JP7354496B2 - ブラックマトリックス用顔料分散組成物、及び、それを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 - Google Patents
ブラックマトリックス用顔料分散組成物、及び、それを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7354496B2 JP7354496B2 JP2019159134A JP2019159134A JP7354496B2 JP 7354496 B2 JP7354496 B2 JP 7354496B2 JP 2019159134 A JP2019159134 A JP 2019159134A JP 2019159134 A JP2019159134 A JP 2019159134A JP 7354496 B2 JP7354496 B2 JP 7354496B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- black matrix
- pigment
- pigment dispersion
- composition
- dispersion composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/44—Carbon
- C09C1/48—Carbon black
- C09C1/56—Treatment of carbon black ; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
- C09D17/002—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints in organic medium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/44—Carbon
- C09C1/48—Carbon black
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/10—Treatment with macromolecular organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
- C09D17/004—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
- C09D17/005—Carbon black
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/003—Light absorbing elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0385—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using epoxidised novolak resin
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
また特許文献1に記載のように、樹脂としてアクリル樹脂のみを含有し、特定の光重合開始剤、及び分散剤を含有する感光性着色組成物として、さらに感度向上のためにチオール化合物を含有するブラックマトリックス用組成物は公知である。
本発明が解決する課題は、ブラックマトリックス用顔料分散組成物の保存安定性を向上させ、かつブラックマトリックス用組成物を調製したときに、そのブラックマトリックス用組成物による被膜を高抵抗とし、さらに被膜のシール強度と細線密着性を向上させ、残渣の発生を防止することである。
1.カーボンブラック、顔料分散剤、顔料誘導体、有機溶剤を含有するブラックマトリックス用顔料分散組成物であって、エポキシ樹脂、及びシロキサン結合を有しない多官能チオール化合物を含有し、前記多官能チオール化合物の含有量が組成物中0.1~2.4質量%であることを特徴とするブラックマトリックス用顔料分散組成物。
2.顔料分散剤がペンタメチルピペリジニルメタクリレート及び/又はジメチルアミノプロピルアクリレートのブロックと、他の重合可能なエチレン性不飽和単量体からなるブロックからなる構造を有する1に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
3.多官能チオール化合物の分子量が200~1000である1又は2に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
4.エポキシ樹脂が芳香環を有するエポキシ樹脂である1~3のいずれかに記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
5.エポキシ樹脂が、下記式1~7から選ばれる少なくとも1種である1~4のいずれかに記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
いずれにしても、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物及びブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、主に表示装置のブラックマトリックスに使用される組成物であり、それによる効果として、ブラックマトリックス用組成物としたときに、そのブラックマトリックス用組成物の粘度安定性、PGMEA再溶解性及びアルカリ現像液溶解性の向上を図ることが可能である。
PGMEA再溶解性が優れない場合には、コーターにてレジスト液等として塗工後、乾燥膜が発生する可能性がある。容易にPGMEAへ再溶解しない場合は、その後の処理時において、乾燥膜が異物となる可能性がある。アルカリ現像液溶解性が優れない場合、つまり、アルカリ現像液に対して塗膜の溶解性が低い、または塗膜が溶解せずに剥離する場合は、アルカリ現像の際直線性に優れたパターニングが困難になる可能性がある。
本発明は、ブラックマトリックス用顔料分散組成物と、そのブラックマトリックス用顔料分散組成物に対してアルカリ可溶性樹脂や光重合性化合物等を配合してなるブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物である。
なお、ブラックマトリックス用顔料分散組成物は、光硬化型とそうでないものを包含する。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、カーボンブラック、顔料分散剤、顔料誘導体、エポキシ樹脂、チオール化合物、有機溶剤から主として構成される。
以下のこの組成に関して説明する。
本発明にて使用されるカーボンブラックとしては、平均一次粒子径20~60nmのカーボンブラックであり、中でも平均一次粒子径20~60nmの中性カーボンブラック及び/又は平均一次粒子径20~60nmの酸性カーボンブラックを使用することが好ましい。
カーボンブラックの一次粒子径が20nmより小さい場合、又は60nmより大きい場合は、十分な遮光性を有しない可能性や、保存安定性に劣る可能性がある。
また、中性カーボンブラックと酸性カーボンブラックを併用する場合には、中性カーボンブラックと酸性カーボンブラックとの混合比率(質量比)は85/15~15/85が好ましく、さらに好ましくは75/25~40/60の範囲である。使用するカーボンブラックの中性カーボンブラックの割合が85/15より多い場合は、シール強度が低下し、使用するカーボンブラックの酸性カーボンブラックの割合が15/85より多い場合は、現像マージンや細線密着性が低下するので好ましくない。
平均一次粒子径は、電子顕微鏡観察による算術平均径の値である。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物におけるカーボンブラックの含有量は、3~70質量%が好ましく、10~50質量%がより好ましい。カーボンブラックの含有量が3質量%未満では、ブラックマトリックスを形成した場合の遮光性が低くなる傾向があり、一方70質量%を超えると、顔料分散が困難となる傾向がある。
本発明において使用される多官能チオール化合物は、1分子中にメルカプト基を2以上有し、分子量は200~1000が好ましい。200未満であると、ブラックマトリックス用顔料分散組成物の保存安定性が悪化する恐れが生じ、1000を超えると多官能チオール化合物の添加効果が低くなる可能性がある。
