CN206541816U - 基板移送装置及包括其的基板处理系统 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种基板移送装置及包括其的基板处理系统，对进行药液涂覆工艺处理的基板进行移送的基板移送装置包括：振动板，其利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮；移送部件，其使得通过振动板悬浮的基板移送；偏差补偿部，其对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的效果在于，使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一致。

Description

基板移送装置及包括其的基板处理系统
技术领域
本实用新型涉及一种基板移送装置及包括其的基板处理系统，更为具体地涉及一种基板移送装置及包括其的基板处理系统，所述基板移送装置在基板以悬浮的状态移动的期间，能够使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持平坦。
背景技术
在制造LCD等平板显示器的工艺中，伴随着在由玻璃等制作的被处理基板的表面涂覆抗蚀剂液等药液的涂布(coating)工艺。在LCD的尺寸小的现有技术中使用了旋转涂布方法，所述旋转涂布方法在被处理基板的中央部涂覆药液的同时，使得被处理基板旋转，据此将药液涂覆于被处理基板的表面。
但是，随着LCD画面的尺寸大型化，旋转涂布方式几乎不被使用，并且正使用如下方式的涂布方法：使得具有与被处理基板的宽度相对应的长度的狭缝(slit)形态的狭缝喷嘴和被处理基板相对移动，同时从狭缝喷嘴将药液涂覆于被处理基板的表面。
最近，作为一种在所规定的时间内将药液涂布于更多数量的被处理基板的表面的方法的部分，在日本公开专利公报第2005-243670号公开一种如下形式的技术：设置有悬浮平台，所述悬浮平台通过沿着基板被搬入并涂覆且搬出的方向喷出空气来使得基板悬浮，在其两侧设置有由吸附垫等形成的基板排出装置，通过停止状态的狭缝喷嘴来将药液供给于连续被供给的被处理基板的表面并进行涂布。
另外，在悬浮式基板涂层器(coater)装置中，在基板被移送的期间，如果基板的悬浮高度不一致或者部分产生下垂，则问题在于，药液难以以一致的高度涂覆于基板的表面，并且由于药液的不均匀涂覆而产生污点，因此在基板被移送的期间，基板的悬浮高度应该能够保持一致且稳定。
但是，在现有悬浮式基板涂层器装置中，存在的问题在于，在悬浮力作用于基板的期间，难以使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定，并且由于基板的悬浮高度偏差而产生无法均匀地涂覆药液的现象。
特别是，在现有技术中问题在于，如果在基板的悬浮高度和吸附于基板侧边的吸附垫的配置高度间产生高度偏差，则难以使得基板以一致的高度整体悬浮，据此存在的问题在于，在药液被涂覆的地点(狭缝喷嘴的下部)狭缝喷嘴和基板之间的间距无法保持一致，从而药液难以以均匀的厚度涂覆于基板的表面。
据此，最近进行用于使得基板的悬浮高度保持一致并均匀地涂覆药液的多种研究，但是仍然存在不足，从而要求对此的开发。
实用新型内容
本实用新型的目的在于，提供一种基板移送装置及包括其的基板处理系统，其能够使得基板的悬浮高度保持一致，并且能够以不晃动的状态使得基板稳定地悬浮。
特别是，本实用新型的目的在于，对基板与使得基板移送的移送部件之间的高度偏差进行补偿，从而能够以一致的高度使得基板悬浮。
此外，本实用新型的目的在于，在不对结构变更进行变更或者不增加另外的设备的状态下，可补偿相对于基板的悬浮高度的移送部件的高度偏差。
此外，本实用新型的目的在于，可简化结构，并且能够有助于设备的小型化。
此外，本实用新型的目的在于，提供一种基板处理装置，其在将药液涂覆于基板的过程中，均匀地涂覆药液，从而可抑制污点的产生。
此外，本实用新型的目的在于，可形成高品质的药液涂覆层，并且能够提高收率。
根据用于实现如上所述的本实用新型的目的的本实用新型的优选实施例，对进行药液涂覆工艺处理的基板进行移送的基板移送装置包括：振动板，其利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮；移送部件，其使得通过振动板悬浮的基板移送；偏差补偿部，其对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿。
其目的在于，当基板以悬浮的状态移动的期间，使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持平坦。
特别是，本实用新型中，利用偏差补偿部来对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的有利效果在于，使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
换句话说，如果悬浮的基板和移送部件之间产生高度偏差，例如，如果移送部件的上面(吸附基板的面)的高度比悬浮的基板的底面高，则问题在于，被移送部件抓握(吸附)的基板的边缘部的高度部分地变高。相反，如果移送部件的上面高度比悬浮的基板的底面低，则问题在于，被移送部件抓握(吸附)的基板的边缘部的高度部分地变低。
由此，本实用新型中，利用偏差补偿部来对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的有利效果在于，在没有基板的部分的高度变化的状态下使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
尤其，当基板以悬浮于振动板的上部的状态(以一致的高度悬浮的状态)被移送的期间，使得药液涂覆于基板的表面，据此可得到的效果在于，以一致的厚度将药液涂覆于基板的表面，当基板以悬浮于振动板的上部的状态(以一致的高度悬浮的状态)被移送的期间，使得基板被加热，并且使得涂覆于基板的药液得到干燥，据此可得到的有利效果在于，均匀地对涂覆于基板的药液进行干燥。
