CN206537949U - 基板移送装置以及包含其的基板处理系统与基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种基板移送装置以及包含其的基板处理系统与基板处理装置，所述基板移送装置对药液涂敷工艺得到处理的基板进行移送，其包括：基板移送部，其包括独立地被分割的多个悬浮部，并且将基板以悬浮的状态进行移送；控制部，其个别地对通过多个悬浮板而产生的悬浮力进行控制，据此，可得到的效果在于，在没有基板的偏转的状态下，使得基板平坦地悬浮，并提高药液的涂敷均匀性。

Description

基板移送装置以及包含其的基板处理系统与基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种基板移送装置以及包含其的基板处理系统，更为具体地涉及一种基板移送装置以及包含其的基板处理系统，其可使得基板平坦地悬浮，可均匀地涂敷药液并抑制污点的产生。

背景技术

在对LCD等平板显示器进行制造的工艺中伴随将抗蚀剂液体等的药液涂敷于由玻璃等制作的被处理基板的表面的涂层(coating)工艺。在LCD的尺寸较小的现有技术中使用了旋转(spin)涂层方法，所述旋转涂层方法在将药液涂敷于被处理基板的中央部的同时，使得被处理基板旋转，据此，将药液涂敷于被处理基板的表面。

但是，随着LCD画面的尺寸大型化，旋转涂层方式几乎不被使用，并且正使用如下方式的涂层方法：使得具有与被处理基板的宽度相对应的长度的狭缝(slit)形态的狭缝喷嘴和被处理基板相对移动，同时从狭缝喷嘴将药液涂敷于被处理基板的表面。

最近，作为一种在所规定的时间内将药液涂层于更多数量的被处理基板的表面的方法的部分，在日本公开专利公报第2005-243670号公开一种如下形式的技术：设置有悬浮平台，所述悬浮平台通过沿着基板被搬入并涂敷且搬出的方向喷出空气来使得基板悬浮，在其两侧设置有形成为吸附板等的基板排出装置，通过停止状态的狭缝喷嘴来将药液供给于连续被供给的被处理基板的表面并进行涂层。

但是，在现有的悬浮式基板涂层器(coater)装置中，具有如下问题：以与基板的尺寸无关的形式构成为一定的悬浮力整体地作用于基板，由此，在得到悬浮的基板的特定部位部分地产生偏转，并且具有如下问题：因为由于基板的偏转而导致的高度差(喷嘴与基板之间的距离差异)，所以产生药液无法均匀地得到涂敷的现象，并且通过如上的药液不均匀涂敷从而产生污点。尤其，具有如下问题：在使得一定以上的较大的尺寸的基板悬浮的情况下，在基板的边缘或中央部产生偏转。

此外，在现有的技术中具有如下问题：以与悬浮力作用于基板的区域无关的形式药液被涂敷于基板的表面，据此如果在悬浮力作用于基板的区域中药液被涂敷，则因为由于在悬浮力作用于基板的区域中产生的振动而造成的影响，所以产生药液无法均匀地得到涂敷的现象，由于如上所述的药液的不均匀涂敷，从而产生污点。

换句话说，在悬浮力作用于基板的区域(空气得以喷出的区域)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是在现有的技术中具有如下问题：在悬浮力作用于基板的区域中实现药液的涂敷，由此药液无法均匀地得到涂敷，从而产生污点。

因此，最近，用于提高基板的悬浮平坦度并提高药液的涂敷均匀性的多种研究正在进行，但是仍存在不足，因此需要对其的开发。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种基板移送装置以及包含其的基板处理系统，所述基板移送装置在没有基板的部分偏转的状态下，可使得基板平坦地悬浮。

尤其，本实用新型的目的在于，可对于在基板的平坦度产生偏差的部位的悬浮力以与其他的部位不同的形式独立地进行控制。

此外，本实用新型的目的在于，提供一种基板处理装置，其在将药液涂敷于基板的过程中，可均匀地涂敷药液，从而抑制污点的产生。

尤其，本实用新型的目的在于，可在受到因作用于基板的悬浮力而产生的振动的影响较小的区域中均匀地涂敷药液。

此外，本实用新型的目的在于，可形成高品质的药液涂覆层，并且可使得收率提高。

根据用于达到所述本实用新型的目的的本实用新型的优选的第一实施例，对药液涂敷工艺得到处理的基板进行移送的基板移送装置包括：基板移送部，其包括独立地被分割的多个悬浮部，并且将基板以悬浮的状态进行移送；控制部，其个别地对通过多个悬浮板而产生的悬浮力进行控制。

这是为了在使得被处理基板悬浮并移送时，个别地对通过多个悬浮部而产生的悬浮力进行控制，从而更稳定地使得基板悬浮。

换句话说，选择性地以相互不同的形式对通过相互协助地使得基板悬浮的多个悬浮部的悬浮力进行控制，换句话说，按照各个部位以相互不同的形式对作用于基板的悬浮力的强度进行调节，据此可得到的有利的效果在于，在没有基板的部分偏转的状态下，使得基板平坦地悬浮。

尤其，在相互协助地使得基板悬浮的多个悬浮部件中对配置于产生基板的偏转的部位(基板的平坦度产生偏差的部位)的至少任意一个悬浮力以比其余的悬浮部的悬浮力相对大的形式进行控制，据此，可得到的有利的效果在于，在没有基板的部分偏转的状态下，使得基板平坦地悬浮。

并且，使得基板平坦地悬浮，从而可得到的有利的效果在于，可均匀地涂敷药液，并且可抑制污点的产生，并且在药液被干燥时，也可整体地对药液进行均匀地干燥。

基板移送部的悬浮部可根据所需的条件及设计样式构成为通过多种方式使得基板悬浮。例如，基板移送部包括多个振动板和多个振动器，并且利用通过超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮，所述多个振动板以独立的形式被分割，所述多个振动器分别以独立的形式使得多个振动板振动。根据不同的情况，作为基板移送部的悬浮部也可使用气体喷射部，所述气体喷射部喷射气体从而使得基板悬浮。不同地，也可构成为基板移送部的悬浮部利用磁力来使得基板悬浮。

此外，多个振动板仅仅通过一个振动器来分别个别地得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在振动信号不被歪曲或干扰的状态下，准确地控制振动板的悬浮力。

尤其，由独立地被分割的多个振动板来构成各个移送部(装载移送部、处理移送部、卸载移动部)，并且各个振动板分别个别地得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在振动信号不被歪曲或干扰的状态下，准确地控制各个振动板的悬浮力。

换句话说，虽然也可将多个振动器安装于一个振动板，但是具有如下问题：若多个振动信号被输入至一个振动板，则由于相互不同的振动信号间的干涉，从而难以准确地调节通过振动板而产生的悬浮力。但是，在本实用新型中，各个振动板分别仅仅通过一个振动器来得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在振动信号不被歪曲及干扰的状态下，准确地控制悬浮力。

并且，若各个移送部仅由一个振动板来构成，则振动器的振动力难以均匀地传递至整体振动板，并且在距离振动器相对远的位置可产生振动信号的歪曲。但是，在本实用新型中由多个振动板来构成各个移送部，并且各个振动板分别个别地得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在没有因距离而导致的振动信号的歪曲的状态下，将均匀的悬浮力形成于振动板的整体面积。

更为具体地，基板移送部包括：装载移送部，其包括独立地被分割的多个第一振动板，并且基板装载于所述装载移送部；处理移送部，其包括以独立地被分割的形式配置的多个第二振动板，并且药液涂敷于基板的表面；卸载移送部，其包括独立地被分割的多个第三振动板，并且涂敷有药液的基板卸载于所述卸载移送部。

此时，多个振动板能够以如下形式配置：沿着基板的移送路径以一维 (one-dimension)或二维(two dimension)的形式被隔开。具体地，多个振动板能够以具有1*n₁(在此n₁是自然数)的一维排列的形式配置，或者以具有(n₂+1)*(n₂+1) (在此，n₂是1以上(n₂≥1)的自然数)的二维排列的形式配置。多个振动板的行(基板被移送的方向)与列(与基板被移送的方向呈垂直的方向)的个数可根据振动板的尺寸以及设计样式进行多种变更，并且本实用新型并非受到振动板的排列的限制或限定。

此外，多个振动板相互可形成为相同的形态及尺寸，或者，不同地，也可将多个振动板中至少一个形成为其他的形态及尺寸。

优选地，构成处理移送部的多个第二振动板沿着基板被移送的方向间隔地配置，在处理移送部中通过第二振动板间的被隔开的间隔区域药液被涂敷于基板的表面。

如上所述，受到因作用于基板的悬浮力(振动能量)而产生的振动的影响最小的区域(第二振动板间的被隔开的间隔区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制污点。

换句话说，在作用于基板的悬浮力(振动能量)以最大的形式起作用的区域(例如，第二振动板的上部)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是，存在的问题在于，若在悬浮力以较大的形式作用于基板的区域中进行药液的涂敷，则因为由于振动而产生的影响，所以药液无法均匀地得到涂敷，并产生污点。但是，在本实用新型中，在受到因振动而产生的影响最小的第二振动板间的被隔开的间隔区域(在进行平面投影时不与第二振动板重叠的区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，可将药液均匀地涂敷于基板的表面，并且预先防止因不均匀涂敷而导致的污点。

并且，振动板可根据所需的条件及设计样式以多种条件来进行配置。

例如，振动板相对于水平面水平地配置，基板能够以平行于振动板的形式悬浮。如上所述，在基板以水平的形式被移送的状态下，药液被涂敷，据此，当然可使用较高的粘度(高粘度1000cP以上)的药液，即使使用较低的粘度(中粘度，100cP)的药液，在药液不往下流的状态下，也可均匀地涂敷药液。

