KR101975278B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 도포 장치로서, 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 노즐과; 상기 피처리 기판을 진동판의 진동에 의한 초음파로 부상시키고, 상기 진동판에 형성되어 피처리 기판의 저면에 위치한 공기를 흡입하는 조절공을 구비한 부상 스테이지와; 상기 기판 처리 장치에 상기 피처리 기판이 로딩되면, 상기 피처리 기판의 일측 이상을 파지하여 상기 부상 스테이지 상에서 상기 피처리 기판이 부상된 상태로 이동시키는 파지 유닛을; 포함하여 구성되어, 피처리 기판의 저면 온도 변동에 따라 표면에 도포되는 약액의 미세 유동이 발생되는 현상을 억제함과 동시에, 피처리 기판의 미세 진동을 억제하고, 피처리 기판의 표면과 토출구 사이의 간격이 일정하게 유지되어 피처리 기판의 표면에 균일한 두께로 약액(PR)을 도포하여 도포 품질을 향상시키는 기판 처리 장치를 제공한다.

Description

기판 처리 장치 {SUBSTRATE TREATING APPARATUS}

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 피처리 기판을 부상시킨 상태로 약액을 피처리 기판의 표면에 도포하는 과정에서, 피처리 기판을 부상하는 공기 온도나 부상력에 의한 진동에 의하여 피처리 기판의 표면에 도포된 약액에 미세한 유동이 발생되어 얼룩이 남는 문제점을 해소할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

LCD 등 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 공정에서는 유리 등으로 제작된 피처리 기판의 표면에 레지스트액 등의 약액을 도포하는 코팅 공정이 수반된다. LCD의 크기가 작았던 종래에는 피처리 기판의 중앙부에 약액을 도포하면서 피처리 기판을 회전시키는 것에 의하여 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 스핀 코팅 방법이 사용되었다.

그러나, LCD 화면의 크기가 대형화됨에 따라 스핀 코팅 방식은 거의 사용되지 않으며, 피처리 기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 형태의 약액 노즐과 피처리 기판을 상대 이동시키면서 약액 노즐로부터 약액을 피처리 기판의 표면에 도포하는 방식의 코팅 방법이 사용되고 있다.

최근에는 정해진 시간에 보다 많은 수의 피처리 기판의 표면에 약액을 코팅하는 방법의 일환으로서, 일본 공개특허공보 제2005-243670호에는 기판이 반입되고 도포되며 반출되는 방향을 따라 에어를 분출하여 기판을 부상시키는 부상 스테이지가 설치되고, 그 양측에 흡착 패드 등으로 형성된 기판 배출 기구가 구비되어, 정지된 상태의 약액 노즐에 의해 연속적으로 공급되는 피처리 기판의 표면에 약액을 공급하여 코팅하는 기술이 개시되어 있다.

이와 같은 종래의 부상식 기판 처리 장치(1)는 도1에 도시된 바와 같이, 다수의 분사공(20a)과 흡입공(20b)이 형성된 부상 스테이지(20)상에서 피처리 기판(G)이 파지 유닛(40, 50)에 의하여 파지된 상태로 부상되고, 파지 유닛(40)이 피처리 기판(G)을 파지한 상태로 y축 방향으로 뻗은 경로(40L)를 따라 기판 공급 영역(AA)으로부터 도포 영역(CC)을 지나 기판 배출영역(EE)까지 이동하는 과정에서, 피처리 기판(G)이 약액 노즐(30)의 하측을 통과하는 도포 영역(CC)에서, 약액 공급 펌프(31)로부터 공급되어 약액 노즐(30)로부터 약액(PR)을 피처리 기판(G)의 표면에 토출하여 도포하도록 구성된다.

한편, 약액 노즐(30)은 한 쌍의 이송 기구(33)를 연결하는 크로스 바(32)에 위치 고정되어 상하로 이동 가능하게 설치되며, 한 쌍의 이송 기구(33)는 정해진 경로(30L)를 따라 33d로 표시된 방향으로 이동 가능하게 설치되어, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 도포하기에 앞서 부상 스테이지(20)의 바깥으로 이동하여 예비 토출 공정을 거치거나 토출구 주변의 립(lip) 부분을 세정하는 세정 공정을 거치게 된다.

도면 중 미설명 부호인 10은 부상 스테이지(20) 등을 지지하는 프레임이다.

상기와 같이 구성된 종래의 부상식 기판 처리 장치(1)는 도2에 도시된 바와 같이, 부상 스테이지(20)의 분사공(20b)으로부터 공기(21a)를 상측으로 분사하고, 동시에 피처리 기판(G)과 부상 스테이지(20) 사이의 공기의 일부(21b)를 흡입공(20b)을 통해 빨아들이면서, 분사되는 공기(21a)의 양과 흡입되는 공기(21b)의 양을 조절하면서 피처리 기판(G)의 부상 높이를 조절한다.

그러나, 피처리 기판(G)을 부상시키기 위하여 분사되는 공기(21a)의 온도가 피처리 기판(G)의 온도와 동일하지 않은 경우에는, 약액(PR)이 피처리 기판에 도포되는 동안에 피처리 기판(G)의 저면으로 유입되는 공기(21a)의 온도차에 의하여 도2의 'A'부분에서 미세한 유동이 발생되면서, 약액 노즐(30)로부터 균일한 두께로 약액(PR)이 피처리 기판(G)의 표면에 도포되더라도, 피처리 기판(G)의 표면에는 약액(PR)의 얼룩이 발생되는 문제가 있었다.

이 뿐만 아니라, 피처리 기판(G)이 공기층에 의하여 지지되면서 이송됨에 따라, 피처리 기판(G)의 폭 방향(x축 방향)으로의 높이 편차가 발생되거나, 약액 노즐(30)의 토출구 높이가 횡방향(x축 방향)으로 편차가 있는 경우에는, 피처리 기판(G)의 표면에 균일한 두께의 약액을 도포하는 것이 구조적으로 곤란한 문제도 안고 있었다.