またブラックマトリックス用顔料分散組成物中の多官能チオール化合物の配合量は、組成物中0.1~2.4質量%であり、好ましくは0.2質量%以上、より好ましくは0.4質量%以上であり、好ましくは2.0質量%以下、より好ましくは1.5質量%以下である。
また、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物中の多官能チオール化合物の配合量は、組成物中、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは1.0質量%以上であり、好ましくは1.3質量%以下、より好ましくは1.0質量%以下である。
このような多官能チオール化合物としては、ブタンジオールビスチオプロピオネート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(カレンズPE-1)、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン(カレンズBD-1)、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチリルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン(カレンズNR-1)等のメルカプトプロピオン酸誘導体を使用できる。
このような多官能チオール化合物を含有することにより、ブラックマトリックス用顔料分散組成物の保存安定性、レジスト組成物にしたときに高い抵抗、高いシール強度、となり、残渣の発生を削減でき、さらに細線密着性に優れるというそれぞれの効果をバランス良く有する。
なお、多官能チオール化合物としては分子内に水酸基及び/又は芳香環を有しないほうが好ましい。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物及びブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物にはシリカを含有させることができる。その結果、テーパー角を大きくできる。
このシリカの平均粒子径は、好ましくは1~20nmである。シリカの平均粒子径が1nm未満であると、ブラックマトリックス用顔料分散組成物の粘度が高すぎて塗布に支障をきたす傾向があり、一方、20nmを超える場合は、細線密着性が低下する傾向がある。
このシリカの中でも、好ましくは表面を疎水化処理したシリカである表面疎水化処理シリカであり、より好ましくはジメチルシリル化表面処理シリカである。
このような本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物を構成するシリカの具体例としては、日本アエロジル社製のAEROSIL R976(ジメチルシリル化表面処理シリカ、平均粒子径7nm)、AEROSIL R974(ジメチルシリル化表面処理シリカ、平均粒子径12nm)、AEROSIL R972(ジメチルシリル化表面処理シリカ、平均粒子径16nm)が挙げられる。
シリカの使用量は、カーボンブラック100質量部に対して1~7質量部の範囲であり、好ましくは2~6重量部の範囲である。1質量部未満であると、テーパー角を大きくする効果が得られず、一方、7質量部より多い場合は、濃度(OD値)、分散安定性が低下する傾向がある。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物を構成する顔料分散剤としては、アニオン性界面活性剤、塩基性基含有ポリエステル系顔料分散剤、塩基性基含有アクリル系顔料分散剤、塩基性基含有ウレタン系顔料分散剤、塩基性基含有カルボジイミド系顔料分散剤等を用いることができる。
これらの顔料分散剤は、単独で用いてもよく、また、2種類以上の組み合わせを用いてもよい。中でも、良好な顔料分散性が得られる点から、塩基性基含有高分子顔料分散剤が好ましい。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物において、顔料分散剤を使用する際の使用量は、着色顔料100質量部に対して1~100質量部であることが好ましく、より好ましくは1~60質量部である。上記顔料分散剤の含有量が1質量部より小さいと顔料分散効果が低下する場合があり、一方100質量部を超える場合は、現像性が低下する等のおそれがある。
(1)ポリアミン化合物(例えば、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリエチレンポリイミン等の、ポリ(低級)アルキレンアミン等)のアミノ基及び/又はイミノ基と、遊離のカルボキシル基を有するポリエステル、ポリアミド及びポリエステルアミドからなる群より選択される少なくとも1種との反応生成物。
(2)分子内にポリエステル側鎖、ポリエーテル側鎖、及びポリアクリル側鎖からなる群より選択される少なくとも1種の側鎖と、塩基性窒素含有基とをそれぞれ少なくとも1つ有するカルボジイミド系化合物。
(3)ポリ(低級)アルキレンイミン、メチルイミノビスプロピルアミン等の低分子アミノ化合物と、遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応生成物。
(4)ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基に、メトキシポリエチレングリコール等のアルコール類やカプロラクトンポリエステル等の水酸基を1個有するポリエステル類、2~3個のイソシアネート基反応性官能基を有する化合物、イソシアネート基反応性官能基と第3級アミノ基とを有する脂肪族又は複素環式炭化水素化合物を順次反応させてなる反応生成物。
(5)アルコール性水酸基を有するアクリレートの重合物にポリイソシアネート化合物とアミノ基を有する炭化水素化合物とを反応させた反応生成物。
(6)低分子アミノ化合物にポリエーテル鎖を付加させてなる反応生成物。
(7)イソシアネート基を有する化合物にアミノ基を有する化合物を反応させてなる反応生成物。
(8)ポリエポキシ化合物に遊離のカルボキシル基を有する線状ポリマー及び2級アミノ基を1個有する有機アミン化合物を反応させた反応生成物。
(9)片末端にアミノ基と反応し得る官能基を有するポリカーボネート化合物とポリアミン化合物との反応生成物。
(10)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート等のメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステルから選択される少なくとも1種と、ペンタメチルピペリジニルメタクリレート等のピペリジン環を有する塩基性モノマー、アクリルアミド、メタクリルアミド、N-メチロールアミド、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、アミノ基とポリカプロラクトン骨格を有するモノマー等の塩基性基含有重合性モノマーの少なくとも1種と、スチレン、スチレン誘導体、その他の重合性モノマーの少なくとも1種との共重合体。
(11)3級アミノ基、4級アンモニウム塩基等の塩基性基を有するブロックと塩基性官能基を有していないブロックとからなるアクリル系ブロック共重合体等。
(12)ポリアリルアミンにポリカーボネート化合物をマイケル付加反応させて得られる顔料分散剤。
(13)ポリブタジエン鎖と塩基性窒素含有基とをそれぞれ少なくとも1つ有するカルボジイミド系化合物。
(14)分子内にアミド基を有する側鎖と、塩基性窒素含有基とをそれぞれ少なくとも1つ有するカルボジイミド系化合物。
(15)エチレンオキサイド鎖とプロピレンオキサイド鎖を有する構成単位を有し、かつ四級化剤により四級化されたアミノ基を有するポリウレタン系化合物。
(16)分子内にイソシアヌレート環を有するイソシアネート化合物のイソシアネート基と、分子内に活性水素基を有し、かつ、カルバゾール環及び/又はアゾベンゼン骨格を有する化合物の活性水素基とを反応させて得られる化合物であって、該化合物の分子内の、イソシアヌレート環を有するイソシアネート化合物に由来するイソシアネート基と、イソシアネート基と活性水素基との反応により生じたウレタン結合及び尿素結合との合計に対するカルバゾール環とアゾベンゼン骨格の数が15~85%である化合物。