作为另一个例子，振动板以沿着基板的行进方向的一侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，并且基板以平行于振动板的形式悬浮。优选地，包括移送部件，所述移送部件在对相对于水平面倾斜地倾转(tilting)的基板一个侧边进行支撑的同时使得基板移送，基板的荷重作用于移送部件，并且因为由于基板的荷重而产生的摩擦力，所以基板通过移送部件来得到移送。

如上所述，倾斜的基板的荷重作用于移送部件，因为由于基板的荷重而产生的摩擦力，所以基板通过移送部件来得到移送，据此，可得到的有利的效果在于，在没有类似于真空吸附装置的较复杂的设备的状态下，利用基板的自重来使得基板移送。

并且，在本实用新型中，由于利用基板的荷重来将基板约束于移送部件(利用摩擦力来对相对移动进行约束)，换句话说，由于不经过复杂的控制工艺(例如，真空压力调节工艺)，通过将基板的一个侧边支撑于移送部件便可以约束移送部件和基板，因此，可得到的有利的效果在于，简化结构及处理工艺。

此外，可包括将吸入压施加于间隔区域的吸入压形成部，并且可通过形成于间隔区域的吸入压来支撑基板。

如上所述，将吸入压形成于间隔区域，从而吸入压施加于基板，据此，可得到的有利的效果在于，在基板被移送期间抑制基板的抖动以及晃动。

根据本实用新型的优选的其他领域，对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理的基板处理系统包括：基板移送部，其包括多个振动板和多个振动器，并且利用通过超声波而产生的振动能量来将基板以悬浮的状态进行移送，所述多个振动板以独立地被分割的形式被隔开，所述多个振动器分别以独立的形式使得多个振动板振动；控制部，其个别地控制通过多个振动板而产生的悬浮力；药液涂敷单元，其配置于振动板间的以一定间距隔开的间隔区域，并且将药液涂敷于基板的表面。

如上所述，选择性地以相互不同的形式对通过多个振动板而产生的悬浮力进行控制，换句话说，按照各个部位以相互不同的形式对作用于基板的悬浮力的强度进行调节，据此，可得到的有利的效果在于，在没有基板的部分的偏转的状态下，使得基板平坦地悬浮。

尤其，在相互协助地使得基板悬浮的多个振动板中对配置于产生基板的偏转的部位 (基板的平坦度产生偏差的部位)的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制，据此，可得到的有利的效果在于，在没有基板的部分偏转的状态下，使得基板平坦地悬浮。

并且，在受到因作用于基板的悬浮力(振动能量)而产生的振动的影响最小的区域(第二振动板间的被隔开的间隔区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制污点。

具体地，基板移送部包括：装载移送部，其包括独立地被分割的多个第一振动板，并且基板装载于所述装载移送部；处理移送部，其包括以独立地被分割的形式配置的多个第二振动板，并且药液涂覆于基板的表面；卸载移送部，其包括独立地被分割的多个第三振动板，并且涂敷有药液的基板卸载于所述卸载移送部。

此时，多个振动板能够以如下形式配置：沿着基板的移送路径以一维(one-dimension)或二维(two dimension)的形式被隔开。

此外，多个振动板相互可形成为相同的形态及尺寸，或者，不同地，也可将多个振动板中至少一个形成为其他的形态及尺寸。

优选地，构成处理移送部的多个第二振动板沿着基板被移送的方向间隔地配置，药液涂敷单元的喷嘴边缘(lip)配置于第二振动板间的被隔开的间隔区域的正中间位置。如上所述，在受到因作用于基板的悬浮力(振动能量)而产生的振动的影响最小的区域 (第二振动板间的被隔开的间隔区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制污点。

此外，可包括将吸入压施加于第二振动板间的被隔开的间隔区域的吸入压形成部，并且通过形成于间隔区域的吸入压来支撑基板，据此，可得到的有利的效果在于，在基板被移送期间抑制基板的抖动以及晃动。

根据用于达成所述本实用新型的目的的本实用新型的优选的第三实施例，对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理的基板处理装置包括：振动板，其配置于基板的移送路径；第一振动区域，其形成于振动板上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮；第二振动区域，其以与第一振动区域邻接的形式形成于振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮；药液涂敷单元，其配置于第一位置和第二位置的中间位置区域，并且将药液涂敷于基板的表面，所述第一位置在第一振动区域中被振动为最大振幅，所述第二位置在第二振动区域中被振动为最大振幅。

这是为了在将药液涂敷于基板的表面时，受到因作用于基板的悬浮力而产生的振动的影响最小的区域中药液得到涂敷，从而在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制由于涂敷不均匀而产生的污点。

换句话说，在悬浮力以最大的形式作用于基板的区域(最大振幅的振动能量被施加的区域)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是存在的问题在于，若在悬浮力以较大的形式作用于基板的区域中进行药液的涂敷，则因为由于振动而产生的影响，所以药液无法均匀地得到涂敷并且产生污点。

由此，本实用新型可得到的有利的效果在于，在受到因振动而产生的影响最小的第一振动区域和第二振动区域的中间位置区域(在进行平面投影时不与第一振动区域及第二振动区域的最大振幅地点重叠的区域)中药液得到涂敷，从而可将药液均匀地涂敷于基板的表面，并且预先防止因不均匀涂敷而导致的污点。

尤其，本实用新型中，药液涂敷单元的喷嘴边缘(lip)配置于第一位置和第二位置的中间位置区域，所述第一位置在第一振动区域中以最大振幅进行振动，所述第二位置在第二振动区域中以最大振幅进行振动，据此，可得到的有利的效果在于，因为可在受到因为振动而产生的影响最小的区域中涂敷药液，所以提高药液的涂敷均匀性。

优选地，配置有药液涂敷单元的中间位置区域以第一位置和第二位置的正中间为中心，并且具有小于第一位置和第二位置的间隔长度L1的80％的长度。更为优选地，药液涂敷单元配置于第一位置和第二位置的正中间位置。如上所述，将药液涂敷单元配置于在振动板上振幅相对较低的第一位置和第二位置的中间位置区域(特别是，正中间)，据此，可得到的效果在于，在实质上药液被涂敷于基板的地点使得因振动而产生的影响最小化，从而在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制污点。

换句话说，在作用于基板的悬浮力(振动能量)以最大的形式起作用的区域(例如，第一位置或第二位置)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是，存在的问题在于，若在悬浮力以较大的形式作用于基板的区域中进行药液的涂敷，则因为由于振动而产生的影响，所以药液无法均匀地得到涂敷，并产生污点。但是，在本实用新型中，在受到因振动而产生的影响最小的第一振动区域和第二振动区域的中间位置区域(在进行平面投影时不与第一位置以及第二位置重叠的区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，可将药液均匀地涂敷于基板的表面，并且预先防止因不均匀涂敷而导致的污点。

此外，可包括吸入压形成部，其在基板沿着振动板被移送期间，将吸入压施加于基板。

在此，所谓的吸入压被施加于基板指的是通过用于吸附基板的表面的吸入压(负压)，基板被支撑(以防止移动的形式被约束)的状态，在吸入压被施加于基板的状态下，可通过因吸入压而产生的支撑力来最大程度地抑制基板的抖动以及晃动。

吸入压形成部可形成为能够将吸入压施加于基板的多种结构。优选地，以与药液涂敷单元邻近的形式形成吸入压形成部，据此，可得到的有利的效果在于，抑制在基板上实现药液的涂敷的区域的抖动以及晃动，从而更加均匀地涂敷药液。

例如，吸入压形成部能够以与药液涂敷单元的喷嘴边缘邻近的形式形成于振动板。不同地，也可将吸入压形成部形成于基板的上部。在此，吸入压形成部可形成为槽形态或孔形态。

优选地，分别将吸入压形成部形成于沿着基板被移送的方向的药液涂敷单元的前方及后方，据此，可得到的有利的效果在于，在基板上与药液被涂敷的地点(喷嘴边缘的下部)邻近的两端部位分别可通过吸入压来得到支撑，从而更加有效地抑制振动以及晃动。不同地，也可以将吸入压形成部配置于与药液涂敷单元相同的线上。

并且，垂直于基板被移送的方向的振动板的第一宽度(竖直方向宽度)以比垂直于基板被移送的方向的基板的第二宽度(竖直方向宽度)大或相同的形式形成。

如上所述，由于以比基板的第二宽度大或相同的形式形成振动板(振动板)的第一宽度，因此，可得到的效果在于，更为均匀地调节通过振动板(振动板)来作用于基板的振动能量，并更为精致地调节基板的悬浮力。

换句话说，若振动板以一定以上的较大的尺寸(例如，大于基板的面积)形成，则难以在振动板的整个面上均匀地保持振动能量，因此难以精致地调节基板的悬浮力。反之，若振动板以较小的尺寸形成，则有利于在振动板的整个面上均匀地保持振动能量，但存在的问题在于，难以使得各个振动板的振动条件相互完美地保持一致，因而在基板通过各个振动板之间的缝隙时，由于各个振动板的振动偏差而导致产生微小的抖动(te rminaleffect)。

据此，本实用新型可得到的效果在于，垂直于基板被移送的方向的振动板的第一宽度(竖直方向宽度)以比垂直于基板被移送的方向的基板的第二宽度(竖直方向宽度) 大或相同的形式形成，且沿着基板被移送的方向横向间隔地配置振动板，据此在基板被移送期间，沿着基板的第二宽度W2方向，只有由一个振动板而产生的振动能量作用于基板，由此，可均匀地调节作用于基板的振动能量，并精致地控制基板的悬浮高度。

振动板可根据所需的条件及设计样式配置为多种条件。

例如，振动板相对于水平面水平地配置，基板能够以平行于振动板的形式悬浮。如上所述，在基板以水平的形式被移送的状态下，药液被涂敷，据此，当然可使用较高的粘度(高粘度1000cP以上)的药液，即使使用较低的粘度(中粘度，100cP)的药液，在药液不往下流的状态下，也可均匀地涂敷药液。

作为另一个例子，振动板以沿着基板的行进方向的一个侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，并且基板以平行于振动板的形式悬浮。优选地，包括移送部件，所述移送部件对相对于水平面倾斜地倾转的基板的一个侧边进行支撑并使得基板移送，并且基板的荷重作用于移送部件，因为由于基板的荷重而产生的摩擦力，所以基板通过移送部件来得到移送。

如上所述，倾斜的基板的荷重作用于移送部件，因为由于基板的荷重而产生的摩擦力，所以基板通过移送部件来得到移送，据此，可得到的有利的效果在于，在没有类似于真空吸附装置的较复杂的设备的状态下，利用基板的自重来使得基板移送。

并且，在本实用新型中，由于利用基板的荷重来将基板约束于移送部件(利用摩擦力来对相对移动进行约束)，换句话说，由于不经过复杂的控制工艺(例如，真空压力调节工艺)，通过将基板的一个侧边支撑于移送部件便可以约束移送部件和基板，因此，可得到的有利的效果在于，简化结构及处理工艺。

根据本实用新型的优选的第四实施例，对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理的基板处理装置包括：第一振动板，其配置于基板的移送路径；第一-一振动区域，其形成于第一振动板上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮；第一-二振动区域，其以与第一振动区域相邻接的形式形成于振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮；第二振动板，其配置为沿着与基板被移送的方向呈垂直的方向距离第一振动板一定的间距；第二-一振动区域，其以与第一-一振动区域形成于相同的线上的形式形成于第二振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮；第二-二振动区域，其以与第一-二振动区域形成于相同的线上，并且以与第二- 一振动区域邻接的形式形成于振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮；药液涂敷单元，其配置于第一位置和第二位置的中间位置区域，并且将药液涂敷于基板的表面，所述第一位置在第一-一振动区域以及第二-一振动区域中分别以最大振幅进行振动，所述第二位置在第一-二振动区域以及第二-二振动区域中分别以最大振幅进行振动。

如上所述，在因振动而产生影响较小的第一-一振动区域及第二-一振动区域与第一- 二振动区域及第二-二振动区域的中间位置区域(在进行平面投影时不与各个振动区域的最大振幅地点重叠的区域)中药液得到涂敷，据此，可得到的效果在于，可将药液均匀地涂敷于基板的表面，并且预先防止由不均匀涂敷而导致的污点。

并且，由多个振动板(第一振动板和第二振动板)来构成处理区域，并且各个振动板分别个别地得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在没有因距离而导致的振动信号的歪曲的状态下，在各个振动板将各个振动区域准确地形成于想要的位置。

换句话说，若将多个振动器安装于一个振动板，则因为相互不同的振动信号间的干涉，所以难以将第一振动区域和第二振动区域形成于想要的准确的位置。由此，为了将第一振动区域和第二振动区域形成于想要的位置，而只可使用一个振动器。但是，随着振动板的尺寸变大，例如，若仅由一个振动板构成处理区域，则振动器的振动力难以均匀地传递至振动板的整体面积，并且在距离振动器相对远的位置上可能会产生振动信号的歪曲，由此，难以将各个振动区域准确地形成于想要的位置。但是，在本实用新型中，由多个振动板构成处理区域，并且各个振动板分别个别地得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在没有因距离而导致的振动信号的歪曲的状态下，在各个振动板将各个振动区域准确地形成于想要的位置。

优选地，配置有药液涂敷单元的中间位置区域以第一位置和第二位置的正中间为中心，并且具有小于第一位置和第二位置的间隔长度L1的80％的长度。更为优选地，药液涂敷单元配置于第一位置和第二位置的正中间位置。如上所述，将药液涂敷单元配置于在振动板上振幅相对较低的第一位置和第二位置的中间位置区域(特别是，正中间)，据此，可得到的效果在于，在实质上药液被涂敷于基板的地点使得因振动而产生的影响最小化，从而在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制污点。

换句话说，在作用于基板的悬浮力(振动能量)以最大的形式起作用的区域(例如，第一位置或第二位置)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是，存在的问题在于，若在悬浮力以较大的形式作用于基板的区域中进行药液的涂敷，则因为由于振动而产生的影响，所以药液无法均匀地得到涂敷，并产生污点。但是，在本实用新型中，在受到因振动而产生的影响最小的第一振动区域和第二振动区域的中间位置区域(在进行平面投影时不与第一位置以及第二位置重叠的区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，可将药液均匀地涂敷于基板的表面，并且预先防止因不均匀涂敷而导致的污点。

此外，可包括吸入压形成部，其在基板沿着第一振动板和第二振动板被移送期间，将吸入压施加于基板。

在此，所谓的吸入压被施加于基板指的是通过用于吸附基板的表面的吸入压(负压)，基板被支撑(以防止移动的形式被约束)的状态，在吸入压被施加于基板的状态下，可通过因吸入压而产生的支撑力来最大程度地抑制基板的抖动以及晃动。

吸入压形成部可形成为能够将吸入压施加于基板的多种结构。优选地，以与药液涂敷单元邻近的形式形成吸入压形成部，据此，可得到的有利的效果在于，抑制在基板上实现药液的涂敷的区域的抖动以及晃动，从而更加均匀地涂敷药液。

例如，吸入压形成部能够以与药液涂敷单元的喷嘴边缘邻近的形式形成于第一振动板和第二振动板。不同地，也可将吸入压形成部形成于基板的上部。在此，吸入压形成部可形成为槽形态或孔形态。

优选地，分别将吸入压形成部形成于沿着基板被移送的方向的药液涂敷单元的前方及后方，据此，可得到的有利的效果在于，在基板上与药液被涂敷的地点(喷嘴边缘的下部)邻近的两端部位分别可通过吸入压来得到支撑，从而更加有效地抑制振动以及晃动。不同地，将吸入压形成部也可以配置于与药液涂敷单元相同的线上。

如上所述，根据本实用新型，在将药液涂敷于基板的表面时，受到因作用于基板的悬浮力而产生的振动的影响最小的区域中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制由于涂敷不均匀而产生的污点。

换句话说，在悬浮力以最大的形式作用于基板的区域(最大振幅的振动能量起作用的区域)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是存在的问题在于，若在悬浮力以较大的形式作用于基板的区域中实现药液的涂敷，则因为由于振动而产生的影响，所以药液无法均匀地得到涂敷并且产生污点。

但是，根据本实用新型，在受到因振动而产生的影响最小的第一振动区域和第二振动区域的中间位置区域(在进行平面投影时不与第一振动区域及第二振动区域重叠的区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，可将药液均匀地涂敷于基板的表面，并且预先防止因不均匀涂敷而导致的污点。

此外，根据本实用新型，通过振动能量，基板被悬浮，据此，可得到的效果在于，精致地控制基板的悬浮力，并且沿着基板被移送的方向横向间隔地配置用于构成悬浮单元的振动板，从而可均匀地调节作用于基板的振动能量，并且精致地控制基板的悬浮高度。

此外，根据本实用新型，通过吸入压形成部，吸入压被施加于基板，据此，可得到的有利的效果在于，抑制在基板实现药液的涂敷的区域的抖动以及晃动，从而更加均匀地涂敷药液。

此外，根据本实用新型，在基板以水平的形式被悬浮的状态下，药液被涂敷，据此，当然可使用较高的粘度(高粘度1000cP以上)的药液，即使使用较低的粘度(中粘度，100cP)的药液，在药液不往下流的状态下，也可均匀地涂敷药液。

此外，根据本实用新型，倾斜的基板的荷重作用于移送部件，因为由于基板的荷重而产生的摩擦力，所以基板通过移送部件来得到移送，据此，可得到的有利的效果在于，在没有类似于真空吸附装置的较复杂的设备的状态下，利用基板的自重来使得基板移送。

此外，根据本实用新型可得到的有利的效果在于，可形成高品质的药液涂敷层，并使得收率提高。

附图说明

图1及图2是用于说明根据本实用新型的第一实施例的基板处理系统的图。

图3及图4是用于说明图1的装载移送部的图。

图5及图6是用于说明图1的处理移送部的图。

图7及图8是用于说明图1的卸载移送部的图。

图9是用于说明图1的振动板的变形例的图。

图10及图11是用于说明通过图1的振动板使得基板悬浮的过程的图。

图12是用于说明根据本实用新型的第二实施例的基板移送装置的图。

图13是用于说明根据本实用新型的第三实施例的基板处理装置的图。

图14至图16是用于说明图13的基板处理装置的第一振动区域与第二振动区域和中间位置区域的图。

图17及图18是用于说明通过图13的振动板使得基板悬浮的过程的图。

图19及图20是用于说明根据本实用新型的第四实施例的基板处理装置的图。

图21是用于说明根据本实用新型的第五实施例的基板处理装置的图。

具体实施方式

以下，虽然参照附图对本实用新型的优选的实施例进行详细说明，但是本实用新型并非受到实施例的限制或限定。作为参考，本说明中相同的标号实质上指代相同的要素，并且在所述规则下，可引用其他附图中所记载的内容来说明，并且可省略对于从业者判断为显而易见的或反复出现的内容。

图1及图2是用于说明根据本实用新型的第一实施例的基板处理系统的图。此外，图3及图4是用于说明图1的装载移送部的图，图5及图6是用于说明图1的处理移送部的图，图7及图8是用于说明图1的卸载移送部的图。此外，图9是用于说明图1的振动板的变形例的图，图10及图11是用于说明通过图1的振动板使得基板悬浮的过程的图。

参照图1至图11，根据本实用新型的第一实施例的对针对被处理基板10的药液涂敷工艺进行处理的基板处理系统1包括：基板移送部100，其包括多个振动板112、122、 132与多个振动器114、124、134，并且利用通过超声波而产生的振动能量来将基板10 以悬浮的状态进行移送，所述多个振动板112、122、132以独立地被分割的形式被隔开，所述多个振动器114、124、134分别以独立的形式使得多个振动板112、122、132振动；控制部200，其个别地对通过多个振动板112、122、132而产生的悬浮力进行控制；药液涂敷单元300，其配置于振动板122间的以一定间距隔开的间隔区域122a，并且将药液涂敷于基板10的表面。

基板移送部100的设置是为了利用通过超声波而产生的振动能量来将基板10以悬浮的状态进行移送。

基板移送部100包括：多个振动板，其以独立的形式被分割；多个振动器，其分别以独立的形式使得多个振动板振动。

在此，所谓的多个振动板112、122、132以独立的形式被分割指的是，多个振动板112、122、132以相互隔开的形式配置，并且通过多个振动板112、122、132而产生的悬浮力分别个别地作用于基板10。此外，所谓的多个振动器114、124、134分别以独立的形式使得多个振动板112、122、132振动指的是分别在每个多个振动板112、122、132 中安装一个振动器114、124、134。

以下，举例说明如下构成：基板移送部100包括：装载移送部110，其装载基板10；处理移送部120，其在基板10的表面涂敷药液；卸载移送部130，涂敷有药液的基板1 0卸载于所示卸载移送部130。

作为参考，在清洗处理单元中完成清洗工艺的基板10随着装载移送部110被移送至处理移送部120，并且在移送至处理移送部120的基板10的表面涂敷药液。之后，涂敷有药液的基板10在随着卸载移送部130被移送期间，通过加热干燥单元来得到加热，由此药液得到干燥。

作为参考，在本实用新型的实施例中，举例说明如下构成：基板移送部包括多个振动板和多个振动器，并利用通过超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮，但是根据不同的情况，作为独立地被分割并个别地使得基板悬浮的基板移送部的悬浮部也可使用气体喷射部，所述气体喷射部喷射气体从而使得基板悬浮。不同地，也可构成为多个悬浮部利用磁力来使得基板悬浮。

更为具体地，参照图3及图4，装载移送部110包括多个第一振动板112，所述多个第一振动板112以独立的形式被分割。

多个第一振动板112沿着基板10的移动路径以间隔规定间距并相互隔开的形式配置，并且利用通过超声波而产生的振动能量来相互协助地使得基板10悬浮。

在此，所谓的基板10被悬浮指的是基板10以间隔规定间距的形式浮于空中的状态，并且悬浮于第一振动板112的上部的基板10通过沿着移送轨道102a进行直线移动的移送部件102来得到移送。

并且，所谓的多个第一振动板112相互协助地使得基板10悬浮指的是通过至少两个以上的第一振动板112而产生的悬浮力同时作用于基板10。

第一振动板112根据所需的条件及设计样式可形成为具有多种形态及尺寸，并且本实用新型并非受到第一振动板112的形态及尺寸的限制或限定。

例如，多个第一振动板112相互形成为相同的四角板形状及尺寸，并且以间隔规定间距的形式被隔开配置，在每个第一振动板112的底面安装有一个第一振动器114，所述第一振动器114通过产生超声波来使得第一振动板112振动。

如上所述，各个第一振动板112仅通过一个第一振动器114来分别个别地得到振动，据此，可得到的效果在于，准确地控制各个第一振动板112的悬浮力。当然，虽也可以将多个振动器安装于一个第一振动板，但是具有如下问题：若多个振动信号被输入至一个第一振动板，则因为相互不同的振动信号间的干涉，所以难以准确地调节通过第一振动板而产生的悬浮力。但是，在本实用新型中，各个第一振动板112仅通过一个第一振动器114来得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在振动信号不被歪曲及干扰的状态下，准确地控制悬浮力。

作为参考，在本实用新型的实施例中以多个第一振动板112相互形成为相同的形态及尺寸为例进行说明，但是，根据不同的情况，也可将多个第一振动板形成为相互不同的形态及尺寸。

优选地，参照图9，多个第一振动板112(或第三振动板)中配置于基板10的边缘的至少任意一个形成为比其余的振动板小的尺寸。如上所述，将配置于最常产生基板1 0的偏转的最外围边缘的第一振动板112(或第三振动板)的尺寸(宽度)比其他的第一振动板(或第三振动板)形成得小，据此，不对基板10的正常悬浮部位(平坦地得到悬浮的部位)造成影响，并且准确地将可补偿偏转的校正的悬浮力只施加于偏转产生部位(基板的边缘)。

并且，多个第一振动板112能够以如下形式配置：沿着基板10的移送路径以一维(one-dimension)或二维(two dimension)的形式被隔开。

具体地，多个第一振动板112能够以具有1*n₁(在此n₁是自然数)的一维排列的形式配置，或者以具有(n₂+1)*(n₂+1)(在此，n₂是1以上(n₂≥1)的自然数)的二维排列的形式配置。此时，多个第一振动板112的行(基板10被移送的方向)与列(与基板10被移送的方向呈垂直的方向)的个数可根据第一振动板112的尺寸以及设计样式进行多种变更。根据不同的情况，多个第一振动板可配置为其他不同的排列，并且本实用新型并非受到第一振动板的排列的限制或限定。

移送部件102可构成为沿着移送轨道102a进行直线移动。假设，移送轨道以交替的形式排列有N极与S极的永久磁铁，并且可用通过施加于移送部件120'的线圈的电流控制而可进行精确的位置控制的线性马达的原理来得到驱动。

参照图5及图6，处理移送部120包括多个第二振动板122，所述多个第二振动板122以独立的形式被分割。

多个第二振动板122沿着基板10的移动路径以间隔规定间距并相互隔开的形式配置，并且利用通过超声波而产生的振动能量来相互协助地使得基板10悬浮。

在此，所谓的多个第二振动板122相互协助地使得基板10悬浮指的是通过至少两个以上的第二振动板122而产生的悬浮力同时作用于基板10。并且，悬浮于第二振动板1 22的上部的基板10通过沿着移送轨道102a进行直线移动的移送部件102来得到移送。

第二振动板122根据所需的条件及设计样式可形成为具有多种形态及尺寸，并且本实用新型并非受到第二振动板122的形态及尺寸的限制或限定。

例如，多个第二振动板122相互形成为相同的四角板形状及尺寸，并且以间隔规定间距并被隔开的形式配置，在每个第二振动板122的底面安装有一个第二振动器124，所述第二振动器124通过产生超声波来使得第二振动板122振动。

作为参考，在本实用新型的实施例中以多个第二振动板122相互形成为相同的形态及尺寸为例进行说明，但是，根据不同的情况，也可将多个第二振动板形成为相互不同的形态及尺寸。

优选地，处理移送部120包括至少两个第二振动板122，所述至少两个第二振动板122沿着基板10被移送的方向间隔地配置，在处理移送部120中通过第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a(Z1)药液被涂敷于所述基板10的表面。根据不同的情况，多个第二振动板也能够以二维(例如，四个第二振动板122以2*2的形式得到排列)的形式被隔开地配置。

参照图7及图8，卸载移送部130包括第三振动板132，所述第三振动板132以独立的形式被分割。

多个第三振动板132沿着基板10的移动路径以间隔规定间距的形式相互间隔地配置，并且利用通过超声波而产生的振动能量来相互协助地使得基板10悬浮。

在此，所谓的基板10被悬浮指的是基板10以间隔规定间距的形式浮于空中的状态，并且悬浮于第三振动板132的上部的基板10通过沿着移送轨道102a进行直线移动的移送部件102来得到移送。

并且，所谓的多个第三振动板132相互协助地使得基板10悬浮指的是通过至少两个以上的第三振动板132而产生的悬浮力同时作用于基板10。

第三振动板132根据所需的条件及设计样式可形成为具有多种形态及尺寸，并且本实用新型并非受到第三振动板132的形态及尺寸的限制或限定。

例如，多个第三振动板132相互形成为相同的四角板形状及尺寸，并且以间隔规定间距的形式被隔开地配置，在每个第三振动板132的底面安装有一个第三振动器134，所述第三振动器134通过产生超声波来使得第一振动板112振动。

作为参考，在本实用新型的实施例中以多个第三振动板132相互形成为相同的形态及尺寸为例进行说明，但是，根据不同的情况，也可将多个第三振动板形成为相互不同的形态及尺寸。

并且，多个第三振动板132能够以如下形式配置：沿着基板10的移送路径以一维(one-dimension)或二维(two dimension)的形式被隔开。

具体地，多个第三振动板132能够以具有1*n₁(在此n₁是自然数)的一维排列的形式配置，或者以具有(n₂+1)*(n₂+1)(在此，n₂是1以上(n₂≥1)的自然数)的二维排列的形式配置。此时，多个第三振动板132的行(基板10被移送的方向)与列(与基板10被移送的方向呈垂直的方向)的个数可根据第一振动板112的尺寸以及设计样式进行多种变更。根据不同的情况，多个第三振动板可配置为其他不同的排列，并且本实用新型并非受到第三振动板的排列的限制或限定。

另外，第一振动板112至第三振动板132可根据所需的条件及设计样式以多种条件来得到配置。

例如，参照图10，第一振动板112至第三振动板132相对于水平面水平地配置，并且基板10能够以平行于第一振动板112至第三振动板132的形式悬浮。

在此，所谓的水平面(horizontal plane)指的是相对于重力方向垂直的平面(或地平面)。

尤其，第二振动板122使得基板10以水平的形式悬浮，以便防止在药液涂敷工艺中药液往下流，并且药液可均匀地得到涂敷。如此，由于基板10以水平的形式得到悬浮，因此可在基板10的表面涂敷中粘度或低粘度药液。例如，在基板10可涂敷具有100cP (centi-poise)的中粘度特性的药液。

换句话说，如果在基板10以相对于水平面倾斜地得到悬浮的状态下在基板10的表面涂敷中粘度(100cP)药液，则存在药液往下流从而药液难以均匀地涂敷于基板10的表面的问题。但是，由于本实用新型中基板10以水平的形式得到悬浮，因此即使使用中粘度药液，药液也不会往下流从而可均匀地被涂敷。

作为参考，在本实用新型的实施例中，虽然以使用中粘度(100cP)药液为例进行说明，但根据不同的情况，可使用低于100cP的粘度的低粘度药液或使用具有1000cP以上的高粘度特性的药液，并且在使用高粘度药液的条件下，在使得基板10相对于水平面倾斜地悬浮的状态下可均匀地涂敷药液。

作为另一个例子，参照图11，第一振动板112至第三振动板132以沿着基板10的行进方向的一个侧边(沿着行进方向的左侧边或右侧边)为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，并且基板10以平行于第一振动板112至第三振动板132的形式悬浮。

相对于水平面的第一振动板112至第三振动板132的倾斜(tilting)角度(倾斜地得到悬浮的基板的倾斜角度)可根据所需的条件及设计样式适当地变更，且本实用新型并非受到第一振动板112至第三振动板132的倾斜角度的限制或限定。

并且，基板10的倾斜角度可自由地设定在能够防止药液(例如，1000cP以上的高粘度药液)往下流的范围内。例如，通过第一振动板112至第三振动板132的基板10 倾斜角度θ可设定为2°。

此外，基板10处理装置1可包括移送部件102'，所述移送部件102'对相对于水平面倾斜的基板10的一个侧边进行支撑并使得基板10移送，并且从第一振动板112至第三振动板132得到悬浮的基板10以一个侧边被移送部件102'支撑(接触)的状态随着移送部件102'的移动而被移送。

在此，所谓倾斜状态的基板10的一个侧边支撑(接触)于移送部件102'指的是基板10的荷重W通过基板10的一个侧边而作用于移送部件102'。

移送部件102'可形成为能够对倾斜的基板10的一个侧边进行支撑的多种结构。作为参考，在本实用新型的实施例中，虽然以移送部件102'面接触于倾斜的基板10的一个侧边为例进行说明，但是根据不同的情况，也可构成为移送部件线接触于基板10的一个侧边或局部地接触于基板10的一个侧边。

例如，移送部件102'可构成为沿着移送轨道102a进行直线移动。假设，移送轨道112以交替的形式排列有N极与S极的永久磁铁，并且可用通过施加于移送部件102'的线圈的电流控制而可进行精确的位置控制的线性马达的原理来得到驱动。

如此，本实用新型可得到的有利的效果在于，倾斜的基板10的荷重W作用于移送部件102'，因为由于基板10的荷重W而产生的摩擦力，所以基板10通过移送部件102' 来得到移送，据此，在没有类似于真空吸附装置的较复杂的设备的状态下，利用基板1 0的自重W来使得基板10移送。

并且，在本实用新型中，由于利用基板10的荷重W来将基板10约束于移送部件102'(利用摩擦力来对相对移动进行约束)，换句话说，由于不经过复杂的控制工艺(例如，真空压力调节工艺)，通过使得基板10的一个侧边支撑于移送部件102'便可以约束移送部件102'和基板10，因此，可得到的有利的效果在于，简化结构及处理工艺。

控制部200个别地对通过多个振动板(第一振动板至第三振动板)112、122、132 而产生的悬浮力进行控制。

在此，所谓的控制部200个别地对通过多个振动板112、122、132而产生的悬浮力进行控制指的是，多个振动板112、122、132的悬浮力通过控制部200被开/关或调节。

如上所述，个别地对由于相互协助地使得基板10悬浮的多个振动板112、122、132而产生的悬浮力进行控制，据此，可得到的有利的效果在于，根据工艺条件(例如，基板10的尺寸变化)等，按照各个部位来调节作用于基板10的悬浮力，从而使得基板1 0稳定地悬浮。

优选地，参照图4及图8，控制部200选择性地以相互不同的形式对通过多个振动板(第一振动板至第三振动板)112、122、132而产生的悬浮力进行控制。如上所述，选择性地以相互不同的形式对通过多个振动板(第一振动板至第三振动板)112、122、 132而产生的悬浮力进行控制(以相互不同的形式对悬浮力的强度进行控制)，据此，可得到的效果在于，按照各个部位以相互不同的形式对作用于基板10的悬浮力进行调节。

尤其，控制部200在相互协助地使得基板10悬浮的多个振动板112、122、132中对配置于产生基板10的偏转的部位的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制，据此，可得到的效果在于，在没有基板10的部分的偏转的状态下，使得基板10平坦地悬浮。

假设，若使得一定以上较大的尺寸的基板悬浮，则存在在基板的边缘或中央部部位部分地产生偏转的问题，并且存在如下问题：因为由于基板的偏转而导致的高度差(药液涂敷单元与基板之间的距离差异)，所以产生药液无法均匀地得到涂敷的现象，由于如上所述的药液的不均匀涂敷从而产生污点。此外，存在的问题在于，若产生基板的偏转，则在药液被干燥时，药液也无法得到均匀地干燥。但是，在本实用新型中，在多个振动板112、122、132中对配置于产生基板10的偏转的部位(基板的平坦度产生偏差的部位)的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制，据此，可得到的有利的效果在于，使得基板10平坦地悬浮。

例如，参照图4及图8，控制部200以最大的形式对配置于最常产生基板10的偏转的部位(基板的边缘)的第一振动板112(或第三振动板)的悬浮力进行控制，并且以较低的形式对配置于较少产生基板10的偏转的部位的第一振动板112(或第三振动板) 的悬浮力进行控制，从而可使得基板10平坦地悬浮。并且，通过多个第一振动板112 (或第三振动板)而产生的悬浮力能够以距离偏转产生部分越远逐渐越变小的形式得到控制。根据不同的情况，如图9所示，也可以只对配置于最常产生基板10的偏转的最外围边缘的第一振动板112(或第三振动板)的悬浮力以比其他的第一振动板大的形式进行控制。

药液涂敷单元300形成为，在基板10以悬浮于第二振动板122的上部的状态进行移动期间，将药液PR涂敷于基板10的表面。

在此，通过药液涂敷单元300来涂敷药液的区域也可以是被处理基板10的整体表面，也可以是被分割为多个单元区域的部分。

优选地，药液涂敷单元300配置于第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a(Z1)，并且将药液涂敷于基板10的表面。

更为具体地，在药液涂敷单元300的底端部形成有与基板10的宽度相对应的长度的狭缝喷嘴，并且狭缝喷嘴的喷嘴边缘(lip)310配置于第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a(Z1)，在间隔区域122a上将药液涂敷于基板10的表面。

并且，在药液涂敷单元300设置有预备排出装置(未示出)，就预备排出装置而言，在通过狭缝喷嘴将药液涂敷于基板10上之前，为了使得残留于狭缝喷嘴排出口侧的涂敷液脱落，同时为了以后良好的涂敷，而可沿着排出口预先形成药液珠层。

作为参考，在本实用新型中，所谓的药液涂敷单元300配置于第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a指的是，通过药液涂敷单元300的药液涂敷地点没有与第二振动板122重叠(在进行平面投影时相互不重叠)，并且配置于通过第二振动板122而产生的悬浮力不起作用或起到最低作用的第二振动板122间的被隔开的间隔空间。

优选地，将药液涂敷单元300的喷嘴边缘(lip)310配置于第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a的正中间位置，从而可得的效果在于，在实质上药液被涂敷于基板10的地点使得因悬浮力而产生的影响(振动)最小化。

如上所述，本实用新型中，在受到因作用于基板10的悬浮力(振动能量)而产生的振动的影响最小的区域(第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制污点。

换句话说，在作用于基板10的悬浮力(振动能量)以最大的形式起作用的区域(例如，第二振动板的上部)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是，存在的问题在于，若在悬浮力以较大的形式作用于基板10的区域中实现药液的涂敷，则因为由于振动而产生的影响，所以药液无法均匀地得到涂敷，并产生污点。但是，在本实用新型中，在受到因振动而产生的影响最小的第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a(在进行平面投影时不与第二振动板重叠的区域)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，可将药液均匀地涂敷于基板10的表面，并且预先防止由不均匀涂敷而导致的污点。

另外，图12是用于说明根据本实用新型的第二实施例的基板移送装置的图。并且，对于与所述构成相同及相当于相同的部分赋予相同或相当于相同的参照标号，并且省略对其的详细说明。

参照图12，根据本实用新型的第二实施例，基板移送装置可包括吸入压形成部，所述吸入压形成部将吸入压施加于第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a。

吸入压形成部115在基板10沿着第二振动板122被移送期间，将吸入压形成于第二振动板122间的间隔区域122a，从而将吸入压施加于基板10并能够抑制基板10的抖动以及晃动。

在此，所谓的吸入压被施加于基板10指的是，基板10通过用于吸附基板10的表面的吸入压(负压)被支撑(抑制流动)的状态，在吸入压被施加于基板10的状态下，可通过因吸入压而产生的支撑力来最大程度地抑制基板10的抖动以及晃动。

如上所述，在与通过药液涂敷单元300来涂敷药液的地点最邻近的，换句话说，在因振动而产生的影响最敏感的第二振动板122间的被隔开的间隔区域122a中形成吸入压，从而可得到的有利的效果在于，抑制在基板10上实现药液的涂敷的区域的抖动以及晃动，由此，更加均匀地涂敷药液。根据不同的情况，也可在不是第二振动板122间的间隔区域122a，而是其他的被隔开的位置上形成另外的吸入压形成部。

另外，图13是用于说明根据本实用新型的第三实施例的基板处理装置的图，图14至图16是用于说明图13的基板处理装置的第一振动区域与第二振动区域和中间位置区域的图，图17及图18是用于说明通过图13的振动板使得基板悬浮的过程的图。

参照图13至图18，对针对根据本实用新型第三实施例的被处理基板1010的药液涂敷工艺进行处理的基板处理装置1001包括：第一振动区域Z1，其形成于振动板1100 上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得基板1010悬浮；第二振动区域Z2，其以与第一振动区域Z1邻接的形式形成于振动板1100上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板1010悬浮；药液涂敷单元1300，其配置于第一位置P1和第二位置P2 的中间位置区域1106(Z3)，并且将药液涂敷于基板1010的表面，所述第一位置P1 在第一振动区域Z1中以最大振幅进行振动，所述第二位置P2在第二振动区域Z2中以最大振幅进行振动。

振动板1100沿着基板1010的移送路径得到配置，并且其设置是为了利用通过超声波而产生的振动能量来使得基板1010悬浮。

在此，所谓的基板1010被悬浮指的是基板1010以间隔规定间距的形式浮于空中的状态，并且悬浮于振动板1100的上部的基板1010通过沿着移送轨道1112进行直线移动的移送部件1110来得到移送。

振动板1100形成为四角板形状，并且在振动板1100的底面安装有振动器，所述振动器通过产生超声波来使得振动板1100振动。

第一振动区域Z1形成于振动板1100上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板1010悬浮。

在此，所谓的第一振动区域Z1指的是产生用于使得基板1010悬浮的振动能量的振动区域。第一振动区域Z1的振幅1102形成为沿着基板1010被移送的方向具有大致单相半波(half-wave)形状，并且在第一振动区域Z1的正中央(第一位置)振幅的振动能量产生得最大。

并且，第一振动区域Z1沿着与基板1010被移送的方向呈垂直的方向连续地形成，第一振动区域Z1的振幅以及条件根据从振动器施加的振动频率可适当地得到调节。

第二振动区域Z2以与第一振动区域Z1邻接的形式形成于振动板1100上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板1010悬浮。

在此，所谓的第二振动区域Z2指的是，与第一振动区域Z1一样，产生用于使得基板1010悬浮的振动能量的振动区域。第二振动区域Z2的振幅1104形成为沿着基板10 10被移送的方向具有大致单相半波(half-wave)形状，并且在第二振动区域Z2的正中央(第二位置)振幅的振动能量产生得最大。

并且，所谓的第二振动区域Z2以与第一振动区域Z1邻接的形式形成指的是第二振动区域Z2的一部分区间与第一振动区域Z1的一部分区间以相互重叠的形式配置。

并且，第二振动区域Z2沿着与基板1010被移送的方向呈垂直的方向连续地形成，第二振动区域Z2的振幅以及条件根据从振动器施加的振动频率可适当地得到调节。

药液涂敷单元1300形成为，在基板1010以悬浮于振动板1100的上部的状态进行移动期间，将药液PR涂敷于基板1010的表面，并且配置于第一位置P1和第二位置P2的中间位置区域1106(Z3)，所述第一位置P1在第一振动区域Z1中以最大振幅进行振动，所述第二位置P2在第二振动区域Z2中以最大振幅进行振动。

在此，通过药液涂敷单元1300来涂敷药液的区域也可以是被处理基板1010的整体表面，也可以是被分割为多个单元区域的部分。

具体地，药液涂敷单元1300设置为与设置于基板1010的移送路径两侧的起重机架(gantry)结合，将药液涂敷于基板1010的表面，并配置于中间位置区域Z3，从而在中间位置区域Z3上将药液涂敷于基板1010的表面。

在药液涂敷单元1300的底端部形成有与基板1010的宽度相对应的长度的狭缝喷嘴，并且狭缝喷嘴的喷嘴边缘(lip)1310配置于第一振动区域Z1的第一位置P1和第二振动区域Z2的第二位置P2的中间位置区域Z3，并且在中间位置区域Z3中将药液涂敷于基板1010的表面。

并且，在药液涂敷单元1300设置有预备排出装置(未示出)，就预备排出装置而言，在通过狭缝喷嘴将药液涂敷于基板1010上之前，为了使得残留于狭缝喷嘴排出口侧的涂敷液脱落，同时为了以后良好的涂敷，而可沿着排出口预先形成药液珠层。

作为参考，在本实用新型中，所谓的药液涂敷单元1300配置于第一位置P1和第二位置P2的中间位置区域Z3，所述第一位置P1在第一振动区域Z1中以最大振幅进行振动，所述第二位置P2在第二振动区域Z2中以最大振幅进行振动指的是，通过药液涂敷单元1300的药液涂敷地点没有与作为最大振幅地点的第一位置P1或第二位置P2最大程度地重叠，而是配置于振幅相对较低的第一位置P1和第二位置P2的间隔部位。

优选地，配置有药液涂敷单元1300的中间位置区域Z3以第一位置P1和第二位置P2的正中间P3为中心，并且具有小于第一位置P1和第二位置P2的间隔长度L1的80％的长度。换句话说，中间位置区域Z3的一侧与第一位置P1隔开的距离为大于间隔长度 L1的20％，中间位置区域Z3的其他侧与第二位置P2隔开的距离为大于间隔长度L1的 20％。

更为优选地，药液涂敷单元1300配置于第一位置P1和第二位置P2的正中间P3。如此，将药液涂敷单元1300配置于在振动板1100中具有相对最低振幅的第一位置P1 和第二位置P2的正中间P3，据此，可得到的效果在于，在实质上药液被涂敷于基板1010 的地点使得因振动而产生的影响最小化。

如上所述，本实用新型中，在受到因作用于基板1010的悬浮力(振动能量)而产生的振动的影响最小的区域(第一振动区域Z1和第二振动区域Z2的中间位置区域Z3)中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，在保证药液的涂敷均匀性的同时，抑制污点。

换句话说，在作用于基板1010的悬浮力(振动能量)的作用最大的区域(例如，第一位置或第二位置)中因悬浮力而产生的振动产生得最大，但是，存在的问题在于，若在悬浮力以较大的形式作用于基板1010的区域中实现药液的涂敷，则因为由于振动而产生的影响，所以药液无法均匀地得到涂敷，并产生污点。但是，在本实用新型中，在受到因振动而产生的影响最小的第一振动区域Z1和第二振动区域Z2的中间位置区域 (在进行平面投影时不与第一位置以及第二位置重叠的区域)Z3中药液得到涂敷，从而可得到的效果在于，可将药液均匀地涂敷于基板1010的表面，并且预先防止因不均匀涂敷而导致的污点。

另外，垂直于基板1010被移送的方向的振动板1100的第一宽度(竖直方向宽度)W1以比垂直于基板1010被移送的方向的基板1010的第二宽度(竖直方向宽度)W2大或相同的形式形成，基板1010的第二宽度W2位于振动板1100的第一宽度W1的区域内。

如上所述，由于以比基板1010的第二宽度W2大或相同的形式形成振动板1100的第一宽度W1，因此可得到的效果在于，更为均匀地调节通过振动板1100来作用于基板10 10的振动能量，并更为精致地调节基板1010的悬浮力。

换句话说，若振动板1100以一定以上的较大的尺寸(例如，大于基板1010的面积)形成，则难以在振动板1100的整个面上均匀地保持振动能量，因此难以精致地调节基板1010的悬浮力。反之，若振动板1100以较小的尺寸形成，则有利于在振动板1100 整个面上均匀地保持振动能量，但存在的问题在于，难以使得各个振动板1100的振动条件相互完美地保持一致，因而在基板1010通过各个振动板1100之间的缝隙时，由于各个振动板1100的振动偏差而导致产生微小的抖动(terminal effect)。

据此，在本实用新型中可得到的效果在于，垂直于基板1010被移送的方向的振动板 1100的第一宽度(竖直方向宽度)W1以比垂直于基板1010被移送的方向的基板1010 的第二宽度(竖直方向宽度)W2大或相同的形式形成，且沿着基板1010被移送的方向横向间隔地配置振动板1100，据此在基板1010被移送期间，沿着基板1010的第二宽度 W2方向，只有由一个振动板1100而产生的振动能量作用于基板1010，由此，可均匀地调节作用于基板1010的振动能量，并精致地控制基板1010的悬浮高度。

当然，虽然也可以以比基板1010的第二宽度(竖直方向宽度)小的形式形成振动板1100的第一宽度(竖直方向宽度)，并且沿着垂直于基板1010被移送的方向的竖向间隔地配置多个振动板1100，但在所述情况下，由沿着基板1010的第二宽度(竖直方向宽度)W2方向的振动偏差所引起的抖动(terminal effect)和由沿着基板1010的第一宽度(水平方向宽度)W2'方向的振动偏差所引起的抖动全都作用于基板1010，因而，可能难以均匀地调节施加于基板1010的振动能量。但是，在本实用新型中可得到的有利的效果在于，沿着基板1010的第二宽度W2方向，仅由一个振动板1100而产生的振动能量作用于基板1010，由此防止由沿着基板1010的第二宽度(竖直方向宽度)方向的振动偏差所引起的抖动，并均匀地调节施加于基板1010的振动能量。

另外，虽然沿着基板1010的第一宽度W2'方向，由于各个振动板1100之间的缝隙可能会产生末端效应(terminal effect)，但是沿着基板1010的第一宽度W2'方向(移送方向)的末端效应沿着基板1010的第一宽度W2'方向规则地被产生，因此平均化的末端效应可作用于基板1010的整个表面。

另外，振动板1100可根据所需的条件及设计样式以多种条件来得到配置。

例如，参照图17，振动板1100相对于水平面水平地配置，基板1010能够以平行于振动板1100的形式悬浮。

在此，所谓的水平面(horizontal plane)指的是相对于重力方向垂直的平面(或地平面)。

振动板1100使得基板1010以水平的形式悬浮，以便防止在药液涂敷工艺中药液往下流，并且药液可均匀地得到涂敷。如此，由于基板1010以水平的形式得到悬浮，因此可在基板1010的表面涂敷中粘度或低粘度药液。例如，在基板1010可涂敷具有100cP (centi-poise)的中粘度特性的药液。

换句话说，如果在基板1010以相对于水平面倾斜地得到悬浮的状态下在基板1010的表面涂敷中粘度(1100cP)药液，则存在药液往下流从而药液难以均匀地涂敷于基板1010的表面的问题。但是，由于本实用新型中基板1010以水平的形式得到悬浮，因此即使使用中粘度药液，药液也不会往下流从而可均匀地被涂敷。

作为参考，在本实用新型的实施例中，虽然以使用中粘度(1100cP)药液为例进行说明，但根据不同的情况，可使用低于100cP的粘度的低粘度药液或使用具有1000cP 以上的高粘度特性的药液，并且在使用高粘度药液的条件下，在使得基板相对于水平面倾斜地悬浮的状态下可均匀地涂敷药液。

作为另一个例子，参照图18，振动板1100以沿着基板1010的行进方向的一个侧边(沿着行进方向的左侧边或右侧边)为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，并且基板1010以平行于振动板1100的形式悬浮。

相对于水平面的振动板1100的倾斜(tilting)角度(倾斜地得到悬浮的基板1010的倾斜角度)可根据所需的条件及设计样式适当地变更，且本实用新型并非受到振动板1100的倾斜角度的限制或限定。

并且，基板1010的倾斜角度可自由地设定在能够防止药液(例如，1000cP以上的高粘度药液)往下流的范围内。例如，通过振动板1100的基板1010的倾斜角度θ可设定为2°。

此外，基板处理装置1001可包括移送部件1110'，所述移送部件1110'对相对于水平面倾斜地倾转的基板1010的一个侧边进行支撑并使得基板1010移送，从振动板1100 得到悬浮的基板1010能够以一个侧边被移送部件1110'支撑(接触)的状态随着移送部件1110'的移动而被移送。

在此，所谓倾斜状态的基板1010的一个侧边支撑(接触)于移送部件1110'指的是基板1010的荷重W通过基板1010的一个侧边而作用于移送部件1110'。

移送部件1110'可形成为能够对倾斜的基板1010的一个侧边进行支撑的多种结构。作为参考，在本实用新型的实施例中，虽然以移送部件1110'面接触于倾斜的基板1010的一个侧边为例进行说明，但是根据不同的情况，移送部件也可构成为线接触于基板的一个侧边或局部地接触于基板的一个侧边。

例如，移送部件1110'可构成为沿着移送轨道1112进行直线移动。假设，移送轨道1112以交替的形式排列有N极与S极的永久磁铁，并且可用通过施加于移送部件1110' 的线圈的电流控制而可进行精确的位置控制的线性马达的原理来得到驱动。

如此，本实用新型中，倾斜的基板1010的荷重W作用于移送部件1110'，因为由于基板1010的荷重W而产生的摩擦力，所以基板1010通过移送部件1110'来得到移送，据此，可得到的有利的效果在于，在没有类似于真空吸附装置的较复杂的设备的状态下，利用基板1010的自重W来使得基板1010移送。

并且，在本实用新型中，利用基板1010的荷重W来将基板1010约束于移送部件1110' (利用摩擦力来对相对移动进行约束)，换句话说，不经过复杂的控制工艺(例如，真空压力调节工艺)的情况下，将基板1010的一个侧边支撑于移送部件1110'便可以约束移送部件1110'和基板1010，因此，可得到的有利的效果在于，简化结构及处理工艺。

另外，图19及图20是用于说明根据本实用新型的第四实施例的基板处理装置的图。并且，对于与所述构成相同及相当于相同的部分赋予相同或相当于相同的参照标号，并且省略对其的详细说明。

参照图19及图20，根据本实用新型的第四实施例的基板处理装置包括：第一振动区域Z1，其形成于振动板1100上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得基板1010 悬浮；第二振动区域Z2，其以与第一振动区域Z1邻接的形式形成于振动板1100上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得基板1010悬浮；药液涂敷单元1300，其配置于第一位置P1和第二位置P2的中间位置区域Z3，并且将药液涂敷于基板1010的表面，所述第一位置P1在第一振动区域Z1中以最大振幅进行振动，所述第二位置P2在第二振动区域Z2中以最大振幅进行振动；吸入压形成部1115，其在基板1010沿着振动板 1100被移送期间，将吸入压施加于基板1010。

吸入压形成部1115在基板1010沿着振动板1100被移送期间，将吸入压施加于基板1010，从而能够抑制基板1010的抖动以及晃动。

在此，所谓的吸入压被施加于基板1010指的是，基板1010通过用于吸附基板1010的表面的吸入压(负压)来被支撑(以防止移动的形式被约束)的状态，在吸入压被施加于基板1010的状态下，可通过因吸入压而产生的支撑力来最大程度地抑制基板1010 的抖动以及晃动。

吸入压形成部1115可形成为能够将吸入压施加于基板1010的多种结构。优选地，以与药液涂敷单元1300邻近的形式形成吸入压形成部1115，据此，可得到的有利的效果在于，抑制在基板1010上实现药液的涂敷的区域的抖动以及晃动，从而更加均匀地涂敷药液。

例如，吸入压形成部1115能够以与药液涂敷单元1300的喷嘴边缘1310邻近的形式形成于振动板1100(例如，振动板)。不同地，也可将吸入压形成部形成于基板的上部。

吸入压形成部1115可形成为槽形态(参照图20)或孔形态(参照图19)，并且本实用新型并非受到吸入压形成部1115的结构以及形状的限制或限定。

优选地，如图19所示，第一吸入压形成部1115a形成于沿着基板1010被移送的方向的药液涂敷单元1300的前方，并且将第二吸入压形成部1115b形成于沿着基板1010 被移送的方向的药液涂敷单元1300的后方，据此，可得到的有利的效果在于，在基板1 010上与药液被涂敷的地点(喷嘴边缘的下部)邻近的两端部位分别可通过吸入压来得到支撑，从而更加有效地抑制振动以及晃动。

不同地，如图20所示，也可将吸入压形成部1115配置于与药液涂敷单元1300相同的线上。在此，所谓的吸入压形成部1115与药液涂敷单元1300形成于相同的线上指的是药液涂敷地点与吸入压产生部位相互配置于相同的线上。

如上所述，将吸入压形成部1115和药液涂敷单元1300配置于相同的线上，从而可得到的效果在于，可有效地抑制在基板1010上实质上药液被涂敷的地点的抖动以及晃动，并且提高药液的涂敷均匀性。

此外，图21是用于说明根据本实用新型的第五实施例的基板处理装置的图。并且，对于与所述构成相同及相当于相同的部分赋予相同或相当于相同的参照标号，并且省略对其的详细说明。

参照图21，根据本实用新型的第五实施例的基板处理装置包括第一振动板1100a和第二振动板1100b，所述第一振动板1100a和第二振动板1100b相互协助地形成药液被涂敷的处理区域(processing zone)，所述处理区域配置于药液涂敷单元1300的下部。

例如，第一振动板1100a和第二振动板1100b沿着与基板1010被移送的方向呈垂直的方向间隔地被分割，并可相互协助地形成处理区域。并且，在第一振动板1100a形成有第一-一振动区域1102和第一-二振动区域1104，在第二振动板1100b形成有第二- 一振动区域1102'和第二-二振动区域1104'，并且药液涂敷单元1300的喷嘴边缘1310 配置于中间位置区域1106，所述中间位置区域1106位于第一-一振动区域1102及第二- 一振动区域1102'、第一-二振动区域1104及第二-二振动区域1104'之间。

根据不同的情况，三个以上的振动板也可形成处理区域，并且形成处理区域的振动板的个数以及结构可根据所需的条件(例如，振动器输出)而进行多种变更。不同地，形成处理区域的多个振动板也可沿着基板被移送的方向间隔地被分割。

如上所述，由多个振动板来构成处理区域，并且各个振动板分别个别地得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在没有因距离而导致的振动信号的歪曲的状态下，在各个振动板将各个振动区域准确地形成于想要的位置。

如上所述，虽然参照本实用新型的优选实施例进行说明，但是可理解为，如果是相应技术领域的熟练的从业者，在不超过记载于下述的专利权利要求书的本实用新型的思想及领域的范围内可对本实用新型进行多种修改及变更。

标号说明

1：基板处理系统10：基板

100：基板移送部110：装载移送部

112：第一振动板114：第一振动器

120：处理移送部122：第二振动板

124：第二振动器130：卸载移送部

132：第三振动板134：第三振动器

200：控制部300：药液涂敷单元

310：喷嘴边缘。

Claims (50)

1.一种基板移送装置，所述基板移送装置对处理药液涂敷工艺的基板进行移送，其特征在于，包括：

基板移送部，其包括独立地被分割的多个悬浮部，并且将基板以悬浮的状态进行移送；

控制部，其个别地对通过所述多个悬浮板而产生的悬浮力进行控制。

2.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，

所述基板移送部包括多个振动板和多个振动器，所述多个振动板以独立的形式被分割，所述多个振动器分别以独立的形式使得所述多个振动板振动，

利用通过超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮。

3.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，

所述控制部选择性地以相互不同的形式对通过所述多个振动板而产生的悬浮力进行控制。

4.根据权利要求3所述的基板移送装置，其特征在于，

所述多个振动板相互协作地使得所述基板悬浮，

所述控制部对所述多个振动板中配置于产生所述基板的偏转的部位的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制。

5.根据权利要求4所述的基板移送装置，其特征在于，

所述控制部对所述多个振动板中配置于所述基板的边缘的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制。

6.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，

所述多个振动板相互形成为相同的形态及尺寸。

7.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，

所述多个振动板中至少一个形成为不同的形态及尺寸。

8.根据权利要求7所述的基板移送装置，其特征在于，

所述多个振动板中配置于所述基板的边缘的至少任意一个形成为比其余的振动板小的尺寸。

9.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，所述基板移送部包括：

装载移送部，其包括独立地被分割的多个第一振动板，并且所述基板装载于所述装载移送部；

处理移送部，其包括以独立地被分割的形式配置的多个第二振动板，并且药液涂敷于所述基板的表面；

卸载移送部，其包括独立地被分割的多个第三振动板，并且涂敷有所述药液的所述基板卸载于所述卸载移送部。

10.根据权利要求9所述的基板移送装置，其特征在于，

所述多个第一振动板和所述多个第三振动板中至少任意一个沿着所述基板的移送路径以一维或二维的形式被隔开地配置。

11.根据权利要求9所述的基板移送装置，其特征在于，

所述多个第二振动板沿着所述基板被移送的方向以间隔一定间距的形式配置。

12.根据权利要求11所述的基板移送装置，其特征在于，

在所述处理移送部中所述药液通过所述第二振动板间的被隔开的间隔区域被涂敷于所述基板的表面。

13.根据权利要求12所述的基板移送装置，其特征在于，

还包括吸入压形成部，所述吸入压形成部将吸入压施加于所述间隔区域，

可通过形成于所述间隔区域的所述吸入压来支撑所述基板。

14.根据权利要求2至13中任意一项所述的基板移送装置，其特征在于，

所述振动板相对于水平面水平地配置，

所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。

15.根据权利要求2至13中任意一项所述的基板移送装置，其特征在于，

所述振动板以沿着所述基板的行进方向的一个侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，

所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。

16.根据权利要求15所述的基板移送装置，其特征在于，

包括移送部件，所述移送部件对相对于水平面倾斜地倾转的所述基板的一个侧边进行支撑，并且使得所述基板移送，

所述基板的荷重作用于所述移送部件，并且因为由于所述基板的荷重而产生的摩擦力，所以所述基板通过所述移送部件来得到移送。

17.一种基板处理系统，所述基板处理系统对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理，其特征在于，包括：

基板移送部，其包括独立地被分割的多个悬浮部，并且将基板以悬浮的状态进行移送；

控制部，其个别地对通过所述多个悬浮板而产生的悬浮力进行控制；

药液涂敷单元，其配置于所述悬浮部间的以一定间距隔开的间隔区域，并且将药液涂敷于所述基板的表面。

18.根据权利要求17所述的基板处理系统，其特征在于，

所述基板移送部包括多个振动板和多个振动器，所述多个振动板以独立的形式被分割，所述多个振动器分别以独立的形式使得所述多个振动板振动，

利用通过超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮。

19.根据权利要求18所述的基板处理系统，其特征在于，

所述控制部选择性地以相互不同的形式对通过所述多个振动板而产生的悬浮力进行控制。

20.根据权利要求19所述的基板处理系统，其特征在于，

所述多个振动板相互协作地使得所述基板悬浮，

所述控制部对所述多个振动板中配置于产生所述基板的偏转的部位的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制。

21.根据权利要求18所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板移送部包括：

装载移送部，其包括独立地被分割的多个第一振动板，并且所述基板装载于所述装载移送部；

处理移送部，其包括以独立地被分割的形式配置的多个第二振动板，并且药液涂敷于所述基板的表面；

卸载移送部，其包括独立地被分割的多个第三振动板，并且涂敷有所述药液的所述基板卸载于所述卸载移送部。

22.根据权利要求21所述的基板处理系统，其特征在于，

所述多个第一振动板和所述多个第三振动板中至少任意一个沿着所述基板的移送路径以一维或二维的形式被隔开配置。

23.根据权利要求21所述的基板处理系统，其特征在于，

所述多个第二振动板沿着所述基板被移送的方向以间隔一定间距的形式配置。

24.根据权利要求23所述的基板处理系统，其特征在于，

所述药液涂敷单元的喷嘴边缘配置于所述第二振动板间的被隔开的间隔区域的正中间位置。

25.根据权利要求23所述的基板处理系统，其特征在于，

还包括吸入压形成部，所述吸入压形成部将吸入压施加于所述第二振动板间的被隔开的间隔区域，

可通过形成于所述间隔区域的所述吸入压来支撑所述基板。

26.一种基板处理装置，所述基板处理装置对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理，其特征在于，包括：

振动板，其配置于基板的移送路径；

第一振动区域，其形成于所述振动板上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；

第二振动区域，其以与所述第一振动区域邻接的形式形成于所述振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；

药液涂敷单元，其配置于第一位置和第二位置的中间位置区域，并且将药液涂敷于所述基板的表面，所述第一位置在所述第一振动区域中以最大振幅进行振动，所述第二位置在所述第二振动区域中以最大振幅进行振动。

27.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，

所述中间位置区域以所述第一位置和所述第二位置的正中间为中心，并且具有小于所述第一位置和所述第二位置的间隔长度的80％的长度。

28.根据权利要求27所述的基板处理装置，其特征在于，

所述药液涂敷单元配置于所述第一位置和所述第二位置的正中间位置。

29.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，

所述药液涂敷单元的喷嘴边缘配置于所述中间位置区域，并且在所述中间位置区域将药液涂敷于所述基板的表面。

30.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成，

所述第二振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。

31.根据权利要求26至30中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

吸入压形成部，其在所述基板沿着所述振动板被移送期间，将吸入压施加于所述基板。

32.根据权利要求31所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸入压形成部以与所述药液涂敷单元邻近的形式形成于所述振动板，并且所述基板通过所述吸入压相对于所述振动板得到支撑。

33.根据权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸入压形成部形成为槽或孔形态。

34.根据权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸入压形成部设置于沿着所述基板被移送的方向的所述药液涂敷单元的前方及后方中至少任意一侧。

35.根据权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸入压形成部设置为与所述药液涂敷单元形成在相同的线上。

36.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，

垂直于所述基板被移送的方向的所述振动板的第一宽度以比垂直于所述基板被移送的方向的所述基板的第二宽度大或相同的形式形成。

37.根据权利要求26至30中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述振动板相对于水平面水平地配置，

所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。

38.根据权利要求26至30中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述振动板以沿着所述基板的行进方向的一个侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，

所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。

39.根据权利要求28所述的基板处理装置，其特征在于，

包括移送部件，所述移送部件对相对于水平面倾斜地倾转的所述基板的一个侧边进行支撑，并且使得所述基板移送，

所述基板的荷重作用于所述移送部件，并且因为由于所述基板的荷重而产生的摩擦力，所以所述基板通过所述移送部件来得到移送。

40.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，

沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向间隔地设置有多个所述振动板，

所述多个振动板相互协助地在所述药液涂敷单元的下部形成处理区域，所述药液涂敷于所述处理区域。

41.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，

沿着与所述基板被移送的方向间隔地设置有多个所述振动板，

所述多个振动板相互协助地在所述药液涂敷单元的下部形成处理区域，所述药液涂敷于所述处理区域。

42.一种基板处理装置，所述基板处理装置对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理，其特征在于，包括：

第一振动板，其配置于基板的移送路径；

第一-一振动区域，其形成于所述第一振动板上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；

第一-二振动区域，其以与所述第一振动区域相邻接的形式形成于所述振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；

第二振动板，其配置为沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向距离所述第一振动板一定的间距；

第二-一振动区域，其以与所述第一-一振动区域形成于相同的线上的形式形成于所述第二振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；

第二-二振动区域，其以与所述第一-二振动区域形成于相同的线上，并且以与所述第二-一振动区域邻接的形式形成于所述振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；

药液涂敷单元，其配置于第一位置和第二位置的中间位置区域，并且将药液涂敷于所述基板的表面，所述第一位置在所述第一-一振动区域以及所述第二-一振动区域中分别以最大振幅进行振动，所述第二位置在所述第一-二振动区域以及所述第二-二振动区域中分别以最大振幅进行振动。

43.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，

所述中间位置区域以所述第一位置和所述第二位置的正中间为中心，并且具有小于所述第一位置和所述第二位置的间隔长度的80％的长度。

44.根据权利要求43所述的基板处理装置，其特征在于，

所述药液涂敷单元配置于所述第一位置和所述第二位置的正中间位置。

45.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，

所述药液涂敷单元的喷嘴边缘配置于所述中间位置区域，并且在所述中间位置区域将药液涂敷于所述基板的表面。

46.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成，

所述第二振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。

47.根据权利要求42至46中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

吸入压形成部，其在所述基板沿着所述第一振动板和所述第二振动板被移送期间，将吸入压施加于所述基板。

48.根据权利要求47所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸入压形成部以与所述药液涂敷单元邻近的形式分别形成于所述第一振动板和所述第二振动板，并且所述基板通过所述吸入压相对于所述第一振动板和所述第二振动板得到支撑。

49.根据权利要求47所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸入压形成部设置于沿着所述基板被移送的方向的所述药液涂敷单元的前方及后方中至少任意一侧。

50.根据权利要求47所述的基板处理装置，其特征在于，

所述吸入压形成部设置为与所述药液涂敷单元形成于相同的线上。