KR102351764B1 - 반도체 장치 - Google Patents
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- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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Abstract
탑재면(3b), 방열면(3a), 측면(3c) 및 맞물림부(3d, 3e, 3f, 3g)를 갖는 히트 싱크(3)와, 상기 히트 싱크의 탑재면에 탑재되어 있는 반도체 칩(4)과, 상기 히트 싱크의 맞물림부에 맞물려 있는 리드 프레임(9)과, 상기 히트 싱크, 상기 반도체 칩 및 상기 리드 프레임을 밀봉하고 있는 몰드 수지(7)를 구비하고, 상기 히트 싱크의 맞물림부는 상기 히트 싱크의 탑재면을 피한 장소에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치(100)가 제공된다. 상기 히트 싱크의 맞물림부는, 상기 히트 싱크의 방열면에 형성되어 있는 다월(3g)로 이루어지는 것이다. 또한, 상기 히트 싱크의 맞물림부는, 상기 히트 싱크의 측면에 형성되어 있는 다월(3f)로 이루어지는 것이다.
Description
본 출원은 반도체 장치에 관한 것이며, 특히 리드 프레임과 히트 싱크를 구비하고 있는 반도체 장치의 구조에 관한 것이다.
휴대 전화용 기지국은 무선 통신의 디바이스 시장을 대표하고 있다. 이 무선 통신의 디바이스 시장에서는 현재는 Si 디바이스나 GaAs 디바이스가 주류이다. 고출력화가 지향되고 있는 분야에서는, 반도체 디바이스에는, 통신 용량의 증대에 의한 광대역화나 소형화가 요구되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1을 참조). 이 때문에, 고출력화가 지향되는 분야에 있어서는, GaN 디바이스가 계속 주류가 되고 있는 한편, 반도체 디바이스의 저비용화에 대한 요구는 어렵다.
GaN 디바이스에 있어서도, 리드 프레임이 몰드 수지로 밀봉된, 저비용인 몰드 패키지 구조의 검토가 진행되고 있다. 몰드 패키지 구조에 있어서, 반도체 칩의 방열성을 확보하기 위해서, 구리나 구리 합금계의 히트 싱크를 가진 리드 프레임이 사용되고 있다. 예를 들면, 히트 싱크의 상면에 마련한 다월과 리드 프레임을 코킹에 의해 고정하고 있는 반도체 장치가 개발되고 있다. 이 반도체 장치에서는, 히트 싱크의 상면에 부품 실장을 할 수 없는 영역이 존재하기 때문에, 패키지의 소형화가 저해되고 있다.
방열 기판(히트 싱크)의 양단에, 상변이 길고 하변이 짧은 사다리꼴 볼록부를 갖는 구조가 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 2를 참조). 리드 보지체의 하부에는, 상기의 사다리꼴 볼록부와 일치하는 홈형 오목부가 마련되어 있다. 볼록부와 오목부는 끼워맞추어져 있다. 본 구조에서는, 히트 싱크의 양단에 끼워맞춤에 사용하는 영역이 존재하기 때문에, 히트 싱크의 상면에 부품 실장을 할 수 없는 영역이 생긴다. 이 구조의 반도체 장치는 패키지의 소형화를 실현하기에는 적합하지 않다.
또한, 탑재 부재의 하면으로부터 상면에 관통하도록 마련된 장착용 구멍에 리드를 상방향으로부터 삽입하는 구조가 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 3을 참조). 본 구조는, 탑재 부재에 장착용 구멍이 마련되어 있다. 그 구멍에 리드를 삽입하기 때문에, 탑재 부재의 상면에는 부품 실장을 할 수 없는 영역이 생긴다. 이 때문에, 이 반도체 장치도 패키지의 소형화를 실현하기에는 적합하지 않다.