따라서, 피처리 기판(G)을 부상 이동시키면서 약액(PR)을 도포하여 단위 시간당 처리 효율을 향상시키면서도, 피처리 기판의 표면에 균일한 두께로 약액(PR)을 도포할 수 있고, 피처리 기판(G)을 부상시키는 공기 온도에 의하여 약액(PR)에 미세 유동이 발생되면서 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있는 방안의 필요성이 절실히 대두되고 있다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위한 것으로, 단위 시간당 처리 효율이 높은 부상 형태로 피처리 기판을 이동시키면서 약액을 도포하면서도, 피처리 기판의 저면 공기층의 온도에 의하여 약액이 미세 유동하거나 부상력에 의한 피처리 기판의 미세 진동으로, 피처리 기판의 표면에 도포된 약액에 얼룩이 발생되는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 부상 이동하는 피처리 기판의 표면과 약액 노즐의 토출구 사이의 간격을 지속적으로 일정하게 유지함으로써, 피처리 기판의 표면에 균일한 두께로 약액(PR)을 도포할 수 있도록 하는 것을 다른 목적으로 한다.

이를 통해, 본 발명은 부상 형태로 피처리 기판을 이송하면서도 피처리 기판의 표면에 도포되는 약액의 두께를 균일하게 유지하여 도포 품질을 향상시키는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 도포 장치로서, 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 노즐과; 상기 피처리 기판을 진동판의 진동에 의한 초음파로 부상시키고, 상기 진동판에 형성되어 피처리 기판의 저면에 위치한 공기를 흡입하는 조절공을 구비한 부상 스테이지와; 상기 기판 처리 장치에 상기 피처리 기판이 로딩되면, 상기 피처리 기판의 일측 이상을 파지하여 상기 부상 스테이지 상에서 상기 피처리 기판이 부상된 상태로 이동시키는 파지 유닛을; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.

이는, 에어 부상 방식과 달리 초음파 방식에 의하여 피처리 기판에 부상력을 도입함으로써, 새로운 공기를 부상 스테이지와 피처리 기판의 사이에 유입시키지 않고, 부상 스테이지와 피처리 기판 사이에 머물고 있던 공기에 진동을 인가하여 피처리 기판을 부상시켜, 피처리 기판의 표면에 도포된 약액이 피처리 기판의 저면의 공기층의 온도 변화에 의하여 미세 유동이 발생되어, 약액에 얼룩이 발생되는 것을 방지하기 위함이다.

이 뿐만 아니라, 피처리 기판이 초음파 부상력에 의하여 부상되고 있는 동안에 발생되는 미세한 진동을 조절공에서 인가되는 흡입압에 의하여 감쇠시킴으로써, 피처리 기판이 미세하게 요동하는 것을 억제하여, 피처리 기판의 표면에 도포되는 약액을 균일하게 도포할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

여기서, 상기 조절공은 상기 중앙부에 비하여 상기 피처리 기판의 가장자리에 보다 많이 배치되는 것이 바람직하다. 이는, 부상력에 의하여 얇은 피처리 기판이 미세하게 요동하더라도 가장자리 부근에서 보다 많이 요동하므로, 가장자리에서는 보다 높은 흡인력을 인가함으로써 피처리 기판이 부상력에 의하여 미세 진동이 발생되는 것을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.

그리고, 피처리 기판은 부상 스테이지 상에서 10㎛ 내지 500㎛의 높이로 부상된다. 그리고, 피처리 기판은 부상 스테이지 상에서 일정한 높이로 부상될 수 있게 되므로, 피처리 기판의 부상 높이가 변동됨에 따라 도포된 약액이 흘러내리는 것에 의한 얼룩을 방지할 수 있다.

한편, 본 발명은, 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 도포 장치로서, 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 노즐과; 상기 약액 노즐의 하측 영역에서 다수의 진동판의 진동에 의해 발생되는 초음파에 의하여 상기 피처리 기판을 부상시키는 도포영역 부상유닛과; 상기 초음파 부상 유닛의 전방부에 위치하고, 다수의 흡입공과 다수의 분사공이 구비되어 상기 흡입공에서 공기가 유출되면서 상기 흡입공에서 공기가 배출되면서 상기 피처리 기판을 부상시키는 공급영역 부상유닛과; 상기 피처리 기판을 부상시키는 배출영역 부상유닛과; 상기 기판 처리 장치에 상기 피처리 기판이 로딩되면, 상기 피처리 기판의 일측 이상을 파지하여 상기 전방부 에어부상유닛과 상기 초음파 부상유닛을 통과하도록 이동시키는 파지 유닛을; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.

마찬가지로, 부상된 상태로 이동하는 피처리 기판이 약액이 도포되는 도포 영역에서는 피처리 기판과 부상 스테이지 사이로 새롭게 유입되는 공기의 압력에 의하여 지지되지 않고, 진동판과 피처리 기판 사이에 존재하는 공기층을 매개로 하는 초음파의 지지력에 의하여 피처리 기판이 지지됨에 따라, 약액의 도포 전후에 피처리 기판의 저면 온도를 일정하게 유지함으로써, 피처리 기판의 저면 온도 변동에 따라 표면에 도포되는 약액의 미세 유동이 발생되는 현상을 억제할 수 있도록 하기 위함이다.

이를 통해, 도포 영역에서 도포되는 약액이 온도 차이에 의하여 미세 유동되어 얼룩이 남는 현상을 근본적으로 방지할 수 있다.

한편, 상기 배출영역 부상유닛도 역시 도포영역 부상유닛의 후방부에서 진동판의 진동에 의해 발생되는 초음파에 의하여 피처리 기판을 부상시키도록 구성됨으로써, 표면에 약액이 도포된 피처리 기판이 장치의 바깥으로 이송되는 과정에서도 온도차에 의한 미세 유동으로 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있다.

다만, 피처리 기판의 표면에 도포된 약액이 온도차이에 의하여 미세 유동이 발생되는 것은 대부분 도포 영역에 국한되므로, 상기 배출영역 부상유닛은, 상기 도포영역 부상유닛의 후방부에서 다수의 흡입공과 다수의 분사공이 구비되어 상기 분사공에서 공기가 상기 피처리 기판의 저면으로 분사되고 동시에 흡입공에서 상기 피처리 기판의 저면에 있는 공기의 일부를 배출시키는 것에 의하여 상기 피처리 기판을 부상시키도록 구성될 수도 있다.