上記アミン化合物である単量体を含有するアクリル系ブロック共重合体を構成するブロックの種類は2種でも良く3種以上でも良く、以下のものが挙げられる。
そのうち1種以上のブロックはアミン化合物であるラジカル重合性不飽和結合を有する単量体を含有するブロックである。
このブロックを構成する単量体としては、非環式アミン化合物、複素環式アミン化合物、又は4級アンモニウムカチオン化合物であり、例えばジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の非環式アミン化合物、ビニルピリジン、ペンタメチルピペリジニル(メタ)アクリレート等の複素環式アミン化合物、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレートを塩化ベンジルにより4級化しカチオン化してなる化合物等の4級アンモニウムカチオン化合物が好ましい。これらの単量体のうちの1種の単量体からなるブロックでも良く、2種以上の単量体がランダム重合してなるブロックや、2種以上の単量体がブロック重合してなるブロックでも良い。
また、ペンタメチルピペリジニルメタクリレート及び/又はジメチルアミノプロピルアクリレートのブロックと、他の重合可能なエチレン性不飽和単量体からなるブロックからなる構造を有するものが特に好ましい。
この他の重合可能なエチレン性不飽和単量体としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、スチレン、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、グリセロールモノアクリレート等のグリセロール(メタ)クリレート、N-フェニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、カルボエポキシジアクリレート等のモノマー、オリゴマー類の群から選ばれる少なくとも1種のエチレン性不飽和単量体との共重合体を挙げることができる。但し、N-ビニルピロリドン、硫黄元素含有モノマーは使用しない方が望ましい。
ブロック共重合体としては、リビングラジカル重合、アニオン重合にて合成されたブロック樹脂を採用できる。
具体的な塩基性基含有高分子顔料分散剤として、ペンタメチルピペリジニルメタクリレート及び/又はジメチルアミノプロピルアクリレートのブロックと、上記他の重合可能なエチレン性不飽和単量体からなるブロックである。
顔料分散剤の使用量は、カーボンブラック100質量部に対して、好ましくは1~200質量部、より好ましくは1~60質量部、さらに好ましくは5.0~30質量部である。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物には、少なくとも1種の顔料誘導体を含有させることができる。
まず、顔料誘導体としては、酸基を有するフタロシアニン系顔料誘導体、酸基を有するアントラキノン系顔料誘導体、酸基を有するナフタレン系顔料誘導体等が例示できる。この中でも、スルホン酸基を有するフタロシアニン系顔料誘導体がカーボンブラックの分散性の点から好ましい。
このような顔料誘導体は、顔料の微粒子化や分散の工程において、基本骨格の部分が顔料表面に吸着し、酸基が有機溶剤や顔料分散剤との親和力を高めることにより、顔料の分散時の微細化や分散後の経時分散安定性などを向上させる効果を有する。また、顔料分散助剤自身が有機溶剤中に溶解あるいは微粒子で分散状態になるものが、顔料表面のより広い範囲にわたって吸着することができるためにさらに好適である。
顔料誘導体の使用量は、カーボンブラック100質量部に対して、0.1~20質量部、好ましくは0.5~10質量部である。顔料誘導体の含有量が0.1質量部より小さいと顔料分散効果が低下し、一方20質量部を超える場合は、顔料分散効果がそれ以上には向上しない。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物には、エポキシ基を2つ以上有する化合物を「エポキシ樹脂」として含有する。本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物の固形分中のエポキシ樹脂の含有量は、6.0質量%以上が好ましく、8.0質量%以上がより好ましく、10.0質量%以上が更に好ましい。また、40.0質量%以下が好ましく、30.0質量%以下がより好ましく、20.0質量%以下が更に好ましい。
また、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物中のエポキシ樹脂の配合量は、全固形分中の濃度として、好ましくは4.0質量%以上、より好ましくは5.0質量%以上、さらに好ましくは6.0質量%以上であり、好ましくは12.0質量%以下、より好ましくは10.0質量%以下、さらに好ましくは9.0質量%以下である。
本発明はこのようなエポキシ樹脂を含有することにより、多官能チオール化合物と共に、分散液安定性、ブラックマトリックス用の組成物としたときの、抵抗及びシール強度が高く、残渣の発生を削減し、さらに細線密着性にも優れるという効果を奏する。
このようなエポキシ樹脂としては、エポライト40E、エポライト100E、エポライト200E、エポライト400E、エポライト70P、エポライト200P、エポライト400P、エポライト1500NP、エポライト80MF 、エポライト4000、エポライト3002(以上、共栄社化学社製)、デナコールEX-212L、デナコールEX-214L、デナコールEX-216L、デナコールEX-850L、デナコールEX-321L(以上、ナガセケムテックス社製)、GAN、GOT、NC3000、NC6000、EPPN502H(以上、日本化薬社製)、エピコート828、エピコート1002、エピコート1750、エピコート1007、YX8100-BH30、E1256、E4250、E4275(以上、ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロンEXA-9583、エピクロンN695、HP7200、HP4032(以上、大日本インキ化学工業社製)、VG3101(三井化学社製)、テピックS、テピックG、テピックP(以上、日産化学工業社製)、ポトートYH-434L(東都化成社製)などが挙げられる。
なかでも、芳香環を有するエポキシ樹脂が好ましく、さらに下記式1~7で示されるエポキシ樹脂が好ましい。
なお、エポキシ樹脂としては、インダン構造やビフェニル構造を有しないことが、反応性等の点において好ましい。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物に配合できる酸基含有樹脂としては、酸基含有共重合体樹脂、酸基含有ポリエステル樹脂、酸基含有ウレタン樹脂等がある。また、これらの樹脂を配合しなくてもよい。
上記酸基含有樹脂の酸基としては、カルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基等が挙げられる。
上記酸基含有樹脂の中でも、好ましいものは、酸基を有する単量体の少なくとも1種を含有する単量体成分をラジカル重合して得られる、酸価10~300mgKOH/g(好ましくは20~300mgKOH/g)、重量平均分子量1,000~100,000の酸基含有共重合体樹脂(特に酸基含有アクリル系共重合体樹脂)である。具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸、無水シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル、スルホエチルメタクリレート、ブチルアクリルアミドスルホン酸、ホスホエチルメタクリレート等の酸基含有不飽和単量体成分と、スチレン、メチルスチレン、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、メチルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等よりなる群から選択される少なくとも1種の単量体成分をラジカル重合して得られる酸基含有共重合体樹脂を用いることができる。