이상 설명한 바와 같이, 히트 싱크의 상면에 마련한 다월과 리드 프레임을 코킹에 의해 고정하는 반도체 장치에서는, 히트 싱크의 상면에 부품 실장을 할 수 없는 영역이 생기므로, 패키지의 소형화가 저해되고 있었다. 본 출원은, 히트 싱크의 상면 전체 영역에 부품 실장이 가능한 리드 프레임 구조 및 반도체 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
본원의 명세서에 개시되는 반도체 장치는, 탑재면, 방열면, 측면 및 맞물림부를 갖는 히트 싱크와, 상기 히트 싱크의 탑재면에 탑재되어 있는 반도체 칩과, 상기 히트 싱크의 맞물림부에 맞물려 있는 리드 프레임과, 상기 히트 싱크, 상기 반도체 칩 및 상기 리드 프레임을 밀봉하고 있는 몰드 수지를 구비하고, 상기 히트 싱크의 맞물림부는 상기 히트 싱크의 탑재면을 피한 장소에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 것이다.
본원의 명세서에 개시되는 반도체 장치는 탑재면, 방열면, 측면 및 맞물림부를 갖는 히트 싱크와, 상기 히트 싱크의 탑재면에 탑재되어 있는 반도체 칩과, 상기 히트 싱크의 맞물림부에 맞물려 있는 리드 프레임과, 상기 히트 싱크, 상기 반도체 칩 및 상기 리드 프레임을 밀봉하고 있는 몰드 수지를 구비하고, 상기 히트 싱크의 맞물림부는 상기 히트 싱크의 탑재면을 피한 장소에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 것에 의해, 히트 싱크의 상면 전체 영역에 부품 실장이 가능한 리드 프레임 구조 및 반도체 장치를 제공하는 것이 가능하다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치의 외관 구조를 설명하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치의 전극 단자의 구조를 설명하는 도면이다.
도 3은 실시형태 1에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 4는 실시형태 1에 따른 반도체 장치에 있어서의 히트 싱크의 구조를 설명하는 도면이다.
도 5는 실시형태 1에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 6은 실시형태 2에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 7은 실시형태 3에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 8은 실시형태 4에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치의 전극 단자의 구조를 설명하는 도면이다.
도 3은 실시형태 1에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 4는 실시형태 1에 따른 반도체 장치에 있어서의 히트 싱크의 구조를 설명하는 도면이다.
도 5는 실시형태 1에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 6은 실시형태 2에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 7은 실시형태 3에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
도 8은 실시형태 4에 따른 반도체 장치에 있어서의 리드 프레임의 구조를 설명하는 도면이다.
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치에 대해서, 도면을 참조하면서 이하에 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서, 동일 또는 마찬가지의 구성 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하고 있으며, 대응하는 각 구성부의 사이즈나 축척은 각각 독립되어 있다. 예를 들면 구성의 일부를 변경한 단면도의 사이에서, 변경되어 있지 않은 동일 구성 부분을 도시할 때에, 동일 구성 부분의 사이즈나 축척이 상이한 경우도 있다. 또한, 반도체 장치는 실제로는 추가로 복수의 부재를 구비하고 있지만, 설명을 간단하게 하기 위해, 설명에 필요한 부분만을 기재하고, 다른 부분에 대해서는 생략하고 있다.
실시형태 1
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치의 구조를 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1은 실시형태에 따른 반도체 장치의 외관을 도시하고 있는 모식도이다. 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는 드레인 전극 단자(1), 게이트 전극 단자(2), 히트 싱크(3), 몰드 수지(7), 리드 프레임(9) 등으로 구성되어 있다. 히트 싱크(3)에는, 반도체 칩과 회로 기판이 탑재되어 있다. 반도체 칩은 드레인 전극, 게이트 전극, 소스 전극을 구비하고 있다. 반도체 칩, 회로 기판, 리드 프레임(9) 및 히트 싱크(3)는 몰드 수지(7)에 의해서 밀봉되어 있다.