偏差补偿部可设置为能够对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿的多种结构。
更为具体地，偏差补偿部包括：测量部，其对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行测量；高度调节部，其根据在测量部测量的结果对相对于基板的移送部件的相对高度进行调节。
例如，偏差补偿部包括：空气轴承部件，其结合于移送部件，并且沿着移送轨道直线移动，所述移送轨道沿着基板的移送路径配置；气体供给部，其供给用于在空气轴承部件和移送轨道之间形成气体润滑层的气体，高度调节部对从气体供给部供给的气体的供给压力进行调节，从而调节相对于移送轨道的空气轴承部件的悬浮高度，因此随着相对于移送轨道的空气轴承部件的悬浮高度变化，相对于基板的移送部件的高度得到调节。
如上所述，对向空气轴承部件供给的气体的供给压力进行调节，从而调节相对于基板的移送部件的高度，据此可得到的有利效果在于，准确且微小地调节相对于基板的移送部件的高度。
换句话说，也可以通过利用移送螺杆或者齿轮等的机械式调节来对相对于基板的移送部件的高度进行调节。但是，在机械式的高度调节方式中，不可避免地产生由于间隙(BACKLASH)等而引起的误差，因此存在的问题在于，难以准确且微小地调节相对于基板的移送部件的高度。特别是，在通过超声波振动能使得基板悬浮的方式中，基板以非常微小的高度(30～50μm)悬浮，并且相对于基板的移送部件的高度调节也在非常微小的范围(例如，2～5μm)内实现，但是通过机械式的高度调节方式存在的问题在于，难以微小地调节移送部件的高度。但是，本实用新型中，不是通过机械式的高度调节，而是通过可调节微小压力的空气压力控制来对相对于基板的移送部件的高度进行调节，据此可得到的有利效果在于，更加准确且微小地对相对于基板的移送部件的高度进行调节。
并且，基板移送部包括：吸入孔，其形成于与基板相面对的移送部件(例如，移送部件的上面)；吸入压形成部，其在吸入孔形成吸入压，以便基板吸附固定于移送部件。如上所述，如果通过吸入压形成部向吸入孔施加吸入压，则基板可通过吸附基板表面的吸入压(负压)固定于移送部件。
作为另外的一个例子，偏差补偿部包括：吸入孔，其形成于移送部件；吸入压形成部，其在吸入孔形成吸入压，以便基板吸附固定于移送部件，高度调节部对通过吸入压形成部形成于吸入孔的吸入压进行调节，并且根据吸入压的变化来调节相对于移送部件的基板的吸附高度。
如上所述，不是通过机械式的高度调节，而是通过可调节微小压力的空气压力控制(吸入压控制)来对相对于移送部件的基板的吸附高度进行调节，据此可得到的有利效果在于，更加准确且微小地调节相对于移送部件的基板的高度。
根据本实用新型的优选的其他领域，对被处理基板进行药液涂覆工艺处理的基板处理系统包括：基板移送部，其包括振动板、移送部件、偏差补偿部，所述振动板利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮，所述移送部件使得通过振动板悬浮的基板移送，所述偏差补偿部对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿；药液涂覆单元，其将药液涂覆于基板的表面；加热干燥单元，其通过加热基板来使得药液干燥。
如上所述，利用偏差补偿部来对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的有利效果在于，在没有基板的部分的高度变化的状态下，使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
更为具体地，基板移送部包括：装载移送部，基板装载于所述装载移送部；处理(processing)移送部，其用于在基板的表面涂覆药液；卸载移送部，涂覆有药液的基板卸载于所述卸载移送部，振动板设置于装载移送部、处理移送部、卸载移送部中至少任意一个。
优选地，药液涂覆单元配置于所述振动板的上部，当基板经过振动板和药液涂覆单元之间的期间，使得药液涂覆单元和基板的间距保持一定，据此可得到的有利效果在于，以一致的厚度将药液涂覆于基板的表面。此外，加热干燥单元配置于振动板的上部，当基板经过振动板和加热干燥单元之间的期间，使得加热干燥单元和基板的间距保持一定，据此可得到的有利效果在于，均匀地对涂覆于基板的药液进行干燥。
偏差补偿部可设置为能够对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿的多种结构。
更为具体地，偏差补偿部包括：测量部，其对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行测量；高度调节部，其根据在测量部测量的结果来调节相对于基板的移送部件的相对高度。
例如，偏差补偿部包括：空气轴承部件，其结合于移送部件，并且沿着移送轨道进行直线移动，所述移送轨道沿着基板的移送路径配置；气体供给部，其供给用于在空气轴承部件和移送轨道之间形成气体润滑层的气体，高度调节部对从气体供给部供给的气体的供给压力进行调节，从而调节相对于移送轨道的空气轴承部件的悬浮高度，因此随着相对于移送轨道的空气轴承部件的悬浮高度变化，相对于基板的移送部件的高度得到调节。
如上所述，对向空气轴承部件供给的气体的供给压力进行调节，从而调节相对于基板的移送部件的高度，据此可得到的有利效果在于，准确且微小地调节相对于基板的移送部件的高度。
作为另外的一个例子，偏差补偿部包括：吸入孔，其形成于移送部件；吸入压形成部，其在吸入孔形成吸入压，以便基板吸附固定于移送部件，高度调节部对通过吸入压形成部形成于吸入孔的吸入压进行调节，并且根据吸入压的变化来调节相对于移送部件的基板的吸附高度。
如上所述，不是通过机械式的高度调节，而是通过可调节微小压力的空气压力控制(吸入压控制)来对相对于移送部件的基板的吸附高度进行调节，据此可得到的有利效果在于，更加准确且微小地调节相对于移送部件的基板的高度。
本说明书及专利权利要求书中记载的悬浮的基板和移送部件之间的“高度偏差”或者与此类似的术语定义为，在移送部件与基板相接触(固定)的接触面和悬浮的基板之间的高度差异。更为具体地，在基板吸附于移送部件的上面的结构中，悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差定义为，移送部件的上面和悬浮的基板的底面之间的距离(高度)差异。
本说明书及专利权利要求书中记载的所谓的对相对于基板的移送部件的相对高度进行调节指的是，高度调节部相对于基板对移送部件的高度调节，或定义为将相对于基板对移送部件的高度进行调节的方式全部包括在内。
如上所述，根据本实用新型可得到的效果在于，当基板以悬浮的状态移动的期间，使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持平坦。
特别是，根据本实用新型，利用偏差补偿部来对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的有利效果在于，使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
换句话说，如果悬浮的基板和移送部件之间产生高度偏差，例如，如果移送部件的上面(吸附基板的面)的高度比悬浮的基板的底面高，则存在的问题在于，被移送部件抓握(吸附)的基板的边缘部的高度部分地变高。相反，如果移送部件的上面高度比悬浮的基板的底面低，则存在的问题在于，被移送部件抓握(吸附)的基板的边缘部的高度部分地变低。
但是，根据本实用新型，利用偏差补偿部来对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的有利效果在于，在没有基板的部分的高度变化的状态下使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
尤其，根据本实用新型，当基板以悬浮于振动板的上部的状态(以一致的高度悬浮的状态)被移送的期间，使得药液涂覆于基板的表面，据此可得到的有利效果在于，以一致的厚度将药液涂覆于基板的表面，当基板以悬浮于振动板的上部的状态(以一致的高度悬浮的状态)被移送的期间，使得基板被加热，并且使得涂覆于基板的药液得到干燥，据此可得到的有利效果在于，均匀地对涂覆于基板的药液进行干燥。
此外，根据本实用新型，不是通过机械式的高度调节，而是通过可调节微小压力的空气压力控制来对相对于基板的移送部件的高度进行调节，据此可得到的有利效果在于，更加准确且微小地对相对于基板的移送部件的高度进行调节。
换句话说，也可以通过利用移送螺杆或者齿轮等的机械式调节来对相对于基板的移送部件的高度进行调节。但是，在机械式的高度调节方式中，不可避免地产生由于间隙(BACKLASH)等而引起的误差，因此存在的问题在于，难以准确且微小地调节相对于基板的移送部件的高度。特别是，在通过超声波振动能使得基板悬浮的方式中，基板以非常微小的高度(30～50μm)悬浮，并且相对于基板的移送部件的高度调节也在非常微小的范围(例如，2～5μm)内实现，但是通过机械式的高度调节方式存在的问题在于，难以微小地调节移送部件的高度。但是，本实用新型中，不是通过机械式的高度调节，而是通过可调节微小压力的空气压力控制来对相对于基板的移送部件的高度进行调节，据此可得到的有利效果在于，更加准确且微小地对相对于基板的移送部件的高度进行调节。
此外，根据本实用新型，为了对基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿，不对结构变更进行变更或者不增加另外的复杂设备，并且为了使得基板移送而对已设置的吸入压形成部及气体供给部进行控制，据此可得到的有利效果在于，对相对于基板的悬浮高度的移送部件的高度偏差进行补偿。由此，可简化结构，并且能够有助于设备的小型化。
此外，根据本实用新型可得到的有利效果在于，可形成高品质的药液涂覆层，并且能够提高收率。
附图说明
图1是用于说明根据本实用新型的基板处理系统的图，
图2及图3是用于说明图1的基板移送部的图，
图4及图5是用于说明通过图1的高度调节部对高度进行调节的过程的图，
图6至图8是作为根据本实用新型的基板处理系统，用于对偏差补偿部的变形例进行说明的图，
图9是用于说明设置于图1的加热干燥单元上的基板移送部的图，
图10是用于说明图1的基板移送部的变形例的图。
具体实施方式
以下，参照附图对本实用新型的优选实施例进行详细说明，但是本实用新型并非受到实施例的限制或限定。作为参考，在本说明中相同的标号实质上指称相同的要素，在所述的规则下，可以引用记载于其他图的内容来进行说明，并且可省略判断为对于从业者显而易见的或反复的内容。
图1是用于说明根据本实用新型的基板处理系统的图，图2及图3是用于说明图1的基板移送部的图，图4及图5是用于说明通过图1的高度调节部对高度进行调节的过程的图。此外，图6至图8是作为根据本实用新型的基板处理系统，用于对偏差补偿部的变形例进行说明的图，图9是用于说明设置于图1的加热干燥单元上的基板移送部的图。并且，图10是用于说明图1的基板移送部的变形例的图。
参照图1至图9，根据本实用新型的对被处理基板10进行药液涂覆工艺处理的基板处理系统1包括：基板移送部100，其包括振动板110、移送部件120、120’、偏差补偿部130，所述振动板110利用通过超声波产生的振动能来使得基板10悬浮，所述移送部件120、120’使得通过振动板110悬浮的基板10移送，所述偏差补偿部130对悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差(图4的H1)进行补偿；药液涂覆单元300，其将药液涂覆于基板10的表面；加热干燥单元，其通过加热基板10来使得药液干燥。
基板移送部100包括：振动板110，其利用通过超声波产生的振动能来使得基板10悬浮；移送部件120、120’，其使得通过振动板110悬浮的基板10移送。
例如，基板移送部100包括多个振动板110，所述多个振动板110以相互隔开地配置的形式独立地被分割。
在此，所谓的多个振动板110独立地被分割指的是，多个振动板110相互隔开地配置，通过多个振动板110而产生的悬浮力分别个别地作用于基板10。
以下，举例说明如下构成：基板移送部100包括装载移送部102、处理移送部104、卸载移送部106，基板10装载于所述装载移送部102，所述处理移送部104用于在基板10的表面涂覆药液，涂覆有药液的基板10卸载于所述卸载移送部106。
作为参考，在清洗处理单元完成清洗工艺的基板10沿着装载移送部102向处理移送部104移送，并且在移送至处理移送部104的基板10的表面涂覆药液。此后，在涂覆有药液的基板10沿着卸载移送部106被移送的期间，随着通过加热干燥单元进行的加热，药液得到干燥。
更为具体地，参照图1及图2，装载移送部102包括相互隔开地配置的多个振动板110。
例如，多个振动板110沿着基板10的移送路径以间隔规定间距的形式相互隔开地配置，利用通过超声波产生的振动能来相互协助地使得基板10悬浮。
在此，所谓的基板10悬浮指的是，基板10在振动板110的上部以间隔规定间距的形式悬浮于空中的状态。
并且，所谓的多个振动板110相互协助地使得基板10悬浮指的是，通过至少两个以上的振动板110而产生的悬浮力同时作用于基板10。根据情况的不同，装载移送部也可以仅由一个振动板构成。
振动板110可根据所需的条件及设计样式形成为多种形态及尺寸，本实用新型并非受到振动板110的形态及尺寸的限制或限定。
例如，多个振动板110以相互相同的四角板形状及尺寸形成，并且以间隔规定间距的形式隔开地配置，在每个振动板110的底面安装有一个振动器，所述振动器通过产生超声波来使得振动板110振动。
如上所述，各个振动板110分别仅通过一个振动器个别地得到振动，据此，可得到的有利效果在于，准确地控制各个振动板110的悬浮力。当然，虽也可以将多个振动器安装于一个振动板110，但是具有如下问题：若多个振动信号被输入至一个振动板110，则因为相互不同的振动信号间的干涉，所以难以准确地调节通过振动板110而产生的悬浮力。但是，在本实用新型中，各个振动板110仅通过一个振动器来得到振动，据此，可得到的有利的效果在于，在振动信号不被歪曲及干扰的状态下，准确地控制悬浮力。
作为参考，在本实用新型的实施例中举例说明了多个振动板110以相互相同的形态及尺寸形成，但是，根据不同的情况，也可将多个振动板形成为相互不同的形态及尺寸。
并且，多个振动板110可以沿着基板10的移送路径以一维(one-dimension)或二维(two dimension)的形式隔开地配置。
具体地，多个振动板110能够以具有1*n1(在此n1是自然数)的一维排列的形式配置，或者以具有(n2+1)*(n2+1)(在此，n2是1以上(n2≥1)的自然数)的二维排列的形式配置。此时，多个振动板110的行(基板被移送的方向)与列(与基板被移送的方向垂直的方向)的个数可根据振动板110的尺寸以及设计样式进行多种变更。根据不同的情况，多个振动板可配置为其他不同的排列，并且本实用新型并非受到振动板的排列的限制或限定。
再次，参照图1及图2，处理移送部104包括至少一个以上的振动板110。
振动板110配置于药液涂覆单元300的下部，并且利用通过超声波产生的振动能来使得基板10悬浮。
作为参考，在本实用新型的实施例中举例说明了处理移送部104仅由一个振动板110构成，但是根据不同的情况，处理移送部也可以构成为包括多个振动板，所述多个振动板以间隔规定间距的形式相互隔开地被分割。
振动板110可根据所需的条件及设计样式形成为具有多种形态及尺寸，本实用新型并非受到振动板110的形态及尺寸的限制或限定。
例如，振动板110以四角板形状形成，在振动板110的底面安装有振动器，所述振动器通过产生超声波来使得振动板110振动。
此外，参照图9，卸载移送部106包括相互隔开地配置的多个振动板110。
例如，多个振动板110沿着基板10的移送路径以间隔规定间距的形式相互隔开地配置，并且利用通过超声波产生的振动能来相互协助地使得基板10悬浮。悬浮于振动板110上部的基板10通过移送部件120、120’被移送，所述移送部件120、120’沿着移送轨道120a直线移动。
并且，所谓的多个振动板110相互协助地使得基板10悬浮指的是，通过至少两个以上的振动板110而产生的悬浮力同时作用于基板10。
振动板110可根据所需的条件及设计样式形成为具有多种形态及尺寸，本实用新型并非受到振动板110的形态及尺寸的限制或限定。
例如，多个振动板110以相互相同的四角板形状及尺寸形成，并且以间隔规定间距的形式隔开地配置，在每个振动板110的底面安装有一个振动器，所述振动器通过产生超声波来使得振动板110振动。
作为参考，在本实用新型的实施例中举例说明了多个振动板110以相互相同的形态及尺寸形成，但是，根据不同的情况，也可将多个振动板形成为相互不同的形态及尺寸。
并且，多个振动板110可以沿着基板10的移送路径以一维(one-dimension)或二维(two dimension)的形式隔开地配置。
具体地，多个振动板110能够以具有1*n1(在此n1是自然数)的一维排列的形式配置，或者以具有(n2+1)*(n2+1)(在此，n2是1以上(n2≥1)的自然数)的二维排列的形式配置。此时，多个振动板110的行(基板被移送的方向)与列(与基板被移送的方向垂直的方向)的个数可根据振动板110的尺寸以及设计样式进行多种变更。根据不同的情况，多个振动板可配置为其他不同的排列，并且本实用新型并非受到振动板的排列的限制或限定。
移送部件120、120’是为了使得通过振动板110而悬浮的基板10沿着预先设定的移送路径移送而设置的。
在此，所谓的移送部件120、120’使得基板10移送指的是，移送部件120、120’沿着预先设定的基板10的移送路径移动，据此连接(固定或者附着)于移送部件120、120’的基板10与移送部件120、120’一起移动。
例如，悬浮于振动板110上部的基板10以吸附于沿着移送轨道120a直线移动的移送部件120、120’的状态被移送。此时，移送轨道120a以交替的形式排列有N极与S极的永久磁铁，并且可用通过施加于移送部件120、120’的线圈的电流控制而可进行精确的位置控制的线性马达的原理来使得移送部件120、120’移动。
更为具体地，基板移送部100包括：吸入孔126，其形成于与基板10相面对的移送部件120、120’(例如，移送部件的上面)；吸入压形成部128，其在吸入孔126形成吸入压，以便基板10吸附固定于移送部件120、120’。如上所述，如果通过吸入压形成部128向吸入孔126施加吸入压，则基板10可通过吸附基板10表面的吸入压(负压)固定于移送部件120、120’。
作为参考，在本实用新型的实施例中举例说明了基板10吸附固定于移送部件120、120’，但是根据不同的情况下，也可以通过不是吸附的方式而是其他不同的方式(例如，机械式的约束及摩擦等)使得基板固定于移送部件，本实用新型并非受到相对于基板的移送部件的固定结构及方式的限制或限定。
偏差补偿部130是为了对悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差H1进行补偿而设置的。
在此，所谓的悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差H1指的是，在移送部件120、120’与基板10相接触(固定)的接触面和悬浮的基板10之间的高度差异。更为具体地，在基板10吸附于移送部件120、120’的上面的结构中，悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差定义为，移送部件120、120’的上面和悬浮的基板10的底面之间的距离(高度)差异。
如上所述，利用偏差补偿部130来对悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的有利效果在于，使得基板10的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
换句话说，如果悬浮的基板10和移送部件120、120’之间产生高度偏差，例如，如果移送部件120、120’的上面(吸附基板10的面)的高度比悬浮的基板10的底面高，则存在的问题在于，被移送部件120、120’抓握(吸附)的基板10的边缘部的高度部分地变高。相反，如图4所示，如果移送部件120、120’的上面高度比悬浮的基板10的底面低，则存在的问题在于，被移送部件120、120’抓握(吸附)的基板10的边缘部的高度部分地变低。
由此，本实用新型中，利用偏差补偿部130来对悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行补偿，据此可得到的有利效果在于，在没有基板10的部分的高度变化的状态下使得基板10的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
尤其，当基板10以悬浮于振动板110的上部的状态(以一致的高度悬浮的状态)被移送的期间，使得药液涂覆于基板10的表面，据此可得到的有利效果在于，以一致的厚度将药液涂覆于基板10的表面。此外，当基板10以悬浮于振动板110的上部的状态(以一致的高度悬浮的状态)被移送的期间，使得基板10被加热，并且使得涂覆于基板10的药液得到干燥，据此可得到的有利效果在于，均匀地对涂覆于基板10的药液进行干燥。
偏差补偿部130可设置为能够对悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行补偿的多种结构。
更为具体地，偏差补偿部130包括：测量部140，其对悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行测量；高度调节部150，其根据在测量部140测量的结果对相对于基板10的移送部件120、120’的相对高度进行调节。
测量部140对相对于移送部件120、120’的基板10的相对高度进行测量，或者对相对于基板10的移送部件120、120’的相对高度进行测量，从而可对基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行测量。根据不同的情况，测量部也可以分别对基板10和移送部件的高度进行测量，从而对基板和移送部件之间的高度偏差进行测量。
作为测量部140，可使用能够对基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行测量的常用的测量传感器等，本实用新型并非受到测量部140的种类及特性的限制或限定。
高度调节部150是为了以基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差程度对相对于基板10的移送部件120、120’的相对高度进行调节而设置的。
在此，所谓的高度调节部150对相对于基板10的移送部件120、120’的相对高度进行调节指的是，高度调节部150相对于基板10对移送部件120、120’的高度进行调节，或定义为将相对于基板10对移送部件120、120’的高度进行调节的方式全部包括在内。
例如，高度调节部150构成为对相对于基板10的移送部件120、120’的高度进行调节。具体地，参照图3至图5，基板移送部100包括：空气轴承部件122，其结合于移送部件120、120’，并且沿着移送轨道120a直线移动，所述移送轨道120a沿着基板10的移送路径配置；气体供给部124，其供给用于在空气轴承部件122和移送轨道120a之间形成气体润滑层的气体，高度调节部150对从气体供给部124供给的气体的供给压力进行调节，从而调节相对于移送轨道120a的空气轴承部件122的悬浮高度，因此随着相对于移送轨道120a的空气轴承部件122的悬浮高度变化，相对于基板10的移送部件120、120’的高度得到调节。
空气轴承部件122在空气轴承部件122和移送轨道之间形成一定的气体润滑层(空气膜层)，从而能够以相对于移送轨道120a没有摩擦的形式进行驱动，并且不需要附加的润滑。具体地，在空气轴承部件122形成有与气体供给部124相连接的至少一个以上的气体供给孔122a，并且由于通过气体供给孔122a供给的气体而在空气轴承部件122和移送轨道120a之间形成有气体润滑层。
气体供给部124可使用能够向气体供给孔122a供给气体的常用的气体供给装置，本实用新型并非受到从气体供给部124供给的气体的种类及特性的限制或限定。
根据如上所述的结构，高度调节部150可对从气体供给部124向空气轴承部件122供给的气体的供给压力进行调节，从而调节相对于移送轨道120a的空气轴承部件122的悬浮高度，并且使得相对于移送轨道120a的空气轴承部件122的悬浮高度发生变化，从而可调节相对于基板10的移送部件120、120’的高度。
例如，如图4所示，如果被测量为移送部件120、120’的高度相对于悬浮的基板10低，则如图5所示，高度调节部150提高从气体供给部124向空气轴承部件122供给的气体的供给压力(P2〉P1)，从而使得相对于移送轨道120a的空气轴承部件122的悬浮高度FH2上升(FH2〉FH1)，随着相对于移送轨道120a的空气轴承部件122的悬浮高度的上升，相对于基板10的移送部件120、120’的高度可得到上升。
如上所述，本实用新型中，对向空气轴承部件122供给的气体的供给压力进行调节，从而调节相对于基板10的移送部件120、120’的高度，据此可得到的有利效果在于，准确且微小地调节相对于基板10的移送部件120、120’的高度。
换句话说，也可以通过利用移送螺杆或者齿轮的机械式调节来对相对于基板10的移送部件120、120’的高度进行调节。但是，在机械式的高度调节方式中，不可避免地产生由于间隙(BACKLASH)等而引起的误差，因此存在的问题在于，难以准确且微小地调节相对于基板10的移送部件120、120’的高度。特别是，在通过超声波振动能使得基板10悬浮的方式中，基板10以非常微小的高度(30～50μm)悬浮，并且相对于基板10的移送部件120、120’的高度调节也在非常微小的范围(例如，2～5μm)内实现，但是通过机械式的高度调节方式存在的问题在于，难以微小地调节移送部件120、120’的高度。但是，本实用新型中，不是通过机械式的高度调节，而是通过可调节微小压力的空气压力控制来对相对于基板10的移送部件120、120’的高度进行调节，据此可得到的有利效果在于，更加准确且微小地对相对于基板10的移送部件120、120’的高度进行调节。
作为另一个的例子，高度调节部150构成为对相对于移送部件120、120’的基板10的高度进行调节。具体地，参照图6至图8，基板移送部100包括：吸入孔126，其形成于移送部件120、120’；吸入压形成部128，其在吸入孔126形成吸入压，以便基板10吸附固定于移送部件120、120’，高度调节部150对通过吸入压形成部128形成于吸入孔126的吸入压进行调节，并且随着吸入压的变化，相对于移送部件120、120’的基板10的吸附高度得到调节。
吸入压形成部128可使用能够将吸入压施加于吸入孔126的常用的负压装置，本实用新型并非受到吸入压形成部128的种类及特性的限制或限定。
根据如上所述的结构，高度调节部150可对形成于吸入孔126的吸入压的强度进行调节，从而对吸附于移送部件120、120’的基板10的吸附高度进行调节。
例如，如图7所示，如果被测量为吸附于移送部件120、120’的基板10的吸附高度低，则如图8所示，高度调节部150降低通过吸入压形成部128而产生的吸入压P2’的强度(P2’〉P1’)，从而能够使得相对于移送部件120、120’的基板10的吸附高度上升。此时，即使在移送部件120、120’和基板10之间产生微小的间隙(例如，2～5μm)，也可以通过形成于吸入孔126的吸入压使得基板10相对于移送部件120、120’得到固定(以能够一起移动的形式支撑)。
如上所述，本实用新型中，不是通过机械式的高度调节，而是通过可调节微小压力的空气压力控制(吸入压控制)来对相对于移送部件120、120’的基板10的吸附高度进行调节，据此可得到的有利效果在于，更加准确且微小地对相对于移送部件120、120’的基板10的高度进行调节。
再次，参照图1及图2，药液涂覆单元300在基板10以悬浮于基板移送部100的上部的状态移动的期间，以将药液(PR)涂覆于基板10的表面的形式设置。
在此，通过药液涂覆单元300药液被涂覆的区域既可以是被处理基板10的整体表面，也可以是分割为多个单元区域的部分。
更为具体地，在药液涂覆单元300的底端部形成有与基板10的宽度相对应的长度的狭缝喷嘴，狭缝喷嘴的喷嘴边缘(lip)310配置于振动板110的上部，并且向基板10的表面涂覆药液。
并且，在药液涂覆单元300设置有预备排放装置(未示出)，预备排放装置在通过狭缝喷嘴将药液涂覆于基板10上之前使得残留于狭缝喷嘴排放口侧的涂覆液脱落，同时为了以后良好的涂覆而沿着排放口可预先形成药液珠层。
加热干燥单元400是为了对从药液涂覆单元300以涂覆有药液的状态排出的基板10进行加热并使得药液干燥而设置的。
加热干燥单元400可设置为能够使得基板10加热的多种结构。优选地，使得加热干燥单元和基板10的间距保持一致(使得基板10平坦地悬浮)，据此可得到的效果在于，使得药液的干燥特性在基板10表面整体上保持一致。
例如，加热干燥单元400包括：第一加热部402，其以第一温度范围对涂覆有药液的基板10进行加热；第二加热部404，其以与第一温度范围不同的第二温度范围(例如，比第一温度范围高的第二温度范围)对经过第一加热部402的基板10进行加热。
第一加热部402构成为包括至少一个以上的第一加热板，所述至少一个以上的第一加热板沿着基板10被移送的移送路径配置，第二加热部404构成为包括至少一个以上的第二加热板，所述至少一个以上的第二加热板沿着基板10被移送的移送路径配置。
如上所述，本实用新型中，在加热干燥单元400分阶段地(不同的温度条件)使得涂覆于基板10的表面的药液干燥，据此可得到的有利效果在于，抑制由于药液内的溶剂成分而留下污点的现象，因此使得在比大气压低的减压状态下干燥的工艺排除。
换句话说，加热干燥单元400以沿着被处理基板10的进行路径使得加热温度逐渐上升的方式构成，从而可以使得涂覆于被处理基板10的药液所含有的溶剂成分逐渐地从药液中蒸发的同时干燥，因此可解决含在药液内的溶剂成分急剧被干燥的同时由于药液的流动而产生的污点的问题。
由此，加热干燥单元400分阶段地提高加热温度的同时，使得被处理基板10的药液加热干燥，据此可替代在现有技术中为了去除药液内的部分溶剂而在真空状态下干燥的真空减压干燥工艺。由此，可对在密封的腔体内以比大气压低的状态干燥从而去除药液内的溶剂的一部分的工艺进行排除，因此不仅能够去除使得被处理基板10位于密封腔体的机械臂和顶针，而且以悬浮的状态在被处理基板10的表面涂覆药液后，立即以悬浮的状态向加热干燥单元400移送，因此可得到的有利效果在于，提高被处理基板10的移送效率，并且缩短整体工艺所需的时间。
优选地，被处理基板10根据在相互不同的加热部(第一加热部至第二加热部)进行调节的加热温度范围以停止的状态以一定的加热温度在规定的时间内被加热。根据不同的情况，基板也可以在经过加热干燥单元的各个加热部期间不停止而是在慢慢地移动的同时被加热。
作为参考，与被处理基板最先被加热干燥的第一加热部402的第一加热板的温度相比，接下来被加热干燥的第二加热部404的第二加热板的温度规定得更高。例如，在药液涂覆单元300进行药液涂覆工艺后，在最初被加热的第一加热部402规定为将药液内的溶剂去除5％至30％的温度和时间。例如，第一加热部402的加热温度可规定为40℃～70℃，并且加热时间可规定为20秒至70秒。并且，在第一加热部402之后被加热干燥的第二加热部404的加热温度可分别规定为60℃～85℃(或者70℃～105℃)，并且加热时间可规定为与在第一加热部402的加热时间存在10秒左右的较小的时间差异或者规定为相同的加热时间。
并且，加热干燥单元400的各个加热部(第一加热部至第二加热部)可配置于基板10的上部，但是根据不同的情况，也可以将加热干燥单元的各个加热部配置于基板的下部。
如上所述，本实用新型中，对基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行补偿，从而在基板10平坦地悬浮的状态下，使得药液涂覆于基板10的表面，据此可得到的效果在于，提高药液的涂覆均匀性，防止由于药液涂覆得不均匀而产生污点的现象。此外，对基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行补偿，从而在基板10平坦地悬浮的状态下，实现涂覆于基板10表面的药液的干燥，据此可得到的有利效果在于，提高药液的干燥均匀性，形成高品质的药液涂覆层。
另外，图10是用于说明图1的基板移送部的变形例的图。并且，对与前述的构成相同及相当于相同的部分赋予相同或者相当于相同的参照标号，并且省略对此的详细说明。
参照图10，根据本实用新型的其他实施例的基板10移送装置，包括：振动板110，其利用通过超声波产生的振动能来使得基板10悬浮；移送部件120、120’，其使得通过振动板110悬浮的所述基板10移送；偏差补偿部130，其对悬浮的基板10和移送部件120、120’之间的高度偏差进行补偿，并且移送部件120、120’包括：第一移送部件120，其固定于沿着基板10的移送方向的基板10的一侧边；第二移送部件120’，其固定于沿着基板10的移送方向的基板10的其他侧边，并且偏差补偿部130分别对第一移送部件120和基板10之间的高度偏差及第二移送部件120’和基板10之间的高度偏差进行补偿。
作为参考，在本实用新型的实施例中虽然举例说明了第一移送部件120和第二移送部件120’在相互不同的线上对基板10的边缘进行抓握，但是根据不同的情况，也可以构成为第一移送部件和第二移送部件在相互相同的线上对基板进行抓握。
如上所述，参照本实用新型的优选实施例进行了说明，但是如果是所属技术领域的熟练的从业者，则可理解为在不超出以下专利权利要求书中记载的本实用新型的思想及领域的范围内可以对本实用新型进行各种修改及变更。
标号说明
1：基板处理装置 10：基板
100：基板移送部 102：装载移送部
104：处理移送部 106：卸载移送部
110：振动板 120、120’：移送部件
122：空气轴承部件 122a：气体供给孔
124：气体供给部 126：吸入孔
128：吸入压形成部 130：偏差补偿部
140：测量部 150：高度调节部
300：药液涂覆单元 400：加热干燥单元

Claims (17)

1.一种基板移送装置，其移送进行药液涂覆工艺处理的基板，所述基板移送装置的特征在于，包括:
振动板，其利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮；
移送部件，其使得通过所述振动板悬浮的所述基板移送；
偏差补偿部，其对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行补偿。
2.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，所述偏差补偿部包括：
测量部，其对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行测量；
高度调节部，其根据在所述测量部测量的结果对相对于所述基板的所述移送部件的相对高度进行调节。
3.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，包括：
空气轴承部件，其结合于所述移送部件，并且沿着移送轨道直线移动，所述移送轨道沿着所述基板的移送路径配置；
气体供给部，其供给用于在所述空气轴承部件和所述移送轨道之间形成气体润滑层的气体，
所述高度调节部对从所述气体供给部供给的所述气体的供给压力进行调节，从而调节相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度，
随着相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度变化，相对于所述基板的所述移送部件的高度得到调节。
4.根据权利要求3所述的基板移送装置，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件。
5.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件，
所述高度调节部对通过所述吸入压形成部形成于所述吸入孔的所述吸入压进行调节，
根据所述吸入压的变化来调节相对于所述移送部件的所述基板的吸附高度。
6.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，
所述移送部件包括第一移送部件和第二移送部件中至少任意一个，
所述第一移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的一侧边，
所述第二移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的其他侧边，
所述偏差补偿部对所述第一移送部件和所述第二移送部件中至少任意一个与所述基板之间的高度偏差进行补偿。
7.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，
当所述基板以悬浮于所述振动板的上部的状态被移送的期间，药液涂覆于所述基板的表面。
8.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，
当所述基板以悬浮于所述振动板的上部的状态被移送的期间，所述基板被加热，并且涂覆于所述基板的药液得到干燥。
9.一种基板处理系统，其对被处理基板进行药液涂覆工艺的处理，所述基板处理系统的特征在于，包括：
基板移送部，其包括振动板、移送部件、偏差补偿部，所述振动板利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮，所述移送部件使得通过所述振动板悬浮的所述基板移送，所述偏差补偿部对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行补偿；
药液涂覆单元，其将药液涂覆于所述基板的表面；
加热干燥单元，其通过加热所述基板来使得所述药液干燥。
10.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板移送部包括：
装载移送部，所述基板装载于所述装载移送部；
处理移送部，其用于在所述基板的表面涂覆所述药液；
卸载移送部，涂覆有所述药液的所述基板卸载于所述卸载移送部，
所述振动板设置于所述装载移送部、所述处理移送部、所述卸载移送部中至少任意一个。
11.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，所述偏差补偿部包括：
测量部，其对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行测量；
高度调节部，其根据在所述测量部测量的结果来调节相对于所述基板的所述移送部件的相对高度。
12.根据权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
空气轴承部件，其结合于所述移送部件，并且沿着移送轨道直线移动，所述移送轨道沿着所述基板的移送路径配置；
气体供给部，其供给用于在所述空气轴承部件和所述移送轨道之间形成气体润滑层的气体，
所述高度调节部对从所述气体供给部供给的所述气体的供给压力进行调节，从而调节相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度，
随着相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度变化，相对于所述基板的所述移送部件的高度得到调节。
13.根据权利要求12所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件。
14.根据权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件，
所述高度调节部对通过所述吸入压形成部形成于所述吸入孔的所述吸入压进行调节，
根据所述吸入压的变化来调节相对于所述移送部件的所述基板的吸附高度。
15.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，
所述移送部件包括第一移送部件和第二移送部件中至少任意一个，
所述第一移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的一侧边，
所述第二移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的其他侧边，
所述偏差补偿部对所述第一移送部件和所述第二移送部件中至少任意一个与所述基板之间的高度偏差进行补偿。
16.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，
所述药液涂覆单元配置于所述振动板的上部，
当所述基板经过所述振动板和所述药液涂覆单元之间的期间，所述药液涂覆单元和所述基板的间距保持一定。
17.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
所述加热干燥单元配置于所述振动板的上部，
当所述基板经过所述振动板和所述加热干燥单元之间的期间，所述加热干燥单元和所述基板的间距保持一定。
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