なお、本発明において、上記酸基含有樹脂の重量平均分子量は、GPCに基づいて得られるポリスチレン換算の重量平均分子量である。本発明においては、GPC装置として、Water 2690(ウォーターズ社製)、カラムとしてPLgel 5μm MIXED-D(Polymer Laboratories社製)を用いる。
本発明における酸基含有樹脂の使用量は、カーボンブラック100質量部に対して0.5~100質量部であることが好ましい。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物にはアルカリ可溶性樹脂を配合しても良い。そのような樹脂としては、顔料に対してバインダーとして作用し、かつブラックマトリックスを製造する際に、その現像処理工程において用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に対して可溶性を有するものである。
このようなアルカリ可溶性樹脂としては、ブロック共重合体としても良い。ブロック共重合体を採用することにより、他の共重合体よりも、顔料分散能が向上し、PGMEAやアルカリ現像液への溶解性を付与することができる。
そのブロック共重合体のなかでも、カルボキシル基を有するものが好ましく、特に1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体からなるブロックと、他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体からなるブロックを有するブロック共重合体が好ましい。
ブロック共重合体としては、リビングラジカル重合、アニオン重合にて合成されたブロック樹脂を採用できる。
また、ブロック共重合体の一部のブロック部分は、ランダム共重合体から構成されていても良い。
さらに、アルカリ可溶性樹脂として、アルカリ可溶性カルド樹脂を採用することもできる。そのアルカリ可溶性カルド樹脂としては、フルオレンエポキシ(メタ)アクリル酸誘導体とジカルボン酸無水物及び/又はテトラカルボン酸二無水物との付加生成物であるフルオレン骨格を有するエポキシ(メタ)アクリレート酸付加物等を挙げることができる。
また、本アルカリ可溶性樹脂は、光重合性の官能基を有していても良い。
また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、通常、現像特性や有機溶剤への溶解性の点から1,000~100,000が好ましく、さらに好ましくは3,000~50,000であり、より好ましくは7,000~20,000である。なお、本発明において、上記アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、GPCに基づいて得られるポリスチレン換算の重量平均分子量である。本発明において、装置としてはWater
2690(ウォーターズ社製)、カラムとしてはPLgel 5μm MIXED-D(Agilent Technologies社製)を用いる。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用量は、使用する着色顔料100質量部に対して1~200質量部が好ましく、さらに好ましくは、10~150質量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が1質量部未満では、現像特性が低下するおそれがある。一方200質量部を超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となるおそれがある。
また、アルカリ可溶性樹脂としては、1級、2級、及び3級の何れのアミノ基も含有せず、さらに4級アンモニウム基も含有しないことが好ましい。さらに、塩基性基を有しないことがより好ましい。
なお、本発明による効果を毀損しない範囲において、ブロック共重合体以外の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を配合してもよい。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物に使用する樹脂としては、可視光領域の400~700nmの全波長領域において透過率が80%以上、好ましくは95%以上の樹脂を使用することができる。これらの樹脂としては、その他の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらに下記の光重合性化合物を使用できる。
このような樹脂を配合する場合の配合割合は、ブラックマトリックス用顔料分散組成物の全固形分に対して質量分率で、使用する樹脂の合計量で好ましくは5~94質量%、より好ましくは20~50質量%の範囲である。
熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、スチレン-マレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド樹脂、スチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム、エポキシ樹脂、セルロース類、ポリブタジエン、ポリイミド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
なお、場合によりブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の項にて後述する光重合性樹脂を配合することもできる。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物に使用する有機溶剤としては、従来から液晶ブラックマトリックスレジストの分野で使用されている有機溶剤が好適に使用できる。具体的には、常圧(1.013×102kPa)における沸点が100~250℃のエステル系有機溶剤、エーテル系有機溶剤、エーテルエステル系有機溶剤、ケトン系有機溶剤、芳香族炭化水素系有機溶剤、含窒素系有機溶剤等である。沸点が250℃を超える有機溶剤を多量に含有していると、ブラックマトリックス用顔料分散組成物又はこの組成物を含有する組成物を塗布してなる塗膜をプレベークする際に、有機溶剤が充分に蒸発せずに乾燥塗膜内に残存し、乾燥塗膜の耐熱性が低下するおそれがある。また、沸点100℃未満の有機溶剤を多量に含有していると、ムラなく均一に塗布することが困難になり、表面平滑性に優れた塗膜が得られなくなるおそれがある。
これらの有機溶剤の中でも、溶解性、分散性、塗布性等の点で、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、蟻酸n-アミル等が好ましく、より好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物には、耐熱性(輝度)を向上させるために平均一次粒子径が5~20nmである硫酸バリウムを用いることができる。
硫酸バリウムの使用量は着色顔料100質量部に対して0~25質量部、好ましくは5~20質量部の範囲で使用する。
上記硫酸バリウムは、微粒子化処理した着色顔料の分散時又は分散後に使用する。
また、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物を、光硬化性を有しないまま、レジスト用組成物として使用することもできる。
ブラックマトリックス用顔料分散組成物の製造法に応じて、光重合開始剤、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜使用することができる。上記光重合開始剤としては、例えば、後述するものを挙げることができる。
まず、カーボンブラック、顔料分散剤、顔料誘導体、エポキシ樹脂、特定の多官能チオール化合物、有機溶剤、必要により顔料分散助剤、硫酸バリウム、更に必要に応じてその他の添加剤からなる混合物を得る。得られた混合物を、ロールミル、ニーダー、高速撹拌装置、ビーズミル、ボールミル、サンドミル、超音波分散機、高圧分散機などの各種分散機を用いて、混練し、分散処理し顔料分散組成物を得る。
このような樹脂は、ブラックマトリックス用顔料分散組成物の全固形分に対して質量分率で、使用する樹脂の合計量で好ましくは5~94質量%、より好ましくは20~50質量%の範囲である。