히트 싱크(3)는 방열면(이면)과 탑재면(상면)과 측면을 갖고 있다. 반도체 칩과 회로 기판은 히트 싱크(3)의 탑재면에 탑재되어 있다. 반도체 칩과 회로 기판으로부터 방출된 열은 히트 싱크(3)의 방열면으로부터 외부로 방사된다. 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)에서는, 히트 싱크(3)는 소스 전극 단자를 겸하고 있다. 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는, 주파수 1㎓ 이상, 1W 이상의 전력을 출력하는데 적합하다. 히트 싱크(3)는 200㎽/K 이상의 열전도율을 갖고 있다.
히트 싱크(3)의 이면(방열면)에는, 리드컷되어 있는 리드 프레임(9a, 9b)이 고정되어 있다. 반도체 장치(패키지)는 리드 프레임(9a, 9b)을 리드컷하는 것에 의해, 개별 편으로 분리되어 있다. 동일 도면에 있어서, 드레인 전극 단자(1)로부터 게이트 전극 단자(2)를 향하는 방향을 X방향이라 하기로 한다. 또한, 히트 싱크(3)의 방열면(이면 또는 바닥면)으로부터 히트 싱크(3)의 탑재면(상면)을 향하는 방향을 Z방향이라 하기로 한다. 또한, 리드 프레임(9a)으로부터 리드 프레임(9b)을 향하는 방향을 Y방향이라 하기로 한다.
도 2는 본 실시형태에 따른 반도체 장치(100)의 구조를 도시하는 단면도이다. 히트 싱크(3)는 방열면(3a), 탑재면(3b), 측면(3c)을 갖고 있다. 히트 싱크(3)에는, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)이 Ag 페이스트 수지, 땜납, 소결 Ag 등의 다이 본드재(8)로 실장되어 있다. Si 디바이스, GaAs 디바이스, GaN 디바이스 등의 반도체 칩(4)은 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에 배치되어 있다. 드레인 전극 단자(1)는 반도체 칩(4)의 드레인 전극과, 본딩 와이어(6)로 접속되어 있다.
게이트 전극 단자(2)는 반도체 칩(4)의 게이트 전극과, 본딩 와이어(6)로 접속되어 있다. 히트 싱크(3)는 반도체 칩(4)의 소스 전극과 접속되어 있다. 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)은 Au, Ag, Al 등의 본딩 와이어(6)로 결선된 후, 몰드 수지(7)로 밀봉되어 있다. 히트 싱크(3)의 이면(방열면)은 개방되어 있으며, 몰드 수지로부터 노출되어 있다.
도 3은 본 실시형태에 따른 히트 싱크(3)의 구조를 도시하는 사시도이다. 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에는, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)이 Ag 페이스트 수지, 땜납, 소결 Ag 등의 다이 본드재(8)로 고정되어 있다. 리드 프레임(9)은 2단자 이상의 리드를 갖고 있다. 히트 싱크(3)의 이면(방열면)에는, 리드 프레임(9a, 9b)이 고정되어 있다. 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)은, 본딩 와이어(6)로 드레인 전극 단자(1)와 게이트 전극 단자(2)에 배선되어 있다.
반도체 장치(100)를 이물이나, 외력 등으로부터 보호하기 위해서, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)은 몰드 수지(7)로 밀봉된다. 동일 도면에서는, 리드 프레임(9a, 9b)은 리드컷되어 있다. 리드 프레임(9)에 리드컷을 실시하는 것에 의해, 반도체 장치(패키지)를 개별 편으로 분리한다. 드레인 전극 단자(1)와 게이트 전극 단자(2)를 연결하는 방향(X방향)은, 리드 프레임(9a)과 리드 프레임(9b)을 연결하는 방향(Y방향)과 직교하고 있다.
