KR101865534B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 장치는, 기판의 이송 경로에 배치되는 진동플레이트와, 진동플레이트 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제1가진영역과, 제1가진영역과 인접하게 진동플레이트 상에 형성되며 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제2가진영역과, 제1가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치와, 제2가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치의 중간위치영역에 배치되며 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛을 포함하는 것에 의하여, 약액이 도포되는 영역에서 진동에 의한 얼룩의 발생을 억제하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE TREATING APPARATUS}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 기판에 약액을 균일하게 도포할 수 있으며, 얼룩의 발생을 억제할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
LCD 등 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 공정에서는 유리 등으로 제작된 피처리 기판의 표면에 레지스트액 등의 약액을 도포하는 코팅 공정이 수반된다. LCD의 크기가 작았던 종래에는 피처리 기판의 중앙부에 약액을 도포하면서 피처리 기판을 회전시키는 것에 의하여 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 스핀 코팅 방법이 사용되었다.
그러나, LCD 화면의 크기가 대형화됨에 따라 스핀 코팅 방식은 거의 사용되지 않으며, 피처리 기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 형태의 슬릿 노즐과 피처리 기판을 상대 이동시키면서 슬릿 노즐로부터 약액을 피처리 기판의 표면에 도포하는 방식의 코팅 방법이 사용되고 있다.
최근에는 정해진 시간에 보다 많은 수의 피처리 기판의 표면에 약액을 코팅하는 방법의 일환으로서, 일본 공개특허공보 제2005-243670호에는 기판이 반입되고 도포되며 반출되는 방향을 따라 에어를 분출하여 기판을 부상시키는 부상 스테이지가 설치되고, 그 양측에 흡착 패드 등으로 형성된 기판 배출 기구가 구비되어, 정지된 상태의 슬릿 노즐에 의해 연속적으로 공급되는 피처리 기판의 표면에 약액을 공급하여 코팅하는 기술이 개시되어 있다.
그런데, 종래 부상식 기판 코터 장치에서는, 기판에 부상력이 작용하는 영역과 무관하게 기판의 표면에 약액이 도포됨에 따라, 기판에 부상력이 작용하는 영역에서 약액이 도포되면, 기판에 부상력이 작용하는 영역에서 발생하는 진동에 의한 영향에 의하여 약액이 균일하게 도포되지 못하는 현상이 발생되고, 이와 같은 약액의 불균일 도포에 의해 얼룩이 발생하는 문제점이 있다.
다시 말해서, 기판에 부상력이 작용하는 영역(에어가 분출되는 영역)에서는 부상력에 의한 진동이 가장 크게 발생하게 되는데, 종래에는 기판에 부상력이 작용하는 영역에서 약액의 도포가 이루어짐에 따라, 약액이 균일하게 도포될 수 없고 얼룩이 발생하는 문제점이 있다.
이에 따라, 최근에는 약액의 도포 균일성을 향상시키고 얼룩의 발생을 방지하기 위한 다양한 검토가 이루어지고 있으나, 아직 미흡하여 이에 대한 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 기판에 약액을 도포하는 과정에서, 약액을 균일하게 도포하여 얼룩의 발생을 억제할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
특히, 본 발명은 기판에 작용하는 부상력에 따른 진동의 영향이 작은 영역에서 약액을 균일하게 도포할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 고품질의 약액 도포층을 형성할 수 있으며, 수율을 향상시킬 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 장치는, 기판의 이송 경로에 배치되는 진동플레이트와, 진동플레이트 상에 형성되며 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제1가진영역과, 제1가진영역과 인접하게 진동플레이트 상에 형성되며 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제2가진영역과, 제1가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치와, 제2가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치의 중간위치영역에 배치되며 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛을 포함한다.
이는, 기판의 표면에 약액을 도포함에 있어서, 기판에 작용하는 부상력에 따른 진동의 영향이 가장 작은 영역에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 약액의 도포 균일성을 보장하면서, 도포 불균일에 의한 얼룩을 억제하기 위함이다.
즉, 기판에 부상력이 가장 크게 작용하는 영역(최대 진폭의 진동 에너지가 인가되는 영역)에서는 부상력에 의한 진동이 가장 크게 발생하게 되는데, 기판에 부상력이 크게 작용하는 영역에서 약액의 도포가 이루어지면, 진동에 의한 영향에 의해 약액이 균일하게 도포될 수 없고 얼룩이 발생하는 문제점이 있다.
이에, 본 발명은 진동에 의한 영향이 가장 작은 제1가진영역과 제2가진영역의 중간위치영역(평면 투영시 제1가진영역 및 제2가진영역의 최대 진폭 지점과 겹쳐지지 않는 영역)에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 기판의 표면에 약액을 균일하게 도포할 수 있고, 불균일 도포에 의한 얼룩을 미연에 방지하는 효과를 얻을 수 있다.
특히, 본 발명은 제1가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치와, 제2가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치의 중간위치영역에 약액 도포 유닛의 노즐 립(lip)이 배치되도록 하는 것에 의하여, 진동에 의한 영향이 가장 작은 영역에서 약액을 도포할 수 있기 때문에, 약액의 도포 균일성을 높이는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
바람직하게, 약액 도포 유닛이 배치되는 중간위치영역은 제1위치와 제2위치의 정중간을 중심으로 하며, 제1위치와 제2위치의 사이 길이(L1)의 80% 미만의 길이를 갖는다. 더욱 바람직하게, 약액 도포 유닛은 제1위치와 제2위치의 정중간 위치에 배치된다. 이와 같이, 약액 도포 유닛을 진동플레이트에서 상대적으로 진폭이 낮은 제1위치와 제2위치의 중간위치영역(특히, 정중간)에 배치하는 것에 의하여, 실질적으로 약액이 기판에 도포되는 지점에서 진동에 의한 영향을 최소화함으로써, 약액의 도포 균일성을 보장하면서, 얼룩을 억제하는 효과를 얻을 수 있다.
다시 말해서, 기판에 작용하는 부상력(진동에너지)이 가장 크게 작용하는 영역(예를 들어, 제1위치 또는 제2위치)에서는 부상력에 의한 진동이 가장 크게 발생하게 되는데, 기판에 부상력이 크게 작용하는 영역에서 약액의 도포가 이루어지면, 진동에 의한 영향에 의해 약액이 균일하게 도포될 수 없고 얼룩이 발생하는 문제점이 있다. 하지만, 본 발명에서는 진동에 의한 영향이 가장 작은 제1가진영역과 제2가진영역의 중간위치영역(평면 투영시 제1위치 및 제2위치와 겹쳐지지 않는 영역)에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 기판의 표면에 약액을 균일하게 도포할 수 있고, 불균일 도포에 의한 얼룩을 미연에 방지하는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 기판이 진동플레이트를 따라 이송되는 동안 기판에 흡입압을 인가하는 흡입압 형성부를 포함할 수 있다.
여기서, 기판에 흡입압이 인가된다 함은, 기판의 표면을 빨아들이는 흡입압(부압)에 의해 기판이 지지(움직이지 않게 구속)되는 상태를 의미하고, 기판에 흡입압이 인가된 상태에서는 흡입압에 의한 지지력에 의해 기판의 떨림 및 요동이 최대한 억제될 수 있다.
흡입압 형성부는 기판에 흡입압을 인가 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 바람직하게, 흡입압 형성부를 약액 도포 유닛에 인접하게 형성하는 것에 의하여, 기판에서 약액의 도포가 이루어지는 영역의 떨림 및 요동을 억제함으로써, 약액을 보다 균일하게 도포하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
일 예로, 흡입압 형성부는 약액 도포 유닛의 노즐 팁에 인접하게 진동플레이트에 형성될 수 있다. 다르게는 기판의 상부에 흡입압 형성부를 형성하는 것도 가능하다. 여기서, 흡입압 형성부는 홈 형태 또는 홀 형태로 형성될 수 있다.
바람직하게, 기판이 이송되는 방향을 따른 약액 도포 유닛의 전방 및 후방에 각각 흡입압 형성부를 형성하는 것에 의하여, 기판에서 약액이 도포되는 지점(노즐 팁의 하부)에 인접한 양단 부위가 흡입압에 의해 각각 지지될 수 있게 함으로써, 진동 및 떨림을 보다 효과적으로 억제하는 유리한 효과를 얻을 수 있다. 다르게는 흡입압 형성부를 약액 도포 유닛과 동일 선상에 배치하는 것도 가능하다.
아울러, 기판이 이송되는 방향에 수직한 진동플레이트의 제1폭(수직 방향 폭)은 기판이 이송되는 방향에 수직한 기판의 제2폭(수직 방향 폭)보다 크거나 같게 형성된다.
이와 같이, 진동플레이트(진동플레이트)의 제1폭을 기판의 제2폭보다 크거나 같게 형성하는 것에 의하여, 진동플레이트(진동플레이트)에 의해 기판에 작용하는 진동 에너지를 보다 균일하게 조절하고, 기판의 부상력을 보다 정교하게 조절하는 효과를 얻을 수 있다.
다시 말해서, 진동플레이트가 일정 이상 큰 크기(예를 들어, 기판보다 큰 면적)로 형성되면, 진동플레이트의 전면에 걸쳐 진동 에너지를 균일하게 유지하기 어렵기 때문에 기판의 부상력을 정교하게 조절하기 어렵다. 반면, 진동플레이트가 작은 크기로 형성되면, 진동플레이트의 전면에 걸쳐 진동 에너지를 균일하게 유지시키는데 유리하지만, 각 진동플레이트의 진동 조건을 서로 완벽하게 일치시키기 어렵기 때문에, 기판이 각 진동플레이트의 사이 간극을 통과하는 동안 각 진동플레이트의 진동 편차에 의해 미세한 떨림(terminal effect)이 발생하는 문제가 있다.
이에 본 발명은, 기판이 이송되는 방향에 수직한 진동플레이트의 제1폭(수직 방향 폭)을 기판이 이송되는 방향에 수직한 기판의 제2폭(수직 방향 폭)보다 크거나 같게 형성하고, 진동플레이트를 기판이 이송되는 방향을 따라 횡대로 이격되게 배치하는 것에 의하여, 기판이 이송되는 동안 기판의 제2폭 방향을 따라서 기판에는 단 하나의 진동플레이트에 의한 진동에너지만이 작용되게 함으로써, 기판에 작용하는 진동 에너지를 균일하게 조절할 수 있고, 기판의 부상 높이를 정교하게 제어하는 효과를 얻을 수 있다.
진동플레이트는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 조건으로 배치될 수 있다.
일 예로, 진동플레이트는 수평면에 수평하게 배치되고, 기판은 진동플레이트에 평행하게 부상될 수 있다. 이와 같이, 기판이 수평하게 이송되는 상태에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 높은 점도(고점도 1000 cP 이상)의 약액을 사용할 수 있음은 물론이며, 낮은 점도(중점도, 100 cP)의 약액을 사용하더라도 흘러내림 없이 약액을 균일하게 도포할 수 있다.
다른 일 예로, 진동플레이트는 기판의 진행 방향을 따른 일측변을 중심으로 수평면에 경사지게 배치되고, 기판은 진동플레이트에 평행하게 부상된다. 바람직하게 수평면에 대해 경사지게 틸팅된 기판의 일측변을 지지하며 기판을 이송시키는 이송부재를 포함하고, 이송부재에는 기판의 하중이 작용되고, 기판의 하중에 의한 마찰력에 의해 기판은 이송부재에 의해 이송된다.
이와 같이, 틸팅된 기판의 하중이 이송부재에 작용하고, 기판의 하중에 의한 마찰력에 의해 기판이 이송부재에 의해 이송되게 하는 것에 의하여, 진공흡착수단과 같은 복잡한 장비없이 기판의 자중을 이용하여 기판을 이송시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
더욱이, 본 발명에서는 기판의 하중을 이용하여 기판을 이송부재에 구속(마찰력을 이용하여 상대 이동 구속)하기 때문에, 다시 말해서, 복잡한 제어 공정(예를 들어, 진공 압력 조절 공정)을 거치지 않고 기판의 일측변을 이송부재에 지지시키는 것에 의하여 이송부재와 기판을 구속할 수 있기 때문에, 구조 및 처리 공정을 간소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따르면, 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 장치는, 기판의 이송 경로에 배치되는 제1진동플레이트와; 제1진동플레이트 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제1-1가진영역과; 제1가진영역과 인접하게 진동플레이트 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제1-2가진영역과; 기판이 이송되는 방향에 수직한 방향을 따라 제1진동플레이트로부터 이격되게 배치되는 제2진동플레이트와; 제1-1가진영역과 동일 선상을 이루도록 제2진동플레이트 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제2-1가진영역과; 제1-2가진영역과 동일 선상을 이루며 제2-1가진영역과 인접하게 진동플레이트 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판을 부상시키는 제2-2가진영역과; 제1-1가진영역 및 2-1가진영역에서 각각 최대 진폭으로 가진되는 제1위치와, 제1-2가진영역 및 2-2가진영역에서 각각 최대 진폭으로 가진되는 제2위치의 중간위치영역에 배치되며, 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛을; 포함한다.
이와 같이, 진동에 의한 영향이 가장 작은 제1-1가진영역 및 2-1가진영역과 제1-2가진영역 및 2-2가진영역의 중간위치영역(평면 투영시 각 가진영역의 최대 진폭 지점과 겹쳐지지 않는 영역)에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 기판의 표면에 약액을 균일하게 도포할 수 있고, 불균일 도포에 의한 얼룩을 미연에 방지하는 효과를 얻을 수 있다.
더욱이, 프로세싱 존을 복수개의 진동플레이트(제1진동플레이트와 제2진동플레이트)로 구성하고, 각 진동플레이트가 각각 개별적으로 가진되도록 하는 것에 의하여, 거리에 따른 가진 신호의 왜곡없이 각 진동플레이트에서 각 가진영역을 의도한 위치에 정확하게 형성하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
즉, 하나의 진동플레이트에 복수개의 가진기를 장착하면, 서로 다른 가진 신호의 간섭에 의해 제1가진영역과 제2가진영역을 의도한 정확한 위치에 형성하기 어렵다. 따라서, 제1가진영역과 제2가진영역의 의도한 위치에 형성하기 위해서는 단 하나의 가진기를 사용할 수 있다. 그러나, 진동플레이트의 크기가 커질수록, 예를 들어, 프로세싱 존이 단 하나의 진동플레이트로 구성되면, 가진기의 가진력이 진동플레이트의 전체 면적에 고르게 전달되기 어렵고, 가진기로부터 상대적으로 멀리 떨어진 위치에서는 가진 신호의 왜곡이 발생할 수 있기 때문에, 각 가진영역을 의도한 위치에 정확하게 형성하기 어렵다. 하지만, 본 발명에서는 프로세싱 존을 복수개의 진동플레이트로 구성하고, 각 진동플레이트가 각각 개별적으로 가진되도록 하는 것에 의하여, 거리에 따른 가진 신호의 왜곡없이 각 진동플레이트에서 각 가진영역을 의도한 위치에 정확하게 형성하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
바람직하게, 약액 도포 유닛이 배치되는 중간위치영역은 제1위치와 제2위치의 정중간을 중심으로 하며, 제1위치와 제2위치의 사이 길이(L1)의 80% 미만의 길이를 갖는다. 더욱 바람직하게, 약액 도포 유닛은 제1위치와 제2위치의 정중간 위치에 배치된다. 이와 같이, 약액 도포 유닛을 진동플레이트에서 상대적으로 진폭이 낮은 제1위치와 제2위치의 중간위치영역(특히, 정중간)에 배치하는 것에 의하여, 실질적으로 약액이 기판에 도포되는 지점에서 진동에 의한 영향을 최소화함으로써, 약액의 도포 균일성을 보장하면서, 얼룩을 억제하는 효과를 얻을 수 있다.
다시 말해서, 기판에 작용하는 부상력(진동에너지)이 가장 크게 작용하는 영역(예를 들어, 제1위치 또는 제2위치)에서는 부상력에 의한 진동이 가장 크게 발생하게 되는데, 기판에 부상력이 크게 작용하는 영역에서 약액의 도포가 이루어지면, 진동에 의한 영향에 의해 약액이 균일하게 도포될 수 없고 얼룩이 발생하는 문제점이 있다. 하지만, 본 발명에서는 진동에 의한 영향이 가장 작은 제1가진영역과 제2가진영역의 중간위치영역(평면 투영시 제1위치 및 제2위치와 겹쳐지지 않는 영역)에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 기판의 표면에 약액을 균일하게 도포할 수 있고, 불균일 도포에 의한 얼룩을 미연에 방지하는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 기판이 제1진동플레이트와 제2진동플레이트를 따라 이송되는 동안 기판에 흡입압을 인가하는 흡입압 형성부를 포함할 수 있다.
여기서, 기판에 흡입압이 인가된다 함은, 기판의 표면을 빨아들이는 흡입압(부압)에 의해 기판이 지지(움직이지 않게 구속)되는 상태를 의미하고, 기판에 흡입압이 인가된 상태에서는 흡입압에 의한 지지력에 의해 기판의 떨림 및 요동이 최대한 억제될 수 있다.
흡입압 형성부는 기판에 흡입압을 인가 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 바람직하게, 흡입압 형성부를 약액 도포 유닛에 인접하게 형성하는 것에 의하여, 기판에서 약액의 도포가 이루어지는 영역의 떨림 및 요동을 억제함으로써, 약액을 보다 균일하게 도포하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
일 예로, 흡입압 형성부는 약액 도포 유닛의 노즐 팁에 인접하게 제1진동플레이트와 제2진동플레이트에 형성될 수 있다. 다르게는 기판의 상부에 흡입압 형성부를 형성하는 것도 가능하다. 여기서, 흡입압 형성부는 홈 형태 또는 홀 형태로 형성될 수 있다.
바람직하게, 기판이 이송되는 방향을 따른 약액 도포 유닛의 전방 및 후방에 각각 흡입압 형성부를 형성하는 것에 의하여, 기판에서 약액이 도포되는 지점(노즐 팁의 하부)에 인접한 양단 부위가 흡입압에 의해 각각 지지될 수 있게 함으로써, 진동 및 떨림을 보다 효과적으로 억제하는 유리한 효과를 얻을 수 있다. 다르게는 흡입압 형성부를 약액 도포 유닛과 동일 선상에 배치하는 것도 가능하다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 기판의 표면에 약액을 도포함에 있어서, 기판에 작용하는 부상력에 따른 진동의 영향이 가장 작은 영역에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 약액의 도포 균일성을 보장하면서, 도포 불균일에 의한 얼룩을 억제하는 효과를 얻을 수 있다.
즉, 기판에 부상력이 가장 크게 작용하는 영역(최대 진폭의 진동 에너지가 작용하는 영역)에서는 부상력에 의한 진동이 가장 크게 발생하게 되는데, 기판에 부상력이 크게 작용하는 영역에서 약액의 도포가 이루어지면, 진동에 의한 영향에 의해 약액이 균일하게 도포될 수 없고 얼룩이 발생하는 문제점이 있다.
하지만, 본 발명에 따르면, 진동에 의한 영향이 가장 작은 제1가진영역과 제2가진영역의 중간위치영역(평면 투영시 제1가진영역 및 제2가진영역과 겹쳐지지 않는 영역)에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 기판의 표면에 약액을 균일하게 도포할 수 있고, 불균일 도포에 의한 얼룩을 미연에 방지하는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 진동 에너지에 의해 기판이 부상되도록 하는 것에 의하여, 기판의 부상력을 정밀하게 제어하되, 부상유닛을 구성하는 진동플레이트를 기판이 이송되는 방향을 따라 횡대로 이격되게 배치하는 것에 의하여, 기판에 작용하는 진동 에너지를 균일하게 조절할 수 있고, 기판의 부상 높이를 정교하게 제어하는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 흡입압 형성부에 의해 기판에 흡입압이 인가되도록 하는 것에 의하여, 기판에서 약액의 도포가 이루어지는 영역의 떨림 및 요동을 억제함으로써, 약액을 보다 균일하게 도포하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 기판이 수평하게 부상된 상태에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 높은 점도(고점도 1000 cP 이상)의 약액을 사용할 수 있음은 물론이며, 낮은 점도(중점도, 100 cP)의 약액을 사용하더라도 흘러내림 없이 약액을 균일하게 도포하는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 틸팅된 기판의 하중이 이송부재에 작용하고, 기판의 하중에 의한 마찰력에 의해 기판이 이송부재에 의해 이송되게 하는 것에 의하여, 진공흡착수단과 같은 복잡한 장비없이 기판의 자중을 이용하여 기판을 이송시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 고품질의 약액 도포층을 형성할 수 있으며, 수율을 향상시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면,
도 2 내지 도 4는 도 1의 기판 처리 장치의 제1가진영역과 제2가진영역과 중간위치영역을 설명하기 위한 도면,
도 5 및 도 6은 도 1의 진동플레이트에 의한 기판의 부상 과정을 설명하기 위한 도면,
도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면,
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이고, 도 2 내지 도 4는 도 1의 기판 처리 장치의 제1가진영역과 제2가진영역과 중간위치영역을 설명하기 위한 도면이며, 도 5 및 도 6은 도 1의 진동플레이트에 의한 기판의 부상 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 피처리 기판(10)에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 장치(1)는, 진동플레이트(100) 상에 형성되며 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)을 부상시키는 제1가진영역(Z1)과, 제1가진영역(Z1)과 인접하게 진동플레이트(100) 상에 형성되며 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)을 부상시키는 제2가진영역(Z2)과, 제1가진영역(Z1)에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치(P1)와, 제2가진영역(Z2)에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치(P2)의 중간위치영역(106, Z3)에 배치되며 기판(10)의 표면에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛(300)을 포함한다.
진동플레이트(100)는 기판(10)의 이송 경로를 따라 배치되며, 초음파에 의한 진동 에너지를 이용하여 기판(10)을 부상시키기 위해 마련된다.
여기서, 기판(10)이 부상된다 함은, 기판(10)이 소정 간격을 두고 공중에 띄워진 상태를 의미하며, 진동플레이트(100)의 상부에 부상된 기판(10)은 이송 레일(112)을 따라 직선 이동하는 이송부재(110)에 의해 이송된다.
진동플레이트(100)는 사각 플레이트 형상으로 형성되며, 진동플레이트(100)의 저면에는 초음파를 발진하여 진동플레이트(100)를 가진시키는 가진기가 장착된다.
제1가진영역(Z1)은 진동플레이트(100) 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)을 부상시킨다.
여기서, 제1가진영역(Z1)이라 함은, 기판(10)을 부상시키는 진동 에너지가 발생되는 진동영역으로 정의된다. 제1가진영역(Z1)의 진폭(102)은 기판(10)이 이송되는 방향을 따라 대략 단상 반파(half-wave) 형상을 갖도록 형성되며, 제1가진영역(Z1)의 정중앙(제1위치)에서는 최대 진폭의 진동 에너지가 발생된다.
아울러, 제1가진영역(Z1)은 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 방향을 따라 연속적으로 형성되며, 제1가진영역(Z1)의 진폭 및 조건은 가진기로부터 인가되는 진동주파수에 따라 적절히 조절될 수 있다.
제2가진영역(Z2)은 제1가진영역(Z1)에 인접하게 진동플레이트(100) 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)을 부상시킨다.
여기서, 제2가진영역(Z2)이라 함은, 제1가진영역(Z1)과 마찬가지로 기판(10)을 부상시키는 진동 에너지가 발생되는 진동영역으로 정의된다. 제2가진영역(Z2)의 진폭(104)은 기판(10)이 이송되는 방향을 따라 대략 단상 반파(half-wave) 형상을 갖도록 형성되며, 제2가진영역(Z2)의 정중앙(제2위치)에서는 최대 진폭의 진동 에너지가 발생된다.
아울러, 제2가진영역(Z2)이 제1가진영역(Z1)에 인접하게 형성된다 함은, 제2가진영역(Z2)의 일부 구간과 제1가진영역(Z1)의 일부 구간이 서로 겹쳐지게 배치되는 것으로 정의된다.
그리고, 제2가진영역(Z2)은 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 방향을 따라 연속적으로 형성되며, 제2가진영역(Z2)의 진폭 및 조건은 가진기로부터 인가되는 진동주파수에 따라 적절히 조절될 수 있다.
약액 도포 유닛(300)은, 기판(10)이 진동플레이트(100)의 상부에 부상된 상태로 이동하는 동안, 기판(10)의 표면에 약액(PR)을 도포하도록 구비되되, 제1가진영역(Z1)에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치(P1)와, 제2가진영역(Z2)에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치(P2)의 중간위치영역(106, Z3)에 배치된다.
여기서, 약액 도포 유닛(300)에 의해 약액이 도포되는 영역은 피처리 기판(10)의 전체 표면일 수도 있고, 다수의 셀 영역으로 분할된 부분일 수도 있다.
구체적으로, 약액 도포 유닛(300)은 기판(10)의 이송 경로 양측에 설치되는 겐트리에 결합되어 기판(10)의 표면에 약액을 도포하도록 구비되되, 중간위치영역(Z3)에 배치되어 중간위치영역(Z3) 상에서 기판(10)의 표면에 약액을 도포한다.
약액 도포 유닛(300)의 저단부에는 기판(10)의 너비와 대응하는 길이의 슬릿 노즐이 형성되며, 슬릿 노즐의 노즐 립(lip)(310)은 제1가진영역(Z1)의 제1위치(P1)와 제2가진영역(Z2)의 제2위치(P2)의 중간위치영역(Z3)에 배치되어, 중간위치영역(Z3)에서 기판(10)의 표면에 약액을 도포한다.
아울러, 약액 도포 유닛(300)에는 예비토출장치(미도시)가 구비되며, 예비토출장치는 슬릿 노즐을 통해 기판(10)상에 약액을 도포하기 직전에 슬릿 노즐 토출구 측에 잔류되어 있는 도포액을 탈락시킴과 아울러 차후 양호한 도포를 위해 토출구를 따라 약액 비드층을 미리 형성할 수 있다.
참고로, 본 발명에서 약액 도포 유닛(300)이, 제1가진영역(Z1)에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치(P1)와, 제2가진영역(Z2)에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치(P2)의 중간위치영역(Z3)에 배치된다 함은, 약액 도포 유닛(300)에 의한 약액 도포 지점이 최대 진폭 지점인 제1위치(P1) 또는 제2위치(P2)에 최대한 겹쳐지지 않고, 상대적으로 진폭이 낮은 제1위치(P1)와 제2위치(P2)의 중간 부위에 배치되는 것으로 이해된다.
바람직하게, 약액 도포 유닛(300)이 배치되는 중간위치영역(Z3)은 제1위치(P1)와 제2위치(P2)의 정중간(P3)을 중심으로 하며, 제1위치(P1)와 제2위치(P2)의 사이 길이(L1)의 80% 미만의 길이를 갖는다. 다시 말해서, 중간위치영역(Z3)의 일측은 제1위치(P1)로부터 사이 길이(L1)의 20%보다 큰 거리로 이격되고, 중간위치영역(Z3)의 타측은 제2위치(P2)로부터 사이 길이(L1)의 20%보다 큰 거리로 이격된다.
더욱 바람직하게, 약액 도포 유닛(300)은 제1위치(P1)와 제2위치(P2)의 정중간(P3) 위치에 배치된다. 이와 같이, 약액 도포 유닛(300)을 진동플레이트(100)에서 상대적으로 가장 진폭이 낮은 제1위치(P1)와 제2위치(P2)의 정중간(P3) 위치에 배치하는 것에 의하여, 실질적으로 약액이 기판(10)에 도포되는 지점에서 진동에 의한 영향을 최소화하는 효과를 얻을 수 있다.
이와 같이, 본 발명은 기판(10)에 작용하는 부상력(진동에너지)에 따른 진동의 영향이 가장 작은 영역(제1가진영역(Z1)과 제2가진영역(Z2)의 중간위치영역(Z3)에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 약액의 도포 균일성을 보장하면서, 얼룩을 억제하는 효과를 얻을 수 있다.
다시 말해서, 기판(10)에 작용하는 부상력(진동에너지)이 가장 크게 작용하는 영역(예를 들어, 제1위치 또는 제2위치)에서는 부상력에 의한 진동이 가장 크게 발생하게 되는데, 기판(10)에 부상력이 크게 작용하는 영역에서 약액의 도포가 이루어지면, 진동에 의한 영향에 의해 약액이 균일하게 도포될 수 없고 얼룩이 발생하는 문제점이 있다. 하지만, 본 발명에서는 진동에 의한 영향이 가장 작은 제1가진영역(Z1)과 제2가진영역(Z2)의 중간위치영역(평면 투영시 제1위치 및 제2위치와 겹쳐지지 않는 영역)(Z3)에서 약액이 도포되도록 하는 것에 의하여, 기판(10)의 표면에 약액을 균일하게 도포할 수 있고, 불균일 도포에 의한 얼룩을 미연에 방지하는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 진동플레이트(100)의 제1폭(수직 방향 폭)(W1)은 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 기판(10)의 제2폭(수직 방향 폭)(W2)보다 크거나 같게 형성되며, 기판(10)의 제2폭(W2)은 진동플레이트(100)의 제1폭(W1)의 영역 내에 위치한다.
이와 같이, 진동플레이트(100)의 제1폭(W1)을 기판(10)의 제2폭(W2)보다 크거나 같게 형성하는 것에 의하여, 진동플레이트(100)에 의해 기판(10)에 작용하는 진동 에너지를 보다 균일하게 조절하고, 기판(10)의 부상력을 보다 정교하게 조절하는 효과를 얻을 수 있다.
다시 설명하면, 진동플레이트(100)가 일정 이상 큰 크기(예를 들어, 기판(10)보다 큰 면적)로 형성되면, 진동플레이트(100)의 전면에 걸쳐 진동 에너지를 균일하게 유지하기 어렵기 때문에 기판(10)의 부상력을 정교하게 조절하기 어렵다. 반면, 진동플레이트(100)가 작은 크기로 형성되면, 진동플레이트(100)의 전면에 걸쳐 진동 에너지를 균일하게 유지시키는데 유리하지만, 각 진동플레이트(100)의 진동 조건을 서로 완벽하게 일치시키기 어렵기 때문에, 기판(10)이 각 진동플레이트(100)의 사이 간극을 통과하는 동안 각 진동플레이트(100)의 진동 편차에 의해 미세한 떨림(terminal effect)이 발생하는 문제가 있다.
이에 본 발명은, 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 진동플레이트(100)의 제1폭(수직 방향 폭)(W1)을 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 기판(10)의 제2폭(수직 방향 폭)(W2)보다 크거나 같게 형성하고, 진동플레이트(100)를 기판(10)이 이송되는 방향을 따라 횡대로 이격되게 배치하는 것에 의하여, 기판(10)이 이송되는 동안 기판(10)의 제2폭(W2) 방향을 따라서 기판(10)에는 단 하나의 진동플레이트(100)에 의한 진동에너지만이 작용되게 함으로써, 기판(10)에 작용하는 진동 에너지를 균일하게 조절할 수 있고, 기판(10)의 부상 높이를 정교하게 제어하는 효과를 얻을 수 있다.
물론, 진동플레이트(100)의 제1폭(수직 방향 폭)을 기판(10)의 제2폭(수직 방향 폭)보다 작게 형성하고 복수개의 진동플레이트(100)를 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 종대로 이격되게 배치하는 것도 가능하지만, 이 경우에는 기판(10)의 제2폭(수직 방향 폭)(W2) 방향을 따른 진동 편차에 의한 떨림(terminal effect)과, 기판(10)의 제1폭(수평 방향 폭)(W2') 방향을 따른 진동 편차에 의한 떨림이 모두 기판(10)에 작용하기 때문에, 기판(10)에 가해하는 진동 에너지를 균일하게 조절하기 어려울 수 있다. 하지만, 본 발명에서는 기판(10)의 제2폭 방향(W2)을 따라서 기판(10)에는 단 하나의 진동플레이트(100)에 의한 진동에너지만이 작용되도록 하는 것에 의하여, 기판(10)의 제2폭(수직 방향 폭) 방향을 따른 진동 편차에 의한 떨림을 방지하고, 기판(10)에 가해하는 진동 에너지를 균일하게 조절하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 기판(10)의 제1폭(W2') 방향을 따라서는 각 진동플레이트(100)의 사이 간극에 의해 터미널 이펙트(terminal effect)가 발생할 수 있으나, 기판(10)의 제1폭(W2') 방향(이송 방향)을 따른 터미널 이펙트는 기판(10)의 제1폭(W2') 방향을 따라 규칙적으로 발생되기 때문에 기판(10) 표면 전체에 평균화된 터미널 이펙트로 적용하는 것이 가능하다.
한편, 진동플레이트(100)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 조건으로 배치될 수 있다.
일 예로, 도 5를 참조하면, 진동플레이트(100)는 수평면에 수평하게 배치되고, 기판(10)은 진동플레이트(100)에 평행하게 부상될 수 있다.
여기서, 수평면(horizontal plane)이라 함은, 중력 방향에 대해 수직인 평면(또는 지평면)을 의미한다.
진동플레이트(100)는 약액 도포 공정중에 약액의 흘러 내림을 방지하고, 약액이 균일하게 도포될 수 있도록 기판(10)을 수평하게 부상시킨다. 이와 같이, 기판(10)은 수평하게 부상되기 때문에, 기판(10)의 표면에 중점도 또는 저점도 약액을 도포하는 것이 가능하다. 일 예로, 기판(10)에는 100 cP(centi-poise)의 중점도 특성을 갖는 약액이 도포될 수 있다.
다시 말해서, 기판(10)이 수평면에 대해 경사지게 부상된 상태에서 기판(10)의 표면에 중점도(100 cP) 약액을 도포하면 약액이 흘러내려 기판(10)의 표면에 약액이 균일하게 도포되기 어려운 문제점이 있다. 하지만, 본 발명에서는 기판(10)이 수평하게 부상되기 때문에, 중점도 약액을 사용하더라도 약액이 흘러내림 없이 균일하게 도포될 수 있다.
참고로, 본 발명의 실시예에서는 중점도(100 cP) 약액이 사용되는 예를 들어 설명하고 있지만, 경우에 따라서는 100 cP보다 낮은 점도의 저점도 약액을 사용하거나, 1000 cP 이상의 고점도 특성을 갖는 약액을 사용하는 것이 가능하며, 고점도 약액을 사용하는 조건에서는 기판을 수평면에 대해 경사지게 부상시킨 상태에서 약액을 균일하게 도포할 수 있다.
다른 일 예로, 도 6을 참조하면, 진동플레이트(100)는 기판(10)의 진행 방향을 따른 일측변(진행 방향을 따른 좌측변 또는 우측변)을 중심으로 수평면에 경사지게 배치되고, 기판(10)은 진동플레이트(100)에 평행하게 부상된다.
수평면에 대한 진동플레이트(100)의 틸팅(tilting) 각도(경사지게 부상된 기판(10)의 틸팅 각도)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 적절히 변경될 수 있으며, 진동플레이트(100)의 틸팅 각도에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
아울러, 기판(10)의 틸팅 각도는 약액(예를 들어, 1000 cP 이상의 고점도 약액)의 흘러 내림을 방지할 수 있는 범위 내에서 자유롭게 설정될 수 있다. 일 예로, 진동플레이트(100)에 의한 기판(10)의 틸팅 각도(θ)는 2°로 설정될 수 있다.
또한, 기판 처리 장치(1)는, 수평면에 대해 경사지게 틸팅된 기판(10)의 일측변을 지지하며 기판(10)을 이송시키는 이송부재(110')를 포함할 수 있으며, 진동플레이트(100)로부터 부상된 기판(10)은 일측변이 이송부재(110')에 의해 지지(접촉)된 상태로 이송부재(110')가 이동함에 따라 이송될 수 있다.
여기서, 틸팅된 상태의 기판(10)의 일측변이 이송부재(110')에 지지(접촉)된다 함은, 기판(10)의 하중(W)이 기판(10)의 일측변을 통해 이송부재(110')에 작용하는 것으로 정의된다.
이송부재(110')는 틸팅된 기판(10)의 일측변을 지지 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 참고로, 본 발명의 실시예에서는 이송부재(110')가 틸팅된 기판(10)의 일측변에 면접촉하는 예를 들어 설명하고 있지만, 경우에 따라서는 이송부재가 기판의 일측변에 선접촉하거나 국부적으로 접촉하도록 구성되는 것도 가능하다.
일 예로, 이송부재(110')는 이송 레일(112)을 따라 직선 이동하도록 구성될 수 있다. 가령, 이송 레일(112)은 N극과 S극의 영구 자석이 교대로 배열되고, 이송부재(110')의 코일에 인가되는 전류 제어에 의하여 정교한 위치 제어가 가능한 리니어 모터의 원리로 구동될 수 있다.
이와 같이, 본 발명은 틸팅된 기판(10)의 하중(W)이 이송부재(110')에 작용하고, 기판(10)의 하중(W)에 의한 마찰력에 의해 기판(10)이 이송부재(110')에 의해 이송되게 하는 것에 의하여, 진공흡착수단과 같은 복잡한 장비없이 기판(10)의 자중(W)을 이용하여 기판(10)을 이송시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
더욱이, 본 발명에서는 기판(10)의 하중(W)을 이용하여 기판(10)을 이송부재(110')에 구속(마찰력을 이용하여 상대 이동 구속)하기 때문에, 다시 말해서, 복잡한 제어 공정(예를 들어, 진공 압력 조절 공정)을 거치지 않고 기판(10)의 일측변을 이송부재(110')에 지지시키는 것에 의하여 이송부재(110')와 기판(10)을 구속할 수 있기 때문에, 구조 및 처리 공정을 간소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
한편, 도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다. 아울러, 전술한 구성과 동일 및 동일 상당 부분에 대해서는 동일 또는 동일 상당한 참조 부호를 부여하고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 진동플레이트(100) 상에 형성되며 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)을 부상시키는 제1가진영역(Z1)과, 제1가진영역(Z1)과 인접하게 진동플레이트(100) 상에 형성되며 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)을 부상시키는 제2가진영역(Z2)과, 제1가진영역(Z1)에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치(P1)와, 제2가진영역(Z2)에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치(P2)의 중간위치영역(Z3)에 배치되며 기판(10)의 표면에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛(300)과, 기판(10)이 진동플레이트(100)를 따라 이송되는 동안 기판(10)에 흡입압을 인가하는 흡입압 형성부(115)를 포함한다.
흡입압 형성부(115)는 기판(10)이 진동플레이트(100)를 따라 이송되는 동안 기판(10)에 흡입압을 인가하여 기판(10)의 떨림 및 요동이 억제될 수 있게 한다.
여기서, 기판(10)에 흡입압이 인가된다 함은, 기판(10)의 표면을 빨아들이는 흡입압(부압)에 의해 기판(10)이 지지(움직이지 않게 구속)되는 상태를 의미하고, 기판(10)에 흡입압이 인가된 상태에서는 흡입압에 의한 지지력에 의해 기판(10)의 떨림 및 요동이 최대한 억제될 수 있다.
흡입압 형성부(115)는 기판(10)에 흡입압을 인가 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 바람직하게, 흡입압 형성부(115)를 약액 도포 유닛(300)에 인접하게 형성하는 것에 의하여, 기판(10)에서 약액의 도포가 이루어지는 영역의 떨림 및 요동을 억제함으로써, 약액을 보다 균일하게 도포하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
일 예로, 흡입압 형성부(115)는 약액 도포 유닛(300)의 노즐 립(310)에 인접하게 진동플레이트(100)(예를 들어, 진동플레이트)에 형성될 수 있다. 다르게는 기판의 상부에 흡입압 형성부를 형성하는 것도 가능하다.
흡입압 형성부(115)는 홈 형태(도 8 참조) 또는 홀 형태(도 7 참조)로 형성될 수 있으며, 흡입압 형성부(115)의 구조 및 형상에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
바람직하게, 도 7과 같이, 기판(10)이 이송되는 방향을 따른 약액 도포 유닛(300)의 전방에 제1흡입압 형성부(115a)를 형성하고, 기판(10)이 이송되는 방향을 따른 약액 도포 유닛(300)의 후방에 제2흡입압 형성부(115b)를 형성하는 것에 의하여, 기판(10)에서 약액이 도포되는 지점(노즐 립의 하부)에 인접한 양단 부위가 흡입압에 의해 각각 지지될 수 있게 함으로써, 진동 및 떨림을 보다 효과적으로 억제하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
다르게는 도 8과 같이, 흡입압 형성부(115)를 약액 도포 유닛(300)과 동일 선상에 배치하는 것도 가능하다. 여기서, 흡입압 형성부(115)와 약액 도포 유닛(300)이 동일 선상을 이룬다 함은, 약액 도포 지점과 흡입압 발생 부위가 서로 동일한 선상에 배치되는 것으로 이해된다.
이와 같이, 흡입압 형성부(115)와 약액 도포 유닛(300)을 동일 선상에 배치하는 것에 의하여, 기판(10)에서 실질적으로 약액이 도포되는 지점의 떨림 및 유동을 효과적으로 억제할 수 있고, 약액의 도포 균일성을 높이는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다. 아울러, 전술한 구성과 동일 및 동일 상당 부분에 대해서는 동일 또는 동일 상당한 참조 부호를 부여하고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 9를 참조하면, 기판 처리 장치는, 약액 도포 유닛(300)의 하부에 배치되며, 약액이 도포되는 프로세싱 존(processing zone)을 상호 협조적으로 형성하는 제1진동플레이트(100a)와 제2진동플레이트(100b)를 포함한다.
일 예로, 제1진동플레이트(100a)와 제2진동플레이트(100b)는 기판(10)이 이송되는 방향에 수직한 방향을 따라 이격되게 분할되어 상호 협조적으로 프로세싱 존을 형성할 수 있다. 아울러, 제1진동플레이트(100a)에는 제1-1가진영역(102)과 제1-2가진영역(104)이 형성되고, 제2진동플레이트(100b)에는 제2-1가진영역(102')과 제2-2가진영역(104')이 형성되며, 약액 도포 유닛(300)의 노즐 립(310)은 제1-1가진영역(102) 및 제2-1가진영역(102')과, 제1-2가진영역(104) 및 제2-2가진영역(104')의 사이 중간위치영역(106)에 배치된다.
경우에 따라서는 3개 이상의 진동플레이트가 프로세싱 존을 형성하는 것도 가능하며, 프로세싱 존을 형성하는 진동플레이트의 개수 및 구조는 요구되는 조건(예를 들어, 가진기 출력)에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 다르게는, 프로세싱 존을 형성 복수개의 진동플레이트가 기판이 이송되는 방향을 따라 이격되게 분할되는 것도 가능하다.
이와 같이, 프로세싱 존을 복수개의 진동플레이트로 구성하고, 각 진동플레이트가 각각 개별적으로 가진되도록 하는 것에 의하여, 거리에 따른 가진 신호의 왜곡없이 각 진동플레이트에서 각 가진영역을 의도한 위치에 정확하게 형성하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
1 : 기판 처리 장치 10 : 기판
100 : 진동플레이트 102 : 제1가진영역
104 : 제2가진영역 106 : 중간위치영역
110 : 이송부재 112 : 이송레일
300 : 약액 도포 유닛 310 : 노즐 립

Claims (25)

  1. 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정을 처리하는 기판 처리 장치에 있어서,
    기판의 이송 경로에 배치되되, 상기 기판이 이송되는 방향에 수직한 제1폭은 상기 기판이 이송되는 방향에 수직한 상기 기판의 제2폭보다 크거나 같게 형성되는 진동플레이트와;
    상기 진동플레이트 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 상기 기판을 부상시키는 제1가진영역과;
    상기 제1가진영역과 인접하게 상기 진동플레이트 상에 형성되며, 초음파에 의한 진동 에너지에 의해 상기 기판을 부상시키는 제2가진영역과;
    상기 제1가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제1위치와, 상기 제2가진영역에서 최대 진폭으로 가진되는 제2위치의 중간위치영역에 배치되며, 상기 기판의 표면에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛을;
    포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 중간위치영역은 상기 제1위치와 상기 제2위치의 정중간을 중심으로 하며, 상기 제1위치와 상기 제2위치의 사이 길이의 80% 미만의 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 약액 도포 유닛은 상기 제1위치와 상기 제2위치의 정중간 위치에 배치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 약액 도포 유닛의 노즐 립(lip)은 상기 중간위치영역에 배치되고, 상기 중간위치영역에서 상기 기판의 표면에 약액을 도포하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1가진영역은 상기 기판이 이송되는 방향에 수직한 방향을 따라 연속적으로 형성되고,
    상기 제2가진영역은 상기 기판이 이송되는 방향에 수직한 방향을 따라 연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판이 상기 진동플레이트를 따라 이송되는 동안 상기 기판에 흡입압을 인가하는 흡입압 형성부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 흡입압 형성부는 상기 약액 도포 유닛에 인접하게 상기 진동플레이트에 형성되며, 상기 흡입압에 의해 상기 진동플레이트에 대해 상기 기판이 지지되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 흡입압 형성부는 홈 또는 홀 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 흡입압 형성부는 상기 기판이 이송되는 방향을 따른 상기 약액 도포 유닛의 전방 및 후방 중 적어도 어느 일측에 구비된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 흡입압 형성부는 상기 약액 도포 유닛과 동일 선상을 이루도록 구비된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동플레이트는 수평면에 수평하게 배치되고,
    상기 기판은 상기 진동플레이트에 평행하게 부상되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  12. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동플레이트는 상기 기판의 진행 방향을 따른 일측변을 중심으로 수평면에 경사지게 배치되고,
    상기 기판은 상기 진동플레이트에 평행하게 부상되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    수평면에 대해 경사지게 틸팅된 상기 기판의 일측변을 지지하며, 상기 기판을 이송시키는 이송부재를 포함하되,
    상기 이송부재에는 상기 기판의 하중이 작용되고, 상기 기판의 하중에 의한 마찰력에 의해 상기 기판은 상기 이송부재에 의해 이송되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 진동플레이트는 상기 기판이 이송되는 방향에 수직한 방향을 따라 이격되게 복수개가 구비되며,
    상기 복수개의 진동플레이트는 상호 협조적으로 상기 약액 도포 유닛의 하부에서 상기 약액이 도포되는 프로세싱 존(processing zone)을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  15. 삭제
  16. 제1항에 있어서,
    상기 진동플레이트는 상기 기판이 이송되는 방향을 따라 이격되게 복수개가 구비되며,
    상기 복수개의 진동플레이트는 상호 협조적으로 상기 약액 도포 유닛의 하부에서 상기 약액이 도포되는 프로세싱 존을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  17. 삭제
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