次に、本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物が、光硬化性であるときについて説明する。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物が、光硬化性であるときには、その組成物は活性エネルギー線硬化性を有し、アルカリ現像可能なレジスト組成物であり、カーボンブラック、顔料分散剤、顔料誘導体、エポキシ樹脂、特定の多官能チオール化合物、及び有機溶剤から主として構成され、硫酸バリウム、前記樹脂として光重合性化合物を含み、さらにアルカリ可溶性樹脂を含み得るものである。
カーボンブラック、顔料分散剤、顔料誘導体、光重合性化合物以外の樹脂、硫酸バリウム及び有機溶剤の種類や配合量としては、上記のブラックマトリックス用顔料分散組成物の説明の通りに使用する。
本発明のブラックマトリックス用組成物に使用する光重合性化合物としては、光重合性不飽和結合を分子内に1個以上有する単量体、オリゴマー、光重合性樹脂等を使用する。なお、上記ブラックマトリックス用顔料分散組成物においても、下記の光重合性化合物を配合し得る。光重合性不飽和結合を有する単量体、オリゴマー等とは、後述する光重合開始剤が、紫外線や電子線等の活性エネルギー線により分解した際に発生するラジカルやカチオンの作用により、重合して樹脂化できる不飽和結合を有するものである。
光重合性化合物として、光重合性不飽和結合を分子内に1個有するモノマーとしては、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート等のアルキルメタクリレート又はアクリレート;ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート等のアラルキルメタクリレート又はアクリレート;ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート又はアクリレート;N,N-ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート等のアミノアルキルメタクリレート又はアクリレート;ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリアルキレングリコールアルキルエーテルのメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル;ヘキサエチレングリコールフェニルエーテル等のポリアルキレングリコールアリールエーテルのメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル;イソボルニルメタクリレート又はアクリレート;グリセロールメタクリレート又はアクリレート;2-ヒドロキシエチルメタクリレート又はアクリレート等が挙げられる。
光重合性化合物としての光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有するモノマーとしては、ビスフェノールAジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレートの混合物、ビスフェノールAジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。これらの単量体は、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、光重合性化合物を重合して得られたオリゴマーを使用することができる。
光重合性化合物としての光重合性樹脂としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性の置換基を有する線状高分子にイソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等を介して、(メタ)アクリル化合物、ケイヒ酸等の光架橋性基を導入した樹脂が用いられる。スチレン-無水マレイン酸共重合物やα-オレフィン-無水マレイン酸共重合物等の酸無水物を含む線状高分子をヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリル化合物によりハーフエステル化した重合物も用いられる。
これらの樹脂を形成することができる光重合性化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。本発明において、光重合性化合物の使用量は、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物中の全固形分に対して質量分率で、好ましくは3~50質量%の範囲である。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物に使用する光重合開始剤としては、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射されることにより、ラジカルやカチオンを発生することのできるものであれば特に限定されず、例えば、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)、ベンゾフェノン、N,N’-テトラエチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α-ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、2,3-ジクロロアントラキノン、3-クロル-2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、1,4-ナフトキノン、1,2-ベンゾアントラキノン、1,4-ジメチルアントラキノン、2-フェニルアントラキノン、2-メチル-1[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン等のベンゾフェノン系、チオキサントン系、アントラキノン系、トリアジン系等の光重合開始剤等が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。
本発明において、上記光重合開始剤の含有量は、上記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物中の全固形分に対して質量分率で、好ましくは1~20質量%の範囲である。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物にアルカリ可溶性樹脂を配合しても良い。
このときに配合できる樹脂としては、上記のブラックマトリックス用顔料分散組成物にて記載した樹脂を使用できる。
なかでもカルド樹脂を使用することが好ましい。
ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の固形分中のアルカリ可溶性樹脂の配合量は、好ましくは7.0質量%上、より好ましくは9.0質量%以上、さらに好ましくは11.0質量%以上であり、また好ましくは25.0質量%以下、22.0質量%以下、より好ましくは20.0質量%以下である。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、それが光硬化性であるとき、必要に応じてレベリング剤、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜使用することができる。
ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物が光硬化性でないときは、上記のB.ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物が光硬化性であるときにおいて使用した光重合性化合物や光重合開始剤を含有せず、必要に応じてさらに上記のブラックマトリックス用顔料分散組成物の組成の説明にて示した光重合性化合物以外の樹脂を配合する。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、それが光硬化性でないとき、必要に応じて、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜使用することができる。
以上の材料を用いてブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を製造する方法を説明する。ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、それが光重合性のとき、上記で得たブラックマトリックス用顔料分散組成物に対して、さらに光重合性化合物、光重合開始剤、必要に応じてアルカリ可溶性樹脂、硫酸バリウム、有機溶剤、その他の添加剤を加えて本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を得る。
またそれが光重合性でないとき、さらに、アルカリ可溶性樹脂、硫酸バリウム、有機溶剤、その他の添加剤等を加えて本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を得ることができる。上記の製造方法においても同様である。
また、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物を使用して、ブラックマトリックスを製造する方法としては、それに必要な装置を含め、該顔料分散組成物以外の構成として公知の手段を採用して製造することができる。
(カーボンブラック)
Printex35(オリオン・エンジニアドカーボン社)
アクリル系分散剤:ABAトリブロック共重合体
BMA/MMA//b-PMPMA//b-BMA/MMA=(24/17)//18//(24/17)
(BMA:ブチルメタクリレート、MMA:メチルメタクリレート、PMPMA:ペンタメチルピペリジニルメタクリレート)
製造方法
脱気したガラス製装置にMMAを17g、BMAを24g、THFを1L投入し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液を4.5mmol投入した(ここでMMAとBMAのランダム共重合体部分が合成される)。
次いで-78℃まで冷却し、2時間撹拌した。次いで、PMPMAを33g投入して2時間撹拌し、MMAとBMAのランダム共重合体部分に結合したPMPMAのブロック部分を合成した。
さらにMMAを17g、BMAを24g投入して、ABA型のトリブロック共重合体を合成し、2時間撹拌後反応を停止した。
大量のメタノールに合成終了した溶液を滴下し、沈殿させる。ろ紙にて分散剤を採取し、メタノールで数回洗浄し、60℃で減圧乾燥してアクリル系分散剤を得た。
BYK-2100(ビックケミー社)
EPPN-502H(日本触媒社)下記式1のもの
カレンズPE-1(4官能チオール)(ペンタエリスリトール テトラキス(3-メルカプトブチレート))(昭和電工社)
カレンズBD-1(2官能チオール)(1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン)(昭和電工社)
BMPA(単官能チオール)(β-メルカプトプロピオン酸)(SC有機化学社)
KR-518(メルカプト当量800G/molのメルカプト基含有シロキサンオリゴマー)(信越化学工業社)
PM :プロピレングリコールモノメチルエーテル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
<光重合開始剤>
イルガキュアOXE02(BASF社)
<光重合性化合物>
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート)(東亞合成社)
<カルド樹脂>
WR-301(重量平均分子量5700、酸価100mgKOH/g)(ADEKA社)
<レベリング剤>
メガファックF-554(DIC社)
<溶剤2>
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
表1に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物について、それぞれガラス瓶に採り、密栓して、5℃および60℃で1週間保存後にE型粘度計(東機産業社製、R100型粘度計 型式RE100L)で25℃における粘度を測定し、以下の計算式によって増粘率を算出した。
増粘率=60℃1週間後粘度/5℃1週間後粘度
チオール化合物の配合量が多い場合及び分子量が高い場合には、増粘率が高くなり、保存安定性に劣ることがわかる。
(表面抵抗)
実施例および比較例の各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を、スピンコーターにて膜厚1μmとなるようにガラス基板上(コーニング1737)に塗布した。これを100℃で3分間プレベークした後、高圧水銀灯で露光し、更に230℃で3時間ポストベークを行い、ベタ部のみで形成されたブラックレジストパターンを得た。得らえた各ベタ部のブラックレジストパターンの表面抵抗値をアドバンテスト社製、本体:微小電流計 R8340、オプション:シールドボックス R12702Aで測定した。
実施例及び比較例のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物をスピンコーターにて膜厚1μmとなるようにガラス基板(コーニング1737)上に塗布した。
100℃で3分間プレベークした後、高圧水銀灯で露光し、更に230℃で30分間ポストベークを行い、ベタ部のみで形成されたブラックレジストパターンを得た。得られた基板に一定の量のシール剤を介して、直径5mmのアルミピンを貼り合わせた。その後、アルミピンを貼り合わせたガラス基板を150℃で1時間のポストベークを実施し、試験片を作成した。そして、上記で得られた試験片を引っ張り試験機を用いて10mm/minの速度で引っ張り、アルミピンが試験片から剥離した際の最大応力(N)を測定し、シール剤塗布面積で割り、単位面積当たりの強度をシール強度(N/mm2)とした。
実施例および比較例のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物をスピンコータにて膜厚1μmになるようにガラス基板上に塗布し、100℃で3分間プレベークした後、硬化部分と未硬化部分の面積比が20:80となる線幅25μmの格子状のパターンが得られるマスクを用いて、高圧水銀灯を用い、UV積算光量400mJ/cm2で露光した。得られた塗膜を0.05%水酸化カリウム水溶液を使用して現像し、パターンが形成されたガラス基板を顕微鏡で観察し、未硬化部分のレジスト組成物の除去状態により評価した。
○:完全に除去されている状態
△:除去が不十分で残渣が付着している状態
×:残渣が多い状態
実施例および比較例の各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物をスピンコーターにて膜厚1μmとなるようにガラス基板(コーニング1737)上に塗布し、100℃で3分間プレベークした。その後、1μm、3μm、5μm、7μm、10μm、20μm、30μmのラインパターンを有するフォトマスクを用いて、高圧水銀灯を用い、UV積算光量400mJ/cm2で露光した。23℃、0.05%水酸化カリウム水溶液中、0.5kgf/cm2のシャワー現像圧にて現像パターンが現れ始める時間(ブレイクポイント)から+20秒間現像を行い、3.0kgf/cm2圧のスプレー水洗を行った。基板上に残存する最小パターンのサイズを測定した。
これに対してチオール化合物を含有しない比較例1によればシール強度と細線密着性に劣っていた。またチオール化合物の含有量が多すぎる比較例2によれば、現像残渣が多かった。単官能チオールを含有する比較例3によれば、表面抵抗が小さく、シール強度が低く、現像残渣が多く細線密着性に劣っていた。メルカプト基含有シロキサンオリゴマーを使用した比較例4によれば現像残渣が多かった。
Claims (6)
- カーボンブラック、顔料分散剤、顔料誘導体、有機溶剤を含有するブラックマトリックス用顔料分散組成物であって、
エポキシ樹脂、及びシロキサン結合を有しない多官能チオール化合物を含有し、
前記多官能チオール化合物の含有量が組成物中0.1~2.4質量%であり、
前記エポキシ樹脂が、芳香環を有し、かつエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂であり、
前記顔料分散剤が、ペンタメチルピペリジニルメタクリレート及び/又はジメチルアミノプロピルアクリレートのブロックと、他の重合可能なエチレン性不飽和単量体からなるブロックからなる構造を有する、ブラックマトリックス用顔料分散組成物。 - カーボンブラック、顔料分散剤、顔料誘導体、有機溶剤を含有するブラックマトリックス用顔料分散組成物であって、