도 4는 본 실시형태에 있어서의 반도체 장치(100)의 구조를 도시하는 단면 모식도이다. 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에는, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)이 Ag 페이스트 수지, 땜납, 소결 Ag 등의 다이 본드재(8)로 고정되어 있다. 리드 프레임(9)은 2단자 이상의 리드를 갖고 있다. 히트 싱크(3)는 이면(방열면)측에 다월(3g)을 갖고 있다. 히트 싱크(3)의 방열면에 형성되어 있는 다월(3g)과 리드 프레임(9a, 9b)을 코킹하는 것에 의해, 리드 프레임(9)과 히트 싱크(3)를 고정하고 있다. 몰드 수지(7)는 반도체 장치(100)를 이물이나, 외력 등으로부터 보호하기 위해서, 반도체 칩(4)이나 회로 기판(5)을 밀봉하고 있다. 리드 프레임(9a, 9b)을 리드컷하는 것에 의해, 반도체 장치(패키지)는 개별 편으로 분리된다.
도 5는 본 실시형태에 있어서의 히트 싱크(3)의 구조를 도시하는 모식도이다. 동일 도면은 히트 싱크(3)의 이측의 형상을 도시하고 있다. 히트 싱크(3)는, 이면(방열면)에 맞물림부가 되는 다월(3g1)과 다월(3g2)이 형성되어 있다. 리드 프레임(9a) 및 리드 프레임(9b)에는, 다월(3g)과 맞물리는 맞물림 구멍(9x)이 개구되어 있다. 다월(3g1)에는, 리드 프레임(9a)의 맞물림 구멍(9x)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다. 다월(3g2)에는, 리드 프레임(9b)의 맞물림 구멍(9x)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다. 히트 싱크(3)의 다월(3g)과 리드 프레임(9)을 코킹하는 것에 의해, 리드 프레임(9)과 히트 싱크(3)를 고정하고 있다. 히트 싱크(3)의 표면(탑재면)에는, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)이 실장되어 있다.
히트 싱크(3)와 리드 프레임(9)을 고정하기 위해서, 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에 다월과 코킹이 존재하는 구조에서는, 부품 실장에 사용할 수 없는 영역이 생긴다. 본 실시형태에 따른 반도체 장치에서는, 히트 싱크의 상면(탑재면)에 다월이나 코킹이 존재하지 않는다. 히트 싱크의 상면을 모두 부품 실장에 사용 가능하므로, 패키지(반도체 장치)의 소형화가 가능해진다. 즉, 본 실시형태에 따른 반도체 장치는, 히트 싱크의 상면(탑재면)을 모두 부품 실장에 사용 가능하기 때문에, 종래에 비해, 패키지(반도체 장치)의 소형화를 실현할 수 있다.
본 실시형태에 따른 반도체 장치는, 주파수 1㎓ 이상, 1W 이상의 전력을 출력하는 반도체 장치에 있어서, 200㎽/K 이상의 열전도율을 갖는 히트 싱크를 가지며, 2단자 이상의 리드를 갖는 리드 프레임에서, 히트 싱크의 측면에 마련한 홈에 리드 프레임을 끼워넣는 것에 의해 리드 프레임과 히트 싱크를 고정하는 것을 특징으로 하고, 히트 싱크 상면에 Si 디바이스, GaAs 디바이스, GaN 디바이스를 Ag 페이스트 수지, 땜납, 소결 Ag 등의 다이 본드재로 실장하고, Au, Ag, Al 등의 본딩 와이어로 결선 후, 몰드 수지로 밀봉한 반도체 장치이다.
즉, 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는 탑재면, 방열면, 측면 및 맞물림부를 갖는 히트 싱크와, 상기 히트 싱크의 탑재면에 탑재되어 있는 반도체 칩과, 상기 히트 싱크의 맞물림부에 맞물려 있는 리드 프레임과, 상기 히트 싱크, 상기 반도체 칩 및 상기 리드 프레임을 밀봉하고 있는 몰드 수지를 구비하고, 상기 히트 싱크의 맞물림부는 상기 히트 싱크의 탑재면을 피한 장소에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 것이다.
실시형태 2
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는 드레인 전극 단자(1), 게이트 전극 단자(2), 히트 싱크(3), 몰드 수지(7), 리드 프레임(9) 등으로 구성되어 있다. 히트 싱크(3)에는, 반도체 칩과 회로 기판이 탑재되어 있다. 반도체 칩은 드레인 전극, 게이트 전극, 소스 전극을 구비하고 있다. 반도체 칩, 회로 기판, 리드 프레임(9) 및 히트 싱크(3)는 몰드 수지(7)에 의해 밀봉되어 있다. 히트 싱크(3)는 소스 전극 단자를 겸하고 있다.
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는, 주파수 1㎓ 이상, 1W 이상의 전력을 출력하는데 적합하다. 히트 싱크(3)는 200㎽/K 이상의 열전도율을 갖고 있다. 히트 싱크(3)는 방열면(이면), 탑재면(상면), 측면을 갖고 있다. 히트 싱크(3)의 이면에는, 리드 프레임(9)이 고정되어 있다. 반도체 칩과 회로 기판은 히트 싱크(3)의 탑재면에 탑재되어 있다. 반도체 칩과 회로 기판으로부터 방출된 열은 히트 싱크(3)의 방열면으로부터 외부로 방사된다.
도 6은 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)의 구조를 도시하는 단면 모식도이다. 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에는, 반도체 칩(4)이나 회로 기판(5)이 Ag 페이스트 수지, 땜납, 소결 Ag 등의 다이 본드재(8)로 고정되어 있다. 리드 프레임(9)은 2단자 이상의 리드를 갖고 있다. 히트 싱크(3)는 측면에, 맞물림부가 되는 다월(3f)을 갖고 있다. 리드 프레임(9a) 및 리드 프레임(9b)에는, 다월(3f)과 맞물려 있는 맞물림 구멍(9x)이 개구되어 있다. 좌측의 다월(3f)에는 리드 프레임(9a)의 맞물림 구멍(9x)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다. 우측의 다월(3f)에는 리드 프레임(9b)의 맞물림 구멍(9x)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다.
히트 싱크(3)의 다월(3f)과 리드 프레임(9a, 9b)을 코킹하는 것에 의해, 리드 프레임(9)과 히트 싱크(3)를 고정하고 있다. 본 발명의 실시형태에 따른 몰드 수지(7)는 반도체 장치(100)를 이물이나, 외력 등으로부터 보호하기 위해서, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)을 밀봉하고 있다. 본 실시형태에 있어서의 반도체 장치(100)는, 히트 싱크의 측면에 마련한 다월에 리드 프레임을 코킹하는 것에 의해 리드 프레임과 히트 싱크를 고정하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치이다.
히트 싱크(3)와 리드 프레임(9)을 고정하기 위해서, 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에 다월과 코킹이 존재하는 구조에서는, 부품 실장에 사용할 수 없는 영역이 생긴다. 본 실시형태에 따른 반도체 장치에서는, 히트 싱크의 상면(탑재면)에 다월이나 코킹이 존재하지 않는다. 히트 싱크의 상면(탑재면)을 모두 부품 실장에 사용 가능하므로, 패키지(반도체 장치)의 소형화가 가능해진다. 즉, 본 실시형태에 따른 반도체 장치는, 히트 싱크의 상면을 모두 부품 실장에 사용 가능하기 때문에, 종래에 비해 패키지(반도체 장치)의 소형화를 실현할 수 있다.
실시형태 3
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는 드레인 전극 단자(1), 게이트 전극 단자(2), 히트 싱크(3), 몰드 수지(7), 리드 프레임(9) 등으로 구성되어 있다. 히트 싱크(3)에는, 반도체 칩과 회로 기판이 탑재되어 있다. 반도체 칩은 드레인 전극, 게이트 전극, 소스 전극을 구비하고 있다. 반도체 칩, 회로 기판, 리드 프레임(9) 및 히트 싱크(3)는 몰드 수지(7)에 의해서 밀봉되어 있다. 히트 싱크(3)는 소스 전극 단자를 겸하고 있다.