본 발명의 바람직한 실시 형태에 따르면, 상기 도포영역 부상유닛은 상기 진동판이 상기 피처리 기판의 진행 경로를 따라 다수로 배열되고, 독립적으로 진동 제어되도록 구성될 수 있다. 이를 통해, 피처리 기판의 공급영역에 비하여 보다 정교하게 부상 높이의 조절이 필요한 도포 영역으로 부상 높이를 점차적으로 낮추면서 이송하는 것이 가능해진다.

그리고, 상기 도포영역 부상유닛은 상기 진동판이 상기 피처리 기판의 진행 경로에 수직한 방향을 따라 다수로 배열되고, 상기 진동판은 독립적으로 진동 제어된다. 이와 같이, 피처리 기판의 폭 방향으로도 다수의 진동판이 배열되어 독립적으로 진동하여 초음파로 부상력을 폭방향으로 조절할 수 있게 됨으로써, 부상된 상태로 이송되는 피처리 기판이 어느 일측으로 기울어진 상태로 부상되거나, 피처리 기판의 표면과 약액 노즐의 토출구와의 간격에 횡방향으로의 편차가 발생될 경우에, 피처리 기판의 폭 방향으로의 부상 높이를 조절하여, 피처리 기판의 표면과 토출구 사이의 간격을 일정하게 유지할 수 있다. 이를 통해, 피처리 기판의 표면에 도포되는 약액의 두께를 균일하게 유지하여 도포 품질을 향상시킬 수 있다.

한편, 상기 도포 영역에 설치되어 상기 피처리 기판의 부상 높이 편차를 접촉 방식이나 비접촉 방식으로 감지하는 제1감지부를; 더 포함하여 구성될 수 있다. 예를 들어, 피처리 기판의 표면에서 반사되는 광을 조사하여 수광부에서 수신되는 광량을 통해 피처리 기판의 부상 높이를 실시간으로 감지할 수 있다. 이에 따라, 이 약액 노즐로부터 토출되는 약액이 피처리 기판의 표면에 도포되는 도포 영역에서의 피처리 기판의 부상 높이를 지속적으로 감시하여, 피처리 기판의 표면에 도포되는 약액의 도포 상태를 사전에 예측할 수 있다.

이와 동시에, 상기 약액 노즐의 토출구의 높이 편차를 감지하는 제2감지부를 더 포함하여 구성될 수 있다. 약액 노즐의 토출구의 높이 편차는 약액 노즐을 고정하고 있는 크로스 바에 설치될 수도 있으며, 접촉 방식이나 비접촉 방식으로 약액 노즐의 토출구 양 끝단부의 높이를 측정하는 것에 의해서도 이루어질 수 있다.

무엇보다도, 상기 피처리 기판과 상기 약액 노즐의 토출구 사이의 간격 편차에 따라 상기 진동판의 진동에 의한 초음파에 의한 부상력이 변동될 수 있다. 따라서, 약액 노즐의 토출구와 피처리 기판의 간극이 일정하지 않은 것으로 감지되면,상기 피처리 기판과 상기 약액 노즐의 토출구 사이의 간격 편차에 따라, 그 다음에 약액이 도포되는 피처리 기판이 이송되기 이전에, 상기 약액 노즐의 자세를 노즐자세 조절부로 조절한다. 이를 통해, 그 다음에 공급되는 피처리 기판은 이전의 공정에서 행했던 것과 동일한 부상력으로 공급되지만, 약액 노즐의 토출구 높이가 부상된 피처리 기판의 표면과 일정한 간극을 유지하게 되므로, 그 다음에 행해지는 피처리 기판의 표면에는 약액이 균일한 두께로 도포될 수 있게 된다.

또한, 약액 노즐의 토출구와 피처리 기판의 간극이 일정하지 않은 것으로 감지되면, 피처리 기판의 폭 방향으로의 부상 높이를 초음파에 의한 부상력으로 조절함으로써, 피처리 기판의 표면과 약액 노즐의 토출구 사이에 횡방향으로의 간격 편차를 실시간으로 보정할 수도 있다.

그리고, 상기 초음파 부상유닛에는 흡입압이 인가되는 다수의 조절공에 인가되는 흡입압의 세기를 조절하여, 상기 피처리 기판과 상기 약액 노즐의 토출구 사이의 간격 편차에 따라 상기 조절공에서 흡입압이 제어되어 인가됨으로써, 초음파에 의한 부상력에 의해 조절하는 것에 비하여 보다 정교하게 피처리 기판의 표면과 약액 노즐의 토출구 사이의 횡방향 간격 편차를 정확하게 보정할 수도 있다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은, 부상된 상태로 이동하는 피처리 기판이 약액이 도포되는 도포 영역에서는 피처리 기판과 부상 스테이지 사이로 새롭게 유입되는 공기의 압력에 의하여 지지되지 않고, 진동판과 피처리 기판 사이에 존재하는 공기층을 매개로 하는 초음파의 지지력에 의하여 피처리 기판이 지지됨에 따라, 약액의 도포 전후에 피처리 기판의 저면 온도를 일정하게 유지함으로써, 피처리 기판의 저면 온도 변동에 따라 표면에 도포되는 약액의 미세 유동이 발생되는 현상을 억제할 수 있고, 피처리 기판의 미세 진동을 억제할 수 있게 됨에 따라, 피처리 기판의 표면에 도포된 약액의 얼룩이 발생되는 것을 방지하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

그리고, 본 발명은, 단위 시간당 처리 효율이 높은 부상 형태로 피처리 기판을 이동시키면서 약액을 도포하면서도, 피처리 기판의 부상 높이를 실시간으로 감시하고, 감지된 피처리 기판의 부상 높이를 토대로 하여 약액 노즐의 토출구와의 간격 편차를 없애도록 도포 영역에서 횡방향으로 다수의 진동판을 독립 제어됨에 따라, 피처리 기판의 표면과 토출구 사이의 간격이 일정하게 유지되어 피처리 기판의 표면에 균일한 두께로 약액(PR)이 도포되는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

도1은 일반적인 부상식 기판 처리 장치의 구성을 도시한 사시도,
도2는 도1의 장치의 작동 원리를 설명하기 위한 도면,
도3은 본 발명의 제1실시예에 따른 부상식 기판 처리 장치의 구성을 도시한 사시도,
도4는 도3의 장치의 작동원리를 설명하기 위한 정면도,
도5a 및 도5b는 도3의 장치의 작동 순서에 따른 구성을 도시한 측면도,
도6은 본 발명의 제2실시예에 따른 부상식 기판 처리 장치의 구성을 도시한 사시도,
도7는 도6의 장치의 작동원리를 설명하기 위한 정면도,
도8a 및 도8b는 도6의 장치의 작동 순서에 따른 구성을 도시한 측면도이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 처리 장치(100)를 상술한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.

도3 및 도4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는, 피처리 기판(G)을 부상시키는 부상 스테이지(300)와, 부상 스테이지(300) 상에서 부상되어 이송되는 피처리 기판(G)의 표면에 도포 영역(CC)에서 약액(PR)을 도포하는 약액 노즐(130)과, 부상된 상태의 피처리 기판(G)을 파지하여 이동시키는 파지 유닛(140)과, 약액 노즐(130)의 토출구의 높이를 감지하는 노즐자세 감지부(150)와, 부상되어 이송되는 피처리 기판(G)의 부상 높이를 폭방향 양측에서 감지하는 기판자세 감지부(160)와, 약액 노즐(130)의 자세를 조절하는 노즐자세 조절부(38)를 포함하여 구성된다.

상기 약액 노즐(130)은 한 쌍의 이송 기구(33)를 연결하는 크로스 바(32)에 위치 고정되어 상하로 이동 가능하게 설치되며, 한 쌍의 이송 기구(33)는 정해진 경로(30L)를 따라 33d로 표시된 방향으로 이동 가능하게 설치된다. 그리고, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 도포하기에 앞서 부상 스테이지(300)의 바깥으로 이동하여 예비 토출 공정을 거치거나 토출구 주변의 립(lip) 부분을 세정하는 세정 공정을 거치게 된다.

상기 파지 유닛(140)은 부상 스테이지(300)의 부상력(99)에 의하여 부상된 피처리 기판(G)의 양측을 흡입 파지하여, 정해진 경로(140L)를 따라 y축을 따르는 길이 방향으로 이동하면서 피처리 기판(G)을 이송한다.

상기 부상 스테이지(300)는 피처리 기판(G)이 장치(100)에 유입되면, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 도포하는 도포 영역(CC)에서 종횡으로 배열된 다수의 진동판(301)이 상하로 진동하면서 발생되는 초음파에 의하여 부상력(99)을 발생시켜 도4에 도시된 바와 같이 기판공급영역(AA)에서부터 기판배출영역(EE)까지 피처리 기판(G)의 부상 높이(H2)를 10㎛ 내지 500㎛ 중 어느 하나로 일정하게 유지시킨다.

여기서, 부상 스테이지(300)의 상면을 이루는 다수의 진동판(301)과, 그 저면에 위치하여 진동판(301)을 가진(300v)시키는 가진부(302)로 이루어진 다수의 초음파 부상유닛(300')이 종횡으로 배열되는 것에 의하여, 부상 스테이지(300)가 이루어진다. 따라서, 다수의 진동판(301)이 가진됨에 따라 그 상측에 발생되는 초음파에 의하여 상측에 위치하는 피처리 기판(G)에 부상력(99)을 작용시킨다.

그리고, 각각의 초음파 부상유닛(300')은 각각의 가진부(302)에 의하여 진동판(301)이 독립 개별적으로 진동 주파수, 진폭 등의 진동 인자가 제어되어, 각각의 진동판(301)의 상측에서 발생되는 부상력(99)은 초음파 부상유닛(300')별로 개별 제어된다. 또한, 도면에는 진동판(2021)이 횡방향(x축 방향)으로 2열로 배열된 구성이 예로 도시되어 있지만, 3열 이상의 진동판(2021)이 횡방향으로 배열될 수 있다.

무엇보다도, 다수의 진동판(301)에는 상측 공기를 제어된 흡입압으로 흡입하는 조절공(300x)이 다수 형성되어, 진동판(301)의 상면에 부상된 상태로 이송되고 있는 피처리 기판(G)의 저면에 하방으로 약한 흡입압을 인가한다. 이에 따라, 진동판(301)으로부터의 초음파에 의한 부상력(99)에 의하여 피처리 기판(G)에 미세한 진동이 야기되더라도, 조절공(300x)에 흡입압을 인가함에 따라 피처리 기판(G)에 존재할 수 있는 진동을 감쇠시켜, 피처리 기판(G)이 미세 진동없이 부상된 상태를 유지할 수 있다.

이 때, 미세 진동은 피처리 기판(G)의 가장자리(x축 방향의 양 끝단부)에서 가장 심하게 발생되므로, 피처리 기판(G)의 중앙부에 비하여 가장자리에서 보다 높은 흡입압으로 인가되는 것이 바람직하다. 이를 위하여, 도3에 도시된 바와 같이 조절공(300x)마다 동일한 흡입압(30x)이 인가되는 경우에는, 피처리 기판(G)의 가장자리에 대응하는 진동판(301)의 위치에 보다 많은 조절공(300x)이 배치된다.

이와 같이, 진동판(301)의 진동(300v)에 의해 발생되는 초음파로 피처리 기판(G)에 부상력(99)을 가하도록 부상 스테이지(300)를 구성하고, 동시에 진동판(301)에 흡입압(30x)을 인가하는 조절공(300x)이 배치됨에 따라, 진동판(301)과 피처리 기판(G) 사이에 새로운 공기가 유입되지 않아 약액(PR)의 도포 전후에 피처리 기판의 저면 온도가 일정하게 유지되므로, 피처리 기판(G)의 저면 온도 변동에 따라 표면에 도포되는 약액의 미세 유동이 발생되는 현상을 억제할 수 있고, 피처리 기판의 미세 진동을 조절공(300x)에 도입되는 흡입압(30x)으로 억제할 수 있게 됨에 따라, 피처리 기판의 표면에 도포된 약액의 얼룩이 발생되는 것을 방지하고 높은 도포 품질을 얻을 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

상기 노즐자세 감지부(150)는 부상되어 이송되는 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 토출하는 약액 노즐(130)의 자세를 감지한다. 도3에 도시된 바와 같이 약액 노즐(130)은 약액(PR)이 토출되는 토출구가 x축 방향으로 길고 좁게 형성되는 슬릿 형태로 형성되므로, x축 방향으로 토출구의 양끝단부의 높이를 실시간으로 측정하는 것에 의하여 약액 노즐(130)의 토출구가 수평 상태로부터 어느정도 편차가 있는지를 감시한다.

이를 위하여, 노즐자세 감지부(150)는 크로스바(32)에 고정되는 약액 노즐(130)의 상면 높이를 실시간 측정하는 것일 수도 있고, 약액 노즐(130)의 토출구의 양 끝단(x축 방향)의 높이를 실시간 측정할 수도 있다. 그리고, 노즐자세 감지부는 다이얼게이지와 유사한 접촉식 센서일 수도 있고, 광을 이용하는 비접촉식 센서일 수도 있다.

상기 기판자세 감지부(160)는 도포 영역(CC)에서 피처리 기판(G)의 폭방향(x축 방향)으로의 양끝단부의 부상 높이(H2)를 실시간으로 측정한다. 이를 위하여, 부상되어 파지 유닛(150)에 의하여 파지된 상태의 피처리 기판(G)의 양측면에 광을 조사하여 양 끝단부의 부상 높이(H2) 편차가 있는지 여부를 실시간으로 감시한다.

이와 같이, 노즐자세 감지부(150)에 의하여 약액 노즐(130)의 토출구의 높이 편차(또는 수평면에 대하여 기울어진 각도)를 측정하여 인지하고 있는 상태에서, 기판자세 감지부(160)에 의하여 피처리 기판(G)가 도포 영역(CC)을 통과할 때의 부상 높이(H2)를 실시간으로 측정하여, 폭 방향(x축 방향)으로 길게 형성된 토출구와 피처리 기판(G)의 표면 사이의 간격 편차가 어느 정도인지를 공정마다 실시간으로 감지할 수 있게 된다.

상기 노즐자세 조절부(39)는, 기판자세 감지부(160)로부터 피처리 기판(G)이 도포 영역(CC)을 통과할 때의 약액 노즐(130)의 토출구와의 간격 편차를 제거하기 위하여, 그 다음에 약액이 도포될 피처리 기판(G)이 도포 영역(CC)으로 이송되기 이전에 약액 노즐(130)의 자세를 조절한다. 이에 의하여, 그 다음에 공급되는 피처리 기판(G)이 그 이전에 공급되었던 피처리 기판(G)과 동일한 부상 높이(H2)로 약액 노즐(130)의 하측을 통과하면, 자세 조절된 약액 노즐(130)의 토출구와 공급되고 있는 피처리 기판(G) 사이의 간격이 모두 동일해진 상태가 된다. 따라서, 약액 노즐의 자세가 보정된 이후에는 피처리 기판(G)과 토출구 사이의 간격이 균일하므로, 피처리 기판(G)에 도포되는 약액 두께를 균일하게 유지할 수 있게 된다.

보다 구체적으로는, 도포 영역(CC)으로 진입하는 피처리 기판(G)을 도시한 도5a에 도시된 바와 같이, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 도포하는 약액 노즐(130)의 토출구 높이 편차(기울기, 130ang)는 기판 처리 공정을 시작할 때에 미리 노즐자세 감지부(150)에 의하여 측정된다. 그리고, 약액 노즐(130)의 토출구 높이 편차(또는 토출구 끝단기울기, 130ang) 데이터는 제어부(미도시)로 전송되어 제어부에 기억되어 있다.

그리고, 피처리 기판(G)이 부상된 상태로 파지 유닛(140)에 의해 양측이 파지되어 도포 영역(CC)을 향하여 이송되면, 기판자세 감지부(160)에 의하여 피처리 기판(G)의 양측 끝단부의 높이 편차(또는 기판 기울기, Gang)를 실시간으로 측정 감지된다. 이로부터, 도포 영역(CC)으로 진입하고 있는 피처리 기판(G)의 표면과 약액 노즐(130)의 토출구와의 간격 편차를 실시간으로 구할 수 있다.

그 다음, 도8a에 도시된 도면을 기준으로, 피처리 기판(G)의 표면과 약액 노즐(130)의 토출구와의 간격이 우측에 비하여 좌측에서 더 크게 벌어진 것으로 감지되므로, 도8b에 도시된 바와 같이, 노즐자세 조절부(39)에 의하여 약액 노즐(130)의 좌측은 하방(130y)으로 이동되고 우측은 상방(130y')으로 이동하여, 약액 노즐(130)의 토출구가 그 이전에 공급되었던 피처리 기판(G)의 도포 영역(CC)에서의 표면과 일정한 간격을 유지하도록 조절된다.

이에 의하여, 그 다음에 공급되는 피처리 기판(G)에 대하여 그 이전에 공급되었던 피처리 기판에 대하여 동일한 부상력(99)이 인가되어, 피처리 기판(G)이 약액 노즐(130)의 토출구 하측을 통과하는 높이(H2)가 그 이전에 공급되었던 피처리 기판(G)과 동일한 부상 높이(H2)로 부상되므로, 약액 노즐(130)과 피처리 기판(G) 사이의 간격이 균일하므로, 약액 노즐(130)로부터 토출되는 약액(PR)은 피처리 기판(G)의 표면에 균일한 두께로 도포된다. 따라서, 피처리 기판(G)에 도포되는 약액의 도포 품질을 보다 향상시킬 수 있다.K

이하, 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 처리 장치를 상술한다. 다만, 전술한 제1실시예와 동일 또는 유사한 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하고 이에 대한 설명은 제2실시예의 요지를 분명하게 하기 위하여 생략하기로 한다.

도6 및 도7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 부상 스테이지(200)의 일부만 초음파 부상유닛으로 구성된다는 점에서 전술한 제1실시예의 구성과 차이가 있다. 즉, 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 처리 장치(100')는, 피처리 기판(G)을 부상시키는 부상 스테이지(200)와, 부상 스테이지(200) 상에서 부상되어 이송되는 피처리 기판(G)의 표면에 도포 영역(CC)에서 약액(PR)을 도포하는 약액 노즐(130)과, 부상된 상태의 피처리 기판(G)을 파지하여 이동시키는 파지 유닛(140)과, 약액 노즐(130)의 토출구의 높이를 감지하는 노즐자세 감지부(150)와, 부상되어 이송되는 피처리 기판(G)의 부상 높이를 폭방향 양측에서 감지하는 기판자세 감지부(160)를 포함하여 구성된다.

상기 부상 스테이지(200)는 피처리 기판(G)이 장치(100')에 유입되면, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 도포하는 도포 영역(CC)에서 종횡으로 배열된 다수의 진동판(2021)이 상하로 진동하면서 발생되는 초음파에 의하여 부상력을 발생시키는 도포영역 부상유닛(202)과, 도포 영역(CC)의 전방부인 공급 영역(AA)에서 제어된 압력으로 공기를 분사하는 다수의 분사공(20a)과 제어된 부압으로 공기를 흡입하는 흡입공(20b)이 구비되어 피처리 기판(G)을 부상시키는 공급영역 부상유닛(201)과, 도포 영역(CC)의 후방부인 배출 영역(EE)에서 제어된 압력으로 공기를 분사하는 다수의 분사공(20a)과 제어된 부압으로 공기를 흡입하는 흡입공(20b)이 구비되어 피처리 기판(G)을 부상시키는 공급영역 부상유닛(201)으로 이루어진다.

여기서, 상기 공급영역 부상유닛(201)은 도포 영역(CC)의 전방부에 위치한 공급 영역(AA)에서 다수의 분사공(20a)과 흡입공(20b)이 스테이지 상에 분포되어 구성된다. 이에 따라, 다수의 분사공(20a)을 통해 분사되는 공기의 압력과 다수의 흡입공(20b)을 통해 흡입 배출되는 공기의 압력의 조절을 통하여, 피처리 기판(G)의 부상 높이를 조절한다.

피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)이 도포되지 않고 요동없이 이송하면 충분하므로, 부상 높이(H1)는 100㎛ 내지 500㎛으로 덜 정교하게 높이 제어되며, 도포 영역에서는 부상 높이(H2)를 50㎛ 내지 180㎛의 높이로 정교하게 유지된다.

상기 도포영역 부상유닛(202)은 진동판(2021)과, 진동판(2021)을 상하 방향으로 미세 진동시키는 다수의 가진부(2022)로 구성된 다수의 초음파 부상유닛(202', 202", 202"')이 종횡으로 다수 배열되어 구성된다. 여기서, 각각의 초음파 부상유닛(202', 202", 202"')은 각각의 가진부(2022)에 의하여 진동판(2021)이 독립 개별적으로 진동 주파수, 진폭 등의 진동 인자가 제어되어, 각각의 진동판(2021)의 상측에서 발생되는 부상력은 초음파 부상유닛(202', 202", 202"') 별로 개별 제어된다.

도면에는 진동판(2021)이 종방향(y축 방향)으로 3열인 구성이 예로 도시되어 있지만, 이는 본 발명의 구성의 이해를 돕기 위하여 단순화하여 도시된 것으로, 진동판(2021)은 종방향으로 4열 이상으로 배열될 수 있다. 또한, 도면에는 진동판(2021)이 횡방향(x축 방향)으로 2열로 배열된 구성이 예로 도시되어 있지만, 3열 이상의 진동판(2021)이 횡방향으로 배열될 수 있다.

피처리 기판(G)의 표면에 균일한 두께의 약액(PR)이 도포될 수 있도록, 도포 영역(CC)에서는 피처리 기판(G)의 부상 높이(H2)의 편차를 작게 유지하는 것이 필요하다. 따라서, 다수의 도포영역 부상유닛(202)은 초음파에 의한 부상력으로 피처리 기판(G)의 부상 높이(H2)를 50㎛ 내지 180㎛의 범위에 속하도록 정교하게 조절한다.

그리고, 각각의 진동판(2021)마다 상측 공기를 흡입하는 조절공(202x)이 형성되어, 제어된 흡입압으로 피처리 기판(G)의 저면에 있는 공기를 필요에 따라 제어된 흡입압으로 흡입 배출(222x)시켜, 피처리 기판(G)의 미세 진동을 감쇠시켜 무진동 상태로 유도할 뿐만 아니라, 조절공(202x)에 인가되는 흡입압을 개별적으로 조절하는 것에 의하여 피처리 기판(G)의 도포 영역(CC)에서 국부적으로 부상 높이(H2)를 낮출 수 있다.

상기 배출영역 부상유닛(203)은 도포 영역(CC)의 후방부에 위치한 배출 영역(EE)에서 다수의 분사공(20a)과 흡입공(20b)이 스테이지 상에 분포되어 구성된다. 이에 따라, 다수의 분사공(20a)을 통해 분사되는 공기의 압력과 다수의 흡입공(20b)을 통해 흡입 배출되는 공기의 압력의 조절을 통하여, 피처리 기판(G)의 부상 높이를 조절한다.

피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)이 도포되지 않고 요동없이 이송하면 충분하므로, 부상 높이(H1)는 10㎛ 내지 500㎛의 범위로 덜 정교하게 유지된다.

다만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 도면에 도시되지 않았지만 배출영역 부상유닛(203)은 도포영역 부상유닛(202)과 마찬가지로 진동판을 가진하여 초음파 부상력을 발현하는 초음파 부상유닛이 다수 배열되어 이루어질 수 있다. 이 경우에는, 초음파 부상유닛으로 배출영역 부상유닛(203)을 구성하는 경우에는 외부의 공기가 피처리 기판의 하측으로 유입되지 않으므로, 피처리 기판(G)에 도포된 약액(PR)의 온도차에 의한 미세 유동에 의하여 얼룩이 발생되는 것을 보다 확실히 방지할 수 있는 잇점이 있다. 다만, 도포 영역(CC)의 바깥 영역에서는 피처리 기판(G)에 도포된 약액이 온도차에 의해 얼룩이 생기는 것이 미미하므로, 부상 스테이지(200)의 제조 비용을 줄이기 위하여 도면에 도시된 바와 같이 공기를 분사하거나 흡입하는 형태로 구성될 수도 있다.

상기 노즐자세 감지부(150)는 부상되어 이송되는 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 토출하는 약액 노즐(130)의 자세를 감지한다. 도6에 도시된 바와 같이 약액 노즐(130)은 약액(PR)이 토출되는 토출구가 x축 방향으로 길고 좁게 형성되는 슬릿 형태로 형성되므로, x축 방향으로 토출구의 양끝단부의 높이를 실시간으로 측정하는 것에 의하여 약액 노즐(130)의 토출구가 수평 상태로부터 어느정도 틀어져있는 지를 감시한다.

이를 위하여, 노즐자세 감지부(150)는 크로스바(32)에 고정되는 약액 노즐(130)의 상면 높이를 실시간 측정하는 것일 수도 있고, 약액 노즐(130)의 토출구의 양 끝단(x축 방향)의 높이를 실시간 측정할 수도 있다. 그리고, 노즐자세 감지부는 다이얼게이지와 유사한 접촉식 센서일 수도 있고, 광을 이용하는 비접촉식 센서일 수도 있다.

상기 기판자세 감지부(160)는 도포 영역(CC)에서 피처리 기판(G)의 폭방향(x축 방향)으로의 양끝단부의 부상 높이(H2)를 실시간으로 측정한다. 이를 위하여, 부상되어 파지 유닛(150)에 의하여 파지된 상태의 피처리 기판(G)의 양측면에 광을 조사하여 양 끝단부의 부상 높이(H2) 편차가 있는지 여부를 실시간으로 감시한다.

이와 같이, 노즐자세 감지부(150)에 의하여 약액 노즐(130)의 토출구의 높이 편차(또는 수평면에 대하여 기울어진 각도)를 측정하여 인지하고 있는 상태에서, 기판자세 감지부(160)에 의하여 피처리 기판(G)가 도포 영역(CC)을 통과할 때의 부상 높이(H2)를 실시간으로 측정하여, 폭 방향(x축 방향)으로 길게 형성된 토출구와 피처리 기판(G)의 표면 사이의 간격 편차가 있는 경우에는, 폭 방향으로 다수 배열된 초음파 부상유닛에 의한 부상력을 조절하거나 이와 동시에 또는 선택적으로 조절공(202x)에 제어된 흡입압을 인가하여, 약액 노즐(130)로부터 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)이 도포되는 위치에서는 토출구와 피처리 기판(G)의 표면 사이의 간격을 일정하게 유지한다.

보다 구체적으로는, 도포 영역(CC)으로 진입하는 피처리 기판(G)을 도시한 도8a에 도시된 바와 같이, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 도포하는 약액 노즐(130)의 토출구 높이 편차(기울기, 130ang)는 기판 처리 공정을 시작할 때에 미리 노즐자세 감지부(150)에 의하여 측정된다. 그리고, 약액 노즐(130)의 토출구 높이 편차(또는 토출구 끝단기울기, 130ang) 데이터는 제어부(미도시)로 전송되어 제어부에 기억되어 있다.

그리고, 피처리 기판(G)이 부상된 상태로 파지 유닛(140)에 의해 양측이 파지되어 도포 영역(CC)을 향하여 이송되면, 기판자세 감지부(160)에 의하여 피처리 기판(G)의 양측 끝단부의 높이 편차(또는 기판 기울기, Gang)를 실시간으로 측정 감지하여, 도포 영역(CC)으로 진입하고 있는 피처리 기판(G)의 표면과 약액 노즐(130)의 토출구와의 간격 편차를 실시간으로 구할 수 있다.

도8a에 도시된 도면을 기준으로, 도포 영역(CC)에서 피처리 기판(G)을 부상하는 좌우측 진동판(2021)은 동일한 조건으로 가진부(2022L, 2022R)에 의해 가진(202v1, 202v2)되어 동일한 부상력(22L, 22R)으로 피처리 기판(G)을 부상시킨다. 그러나, 피처리 기판(G)의 표면과 약액 노즐(130)의 토출구와의 간격이 우측에 비하여 좌측에서 더 크게 벌어진 것으로 감지되므로, 도8b에 도시된 바와 같이, 좌측 진동판에 의해서는 보다 높은 부상력(22L')이 작용하도록 제어되고, 우측 진동판에 의해서는 도입되는 부상력(22R)을 그대로 유지하거나 조금 낮추고 동시에 조절공(202x)에 흡입압(22x)을 인가하여 피처리 기판(G)의 우측 부상 높이를 낮추도록 유도한다.

이에 의하여, 약액 노즐(130)의 토출구의 기울기(130ang)는 그대로 유지되지만, 피처리 기판(G)의 부상 높이가 횡방향(x축 방향)으로 조정되어, 피처리 기판(G)의 표면과 약액 노즐(130)의 토출구와의 간격 편차를 실시간으로 제거한 상태에서, 피처리 기판(G)의 표면과 토출구의 간격이 균일한 상태에서, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(PR)을 도포한다.

따라서, 피처리 기판(G)의 표면과 약액 노즐(130)의 토출구 사이 간격이 일정하게 유지된 상태에서 약액(PR)이 도포되므로, 피처리 기판(G)에 도포되는 약액의 도포 품질을 보다 향상시킬 수 있다.

상기와 같이 구성된 본 발명은, 부상된 상태로 이동하는 피처리 기판(G) 약액(PR)이 도포되는 도포 영역(CC)에서, 진동판(2021)과 피처리 기판(G) 사이에 존재하는 공기층을 매개로 새로운 공기를 유입시키지 않고 초음파에 의한 부상력으로 피처리 기판을 부상 지지함에 따라, 피처리 기판(G)의 저면 온도 변동에 따라 표면에 도포된 약액의 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 피처리 기판(G)이 부상력에 의하여 발생될 수 있는 미세 진동을 조절공(300x)에 의해 도입되는 흡입압에 의하여 감쇠시켜 무진동 상태로 이송되도록 함으로써, 피처리 기판의 진동에 따른 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명은 피처리 기판(G)의 부상 높이(H2)를 실시간으로 감시하여, 약액 노즐(130)의 자세를 교정하여 토출구와 피처리 기판(G)의 표면 사이의 간격 편차를 제거하거나, 피처리 기판(G)의 저면에서 인가되는 부상력과 흡입압을 제어함으로써, 피처리 기판(G)과 토출구 사이의 간격이 일정하게 유지된 상태로 약액이 도포되게 구성됨에 따라, 피처리 기판의 표면에 약액을 균일한 두께로 도포하여 도포 품질을 보다 향상시킬 수 있는 효과를 구현할 수 있다.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.

G: 피처리 기판 PR : 약액
35: 노즐자세 조절부 100, 100': 기판 처리 장치 130: 약액 노즐 140: 파지 유닛
150: 노즐자세 감지부 160: 기판자세 감지부
200, 300: 부상 스테이지 300': 초음파 부상유닛
201: 공급영역 부상유닛 202: 도포영역 부상유닛
203: 배출영역 부상유닛

Claims (15)

1. 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 처리 장치로서,
   상기 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 노즐과;
   상기 피처리 기판을 진동판의 진동에 의한 초음파로 부상시키고, 상기 진동판에 형성되어 피처리 기판의 저면에 위치한 공기를 흡입하는 조절공을 구비하되, 상기 조절공은 상기 피처리 기판의 중앙부에 비하여 상기 피처리 기판의 이송 방향에 수직한 폭 방향으로의 양끝단 가장자리에 보다 많이 배치된 부상 스테이지와;
   상기 기판 처리 장치에 상기 피처리 기판이 로딩되면, 상기 피처리 기판의 일측 이상을 파지하여 상기 부상 스테이지 상에서 상기 피처리 기판이 부상된 상태로 이동시키는 파지 유닛을;
   포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
2. 제 1항에 있어서,
   상기 부상 스테이지는 상기 피처리 기판을 10㎛ 내지 500㎛만큼 부상시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
3. 제 1항에 있어서,
   상기 부상 스테이지는 상기 피처리 기판을 일정한 높이로 부상한 상태로 이송시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
4. 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 처리 장치로서,
   상기 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 노즐과;
   상기 약액 노즐의 하측의 도포 영역에서 다수의 진동판의 진동에 의해 발생되는 초음파에 의하여 상기 피처리 기판을 부상시키는 도포영역 부상유닛과, 상기 도포영역 부상 유닛의 전방부에 위치하고 다수의 흡입공과 다수의 분사공이 구비되어 상기 흡입공에서 공기가 유출되면서 상기 흡입공에서 공기가 배출되면서 상기 피처리 기판을 부상시키는 공급영역 부상유닛과, 상기 피처리 기판을 부상시키는 배출영역 부상유닛으로 이루어진 부상 스테이지와;
   상기 기판 처리 장치에 상기 피처리 기판이 로딩되면, 상기 피처리 기판의 일측 이상을 파지하여 상기 공급영역 부상유닛과 상기 도포영역 부상유닛을 통과하도록 이동시키는 파지 유닛을;
   포함하되, 상기 진동판에는 다수의 조절공이 형성되고, 상기 조절공은 상기 피처리 기판의 중앙부에 비하여 상기 피처리 기판의 이송 방향에 수직한 폭 방향으로의 양끝단 가장자리에 보다 많이 배치되어, 상기 조절공에서 흡입압이 인가되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
5. 제 4항에 있어서, 상기 배출영역 부상유닛은,
   상기 도포영역 부상유닛의 후방부에서 진동판의 진동에 의해 발생되는 초음파에 의하여 피처리 기판을 부상시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
6. 제 4항에 있어서, 상기 배출영역 부상유닛은,
   상기 도포영역 부상유닛의 후방부에서 다수의 흡입공과 다수의 분사공이 구비되어 상기 분사공에서 공기가 상기 피처리 기판의 저면으로 분사되고 동시에 흡입공에서 상기 피처리 기판의 저면에 있는 공기의 일부를 배출시키는 것에 의하여 상기 피처리 기판을 부상시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
7. 제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 진동판은 상기 피처리 기판의 진행 경로를 따라 다수로 배열되고, 독립적으로 진동 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
8. 제 7항에 있어서,
   상기 진동판은 상기 피처리 기판의 진행 경로에 수직한 방향을 따라 다수로 배열되고, 상기 진동판은 독립적으로 진동 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
9. 제 4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 도포 영역에 설치되어 상기 피처리 기판의 부상 높이 편차를 감지하는 제1감지부를;
   더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
   
10. 제 9항에 있어서,
    상기 약액 노즐의 토출구의 높이 편차를 감지하는 제2감지부를;
    더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
    
11. 제 9항에 있어서,
    상기 피처리 기판과 상기 약액 노즐의 토출구 사이의 간격 편차에 따라, 그 다음에 약액이 도포되는 피처리 기판이 이송되기 이전에, 상기 약액 노즐의 자세를 조절하는 노즐자세 조절부를;
    더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
    
12. 제 9항에 있어서,
    상기 피처리 기판과 상기 약액 노즐의 토출구 사이의 간격 편차에 따라 상기 진동판의 진동에 의한 초음파에 의한 부상력이 변동되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
    
    
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