エポキシ樹脂、及びシロキサン結合を有しない多官能チオール化合物を含有し、
前記多官能チオール化合物の含有量が組成物中0.1~2.4質量%であり、
前記エポキシ樹脂が、芳香環を有し、かつエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂であり、
前記エポキシ樹脂が、下記式1~7から選ばれる少なくとも1種である、ブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 顔料分散剤がペンタメチルピペリジニルメタクリレート及び/又はジメチルアミノプロピルアクリレートのブロックと、他の重合可能なエチレン性不飽和単量体からなるブロックからなる構造を有する請求項2に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 多官能チオール化合物の分子量が200~1000である請求項1~3のいずれかに記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- エポキシ樹脂が、下記式1~7から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 請求項1~5のいずれかに記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物を含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019159134A JP7354496B2 (ja) | 2019-08-30 | 2019-08-30 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、及び、それを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
CN202010848589.6A CN112442302B (zh) | 2019-08-30 | 2020-08-21 | 黑色矩阵用颜料分散组合物及含有其的黑色矩阵用颜料分散抗蚀剂组合物 |
KR1020200105850A KR20210027114A (ko) | 2019-08-30 | 2020-08-24 | 블랙 매트릭스용 안료 분산 조성물 및 이를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 |
TW109128957A TW202116850A (zh) | 2019-08-30 | 2020-08-25 | 黑色矩陣用顔料分散組成物及含有其的黑色矩陣用顔料分散抗蝕劑組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019159134A JP7354496B2 (ja) | 2019-08-30 | 2019-08-30 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、及び、それを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021038289A JP2021038289A (ja) | 2021-03-11 |
JP7354496B2 true JP7354496B2 (ja) | 2023-10-03 |
Family
ID=74733447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019159134A Active JP7354496B2 (ja) | 2019-08-30 | 2019-08-30 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、及び、それを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7354496B2 (ja) |
KR (1) | KR20210027114A (ja) |
CN (1) | CN112442302B (ja) |
TW (1) | TW202116850A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022189243A (ja) | 2021-06-11 | 2022-12-22 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及びブラックレジスト膜 |
JP2023088498A (ja) | 2021-12-15 | 2023-06-27 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びその製造方法、ブラックマトリックス用レジスト組成物、並びにブラックレジスト膜 |
WO2023245625A1 (zh) * | 2022-06-24 | 2023-12-28 | 深圳市邦得凌半导体材料有限公司 | 分散树脂及其制备方法和光阻剂组合物 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007137947A (ja) | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Nof Corp | 光硬化性樹脂組成物、およびこれを用いた液晶表示素子または固体撮像素子用の部材 |
JP2010235739A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性黒色組成物 |
JP2015084086A (ja) | 2013-09-20 | 2015-04-30 | 三菱化学株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを硬化させてなる硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置 |
JP2015126663A (ja) | 2013-12-27 | 2015-07-06 | 日東工業株式会社 | 電気機器収納用箱のポール取付構造 |
JP2016071245A (ja) | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、並びに、タッチパネル表示装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3641897B2 (ja) * | 1997-04-08 | 2005-04-27 | 三菱化学株式会社 | カラーフィルター用光重合性組成物及びカラーフィルター |
JPH11323144A (ja) * | 1998-05-12 | 1999-11-26 | Mitsubishi Chemical Corp | 遮光性感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター |
JP2004198542A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Showa Denko Kk | カラーフィルターブラックマトリックスレジスト組成物及びその組成物に用いる感光性組成物 |
JP4286582B2 (ja) * | 2003-05-15 | 2009-07-01 | 大日本印刷株式会社 | 硬化性着色組成物用顔料分散液、硬化性着色組成物、及び、カラーフィルター |
CN100487500C (zh) * | 2005-11-30 | 2009-05-13 | 东洋油墨制造株式会社 | 黑色组合物及其制造方法 |
JP5072383B2 (ja) * | 2007-02-15 | 2012-11-14 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルター用インクジェットインク及びその製造方法、カラーフィルターの製造方法、並びに液晶表示装置の製造方法 |
JP2010174151A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Fujifilm Corp | 顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び固体撮像素子 |
KR102210576B1 (ko) * | 2013-09-25 | 2021-02-01 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액 |
JP6307164B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2018-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、顔料分散液の製造方法、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および組成物 |
JP6543453B2 (ja) * | 2014-10-14 | 2019-07-10 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物 |
JP6834591B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2021-02-24 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性着色組成物およびカラーフィルタ |
-
2019
- 2019-08-30 JP JP2019159134A patent/JP7354496B2/ja active Active
-
2020
- 2020-08-21 CN CN202010848589.6A patent/CN112442302B/zh active Active
- 2020-08-24 KR KR1020200105850A patent/KR20210027114A/ko unknown
- 2020-08-25 TW TW109128957A patent/TW202116850A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007137947A (ja) | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Nof Corp | 光硬化性樹脂組成物、およびこれを用いた液晶表示素子または固体撮像素子用の部材 |
JP2010235739A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性黒色組成物 |
JP2015084086A (ja) | 2013-09-20 | 2015-04-30 | 三菱化学株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを硬化させてなる硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置 |
JP2015126663A (ja) | 2013-12-27 | 2015-07-06 | 日東工業株式会社 | 電気機器収納用箱のポール取付構造 |
JP2016071245A (ja) | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、並びに、タッチパネル表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112442302B (zh) | 2023-11-10 |
JP2021038289A (ja) | 2021-03-11 |
KR20210027114A (ko) | 2021-03-10 |
TW202116850A (zh) | 2021-05-01 |
CN112442302A (zh) | 2021-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5281412B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物およびそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 | |
JP7354496B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、及び、それを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 | |
JP6960304B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 | |
JP6543453B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物 | |
JP6113466B2 (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 | |
CN114644860A (zh) | 黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵 | |
CN112011193B (zh) | 彩色滤光片用颜料分散组合物及彩色滤光片用颜料分散抗蚀剂组合物 | |
JP2021173971A (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
KR20080064120A (ko) | 활성 에너지선 경화형 조성물 | |
JP2018101039A (ja) | カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ | |
JP7495272B2 (ja) | ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
TWI842900B (zh) | 彩色濾光片用顏料分散組成物及彩色濾光片用顏料分散抗蝕劑組成物 | |
JP7025939B2 (ja) | カラーフィルター用顔料分散組成物及びカラーフィルター用レジスト組成物 | |
CN114539847A (zh) | 黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵 | |
JP2021173970A (ja) | ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
JP2021173972A (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
CN114539848A (zh) | 黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵 | |
JP2023130910A (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス | |
CN114967327A (zh) | 黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵 | |
JP2022083711A (ja) | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220617 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230405 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230516 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20230612 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20230627 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230627 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230822 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230828 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7354496 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |