 내열성과 분산성을 겸비할 수 없는 경우가 있다.
또한, 이와 같은 블록 공중합체 중에는, 통상 제조 과정에서 생긴 아미노기가 함유되는 경우가 있지만, 그 아민가는 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 정도이고, 분산성의 관점에서 바람직하게는 10 ㎎KOH/g 이상, 보다 바람직하게는 30 ㎎KOH/g 이상, 더 바람직하게는 50 ㎎KOH/g 이상, 또 바람직하게는 90 ㎎KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 80 ㎎KOH/g 이하, 더 바람직하게는 75 ㎎KOH/g 이하이다.
여기서, 이들 블록 공중합체 등의 분산제의 아민가는, 분산제 시료 중의 용제를 제외한 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내고, 다음의 방법에 의해 측정한다.
100 ㎖ 의 비커에 분산제 시료의 0.5 ∼ 1.5 g 을 정밀 칭량하고, 50 ㎖ 의 아세트산으로 용해한다. pH 전극을 구비한 자동 적정 장치를 사용하여, 이 용액을 0.1 ㏖/ℓ 의 HClO4 아세트산 용액으로 중화 적정한다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하고 다음 식에 의해 아민가를 구한다.
아민가 [㎎KOH/g] = (561 × V)/(W × S)
〔단, W : 분산제 시료 칭취량 (秤取量) [g], V : 적정 종점에서의 적정량 [㎖], S : 분산제 시료의 고형분 농도 [질량%] 를 나타낸다.〕
또, 이 블록 공중합체의 산가는, 그 산가의 기초가 되는 산성기의 유무 및 종류에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로 낮은 편이 바람직하고, 통상 10 ㎎KOH/g 이하이고, 그 중량 평균 분자량 (Mw) 은 1000 ∼ 100,000 의 범위가 바람직하다. 블록 공중합체의 중량 평균 분자량이 1000 미만이면 분산 안정성이 저하되는 경향이 있고, 100,000 을 초과하면 현상성, 해상성이 저하되는 경향이 있다.
4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제의 구체적인 구조에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서는 하기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (i)」이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 8]
Figure 112022141438391-pat00017
상기 식 (i) 중, R31 ∼ R33 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고, R31 ∼ R33 중 2 개 이상이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R34 는 수소 원자 또는 메틸기이다. X 는 2 가의 연결기이고, Y- 는 카운터 아니온이다.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 6 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하며, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 7 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 페닐부틸렌기, 페닐이소프로필렌기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 또는 페닐부틸렌기인 것이 바람직하고, 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 보다 바람직하다.
이들 중에서도, 분산성의 관점에서 R31 ∼ R33 이 각각 독립적으로 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 구체적으로는 R31 및 R33 이 각각 독립적으로 메틸기, 또는 에틸기이며, 또한 R32 가 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 바람직하고, R31 및 R33 이 메틸기이고, 또한 R32 가 페닐메틸렌기인 것이 더 바람직하다.
또, 상기 고분자 분산제가 관능기로서 3 급 아민을 갖는 경우, 분산성의 관점에서는 하기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (ii)」라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 9]
Figure 112022141438391-pat00018
상기 식 (ii) 중, R35 및 R36 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고, R35 및 R36 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R37 은 수소 원자 또는 메틸기이다. Z 는 2 가의 연결기이다.
또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.
마찬가지로, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.
이들 중에서도, R35 및 R36 이 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 또는 에틸기인 것이 보다 바람직하다.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 및 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기 등을 들 수 있다.
상기 식 (i) 및 (ii) 에 있어서, 2 가의 연결기 X 및 Z 로는, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R43-기, -COOR44-기〔단, R43 및 R44 는 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 또는 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다〕등을 들 수 있고, 바람직하게는 -COO-R44-기이다.
또, 상기 식 (i) 에 있어서, 카운터 아니온의 Y- 로는 Cl-, Br-, I-, ClO4 -, BF4 -, CH3COO-, PF6 - 등을 들 수 있다.
상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대해 바람직하게는 60 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 50 몰% 이하이며, 더 바람직하게는 40 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 35 몰% 이하이며, 또 바람직하게는 5 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상이며, 더 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 30 몰% 이상이다.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 5 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 10 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 또 50 몰% 이하인 것이 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 보다 바람직하며, 20 몰% 이하인 것이 더 바람직하고, 15 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서 5 몰% 이상인 것이 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 15 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 20 몰% 이상인 것이 특히 바람직하며, 또 60 몰% 이하인 것이 바람직하고, 40 몰% 이하인 것이 보다 바람직하며, 30 몰% 이하인 것이 더 바람직하고, 25 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다.
또, 고분자 분산제는, 용매 등의 바인더 성분에 대한 상용성을 높여, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iii)」이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 10]
Figure 112022141438391-pat00019
상기 식 (iii) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R41 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기이며, R42 는 수소 원자 또는 메틸기이다. n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.
상기 식 (iii) 의 R41 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하며, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.
또, 상기 식 (iii) 에 있어서의 n 은 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산성의 관점에서, 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하며, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하다.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 2 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 4 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 또 30 몰% 이하인 것이 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 보다 바람직하며, 10 몰% 이하인 것이 더 바람직하다. 상기 범위 내인 경우에는 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산 안정성의 양립이 가능해지는 경향이 있다.
또, 고분자 분산제는, 분산제의 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성을 높여, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iv)」라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.
[화학식 11]
Figure 112022141438391-pat00020
상기 식 (iv) 중, R38 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이다. R39 는 수소 원자 또는 메틸기이다.
상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하며, 4 이상인 것이 보다 바람직하고, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.
상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 6 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하며, 8 이하인 것이 더 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.
상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 7 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하며, 10 이하인 것이 더 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 페닐부틸렌기, 페닐이소프로필렌기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 또는 페닐부틸렌기인 것이 바람직하고, 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 보다 바람직하다.
이들 중에서도, 용제 상용성과 분산 안정성의 관점에서, R38 이 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 페닐메틸렌기인 것이 보다 바람직하다.
R38 에 있어서의, 알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, 아릴기 또는 아르알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는 사슬형의 알킬기, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, R38 로 나타내는 사슬형의 알킬기에는 직사슬형 및 분기사슬형 모두 포함된다.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 분산성의 관점에서 30 몰% 이상인 것이 바람직하고, 40 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 또 80 몰% 이하인 것이 바람직하고, 70 몰% 이하인 것이 보다 바람직하다.
고분자 분산제는, 반복 단위 (i), 반복 단위 (ii), 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.
고분자 분산제는, 분산성을 보다 높인다는 관점에서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖는 A 블록과, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖지 않는 B 블록을 갖는, 블록 공중합체인 것이 바람직하다. 그 블록 공중합체는, A-B 블록 공중합체 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것이 바람직하다. A 블록에 4 급 암모늄염기뿐만 아니라 3 급 아미노기도 도입함으로써, 의외로 분산제의 분산 능력이 현저하게 향상되는 경향이 있다. 또, B 블록이 반복 단위 (iii) 을 갖는 것이 바람직하고, 또 반복 단위 (iv) 를 갖는 것이 보다 바람직하다.
A 블록 중에 있어서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 1 개의 A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우 각각의 반복 단위는, 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.
또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위가 A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는 전술한 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위 등을 들 수 있다. 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위의, A 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 A 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.
반복 단위 (iii) 및 (iv) 이외의 반복 단위가 B 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다. 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위의, B 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 B 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.
또 분산 안정성 향상의 점에서, (B) 분산제는 후술하는 안료 유도체와 병용하는 것이 바람직하다.
<(C) 알칼리 가용성 수지>
본 발명에서 사용하는 (C) 알칼리 가용성 수지로는, 카르복실기 또는 수산기를 포함하는 수지이면 특별히 한정은 없고, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지, 카르복실기 함유 에폭시 수지, 카르복실기 함유 우레탄 수지, 노볼락계 수지, 폴리비닐페놀계 수지 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지가 바람직하다. 이들은 1 종을 단독으로, 혹은 복수종을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 알칼리 가용성 수지로는, 특히 하기 알칼리 가용성 수지 (c1) 및/또는 알칼리 가용성 수지 (c2) (이하 「카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지」라고 칭하는 경우가 있다) 가 우수한 제판성이라는 관점에서 바람직하게 사용된다.
<알칼리 가용성 수지 (c1)>
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.
<알칼리 가용성 수지 (c2)>
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다가 알코올, 및 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.
원료가 되는 에폭시 수지로서, 예를 들어 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「에피코트 (등록 상표. 이하 동일.) 828」, 「에피코트 1001」, 「에피코트 1002」, 「에피코트 1004」등), 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「NER-1302」(에폭시 당량 323, 연화점 76 ℃)), 비스페놀 F 형 수지 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「에피코트 807」, 「EP-4001」, 「EP-4002」, 「EP-4004 등」), 비스페놀 F 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「NER-7406」(에폭시 당량 350, 연화점 66 ℃)), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「YX-4000」), 페놀노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「EPPN-201」, 미츠비시 화학사 제조의 「EP-152」, 「EP-154」, 다우케미컬사 제조의 「DEN-438」), (o,m,p-)크레졸노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「EOCN (등록 상표. 이하 동일.) -102S」, 「EOCN-1020」, 「EOCN-104S」), 트리글리시딜이소시아누레이트 (예를 들어, 닛산 화학사 제조의 「TEPIC (등록 상표)」), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「EPPN (등록 상표. 이하 동일.) -501」, 「EPN-502」, 「EPPN-503」), 지환식 에폭시 수지 (다이셀 화학 공업사 제조의 「셀록사이드 2021P」, 「셀록사이드 (등록 상표. 이하 동일.) EHPE」), 디시클로펜타디엔과 페놀의 반응에 의한 페놀 수지를 글리시딜화한 에폭시 수지 (예를 들어, DIC 사 제조의 「EXA-7200」, 닛폰카야쿠사 제조의 「NC-7300」), 하기 일반식 (C1) ∼ (C4) 로 나타내는 에폭시 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는, 하기 일반식 (C1) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰카야쿠사 제조의 「XD-1000」, 하기 일반식 (C2) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰카야쿠사 제조의 「NC-3000」, 하기 일반식 (C4) 로 나타내는 에폭시 수지로서 신닛테츠 화학사 제조의 「ESF-300」등을 들 수 있다.
[화학식 12]
Figure 112022141438391-pat00021
상기 일반식 (C1) 에 있어서, a 는 평균값을 나타내고 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R111 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기 중 어느 것을 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R111 은 각각 동일하거나 상이해도 된다.
[화학식 13]
Figure 112022141438391-pat00022
상기 일반식 (C2) 에 있어서, b 는 평균값을 나타내고 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R121 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기 중 어느 하나를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R121 은 각각 동일하거나 상이해도 된다.
[화학식 14]
Figure 112022141438391-pat00023
상기 일반식 (C3) 에 있어서, X 는 하기 일반식 (C3-1) 또는 (C3-2) 로 나타내는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에 1 개 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. c 는 2 또는 3 의 정수를 나타낸다.
[화학식 15]
Figure 112022141438391-pat00024
상기 일반식 (C3-1) 및 (C3-2) 에 있어서, R131 ∼ R134 및 R135 ∼ R137 은, 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.
[화학식 16]
Figure 112022141438391-pat00025
상기 일반식 (C4) 에 있어서, p 및 q 는 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, R141 및 R142 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R143 및 R144 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. x 및 y 는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타낸다.
이들 중에서, 일반식 (C1) ∼ (C4) 중 어느 것으로 나타내는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르로는, (메트)아크릴산, 크로톤산, o-, m- 또는 p-비닐벤조산, (메트)아크릴산의 α 위치 할로알킬, 알콕실, 할로겐, 니트로, 시아노 치환체 등의 모노카르복실산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸말레산, (메트)아크릴산에 ε-카프로락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레롤락톤 등의 락톤류를 부가시킨 것인 단량체, 혹은 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트에 (무수)숙신산, (무수)프탈산, (무수)말레산 등의 산(무수물)을 부가시킨 단량체, (메트)아크릴산 다이머 등을 들 수 있다.
이들 중, 감도의 점에서 특히 바람직한 것은 (메트)아크릴산이다.
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키는 방법으로는, 공지된 수법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르화 촉매의 존재하, 50 ∼ 150 ℃ 의 온도에서, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르와 에폭시 수지를 반응시킬 수 있다. 여기서 사용하는 에스테르화 촉매로는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 벤질디메틸아민, 벤질디에틸아민 등의 3 급 아민, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 도데실트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염 등을 사용할 수 있다.
또한, 에폭시 수지, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르, 및 에스테르화 촉매는 모두 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량은, 에폭시 수지의 에폭시기 1 당량에 대해 0.5 ∼ 1.2 당량의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 0.7 ∼ 1.1 당량의 범위이다. α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량이 적으면 불포화기의 도입량이 부족하고, 이어지는 다염기산 및/또는 그 무수물과의 반응도 불충분해진다. 또, 다량의 에폭시기가 잔존하는 것도 유리하지 않다. 한편, 그 사용량이 많으면 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르가 미반응물로서 잔존한다. 어느 경우도 경화 특성이 악화되는 경향이 보인다.
다염기산 및/또는 그 무수물로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 및 이들의 무수물 등에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.
바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산, 또는 이들의 무수물이다. 특히 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 무수 테트라하이드로프탈산, 또는 비페닐테트라카르복실산 2 무수물이다.
다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응에 관해서도 공지된 수법을 사용할 수 있고, 에폭시 수지에의 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 부가 반응과 동일한 조건하에서, 계속 반응시켜 목적물을 얻을 수 있다. 다염기산 및/또는 그 무수물 성분의 부가량은, 생성하는 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 산가가 10 ∼ 150 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하고, 또한 20 ∼ 140 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하다. 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 산가가 상기 범위 미만이면 알칼리 현상성이 부족해지는 경향이 있고, 또 상기 범위를 초과하면 경화성능이 열등한 경향이 보인다.
또한, 이 다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응시에, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 다관능 알코올을 첨가하고, 다분기 구조를 도입한 것으로 해도 된다.
카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 통상 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물을 혼합한 후, 혹은 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물 및 다관능 알코올을 혼합한 후에, 가온함으로써 얻어진다. 이 경우, 다염기산 및/또는 그 무수물과 다관능 알코올의 혼합 순서에 특별히 제한은 없다. 가온에 의해, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물과 다관능 알코올과의 혼합물 중에 존재하는 어느 수산기에 대해 다염기산 및/또는 그 무수물이 부가 반응한다.
카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 1000 이상, 바람직하게는 1500 이상이고, 통상 10000 이하, 바람직하게는 8000 이하, 보다 바람직하게는 6000 이하이다. 이 중량 평균 분자량이 작으면 현상액에 대한 용해성이 높고, 지나치게 크면 현상액에 대한 용해성이 낮다.
카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상의 수지를 혼합하여 사용해도 된다.
또, 본 발명에서 사용하는 (C) 알칼리 가용성 수지는, 전술한 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 일부를, 본 발명의 성능을 저해하지 않는 한 다른 바인더 수지로 치환해도 된다. 즉, 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지와 다른 바인더 수지를 병용해도 된다. 이 경우에 있어서, (C) 알칼리 가용성 수지에 있어서의 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 비율을 50 질량% 이상, 특히 80 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 성능을 저해하지 않는 한, 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지와 병용할 수 있는 다른 바인더 수지에 제한은 없고, 감광성 착색 조성물에 통상 사용되는 수지에서 선택하면 된다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-271727호, 일본 공개특허공보 2007-316620호, 일본 공개특허공보 2007-334290호 등에 기재된 바인더 수지 등을 들 수 있다.
또한, 다른 바인더 수지는 모두 1 종류를 단독으로 사용해도 되도, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
<(D) 광 중합 개시제>
(D) 광 중합 개시제는, 광을 직접 흡수해, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으켜, 중합 활성 라디칼을 발생하는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가해 사용해도 된다.
광 중합 개시제로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호 각 공보에 기재된 티타노센 화합물을 포함하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호에 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체, 할로메틸-s-트리아진 유도체, N-페닐글리신 등의 N-아릴-α-아미노산류, N-아릴-α-아미노산염류, N-아릴-α-아미노산에스테르류 등의 라디칼 활성제, α-아미노알킬페논 유도체 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르 유도체 등을 들 수 있다.
구체적으로는, 예를 들어 티타노센 유도체류로는, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페니-1-일), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페니-1-일), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄〔2,6-디-플루오로-3-(피로-1-일)-페니-1-일〕등을 들 수 있다.
또, 비이미다졸 유도체류로는, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 2 량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체 등을 들 수 있다.
또, 할로메틸화옥사디아졸 유도체류로는, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-벤조푸릴)비닐〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-(6''-벤조푸릴)비닐)〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있다.
또, 할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.
또, α-아미노알킬페논 유도체류로는, 2-메틸-1〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 4-디메틸아미노에틸벤조에이트, 4-디메틸아미노이소아밀벤조에이트, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 2-에틸헥실-1,4-디메틸아미노벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘 등을 들 수 있다.
광 중합 개시제로는, 특히 감도나 제판성의 점에서 옥심 유도체류 (옥심계 및 케톡심계 화합물) 가 유효하고, 페놀성 수산기를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우 등은, 감도의 점에서 불리해지기 때문에, 특히 이와 같은 감도가 우수한 옥심 유도체류 (옥심에스테르 및 케톡심에스테르 화합물) 가 유용하다.
옥심계 화합물로는, 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 구조 부분을 포함하는 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 하기 일반식 (3a) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.
[화학식 17]
Figure 112022141438391-pat00026
식 (3) 중, R22 는 각각 치환되어 있어도 되고, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알카노일기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 아미노알킬카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기를 나타낸다.
[화학식 18]
Figure 112022141438391-pat00027
식 (3a) 중, R21a 는 수소 원자, 또는 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 25 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 혹은 헤테로아릴티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 아미노알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 시클로알킬알킬기를 나타낸다. R21b 는 방향고리 혹은 헤테로 방향고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.
또한, R21a 는 R21b 와 함께 고리를 형성해도 되고, 그 연결기는 각각 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 폴리에틸렌기 (-(CH=CH)r-), 폴리에티닐렌기 (-(C≡C)r-) 혹은 이들을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다 (또한, r 은 0 ∼ 3 의 정수이다).
식 (3a) 중, R22a 는 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알카노일기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 아미노카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기를 나타낸다.
상기 일반식 (3) 에 있어서의 R22 및 상기 일반식 (3a) 에 있어서의 R22a 로는, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기를 들 수 있다.
상기 일반식 (3a) 에 있어서의 R21a 로는, 바람직하게는 무치환의 메틸기, 에틸기, 프로필기나, N-아세틸-N-아세톡시아미노기로 치환된 프로필기를 들 수 있다.
또, 상기 일반식 (3a) 에 있어서의 R21b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바조일기, 치환되어 있어도 되는 티오크산토닐기, 치환되어 있어도 되는 페닐술파이드기를 들 수 있다.
또, 상기 일반식 (3) 및 (3a) 에 있어서의 임의의 치환기로는, 알킬기, 아릴기, 지환기, 복소고리기, 할로겐기, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있다.
본 발명에 바람직한 옥심에스테르계 화합물로서 구체적으로는, 이하에 예시되는 화합물을 들 수 있지만, 전혀 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 19]
Figure 112022141438391-pat00028
[화학식 20]
Figure 112022141438391-pat00029
또 니트로기를 가진 카르바졸기를 갖는 옥심에스테르 개시제도 유효하다.
케톡심계 화합물로는, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 구조 부분을 포함하는 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.
[화학식 21]
Figure 112022141438391-pat00030
상기 일반식 (4) 에 있어서, R24 는 상기 일반식 (3) 에 있어서의 R22 와 동일한 의미이다.
[화학식 22]
Figure 112022141438391-pat00031
상기 일반식 (5) 에 있어서, R23a 는 각각 치환되어 있어도 되는, 페닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 25 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알킬기, 탄소수 2 ∼ 20 의 알킬티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 혹은 헤테로아릴티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 아미노알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 시클로알킬알킬기를 나타낸다.
R23b 는 방향고리 혹은 헤테로 방향고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.
또한, R23a 는 R23b 와 함께 고리를 형성해도 되고, 그 연결기는, 각각 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 폴리에틸렌기 (-(CH=CH)r-), 폴리에티닐렌기 (-(C≡C)r-) 혹은 이들을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다 (또한, r 은 0 ∼ 3 의 정수이다).
일반식 (5) 중, R24a 는 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 4 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 벤조일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 탄소수 2 ∼ 20 의 헤테로아릴기, 또는 탄소수 2 ∼ 20 의 알킬아미노카르보닐기를 나타낸다.
상기 일반식 (4) 에 있어서의 R24 및 상기 일반식 (5) 에 있어서의 R24a 로는, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기를 들 수 있다.
상기 일반식 (5) 에 있어서의 R23a 로는, 바람직하게는 무치환의 에틸기, 프로필기, 부틸기나, 메톡시카르보닐기로 치환된 에틸기 또는 프로필기를 들 수 있다.
또, 상기 일반식 (5) 에 있어서의 R23b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바조일기, 치환되어 있어도 되는 페닐술파이드기를 들 수 있다.
또, 상기 일반식 (4) 및 (5) 에 있어서의 임의의 치환기로는, 알킬기, 아릴기, 지환기, 복소고리기, 할로겐기, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있다.
본 발명에 바람직한 케톡심에스테르계 화합물로서 구체적으로는, 이하에 예시되는 화합물을 들 수 있지만, 전혀 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 23]
Figure 112022141438391-pat00032
[화학식 24]
Figure 112022141438391-pat00033
이들 옥심 및 케톡심에스테르계 화합물은, 그 자체 공지된 화합물이고, 예를 들어 일본 공개특허공보 2000-80068호나, 일본 공개특허공보 2006-36750호에 기재되어 있는 일련의 화합물의 일종이다. 본 발명에서는, (D) 광 중합 개시제가 옥심에스테르 개시제 및/또는 케톡심에스테르 개시제인 것이 바람직하다.
상기 광 중합 개시제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 감광성 착색 조성물 중의 광 중합 개시제의 비율은, 전체 고형분에 대해 통상 0.4 ∼ 15 질량%, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다. 이 범위보다 광 중합 개시제의 비율이 지나치게 많으면 현상성이 저하되는 경향이 있고, 한편 지나치게 적으면 바람직한 착색 경화물의 형상, 단차의 형성이 되지 않는 경우가 있다.
그 외에, 벤조인메틸에테르, 벤조인페닐에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인알킬에테르류 ; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논 유도체류 ; 벤조페논, 미힐러케톤, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논, 2-카르복시벤조페논 등의 벤조페논 유도체류 ; 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, α-하이드록시-2-메틸페닐프로파논, 1-하이드록시-1-메틸에틸-(p-이소프로필페닐)케톤, 1-하이드록시-1-(p-도데실페닐)케톤, 2-메틸-(4'-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로파논, 1,1,1-트리클로로메틸-(p-부틸페닐)케톤 등의 아세토페논 유도체류 ; 티오크산톤, 2-에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤 유도체류 ; p-디메틸아미노벤조산에틸, p-디에틸아미노벤조산에틸 등의 벤조산에스테르 유도체류 ; 9-페닐아크리딘, 9-(p-메톡시페닐)아크리딘 등의 아크리딘 유도체류 ; 9,10-디메틸벤즈페나진 등의 페나진 유도체류 ; 벤즈안트론 등의 안트론 유도체류 등도 들 수 있다.
이들 광 중합 개시제 중에서는, 감도의 점에서 옥심에스테르 유도체류 (옥심에스테르계 화합물) 가 특히 바람직하다.
옥심에스테르 유도체류 중에서도, 디페닐술파이드 골격을 갖는 광 중합 개시제가 내용제성의 관점에서 바람직하고, 예를 들어 하기 일반식 (5-1) 로 나타내는 것을 사용할 수 있다.
[화학식 25]
Figure 112022141438391-pat00034
여기서, R23a, R24a 는 상기 일반식 (5) 와 동일한 의미이다.
R25a 및 R25b 는, 각각 독립적으로 R25c, OR25c, CN, OH, 또는 할로겐 원자를 나타내고, f 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고, g 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다.
R25c 는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 30 의 아릴기, 또는 탄소수 7 ∼ 30 의 아릴알킬기를 나타낸다. R25c 로 나타내는 치환기의 수소 원자는, 추가로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, R25c 로 나타내는 치환기의 알킬렌 부분은 -O-, -S-, -COO-, -OCO- 또는 -NR25d- 에 의해 1 ∼ 5 회 중단되어 있어도 된다. R25d 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 30 의 아릴기, 또는 탄소수 7 ∼ 30 의 아릴알킬기를 나타낸다. R25c 로 나타내는 치환기의 알킬 부분은 분기 측사슬이 있어도 되고, 시클로펜틸 또는 시클로헥실이어도 된다.
R26 은 OH, COOH 또는 하기 일반식 (5-2) 로 나타내는 기를 나타내고, h 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.
[화학식 26]
Figure 112022141438391-pat00035
식 (5-2) 중, R26a 는 -O-, -S-, -OCO- 또는 -COO- 를 나타낸다.
R26b 는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 30 의 아릴렌기, 또는 탄소수 7 ∼ 30 의 아릴렌알킬렌기를 나타낸다.
R26b 로 나타내는 치환기의 알킬렌 부분은 -O-, -S-, -COO- 또는 -OCO- 에 의해 1 ∼ 5 회 중단되어 있어도 된다. R26b 로 나타내는 치환기의 알킬렌 부분은 분기 측사슬이 있어도 되고, 시클로헥실렌이어도 된다.
R26c 는 OH 또는 COOH 를 나타내고, i 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.
* 는 결합손을 나타낸다.
광 중합 개시제는 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
광 중합 개시제에는, 필요에 따라 감응 감도를 높이는 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다. 증감 색소로는, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 크산텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 그 외 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소 등을 들 수 있다.
이들 증감 색소 중 바람직한 것은 아미노기 함유 증감 색소이고, 더 바람직한 것은 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이다. 특히 바람직한 것은, 예를 들어 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사디아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물 등이다. 이 중 가장 바람직한 것은 4,4'-디알킬아미노벤조페논이다.
증감 색소도 또 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
중합 촉진제로는, 예를 들어 p-디메틸아미노벤조산에틸, 벤조산2-디메틸아미노에틸 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민 등의 지방족 아민, 후술하는 메르캅토 화합물 등이 사용된다. 중합 촉진제는 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
<광 중합성 모노머>
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서는, 추가로 광 중합성 모노머 (광 중합성 화합물) 를 포함하는 것이, 감도 등의 점에서 바람직하다.
본 발명에 사용되는 광 중합성 모노머로는, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 적어도 1 개 갖는 화합물 (이하, 「에틸렌성 단량체」라고 칭하는 경우가 있다) 을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬에스테르, 아크릴로니트릴, 스티렌, 및 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 카르복실산과, 다가 또는 1 가 알코올의 모노에스테르 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 특히 1 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다.
이러한 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 예를 들어 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 등을 들 수 있다.
상기 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들 예시 화합물의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 변경한 메타크릴산에스테르, 동일하게 이타코네이트로 변경한 이타콘산에스테르, 크로토네이트로 변경한 크로톤산에스테르 혹은 말레에이트로 변경한 말레산에스테르 등을 들 수 있다.
방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르 등을 들 수 있다.
다염기성 카르복실산 및 불포화 카르복실산과, 다가 하이드록시 화합물의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는 반드시 단일물은 아니지만, 대표적인 구체예를 들면 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물 등을 들 수 있다.
그 외, 본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물 등이 유용하다.
상기 우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어 DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰카야쿠사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (닛폰 합성 화학사 제조) 등을 들 수 있다.
이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
<감광성 착색 조성물의 기타 배합 성분>
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 유기 용제, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등을 적절히 배합할 수 있다.
(1) 유기 용제
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상 (A) 색재, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, (D) 광 중합 개시제, 및 필요에 따라 사용되는 광 중합성 모노머, 그 외의 각종 재료가 유기 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.
유기 용제로는, 비점이 100 ∼ 300 ℃ 의 범위의 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120 ∼ 280 ℃ 의 비점을 갖는 용제이다.
이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다.
에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류 ;
에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류 ;
에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류 ;
에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ;
시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ;
아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류 ;
아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류 ;
에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류 ;
n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류 ;
시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류 ;
벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류 ;
아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부틸레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ;
3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류 ;
부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소류 ;
메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류 ;
아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 등.
상기에 해당하는 시판되는 용제로는, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 시너, 소칼 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔벳소 #150, 쉘 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브 (「셀로솔브」는 등록 상표. 이하 동일.), 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 등을 들 수 있다.
이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
포토 리소그래피법으로 컬러 필터의 화소 또는 블랙 매트릭스를 형성하는 경우, 유기 용제로는 비점이 100 ∼ 200 ℃ (압력 1013.25 [hPa] 조건하. 이하, 비점에 관해서는 모두 동일.) 의 범위의 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120 ∼ 170 ℃ 의 비점을 갖는 것이다.
상기 유기 용제 중, 도포성, 표면 장력 등의 밸런스가 양호하고, 조성물 중의 구성 성분의 용해도가 비교적 높은 점에서는, 글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하다.
또, 글리콜알킬에테르아세테이트류는 단독으로 사용해도 되지만, 다른 유기 용제를 병용해도 된다. 병용하는 유기 용제로서 특히 바람직한 것은 글리콜모노알킬에테르류이다. 그 중에서도, 특히 조성물 중의 구성 성분의 용해성으로부터 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 바람직하다. 또한, 글리콜모노알킬에테르류는 극성이 높고, 첨가량이 지나치게 많으면 안료가 응집되기 쉬워, 후에 얻어지는 착색 수지 조성물의 점도가 올라가는 등 보존 안정성이 저하되는 경향이 있으므로, 용제 중의 글리콜모노알킬에테르류의 비율은 5 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.
또, 150 ℃ 이상의 비점을 갖는 유기 용제 (이하 「고비점 용제」라고 칭하는 경우가 있다) 를 병용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 고비점 용제를 병용함으로써, 착색 수지 조성물은 마르기 어렵게 되지만, 조성물 중에 있어서의 안료의 균일한 분산 상태가 급격한 건조에 의해 파괴되는 것을 방지하는 효과가 있다. 즉, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에 있어서의, 색재 등의 석출·고화에 의한 이물질 결함의 발생을 방지하는 효과가 있다. 이와 같은 효과가 높은 점에서, 상기 서술한 각종 용제 중에서도 특히 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 및 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 바람직하다.
유기 용제 중의 고비점 용제의 함유 비율은 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하며, 5 질량% ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 고비점 용제의 양이 지나치게 적으면, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에서 색재 등이 석출·고화되어 이물질 결함을 야기할 가능성이 있고, 또 지나치게 많으면 조성물의 건조 온도가 느려져, 후술하는 블랙 매트릭스 제조 공정에 있어서의, 감압 건조 프로세스의 택트 불량이나, 프리베이크의 핀 흔적과 같은 문제를 야기하는 것이 염려된다.
또한, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제가, 글리콜알킬에테르아세테이트류여도 되고, 또 글리콜알킬에테르류여도 되며, 이 경우에는 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제를 별도로 함유시키지 않아도 상관없다.
바람직한 고비점 용제로서, 예를 들어 전술한 각종 용제 중에서는 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트, 트리아세틴 등을 들 수 있다.
(2) 밀착 향상제
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해 밀착 향상제를 함유시켜도 된다. 밀착 향상제로는, 실란 커플링제, 인산기 함유 화합물 등이 바람직하다.
실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, (메트)아크릴계, 아미노계 등 여러 가지 것을 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
바람직한 실란 커플링제로서, 예를 들어 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시실란류, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시실란류, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도실란류, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트실란류를 들 수 있지만, 특히 바람직하게는 에폭시실란류의 실란 커플링제이다.
인산기 함유 화합물로는, (메트)아크릴로일기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (g1), (g2) 또는 (g3) 으로 나타내는 것이 바람직하다.
[화학식 27]
Figure 112022141438391-pat00036
상기 일반식 (g1), (g2) 및 (g3) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 l' 는 1 ∼ 10 의 정수, m 은 1, 2 또는 3 이다.
이들 인산기 함유 화합물도 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
(3) 계면 활성제
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 도포성 향상을 위해 계면 활성제를 함유시켜도 된다.
계면 활성제로는, 예를 들어 아니온계, 카티온계, 비이온계, 양쪽성 계면 활성제 등 각종의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 제 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성의 면에서 효과적이다.
이와 같은 계면 활성제로는, 예를 들어 TSF4460 (지이 토시바 실리콘사 제조), DFX-18 (네오스사 제조), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (빅케미사 제조), KP340 (신에츠 실리콘사 제조), F-470, F-475, F-478, F-559 (DIC 사 제조), SH7PA (토레이 실리콘사 제조), DS-401 (다이킨사 제조), L-77 (닛폰 유니카사 제조), FC4430 (스미토모 3M 사 제조) 등을 들 수 있다.
또한, 계면 활성제는, 1 종을 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.
(4) 안료 유도체
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위해, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.
안료 유도체로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌 계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계 등의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.
안료 유도체의 치환기로는 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급 염, 프탈이미도메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복실기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 술폰산기이다. 또 이들 치환기는 하나의 안료 골격에 복수 치환되어 있어도 된다.
안료 유도체의 구체예로는 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
(5) 광산발생제
광산발생제란, 자외선에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물이고, 노광을 실시했을 때에 발생하는 산의 작용에 의해, 예를 들어 멜라민 화합물 등 가교제가 있음으로써 가교 반응을 진행시키게 된다. 이러한 광산발생제 중에서도, 용제에 대한 용해성, 특히 감광성 착색 조성물에 사용되는 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직한 것이고, 예를 들어 디페닐요오드늄, 디톨릴요오드늄, 페닐(p-아니실)요오드늄, 비스(m-니트로페닐)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 비스(p-클로로페닐)요오드늄, 비스(n-도데실)요오드늄, p-이소부틸페닐(p-톨릴)요오드늄, p-이소프로필페닐(p-톨릴)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 혹은 트리페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 혹은 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트염, 헥사플루오로아르세네이트염, 방향족 술폰산염, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트염 등이나, 디페닐페나실술포늄(n-부틸)트리페닐보레이트 등의 술포늄 유기 붕소 착물류, 혹은 2-메틸-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스트리클로로메틸트리아진 등의 트리아진 화합물 등을 들 수 있지만 이것에 한정되지 않는다.
(6) 가교제
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 추가로 가교제를 첨가할 수 있고, 예를 들어 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 사용할 수 있다. 이들 가교제로는, 예를 들어 하기 일반식 (6) 으로 나타내는 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 들 수 있다.
[화학식 28]
Figure 112022141438391-pat00037
식 (6) 중, R61 은 -NR66R67기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타내고, R61 이 -NR66R67기인 경우에는 R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나, 그리고 R61 이 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로 수소 또는 -CH2OR68기를 나타내고, 여기에 R68 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.
여기서, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기는 전형적으로는 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기이고, 이들 페닐기나 나프틸기에는 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등의 치환기가 결합하고 있어도 된다. 알킬기 및 알콕시기는 각각 탄소수 1 ∼ 6 정도일 수 있다. R68 로 나타내는 알킬기는, 상기 중에서도 메틸기 또는 에틸기, 특히 메틸기인 것이 바람직하다.
일반식 (6) 에 상당하는 멜라민계 화합물, 즉 하기 일반식 (6-1) 의 화합물에는, 헥사메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 헥사메톡시메틸멜라민, 펜타메톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민 등이 포함된다.
[화학식 29]
Figure 112022141438391-pat00038
식 (6-1) 중, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나가 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 -CH2OR68기를 나타내고, 여기서 R68 은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.
또, 일반식 (6) 에 상당하는 구아나민계 화합물, 즉 일반식 (6) 중의 R61 이 아릴인 화합물에는, 테트라메틸올벤조구아나민, 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 트리메톡시메틸벤조구아나민, 테트라에톡시메틸벤조구아나민 등이 포함된다.
또한, 메틸올기 또는 메틸올알킬에테르기를 갖는 가교제를 사용할 수도 있다. 이하에 그 예를 든다.
2,6-비스(하이드록시메틸)-4-메틸페놀, 4-tert-부틸-2,6-비스(하이드록시메틸)페놀, 5-에틸-1,3-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-트리아진-2-온 (통칭 N-에틸디메틸올트리아존) 또는 그 디메틸에테르체, 디메틸올트리메틸렌우레아 또는 그 디메틸에테르체, 3,5-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-옥사디아진-4-온 (통칭 디메틸올우론) 또는 그 디메틸에테르체, 테트라메틸올글리옥살디우레인 또는 그 테트라메틸에테르체.
또한, 이들 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 가교제를 사용할 때의 양은, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다.
(7) 메르캅토 화합물
중합 촉진제로서, 또 기판에의 밀착성 향상을 위해, 메르캅토 화합물을 첨가할 수도 있다.
메르캅토 화합물의 종류로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부틸레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부틸레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 복소고리를 갖는 메르캅토 화합물 또는 지방족 다관능 메르캅토 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 여러 가지 것을 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
<감광성 착색 조성물 중의 성분 배합량>
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재의 함유량은, 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분량에 대해 통상 10 질량% 이상, 20 질량% 이상인 것이 바람직하고, 또 통상 50 질량% 이하이다. (A) 색재의 함유량이 지나치게 적으면 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지지 않는 경우가 있고, 또 반대로 (A) 색재의 함유량이 지나치게 많으면 충분한 화상 형성성이 얻어지지 않게 되는 경우가 있다. 또, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 30 질량% 이상이고, 또 통상 100 질량% 이하이다. (A) 색재 중의 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 지나치게 적으면 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지지 않는 경우가 있다.
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재 중에 (A-1) 유기 흑색 안료와 함께 (A-2) 유기 착색 안료를 함유하는 경우도 있다. 그때, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 30 질량% 이상, 또 통상 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 60 질량% 이하이다. 또, (A-2) 유기 착색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 또 통상 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하이다. (A-2) 유기 착색 안료의 함유량이 지나치게 많으면 충분한 광학 농도가 얻어지지 않는 경우가 있다. 또, (A-2) 유기 착색 안료 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 15 질량부 이상, 바람직하게는 20 질량부 이상, 통상 900 질량부 이하, 바람직하게는 800 질량부 이하, 보다 바람직하게는 500 질량부 이하, 더 바람직하게는 200 질량부 이하이다.
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재 중에 (A-1) 유기 흑색 안료와 함께 (A-3) 카본 블랙을 함유하는 경우도 있다. 그때, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 50 질량% 이상, 바람직하게는 60 질량% 이상, 또 통상 95 질량% 이하, 바람직하게는 90 질량% 이하이다. 또, (A-3) 카본 블랙의 함유 비율은 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 또 통상 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하이다. (A-3) 카본 블랙의 함유량이 지나치게 많으면 체적 저항값이 저하하거나, 비유전율이 커지는 경우가 있다. 또, (A-3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 100 질량부 이상, 바람직하게는 150 질량부 이상, 통상 2000 질량부 이하, 바람직하게는 1000 질량부 이하이다.
또, 본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재 중에 (A-1) 유기 흑색 안료와 함께 (A-2) 유기 착색 안료 및 (A-3) 카본 블랙을 함유하는 경우도 있다. 그때, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 또 통상 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하이다. 또, (A-2) 유기 착색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 또 통상 60 질량% 이하, 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 또한 (A-3) 카본 블랙의 함유 비율은 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 또 통상 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하이다. 이 경우, (A-2) 유기 착색 안료 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 15 질량부 이상, 바람직하게는 20 질량부 이상, 통상 800 질량부 이하, 바람직하게는 700 질량부 이하이다. 또, (A-3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 40 질량부 이상, 바람직하게는 50 질량부 이상, 통상 1000 질량부 이하, 바람직하게는 900 질량부 이하이다.
(B) 분산제의 함유량은, 감광성 착색 조성물의 고형분 중 통상 1 질량% 이상이고, 3 질량% 이상이 바람직하며, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또 통상 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 특히 바람직하다. 또, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (B) 분산제의 함유량은 통상 5 질량% 이상, 10 질량% 이상이 특히 바람직하고, 통상 50 질량% 이하, 특히 30 질량% 이하인 것이 바람직하다. (B) 분산제의 함유량이 지나치게 적으면, 충분한 분산성이 얻어지지 않는 경우가 있고, 지나치게 많으면 상대적으로 다른 성분의 비율이 줄어 감도, 제판성 등이 저하되는 경우가 있다.
(C) 알칼리 가용성 수지의 함유량은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상이고, 통상 85 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하이다. (C) 알칼리 가용성 수지의 함유량이 현저하게 적으면, 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성이 저하되어, 현상 불량을 야기시키기 쉬워진다. 반대로, (C) 알칼리 가용성 수지의 함유량이 지나치게 많으면, 노광부에의 현상액의 침투성이 높아지는 경향이 있어, 화소의 샤프성이나 밀착성이 저하되는 경우가 있다.
(D) 광 중합 개시제의 함유량은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 통상 0.1 질량% 이상, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 더 바람직하게는 1 질량% 이상이고, 통상 15 질량% 이하, 바람직하게는 10 질량% 이하이다. (D) 광 중합 개시제의 함유량이 지나치게 적으면 감도 저하를 일으키는 경우가 있고, 반대로 지나치게 많으면 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성이 저하되어, 현상 불량을 야기시키기 쉽다.
(D) 광 중합 개시제와 함께 중합 촉진제를 사용하는 경우, 중합 촉진제의 함유량은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 바람직하게는 0.05 질량% 이상이고, 통상 10 질량% 이하, 바람직하게는 5 질량% 이하이고, 중합 촉진제는 (D) 광 중합 개시제 100 질량부에 대해 통상 0.1 ∼ 50 질량부, 특히 0.1 ∼ 20 질량부의 비율로 사용하는 것이 바람직하다.
(D) 광 중합 개시제와 중합 촉진제 등으로 이루어지는 광 중합 개시제계 성분의 배합 비율이 현저하게 낮으면 노광 광선에 대한 감도가 저하되는 원인이 되는 경우가 있고, 반대로 현저하게 높으면 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성이 저하되어, 현상 불량을 야기시키는 경우가 있다.
또, 본 발명의 감광성 착색 조성물 중에서 차지하는 증감 색소의 배합 비율은 감도의 관점에서 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분 중, 통상 20 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하, 더 바람직하게는 10 질량% 이하이다.
광 중합성 모노머를 사용하는 경우, 그 함유량은 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 통상 30 질량% 이하, 바람직하게는 20 질량% 이하이다. 광 중합성 모노머의 함유량이 지나치게 많으면, 노광부에의 현상액의 침투성이 높아져, 양호한 화상을 얻는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 또한, 광 중합성 모노머의 함유량의 하한은 통상 1 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상이다.
밀착 향상제를 사용하는 경우, 그 함유량은 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분에 대해 통상 0.1 ∼ 5 질량%, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 질량%, 더 바람직하게는 0.4 ∼ 2 질량% 이다. 밀착 향상제의 함유량이 상기 범위보다 적으면 밀착성의 향상 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있고, 많으면 감도가 저하되거나, 현상 후에 잔류물이 남아 결함이 되거나 하는 경우가 있다.
또, 계면 활성제를 사용하는 경우, 그 함유량은 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분에 대해 통상 0.001 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.005 ∼ 1 질량%, 더 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 질량%, 가장 바람직하게는 0.03 ∼ 0.3 질량% 이다. 계면 활성제의 함유량이 상기 범위보다 적으면 도포막의 평활성, 균일성을 발현할 수 없는 가능성이 있고, 많으면 도포막의 평활성, 균일성을 발현할 수 없는 외에, 다른 특성이 악화되는 경우가 있다.
또한, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 전술한 유기 용제를 사용하여, 그 고형분 농도가 통상 5 ∼ 50 질량%, 바람직하게는 10 ∼ 30 질량% 가 되도록 조액된다.
<감광성 착색 조성물의 물성>
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 블랙 매트릭스 형성용으로 바람직하게 사용할 수 있고, 이러한 관점에서 흑색을 나타내고 있는 것이 바람직하고, 그 도포막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 가 1.0 이상인 것이 바람직하다.
<감광성 착색 조성물의 제조 방법>
본 발명의 감광성 착색 조성물 (이하, 「레지스트」라고 칭하는 경우가 있다) 은 통상적인 방법에 따라 제조된다.
통상, (A) 색재는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼밀, 롤밀, 스톤 밀, 제트밀, 호모게나이저 등을 이용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (A) 색재가 미립자화되기 때문에, 레지스트의 도포 특성이 향상된다.
분산 처리는, 통상 (A) 색재, 유기 용제, 및 (B) 분산제, 그리고 (C) 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계에서 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 제공하는 혼합물, 및 그 처리로 얻어진 조성물을 「잉크」또는 「안료 분산액」이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 (B) 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 잉크 및 레지스트의 시간 경과에 따른 증점이 억제 (분산 안정성이 우수하다) 되므로 바람직하다.
이와 같이, 레지스트를 제조하는 공정에 있어서, (A) 색재, 유기 용제, 및 (B) 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다. 안료 분산액에 사용할 수 있는 (A) 색재, 유기 용제, 및 (B) 분산제로는, 각각 감광성 착색 조성물에 사용할 수 있는 것으로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.
또한, 착색 수지 조성물에 배합하는 전체 성분을 함유하는 액에 대해 분산 처리를 실시한 경우, 분산 처리시에 발생하는 발열 때문에, 고반응성의 성분이 변성될 가능성이 있다. 따라서, 고분자 분산제를 포함하는 계에서 분산 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
샌드 그라인더로 (A) 색재를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도의 직경의 유리 비즈 또는 지르코니아 비즈가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 통상 0 ℃ 내지 100 ℃ 이고, 바람직하게는 실온 내지 80 ℃ 의 범위이다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 따라 적정 시간이 상이하므로 적절히 조절한다. 레지스트의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 목표이다. 레지스트의 광택도가 낮은 경우에는, 분산 처리가 충분하지 않아 거친 안료 (색재) 입자가 남아 있는 경우가 많아, 현상성, 밀착성, 해상성 등이 불충분해질 가능성이 있다. 또, 광택값이 상기 범위를 초과할 때까지 분산 처리를 실시하면, 안료가 파쇄되어 초미립자가 다수 생기기 때문에, 오히려 분산 안정성이 저해되는 경향이 있다.
또, 잉크 중에 분산된 안료의 분산 입경은 통상 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 이고, 동적 광 산란법 등에 의해 측정된다.
다음으로, 상기 분산 처리에 의해 얻어진 잉크와, 레지스트 중에 포함되는, 상기 다른 성분을 혼합해, 균일한 용액으로 한다. 레지스트의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 섞이는 경우가 많기 때문에, 얻어진 레지스트는 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.
[경화물]
본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킴으로써, 경화물을 얻을 수 있다. 감광성 착색 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물은, 블랙 매트릭스나 착색 스페이서로서 바람직하게 사용할 수 있다.
[블랙 매트릭스]
다음으로, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 블랙 매트릭스에 대해, 그 제조 방법에 따라 설명한다.
(1) 지지체
블랙 매트릭스를 형성하기 위한 지지체로는, 적당한 강도가 있으면 그 재질은 특별히 한정되는 것은 아니다. 주로 투명 기판이 사용되지만, 재질로는 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰 등의 열가소성 수지제 시트, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르수지, 폴리(메트)아크릴계 수지 등의 열경화성 수지 시트, 또는 각종 유리 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 내열성의 관점에서 유리, 내열성 수지가 바람직하다. 또, 기판의 표면에 ITO, IZO 등의 투명 전극이 막형성되어 있는 경우도 있다. 투명 기판 이외에는, TFT 어레이 상에 형성할 수도 있다.
지지체에는, 접착성 등의 표면 물성의 개량을 위해, 필요에 따라 코로나 방전 처리, 오존 처리, 실란 커플링제나, 우레탄계 수지 등의 각종 수지의 박막 형성 처리 등을 실시해도 된다.
투명 기판의 두께는 통상 0.05 ∼ 10 ㎜, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 ㎜ 의 범위로 된다. 또 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시하는 경우, 그 막두께는 통상 0.01 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 ㎛ 의 범위이다.
(2) 블랙 매트릭스
상기 서술한 본 발명의 감광성 착색 조성물에 의해 본 발명의 블랙 매트릭스를 형성하기 위해서는, 투명 기판 상에 본 발명의 감광성 착색 조성물을 도포해 건조시킨 후, 그 감광성 착색 조성물 상에 포토마스크를 놓고, 그 포토마스크를 개재하여 화상 노광, 현상, 필요에 따라 열 경화 혹은 광 경화함으로써 블랙 매트릭스를 형성시킨다.
또한, 본 발명의 블랙 매트릭스는 TFT 소자 기판 상에 형성시키는 것에 유효하지만, 그 구성은 COA, BOA 각각의 방식에 있어서 특별히 한정되는 것은 아니고, 여러 가지 구성에의 대응이 가능하다.
(3) 블랙 매트릭스의 형성
(3-1) 감광성 착색 조성물의 도포
블랙 매트릭스용 감광성 착색 조성물의 투명 기판 상에의 도포는, 스피너법, 와이어바법, 플로우 코트법, 다이 코트법, 롤 코트법, 또는 스프레이 코트법 등에 의해 실시할 수 있다. 그 중에서도, 다이 코트법에 의하면, 도포액 사용량이 대폭 삭감되고, 또한 스핀 코트법에 의했을 때에 부착되는 미스트 등의 영향이 전혀 없고, 이물질 발생이 억제되는 등, 종합적인 관점에서 바람직하다.
도포막의 두께는, 지나치게 두꺼우면 패턴 현상이 곤란해짐과 함께, 액정 셀 화 공정에서의 갭 조정이 곤란해지는 경우가 있고, 지나치게 얇으면 안료 농도를 높이는 것이 곤란해져 원하는 색발현이 불가능해지는 경우가 있다. 도포막의 두께는, 건조 후의 막두께로서 통상 0.2 ∼ 10 ㎛ 의 범위로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 것은 0.5 ∼ 6 ㎛ 의 범위, 더 바람직한 것은 1 ∼ 4 ㎛ 의 범위이다.
(3-2) 도포막의 건조
기판에 감광성 착색 조성물을 도포한 후의 도포막의 건조는, 핫 플레이트, IR오븐, 또는 컨벡션 오븐을 사용한 건조법에 의해 실시하는 것이 바람직하다. 건조의 조건은, 상기 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 건조 시간은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라, 통상은 40 ∼ 200 ℃ 의 온도에서 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되고, 바람직하게는 50 ∼ 130 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다.
건조 온도는 높을수록 투명 기판에 대한 도포막의 접착성이 향상되지만, 지나치게 높으면 (C) 알칼리 가용성 수지가 분해되고, 열중합을 유발하여 현상 불량을 발생시키는 경우가 있다. 또한, 이 도포막의 건조 공정은 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는, 감압 건조법이어도 된다.
(3-3) 노광
화상 노광은 감광성 착색 조성물의 도포막 상에 네거티브의 마스크 패턴을 겹치고, 이 마스크 패턴을 개재하여 자외선 또는 가시광선의 광원을 조사해 실시한다. 이때, 필요에 따라, 산소에 의한 광 중합성층의 감도 저하를 방지하기 위해, 광 중합성 도포막 상에 폴리비닐알코올층 등의 산소 차단층을 형성한 후에 노광을 실시해도 된다. 상기 화상 노광에 사용되는 광원은 특별히 한정되는 것은 아니다. 광원으로는, 예를 들어 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 형광 램프 등의 램프 광원이나, 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨카드뮴 레이저, 반도체 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있다. 특정 파장의 광을 조사해 사용하는 경우에는 광학 필터를 이용할 수도 있다.
(3-4) 현상
본 발명에 관련된 블랙 매트릭스는, 감광성 착색 조성물에 의한 도포막을 상기 광원에 의해 화상 노광을 실시한 후, 유기 용제, 또는 계면 활성제와 알칼리성 화합물을 포함하는 수용액을 사용하는 현상에 의해, 기판 상에 화상을 형성하여 제작할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 포함시킬 수 있다.
알칼리성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산이수소나트륨, 인산이수소칼륨, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리성 화합물이나, 모노-·디- 또는 트리에탄올아민, 모노-·디- 또는 트리메틸아민, 모노-·디- 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-·디- 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 (TMAH), 콜린 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들 알칼리성 화합물은 2 종 이상의 혼합물이어도 된다.
계면 활성제로는, 예를 들어 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 소르비탄알킬에스테르류, 모노글리세리드알킬에스테르류 등의 논이온계 계면 활성제, 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬술폰산염류, 술포숙신산에스테르염류 등의 아니온성 계면 활성제, 알킬베타인류, 아미노산류 등의 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.
유기 용제로는, 예를 들어 이소프로필알코올, 벤질알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 페닐셀로솔브, 프로필렌글리콜, 디아세톤알코올 등을 들 수 있다. 유기 용제는 단독으로 사용해도 되고, 또 수용액과 병용해도 된다.
현상 처리의 조건은 특별히 제한은 없고, 통상 현상 온도는 10 ∼ 50 ℃ 의 범위, 그 중에서도 15 ∼ 45 ℃, 특히 바람직하게는 20 ∼ 40 ℃ 이고, 현상 방법은 침지 현상법, 스프레이 현상법, 브러시 현상법, 초음파 현상법 등 중 어느 방법에 의해 할 수 있다.
(3-5) 열 경화 처리
현상 후의 기판에는, 열 경화 처리 또는 광 경화 처리, 바람직하게는 열 경화 처리를 실시한다. 이때의 열 경화 처리 조건은, 온도는 100 ∼ 280 ℃ 의 범위, 바람직하게는 150 ∼ 250 ℃ 의 범위에서 선택되고, 시간은 5 ∼ 60 분간의 범위에서 선택된다.
이상과 같이 해 형성시킨 블랙 매트릭스의 선폭은 통상 3 ∼ 50 ㎛, 바람직하게는 4 ∼ 30 ㎛, 높이는 통상 0.5 ∼ 5 ㎛, 바람직하게는 1 ∼ 4 ㎛ 이다. 또, 체적 저항률은 1 × 1013 Ω·㎝ 이상, 바람직하게는 1 × 1014 Ω·㎝ 이상이고, 비유전율은 6 이하, 바람직하게는 5 이하이며, 통상 2 이상이다.
또한, 두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 가 1.2 이상, 바람직하게는 1.5 이상, 보다 바람직하게는 1.8 이상이고, 통상 4.0 이하이다. 여기서, 광학 농도 (OD) 는 후술하는 방법으로 측정한 값이다.
[착색 스페이서]
본 실시형태의 감광성 착색 조성물은, 블랙 매트릭스 이외에 착색 스페이서용 레지스트로서 사용할 수도 있다. 스페이서를 TFT 형 LCD 에 사용하는 경우, TFT 에 입사하는 광에 의해 스위칭 소자로서 TFT 가 오작동을 일으키는 경우가 있어, 착색 스페이서는 이것을 방지하기 위해서 사용되고, 예를 들어 일본 공개특허공보 평8-234212호에 스페이서를 차광성으로 하는 것이 기재되어 있다. 착색 스페이서는 착색 스페이서용 마스크를 사용하는 것 이외에는 전술한 블랙 매트릭스와 동일한 방법으로 형성할 수 있다.
[화상 표시 장치]
본 발명의 화상 표시 장치로는, 화상이나 영상을 표시하는 장치이면 특별히 한정은 받지 않지만, 후술하는 액정 표시 장치나 유기 EL (Electro Luminesence) 디스플레이 등을 들 수 있다.
[액정 표시 장치]
본 발명의 액정 표시 장치는, 상기 서술한 본 발명의 블랙 매트릭스를 사용하여 제작된 것이고, 컬러 화소나 블랙 매트릭스의 형성 순서나 형성 위치 등 특별히 제한을 받는 것은 아니다.
예를 들어, TFT 소자 기판 상에 본 발명의 블랙 매트릭스를 형성하고, 적색, 녹색, 청색의 화소를 형성하고, 필요에 따라 오버코트층을 형성한 후에, 추가로 그 위에 화상 상에 ITO, IZO 등의 투명 전극을 형성해, 컬러 디스플레이, 액정 표시 장치 등의 부품의 일부로서 사용된다. 또 일부, 평면 배향형 구동 방식 (IPS 모드) 등의 용도에 있어서는, 투명 전극을 형성하지 않는 경우도 있다.
액정 표시 장치는, 통상 컬러 필터 상에 배향막을 형성하고, 이 배향막 상에 스페이서를 산포하거나, 포토 스페이서를 형성한 후, 대향 기판과 첩합 (貼合) 하여 액정 셀을 형성하고, 형성한 액정 셀에 액정을 주입하고, 대향 전극에 결선하여 완성한다. 배향막으로는 폴리이미드 등의 수지막이 바람직하다. 배향막의 형성에는, 통상 그라비아 인쇄법 및/또는 플렉소 인쇄법이 채용되고, 배향막의 두께는 수십 ㎚ 가 된다. 열소성에 의해 배향막의 경화 처리를 실시한 후, 자외선의 조사나 러빙포에 의한 처리에 의해 표면 처리해, 액정의 경사를 조정할 수 있는 표면 상태로 가공된다.
본 발명의 블랙 매트릭스가 사용되고 있으면, 컬러 화소나 블랙 매트릭스의 형성 순서나 형성 위치 등 특별히 제한을 받는 것은 아니다.
스페이서로는, 대향 기판과의 갭 (간극) 에 따른 크기의 것이 사용되고, 통상 2 ∼ 8 ㎛ 인 것이 바람직하다. 컬러 필터 기판 상에, 포토 리소그래피법에 의해 투명 수지막의 포토 스페이서 (PS) 를 형성하고, 이것을 스페이서 대신 활용할 수도 있다.
대향 기판과의 첩합 갭은, 액정 표시 장치의 용도에 따라 상이하지만, 통상 2 ∼ 8 ㎛ 의 범위에서 선택된다. 대향 기판과 첩합한 후, 액정 주입구 이외의 부분은 에폭시 수지 등의 시일재에 의해 밀봉한다. 시일재는, UV 조사 및/또는 가열함으로써 경화시켜, 액정 셀 주변이 시일된다.
주변이 시일된 액정 셀은, 패널 단위로 절단한 후, 진공 챔버 내에서 감압으로 하고, 상기 액정 주입구를 액정에 침지한 후, 챔버 내를 리크함으로써, 액정을 액정 셀 내에 주입한다. 액정 셀 내의 감압도는 통상 1 × 10-2 ∼ 1 × 10-7 Pa 이지만, 바람직하게는 1 × 10-3 ∼ 1 × 10-6 Pa 이다. 또, 감압시에 액정 셀을 가온하는 것이 바람직하고, 가온 온도는 통상 30 ∼ 100 ℃ 이고, 보다 바람직하게는 50 ∼ 90 ℃ 이다. 감압시의 가온 유지는, 통상 10 ∼ 60 분간의 범위로 되고, 그 후 액정 중에 침지된다. 액정을 주입한 액정 셀은, 액정 주입구를 경화시킨 UV 경화 수지로 밀봉함으로써, 액정 표시 장치 (패널) 가 완성된다.
액정의 종류에는 특별히 제한이 없고, 방향족계, 지방족계, 다환형 화합물 등, 종래부터 알려져 있는 액정으로서, 리오트로픽 액정, 서모트로픽 액정 등의 어느 것이어도 된다. 서모트로픽 액정에는 네마틱 액정, 스멕틱 액정 및 콜레스테릭 액정 등이 알려져 있지만, 어느 것이어도 된다.
[유기 EL 디스플레이]
본 발명의 블랙 매트릭스를 이용하여 본 발명의 유기 EL 디스플레이를 제작할 수 있다.
본 발명의 블랙 매트릭스를 이용하여 유기 EL 디스플레이를 제작하는 경우, 예를 들어 도 1 에 나타내는 바와 같이, 먼저 투명 지지 기판 (10) 상에 착색 수지 조성물에 의해 형성된 패턴 (즉, 화소 (20), 및 인접하는 화소 (20) 사이에 형성된 블랙 매트릭스 (도시 생략)) 이 형성되어 이루어지는 컬러 필터를 제작하고, 그 컬러 필터 상에 유기 보호층 (30) 및 무기 산화막 (40) 을 개재하여 유기 발광체 (500) 를 적층함으로써, 유기 EL 소자 (100) 를 제작할 수 있다. 또한, 화소 (20) 및 블랙 매트릭스 중, 적어도 하나는 본 발명의 감광성 착색 조성물을 이용하여 제작된 것이다. 유기 발광체 (500) 의 적층 방법으로는, 컬러 필터 상면에 투명 양극 (50), 정공 주입층 (51), 정공 수송층 (52), 발광층 (53), 전자 주입층 (54), 및 음극 (55) 을 순서대로 형성해 가는 방법이나, 별도의 기판 상에 형성한 유기 발광체 (500) 를 무기 산화막 (40) 상에 첩합하는 방법 등을 들 수 있다. 이와 같이 하여 제작된 유기 EL 소자 (100) 를 이용하여, 예를 들어 「유기 EL 디스플레이」(옴사, 2004년 8월 20일 발행, 토키토 시즈오, 아다치 치하야, 무라타 히데유키 저) 에 기재된 방법 등으로 유기 EL 디스플레이를 제작할 수 있다.
또한, 본 발명의 블랙 매트릭스는, 패시브 구동 방식의 유기 EL 디스플레이에도 액티브 구동 방식의 유기 EL 디스플레이에도 적용 가능하다.
실시예
다음으로, 합성예, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.
<(A-1) 유기 흑색 안료>
BASF 사 제조, Irgaphor (등록 상표) Black S 0100 CF (하기 식 (2) 로 나타내는 화학 구조를 갖는다)
[화학식 30]
Figure 112022141438391-pat00039
<유기 흑색 안료 : 페릴렌 블랙>
BASF 사 제조, Lumogen (등록 상표) Black FK4281
<유기 흑색 안료 : 아닐린 블랙>
BASF 사 제조, Paliotol (등록 상표) Black L0080
<알칼리 가용성 수지-I>
프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 145 질량부를 질소 치환하면서 교반하고, 120 ℃ 로 승온시켰다. 여기에 스티렌 10 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 85.2 질량부 및 트리시클로데칸 골격을 갖는 모노아크릴레이트 (히타치 화성사 제조 FA-513M) 66 질량부를 적하하고, 및 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 8.47 질량부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 또한 90 ℃ 에서 2 시간 계속 교반하였다. 다음으로 반응 용기 내를 공기 치환으로 바꾸고, 아크릴산 43.2 질량부에 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.7 질량부 및 하이드로퀴논 0.12 질량부를 투입하고, 100 ℃ 에서 12 시간 반응을 계속하였다. 그 후, 테트라하이드로무수프탈산 (THPA) 56.2 질량부, 트리에틸아민 0.7 질량부를 첨가해, 100 ℃ 3.5 시간 반응시켰다. 이렇게 해 얻어진 알칼리 가용성 수지-I 의 GPC 에 의해 측정한 중량 평균 분자량 Mw 는 약 8400, 산가는 80 ㎎KOH/g 였다.
<알칼리 가용성 수지-II>
닛폰카야쿠 (주) 제조 「ZCR-1664H」(중량 평균 분자량 Mw = 5000 ∼ 6000, 산가 = 약 60 ㎎-KOH/g)
<알칼리 가용성 수지-III>
[화학식 31]
Figure 112022141438391-pat00040
상기 구조의 에폭시 화합물 (에폭시 당량 247) 50 g, 아크릴산 14.3 g, 메톡시부틸아세테이트 59.5 g, 트리페닐포스핀 1.29 g, 및 파라메톡시페놀 0.05 g 을, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 90 ℃ 에서 산가가 5 ㎎KOH/g 이하가 될 때까지 반응시켰다. 반응에는 12 시간을 필요로 하고, 에폭시아크릴레이트 용액을 얻었다.
상기 에폭시아크릴레이트 용액 25 질량부 및, 트리메틸올프로판 (TMP) 0.8 질량부, 비페닐테트라카르복실산 2 무수물 (BPDA) 4.1 질량부, 테트라하이드로프탈산 무수물 (THPA) 2.8 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 105 ℃ 까지 천천히 승온시켜 반응시켰다.
수지 용액이 투명해졌을 때, 메톡시부틸아세테이트로 희석하고, 고형분 50 질량% 가 되도록 조제해, 산가 131 ㎎KOH/g, GPC 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 4000 의 카르복실기 함유 에폭시아크릴레이트 수지 (c1) 을 얻었다.
<알칼리 가용성 수지-IV>
닛폰카야쿠 (주) 제조 「ZCR-1642H」(Mw = 6500, 산가 = 98 ㎎-KOH/g)
<분산제-I>
빅케미사 제조 「DISPERBYK-LPN21116」(측사슬에 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기 및 아미노기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, 아크릴계 A-B 블록 공중합체. 아민가는 70 ㎎KOH/g. 산가는 1 ㎎KOH/g 이하.)
분산제-I 의 전체 반복 단위에서 차지하는 하기 식 (1a), (2a), 및 (3a) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 11.1 몰%, 22.2 몰%, 6.7 몰% 이다.
[화학식 32]
Figure 112022141438391-pat00041
<분산제-II>
빅케미사 제조 「DISPERBYK-2000」(측사슬에 4 급 암모늄염기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, 아크릴계 A-B 블록 공중합체)
<분산제-III>
EFKA 사 제조 「EFKA-4300」(측사슬에 3 급 아미노기와 부틸기를 갖는, 아크릴계 고분자 분산제. 측사슬에 4 급 암모늄염기를 갖지 않다.)
<안료 유도체>
루브리졸사 제조 「Solsperse12000」
<용제-I>
PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트
<용제-II>
MB : 3-메톡시부탄올
<광 중합 개시제-I>
[화학식 33]
Figure 112022141438391-pat00042
질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 1 (0.98 g, 5 m㏖) 과 염화메틸렌 (17 ㎖) 을 첨가했다. 이것을 3 ℃ 로 냉각한 후, o-톨루오일클로라이드 (0.77 g, 5 m㏖) 를 적하했다. 이 안에 1 시간에 걸쳐 염화알루미늄 (0.67 g, 5 m㏖) 을 천천히 첨가했다. 첨가 종료 후, 추가로 3 ℃ 에서 2 시간 교반하고, 염화메틸렌 (8 ㎖) 을 첨가했다. 다음으로 무수 글루타르산 (0.68 g, 6 m㏖) 을 30 분에 걸쳐 첨가한 후, 30 분에 걸쳐 염화알루미늄 (1.90 g, 14 m㏖) 을 첨가했다.
첨가 종료 후, 추가로 3 ℃ 에서 2 시간 교반하고, 반응 용액을 빙수 (400 ㎖) 에 조금씩 투입하였다. 수층에 염화나트륨 (80 g) 을 첨가하고, 염화메틸렌 (50 ㎖) 으로 5 회 추출 작업을 실시했다. 유기층을 포화 염화나트륨 수용액으로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 화합물 2 (2.13 g, 미정제 수율 100 %) 를 얻었다. 이것을 정제하지 않고 다음의 반응에 사용하였다.
[화학식 34]
Figure 112022141438391-pat00043
질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 2 (2.13 g, 5 m㏖), 메탄올 (22 ㎖) 및 진한 황산 (5 ㎎) 을 넣어, 3 시간 가열 환류를 실시했다. 냉각 후, 용매를 농축하고, 물 (10 ㎖) 및 아세트산에틸 (30 ㎖) 을 첨가했다.
유기층을 포화 탄산수소나트륨 수용액, 포화 염화나트륨 수용액으로 순서대로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 화합물 3 (1.72 g, 미정제 수율 78 %) 을 얻었다. 이것을 정제하지 않고, 다음의 반응에 사용하였다.
[화학식 35]
Figure 112022141438391-pat00044
질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 3 (1.00 g, 2.26 m㏖) 과 염화메틸렌 (10 ㎖) 을 넣어, 10 ℃ 로 냉각하였다. 이것에 1N 염화수소의 디에틸에테르 용액 (4.68 ㎖) 을 첨가했다. 다음으로 아질산아밀 (0.36 g, 3.04 m㏖) 을 첨가해 10 ℃ 에서 4 시간 반응시켰다. 물 (10 ㎖) 을 첨가한 후, 포화 탄산수소나트륨 수용액, 포화 염화나트륨 수용액으로 순서대로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 담황색 고체 (0.88 g) 를 얻었다. 이것을 톨루엔 (3.5 ㎖) 으로 재결정 정제를 실시해, 화합물 4 (0.45 g, 수율 42 %) 를 얻었다.
[화학식 36]
Figure 112022141438391-pat00045
질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 4 (3.50 g, 7.44 m㏖) 와 염화메틸렌 (35 ㎖) 을 넣고, 4 ℃ 로 냉각하였다. 이것에 트리에틸아민 (1.50 g, 14.9 m㏖) 을 첨가했다. 다음으로 염화아세틸 (0.70 g, 8.93 m㏖) 을 첨가한 후, 그대로 1 시간 반응시켰다. 포화 탄산수소나트륨 수용액 (10 ㎖) 을 첨가한 후, 유기층을 분액하고, 추가로 포화 탄산수소나트륨 수용액, 포화 염화나트륨 수용액으로 순서대로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 황색의 유상물 (油狀物) (3.65 g) 을 얻었다. 이것을 칼럼 크로마토그래피 (아세트산 에틸/헥산 = 1/1) 로 정제해, 화합물 5 (3.12 g, 수율 82 %, 광 중합 개시제-I) 를 얻었다. 이하에 화합물 5 의 화학 시프트를 나타낸다.
Figure 112022141438391-pat00046
<광 중합 개시제-II>
[화학식 37]
Figure 112022141438391-pat00047
<광 중합성 모노머-I>
DPHA : 닛폰카야쿠 (주) 제조 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트
<광 중합성 모노머-II>
DPHA-40H : 닛폰카야쿠 (주) 제조 우레탄아크릴레이트
<첨가제-I>
닛폰카야쿠 (주) 제조, KAYAMER PM-21 (메타크릴로일기 함유 포스페이트)
<계면 활성제-I>
DIC (주) 제조 메가팩 F-559
<안료 분산액-1 ∼ 7 의 조제>
표 1 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 용액을 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시했다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 이용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가했다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리해, 안료 분산액-1 ∼ 7 을 조제했다.
여기서, 페릴렌 블랙을 안료 분산액-1 과 동일한 조건으로 분산시킨 바, 페릴렌 블랙은 점도가 크게 증가했다. 그 때문에, 이들 안료를 분산시키기 위해서는, 안료 분산액-6 과 같이 분산제의 양을 크게 증가시킬 필요가 있었다.
Figure 112022141438391-pat00048
<피복 카본 블랙 분산액>
카본 블랙은, 통상적인 오일 퍼니스법으로 제조했다. 단, 원료유로는 Na, Ca, S 분량이 적은 에틸렌 보텀유를 사용하고, 연소용으로는 코크스로 가스를 사용하였다. 또한, 반응 정지수로는, 이온 교환 수지로 처리한 순수를 사용하였다. 얻어진 카본 블랙 540 g 을 순수 14500 g 과 함께 호모 믹서를 사용하여 5,000 ∼ 6,000 rpm 으로 30 분 교반하여 슬러리를 얻었다. 이 슬러리를 스크루형 교반기 부착 용기로 옮겨 약 1,000 rpm 으로 혼합하면서 에폭시 수지 「에피코트 828」(미츠비시 화학 (주) 제조) 60 g 을 용해한 톨루엔 600 g 을 소량씩 첨가해 갔다. 약 15 분에, 물에 분산되어 있던 카본 블랙은 전체량 톨루엔측으로 이행하고, 약 1 ㎜ 의 알갱이가 되었다.
다음으로, 60 메시 철망으로 물기를 뺀 후, 진공 건조기에 넣어, 70 ℃ 에서 7 시간 건조시켜, 톨루엔과 물을 완전히 제거했다.
얻어진 피복 카본 블랙 90 질량부에 대해, 분산제로서 DISPERBYK-167 (빅케미사 제조) 을 20 질량부, 안료 유도체로서 Solsperse12000 (루브리졸사 제조) 을 4.5 질량부 첨가해, 고형분 농도가 25 질량% 가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (PGMEA) 를 첨가했다.
이것을 교반기에 의해 충분히 교반하고, 프리믹싱을 실시했다. 다음으로, 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 6 시간 분산 처리를 실시했다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 이용하여 분산액과 동일한 질량을 첨가했다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리해 조제했다.
[실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 4]
상기 조제한 안료 분산액, 피복 카본 블랙 분산액을 이용하여, 고형분 중의 비율이 표 2 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 추가로 고형분이 17 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가해, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물을 조제했다. 실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1, 2 및 4 는 고형분 중의 안료 농도를 40 질량% 로 하고, 비교예 3 은 고형분 중의 안료 농도를 30 질량% 로 했다. 또, 모든 감광성 착색 조성물에 있어서, 광 중합성 모노머에 대한 알칼리 가용성 수지 (분산액 중의 수지도 포함한다) 의 질량 비율을 3 으로 하고, 광 중합 개시제를 고형분 중 4 질량%, 첨가제를 0.5 질량%, 계면 활성제를 0.1 질량% 로 했다. 얻어진 감광성 착색 조성물을 이용하여, 후술하는 방법으로 평가를 실시했다.
Figure 112022141438391-pat00049
[1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 의 측정]
조제한 감광성 착색 조성물을 최종적인 막두께가 2 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 유리 기판에 도포하고, 1 분간 감압 건조한 후에, 핫 플레이트로 100 ℃ 에서 90 초간 건조시켰다. 230 ℃ 에서 30 분간 가열함으로써, 레지스트 도포 기판 (기판-1) 을 얻었다. 얻어진 기판의 광학 농도 (OD) 를 투과 농도계 그레택맥베스 D200-II 에 의해 측정하고, 막두께를 (주) 료카 시스템 제조 비접촉 표면·층 단면 형상 계측 시스템 VertScan(R) 2.0 에 의해 측정하였다. 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 를 표 3 에 나타낸다.
[비유전율의 측정]
기판-1 의 제작 방법에 있어서, 유리 기판 대신에 크롬 증착막을 갖는 유리 기판을 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 기판 (기판-2) 을 제작하였다. 이 샘플의 크롬막을 주전극으로 해, 레지스트 도포막 상에 금 (金) 의 대향 전극을 증착법에 의해 형성하였다. 또, HP (현 Agilent) 사 제조 「LCR 미터 4284A」를 이용하여, 1 kHz·1 V 에 있어서의 비유전율을 측정하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.
[제판 특성]
기판-1 과 동일한 방법으로 핫 플레이트에 의한 건조를 실시했다. 이 샘플을 개구 20 ㎛ 의 직선 패턴이 있는 네거티브 타입의 마스크를 통해 고압 수은등으로 이미지 노광하였다 (조도 30 mW/㎠, 노광량 20 mJ/㎠). 이때, 샘플과 마스크의 거리는 200 ㎛ 로 했다. 그 후, 온도 25 ℃ 에서, KOH 농도 0.05 질량% 의 현상액을 이용하여 스프레이 현상하였다. 현상 시간은 미노광부의 용해 시간의 1.5 배로 했다. 얻어진 선상 패턴의 선폭의 결과를 표 3 에 나타낸다. 단, 비교예 1 및 2 의 레지스트를 사용한 경우, 10 분간 현상해도 패턴이 얻어지지 않았다.
Figure 112022141438391-pat00050
실시예 1 과 비교예 1, 2 및 4 의 비교로부터, 동일한 안료 농도이면, 본 발명의 감광성 착색 조성물로부터 얻어지는 기판 쪽이 OD 가 높고, 차폐성이 높은 것이 확인되었다. 또, 비교예 1, 2 는 10 분간 현상해도 선상 패턴이 얻어지지 않았다. 이것은, 비교예 1, 2 는 안료로서 페릴렌 블랙을 포함하는 것이지만, 페릴렌 블랙을 분산시킬 때에 다량의 분산제를 사용할 필요가 있고, 그것이 제판 특성에 악영향을 미쳤다고 생각된다. 또, 선폭은 값이 클수록 감도가 높은 것을 나타내지만, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-2) 유기 착색 안료를 병용함으로써, OD 를 크게 낮추지 않고, 감도를 높일 수 있는 것이 실시예 4 및 5 로부터 확인되었다.
비교예 3 은 안료가 피복 카본 블랙뿐이고, 높은 OD 를 나타내지만, 비유전율이 높아지는 것을 알 수 있다. 본 발명에서 사용되는 (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-3) 카본 블랙을 병용함으로써, OD 는 높고, 또한 비유전율을 낮게 유지할 수 있는 것이 실시예 6 및 7 로부터 확인되었다.
[분산성 평가]
<안료 분산액-8 ∼ 11 의 조제>
표 4 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 4 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 용액을 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시했다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가했다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리해, 안료 분산액-8 ∼ 11 을 조제했다.
Figure 112022141438391-pat00051
[실시예 9 및 비교예 5 ∼ 7]
상기 조제한 안료 분산액을 이용하여, 고형분 중의 비율이 표 5 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 추가로 고형분이 17 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가해, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물을 조제했다.
또, 얻어진 각 감광성 착색 조성물에 대해 토키 산업 주식회사 제조 RC80L 형 점도계 (측정 조건 : 23 ℃, 50 rpm) 에 의해 그 점도를 측정하였다. 결과를 표 5 에 나타낸다.
Figure 112022141438391-pat00052
일반적으로, 유기 안료를 감광성 착색 조성물 중에 분산시키기 위해서, 4 급 암모늄염기를 갖는 염기성 고분자 분산제도, 4 급 암모늄염기를 갖지 않는 염기성 고분자 분산제도 동등하게 취급되고 있고, 동등한 분산성을 나타내는 것이 알려져 있다. 실제, 표 5 의 비교예 6 및 7 에서는, 유기 흑색 안료인 페릴렌 블랙은 분산제 I 을 사용한 경우도, 분산제 III 을 사용한 경우도, 감광성 착색 조성물의 점도에 유의차는 없다.
의외로 (A-1) 유기 흑색 안료를 포함하는 감광성 착색 조성물에 있어서는, 표 5 의 실시예 9 와 비교예 5 의 비교로부터, 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제 (분산제 I) 를 사용함으로써, 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖지 않는 고분자 분산제 (분산제 III) 를 사용한 경우와 비교해, 감광성 착색 조성물의 점도가 절반 정도가 되어, (A-1) 유기 흑색 안료가 균일하게 분산된 것이 되었다.
또, 표 6 에 실시예 1 ∼ 8 의 감광성 착색 조성물에 대해, 실시예 9 와 동일한 방법으로 측정한 점도의 값을 나타낸다.
Figure 112022141438391-pat00053
표 6 에 나타내는 바와 같이, 안료로서 (A-1) 유기 흑색 안료를 단독으로 사용한 실시예 1 및 2 뿐만 아니라, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-2) 유기 착색 안료를 병용한 실시예 3 ∼ 5, 및 8, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-3) 카본 블랙을 병용한 실시예 6, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-2) 유기 착색 안료와 (A-3) 카본 블랙을 병용한 실시예 7 의 어디에 있어서도 실시예 1 및 2 와 동등한 점도가 되어, 어느 감광성 착색 조성물에 있어서도 안료가 균일하게 분산된 것이 되었다.
본 발명을 상세하게 또 특정 실시형태를 참조해 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 다양한 변경이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에게 있어 분명하다. 본 출원은, 2013년 9월 25일 출원된 일본 특허 출원 (일본 특허출원 2013-198425) 에 근거하는 것이고, 그 내용은 여기에 참조로서 받아들여진다.
10 : 투명 지지 기판
20 : 화소
30 : 유기 보호층
40 : 무기 산화막
50 : 투명 양극
51 : 정공 주입층
52 : 정공 수송층
53 : 발광층
54 : 전자 주입층
55 : 음극
100 : 유기 EL 소자
500 : 유기 발광체

Claims (26)

  1. (A) 색재, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, 및 (D) 광 중합 개시제를 적어도 함유하는 감광성 착색 조성물로서,
    상기 (A) 색재가 (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한
    상기 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함하고,
    상기 고분자 분산제가 아크릴계 고분자 분산제이고,
    상기 아크릴계 고분자 분산제가, 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.
    Figure 112022141438391-pat00054

    [식 (1) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다; R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다; 또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다; R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.]
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 일반식 (1) 에 있어서, R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고, R3 및 R8 은 서로 독립적으로 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, R5 는 R10 과 동일한, 감광성 착색 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 블록 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비가 5/95 ~ 60/40 (질량비) 인, 감광성 착색 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 블록 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양이 0.1 ~ 10 m㏖ 인, 감광성 착색 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 블록 공중합체의 아민가가 1 ~ 100 ㎎KOH/g 인, 감광성 착색 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 고분자 분산제가 하기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위를 갖는, 감광성 착색 조성물.
    Figure 112022141438391-pat00055

    (식 (iii) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R41 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기이며, R42 는 수소 원자 또는 메틸기이다. n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.)
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 고분자 분산제가, 추가로 3 급 아민을 관능기로서 갖는, 감광성 착색 조성물.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 (C) 알칼리 가용성 수지가, 하기 알칼리 가용성 수지 (c1) 및 하기 알칼리 가용성 수지 (c2) 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 감광성 착색 조성물.
    <알칼리 가용성 수지 (c1)>
    에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.
    <알칼리 가용성 수지 (c2)>
    에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다가 알코올, 그리고 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 (A) 색재가, 추가로 (A-2) 유기 착색 안료를 함유하는, 감광성 착색 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 (A-2) 유기 착색 안료가, 이하의 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는, 감광성 착색 조성물.
    청색 : 컬러 인덱스 피그먼트 블루 60, 또는 15 : 6
    적색 : 컬러 인덱스 피그먼트 레드 177, 254, 또는 272
    자색 : 컬러 인덱스 피그먼트 바이올렛 23, 또는 29
    등색 : 컬러 인덱스 피그먼트 오렌지 43, 64, 또는 72
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 (A) 색재 100 질량% 에 대한, 상기 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 30 ∼ 90 질량%, (A-2) 유기 착색 안료의 함유 비율이 10 ∼ 70 질량% 인, 감광성 착색 조성물.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 (A) 색재가 추가로 (A-3) 카본 블랙을 함유하는, 감광성 착색 조성물.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 (A) 색재 100 질량% 에 대한, 상기 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 50 ∼ 90 질량%, (A-3) 카본 블랙의 함유 비율이 10 ∼ 50 질량% 인, 감광성 착색 조성물.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 (D) 광 중합 개시제가, 옥심에스테르 개시제, 및/또는 케톡심에스테르 개시제인, 감광성 착색 조성물.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.
  16. 제 15 항에 기재된 경화물로부터 형성되는 블랙 매트릭스.
  17. 제 15 항에 기재된 경화물로부터 형성되는 착색 스페이서.
  18. 제 16 항에 기재된 블랙 매트릭스를 포함하는 화상 표시 장치.
  19. 제 17 항에 기재된 착색 스페이서를 포함하는 화상 표시 장치.
  20. (A) 색재, 및 (B) 분산제를 함유하는 안료 분산액으로서,
    상기 (A) 색재가 (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한
    상기 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함하고,
    상기 고분자 분산제가 아크릴계 고분자 분산제이고,
    상기 아크릴계 고분자 분산제가, 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것을 특징으로 하는 안료 분산액.
    Figure 112022141438391-pat00056

    [식 (1) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다; R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다; 또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다; R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.]
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 일반식 (1) 에 있어서, R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고, R3 및 R8 은 서로 독립적으로 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, R5 는 R10 과 동일한, 안료 분산액.
  22. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 블록 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비가 5/95 ~ 60/40 (질량비) 인, 안료 분산액.
  23. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 블록 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양이 0.1 ~ 10 m㏖ 인, 안료 분산액.
  24. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 블록 공중합체의 아민가가 1 ~ 100 ㎎KOH/g 인, 안료 분산액.
  25. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 고분자 분산제가 하기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위를 갖는, 안료 분산액.
    Figure 112022141438391-pat00057

    (식 (iii) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R41 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기이며, R42 는 수소 원자 또는 메틸기이다. n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.)
  26. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 고분자 분산제가, 추가로 3 급 아민을 관능기로서 갖는, 안료 분산액.
KR1020227046216A 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액 KR102540420B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020237018284A KR20230085213A (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2013-198425 2013-09-25
JP2013198425 2013-09-25
PCT/JP2014/075144 WO2015046178A1 (ja) 2013-09-25 2014-09-22 感光性着色組成物、ブラックマトリクス、着色スペーサー、画像表示装置及び顔料分散液
KR1020227002415A KR102485543B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227002415A Division KR102485543B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237018284A Division KR20230085213A (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20230009515A KR20230009515A (ko) 2023-01-17
KR102540420B1 true KR102540420B1 (ko) 2023-06-05

Family

ID=52743314

Family Applications (6)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227002415A KR102485543B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020237018284A KR20230085213A (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020167007364A KR102356749B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020177023321A KR101844731B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020227046216A KR102540420B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020207007432A KR102210576B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액

Family Applications Before (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227002415A KR102485543B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020237018284A KR20230085213A (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020167007364A KR102356749B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR1020177023321A KR101844731B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207007432A KR102210576B1 (ko) 2013-09-25 2014-09-22 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액

Country Status (5)

Country Link
JP (5) JP6489008B2 (ko)
KR (6) KR102485543B1 (ko)
CN (2) CN111190328B (ko)
TW (4) TWI678595B (ko)
WO (1) WO2015046178A1 (ko)

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6464764B2 (ja) * 2015-01-16 2019-02-06 Jsr株式会社 感放射線性着色組成物、スペーサー、その形成方法及び液晶表示素子
TWI723994B (zh) 2015-05-22 2021-04-11 日商富士軟片股份有限公司 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器
JP6700710B2 (ja) * 2015-10-16 2020-05-27 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 ブラックカラムスペーサー用の感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサー、液晶表示装置、ブラックカラムスペーサー用の感光性樹脂組成物の製造方法、ブラックカラムスペーサーの製造方法、および液晶表示装置の製造方法
WO2017110893A1 (ja) * 2015-12-24 2017-06-29 三菱化学株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
TWI639054B (zh) * 2015-12-29 2018-10-21 奇美實業股份有限公司 黑色感光性樹脂組成物及其應用
KR20170086399A (ko) * 2016-01-18 2017-07-26 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 흑색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 블랙 컬럼 스페이서
CN108700685A (zh) * 2016-02-12 2018-10-23 三菱化学株式会社 着色间隔物用感光性着色组合物、固化物、着色间隔物、图像显示装置
JP6768302B2 (ja) * 2016-02-16 2020-10-14 株式会社Dnpファインケミカル カラーフィルタ用着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
JP2017146429A (ja) * 2016-02-16 2017-08-24 株式会社Adeka ブラックカラムスペーサ用感光性組成物
KR102247840B1 (ko) * 2016-03-18 2021-05-03 제이에스알 가부시끼가이샤 표시 소자용 기판, 표시 소자용 기판의 제조 방법 및 표시 소자
CN108700812A (zh) * 2016-03-31 2018-10-23 日本瑞翁株式会社 放射线敏感性树脂组合物及抗蚀剂
KR102590768B1 (ko) * 2016-05-31 2023-10-19 주식회사 이엔에프테크놀로지 블랙 컬럼 스페이서(bcs) 또는 블랙 매트릭스용 착색 감광성 조성물
TWI664499B (zh) * 2016-06-04 2019-07-01 奇美實業股份有限公司 黑色感光性樹脂組成物及其應用
TWI664500B (zh) * 2016-06-30 2019-07-01 奇美實業股份有限公司 黑色感光性樹脂組成物及其應用
US20190302617A1 (en) * 2016-06-30 2019-10-03 Toray Industries, Inc. Negative photosensitive resin composition, cured film, element provided with cured film, display device provided with element, and organic el display
KR102373037B1 (ko) * 2016-08-24 2022-03-11 도레이 카부시키가이샤 흑색 안료와 그의 제조 방법, 안료 분산액, 감광성 조성물 및 그의 경화물
KR102402726B1 (ko) * 2016-09-16 2022-05-27 미쯔비시 케미컬 주식회사 감광성 수지 조성물, 경화물 및 화상 표시 장치
KR101991699B1 (ko) * 2016-09-26 2019-06-21 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
JP6787038B2 (ja) * 2016-10-25 2020-11-18 東洋インキScホールディングス株式会社 黒色感光性組成物
KR101973253B1 (ko) * 2016-11-10 2019-04-30 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물
CN109952535A (zh) * 2016-12-02 2019-06-28 三菱化学株式会社 着色感光性树脂组合物、颜料分散液、间隔壁、有机场致发光元件、图像显示装置及照明
KR101897937B1 (ko) * 2017-01-20 2018-09-12 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
KR101886992B1 (ko) * 2017-01-20 2018-08-10 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
JP6380723B1 (ja) * 2017-02-15 2018-08-29 三菱ケミカル株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
CN110177817A (zh) * 2017-03-01 2019-08-27 株式会社艾迪科 聚合性组合物及黑色柱状间隔物用感光性组合物
JPWO2018180943A1 (ja) 2017-03-27 2020-02-06 Agc株式会社 ハロゲン含有ピラゾールカルボン酸及びその中間体の製造方法
JP7312107B2 (ja) * 2017-06-20 2023-07-20 株式会社Adeka 重合性組成物、ブラックマトリクス用感光性組成物及びブラックカラムスペーサ用感光性組成物
WO2018235664A1 (ja) * 2017-06-20 2018-12-27 株式会社Adeka 重合性組成物、ブラックマトリクス用感光性組成物及びブラックカラムスペーサ用感光性組成物
JP7079581B2 (ja) * 2017-08-31 2022-06-02 東京応化工業株式会社 感光性組成物、硬化物形成方法、硬化物、画像表示装置用パネル、及び画像表示装置
CN111051982B (zh) * 2017-09-28 2023-04-25 东丽株式会社 有机el显示装置以及像素分割层和平坦化层的形成方法
KR101922348B1 (ko) * 2017-10-20 2018-11-26 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
WO2019078415A1 (ko) * 2017-10-20 2019-04-25 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
TWI741223B (zh) * 2017-10-20 2021-10-01 南韓商東友精細化工有限公司 著色分散液、含該著色分散液之著色感光性樹脂組合物、使用該組合物製造之圖案層、含該圖案層之彩色濾光片、及含該彩色濾光片之顯示裝置
JP6914807B2 (ja) * 2017-10-30 2021-08-04 サカタインクス株式会社 黒色着色組成物及びそれを含有する黒色着色レジスト組成物
JP7080618B2 (ja) * 2017-10-31 2022-06-06 サカタインクス株式会社 黒色顔料分散組成物及びそれを含有する黒色顔料分散レジスト組成物
KR101840984B1 (ko) * 2017-11-10 2018-03-21 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
TWI791690B (zh) * 2017-12-14 2023-02-11 日商迪愛生股份有限公司 著色組成物及濾色器
KR102158874B1 (ko) * 2017-12-29 2020-09-22 삼성에스디아이 주식회사 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 밀봉된 반도체 장치
KR102244472B1 (ko) * 2018-03-07 2021-04-23 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102411817B1 (ko) 2018-03-09 2022-06-22 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 액정표시장치
JP6757547B2 (ja) * 2018-03-15 2020-09-23 株式会社タムラ製作所 硬化塗膜の形成方法
JP7230559B2 (ja) * 2018-03-20 2023-03-01 三菱ケミカル株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
KR20190125792A (ko) 2018-04-30 2019-11-07 동우 화인켐 주식회사 안료 분산액 조성물의 제조방법, 이에 따라 제조된 안료 분산액 조성물, 상기 안료 분산액 조성물을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 포함하는 표시장치
JP7172171B2 (ja) * 2018-06-22 2022-11-16 Dic株式会社 顔料用分散剤、顔料分散体及びポリマーの製造方法
US20200201180A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. Colored photosensitive resin composition and black matrix prepared therefrom
JP6689434B1 (ja) * 2019-02-06 2020-04-28 昭和電工株式会社 感光性樹脂組成物、有機el素子隔壁、及び有機el素子
JP7360798B2 (ja) * 2019-02-21 2023-10-13 サカタインクス株式会社 着色組成物、及び、それを含有する着色レジスト組成物
JP7299036B2 (ja) * 2019-02-21 2023-06-27 サカタインクス株式会社 着色組成物、及び、着色レジスト組成物
JP7263153B2 (ja) * 2019-06-27 2023-04-24 東京応化工業株式会社 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法
JP7354496B2 (ja) * 2019-08-30 2023-10-03 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用顔料分散組成物、及び、それを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物
JPWO2021045193A1 (ko) * 2019-09-06 2021-03-11
JP7325728B2 (ja) * 2019-09-30 2023-08-15 山陽色素株式会社 顔料分散体及び塗膜形成用着色組成物
KR102109544B1 (ko) * 2019-10-16 2020-05-12 삼성에스디아이 주식회사 컬러 필터 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
KR102421036B1 (ko) * 2019-11-22 2022-07-15 에스케이씨하이테크앤마케팅(주) 안료 분산액 및 이를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물
KR20220127879A (ko) * 2020-02-20 2022-09-20 후지필름 가부시키가이샤 착색 조성물, 막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
EP4129688A4 (en) * 2020-03-26 2023-09-06 FUJIFILM Corporation ACTIVE ENERGY BEAM CURABLE INK AND IMAGE PRINTING METHOD
JPWO2022065490A1 (ko) * 2020-09-28 2022-03-31
JP7464493B2 (ja) 2020-10-02 2024-04-09 東京応化工業株式会社 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス
JP7464494B2 (ja) 2020-10-02 2024-04-09 東京応化工業株式会社 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス
CN116547325A (zh) * 2020-12-23 2023-08-04 Dnp精细化工股份有限公司 光固化性红色树脂组合物、显示装置及有机发光元件与外光反射防止膜的层叠体的制造方法
WO2023054118A1 (ja) * 2021-09-29 2023-04-06 東レ株式会社 感光性組成物、硬化物および有機el表示装置
CN114156329B (zh) * 2021-11-30 2023-07-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
TW202346486A (zh) * 2022-03-25 2023-12-01 日商三菱化學股份有限公司 顏料分散液、感光性樹脂組合物、硬化物、黑矩陣、圖像顯示裝置、及顏料分散液之製造方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0844049A (ja) 1994-08-01 1996-02-16 Sekisui Chem Co Ltd 着色レジスト膜
JP2002528448A (ja) 1998-10-22 2002-09-03 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド オキソベンゾフラニリデン−ジヒドロインドロン類
JP4794870B2 (ja) 2005-02-24 2011-10-19 東京応化工業株式会社 遮光層形成用感光性樹脂組成物ならびに遮光層およびカラーフィルタ
JP5169422B2 (ja) * 2007-04-20 2013-03-27 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機elディスプレイ
CN101548203B (zh) * 2007-06-11 2012-03-07 三菱化学株式会社 滤色器用感光性着色树脂组合物、滤色器、液晶显示装置以及有机电致发光显示屏
JP2009075446A (ja) 2007-09-21 2009-04-09 Mitsubishi Chemicals Corp 樹脂ブラックマトリックス、遮光性感光性樹脂組成物及び液晶表示装置
US20100175691A1 (en) * 2009-01-15 2010-07-15 Celanese Acetate Llc Process for recycling cellulose acetate ester waste
JP5683490B2 (ja) * 2009-01-19 2015-03-11 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se カラーフィルタ用のブラックマトリックス
WO2010081756A1 (en) * 2009-01-19 2010-07-22 Basf Se Black pigment dispersion
JP5431225B2 (ja) * 2010-03-29 2014-03-05 新日鉄住金化学株式会社 アルカリ現像性感光性樹脂組成物、及びこれを用いて形成した表示素子向け隔壁、並びに表示素子
KR101805224B1 (ko) * 2010-05-03 2017-12-05 바스프 에스이 저온 적용을 위한 컬러 필터
CN102279522B (zh) * 2010-06-08 2014-07-30 东洋油墨Sc控股株式会社 滤色器用着色组合物及滤色器
JP5741141B2 (ja) * 2010-08-27 2015-07-01 東洋インキScホールディングス株式会社 黒色樹脂組成物及びブラックマトリクス
TWI434887B (zh) * 2010-06-08 2014-04-21 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 濾色片用著色組成物及濾色片
JP6143298B2 (ja) * 2011-10-25 2017-06-07 三菱ケミカル株式会社 着色感光性組成物、着色スペーサ、カラーフィルター、及び液晶表示装置
JP6115471B2 (ja) * 2011-11-11 2017-04-19 旭硝子株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、ブラックマトリックス及び光学素子
JP5801214B2 (ja) 2012-01-31 2015-10-28 株式会社日立製作所 地域熱エネルギー供給網の制御装置
CN110244513B (zh) * 2012-01-31 2022-10-14 三菱化学株式会社 着色感光性组合物、黑色光间隔物及滤色片
WO2013179237A1 (en) * 2012-06-01 2013-12-05 Basf Se Black colorant mixture
JP6170673B2 (ja) * 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
WO2014208348A1 (ja) * 2013-06-24 2014-12-31 東レ株式会社 タッチパネル用黒色樹脂組成物
US9690197B2 (en) * 2013-07-25 2017-06-27 Toray Industries, Inc. Negative-type photosensitive white composition for touch panel, touch panel and touch panel production method

Also Published As

Publication number Publication date
JP6891907B2 (ja) 2021-06-18
KR20220016300A (ko) 2022-02-08
KR20200030639A (ko) 2020-03-20
TWI660242B (zh) 2019-05-21
JP6361838B2 (ja) 2018-07-25
TW201832005A (zh) 2018-09-01
KR20230085213A (ko) 2023-06-13
KR20160060645A (ko) 2016-05-30
TWI678595B (zh) 2019-12-01
JP2017061688A (ja) 2017-03-30
KR20170098337A (ko) 2017-08-29
TWI647535B (zh) 2019-01-11
TW201921112A (zh) 2019-06-01
CN105556390A (zh) 2016-05-04
JP2019133167A (ja) 2019-08-08
TW201520689A (zh) 2015-06-01
JP2021073529A (ja) 2021-05-13
KR102210576B1 (ko) 2021-02-01
JP6489008B2 (ja) 2019-03-27
KR101844731B1 (ko) 2018-04-02
CN111190328B (zh) 2024-05-24
JP2018097378A (ja) 2018-06-21
TW201942670A (zh) 2019-11-01
TWI676861B (zh) 2019-11-11
CN105556390B (zh) 2020-02-28
KR20230009515A (ko) 2023-01-17
JP6112254B2 (ja) 2017-04-12
JPWO2015046178A1 (ja) 2017-03-09
KR102485543B1 (ko) 2023-01-09
JP7099563B2 (ja) 2022-07-12
WO2015046178A1 (ja) 2015-04-02
KR102356749B1 (ko) 2022-01-27
CN111190328A (zh) 2020-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102540420B1 (ko) 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액
KR102540423B1 (ko) 감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서, 화상 표시 장치
JP6380723B1 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
KR102305058B1 (ko) 수지, 감광성 수지 조성물, 경화물, 컬러 필터 및 화상 표시 장치
JP2013167687A (ja) 感光性着色樹脂組成物、及びカラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP5957952B2 (ja) 感光性着色樹脂組成物、及びカラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP2013195681A (ja) 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機elディスプレイ
JP7120234B2 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置
KR102582198B1 (ko) 감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서, 및 화상 표시 장치
KR20210105876A (ko) 감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서, 및 화상 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
GRNT Written decision to grant