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는 주파수 1㎓ 이상, 1W 이상의 전력을 출력하는데 적합하다. 히트 싱크(3)는 200㎽/K 이상의 열전도율을 갖고 있다. 히트 싱크(3)는 방열면(이면), 탑재면(상면), 측면을 갖고 있다. 히트 싱크(3)의 이면에는, 리드 프레임(9)이 고정되어 있다. 반도체 칩과 회로 기판은 히트 싱크(3)의 탑재면에 탑재되어 있다. 반도체 칩과 회로 기판으로부터 방출된 열은 히트 싱크(3)의 방열면으로부터 외부로 방사된다.
도 7은 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)의 구조를 도시하는 단면 모식도이다. 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에는, 반도체 칩(4)이나 회로 기판(5)이 Ag 페이스트 수지, 땜납, 소결 Ag 등의 다이 본드재(8)로 고정되어 있다. 리드 프레임(9)은 2단자 이상의 리드를 갖고 있다. 히트 싱크(3)는, 이면에 맞물림부가 되는 홈(3e)을 갖고 있다. 홈(3e)은 히트 싱크(3)의 이면으로부터 상면을 향하여 종방향으로 형성되어 있으며, 히트 싱크의 상면을 관통하고 있지 않다.
히트 싱크(3)의 좌측의 홈(3e)에는 리드 프레임(9a)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다. 히트 싱크(3)의 우측의 홈(3e)에는 리드 프레임(9b)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다. 히트 싱크(3)의 홈(3e)에, 리드 프레임(9a) 및 리드 프레임(9b)을 끼워넣는 것에 의해, 리드 프레임(9)과 히트 싱크(3)를 고정하고 있다.
본 발명의 실시형태에 따른 몰드 수지(7)는, 반도체 장치(100)를 이물이나, 외력 등으로부터 보호하기 위해서, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)을 밀봉하고 있다. 따라서, 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는, 히트 싱크의 이면에 마련한 홈에 리드 프레임을 끼워넣는 것에 의해, 리드 프레임과 히트 싱크를 고정하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치이다. 또한, 본 발명의 실시형태에 따른 홈은 V자형상이어도 U자형상이어도 좋다.
히트 싱크(3)와 리드 프레임(9)을 고정하기 위해서, 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에 다월과 코킹이 존재하는 구조에서는, 부품 실장에 사용할 수 없는 영역이 생긴다. 본 실시형태에 따른 반도체 장치에서는, 히트 싱크의 상면(탑재면)에 다월이나 코킹이 존재하지 않는다. 히트 싱크의 상면을 모두 부품 실장에 사용 가능하므로, 패키지(반도체 장치)의 소형화가 가능해진다. 즉, 본 실시형태에 따른 반도체 장치는, 히트 싱크의 상면을 모두 부품 실장에 사용 가능하기 때문에, 종래에 비해, 패키지(반도체 장치)의 소형화를 실현할 수 있다.
실시형태 4
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는 드레인 전극 단자(1), 게이트 전극 단자(2), 히트 싱크(3), 몰드 수지(7), 리드 프레임(9) 등으로 구성되어 있다. 히트 싱크(3)에는, 반도체 칩과 회로 기판이 탑재되어 있다. 반도체 칩은 드레인 전극, 게이트 전극, 소스 전극을 구비하고 있다. 반도체 칩, 회로 기판, 리드 프레임(9) 및 히트 싱크(3)는 몰드 수지(7)에 의해 밀봉되어 있다. 히트 싱크(3)는 소스 전극 단자를 겸하고 있다.
본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)는 주파수 1㎓ 이상, 1W 이상의 전력을 출력하는데 적합하다. 히트 싱크(3)는 200㎽/K 이상의 열전도율을 갖고 있다. 히트 싱크(3)는 방열면(이면)과 탑재면(상면)과 측면을 갖고 있다. 히트 싱크(3)의 이면에는 리드 프레임(9)이 고정되어 있다. 반도체 칩과 회로 기판은 히트 싱크(3)의 탑재면에 탑재되어 있다. 반도체 칩과 회로 기판으로부터 방출된 열은 히트 싱크(3)의 방열면으로부터 외부로 방사된다.
도 8은 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치(100)의 구조를 도시하는 단면 모식도이다. 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에는 반도체 칩(4)이나 회로 기판(5)이 Ag 페이스트 수지, 땜납, 소결 Ag 등의 다이 본드재(8)로 고정되어 있다. 리드 프레임(9)은 2단자 이상의 리드를 갖고 있다. 히트 싱크(3)는, 측면에 맞물림부가 되는 홈(3d)을 갖고 있다. 홈(3d)은 히트 싱크(3)의 측면에 측면의 전체 길이에 걸쳐서 형성되어 있다.
히트 싱크(3)의 좌측의 홈(3d)에는 리드 프레임(9a)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다. 히트 싱크(3)의 우측의 홈(3d)에는 리드 프레임(9b)이 끼워맞춰지고, 맞물려 있다. 히트 싱크(3)의 홈(3d)에, 리드 프레임(9a)과 리드 프레임(9b)을 끼워넣는 것에 의해, 리드 프레임(9)과 히트 싱크(3)를 고정하고 있다.
본 발명의 실시형태에 따른 몰드 수지(7)는, 반도체 장치(100)를 이물이나, 외력 등으로부터 보호하기 위해서, 반도체 칩(4)과 회로 기판(5)을 밀봉하고 있다. 따라서, 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치는, 히트 싱크의 측면에 마련한 홈에 리드 프레임을 끼워넣는 것에 의해, 리드 프레임과 히트 싱크를 고정하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치이다. 또한, 본 발명의 실시형태에 따른 홈은 V자형상이어도 U자형상이어도 좋다.
히트 싱크(3)와 리드 프레임(9)을 고정하기 위해서, 히트 싱크(3)의 상면(탑재면)에 다월과 코킹이 존재하는 구조에서는, 부품 실장에 사용할 수 없는 영역이 생긴다. 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치에서는, 히트 싱크의 상면(탑재면)에 다월이나 코킹이 존재하지 않는다. 히트 싱크의 상면(탑재면)을 모두 부품 실장에 사용 가능하므로, 패키지(반도체 장치)의 소형화가 가능해진다. 즉, 본 발명의 실시형태에 따른 반도체 장치는, 히트 싱크의 상면을 모두 부품 실장에 사용 가능하기 때문에, 종래에 비해, 패키지(반도체 장치)의 소형화를 실현할 수 있다.
또한, 본원 명세서에 개시된 기술은 개시된 기술 사상의 범위 내에 있어서, 각 실시형태를 자유롭게 조합하거나, 각 실시형태를 적절히 변형, 생략하는 것이 가능하다.
1: 드레인 전극 단자 2: 게이트 전극 단자
3: 히트 싱크 3d: 홈
3e: 홈 3f: 다월
3g: 다월 4: 반도체 칩
5: 회로 기판 6: 본딩 와이어
7: 몰드 수지 8: 다이 본드재
9: 리드 프레임 9a: 리드 프레임
9b: 리드 프레임 100: 반도체 장치
3: 히트 싱크 3d: 홈
3e: 홈 3f: 다월
3g: 다월 4: 반도체 칩
5: 회로 기판 6: 본딩 와이어
7: 몰드 수지 8: 다이 본드재
9: 리드 프레임 9a: 리드 프레임
9b: 리드 프레임 100: 반도체 장치
Claims (10)
- 탑재면, 방열면, 측면, 제 1 맞물림부 및 제 2 맞물림부를 갖는 히트 싱크와,
상기 히트 싱크의 탑재면에 탑재되어 있는 반도체 칩과,
상기 히트 싱크의 제 1 맞물림부에 맞물려 있는 제 1 리드 프레임과,
상기 히트 싱크의 제 2 맞물림부에 맞물려 있는 제 2 리드 프레임과,
상기 히트 싱크, 상기 반도체 칩, 상기 제 1 리드 프레임 및 상기 제 2 리드 프레임을 밀봉하고 있는 몰드 수지와,
상기 반도체 칩의 드레인 전극과 본딩 와이어로 접속되어 있는 드레인 전극 단자와,
상기 반도체 칩의 게이트 전극과 본딩 와이어로 접속되어 있는 게이트 전극 단자를 구비하고,
상기 히트 싱크가 갖는 제 1 맞물림부 및 제 2 맞물림부는 상기 히트 싱크의 탑재면을 피한 장소에 배치되어 있고,
상기 제 1 리드 프레임과 상기 제 2 리드 프레임을 연결하는 방향과, 상기 드레인 전극 단자와 상기 게이트 전극 단자를 연결하는 방향은, 직교하고 있는 것을 특징으로 하는
반도체 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 히트 싱크가 갖는 제 1 맞물림부 및 제 2 맞물림부는, 상기 히트 싱크가 갖는 방열면에 형성되어 있는 다월로 이루어지는 것을 특징으로 하는
반도체 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 히트 싱크가 갖는 제 1 맞물림부 및 제 2 맞물림부는, 상기 히트 싱크가 갖는 측면에 형성되어 있는 다월로 이루어지는 것을 특징으로 하는
반도체 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 히트 싱크가 갖는 제 1 맞물림부 및 제 2 맞물림부는, 상기 히트 싱크가 갖는 방열면에 형성되어 있는 홈으로 이루어지는 것을 특징으로 하는
반도체 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 히트 싱크가 갖는 제 1 맞물림부 및 제 2 맞물림부는, 상기 히트 싱크가 갖는 측면에 형성되어 있는 홈으로 이루어지는 것을 특징으로 하는
반도체 장치. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 히트 싱크가 갖는 방열면은, 상기 몰드 수지로부터 드러나 있는 것을 특징으로 하는
반도체 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 반도체 칩은 소스 전극을 갖고 있으며,
상기 히트 싱크는, 상기 반도체 칩이 갖는 소스 전극과 접속되어 있는 것을 특징으로 하는
반도체 장치. - 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 히트 싱크의 탑재면에 탑재되어 있는 회로 기판을 추가로 구비하고 있으며,
상기 회로 기판은 상기 몰드 수지에 의해 밀봉되어 있는 것을 특징으로 하는
반도체 장치.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/046929 WO2019130474A1 (ja) | 2017-12-27 | 2017-12-27 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200087200A KR20200087200A (ko) | 2020-07-20 |
KR102351764B1 true KR102351764B1 (ko) | 2022-01-14 |
Family
ID=63165951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020207016680A KR102351764B1 (ko) | 2017-12-27 | 2017-12-27 | 반도체 장치 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11335619B2 (ko) |
JP (1) | JP6373545B1 (ko) |
KR (1) | KR102351764B1 (ko) |
CN (1) | CN111615747B (ko) |
DE (1) | DE112017008323T5 (ko) |
WO (1) | WO2019130474A1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2017-12-27 DE DE112017008323.0T patent/DE112017008323T5/de not_active Withdrawn
- 2017-12-27 JP JP2018527244A patent/JP6373545B1/ja active Active
- 2017-12-27 CN CN201780097906.1A patent/CN111615747B/zh active Active
- 2017-12-27 WO PCT/JP2017/046929 patent/WO2019130474A1/ja active Application Filing
- 2017-12-27 KR KR1020207016680A patent/KR102351764B1/ko active IP Right Grant
- 2017-12-27 US US16/756,450 patent/US11335619B2/en active Active
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CN111615747A (zh) | 2020-09-01 |
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CN111615747B (zh) | 2023-10-03 |
JPWO2019130474A1 (ja) | 2019-12-26 |
US20200258806A1 (en) | 2020-08-13 |
KR20200087200A (ko) | 2020-07-20 |
US11335619B2 (en) | 2022-05-17 |
DE112017008323T5 (de) | 2020-09-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |